DE19928742A1 - Neue O-Acyloxim-Photostarter - Google Patents
Neue O-Acyloxim-PhotostarterInfo
- Publication number
- DE19928742A1 DE19928742A1 DE19928742A DE19928742A DE19928742A1 DE 19928742 A1 DE19928742 A1 DE 19928742A1 DE 19928742 A DE19928742 A DE 19928742A DE 19928742 A DE19928742 A DE 19928742A DE 19928742 A1 DE19928742 A1 DE 19928742A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- alkyl
- phenyl
- substituted
- unsubstituted
- halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 143
- -1 alkenoyl Chemical group 0.000 claims abstract description 176
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 141
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 84
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims abstract description 51
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000001589 carboacyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 66
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 65
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 63
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 61
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 55
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 52
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 38
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 36
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 31
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 24
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 22
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 21
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 21
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 20
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 20
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 claims description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 18
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 16
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 7
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 6
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 claims description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 6
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 5
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004765 (C1-C4) haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 claims description 4
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 claims description 4
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 claims description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000001999 4-Methoxybenzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1OC([H])([H])[H])C(*)=O 0.000 claims description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- VWBYXJRDIQCSLW-UHFFFAOYSA-N O=[P](c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical group O=[P](c1ccccc1)c1ccccc1 VWBYXJRDIQCSLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 claims description 3
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 claims description 3
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 claims description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 3
- 125000000242 4-chlorobenzoyl group Chemical group ClC1=CC=C(C(=O)*)C=C1 0.000 claims description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims 12
- 101150107341 RERE gene Proteins 0.000 claims 1
- 229940024874 benzophenone Drugs 0.000 claims 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 claims 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 claims 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 abstract description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 121
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 77
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 58
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 46
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000000047 product Substances 0.000 description 38
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 34
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 27
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 27
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229940063559 methacrylic acid Drugs 0.000 description 24
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 23
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 23
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 22
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 22
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 20
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 20
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 19
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 19
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 19
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 19
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 18
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 18
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 16
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 16
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 235000019755 Starter Diet Nutrition 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 14
- 238000011161 development Methods 0.000 description 14
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 14
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 13
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 10
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 10
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 10
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 10
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 9
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N hydroxylamine hydrochloride Substances Cl.ON WTDHULULXKLSOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- WCYJQVALWQMJGE-UHFFFAOYSA-M hydroxylammonium chloride Chemical compound [Cl-].O[NH3+] WCYJQVALWQMJGE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 8
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 8
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 8
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 7
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 7
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229940050390 benzoate Drugs 0.000 description 6
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 6
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UOSYZBKXUPJYPR-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=C(SC)C=C1 UOSYZBKXUPJYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 5
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LKDRXBCSQODPBY-AMVSKUEXSA-N L-(-)-Sorbose Chemical compound OCC1(O)OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O LKDRXBCSQODPBY-AMVSKUEXSA-N 0.000 description 5
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N acrylic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 5
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 5
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N thioanisole Chemical compound CSC1=CC=CC=C1 HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OSGJXRQDEZSVBT-UHFFFAOYSA-N 1,9-bis(4-methylsulfanylphenyl)nonane-1,9-dione Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)CCCCCCCC(=O)C1=CC=C(SC)C=C1 OSGJXRQDEZSVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTSWQXIWFZTMJR-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)CC1=CC=CC=C1 XTSWQXIWFZTMJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JCWQTARLYJDDRE-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoro-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethanone Chemical compound CSC1=CC=C(C(=O)C(F)(F)F)C=C1 JCWQTARLYJDDRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UJMPJQHAVAEQOO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoro-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C(F)(F)F)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 UJMPJQHAVAEQOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical compound O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 4
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 4
- JNGALPZRHWQEEZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylsulfanylphenyl)octan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCCCCCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 JNGALPZRHWQEEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LZBJOFJGPNKNCE-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(4-butanoylphenyl)sulfanylphenyl]butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCC)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)CCC)C=C1 LZBJOFJGPNKNCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Chemical group 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N Salicylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229960004365 benzoic acid Drugs 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 3
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- AAVSFTKDXIEMEI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(4-methylsulfanylphenyl)-2-oxoacetate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)C1=CC=C(SC)C=C1 AAVSFTKDXIEMEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000002605 large molecules Chemical class 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 3
- BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N methyl nitrite Chemical compound CON=O BLLFVUPNHCTMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- BGBNWTHFFHMHEX-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-diethylthioxanthen-9-ylidene)hydroxylamine Chemical compound C1=CC=C2C(=NO)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BGBNWTHFFHMHEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAEYSUSOVLIUCQ-UHFFFAOYSA-N n-[3,3,3-trifluoro-1-(4-methylsulfanylphenyl)propylidene]hydroxylamine Chemical compound CSC1=CC=C(C(CC(F)(F)F)=NO)C=C1 JAEYSUSOVLIUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N perylene Chemical compound C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- RHUYHJGZWVXEHW-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dimethyhydrazine Chemical compound CN(C)N RHUYHJGZWVXEHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 1,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dione Chemical compound C1CC2(C)C(=O)C(=O)C1C2(C)C VNQXSTWCDUXYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC=NC=N1 ONTODYXHFBKCDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSAYZAUNJMRRIR-UHFFFAOYSA-N 2-acetylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)C)=CC=C21 XSAYZAUNJMRRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- NKSRAIXDYCJPBL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyimino-1-(4-methylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound CCC(=NO)C(=O)C1=CC=C(SC)C=C1 NKSRAIXDYCJPBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLZIXYIYQIKFHP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropane-1-thione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=S)C(C)(C)N1CCOCC1 JLZIXYIYQIKFHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 3,2,3-tetramine Chemical compound NCCCNCCNCCCN RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGZUSWGIBBVZQV-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoro-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-one Chemical compound CSC1=CC=C(C(=O)CC(F)(F)F)C=C1 XGZUSWGIBBVZQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003762 3,4-dimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- ZGHFDIIVVIFNPS-UHFFFAOYSA-N 3-Methyl-3-buten-2-one Chemical compound CC(=C)C(C)=O ZGHFDIIVVIFNPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYSMGCKQWMCPIF-UHFFFAOYSA-N 4,6-bis(ethylsulfanyl)-2-methylisoindole-1,3-dione Chemical compound CCSC1=CC(SCC)=CC2=C1C(=O)N(C)C2=O BYSMGCKQWMCPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHNRALBHXSAETA-UHFFFAOYSA-N CSc1ccc(cc1)C(=O)C(CCCCCC(=NO)C(=O)c1ccc(SC)cc1)=NO Chemical compound CSc1ccc(cc1)C(=O)C(CCCCCC(=NO)C(=O)c1ccc(SC)cc1)=NO SHNRALBHXSAETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAHWFUJMHFWCGG-UHFFFAOYSA-N CSc1ccc(cc1)C(CCCCCCCC(=NO)c1ccc(SC)cc1)=NO Chemical compound CSc1ccc(cc1)C(CCCCCCCC(=NO)c1ccc(SC)cc1)=NO PAHWFUJMHFWCGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000219739 Lens Species 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTZXZWSXXGTMCE-UHFFFAOYSA-N ON=C(C(=O)C1=CC=C(C=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(CC)=NO)=O)CC Chemical compound ON=C(C(=O)C1=CC=C(C=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(CC)=NO)=O)CC BTZXZWSXXGTMCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical class NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N alpha-Methyl-n-butyl acrylate Natural products CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 2
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 2
- 229930006711 bornane-2,3-dione Natural products 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 2
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 2
- CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid methyl ester Natural products COC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- VFLDPWHFBUODDF-FCXRPNKRSA-N curcumin Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(\C=C\C(=O)CC(=O)\C=C\C=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 VFLDPWHFBUODDF-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- SPWVRYZQLGQKGK-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;hexane Chemical compound ClCCl.CCCCCC SPWVRYZQLGQKGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- ZEYMDLYHRCTNEE-UHFFFAOYSA-N ethenyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC=C ZEYMDLYHRCTNEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IGJUZMQXUPDTED-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-2-hydroxyiminoacetate Chemical compound CCOC(=O)C(=NO)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 IGJUZMQXUPDTED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYLSOVTGVAJDY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-2-oxoacetate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 YBYLSOVTGVAJDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWFLKNIJTUEYGP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyimino-2-(4-methylsulfanylphenyl)acetate Chemical compound CCOC(=O)C(=NO)C1=CC=C(SC)C=C1 GWFLKNIJTUEYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 235000013980 iron oxide Nutrition 0.000 description 2
- OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N isoamyl nitrite Chemical compound CC(C)CCON=O OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005929 isobutyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229940063557 methacrylate Drugs 0.000 description 2
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKMUQBMQICDYRH-UHFFFAOYSA-N n-[1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-phenylethylidene]hydroxylamine Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=NO)CC1=CC=CC=C1 KKMUQBMQICDYRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVVGWCDBWBSAEY-UHFFFAOYSA-N n-[1-(4-methylsulfanylphenyl)butylidene]hydroxylamine Chemical compound CCCC(=NO)C1=CC=C(SC)C=C1 BVVGWCDBWBSAEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWADZIMCLKEBPC-UHFFFAOYSA-N n-[1-[4-[4-(n-hydroxy-c-propylcarbonimidoyl)phenyl]sulfanylphenyl]butylidene]hydroxylamine Chemical compound C1=CC(C(=NO)CCC)=CC=C1SC1=CC=C(C(CCC)=NO)C=C1 MWADZIMCLKEBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBRHCHJCSMZWOZ-UHFFFAOYSA-N n-[2,2,2-trifluoro-1-(4-methylsulfanylphenyl)ethylidene]hydroxylamine Chemical compound CSC1=CC=C(C(=NO)C(F)(F)F)C=C1 SBRHCHJCSMZWOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NYBYOWWWJJNEHJ-UHFFFAOYSA-N n-[2,2,2-trifluoro-1-(4-phenylsulfanylphenyl)ethylidene]hydroxylamine Chemical compound C1=CC(C(=NO)C(F)(F)F)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 NYBYOWWWJJNEHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006257 n-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- HTSFQCNXBAQXIJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-[(4-methylsulfanylphenyl)methylideneamino]methanamine Chemical compound CSC1=CC=C(C=NN(C)C)C=C1 HTSFQCNXBAQXIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011101 paper laminate Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Chemical class 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Chemical class 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical class OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000886 photobiology Effects 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000005622 tetraalkylammonium hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 2
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 210000002105 tongue Anatomy 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- OUBISKKOUYNDML-UHFFFAOYSA-N (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) 2-[bis[2-oxo-2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxyethyl]amino]acetate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CN(CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 OUBISKKOUYNDML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJGZXKKYBXZLAM-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1OC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 BJGZXKKYBXZLAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZBSQYSUONRRMW-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1O HZBSQYSUONRRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C=C MRIKSZXJKCQQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDLPMGPHYARAFP-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-phenylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C(O)=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 PDLPMGPHYARAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M (4-benzoylphenyl)methyl-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C[N+](C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UROHSXQUJQQUOO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 WXPWZZHELZEVPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N (5-benzoyl-2,4-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(O)=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWQLQYNQWCTDQF-FMIVXFBMSA-N (5e)-5-[[4-(diethylazaniumyl)phenyl]methylidene]-2-sulfanylidene-1,3-thiazol-4-olate Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1\C=C\1C(=O)NC(=S)S/1 CWQLQYNQWCTDQF-FMIVXFBMSA-N 0.000 description 1
- JJRVRELEASDUMY-JXMROGBWSA-N (5e)-5-[[4-(dimethylamino)phenyl]methylidene]-2-sulfanylidene-1,3-thiazolidin-4-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\C=C\1C(=O)NC(=S)S/1 JJRVRELEASDUMY-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTLYLLTVENPWFT-UPHRSURJSA-N (Z)-3-aminoacrylic acid Chemical compound N\C=C/C(O)=O YTLYLLTVENPWFT-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1 SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUTQSIHGGHVXFK-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trifluoroethenylbenzene Chemical compound FC(F)=C(F)C1=CC=CC=C1 SUTQSIHGGHVXFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVFUVYIDYFXFSX-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis[4-(dimethylamino)phenyl]ethane-1,2-dione Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 AVFUVYIDYFXFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC(Cl)=C1Cl AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLWNLYFYKIIZKR-UHFFFAOYSA-N 1,3,7,9-tetratert-butyl-11-(6-methylheptoxy)-5h-benzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphocine Chemical compound C1C2=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C2OP(OCCCCCC(C)C)OC2=C1C=C(C(C)(C)C)C=C2C(C)(C)C BLWNLYFYKIIZKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C(C)=C)C=C1 ZENYUPUKNXGVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDLQSLMTBGPZLW-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC(O)N1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C JDLQSLMTBGPZLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAYUSCHCCGXLAY-UHFFFAOYSA-N 1-(3-methoxyphenyl)ethanone Chemical compound COC1=CC=CC(C(C)=O)=C1 BAYUSCHCCGXLAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCZZSANNLWPGEA-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QCZZSANNLWPGEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRGWSLFQOOLTEZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylsulfanylphenyl)decan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCCCCCCCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 DRGWSLFQOOLTEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAYNQDOURTYRRC-UHFFFAOYSA-N 1-[1-(2-aminopropoxy)ethoxy]propan-2-amine Chemical compound CC(N)COC(C)OCC(C)N QAYNQDOURTYRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1Cl XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methylpropane Chemical compound CC(C)COC=C OZCMOJQQLBXBKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWVTWJNGILGLAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(C=C)C=C1 JWVTWJNGILGLAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004066 1-hydroxyethyl group Chemical group [H]OC([H])([*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DGYYJSHANXEPSK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-10h-phenothiazine Chemical compound S1C2=CC=CC=C2NC2=C1C=CC=C2C DGYYJSHANXEPSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001088 1-naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoxyethanol Chemical compound CC(O)OCC=C FCBZNZYQLJTCKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEBQUUKDSJCPIX-UHFFFAOYSA-N 12h-benzo[a]thioxanthene Chemical compound C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4SC3=CC=C21 YEBQUUKDSJCPIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVZRKVYGKNFTRR-UHFFFAOYSA-N 12h-benzo[a]xanthene Chemical compound C1=CC=CC2=C3CC4=CC=CC=C4OC3=CC=C21 VVZRKVYGKNFTRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJCZNYWLQZZIOS-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichlorethoxycarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)OCC(Cl)(Cl)Cl LJCZNYWLQZZIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-octadecoxypiperidine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWESSVUYESFKBH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethenylbenzene Chemical compound COC(OC)=CC1=CC=CC=C1 PWESSVUYESFKBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOHLSTOWRAOMSG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SCNC2=C1 WOHLSTOWRAOMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004201 2,4-dichlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(Cl)C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKLBPVXKMBLCQX-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[[4-(diethylamino)phenyl]methylidene]cyclopentan-1-one Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=C(CC1)C(=O)C1=CC1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 KKLBPVXKMBLCQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWRLEEPNFJNTOP-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3,5-triazin-2-yl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1C1=NC=NC=N1 HWRLEEPNFJNTOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFQFFNWLTHFJOZ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzodioxol-5-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=C3OCOC3=CC=2)=N1 BFQFFNWLTHFJOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXEMYLNXNAJPGY-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-diphenylpropoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCCOCC(C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 OXEMYLNXNAJPGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCOC(=O)C(C)=C QEPJZNUAPYIHOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFESEBWDSWPWRE-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-2-hydroxyiminoacetic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(=NO)C(O)=O)C=C1OC AFESEBWDSWPWRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 FVNIIPIYHHEXQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-methylbutan-2-yl)phenol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)CC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O ZMWRRFHBXARRRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 OLFNXLXEGXRUOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 IYAZLDLPUNDVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 WXHVQMGINBSVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 ITLDHFORLZTRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMHSKWEJGIXGA-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O VQMHSKWEJGIXGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical group CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4,6-trioxo-3,5-bis(2-prop-2-enoyloxyethyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN1C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C(=O)N(CCOC(=O)C=C)C1=O YIJYFLXQHDOQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANZONXRNCWFEIL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ANZONXRNCWFEIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPTIDPUGZXGDEV-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound COC1=CC=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 WPTIDPUGZXGDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGGKZNFXQKZCOG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3-chloro-4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(Cl)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZGGKZNFXQKZCOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SICQTWWJCGGHIX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(4-benzoylphenoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SICQTWWJCGGHIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESJNIGBEZWAIB-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(2-hydroxy-3-octoxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 FESJNIGBEZWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZQCIHBFVOTXRU-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-butoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 BZQCIHBFVOTXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(octyloxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 ZSSVCEUEVMALRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBYBHKQEHCYBQV-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-dodecoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 DBYBHKQEHCYBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMUMRCRKFBYIH-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2-hydroxy-4-octoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(OCCCCCCCC)=CC=2)O)=NC(C=2C(=CC(OCCCCCCCC)=CC=2)O)=N1 WPMUMRCRKFBYIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPUPWUDXQCOMBF-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(4-methylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-octoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC(C)=CC=2)=NC(C=2C=CC(C)=CC=2)=N1 NPUPWUDXQCOMBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHIVRACNDKRDTF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2,4-dimethylphenyl)-6-(2-hydroxy-4-propoxyphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-propoxyphenol Chemical compound OC1=CC(OCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(OCCC)=CC=2)O)=N1 HHIVRACNDKRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKZAOPKIOWTEH-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(dimethylamino)phenyl]methylidene]-3h-inden-1-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=C1C(=O)C2=CC=CC=C2C1 YCKZAOPKIOWTEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical class NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPPGTVYDWHSNLJ-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzo[f]chromen-3-one Chemical compound C=1C(C2=CC=CC=C2C=C2)=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 JPPGTVYDWHSNLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIHNGTKOSAPCSP-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-ethenyl-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C=C)C(Br)=C1 XIHNGTKOSAPCSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MANJIGKYCYWWBD-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)=O MANJIGKYCYWWBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylethenylbenzene Chemical compound C1CCCCC1C=CC1=CC=CC=C1 MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSLWEMZSKIWXQB-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCCCCCCCCC)=CC=C3SC2=C1 JSLWEMZSKIWXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMILTFOIUWTZFM-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1OC=C MMILTFOIUWTZFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCBSYPYHCJMQGB-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1,3,5-triazine Chemical compound CCC1=NC=NC=N1 QCBSYPYHCJMQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CCC(CC)=CC1=CC=CC=C1 DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYZGMTDJCGEDAQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enoic acid Chemical compound CCC(C=C)C(O)=O WYZGMTDJCGEDAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LHHLLQVLJAUUDT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCC(CC)CCCC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O LHHLLQVLJAUUDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCC(CC)CCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O AWEVLIFGIMIQHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004808 2-ethylhexylester Substances 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHFVUEXQSQXWSP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2,2-dimethoxy-1-phenylethanone Chemical compound COC(O)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 FHFVUEXQSQXWSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012957 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropanone Substances 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- MTWMOXVOZINGCS-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyimino-2-(4-methylsulfanylphenyl)acetic acid Chemical compound ON=C(C(=O)O)C1=CC=C(C=C1)SC MTWMOXVOZINGCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethenylbenzene Chemical compound IC=CC1=CC=CC=C1 OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJIHXJHESAUYPR-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl 9-oxothioxanthene-3-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C(C(=O)OCCOC)C=C3SC2=C1 OJIHXJHESAUYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTZVKSVLFLRBRE-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropyl acetate Chemical compound COC(C)COC(C)=O BTZVKSVLFLRBRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANWARHIWIFIGIK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-phenylbut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)=CCC1=CC=CC=C1 ANWARHIWIFIGIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZLCJFIPLGPELH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-6-(morpholin-4-ylmethyl)thioxanthen-9-one Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=CC=1CN1CCOCC1 FZLCJFIPLGPELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIROIDHWAQGTKI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-phenylacetyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)CC1=CC=CC=C1 CIROIDHWAQGTKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propanoylprop-2-enamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C(C)=C VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)CS(O)(=O)=O AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 2-naphthaldehyde Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=O)=CC=C21 PJKVFARRVXDXAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- VMZCDNSFRSVYKQ-UHFFFAOYSA-N 2-phenylacetyl chloride Chemical compound ClC(=O)CC1=CC=CC=C1 VMZCDNSFRSVYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IKEHOXWJQXIQAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-enylbenzene Chemical compound FC(F)(F)C=CC1=CC=CC=C1 HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEXOWHQZWLCHHD-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O YEXOWHQZWLCHHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 3,9-dioctadecoxy-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCC21COP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OC2 PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLVYCTZVPXWQDG-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylpropanoyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C(C(=O)C(C)C)=CC2=C1 KLVYCTZVPXWQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropyl carbamimidothioate;dihydrobromide Chemical compound Br.Br.NCCCSC(N)=N JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GICKHLNSTBUBFU-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-5,7-dibutoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OCCCC)=CC(OCCCC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 GICKHLNSTBUBFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBOUWLVGAQGQCL-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-5,7-diethoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OCC)=CC(OCC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VBOUWLVGAQGQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITJVTQLTIZXPEQ-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-5,7-dimethoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC(OC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ITJVTQLTIZXPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIHMJMCGHJMDSE-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-5,7-dipropoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OCCC)=CC(OCCC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DIHMJMCGHJMDSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLLGFWQKIPAPII-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-6-chlorochromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC(Cl)=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 OLLGFWQKIPAPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPVJWBWVJUAOMV-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPVJWBWVJUAOMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 3-benzoyl-7-methoxychromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC=C2C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HYORIVUCOQKMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPBMPRKJYKSRLL-UHFFFAOYSA-N 3-benzoylchromen-2-one Chemical compound C=1C2=CC=CC=C2OC(=O)C=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LPBMPRKJYKSRLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- MCQKDEFTGAPVRV-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-9-oxothioxanthene-1-carbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C#N)C=C(Cl)C=C3SC2=C1 MCQKDEFTGAPVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAEZGDDJKSBNPT-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-1-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 SAEZGDDJKSBNPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBIXXCXCZOZFCO-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-1-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 FBIXXCXCZOZFCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYDIDJFXXIUCY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyprop-1-enylbenzene Chemical compound CCOCC=CC1=CC=CC=C1 VCYDIDJFXXIUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropanoic acid Chemical compound CCOCCC(O)=O JRXXEXVXTFEBIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUDZKVQQXIZGGO-UHFFFAOYSA-N 4-(2-oxo-5,7-dipropoxychromene-3-carbonyl)benzonitrile Chemical compound O=C1OC2=CC(OCCC)=CC(OCCC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=C(C#N)C=C1 NUDZKVQQXIZGGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 4-(4,6-dichloro-1,3,5-triazin-2-yl)morpholine Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(N2CCOCC2)=N1 UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAMIBQRHZIWFOT-UHFFFAOYSA-N 4-(5,7-dimethoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)benzonitrile Chemical compound O=C1OC2=CC(OC)=CC(OC)=C2C=C1C(=O)C1=CC=C(C#N)C=C1 JAMIBQRHZIWFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYHBGVUSOICOJU-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxy-4-oxobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OC=C LYHBGVUSOICOJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGQXTJQMNTHJX-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1-methoxy-2-methylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1C GVGQXTJQMNTHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTANHMOFHGSZQO-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)C#N RTANHMOFHGSZQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- DFKWGGSTASQEFT-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(C)C=C1 DFKWGGSTASQEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIMQQGJMDMAZGT-UHFFFAOYSA-N 4-methylthiobenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=C(C=S)C=C1 PIMQQGJMDMAZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2H-benzotriazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2NN=NC2=C1C1=CC=CC=C1 ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Butylphenyl Salicylate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDQXHDUXRUZGB-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butyl-5-methyl-5h-benzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphocine Chemical compound O1POC2=CC=CC(C(C)(C)C)=C2C(C)C2=CC=CC=C21 OSDQXHDUXRUZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMPZRDHZQFCUSJ-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxy-3-(naphthalene-1-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)C3=CC4=C(OC)C=C(C=C4OC3=O)OC)=CC=CC2=C1 ZMPZRDHZQFCUSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBEQQKBWUHCIOU-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylamino)-1-naphthalenesulfonic acid(dansyl acid) Chemical class C1=CC=C2C(N(C)C)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O BBEQQKBWUHCIOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OIINRVJPWJSSEK-UHFFFAOYSA-N 6-(dimethoxymethyl)-2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=C(C)C=C2C(=O)C3=CC=C(C(OC)OC)C=C3SC2=C1 OIINRVJPWJSSEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1h-1,3,5-triazin-2-one Chemical compound OC1=NC=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 7,7,9,9-tetramethyl-3-octyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)NC(C)(C)C1 VPOKLVDHXARWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-[7-(diethylamino)-2-oxochromene-3-carbonyl]chromen-2-one Chemical compound C1=C(N(CC)CC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=CC2=C1 SANIRTQDABNCHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSJYODMHCCQXQB-UHFFFAOYSA-N 7-(diethylamino)-3-phenylchromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=C1C1=CC=CC=C1 PSJYODMHCCQXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIUSGHALMCFISX-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-2,3-dihydro-1h-cyclopenta[c]chromen-4-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(C)C)=CC=C2C2=C1CCC2 RIUSGHALMCFISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHWPEOUEWCKBTJ-UHFFFAOYSA-N 7-(dimethylamino)-3-phenylchromen-2-one Chemical compound O=C1OC2=CC(N(C)C)=CC=C2C=C1C1=CC=CC=C1 RHWPEOUEWCKBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZXAEJGHNXJTSE-UHFFFAOYSA-N 7-(ethylamino)-4,6-dimethylchromen-2-one Chemical compound O1C(=O)C=C(C)C2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 QZXAEJGHNXJTSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRZJOTSUPLCYDJ-UHFFFAOYSA-N 7-(ethylamino)-6-methyl-4-(trifluoromethyl)chromen-2-one Chemical compound O1C(=O)C=C(C(F)(F)F)C2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 NRZJOTSUPLCYDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWZSFMOHCSPTDM-UHFFFAOYSA-N 7-[[4-chloro-6-(diethylamino)-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-3-phenylchromen-2-one Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC=2C=C3OC(=O)C(C=4C=CC=CC=4)=CC3=CC=2)=N1 RWZSFMOHCSPTDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 7-amino-2-methylsulfanyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine-6-carbonitrile Chemical compound N1=CC(C#N)=C(N)N2N=C(SC)N=C21 JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCURVNYQRJVWPY-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-3-(7-methoxy-2-oxochromene-3-carbonyl)chromen-2-one Chemical compound C1=C(OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)OC)=CC2=C1 KCURVNYQRJVWPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTYUOQGERUGJMA-UHFFFAOYSA-N 7-phenyl-3-sulfanylideneisoindol-1-one Chemical compound C=12C(=O)NC(=S)C2=CC=CC=1C1=CC=CC=C1 BTYUOQGERUGJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CCCCCCCCCCCC)C(=O)NC11CC(C)(C)N(C(C)=O)C(C)(C)C1 RAZWNFJQEZAVOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPRFSEGUKLMSFA-UHFFFAOYSA-N 9-(5-acridin-9-ylpentyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 IPRFSEGUKLMSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 9-(7-acridin-9-ylheptyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000004998 Abdominal Pain Diseases 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N Aesculin Natural products OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1Oc2cc3C=CC(=O)Oc3cc2O PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMMXTBMQSGEXHJ-UHFFFAOYSA-N Aminophenazone Chemical compound O=C1C(N(C)C)=C(C)N(C)N1C1=CC=CC=C1 RMMXTBMQSGEXHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQJPBYFTQAANLE-UHFFFAOYSA-N Butyl nitrite Chemical compound CCCCON=O JQJPBYFTQAANLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIFSTYXSQJJDRM-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Ti](C1C(C=CC=C1F)(F)C1=CNC=C1)(C1C(C=CC=C1F)(C1=CNC=C1)F)C1C=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Ti](C1C(C=CC=C1F)(F)C1=CNC=C1)(C1C(C=CC=C1F)(C1=CNC=C1)F)C1C=CC=C1 IIFSTYXSQJJDRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWAMHZBSFNBWJT-UHFFFAOYSA-N Cc1c(ccc2sc3ccccc3c(=O)c12)N1CCOCC1 Chemical compound Cc1c(ccc2sc3ccccc3c(=O)c12)N1CCOCC1 RWAMHZBSFNBWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 208000002881 Colic Diseases 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100346656 Drosophila melanogaster strat gene Proteins 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 239000004908 Emulsion polymer Substances 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N Ethyl nitrite Chemical compound CCON=O QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282326 Felis catus Species 0.000 description 1
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N Hexyl crotonate Chemical compound CCCCCCOC(=O)\C=C\C MZNHUHNWGVUEAT-XBXARRHUSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014647 Lens culinaris subsp culinaris Nutrition 0.000 description 1
- 244000043158 Lens esculenta Species 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N Methoxyphenone Chemical compound C1=C(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 BWPYBAJTDILQPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001730 Moisture cure polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 101100400378 Mus musculus Marveld2 gene Proteins 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019502 Orange oil Nutrition 0.000 description 1
- 229940123973 Oxygen scavenger Drugs 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 240000003085 Quassia amara Species 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N [(2,4-dipentoxyphenyl)-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CCCCCOC1=CC(OCCCCC)=CC=C1P(=O)(C(=O)C=1C(=CC(C)=CC=1C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C HGBBFIVJLKAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAZZTULIUXRAAI-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1N(CC)CC GAZZTULIUXRAAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJZOCHHENUXPLT-UHFFFAOYSA-N [4-(2-hydroxyethylsulfanyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(SCCO)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 PJZOCHHENUXPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylphenyl)sulfanylphenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 DBHQYYNDKZDVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMGVFHOOTUYICN-UHFFFAOYSA-N [4-(4-methylsulfanylphenyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C1=CC=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1 RMGVFHOOTUYICN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N [4-[4-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphanylphenyl]phenyl]-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)P(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVZGQTFDZCTSQW-UHFFFAOYSA-N [Cl].C(C1=CC=CC=C1)(=O)OC=C Chemical compound [Cl].C(C1=CC=CC=C1)(=O)OC=C GVZGQTFDZCTSQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000999 acridine dye Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- AJXBTRZGLDTSST-UHFFFAOYSA-N amino 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)ON AJXBTRZGLDTSST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005427 anthranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001124 arachidoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003637 basic solution Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001851 biosynthetic effect Effects 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMISHRXKWQZCCQ-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) decanedioate Chemical compound CC1(C)N(C)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1 SMISHRXKWQZCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKVSLLBZHYUYHH-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-3-yl) butanedioate Chemical compound CC1(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCC(=O)OC1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1 VKVSLLBZHYUYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVOKYUTWUYETLQ-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) butanedioate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)CCC(=O)ON1C(C)(C)CCCC1(C)C XVOKYUTWUYETLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEFSGHVBJCEKAZ-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) ethyl phosphite Chemical compound CC=1C=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=1OP(OCC)OC1=C(C)C=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C ZEFSGHVBJCEKAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZRMYAIVHSRUQY-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl) methyl phosphite Chemical compound CC=1C=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=1OP(OC)OC1=C(C)C=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C VZRMYAIVHSRUQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N bis(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 RFVHVYKVRGKLNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWPWLKXZYNXATK-UHFFFAOYSA-N bis(4-methylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C)C=C1 ZWPWLKXZYNXATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N bis(prop-2-enyl) (e)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C\C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNXWBOWCWPWNPI-UHFFFAOYSA-N bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl] 9-oxothioxanthene-3,4-dicarboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C(C(=O)OCCOCCOC)C(C(=O)OCCOCCOC)=C3SC2=C1 HNXWBOWCWPWNPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFUJUTFTRXYQMG-UHFFFAOYSA-N bis[4-(dimethylamino)phenyl]methanethione Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=S)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 KFUJUTFTRXYQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N bumetrizole Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O OCWYEMOEOGEQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;2-methylidenebutanedioic acid Chemical compound OCCCCO.OC(=O)CC(=C)C(O)=O.OC(=O)CC(=C)C(O)=O GKRVGTLVYRYCFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- DCBIXTBHCUSRQQ-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid;hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO.OC(=O)CCC(O)=O DCBIXTBHCUSRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKBHDHWFTJYJSK-UHFFFAOYSA-N butyl 2-cyano-3-(4-methoxyphenyl)but-2-enoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C#N)=C(C)C1=CC=C(OC)C=C1 NKBHDHWFTJYJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANJPBYDLSIMKNF-UHFFFAOYSA-N butyl 9-oxothioxanthene-4-carboxylate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(=O)OCCCC)=CC=C2 ANJPBYDLSIMKNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N butyryl chloride Chemical compound CCCC(Cl)=O DVECBJCOGJRVPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- JYYOBHFYCIDXHH-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;hydrate Chemical compound O.OC(O)=O JYYOBHFYCIDXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011093 chipboard Substances 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- WJSDHUCWMSHDCR-UHFFFAOYSA-N cinnamyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC=CC1=CC=CC=C1 WJSDHUCWMSHDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910000152 cobalt phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LLSRPENMALNOFW-UHFFFAOYSA-N coumarin 106 Chemical compound C12=C3CCCN2CCCC1=CC1=C3OC(=O)C2=C1CCC2 LLSRPENMALNOFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDTAEYOYAZPLIC-UHFFFAOYSA-N coumarin 152 Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(=O)OC2=CC(N(C)C)=CC=C21 KDTAEYOYAZPLIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSSSHNJONFTXHS-UHFFFAOYSA-N coumarin 153 Chemical compound C12=C3CCCN2CCCC1=CC1=C3OC(=O)C=C1C(F)(F)F VSSSHNJONFTXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRUYYVYCSJCVMP-UHFFFAOYSA-N coumarin 30 Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(C=3C4=CC=C(C=C4OC(=O)C=3)N(CC)CC)=NC2=C1 JRUYYVYCSJCVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBPCDMSEJVCNGV-UHFFFAOYSA-N coumarin 334 Chemical compound C1CCC2=C(OC(C(C(=O)C)=C3)=O)C3=CC3=C2N1CCC3 JBPCDMSEJVCNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGDDFMCJIHJNMK-UHFFFAOYSA-N coumarin 337 Chemical compound C12=C3CCCN2CCCC1=CC1=C3OC(=O)C(C#N)=C1 LGDDFMCJIHJNMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFYCEAFSNDLKSX-UHFFFAOYSA-N coumarin 460 Chemical compound CC1=CC(=O)OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C21 AFYCEAFSNDLKSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXMPURWMSJENN-UHFFFAOYSA-N coumarin 480 Chemical compound C12=C3CCCN2CCCC1=CC1=C3OC(=O)C=C1C XHXMPURWMSJENN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZTMNDOZYLMFQE-UHFFFAOYSA-N coumarin 500 Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(=O)OC2=CC(NCC)=CC=C21 GZTMNDOZYLMFQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMJKUPWQKZFFCX-UHFFFAOYSA-N coumarin 504 Chemical compound C1CCC2=C(OC(C(C(=O)OCC)=C3)=O)C3=CC3=C2N1CCC3 VMJKUPWQKZFFCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940109262 curcumin Drugs 0.000 description 1
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 1
- 235000012754 curcumin Nutrition 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical class [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diol Chemical compound OC1CCC(O)C1 NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003074 decanoyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Natural products CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N dibutyl (e)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C\C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N dibutyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCCCC OGVXYCDTRMDYOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043237 diethanolamine Drugs 0.000 description 1
- ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound CCOC(=O)CC(=C)C(=O)OCC ZEFVHSWKYCYFFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFLDPWHFBUODDF-UHFFFAOYSA-N diferuloylmethane Natural products C1=C(O)C(OC)=CC(C=CC(=O)CC(=O)C=CC=2C=C(OC)C(O)=CC=2)=C1 VFLDPWHFBUODDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-methylidenebutanedioate Chemical compound COC(=O)CC(=C)C(=O)OC ZWWQRMFIZFPUAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 1
- VLNBQUAHERCLKT-UHFFFAOYSA-N dimethylamino benzoate Chemical compound CN(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1 VLNBQUAHERCLKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBISXEJSEGNNKL-UHFFFAOYSA-N dinitrogen-n-sulfide Chemical compound [N-]=[N+]=S OBISXEJSEGNNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N dodec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)O GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEACYXSIPDVVMV-UHFFFAOYSA-L eosin Y Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C([O-])=C(Br)C=C21 SEACYXSIPDVVMV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940011411 erythrosine Drugs 0.000 description 1
- 239000004174 erythrosine Substances 0.000 description 1
- 235000012732 erythrosine Nutrition 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- ZBCLTORTGNOIGM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)C(=O)OC=C ZBCLTORTGNOIGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMQHXFNDANLQTI-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,3,4,5-tetrachlorobenzoate Chemical compound ClC1=CC(C(=O)OC=C)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl YMQHXFNDANLQTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical class ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxypropanoate Chemical class CC(O)C(=O)OC=C MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methoxyacetate Chemical compound COCC(=O)OC=C AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylpropanoate Chemical class CC(C)C(=O)OC=C WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl prop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)C=C BLCTWBJQROOONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- QUIGCNOBIDGFMP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-[4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-n-(2-ethoxy-2-oxoethyl)anilino]acetate Chemical compound C1=CC(N(CC(=O)OCC)CC(=O)OCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QUIGCNOBIDGFMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNTJRHNDUMUDLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-(2-morpholin-4-ylpropan-2-yl)-9-oxothioxanthene-1-carboxylate Chemical compound C=1C=2SC3=CC=CC=C3C(=O)C=2C(C(=O)OCC)=CC=1C(C)(C)N1CCOCC1 JNTJRHNDUMUDLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMZGPOQKBSMQOG-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-(benzenesulfonyl)-9-oxothioxanthene-1-carboxylate Chemical compound C=1C=2SC3=CC=CC=C3C(=O)C=2C(C(=O)OCC)=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GMZGPOQKBSMQOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYSWAVWEQXQUGO-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-chloro-9-oxothioxanthene-1-carboxylate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(Cl)C=C2C(=O)OCC FYSWAVWEQXQUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXHOZDGOWOXML-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxy-9-oxothioxanthene-1-carboxylate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(OCC)C=C2C(=O)OCC ZZXHOZDGOWOXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFWIVDKRDSZQRR-UHFFFAOYSA-N ethyl 7-methoxy-9-oxothioxanthene-3-carboxylate Chemical compound C1=C(OC)C=C2C(=O)C3=CC=C(C(=O)OCC)C=C3SC2=C1 ZFWIVDKRDSZQRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKUZBJXWIOTQFQ-UHFFFAOYSA-N ethyl 9-oxothioxanthene-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(=O)OCC)=CC=C3SC2=C1 PKUZBJXWIOTQFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000009730 filament winding Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000003818 flash chromatography Methods 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSTIHFXUTPZJQL-UHFFFAOYSA-N fluoro benzoate Chemical compound FOC(=O)C1=CC=CC=C1 OSTIHFXUTPZJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009787 hand lay-up Methods 0.000 description 1
- 125000000268 heptanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N hexane-1,3-diol Chemical compound CCCC(O)CCO AVIYEYCFMVPYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003104 hexanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005935 hexyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJOQGZACKSYWCH-WZBLMQSHSA-N hydroquinine Chemical class C1=C(OC)C=C2C([C@@H](O)[C@@H]3C[C@@H]4CCN3C[C@@H]4CC)=CC=NC2=C1 LJOQGZACKSYWCH-WZBLMQSHSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetone Chemical compound CC(=O)CO XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- CDAISMWEOUEBRE-GPIVLXJGSA-N inositol Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H]1O CDAISMWEOUEBRE-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N iron(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Fe+2] VBMVTYDPPZVILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- SKRDXYBATCVEMS-UHFFFAOYSA-N isopropyl nitrite Chemical compound CC(C)ON=O SKRDXYBATCVEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 125000000400 lauroyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QTWZICCBKBYHDM-UHFFFAOYSA-N leucomethylene blue Chemical compound C1=C(N(C)C)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3NC2=C1 QTWZICCBKBYHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012669 liquid formulation Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- WGGBUPQMVJZVIO-XFXZXTDPSA-N methyl (z)-2-cyano-3-(4-methoxyphenyl)but-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(\C#N)=C(\C)C1=CC=C(OC)C=C1 WGGBUPQMVJZVIO-XFXZXTDPSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxypropionate Chemical compound COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O UJRDRFZCRQNLJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRBLLGLKTUGCSG-UHFFFAOYSA-N methyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O VRBLLGLKTUGCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCOFATYVJHBED-UHFFFAOYSA-N methyl 9-oxothioxanthene-1-carboxylate Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(=O)OC MLCOFATYVJHBED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- CCRCUPLGCSFEDV-BQYQJAHWSA-N methyl trans-cinnamate Chemical compound COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CCRCUPLGCSFEDV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 125000001419 myristoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N n'-(2-ethoxyphenyl)-n-(2-ethylphenyl)oxamide Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1CC YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZXAXOAMGJWBON-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-dioxoisoindol-5-yl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 HZXAXOAMGJWBON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRHLRMQUFBARRH-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=CC=C1 DRHLRMQUFBARRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRKWKHMVNVMROH-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylprop-2-enoyl)butanamide Chemical compound CCCC(=O)NC(=O)C(C)=C GRKWKHMVNVMROH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGUZDOKYZZUQAI-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylprop-2-enoyl)decanamide Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)NC(=O)C(C)=C ZGUZDOKYZZUQAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIQHOLCVUUGNRZ-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylprop-2-enoyl)dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)NC(=O)C(C)=C FIQHOLCVUUGNRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFWHXKZZOQAFQC-UHFFFAOYSA-N n-(2-methylprop-2-enoyl)pentanamide Chemical compound CCCCC(=O)NC(=O)C(C)=C PFWHXKZZOQAFQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRLHANVFPKIIDH-UHFFFAOYSA-N n-[1-(4-phenylsulfanylphenyl)decylidene]hydroxylamine Chemical compound C1=CC(C(=NO)CCCCCCCCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 DRLHANVFPKIIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N n-acetyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C(C)=C OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVYTRVYOYKZSO-UHFFFAOYSA-N n-butoxy-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCONC(=O)C(C)=C UGVYTRVYOYKZSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N n-butyl-1-[4-[4-(butylamino)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl]-6-chloro-1,3,5-triazin-2-yl]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-amine Chemical compound CC1(C)CC(NCCCC)CC(C)(C)N1C1=NC(Cl)=NC(N2C(CC(CC2(C)C)NCCCC)(C)C)=N1 DARUEKWVLGHJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLBLVDQTHWVGRA-UHFFFAOYSA-N n-butyl-3-[4-[4-(butylamino)-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl]-6-chloro-1,3,5-triazin-2-yl]-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-amine Chemical compound CCCCNC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1C1=NC(Cl)=NC(C2C(N(C)C(C)(C)CC2NCCCC)(C)C)=N1 BLBLVDQTHWVGRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(=O)C=C CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005185 naphthylcarbonyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000006501 nitrophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009935 nitrosation Effects 0.000 description 1
- 238000007034 nitrosation reaction Methods 0.000 description 1
- HGEVGSTXQGZPCL-UHFFFAOYSA-N nonanedioyl dichloride Chemical compound ClC(=O)CCCCCCCC(Cl)=O HGEVGSTXQGZPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001402 nonanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNVAPPWJCZTWQL-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 RNVAPPWJCZTWQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 1
- XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-(benzotriazol-2-yl)-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O XQAABEDPVQWFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010502 orange oil Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L oxido carbonate Chemical compound [O-]OC([O-])=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005646 oximino group Chemical group 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001312 palmitoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 1
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MYHOHFDYWMPGJY-UHFFFAOYSA-N pentafluorobenzoyl chloride Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C(Cl)=O)C(F)=C1F MYHOHFDYWMPGJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diol Chemical compound CCCCC(O)O UWJJYHHHVWZFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002976 peresters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HPAFOABSQZMTHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical class OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 1
- 239000011120 plywood Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229940068886 polyethylene glycol 300 Drugs 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCC=C AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006233 propoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WKSAUQYGYAYLPV-UHFFFAOYSA-N pyrimethamine Chemical compound CCC1=NC(N)=NC(N)=C1C1=CC=C(Cl)C=C1 WKSAUQYGYAYLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INCIMLINXXICKS-UHFFFAOYSA-M pyronin Y Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2OC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 INCIMLINXXICKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000009788 spray lay-up Methods 0.000 description 1
- VQQDHBUBOPTRBY-UHFFFAOYSA-N st50307358 Chemical compound C1CC(C)(C)C2=C(OC(C(C(=O)OCC)=C3)=O)C3=CC3=C2N1CCC3(C)C VQQDHBUBOPTRBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006301 statistical copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003696 stearoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- AYNNSCRYTDRFCP-UHFFFAOYSA-N triazene Chemical compound NN=N AYNNSCRYTDRFCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N trioctadecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGMXGCZJYUCMGY-UHFFFAOYSA-N tris(4-nonylphenyl) phosphite Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCC)=CC=C1OP(OC=1C=CC(CCCCCCCCC)=CC=1)OC1=CC=C(CCCCCCCCC)C=C1 MGMXGCZJYUCMGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphate Chemical compound C=CCOP(=O)(OCC=C)OCC=C XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N veratrole Chemical compound COC1=CC=CC=C1OC ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 230000001755 vocal effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 201000009482 yaws Diseases 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/32—Compounds containing nitrogen bound to oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/68—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with at least one of the esterifying carboxyl groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
- C07C323/46—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms
- C07C323/47—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, further bound to other hetero atoms to oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/12—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms
- C07D295/135—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by singly or doubly bound nitrogen atoms with the ring nitrogen atoms and the substituent nitrogen atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D335/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D335/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D335/10—Dibenzothiopyrans; Hydrogenated dibenzothiopyrans
- C07D335/12—Thioxanthenes
- C07D335/14—Thioxanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
- C07D335/18—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Abstract
Oximesterverbindungen der Formeln I, II, III und IV DOLLAR F1 worin DOLLAR A R¶1¶ Phenyl, C¶1¶-C¶20¶-Alkyl oder C¶2¶-C¶20¶-Alkyl, gegebenenfalls durch -O- unterbrochen, C¶2¶-C¶20¶-Alkanoyl oder Benzoyl, darestellt, oder R¶1¶ C¶2¶-C¶12¶-Alkoxycarbonyl oder Phenoxycarbonyl darstellt; R¶1¶' C¶2¶-C¶12¶-Alkoxycarbonyl darstellt oder R¶1¶' Phenoxycarbonyl darstellt, oder R¶1¶' -CONR¶10¶R¶11¶ oder CN darstellt; R¶2¶ C¶2¶-C¶12¶-Alkanoyl, C¶4¶-C¶6¶-Alkenoyl, Benzoyl, C¶2¶-C¶6¶-Alkoxycarbonyl oder Phenoxycarbonyl darstellt; R¶3¶, R¶4¶, R¶5¶, R¶6¶ und R¶7¶ Wasserstoff, Halogen, C¶1¶-C¶12¶-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl, Phenyl, Benzyl, Benzoyl, C¶2¶-C¶12¶-Alkanoyl, C¶2¶-C¶12¶-Alkoxycarbonyl, Phenoxycarbonyl oder eine Gruppe OR¶8¶, SR¶9¶, SOR¶9¶, SO¶2¶R¶9¶ oder NR¶10¶R¶11¶ darstellen; R¶4¶', R¶5¶' und R¶6¶' Wasserstoff, Halogen, C¶1¶-C¶12¶-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl, Phenyl, Benzyl, Benzoyl, C¶2¶-C¶12¶-Alkanoyl, C¶2¶-C¶12¶-Alkoxycarbonyl, Phenoxycarbonyl darstellen, oder eine Gruppe OR¶8¶, SR¶9¶, SOR¶9¶, SO¶2¶R¶9¶, NR¶10¶R¶11¶ darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R¶3¶, R¶4¶, R¶5¶, R¶6¶, R¶7¶, R¶4¶', R¶5¶' und R¶6¶', OR¶8¶, SR¶9¶ oder NR¶10¶R¶11¶ darstellt; R¶8¶, R¶9¶, R¶10¶ und R¶11¶ beispielsweise Wasserstoff, C¶1¶-C¶12¶-Alkyl, Phenyl, darstellen, sind ferner als Starter für die Photopolymerisation von radikalisch polymerisierbaren Verbindungen geeignet.
Description
Die Erfindung betrifft neue O-Acyloxim-Verbindungen und deren
Verwendung als Photostarter in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen.
Aus US-A-3 558 309 ist bekannt, daß bestimmte Oximesterderivate
Photostarter darstellen. In US-A-4 255 513 werden Oximesterverbindungen
offenbart. In US-A-4 590 145 werden verschiedene p-Dimethyl- und p-
Diethylamino-substituierte Oximesterverbindungen offenbart. US-A-4 202
697 offenbart Acrylamino-substituierte Oximester. In Chemical Abstract
Nr. 96 : 52526c, J. Chem. Eng. Data 9(3), 403-4 (1964), J. Chin. Chem. Soc.
(Taipei) 41(5), 573-8 (1994), JP-62-273259-A ( = Chemical Abstract
109 : 83463w), JP-62-286961-A ( = Derwent Nr. 88-025703/04), JP-62-201859-A
( = Derwent Nr. 87-288481/41), JP-62-184056-A ( = Derwent Nr. 87-
266739/38), US-A-5019482 und J. of Photochemistry and Photobiology A 107,
261-269 (1997) werden einige p-Alkoxyphenyloximesterverbindungen be
schrieben.
In der Photopolymerisationstechnologie gibt es noch einen Be
darf für hochreaktive, leicht herzustellende und leicht zu handhabende
Photostarter. Außerdem müssen solche neuen Photostarter den hohen Anfor
derungen der Industrie bezüglich Eigenschaften, wie beispielsweise ther
mische Stabilität und Lagerungsstabilität, genügen.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß Verbindungen der For
meln I, II, III und IV
worin
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder meh reren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C5-C6-Cycloalkyl, C2-C6-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder meh reren C1-C6-Alkyl, Phenyl, ORB, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder meh rere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 sub stituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)mC1-C6-Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-C12-Aryl; SO20-C1-C6-Alkyl, SO20-C6-C10-Aryl oder Diphenylphos phinoyl darstellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls, mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, -CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wöbei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, oder Phenyl, substituiert mit Halogen oder SR9, substitu iert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren ORB, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R-, Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbro chen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R-, Phenoxycarbonyl oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R5, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoff atome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7 OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4-(C1-C19-Alkyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2 (CO) O (C1-C4-Alkyl), O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2CH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder meh reren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C5-C6-Cycloalkyl, C2-C6-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder meh reren C1-C6-Alkyl, Phenyl, ORB, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder meh rere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 sub stituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)mC1-C6-Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-C12-Aryl; SO20-C1-C6-Alkyl, SO20-C6-C10-Aryl oder Diphenylphos phinoyl darstellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls, mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, -CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wöbei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, oder Phenyl, substituiert mit Halogen oder SR9, substitu iert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren ORB, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R-, Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbro chen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R-, Phenoxycarbonyl oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R5, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoff atome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7 OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4-(C1-C19-Alkyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2 (CO) O (C1-C4-Alkyl), O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2CH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
darstellt,
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2 (CO) O (C1-C4-Alkyl), -O (CO) -C1-C4-Alkyl, -O (CO) -Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C9-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2 (CO) O (C1-C4-Alkyl), -O (CO) -C1-C4-Alkyl, -O (CO) -Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C9-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
darstellt;
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
sein kann;
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12-Al kylen) -O(CO)-, -(CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O)n(O)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen) -(CO)- darstellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12-Al kylen) -O(CO)-, -(CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O)n(O)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen) -(CO)- darstellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
- a) wenn R5 Methoxy darstellt und R2 Benzoyl oder Acetyl dar stellt, R1 dann kein Phenyl darstellt;
- b) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Benzoyl oder Ethoxycarbonyl darstellt;
- c) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 4-Methoxybenzoyl dar stellt, R2 dann kein Ethoxycarbonyl darstellt;
- d) wenn R5 Methacryloylamino darstellt und R1 Methyl dar stellt, R2 dann kein Benzoyl darstellt;
- e) wenn beide, R5 und R4 oder R5 und R6 OR8 darstellen, und die se Gruppen OR8 zusammen über R8 einen Ring bilden und dadurch -O-CH2-O- ergeben und R1 Methyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt;
- f) wenn R4, R5 und R6 gleichzeitig Methoxy darstellen und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt;
- g) wenn R5 Methoxy darstellt und R4 oder R6 gleichzeitig Acetoxy darstellen und R1 Ethyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt; (viii) wenn in Formel III R1' Methyl darstellt, R5' Phenylthio darstellt und R4' und R6' beide H darstellen, R2 dann kein 4-Chlorbenzoyl darstellt, eine unerwartet gute Leistung bei Photopolymerisationsreaktio nen zeigen.
Die Verbindungen der Formeln I, II, III und IV sind dadurch ge
kennzeichnet, daß sie mindestens einen Alkoxy-, Aryloxy-, Alkylthio-,
Arylthio-, Alkylamino- oder Arylaminosubstituenten enthalten, der direkt
an die an das Kohlenstoffatom der Oximinofunktion gebundene Phenyl- oder
Benzoylgruppe gebunden ist.
Die substituierten Phenylreste sind ein- bis viermal, bei
spielsweise ein-, zwei- oder dreimal, insbesondere zweimal, substituiert.
Substituenten an dem Phenylring liegen vorzugsweise in Stellungen 4 oder
in 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- oder 2,4,6-Konfiguration an dem Phenylring,
insbesondere in 4- oder 3,4-Stellung, vor.
C1-C20-Alkyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise C1-
C18, C1-C14, C1-C12-, C1-C8 C1-C6- oder C1-C4-Alkyl oder C4-C12- oder C4-C8-
Alkyl. Beispiele sind Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec-
Butyl, Isobutyl, tert-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, 2,4,4-Trimethyl
pentyl, 2-Ethylhexyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, Tetradecyl, Pentade
cyl, Hexadecyl, Octadecyl und Eicosyl. C1-C12-Alkyl, C2-C12-Alkyl, C1-C8-
Alkyl, C1-C6-Alkyl, C2-C6-Alkyl und C1-C4-Alkyl weisen die gleichen wie
vorstehend für C1-C20-Alkyl bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen
angegebenen Bedeutungen auf.
C2-C2o-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist,
ist beispielsweise 1-9, 1-5, 1-3 oder ein- oder zweimal durch -O- unter
brochen. Zwei O-Atome sind z. B. durch mindestens zwei Methylengruppen,
nämlich Ethylen, getrennt. Die Alkylgruppen sind linear oder verzweigt.
Beispielsweise kommen die nachstehenden Struktureinheiten vor
-CH2-CH2-O-CH2CH3, -(CH2CH2O]Y-CH3, worin y = 1-9, -(CH2-CH2O)7OH2CH3,
-CH2-CH (CH3) -O-CH2-CH2CH3, oder -CH2-CH (CH3) -O-CH2-CH3. C2-C6-Alkyl, das
durch 1 oder 2 -O- unterbrochen ist, ist beispielsweise
-CH2CH2-O-CH2CH2-OCH2CH3 oder -CH2CH2-O-CH2CH3.
C2-C4-Hydroxyalkyl bedeutet C2-C4-Alkyl, das durch ein oder zwei
O-Atome substituiert ist.. Der Alkylrest ist linear oder verzweigt. Bei
spiele sind 2-Hydroxyethyl, 1-Hydroxyethyl, 1-Hydroxypropyl, 2-Hydroxy
propyl, 3-Hydroxypropyl, 1-Hydroxybutyl, 4-Hydroxybutyl, 2-Hydroxybutyl,
3-Hydroxybutyl, 2,3-Dihydroxypropyl oder 2,4-Dihydroxybutyl.
C5-C12-Cycloalkyl ist beispielsweise Cyclopentyl, Cyclohexyl,
Cyclooctyl, Cyclododecyl, insbesondere Cyclopentyl und Cyclohexyl, vor
zugsweise Cyclohexyl.
C1-C4-Alkoxy ist linear oder verzweigt, beispielsweise Methoxy,
Ethoxy, Propoxy, Isopropoxy, n-Butyloxy, sec-Butyloxy, Isobutyloxy, tert-
Butyloxy.
C2-C10-Alkoxyalkyl ist C2-C10-Alkyl, das durch ein O-Atom unter
brochen ist. C2-C10-Alkyl weist die gleichen wie vorstehend für C1-C20-
Alkyl angegebenen Bedeutungen bis zu der entsprechenden Anzahl an C-
Atomen auf. Beispiele sind Methoxymethyl, Methoxyethyl, Methoxypropyl,
Ethoxymethyl, Ethoxyethyl, Ethoxypropyl, Propoxymethyl, Propoxyethyl,
Propoxypropyl.
C2-C20-Alkanoyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise
C2-C18-, C2-C14-, C2-C12-, C2-C8-, C2-C6- oder C2-C4-Alkanoyl oder C4-C12- oder
C4-C8-Alkanoyl. Beispiele sind Acetyl, Propionyl, Butanoyl, Isobutanoyl,
Pentanoyl, Hexanoyl, Heptanoyl, Octanoyl, Nonanoyl, Decanoyl, Dodecanoyl,
Tetradecanoyl, Pentadecanoyl, Hexadecanoyl, Octadecanoyl und Icosanoyl,
vorzugsweise Acetyl. C2-C12-Alkanoyl, C2-C8-Alkanoyl, C2-C6-Alkanoyl und C2-
C4-Alkanoyl weisen die gleichen wie vorstehend für C2-C20-Alkanoyl bis zu
der entsprechenden Anzahl an C-Atomen angegebenen Bedeutungen auf.
C2-C4-Alkanoyloxy ist linear oder verzweigt, beispielsweise Ace
tyloxy, Propionyloxy, Butanoyloxy, Isobutanoyloxy, vorzugsweise Acety
loxy.
C2-C12-Alkoxycarbonyl ist linear oder verzweigt und ist bei
spielsweise Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, n-Butyl
oxycarbonyl, Isobutyloxycarbonyl, 1,1-Dimethylpropoxycarbonyl, Pentyloxy
carbonyl, Hexyloxycarbonyl, Heptyloxycarbonyl, Octyloxycarbonyl, Nonyl
oxycarbonyl, Decyloxycarbonyl oder Dodecyloxycarbonyl, insbesondere Meth
oxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, n-Butyloxycarbonyl oder
Isobutyloxycarbonyl, vorzugsweise Methoxycarbonyl.
C2-C6-Alkoxycarbonyl und C2-C4-Alkoxycarbonyl weisen die gleichen
wie vorstehend für C2-C12-Alkoxycarbonyl zu der entsprechenden Anzahl der
C-Atome angegebenen Bedeutungen auf.
C2-C12-Alkoxycarbonyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbro
chen ist, ist linear oder verzweigt. Zwei O-Atome sind z. B. durch minde
stens zwei Methylengruppen, nämlich Ethylen getrennt.
Phenoxycarbonyl ist
Phenoxycarbonyl ist
Substituierte Phenoxycarbonylreste sind ein- bis
viermal, beispielsweise ein-, zwei- oder dreimal, insbesondere zwei- oder
dreimal, substituiert. Substituenten am Phenylring sind vorzugsweise in
Stellungen 4 oder in 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- oder 2,4,6-Stellung am Phe
nylring, insbesondere in 4- oder 3,4-Stellung.
Phenyl-C1-C3-alkyl ist beispielsweise Benzyl, Phenylethyl, α-
Methylbenzyl oder α,α-Dimethylbenzyl, insbesondere Benzyl.
C3-C12-Alkenylreste können ein- oder mehrfach ungesättigt sein
und sind beispielsweise Allyl, Methallyl, 1,1-Dimethylallyl, 1-Butenyl,
3-Butenyl, 2-Butenyl, 1,3-Pentadienyl, 5-Hexenyl, 7-Octenyl oder Dodece
nyl, insbesondere Allyl.
C3-C6-Alkenoxyreste können ein- oder mehrfach ungesättigt sein
und sind beispielsweise Allyloxy, Methallyloxy, Butenyloxy, Pentenoxy,
1,3-Pentadienyloxy, 5-Hexenyloxy.
C3-C6-Alkenoylreste können ein- oder mehrfach ungesättigt sein
und sind beispielsweise Propenoyl, 2-Methylpropenoyl, Butenoyl, Pente
noyl, 1, 3-Pentadienoyl, 5-Hexenoyl.
Methylsulfanyl ist -SCH3.
Halogen ist Fluor, Chlor, Brom und Jod, insbesondere Fluor, Chlor und Brom, vorzugsweise Fluor und Chlor.
C6-C12-Aryl ist beispielsweise Phenyl, 1-Naphthyl, 2-Naphthyl, vorzugsweise Phenyl.
Methylsulfanyl ist -SCH3.
Halogen ist Fluor, Chlor, Brom und Jod, insbesondere Fluor, Chlor und Brom, vorzugsweise Fluor und Chlor.
C6-C12-Aryl ist beispielsweise Phenyl, 1-Naphthyl, 2-Naphthyl, vorzugsweise Phenyl.
Wenn die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 an einem Phenylring
über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem
Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-
gliedrige Ringe bilden, werden Strukturen, die zwei oder vier Ringe um
fassen, (einschließlich des Phenylrings) erhalten. Beispiele sind
Wenn R1' Phenyl ist, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebe
nenfalls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstel
len einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen
R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, kann beispielsweise die nachstehen
de Struktur gebildet werden
Verbindungen der Formel III, worin R9 Phenyl darstellt und R2
mit Halogen substituiertes Benzoyl darstellt, sind vorzugsweise aus der
vorstehend erwähnten Definition ausgenommen.
Bevorzugt sind Verbindungen der Formel I und III, worin
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt, oder R1 C1-C20-Alkyl, gegebe nenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C1-C4-Halogenalkyl darstellt;
R1' Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8, NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' -CONR10R11 darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' -SR9 darstellt, R1' weiterhin C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder Phenyl, substituiert mit SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C22-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit Halogen substitu iert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mitder Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonylgruppe konjugiert ist; oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;
R3 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4, R6, R4' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1-C12-Alkyl, OR8 oder SR9, wobei die Substituenten OR8 und SR9 gegebenen falls über die Reste R5 und/oder R9 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6- gliedrige Ringe bilden, darstellen; und
R5 und R5' OR8 oder SR9 darstellen.
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt, oder R1 C1-C20-Alkyl, gegebe nenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C1-C4-Halogenalkyl darstellt;
R1' Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8, NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' -CONR10R11 darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' -SR9 darstellt, R1' weiterhin C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder Phenyl, substituiert mit SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C22-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit Halogen substitu iert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mitder Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonylgruppe konjugiert ist; oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;
R3 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4, R6, R4' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1-C12-Alkyl, OR8 oder SR9, wobei die Substituenten OR8 und SR9 gegebenen falls über die Reste R5 und/oder R9 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6- gliedrige Ringe bilden, darstellen; und
R5 und R5' OR8 oder SR9 darstellen.
Besonders bevorzugt sind Verbindungen der Formel I oder III,
worin mindestens einer der Reste R3, R4, R5, R6 oder R7 oder R4', R5' oder
R6' SR9 oder NR10R11 darstellt.
Weiterhin bevorzugte Verbindungen der Formel I sind jene, worin
in Formel I R3 und R7 Wasserstoff darstellen und R4 und R5 beide OR8 dar
stellen.
Insbesondere Verbindungen der Formel I oder III sind bevorzugt,
worin R3, R4 und R7 oder R4' und R6' Wasserstoff darstellen und R5 oder R5'
SR9 darstellt. Insbesondere bevorzugt sind solche Verbindungen, worin R9
Phenyl darstellt, das heißt Verbindungen, worin R5 oder R5'
darstellt.
Verbindungen der Formel III, worin R1' C1-C12-Alkyl darstellt,
das unsubstituiert oder mit Halogen oder Phenyl substituiert ist, sind
bevorzugt, insbesondere jene, worin R5' SR9, insbesondere
darstellt.
Besonderes Interesse gilt den Formeln I, II, III oder IV, worin
R1 Phenyl, C1-C12-Alkyl darstellt;
R1' C2-C4-Alkoxycarbonyl oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Her stellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn minde stens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit Phenyl oder einem oder mehreren Fluor substi tuiert ist, darstellt;
R2 C2-C4-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit ei nem oder mehreren C1-C4-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; R3, R6 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4 und R5 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R4' und R5' unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R6' Wasserstoff darstellt;
R8 und R9 C1-C4-Alkyl, Phenyl oder eine Gruppe
R1 Phenyl, C1-C12-Alkyl darstellt;
R1' C2-C4-Alkoxycarbonyl oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Her stellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn minde stens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit Phenyl oder einem oder mehreren Fluor substi tuiert ist, darstellt;
R2 C2-C4-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit ei nem oder mehreren C1-C4-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; R3, R6 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4 und R5 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R4' und R5' unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R6' Wasserstoff darstellt;
R8 und R9 C1-C4-Alkyl, Phenyl oder eine Gruppe
darstellen;
R10 und R11 Methyl oder Ethyl darstellen oder R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, das durch -O- unterbrochen ist, darstellen;
M C1-C12-Alkylen darstellt; und
M2 eine direkte Bindung darstellt.
R10 und R11 Methyl oder Ethyl darstellen oder R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, das durch -O- unterbrochen ist, darstellen;
M C1-C12-Alkylen darstellt; und
M2 eine direkte Bindung darstellt.
Von weiterem Interesse sind Verbindungen der Formel III, worin
R4' und R6' Wasserstoff darstellen und R5' SR9 darstellt.
R1 ist vorzugsweise Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem
oder mehreren C1-C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substitu
iert ist, oder R1 ist vorzugsweise C1-C20-Alkyl, das unsubstituiert oder
mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substitu
iert ist.
Besonders bevorzugt sind Verbindungen, worin mindestens eine
der Gruppen R3-R7 SR9, OR8 darstellt, oder insbesondere jene, worin minde
stens eine der Gruppen R3-R7 NR10R11 oder SR9, insbesondere SR9, darstellt.
R5 ist vorzugsweise SR9, OR8 oder NR10R11, insbesondere SR9, oder
NR10R11, besonders bevorzugt SR9. Bevorzugt sind Verbindungen der Formeln I
und III.
Bevorzugt sind weiterhin Verbindungen, worin R3 und R7 Wasser
stoff darstellen.
R1 ist vorzugsweise C1-C12-Alkyl.
R2 ist vorzugsweise Benzoyl, Methylbenzoyl, Dimethylbenzoyl oder Acetyl.
R6' ist vorzugsweise Wasserstoff.
R1' ist vorzugsweise C1-C12-Alkyl oder 4-(C1-C4-Alkylthio)phenyl.
R5' ist vorzugsweise C1-C4-Alkylthio oder Phenylthio.
R1 ist vorzugsweise C1-C12-Alkyl.
R2 ist vorzugsweise Benzoyl, Methylbenzoyl, Dimethylbenzoyl oder Acetyl.
R6' ist vorzugsweise Wasserstoff.
R1' ist vorzugsweise C1-C12-Alkyl oder 4-(C1-C4-Alkylthio)phenyl.
R5' ist vorzugsweise C1-C4-Alkylthio oder Phenylthio.
Bevorzugte, erfindungsgemäße Verbindungen sind 1-(4-Phenylsul
fanylphenyl)butan-1,2-dion-2-oxim-O-benzoesäureester, 1-(4-Phenylsulfa
nylphenyl)octan-1,2-dion-2-oxim-O-benzoesäureester, 1-(4-Phenylsulfanyl
phenyl)octan-1-on-oxim-O-essigsäureester, 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)bu
tan-1-on-oxim-O-essigsäureester, insbesondere. 1-(4-Phenylsulfanylphenyl) -
octan-1,2-dion-2-oxim-O-benzoesäureester.
Oximester der Formeln I, II, III und IV werden durch in der Li
teratur beschriebene Verfahren, beispielsweise durch Umsetzung der ent
sprechenden Oxime (R2 = H) mit einem Acylchlorid oder einem Anhydrid in
einem inerten Lösungsmittel, wie beispielsweise Tetrahydrofuran oder Di
methylformamid, in Anwesenheit einer Base, beispielsweise einem tertiären
Amin, wie Triethylamin, oder in einem basischen Lösungsmittel, wie Pyri
din, hergestellt.
Solche Reaktionen sind dem Fachmann bekannt und werden im all
gemeinen bei Temperaturen von -15 bis +50°C, vorzugsweise 0 bis 20°C,
ausgeführt.
Die Verbindungen der Formeln II und IV können analog durch Ver
wenden der geeigneten Oxime als Ausgangsmaterialien erhalten werden
R1-R7, und R1', R4', R5', R6' und M weisen die vorstehend angege
benen Bedeutungen auf.
Als Ausgangsmaterialien erforderliche Oxime können durch eine
Vielzahl von Verfahren, die in den üblichen Chemielehrwerken (beispiels
weise in J. March, Advanced Organic Chemistry, 4. Ausgabe, Wiley Inter
science, 1992) oder in spezielleren Monographien, z. B. S. R. Sandler und
W. Karo, Organic functional group preparations, Band 3, Academic Press,
beschrieben werden, erhalten werden. Eines der zweckmäßigsten Verfahren
ist beispielsweise die Reaktion von Ketonen mit Hydroxylamin oder dessen
Salz in polaren Lösungsmitteln, wie Ethanol oder wässerigem Ethanol. In
dem Fall wird eine Base, wie Natriumacetat, zugegeben, um den pH-Wert des
Reaktionsgemisches zu steuern. Es ist auch bekannt, daß die Geschwindig
keit der Reaktion pH-Wert-abhängig ist und die Base am Beginn oder konti
nuierlich während der Reaktion zugegeben werden kann. Basische Lösungs
mittel, wie Pyridin, können ebenfalls als Base und/oder Lösungsmittel
oder Co-Lösungsmittel angewendet werden. Die Reaktionstemperatur ist im
allgemeinen die Rückflußtemperatur des Gemisches, gewöhnlich 60-120°C.
Eine weitere geeignete Synthese für Oxime ist die Nitrosierung von "akti
ven" Methylengruppen mit salpetriger Säure oder einem Alkylnitrit. Sowohl
alkalische Bedingungen, wie beispielsweise in Organic Syntheses Sammel
band VI (J. Wiley & Sons, New York, 1988), Seiten 199 und 840, beschrie
ben, als auch saure Bedingungen,.wie beispielsweise in Organic Syntheses
Sammelband V, Seiten 32 und 373, Sammelband III, Seiten 1991 und 513,
Sammelband II, Seiten 202, 204 und 363 beschrieben, sind für die Herstel
lung der als Ausgangsmaterialien der Erfindung verwendbaren Oxime geeig
net. Salpetrige Säure wird im allgemeinen aus Natriumnitrit erzeugt. Das
Alkylnitrit kann beispielsweise Methylnitrit, Ethylnitrit, Isopropylni
trit, Butylnitrit oder Isoamylnitrit sein.
Jede Oximestergruppe kann in zwei Konfigurationen, (Z) oder
(E), vorliegen. Es ist möglich, die Isomeren durch herkömmliche Verfahren
zu trennen, jedoch ist es auch möglich, das Isomerengemisch als photo
startende Spezies einzusetzen. Deshalb betrifft die Erfindung ebenfalls
Gemische von Konfigurationsisomeren der Verbindungen der Formeln I, II,
III und IV.
Gemäß der Erfindung können die Verbindungen der Formeln I, II,
III und IV als Photostarter für die Photopolymerisation von ethylenisch
ungesättigten Verbindungen oder von Gemischen verwendet werden, die sol
che Verbindungen umfassen.
Die Erfindung betrifft deshalb photopolymerisierbare Zusammen
setzungen, umfassend
- a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte, photopolymeri sierbare Verbindung und
- b) als Photostarter, mindestens eine Verbindung der Formel I,
II, III und/oder IV
worin
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C5-C8-Cycloalkyl, C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenen falls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C2- C20-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxyl gruppe/n substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubsti tuiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)m-C1-C6- Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-C12- Aryl; SO2O-C1-C6-Alkyl, SO2O-C6-C10-Aryl oder Diphenylphosphinoyl dar stellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, -CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder mit SR9 substituiertem Phenyl substitu iert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R7, Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n sub stituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Phenoxycarbonyl; eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weite ren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7 OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4- (C1-C10-Alcyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2 (CO)O(C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2CH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
darstellt,
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2 (CO)O(C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-CO-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
darstellt;
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
sein kann;
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12-Alky len) -O (CO)-, -(CO) O-(CH2CH2O)n-(CO)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen)-(CO)- dar stellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt; M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
- a) wenn R5 Methoxy darstellt und R2 Benzoyl oder Acetyl dar stellt, R1 dann kein Phenyl darstellt;
- b) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Benzoyl oder Ethoxycarbonyl darstellt;
- c) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 4-Methoxybenzoyl dar stellt, R2 dann kein Ethoxycarbonyl darstellt;
- d) wenn R5 Methacryloylamino darstellt und R1 Methyl dar stellt, R2 dann kein Benzoyl darstellt;
- e) wenn beide, R5 und R4 oder R5 und R6 OR8 darstellen, und die se Gruppen OR8 zusammen über R8 einen Ring bilden und dadurch -O-CH2-O- ergeben und R2 Methyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt;
- f) wenn R4, R5 und R6 gleichzeitig Methoxy darstellen und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt. Die Zusammensetzung kann zusätzlich zu der Komponente (b) min destens einen weiteren Photostarter (c) und/oder weitere Costarter (d) und/oder andere Zusätze umfassen.
Die ungesättigten Verbindungen (a) können eine oder mehrere
olefinische Doppelbindungen einschließen. Sie können von niederer (mono
merer) oder höherer (oligomerer) Molekülmasse sein. Beispiele für Monome
re, die eine Doppelbindung enthalten, sind Alkyl- oder Hydroxyalkylacry
late oder -methacrylate, beispielsweise Methyl-, Ethyl-, Butyl-, 2-Ethyl
hexyl- oder 2-Hydroxyethylacrylat, Isobornylacrylat, Methylmethacrylat
oder Ethylmethacrylat. Silikonacrylate sind auch vorteilhaft. Weitere
Beispiele sind Acrylnitril, Acrylamid, Methacrylamid, N-substituierte
(Meth)acrylamide, Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylether, wie Isobutyl
vinylether, Styrol, Alkyl- und Halogenstyrole, N-Vinylpyrrolidon, Vinyl
chlorid oder Vinylidenchlorid.
Beispiele für Monomere, die zwei oder mehrere Doppelbindungen
enthalten, sind die Diacrylate von Ethylenglycol, Propylenglycol, Neopen
tylglycol, Hexamethylenglycol oder von Bisphenol A, und 4,4'-Bis(2-
acryloyloxyethoxy)diphenylpropan, Trimethylolpropantriacrylat, Penta
erythrittriacrylat oder -tetraacrylat, Vinylacrylat, Divinylbenzol, Di
vinylsuccinat, Diallylphthalat, Triallylphosphat, Triallylisocyanurat
oder Tris(2-acryloylethyl)isocyanurat.
Beispiele für polyungesättigte (mehrfach ungesättigte) Verbin
dungen mit relativ hoher Molekülmasse (Oligomere) sind acrylierte Epoxid
harze, acrylierte Polyester, Polyester, die Vinylether- oder Epoxygruppen
enthalten, und ebenfalls Polyurethane und Polyether. Weitere Beispiele
für ungesättigte Oligomere sind ungesättigte Polyesterharze, die gewöhn
lich aus Maleinsäure, Phthalsäure und einem oder mehreren Diolen mit Mo
lekulargewichten von etwa 500 bis 3000 hergestellt werden. Außerdem ist
es auch möglich, Vinylethermonomere und -oligomere und auch Maleat
endständige Oligomere mit Polyester, Polyurethan, Polyether, Polyvinyl
ether und Epoxyhauptketten einzusetzen. Besonders geeignet sind Kombina
tionen von Oligomeren, die Vinylethergruppen tragen, und Polymere, wie in
WO 90/01512 beschrieben. Copolymere von Vinylether- und Maleinsäure
funktionalisierten Monomeren sind jedoch auch geeignet. Ungesättigte Oli
gomere dieser Art können ebenfalls als Prepolymere bezeichnet werden.
Besonders geeignete Beispiele sind Ester von ethylenisch unge
sättigten Carbonsäuren und Polyolen oder Polyepoxiden, und Polymere mit
ethylenisch ungesättigten Gruppen in der Kette oder in den Seitengruppen,
beispielsweise ungesättigte Polyester, Polyamide und Polyurethane und
Copolymere davon, Polymere und Copolymere, die (Meth)acrylgruppen in Sei
tenketten enthalten, und auch Gemische von einem oder mehreren solcher
Polymere.
Beispiele für ungesättigte Carbonsäuren sind Acrylsäure,
Methacrylsäure, Crotonsäure, Itaconsäure, Zimtsäure und ungesättigte
Fettsäuren, wie Linolensäure oder Ölsäure. Acryl- und Methacrylsäure sind
bevorzugt.
Geeignete Polyole sind aromatische und insbesondere aliphati
sche und cycloaliphatische Polyole. Beispiele für aromatische Polyole
sind Hydrochinon, 4,4'-Dihydroxydiphenyl, 2,2-Di(4-hydroxyphenyl)propan
und auch Novolake und Resole. Beispiele für Polyepoxide sind jene, die
auf vorstehend erwähnten Polyolen basieren, insbesondere die aromatischen
Polyole und Epichlorhydrin. Andere geeignete Polyole sind Polylnere und
Copolymere, die Hydroxylgruppen in der Polymerkette oder in Seitengruppen
enthalten; Beispiele sind Polyvinylalkohol und Copolymere davon oder Po
lyhydroxyalkylmethacrylate oder Copolymere davon. Weitere Polyole, die
geeignet sind, sind Oligoester mit Hydroxylendgruppen.
Beispiele für aliphatische und cycloaliphatische Polyole sind
Alkylendiole mit vorzugsweise 2 bis 12 C-Atomen, wie Ethylenglycol, 1,2-
oder 1,3-Propandiol, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Butandiol, Pentandiol, Hexan
diol, Octandiol, Dodecandiol, Diethylenglycol, Triethylenglycol, Po
lyethylenglycole mit Molekulargewichten von vorzugsweise 200 bis 1500,
1,3-Cyclopentandiol, 1,2-, 1,3- oder 1,4-Cyclohexandiol, 1,4-Dihydro
xymethylcyclohexan, Glycerin, Tris(β-hydroxyethyl)amin, Trimethylolethan,
Trimethylolpropan, Pentaerythrit, Dipentaerythrit und Sorbit.
Die Polyole können teilweise oder vollständig mit einer Carbon
säure oder mit verschiedenen ungesättigten Carbonsäuren verestert sein
und Teilester der freien Hydroxylgruppen können modifiziert werden, wie
beispielsweise verethert oder verestert mit anderen Carbonsäuren.
Beispiele der Ester sind:
Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolethantriacrylat, Trime thylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Tetramethy lenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Tetraethylengly coldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Penta erythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacry lat, Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat, Dipenta erythrithexaacrylat, Tripentaerythritoctaacrylat, Pentaerythritdimeth acrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Dipentaerythritdimethacrylat, Di pentaerythrittetramethacrylat, Tripentaerythritoctamethacrylat, Penta erythritdiitaconat, Dipentaerythrittrisitaconat, Dipentaerythritpentaita conat, Dipentaerythrithexaitaconat, Ethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butan dioldiacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, 1,4-Butandioldiitaconat, Sor bittriacrylat, Sorbittetraacrylat, Pentaerythrit-modifiziertes Triacry lat, Sorbittetramethacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Oli goesteracrylate und -methacrylate, Glycerindiacrylat und -triacrylat, 1,4-Cyclohexandiacrylat, Bisacrylate und Bismethacrylate von Polyethy lenglycol mit einem Molekulargewicht von 200 bis 1500, oder Gemische da von.
Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolethantriacrylat, Trime thylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Tetramethy lenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Tetraethylengly coldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Penta erythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythrittriacry lat, Dipentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat, Dipenta erythrithexaacrylat, Tripentaerythritoctaacrylat, Pentaerythritdimeth acrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Dipentaerythritdimethacrylat, Di pentaerythrittetramethacrylat, Tripentaerythritoctamethacrylat, Penta erythritdiitaconat, Dipentaerythrittrisitaconat, Dipentaerythritpentaita conat, Dipentaerythrithexaitaconat, Ethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butan dioldiacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, 1,4-Butandioldiitaconat, Sor bittriacrylat, Sorbittetraacrylat, Pentaerythrit-modifiziertes Triacry lat, Sorbittetramethacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Oli goesteracrylate und -methacrylate, Glycerindiacrylat und -triacrylat, 1,4-Cyclohexandiacrylat, Bisacrylate und Bismethacrylate von Polyethy lenglycol mit einem Molekulargewicht von 200 bis 1500, oder Gemische da von.
Ebenfalls geeignet als Komponenten (a) sind die Amide von glei
chen oder verschiedenen ungesättigten Carbonsäuren mit aromatischen, cy
cloaliphatischen und aliphatischen Polyaminen mit vorzugsweise 2 bis 6,
insbesondere 2 bis 4, Aminogruppen. Beispiele für solche Polyamine sind
Ethylendiamin, 1,2- oder 1,3-Propylendiamin, 1,2-, 1,3- oder 1,4-
Butylendiamin, 1,5-Pentylendiamin, 1,6-Hexylendiamin, Octylendiamin, Do
decylendiamin, 1,4-Diaminocyclohexan, Isophorondiamin, Phenylendiamin,
Bisphenylendiamin, Di-β-aminoethylether, Diethylentriamin, Triethylente
tramin, Di(β-aminoethoxy)- oder Di(β-aminopropoxy)ethan. Andere geeignete
Polyamine sind Polymere und Copolymere, vorzugsweise mit weiteren Amino
gruppen in der Seitenkette, und Oligoamide mit Aminoendgruppen. Beispiele
für solche ungesättigten Amide sind Methylenbisacrylamid, 1,6-Hexa
methylenbisacrylamid, Diethylentriamintrismethacrylamid, Bis(methacryl
amidopropoxy)ethan, Methacrylsäure-β-methacrylamidoethylester und N[(β-
Hydroxyethoxy)ethyl]acrylamid.
Geeignete ungesättigte Polyester und Polyamide leiten sich bei
spielsweise von Maleinsäure und von Diolen oder Diaminen ab. Etwas von
der Maleinsäure kann durch andere Dicarbonsäuren ersetzt sein. Sie können
zusammen mit ethylenisch ungesättigten Comonomeren, beispielsweise Sty
rol, verwendet werden. Polyester und Polyamide können ebenfalls von Di
carbonsäuren und von ethylenisch ungesättigten Diolen oder Diaminen, ins
besondere von jenen mit relativ langen Ketten, beispielsweise 6 bis 20 C-
Atomen, abgeleitet sein. Beispiele für Polyurethane sind jene, bestehend
aus gesättigten oder ungesättigten Diisocyanaten oder ungesättigten bzw.
gesättigten Diolen.
Polymere mit (Meth)acrylatgruppen in der Seitenkette sind eben
falls bekannt. Diese können beispielsweise Reaktionsprodukte von Epoxid
harzen auf Novolakbasis mit (Meth)acrylsäure sein oder können Homo- oder
Copolymere von Vinylalkohol oder Hydroxyalkylderivaten davon, die mit
(Meth)acrylsäure verestert wurden, sein oder können Homopolymere und Co
polymere von (Meth)acrylaten, die mit Hydroxyalkyl(meth)acrylaten
verestert wurden, sein.
Die photopolymerisierbaren Verbindungen können einzeln oder in
beliebigen gewünschten Gemischen verwendet werden. Es ist bevorzugt, Ge
mische von Polyol(meth)acrylaten zu verwenden.
Beispiele für die Komponente (a) als Polymere oder Oligomere
mit mindestens zwei ethylenisch ungesättigten Gruppen und mit mindestens
einer Carbonsäurefunktion in der Molekülstruktur sind säuremodifizierte
Epoxyacrylate (beispielsweise EB9696; UCB Chemicals, KAYARAD TCR1025;
NIPPON KAYAKU C0., LTD.) und acrylierte Acrylcopolymere (beispielsweise
ACA200M; Daicel Chemical Industries, Ltd.).
Als Verdünnungsmittel können eine mono- oder multifunktionelle,
ethylenisch ungesättigte Verbindung oder Gemische verschiedener solcher
Verbindungen ebenfalls in die vorstehend genannte Zusammensetzung bis zu
70 Gew.-%, bezogen auf den festen Teil der Zusammensetzung, einbezogen
sein.
Zu diesen neuen Zusammensetzungen können auch Bindemittel (e)
gegeben werden. Dies ist besonders zweckmäßig, wenn die photopolymeri
sierbaren Verbindungen flüssige oder viskose Substanzen sind. Die Menge
des Bindemittels kann beispielsweise 2%-98%, vorzugsweise 5%-95% und ins
besondere 20% bis 90%, auf das Gewicht des Gesamtfeststoffanteils bezo
gen, sein. Die Auswahl des Bindemittels wird in Abhängigkeit von dem An
wendungsgebiet und der auf diesem Gebiet erforderlichen Eigenschaften
getroffen, wie dem Vermögen zur Entwicklung von Anhaftung an Substraten
in wässerigen und organischen Lösungsmittelsystemen und Empfindlichkeit
gegen Sauerstoff.
Beispiele für geeignete Bindemittel sind Polymere mit einem Mo
lekulargewicht von etwa 2 000 bis 2 000 000, vorzugsweise 5 000 bis
1 000 000. Beispiele für alkalisch entwickelbare Bindemittel sind Acryl
polymer mit Carbonsäurefunktion als Seitengruppe, wie üblicherweise be
kannte Copolymere, die durch Copolymerisieren einer ethylenisch ungesät
tigten Carbonsäure, wie (Meth)acrylsäure, 2-Carboxyethyl(meth)acrylsäure,
2-Carboxypropyl(meth)acrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Maleinsäure
und Fumarsäure, mit einem oder mehreren Monomeren, ausgewählt aus Estern
von (Meth)acrylsäure, wie (Meth)acrylsäuremethylester, (Meth)acryl
säureethylester, (Meth)acrylsäurepropylester, (Meth)acrylsäurebutylester,
(Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäure-2-ethylhexylester, (Meth)-
acrylsäurehydroxyethylester, (Meth)acrylsäurehydroxypropylester, (Meth)-
acrylsäurebenzylester; Vinyl-aromatischen Verbindungen, wie Styrol, α-
Methylstyrol, Vinyltoluol, p-Chlorstyrol; ungesättigte Verbindungen vom
Amidtyp, (Meth)acrylamid, Diacetonacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-
Butoxymethacrylamid; und Verbindungen vom Polyolefintyp, wie Butadien,
Isopren, Chloropren und dergleichen; Methacrylnitril, Methylisopropenyl
keton, Essigsäurevinylester, Propionsäurevinylester oder Pivalonsäure
vinylester erhalten werden. Beispiele für Copolymere sind Copolymere von
Acrylaten und Methacrylaten mit Acrylsäure oder Methacrylsäure und mit
Styrol oder substituiertem Styrol, Phenolharzen, beispielsweise Novolak,
(Poly)hydroxystyrol und Copolymere von Hydroxystyrol mit Acrylsäurealkyl
estern, Acrylsäure und/oder Methacrylsäure. Bevorzugte Beispiele für Co
polymere sind Copolymere von Methacrylsäuremethylester/Methacrylsäure,
Copolymere von Methacrylsäurebenzylester/Methacrylsäure, Copolymere von
Methacrylsäuremethylester/Acrylsäureethylester/Methacrylsäure, Copolymere
von Methacrylsäurebenzylester/Methacrylsäure/Styrol, Copolymere von Meth
acrylsäurebenzylester/Methacrylsäure/Methacrylsäurehydroxyethylester, Co
polymere von (Meth)acrylsäuremethylester/Methacrylsäurebutylester/Meth
acrylsäure/Styrol, Copolymere von Methacrylsäuremethylester/Methacryl
säurebenzylester/Methacrylsäure/Methacrylsäure/Methacrylsäurehydroxyphe
nylester. Beispiele für in Lösungsmittel entwickelbare Bindemittelpolyme
re sind Poly(methacrylsäurealkylester), Poly(acrylsäurealkylester), Po
ly(benzylmethacrylat-Co-hydroxyethylmethacrylat-Co-methacrylsäure), Poly-
(benzylmethacrylat-Co-methacrylsäure); Celluloseester und Celluloseether,
wie Celluloseacetat, Celluloseacetobutyrat, Methylcellulose, Ethylcellu
lose, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, cyclisierter Kautschuk, Poly
ether, wie Polyethylenoxid, Polypropylenoxid und Polytetrahydrofuran;
Polystyrol, Polycarbonat, Polyurethan, chlorierte Polyolefine, Poly
vinylchlorid, Vinylchlorid/Vinyliden-Copolymere, Copolymere von Vinyli
denchlorid mit Acrylnitril, Methacrylsäuremethylester und Vinylacetat,
Polyvinylacetat, Copoly(ethylen/vinylacetat), Polymere, wie Polycaprolac
tam und Poly(hexamethylenadipamid) und Polyester, wie Poly(ethy
lenglycolterephthalat) und Poly(hexamethylenglycolsuccinat) und Polyimid
bindemittelharze.
Das Polyimidbindemittelharz der vorliegenden Erfindung kann
entweder ein in Lösungsmittel lösliches Polyimid oder eine Polyimidvor
stufe sein, beispielsweise eine Poly(amicsäureester)verbindung (Poly-
(säureamidsäureester)verbindung), gegebenenfalls mit photopolymerisierba
ren Seitengruppen, die entweder an das Gerüst oder an die Estergruppen in
dem Molekül gebunden sind, oder es kann beispielsweise eine Po
ly(amicsäure) sein, an die vorzugsweise ein Acrylat oder Methacrylat mit
mindestens einer basischen Gruppe in ihrem Molekül in Lösung addiert wür
de, beispielsweise ein Aminoacrylat oder Aminomethacrylat.
Bevorzugt ist eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die
als ein Bindemittelpolymer (e) ein Copolymer von Methacrylat und Meth
acrylsäure umfaßt.
Von Interesse sind weiterhin polymere Bindemittelkomponenten,
wie beispielsweise in JP-10-171119-A beschrieben, insbesondere zur Ver
wendung in Farbfiltern.
Die ungesättigten Verbindungen können auch als ein Gemisch von
nicht photopolymerisierbaren Film-bildenden Komponenten verwendet werden.
Diese können beispielsweise physikalisch trocknende Polymere oder Lösun
gen davon in organischen Lösungsmitteln, beispielsweise Nitrocellulose
oder Celluloseacetobutyrat, sein. Sie können jedoch auch chemisch
und/oder thermisch härtbare (Wärme-härtbare) Harze sein. Beispiele sind
Polyisocyanate, Polyepoxide und Melaminharze sowie Polyimidvorstufen. Die
gleichzeitige Verwendung in der Wärme härtbarer Harze ist zur Verwendung
in Systemen, die als Hybridsysteme bekannt sind, von Bedeutung, wobei in
einer ersten Stufe photopolymerisiert wird und in einer zweiten Stufe
Vernetzung mit Hilfe thermischer Nachbehandlung stattfindet.
Die photopolymerisierbaren Gemische können zusätzlich zu dem
Photostarter verschiedene Additive (d) enthalten. Beispiele davon sind
thermische Inhibitoren, die die vorzeitige Polymerisation verhindern sol
len, beispielsweise Hydrochinon, Hydrochininderivate, p-Methoxyphenol, β-
Naphthol oder sterisch gehinderten Phenole, wie 2,6-Di(tert-butyl)-p
cresol. Zur Erhöhung der Lagerungsstabilität im Dunkeln können beispiels
weise Kupferverbindungen, wie Kupfernaphthenat, Kupferstearat oder Kup
feroctanoat, Phosphorverbindungen, beispielsweise Triphenylphosphin, Tri
butylphosphin, Triethylphosphit, Triphenylphosphit oder Tribenzylphos
phit, quaternäre Ammoniumverbindungen, beispielsweise Tetramethylamoni
umchlorid oder Trimethylbenzylammoniumchlorid oder Hydroxylaminderivate,
beispielsweise N-Diethylhydroxylamin, eingesetzt werden. Um den Atmosphä
rensauerstoff von der Polymerisation auszuschließen, können Paraffin oder
ähnliche wachsähnliche Substanzen zugegeben werden; diese wandern am An
fang der Polymerisation aufgrund ihrer geringen Löslichkeit in dem Poly
mer an die Oberfläche und bilden eine durchsichtige Oberflächenschicht,
die den Eintritt von Luft verhindert. Es ist auch möglich, eine für Sau
erstoff undurchlässige Schicht oben auf der Beschichtung, z. B. Po
ly(vinylalkohol-Co-vinylacetat) aufzutragen. Lichtstabilisatoren, die in
geringen Mengen zugegeben werden können, sind UV-Absorptionsmittel, bei
spielsweise jene vom Hydroxyphenylbenzotriazol-, Hydroxyphenylbenzophe
non-, Oxalanilid- oder Hydroxyphenyl-s-triazin-Typ. Diese Verbindungen
können einzeln oder als Gemische, mit oder ohne Verwendung von sterisch
gehinderten Aminen (HALS), angewendet werden.
Beispiele für solche UV-Absorptionsmittel und Lichtstabili
satoren sind
1. 2-(2'-Hydroxyphenyl)benzotriazole, zum Beispiel 2-(2'-Hy
droxy-5'-methylphenyl)benzotriazol, 2-(3', 5'-Di-tert-butyl-2'-hydroxyphe
nyl)benzotriazol, 2-(5'-tert-Butyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(2' -
Hydroxy-5'-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3', 5'-Di
tert-butyl-2'-hydroxyphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-hy
droxy-5' -methylphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'-sec-Butyl-5'-tert-bu
tyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(2'-Hydroxy-4'-octoxyphenyl)benzo
triazol, 2-(3',5'-Di-tert-amyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(3',5'-
Bis-(α,α-dimethylbenzyl)-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, Gemisch von 2-
(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl)-5-chlorben
zotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-5'-[2-(2-ethylhexyloxy)carbonylethyl]-2'-hy
droxyphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-meth
oxycarbonylethyl)phenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydro
xy-5'-(2-methoxycarbonylethyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-
hydroxy-5'-(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl)benzotriazol, 2-(3'-tert-Bu
tyl-5'-[2-(2-ethylhexyloxy)carbonylethyl]-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol,
2-(3'-Dodecyl-2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazol und 2-(3'-tert-Bu
tyl-2'-hydroxy-5'-(2-isooctyloxycarbonylethyl)phenylbenzotriazol, 2,2'-
Methylenbis[4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-benzotriazol-2-ylphenol];
Umesterungsprodukt von 2-[3'-tert-Butyl-5'-(2-methoxycarbonylethyl)-2'-
hydroxyphenyl]-benzotriazol mit Polyethylenglycol 300; (R-CH2CH2-
COO(CH2)3 2-, wobei R = 3'-tert-Butyl-4'-hydroxy-5'-2H-benzotriazol-2-
ylphenyl.
2. 2-Hydroxybenzophenone, zum Beispiel die 4-Hydroxy-, 4-
Methoxy-, 4-Octoxy-, 4-Decyloxy-, 4-Dodecyloxy-, 4-Benzyloxy-, 4,2',4'-
Trihydroxy- und 2'-Hydroxy-4,4'-dimethoxyderivate.
3. Ester von substituierten oder unsubstituierten Benzoesäuren,
zum Beispiel Salicylsäure-4-tert-butylphenylester, Salicylsäurephenyle
ster, Salicylsäureoctylphenylester, Dibenzoylresorcin, Bis-(4-tert-bu
tylbenzoyl)resorcin, Benzoylresorcin, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoe
säure-2,4-di-tert-butylphenylester, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäu
rehexadecylester, 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäureoctadecylester
und 3,5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoesäure-2-methyl-4,6-di-tert-butylphe
nylester.
4. Acrylate, zum Beispiel a-Cyano-β,β-diphenylacrylsäureethyl
ester oder α-Cyano-β,β-diphenylacrylsäureisooctylester, α-Carbomethoxy
zimtsäuremethylester, α-Cyano-β-methyl-p-methoxyzimtsäurebutylester oder
α-Cyano-β-methyl-p-methoxyzimtsäuremethylester, α-Carbomethoxy-p-methoxy
zimtsäuremethylester und N-(β-Carbomethoxy-β-cyanovinyl)-2-methylindolin.
5. Sterisch gehinderte Amine, zum Beispiel Bis(2,2,6,6-te
tramethylpiperidyl)sebacat, Bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat,
Bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)sebacat, Bis(1,2,2,6,6-pentamethylpi
peridyl)-n-butyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylmalonat, das Kondensa
tionsprodukt von 1-Hydroxyethyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-hydroxypiperidin
und Bernsteinsäure, das Kondensationsprodukt von N,N'-Bis-(2,2,6,6-te
tramethyl-4-piperidyl)hexamethylendiamin und 4-tert-Octylamino-2,6-di
chlor-1,3,5-s-triazin, Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)nitrilotri
acetat, Tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butantetraoat,
1,1 99999 00070 552 001000280000000200012000285919988800040 0002019928742 00004 99880'-(1,2-Ethandiyl)bis-(3,3,5,5-tetramethylpiperazinon), 4-Benzoyl-
2,2,6,6-tetramethylpiperidin, 4-Stearyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin,
Bis-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-2-n-butyl-2-(2-hydroxy-3,5-di-tert
butylbenzyl)malonat, 3-n-Octyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro-
[4.5]-decan-2,4-dion, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)seba
cat, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat, das Kondensa
tionsprodukt von N,N'-Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4 = piperidyl)hexamethylen
diamin und 4-Morpholino-2,6-dichlor-1,3,5-triazin, das Kondensationspro
dukt von 2-Chlor-4,6-di-(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl) -
1,3,5-triazin und 1,2-Bis(3-aminopropylamino)ethan, das Kondensationspro
dukt von 2-Chlor-4,6-di-(4-n-butylamino-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-
1,3,5-triazin und 1,2-Bis-(3-aminopropylamino)ethan, 8-Acetyl-3-dodecyl-
7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]-decan-2,4-dion, 3-Dodecyl-1-
(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion und 3-Dodecyl-1-
(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)-pyrrolidin-2,5-dion.
6. Oxalamide, zum Beispiel 4,4'-Dioctyloxyoxanilid, 2,2'-
Diethoxyoxanilid, 2,2'-Dioctyloxy-5,5'-di-tert-butyloxanilid, 2,2'-
Didodecyloxy-5,5'-di-tert-butyloxanilid, 2-Ethoxy-2'-ethyloxanilid, N,N'-
Bis(3-dimethylaminopropyl)oxalamid, 2-Ethoxy-5-tert-butyl-2'-ethyloxani
lid und dessen Gemisch mit 2-Ethoxy-2'-ethyl-5,4'-di-tert-butyloxanilid
und Gemische von o- und p-Methoxy- und von o- und p-Ethoxy-di
substituierten Oxaniliden.
7. 2-(2-Hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine, zum Beispiel 2,4,6-
Tris(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-octyloxy
phenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2,4-Dihydroxyphen
yl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2,4-Bis(2-hydroxy-4-pro
pyloxyphenyl)-6-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-octyl
oxyphenyl)-4,6-bis(4-methylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2-Hydroxy-4-dodecyl
oxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-[2-Hydroxy-4-(2-
hydroxy-3-butyloxypropyloxy)phenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-
triazin, 2-[2-Hydroxy-4-(2-hydroxy-3-octyloxypropyloxy)phenyl]-4,6-bis-
(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-[4-Dodecyl/Tridecyloxy-(2-hydroxy
propyl)-oxy-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin.
8. Phosphite und Phosphonite, zum Beispiel Triphenylphosphit,
Diphenylalkylphosphite, Phenyldialkylphosphite, Tris(nonylphenyl)phos
phit, Trilaurylphosphit, Trioctadecylphosphit, Distearylpentaerythrityl
diphosphit, Tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphit, Diisodecylpentaery
thrityldiphosphit, Bis(2,4-di-tert-butylphenyl)pentaerythrityldiphosphit,
Bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bisisode
cyloxypentaerythrityldiphosphit, Bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)-
pentaerythrityldiphosphit, Bis-(2,4,6-tri-tert-butylphenyl)pentaerythri
tyldiphosphit, Tristearylsorbityltriphosphit, Tetrakis(2,4-di-tert-butyl
phenyl)-4,4'-biphenylendiphosphonit, 6-Isooctyloxy-2,4,8,10-tetra-tert
butyl-12H-di-benzo[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin, 6'-Fluor-2,4,8,10-tetra
tert-butyl-12-methyldibenzo[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin, Bis-(2,4-di-tert
butyl-6-methylphenyl)methylphosphit und Bis(2,4-di-tert-butyl-6-methyl
phenyl)ethylphosphit.
Weitere, im Stand der Technik bekannte Additive können als Kom
ponente (d) zugegeben werden, wie z. B. Fließverbesserer, Haftkraftver
stärker, wie Vinyltrimethoxysilan, Vinyltriethoxysilan, Vinyltris(2-
methoxyethoxy)silan, N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilan,
N-(2-Aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilan, 3-Aminopropyltriethoxy
silan, 3-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, 3-Glycidoxypropylmethyldimeth
oxysilan, 2-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilan, 3-Chlorpropyl
methyldimethoxysilan, 3-Chlorpropyltrimethoxysilan, 3-Methacryloxy
propyltrimethoxysilan und 3-Mercaptopropyltrimethoxysilan. Tenside, Ag
gregationsverhinderer, Antioxidantien, Photosensibilisatoren oder Füll
stoffe sind weitere Beispiele für Additive (d).
Um die Photopolymerisation zu beschleunigen, ist es möglich,
Amine, wie beispielsweise Triethanolamin, N-Methyldiethanolamin, p-
Dimethylaminobenzoat oder Michler's Keton zuzugeben. Die Wirkung der Ami
ne kann durch die Zugabe von aromatischen Ketonen vom Benzöphenontyp ver
stärkt werden. Beispiele für Amine, die als Sauerstoffänger verwendet
werden können, sind substituierte N,N-Dialkylaniline, wie in EP-A-339 841
beschrieben. Andere Beschleuniger, Co-Starter und Autooxidationsmittel
sind Thiole, Thioether, Disulfide, Phosphoniumsalze, Phosphinoxide oder
Phosphine, wie beispielsweise in EP-A-438 123, in GB-A-2 180 358 und in
JP-Kokai Hei 6-68309 beschrieben.
Es ist weiterhin möglich, Kettenübertragungsmittel, die übli
cherweise im Stand der Technik zugegeben werden, zu den Zusammensetzungen
der Erfindung zuzugeben. Beispiele sind Mercaptane, Amine und Benzothia
zol.
Die Photopolymerisation kann ebenfalls durch Zugabe von Photo
sensibilisatoren oder Costartern (als Komponente (d)) zusätzlich be
schleunigt werden, die die Spektralempfindlichkeit verschieben oder ver
breitern. Diese sind insbesondere aromatische Verbindungen, wie Benzophe
non und Derivate davon, Thioxanthon und Derivate davon, Anthrachinon und
Derivate davon und Cumarin und Derivate davon, und Phenothiazin uhd Deri
vate davon und auch 3-(Aroylmethylen)thiazoline, Rhodanin-, Campher
chinon-, aber auch Eosin-, Rhodamin-, Erythrosin-, Xanthen-, Thioxan
then-, Acridin-, z. B. 9-Phenylacridin-, 1,7-Bis(9-acridinyl)heptan-, 1,5-
Bis(9-acridinyl)pentan-, Cyanin- und Merocyaninfarbstoffe.
Spezielle Beispiele für solche Verbindungen sind
Thioxanthon, 2-Isopropylthioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 2-
Dodecylthioxanthon, 2,4-Diethylthioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 1-
Methoxycarbonylthioxanthon, 2-Ethoxycarbonylthioxanthon, 3-(2-Meth
oxyethoxycarbonyl)thioxanthon, 4-Butoxycarbonylthioxanthon, 3-Butoxycar
bonyl-7-methylthioxanthon, 1-Cyano-3-chlorthioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-
3-chlorthioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-ethoxythioxanthon, 1-Ethoxycar
bonyl-3-aminothioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-phenylsulfurylthioxanthon,
3,4-Di-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxycarbonyl]thioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-
3-(1-methyl-1-morpholinoethyl)thioxanthon, 2-Methyl-6-dimethoxymethyl
thioxanthon, 2-Methyl-6-(1,1-dimethoxybenzyl)thioxanthon, 2-Morpholino
methylthioxanthon, 2-Methyl-6-morpholinomethylthioxanthon, N-Allylthio
xanthon-3,4-dicarboximid, N-Octylthioxanthon-3,4-dicarboximimid,
(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)thioxanthon-3,4-dicarboximid, 1-Phenoxythio
xanthon, 6-Ethoxycarbonyl-2-methoxythioxanthon, 6-Ethoxycarbonyl-2-me
thylthioxanthon, Thioxanthon-2-carbonsäurepolyethylenglycolester, 2-
Hydroxy-3-(3,4-dimethyl-9-oxo-9H-thioxanthon-2-yloxy)-N,N,N-trimethyl-1-
propanaminiumchlorid;
Benzophenon, 4-Phenylbenzophenon, 4-Methoxybenzophenon, 4,4'-
Dimethoxybenzophenon, 4,4'-Dimethylbenzophenon, 4,4'-Dichlorbenzophenon,
4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenon, 4,4'-Bis(diethylamino)benzophenon, 4-
Methylbenzophenon, 2,4,6-Trimethylbenzophenon, 4-(4-Methylthiophenyl)-
benzophenon, 3,3'-Dimethyl-4-methoxybenzophenon, Methyl-2-benzoylbenzoat,
4-(2-Hydroxyethylthio)benzophenon, 4-(4-Tolylthio)benzophenon, 4-Benzoyl-
N,N,N-trimethylbenzolmethanaminiumchlorid, 2-Hydroxy-3-(4-benzoylphen
oxy)-N,N,N-trimethyl-1-propanaminiumchloridmonohydrat, 4-(13-Acryloyl-
1,4,7,10,13-pentaoxatridecyl)benzophenon, 4-Benzoyl-N,N-dimethyl-N-[2-(1-
oxo-2-propenyl)oxyl ethylbenzolmethanaminiumchlorid;
Cumarin 1, Cumarin 2, Cumarin 6, Cumarin 7, Cumarin 30, Cumarin
102, Cumarin 106, Cumarin 138, Cumarin 152, Cumarin 153, Cumarin 307,
Cumarin 314, Cumarin 314T, Cumarin 334, Cumarin 337, Cumarin 500, 3-
Benzoylcumarin, 3-Benzoyl-7-methoxycumarin, 3-Benzoyl-5, 7-dimethoxycu
marin, 3-Benzoyl-5, 7-dipropoxycumarin, 3-Benzoyl-6,8-dichlorcumarin, 3-
Benzoyl-6-chlorcumarin, 3,3'-Carbonylbis[5,7-di(propoxy)cumarin], 3,3'-
Carbonylbis(7-methoxycumarin), 3,3'-Carbonylbis(7-diethylaminocumarin),
3-Isobutyroylcumarin, 3-Benzoyl-5, 7-dimethoxycumarin, 3-Benzoyl-5, 7-di
ethoxycumarin, 3-Benzoyl-5, 7-dibutoxycumarin, 3-Benzoyl-5, 7-di(methoxy
ethoxy)cumarin, 3-Benzoyl-5,7-di(allyloxy)cumarin, 3-Benzoyl-7-dimethyl
aminocumarin, 3-Benzoyl-7-diethylaminocumarin, 3-Isobutyroyl-7-dimethyl
aminocumarin, 5, 7-Dimethoxy-3-(1-naphthoyl)cumarin, 5, 7-Diethoxy-3-(1-
naphthoyl)cumarin, 3-Benzoylbenzo[f]cumarin, 7-Diethylamino-3-thienoyl
cumarin, 3-(4-Cyanobenzoyl)-5, 7-dimethoxycumarin, 3-(4-Cyanobenzoyl)-5,7-
dipropoxycumarin, 7-Dimethylamino-3-phenylcumarin, 7-Diethylamino-3-
phenylcumarin, die Cumarinderivate, die in JP-09-179299-A und JP-09-
325209-A offenbart sind, beispielsweise 7-[(4-Chlor-6-(diethylamino)-S-
triazin-2-yl}amino]-3-phenylcumarin;
3-Methyl-2-benzoylmethylen-β-naphthothiazolin, 3-Methyl-2-ben
zoylmethylenbenzothiazolin, 3-Ethyl-2-propionylmethylen-β-naphthothiazo
lin;
4-Dimethylaminobenzalrhodanin, 4-Diethylaminobenzalrhodanin, 3-
Ethyl-5-(3-octyl-2-benzothiazolinyliden)rhodanin, die Rhodaninderivate
der Formeln [1], [2], [7], die in JP 08-305019-A offenbart sind;
Acetophenon, 3-Methoxyacetophenon, 4-Phenylacetophenon, Benzil,
4,4'-Bis(dimethylamino)benzil, 2-Acetylnaphthalin, 2-Naphthaldehyd, Dan
sylsäurederivate, 9,10-Anthrachinon, Anthracen, Pyren, Aminopyren, Pery
len, Phenanthren, Phenanthrenchinon, 9-Fluorenon, Dibenzosuberon, Curcu
min. Xanthon, Thio-Michler's-Keton, α-(4-Dimethylaminobenzyliden)ketone,
beispielsweise 2,5-Bis(4-diethylaminobenzyliden)cyclopentanon, 2-(4-Di
methylaminobenzyliden)indan-1-on, 3-(4-Dimethylaminophenyl)-1-indan-5-yl
propenon, 3-Phenylthiophthalimid, N-Methyl-3,5-di(ethylthio)phthalimid,
N-Methyl-3,5-di(ethylthio)phthalimid, Phenothiazin, Methylphenothiazin,
Amine, beispielsweise N-Phenylglycin, 4-Dimethylaminobenzoesäureethyl
ester, 4-Dimethylaminobenzoesäurebutoxyethylester, 4-Dimethylaminoaceto
phenon, Triethanolamin, Methyldiethanolamin, Dimethylaminoethanol, Ben
zoesäure-2-(dimethylamino)ethylester.
Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die als Photosensi
bilisator (d) eine Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus
Benzophenon und dessen Derivaten, Thioxanthon und dessen Derivaten, An
thrachinon und dessen Derivaten, oder Cumarinderivaten enthält, ist be
vorzugt.
Das Härtungsverfahren kann beispielsweise durch Zusatz von Pho
tosensibilisatoren, insbesondere bei Zusammensetzungen, die pigmentiert
sind (z. B. mit Titandioxid) unterstützt werden und ebenfalls durch Zugabe
einer Komponente, die unter thermischen Bedingungen freie Radikale bil
det, beispielsweise eine Azoverbindung, wie 2,2-Azobis(4-methoxy-2,4-
dimethylvaleronitril), ein Triazen, Diazosulfid, Pentaazadien oder eine
Peroxyverbindung, wie ein Hydroperoxid oder Peroxycarbonat, beispielswei
se t-Butylhydroperoxid, wie in EP-A-245 639 beschrieben.
Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können als weiteres Ad
ditiv (d) einen photoreduzierbaren Farbstoff, beispielsweise Xanthen-,
Benzoxanthen-, Benzothioxanthen-, Thiazin-, Pyronin-, Porphyrin- oder
Acridinfarbstoffe und/oder Trihalogenmethylverbindungen, die durch Be
strahlung gespalten werden kann, enthalten. Ähnliche Zusammensetzungen
werden beispielsweise in EP-A-445 624 beschrieben.
Weitere übliche Additive sind in Abhängigkeit von der vorgese
henen Anwendung optische Aufheller, Füllstoffe, Pigmente, Farbstoffe,
Netzmittel, Egalisierhilfen, Dispergierhilfen und Haftkraftverstärker,
z. B. Methacryloxypropyltrimethoxysilan. Zum Härten von dicken und und
pigmentierten Beschichtungen ist es geeignet, Glasmikrokugeln oder pulve
risierte Glasfasern, wie beispielsweise in US-A-5 013 768 beschrieben,
zuzugeben.
Die Auswahl des/der Additivs/e (d) erfolgt in Abhängigkeit vom
Anwendungsgebiet und den auf diesem Gebiet erforderlichen Eigenschaften.
Die vorstehend beschriebenen Additive sind im Stand der Technik üblich
und werden folglich in Mengen zugesetzt, die in der entsprechenden Anwen
dung üblich sind.
Die Erfindung stellt ebenfalls Zusammensetzungen bereit, die
als Komponente (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte, photopolyme
risierbare Verbindung, die in Wasser emulgiert oder gelöst wird, umfaßt.
Viele Varianten solcher strahlungshärtbarer, wässeriger Prepolymerdisper
sionen sind kommerziell erhältlich. Eine Prepolymerdispersion ist als
eine Dispersion von Wasser und mindestens einem darin dispergierten Pre
polymer zu verstehen. Die Wasserkonzentration in diesen Systemen ist bei
spielsweise 5 bis 80 Gewichtsprozent, insbesondere 30 bis 60 Gewichtspro
zent. Die Konzentration an strahlungshärtbarem Prepolymer oder Prepoly
mergemisch ist beispielsweise 95 bis 20 Gewichtsprozent, insbesondere 70
bis 40 Gewichtsprozent. In diesen Zusammensetzungen ist die Summe der
Prozentsätze, die für Wasser und Prepolymer angegeben werden, in jedem
Fall 100, wobei. die Hilfsmittel und Additive in unterschiedlichen Mengen
in Abhängigkeit von der vorgesehenen Verwendung zugegeben werden.
Die strahlungshärtbaren, filmbildenden Prepolymere, die in Was
ser dispergiert werden und die häufig auch gelöst werden, sind wässerige
Prepolymerdispersionen von monofunktionellen oder polyfunktionellen,
ethylenisch ungesättigten Prepolymeren, die an sich bekannt sind, können
mit Hilfe von freien Radikalen gestartet werden und enthalten beispiels
weise 0,01 bis 1,0 Mol polymerisierbare Doppelbindungen pro 100 g Prepo
lymer und weisen ein mittleres Molekulargewicht von beispielsweise minde
stens 400, insbesondere 500 bis 10 000, auf. In Abhängigkeit von der vor
gesehenen Anwendung können jedoch Prepolymere mit höheren Molekularge
wichten ebenfalls geeignet sein. Beispielsweise werden Polyester, die
polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthalten und eine Säurezahl von
nicht mehr als 10 aufweisen, Polyether, die polymerisierbare C-C-
Doppelbindungen enthalten, Hydroxyl-enthaltende Reaktionsprodukte eines
Polyepoxids, das mindestens zwei Epoxidgruppen pro Molekül enthält, mit
mindestens einer α,β-ethylenisch ungesättigten Carbonsäure, Polyure
than(meth)acrylate und α,β-ethylenisch ungesättigte Acrylcopolymere, die
Acrylreste enthalten, wie in EP-A-12 339 beschrieben, verwendet. Gemische
dieser Prepolymere können auch angewendet werden. Ebenfalls geeignet sind
die polymerisierbaren Prepolymere, beschrieben in EP-A-33 896, die Thio
etheraddukte von polymerisierbaren Prepolymeren mit einem mittleren Mole
kulargewicht von mindestens 600, einem Carboxylgruppenanteil von 0,2 bis
15% und einem Anteil von 0,01 bis 0,8 Mol polymerisierbarer C-C-
Doppelbindungen pro 100 g Prepolymer, darstellen. Andere geeignete wässe
rige Dispersionen, basierend auf speziellen Alkyl(meth)acrylatpolymeren,
werden in EP-A-41 125 beschrieben, und geeignete in Wasser dispergierba
re, strahlungshärtbare Prepolymere von Urethanacrylaten, werden in DE-A-
29 36 039 beschrieben.
Diese strahlungshärtbaren, wässerigen Prepolymerdispersionen
können als weitere Additive Dispersionshilfsmittel, Emulgatoren, Antioxi
dantien, z. B. 2,2-Thiobis(4-methyl-6-tbutylphenol) oder 2,6-Di-t-
butylphenol, Lichtstabilisatoren, Farbstoffe, Pigmente, Füllstoffe, bei
spielsweise Talkum, Gips, Siliciumdioxid, Rutil, Ruß, Zinkoxid und Eisen
oxide, Reaktionsbeschleuniger, Egalisiermittel, Gleitmittel, Netzmittel,
Verdickungsmittel, Mattierungsmittel, Antischaumbildungsmittel und andere
Hilfsmittel, die in der Oberflächenbeschichtungstechnologie üblich sind,
enthalten. Geeignete Dispersionshilfsmittel sind wasserlösliche, organi
sche Verbindungen mit hohem Molekulargewicht, die polare Gruppen enthal
ten, beispielsweise Polyvinylalkohole, Polyvinylpyrrolidon und Cellulo
seether. Emulgatoren, die verwendet werden können, sind nichtionische
Emulgatoren und gegebenenfalls auch ionische Emulgatoren.
In bestimmten Fällen kann es von Vorteil sein, Gemische von
zwei oder mehreren der neuen Photostarter anzuwenden. Es ist natürlich
auch möglich, Gemische mit bekannten Photostartern (c) anzuwenden, bei
spielsweise Gemische mit Campherchinon, Benzophenon, Benzophenonderiva
ten, Acetophenon, Acetophenonderivaten, z. B. α-Hydroxycycloalkyl
phenylketonen oder 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropanon, Dialkoxyacetophe
nonen, α-Hydroxy- oder α-Aminoacetophenonen, z. B. (4-Methylthiobenzoyl)-
1-methyl-1-morpholinoethan, (4-Morpholinobenzoyl)-1-benzyl-1-dimethyl
aminopropan, 4-Aroyl-1,3-dioxolanen, Benzoinalkylethern und Benzilketa
len, z. B. Dimethylbenzilketal, Phenylglyoxalsäureestern und Derivaten
davon, dimeren Phenylglyoxalsäureestern, Diacetyl, Perestern, z. B. Benzo
phenontetracarbonsäureperestern, wie z. B. in EP-A-126 541 beschrieben,
Monoacylphosphinoxiden, z. B. (2,4,6-Trimethylbenzoyl)diphenylphosphin
oxid, Bisacylphosphinoxiden, Bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trime
thylpentyl)phosphinoxid, Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinoxid,
Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-2,4-dipentoxyphenylphosphinoxid, Trisacyl
phosphinoxide, Halogenmethyltriazine, z. B. 2-(2-(4-Methoxyphenyl)vinyl] -
4,6-bistrichlormethyl-[1,3,5]triazin, 2-(4-Methoxyphenyl)-4,6-bistri
chlormethyl[1,3,5]triazin, 2-(3,4-Dimethoxyphenyl)-4,6-bistrichlorme
thyl[1,3,5]triazin, 2-Methyl-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-(p-
N,N-Di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl)-4,6-di(trichlormethyl) [1,3,5] -
triazin, 2-(4-Methoxynaphthyl)-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-
(1,3-Benzodioxol-5-yl)-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(4-(Pen
tyloxy)phenyl]ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(3-(Me
thyl-2-furanyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl(1,3,5]triazin, 2-(2-(5-Me
thyl-2-furanyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(2,4-
Dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(2-
Methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(4-Iso
propyloxyphenyl]ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-(3-
Chlor-4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[2-
Brom-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bistrichlormethyl-
[1,3,5]triazin, 2-[2-Chlor-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-
4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[3-Brom-4-N,N-di(ethoxycarbonylme
thyl)aminophenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin, 2-[3-Chlor-4-N,N
di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bistrichlormethyl[1,3,5]triazin
oder anderen Halogenmethyltriazinen, wie beispielsweise in G. Buhr, R.
Dammel und C. Lindley, Polym. Mater. Sci. Eng. 61, 269 (1989) und EP-A-0
262 788 beschrieben; Halogenmethyloxazol-Photostarter, wie in US-A-4 371
606 und US-A-4 371 607 beschrieben; 1,2-Disulfone, wie in E. A. Bartmann,
Synthesis 5, 490 (1993) beschrieben; Hexaarylbisimidazol und Hexaarylbis
imidazol/Co-Starter-Systeme, beispielsweise ortho-Chlorhexaphenylbis
imidazol, kombiniert mit 2-Mercaptobenzthiazol, Ferroceniumverbindungen
oder Titanocenen, beispielsweise Bis(cyclopentadienyl)bis(2,6-difluor-3-
pyrrylphenyl)titanium.
Wenn die neuen Photostartersysteme in Hybridsystemen angewendet
werden, werden zusätzlich zu den erfindungsgemäßen radikalischen Härtern
kationische Photostarter, Peroxidverbindungen, wie Benzoylperoxid (andere
geeignete Peroxide werden in US-A-4 950 581 Spalte 19, Zeilen 17 ä25 be
schrieben), aromatische Sulfonium-, Phosphonium- oder Jodoniumsalze, wie
beispielsweise in US-A-4 950 581, Spalte 18, Zeile 60 bis Spalte 19, Zei
le 10 beschrieben, oder Cyclopentadienylaren-Eisen(II)komplexsalze, bei
spielsweise (Δ6-Isopropylbenzol)(Δ5-Cyclopentadienyl)-Eisen(II)hexafluo
rophosphat sowie Oximsulfonsäureestern, wie beispielsweise in EP-A-780
729 beschrieben, eingesetzt. Auch Pyridinium- und (Iso)chinoliniumsalze,
wie beispielsweise in EP-A-497 531 und EP-A-441 232 beschrieben, können
in Kombination mit den neuen Photostartern verwendet werden.
Gegenstand der Erfindung sind Zusammensetzungen, die neben der
Verbindung der Formel I, II, III oder IV mindestens ein α-Aminoketon,
insbesondere (4-Methylthiobenzoyl)-1-methyl-1-morpholinoethan, umfassen.
Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen umfassen im allge
meinen 0,005 bis 25 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,01 bis 10 Gewichts
prozent, insbesondete 0,01 bis 5 Gewichtsprozent des Photostarters, bezo
gen auf die feste Zusammensetzung. Die Menge betrifft die Summe von allen
zugegebenen Photostartern, wenn Gemische von Startern angewendet werden.
Folglich betrifft die Menge entweder Photostarter (b) oder die Photostar
ter (b)+(c).
Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen können für ver
schiedenste Zwecke verwendet werden, beispielsweise als Druckfarben, Lac
ke für klare Deckschichten, als weiße Anstrichstoffe, beispielsweise für
Holz oder Metall, als Pulverbeschichtung, als Beschichtungsstoffe, unter
anderem für Papier, Holz, Metall oder Kunststoff, als bei Tageslicht
härtbare Beschichtungen für Gebäude und zur Fahrbahnmarkierung, für pho
tographische Reproduktionsverfahren, für holographische Aufzeichnungsma
terialien, für Bildaufzeichnungsverfahren oder zur Herstellung von Druck
platten, die unter Verwendung von organischen Lösungsmitteln oder wässe
rigen alkalischen Medien entwickelt werden können, zur Herstellung von
Masken für Siebdruck, als dentale Füllmaterialien, als Klebstoff, als
Haftklebstoff, als laminierbare Harze, wie Ätzresists, Elektroplattie
rungsresists oder Permanentresists, sowohl flüssige als auch trockene
Filme, als photostrukturierbares Dielektrikum und als Lötmasken für Lei
terplatten und elektronische Schaltkreise, als Resists zur Herstellung
von Farbfiltern für eine Vielzahl von Anzeigevorrichtungen oder zur Er
zeugung von Strukturen beim Herstellungsverfahren von Plasmaanzeigevor
richtungen und elektrolumineszente Anzeigevorrichtungen (z. B. beschrieben
in US-A-5 853 446, EP-A-0 863 534, JP-A-09-244230, JP-A-10-062980, JP-A-
08-171863, US-A-5 840 465, EP-A-0 855 731, JP-A-05-271576, JP-A-05-
067405) zur Herstellung von optischen Schaltern, optischen Gittern (In
terferenzfilter), Lichtschaltkreise, zur Herstellung von dreidimensiona
len Gegenständen durch Massehärtung (UV-Härtung in durchsichtigen Formen)
oder durch das Stereolithographieverfahren, wie beispielsweise in US-A-4
575 330 beschrieben, zur Herstellung von Verbundstoffen (beispielsweise
Styrolpolyester, die, falls erwünscht, Glasfasern und/oder andere Fasern
oder andere Hilfsstoffe enthalten können) und für andere dickschichtige
Zusammensetzungen, zur Beschichtung oder Einkapselung von elektronischen
Komponenten und integrierten Schaltkreisen oder als Beschichtungen für
optische Fasern oder zur Herstellung von optischen Linsen, z. B. Kontakt
linsen oder Fresnel-Linsen. Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen sind
weiterhin für die Herstellung von medizinischer Ausrüstung, Hilfsmitteln
oder Implantaten geeignet. Außerdem sind die erfindungsgemäßen Zusammen
setzungen auch für die Herstellung von Gelen mit thermotropen Eigenschaf
ten, wie beispielsweise in DE-A-197 00 064 und EP-A-678 534 beschrieben,
geeignet.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen können außerdem als Starter
für Emulsionspolymerisationen, Perlpolymerisationen oder Emulsionspolyme
risationen, als Polymerisationsstarter zum Fixieren des geordneten Zu
stands von flüssigkristallinen Mono- und Oligomeren, als Starter zum Fi
xieren von Farbstoffen für organische Materialien und für härtende Pul
verbeschichtungen verwendet werden.
In Beschichtungsmaterialien werden häufig Gemische von Prepoly
mer mit polyungesättigten Monomeren verwendet, die außerdem auch ein mo
noungesättigtes Monomer enthalten. Das Prepolymer ist hier vordringlich
für die Eigenschaften des Beschichtungsfilms verantwortlich und Änderun
gen davon gestatten dem Fachmann die Einflußnahme auf die Eigenschaften
des gehärteten Films. Das polyungesättigte Monomer dient als Vernetzungs
mittel, das den Beschichtungsfilm unlöslich gestaltet. Das monoungesät
tigte Monomer dient als Reaktivverdünnungsmittel, aufgrund dessen die
Viskosität ohne die notwendige Verwendung eines Lösungsmittels vermindert
wird.
Ungesättigte Polyesterharze werden meist in Zwei-Komponenten-
Systemen im Zusammenhang mit einem monoungesättigten Monomer, vorzugswei
se Styrol, verwendet. Für Photoresists werden häufig spezielle Ein-
Komponenten-Systeme angewendet, beispielsweise Polymaleimide, Polychalco
ne oder Polyimide, wie in DE-A-23 08 830 beschrieben.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen und Gemische davon können
auch zur Polymerisation von strahlungshärtbaren Pulverbeschichtungen ver
wendet werden. Die Pulverbeschichtungen können auf festen Harzen und Mo
nomeren, die reaktive Doppelbindungen enthalten, wie Maleate, Vinylether,
Acrylate, Acrylamide und Gemische davon, beruhen. Eine über freie Radika
le UV-härtbare Pulverbeschichtung kann durch Vermischen von ungesättigten
Polyesterharzen mit festen Acrylamiden (beispielsweise Methacrylamidogly
colsäuremethylester) und mit erfindungsgemäßem radikalischen Photostar
ter, wie beispielsweise in dem Artikel "Radiation Curing of Powder Coa
ting", Conference Proceedings, Radtech Europe 1993, von M. Wittig und Th.
Gohmann beschrieben, formuliert werden. Die Pulverbeschichtungen können
auch Bindemittel, wie beispielsweise in DE-A-42 28 514 oder EP-A-636 669
beschrieben, enthalten. Freie radikalische, UV-härtbare Pulverbeschich
tungen können durch Vermischen ungesättigter Polyesterharze mit festen
Acrylaten, Methacrylaten oder Vinylethern und mit einem erfindungsgemäßen
Photostarter (oder Photostartergemisch) formuliert werden. Die Pulverbe
schichtungen können auch Bindemittel, wie beispielsweise in DE-A-4228
514 und in EP-A-636 669 beschrieben, umfassen. Die UV-härtbaren Pulverbe
schichtungen können außerdem weiße oder gefärbte Pigmente umfassen. Somit
kann für eine gehärtete Pulverbeschichtung mit guter Deckkraft beispiels
weise vorzugsweise Rutiltitandioxid in Konzentrationen bis zu 50 Gew.-%
verwendet werden. Das Verfahren umfaßt normalerweise elektrostatisches
oder tribostatisches Sprühen des Pulvers auf das Substrat, z. B. Metall
oder Holz, Schmelzen des Pulvers durch Erhitzen und nach Bildung eines
glatten Films, Strahlungshärten der Beschichtung unter Verwendung von
Ultraviolett- und/oder sichtbarem Licht, beispielsweise mit Mitteldruck-
Quecksilberlampen, Metallhalogenidlampen oder Xenonlampen. Ein besonderer
Vorteil der strahlungshärtbaren Pulverbeschichtungen gegenüber ihren wär
mehärtbaren Gegenstücken besteht darin, daß die Fließzeit nach dem
Schmelzen der Pulverteilchen selektiv ausgedehnt werden kann, damit die
Bildung einer glatten, stark glänzenden Oberfläche gewährleistet ist. Im
Gegensatz zu wärmehärtbaren Systemen können strahlungshärtbare Pulverbe
schichtungen ohne unerwünschte Wirkungen auf die Verminderung ihrer
Standzeit formuliert werden, so daß sie bei relativ geringen Temperaturen
schmelzen. Aus diesem Grund sind sie auch als Beschichtungen für wär
meempfindliche Substrate, wie Holz oder Kunststoff, geeignet. Zusätzlich
zu den erfindungsgemäßen Photostartern können die Pulverbeschichtungsfor
mulierungen auch UV-Absorptionsmittel enthalten. Geeignete Beispiele wur
den vorstehend unter Punkten 1-8 aufgeführt.
Die photohärtbaren, erfindungsgemäßen Zusammensetzungen sind
beispielsweise als Beschichtungsstoffe für Substrate aller Art geeignet,
z. B. Holz, Textilien, Papier, Keramik, Glas, Kunststoffe, wie Polyester,
Polyethylenterephthalat, Polyolefine oder Celluloseacetat, insbesondere
in Form von Folien und auch Metalle, wie Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg oder Co
und GaAs, Si oder SiO2, auf die eine Schutzbeschichtung aufgetragen wer
den soll oder durch bildmäßige Belichtung ein Bild aufgetragen werden
soll.
Die Substrate können durch Auftragen einer flüssigen Zusammen
setzung, einer Lösung oder Suspension auf das Substrat beschichtet wer
den. Die Wahl des Lösungsmittels und der Konzentration hängt vordringlich
von der Art der Zusammensetzung und des Beschichtungsverfahrens ab. Das
Lösungsmittel sollte inert sein: in anderen Worten, es sollte mit den
Komponenten keine chemische Reaktion eingehen und sollte in der Lage
sein, nach dem Beschichtungsvorgang bei dem Trockenverfahren wieder ent
fernt zu werden. Beispiele geeigneter Lösungsmittel sind Ketone, Ether
und Ester, wie Methylethylketon, Isobutylmethylketon, Cyclopentanon, Cy
clohexanon, N-Methylpyrrolidon, Dioxan, Tetrahydrofuran, 2-Meth
oxyethanol, 2-Ethoxyethanol, 1-Methoxy-2-propanol, 1,2-Dimethoxyethan,
Essigsäureethylester, Essigsäuren-butylester und 3-Ethoxypropionsäu
reethylester 2-Methoxypropylacetat, Methyl-3-methoxypropionat, 2-Hep
tanon, 2-Pentanon und Essigsäureethylester.
Unter Verwendung bekannter Beschichtungsverfahren wird die Lö
sung gleichmäßig auf das Substrat aufgetragen, beispielsweise durch
Schleuderbeschichten, Tauchbeschichten, Messerbeschichten, Fallstrombe
schichten, Pinseln, Aufsprühen, insbesondere elektrostatisches Aufsprühen
und Umkehrwalzenbeschichtung. Es ist auch möglich, die lichtempfindliche
Schicht auf einen temporären, biegsamen Träger aufzutragen und dann das
Endsubstrat, z. B. eine kupferkaschierte Leiterplatte, durch Schichtüber
tragung mittels Laminierung zu beschichten.
Die aufgetragene Menge (Schichtdicke) und die Beschaffenheit
des Substrats (Schichtträger) sind Funktionen der gewünschten Anwendung.
Der Bereich der Schichtdicken umfaßt im allgemeinen Werte von etwa 0,1 µm
bis mehr als 100 µm, z. B. 0,1 µm bis 1 cm, vorzugsweise 1 µm bis 1000 µm.
Die strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen gemäß der Erfin
dung finden als Negativresists, die eine sehr hohe Lichtempfindlichkeit
aufweisen, Verwendung und können in einem wässerig-alkalischen Medium
ohne Aufquellen entwickelt werden. Sie sind als Photoresists für elektro
nische Bauteile, wie Elektroplattierungsresist, Ätzresist, sowohl flüssi
ge als auch trockene Filme, Lötresist, als Resist zur Herstellung von
Farbfiltern für eine Vielzahl von Anzeigeanwendungen oder zur Erzeugung
von Strukturen bei Herstellungsverfahren von Plasma-Anzeigeschirmen und
Elektrolumineszenzanzeigen, der Herstellung von Druckplatten, wie Offset
druckplatten oder Siebdruckplatten, zur Herstellung von Druckformen zum
Hochdruck, Flachdruck, Photogravüre oder von Siebdruckformen, zur Her
stellung von Reliefkopien, beispielsweise für die Herstellung von Texten
in Blindenschrift, für die Herstellung von Briefmarken, zur Verwendung
beim Konturenätzen oder als ein Mikroresist bei der Herstellung von inte
grierten Schaltkreisen, anwendbar. Die Zusammensetzungen können weiterhin
als dielektrische, durch mit Muster versehbare Schicht oder Beschichtung,
Einkapselungsmaterial und isolierende Beschichtung für die Herstellung
von Computerchips, Leiterplatten und anderen elektrischen oder elektroni
schen Komponenten verwendet werden. Die möglichen Schichtträger und die
Verarbeitungsbedingungen der Beschichtungssubstrate sind ebenso vielfäl
tig.
Weil die photohärtbaren Zusammensetzungen gemäß der Erfindung
eine gute thermische Stabilität aufweisen und gegen Inhibierung durch
Sauerstoff ausreichend beständig sind, sind sie besonders zur Herstellung
von Farbfiltern oder Farbmosaiksystemen, wie beispielsweise in EP-A-320
264 beschrieben, geeignet. Farbfilter werden gewöhnlich bei der Herstel
lung von LCD-Anzeigen, Projektionssystemen und Bildsensoren angewendet.
Die Farbfilter können beispielsweise für Anzeige- und Bildabtastvorrich
tungen in Fernsehempfängern, Videomonitoren oder Computern, in der Flach
bildschirm-Anzeigetechnologie, usw. angewendet werden.
Bei einem Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters werden
die gefärbten Stoffe, Farbstoffe und Pigmente von roter, grüner und blau
er Farbe zu der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden
Erfindung gegeben, wodurch eine lichtempfindliche Harzzusammensetzungs
schicht beliebiger Farbe auf einem transparenten Substrat bereitgestellt
wird. Diese wird dann Verfahren, wie Belichten, Entwickeln und gegebenen
falls Erwärmen, unter Erzeugung eines Bildes unterzogen.
Die Entwicklung erfolgt mit einer geeigneten Alkalientwick
lungslösung durch Auswaschen der Flächen, die nicht polymerisiert wurden.
Dieses Verfahren wird unter Erzeugung des Bildes mit einer Vielzahl an
Farben wiederholt.
In der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden
Erfindung können die vorstehenden Bildelemente als eine das Licht ab
schirmende Maske eingesetzt werden, z. B. bei einem Verfahren, bei dem
mindestens ein oder mehrere Bildelemente auf einem transparenten Sub
strat gebildet werden und anschließend eine Belichtung von einer Seite
des transparenten Substrats erfolgt, auf der die vorstehenden Bildelemen
te nicht gebildet sind. In diesem Fall ist beispielsweise nach einer To
talbelichtung eine Einstellung der Position einer Maske nicht erforder
lich und es besteht keine Besorgnis mehr, daß die Position verrutscht
ist. Und es ist möglich, alles von dem Teil, auf dem die vorstehend ge
nannten Bildelemente nicht gebildet wurden, zu härten. Des weiteren ist
es in diesem Fall ebensogut möglich, einen Teil des Bereichs, auf dem die
vorstehend genannten Bildelemente nicht gebildet wurden, unter teilweiser
Verwendung einer das Licht abschirmenden Maske zu entwickeln und zu ent
fernen.
Da in jedem Fall kein Spalt zwischen den Bildelementen, die
vorher gebildet wurden und jenen, die später gebildet werden, entsteht,
ist die erfindungsgemäße Zusammensetzung beispielsweise ein Herstellungs
material für einen Farbfilter. Es werden also die färbenden Stoffe, Farb
stoffe und Pigmente von roter, grüner und blauer Farbe zu der lichtemp
findlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung gegeben und die
Bilderzeugungsverfahren werden unter Erzeugung der Bildelemente von ro
ter, grüner und blauer Farbe wiederholt. Dann wird die lichtempfindliche
Harzzusammensetzung, zu der beispielsweise die schwarz färbenden.Materia
lien, Farbstoffe und Pigmente gegeben werden, auf einer gesamten Fläche
aufgetragen. Eine Totalbelichtung (oder eine Teilbelichtung über eine das
Licht abschirmende Maske) können darauf angewendet werden zur Erzeugung
der Bildelemente mit einer schwarzen Farbe über allen Zwischenräumen
(oder alles, ausgenommen einen Teilbereich der das Licht abschirmenden
Maske) zwischen den Bildelementen von roter, grüner und blauer Farbe.
Zusätzlich zu einem Verfahren, bei dem die lichtempfindliche
Harzzusammensetzung auf ein Substrat aufgetragen und getrocknet wird,
kann die lichtempfindliche Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung
ebenso für ein Schicht-Transfermaterial verwendet werden. Das heißt, die
lichtempfindliche Harzzusammensetzung wird schichtweise direkt auf einem
temporären Träger, vorzugsweise einer Polyethylenterephthalatfolie oder
auf einer Polyethylenterephthalatfolie, auf der eine den Sauerstoff ab
schirmende Schicht und eine Abschälschicht oder die Abschälschicht und
die den Sauerstoff abschirmende Schicht bereitgestellt werden, bereitge
stellt. Gewöhnlich wird eine entfernbare Deckfolie, die aus synthetischem
Harz hergestellt ist, für den Schutz bei der Handhabung darauf laminiert.
Des weiteren kann ebenso eine Schichtstruktur, bei der eine Alkali
lösliche, thermoplastische Harzschicht und eine Zwischenschicht auf einem
temporären Träger bereitgestellt werden und weiterhin eine lichtempfind
liche Harzzusammensetzungenschicht darauf bereitgestellt wird (JP-A-5-
173320), verwendet werden.
Die vorstehende Deckschicht wird beim Gebrauch entfernt und die
lichtempfindliche Harzzusammensetzungsschicht wird auf einen permanenten
Träger laminiert. Anschließend wird Abschälen zwischen jenen Schichten
und einem temporären Träger, wenn eine den Sauerstoff abschirmende
Schicht und eine Abschälschicht bereitgestellt werden, zwischen der Ab
schälschicht und der den Sauerstoff abschirmenden Schicht, wenn die Ab
schälschicht und die den Sauerstoff abschirmende Schicht bereitgestellt
werden, zwischen dem temporären Träger und der lichtempfindlichen Harzzu
sammensetzungsschicht, wenn entweder die Abschälschicht oder die den Sau
erstoff abschirmende Schicht nicht bereitgestellt werden, ausgeführt und
der temporäre Träger wird entfernt.
Ein Metallträger, Glas, Keramiken und ein synthetischer Harz
film können als Träger für einen Farbfilter angewendet werden. Glas und
ein synthetischer Harzfilm, die transparent sind und eine ausgezeichnete
Maßhaltigkeit aufweisen, sind besonders bevorzugt.
Die Dicke der lichtempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht
ist gewöhnlich 0,1 bis 50 Mikrometer, insbesondere 1 bis 5 Mikrometer.
Eine verdünnte wässerige Lösung einer alkalischen Substanz wird
als Entwicklungslösung für die lichtempfindliche Harzzusammensetzung der
vorliegenden Erfindung angewendet und weiterhin ist eine Lösung, die
durch Zugabe einer kleinen Menge eines mit Wässer mischbaren, organischen
Lösungsmittels dazu hergestellt wird, ebenfalls eingeschlossen.
Beispiele für geeignete alkalische Materialien schließen Alka
limetallhydroxide (z. B. Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid), Alkalime
tallcarbonate (z. B. Natriumcarbonat und Kaliumcarbonat), Alkalimetallbi
carbonate (z. B. Natriumbicarbonat und Kaliumbicarbonat), Alkalimetallsi
likate (z. B. Natriumsilikat und Kaliumsilikat), Alkalimetallmetasilikate
(z. B. Natriummetasilikat und Kaliummetasilikat), Triethanolamin, Dietha
nolamin, Monoethanolamin, Morpholin, Tetraalkylammoniumhydroxide (z. B.
Tetramethylammoniumhydroxid) oder Trinatriumphosphat ein. Die Konzentra
tion der alkalischen Substanz ist 0,01 bis 30 Gewichtsprozent und der pH-
Wert ist vorzugsweise 8 bis 14.
Geeignete organische Lösungsmittel, die mit Wasser mischbar
sind, schließen. Methanol, Ethanol, 2-Propanol, 1-Propanol, Butanol, Di
acetonalkohol, Ethylenglycolmonomethylether,.Ethylenglycolmonoethylether,
Ethylenglycolmono-n-butylether, Benzylalkohol, Aceton, Methylethylketon,
Cyclohexanon, E-Caprolacton, y-Butyrolacton, Dimethylformamid, Dimethyl
acetamid, Hexamethylphosphoramid, Milchsäureethylester, Milchsäuremethyl
ester, E-Caprolactam und N-Methylpyrrolidon ein. Die Konzentration des
organischen Lösungsmittels, das mit Wasser mischbar ist, ist 0,1 bis 30
Gewichtsprozent.
Weiterhin kann ein allgemein bekanntes Tensid zugegeben werden.
Die Konzentration des Tensids ist vorzugsweise 0,001 bis 10 Gewichtspro
zent.
Die Entwicklungslösung kann z. B. als Badlösung oder Sprühlösung
verwendet werden. Um den nicht gehärteten Teil der lichtempfindlichen
Harzzusammensetzungsschicht zu entfernen, können Verfahren, wie Reiben
mit einer Rotationsbürste und Reiben mit einem feuchten Schwamm, kombi
niert werden. Gewöhnlich ist die Temperatur der Entwicklungslösung vor
zugsweise bei und um Raumtemperatur bis 40°C. Die Entwicklungszeit rich
tet sich nach der speziellen Art der lichtempfindlichen Harzzusammenset
zung, der Alkalinität und der Temperatur der Entwicklerlösung und der Art
und Konzentration des gegebenenfalls zugegebenen organischen Lösungsmit
tels. Gewöhnlich liegt sie bei 10 Sekunden bis 2 Minuten. Es ist möglich,
nach dem Entwicklungsverarbeiten einen Spülschritt auszuführen.
Nach der Entwicklung erfolgt vorzugsweise eine letzte Wärmebe
handlung. Folglich wird ein Träger mit einer Schicht (nachstehend als
eine photogehärtete (photochemisch gehärtete) Schicht bezeichnet), die
durch Belichten photopolymerisiert wurde, in einem Elektroofen und. einem
Trockner erhitzt oder die photogehärtete Schicht wird mit einer Infra
rotlampe bestrahlt oder auf einer Heizplatte erhitzt. Die Heiztemperatur
und die Zeit hängen von der verwendeten Zusammensetzung und der Dicke der
gebildeten Schicht ab. Im allgemeinen wird das Erhitzen vorzugsweise bei
etwa 120°C bis etwa 250°C für etwa 5 bis etwa 60 Minuten durchgeführt.
Die lichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfin
dung kann geeigneterweise zum Erzeugen eines Farbfilters verwendet wer
den, ist jedoch auf diese Anwendung nicht begrenzt. Sie ist ebenso für
ein Aufzeichnungsmaterial, eine Anzeige, ein Anzeigeelement, eine An
strichstoff und eine Druckfarbe anwendbar.
Weil die photohärtbaren (photochemisch hättbaren) Zusammenset
zungen gemäß der Erfindung eine gute thermische Stabilität aufweisen und
gegen Inhibierung von Sauerstoff ausreichend beständig sind, sind sie für
die Herstellung von Farbfiltern oder Farbmosaiksystemen, wie beispiels
weise in EP-A-320 264 beschrieben, besonders geeignet. Farbfilter werden
gewöhnlich bei der Herstellung von LCD-Anzeigen, Projektionssystemen und
Bildsensoren angewendet. Die Farbfilter werden gewöhnlich durch Erzeugen
von roten, grünen und blauen Pixeln und einer schwarzen Matrix auf einem
Glassubstrat hergestellt. In diesen Verfahren können photohärtbare Zusam
mensetzungen gemäß der Erfindung angewendet werden. Ein besonders bevor
zugtes Verwendungsverfahren umfaßt die Beschichtung des Substrats mit der
erfindungsgemäßen Zusammensetzung, Trocknen der Beschichtung mit einer
kurzen Wärmebehandlung, mustermäßiges Belichten der Beschichtung mit ak
tinischer Strahlung und anschließend Entwicklung der Muster in einer wäs
serigen alkalischen Entwicklerlösung und gegebenenfalls eine Wärmebehand
lung. Somit kann durch anschließendes Auftragen jeweils einer rot, grün
und blau pigmentierten Beschichtung in beliebig gewünschter Reihenfolge
auf die Oberfläche mit diesem Verfahren eine Farbfilterschicht mit roten,
grünen und blauen Farbpixeln hergestellt werden. Die Farbfilter können
beispielsweise für Anzeige- und Bildabtastvorrichtungen in Fernsehempfän
gern, Videomonitoren oder Computern oder in der Flachbildanzeigetechnolo
gie, usw. angewendet werden.
Das Pigment, das in der erfindungsgemäßen Zusammensetzung, ein
schließlich einer pigmentierten Farbfilter-Resistzusammensetzung, enthal
ten sein kann, ist vorzugsweise ein verarbeitetes Pigment, beispielsweise
ein pulverförmiges oder pastenförmiges Produkt, hergestellt durch feines
Dispergieren eines Pigments in mindestens einem Harz, ausgewählt aus der
Gruppe, bestehend aus Acrylharz, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer, Mal
einsäureharz und Ethylcelluloseharz.
Das rote Pigment umfaßt beispielsweise ein Pigment vom Anthra
chinontyp allein, ein Pigment vom Perylentyp allein oder ein Gemisch,
bestehend aus mindestens einem davon und einem gelben Pigment vom Diazo
typ oder einem gelben Pigment vom Isoindolintyp, insbesondere C. I. Pig
ment Red 177 allein, C. I. Pigment Red 155 allein oder ein Gemisch, beste
hend aus mindestens einem Mitglied von C. I. Pigment Red 177, C. I. Pigment
Red 155 und C. I. Pigment Yellow 83 oder C. I. Pigment Yellow 139 ("C. I."
bedeutet Color Index, was dem Fachmann bekannt ist und öffentlich verfüg
bar ist). Weitere geeignete Beispiele für das Pigment sind C. I. Pigment
Red 105, 144, 149, 176, 177, 185, 202, 209, 214, 222, 242, 254, 255, 264,
272 und C. I. Pigment Yellow 24, 31, 53, 83, 93, 95, 109, 110, 128, 129,
138, 139, 166 und C. I. Pigment Orange 43.
Das grüne Pigment umfaßt beispielsweise ein Pigment vom haloge
nierten Phthalocyanintyp allein oder dessen Gemisch mit einem gelben Pig
ment vom Disazotyp oder einem gelben Pigment vom Isoindolintyp, insbeson
dere C. I. Pigment Green 7 allein, C. I. Pigment Green 36 allein, C. I. Pig
ment Green 37 allein oder ein Gemisch, bestehend aus mindestens einem
Mitglied von C. I. Pigment Green 7, C. I. Pigment Green 36, C. I. Pigment
Green 37, C. I. Pigment Green 136 und C. I. Pigment Yellow 83 oder C. I.
Pigment Yellow 139. Andere geeignete grüne Pigmente sind C. I. Pigment
Green 15 und 25.
Beispiele für geeignete blaue Pigmente sind Pigmente vom Phtha
locyanintyp, die entweder einzeln oder in Kombination mit einem violetten
Pigment vom Dioxazintyp verwendet werden, beispielsweise eine Kombination
von C. I. Pigment Blue 15 : 3 und C. I. Pigment Violet 23. Weitere Beispiele
für blaue Pigmente sind jene von C. I. Blue 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 16 und 60,
das heißt Phthalocyanin C. I. Pigment Blue 15 : 3 oder Phthalocyanin C. I.
Pigment Blue 15 : 6. Andere geeignete Pigmente sind jene von C. I. Pigment
Blue 22, 28, C. I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 37, 177 und C. I.
Orange 73.
Das Pigment der photopolymeren schwarzen Matrixzusammensetzung
umfaßt vorzugsweise mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe,
bestehend aus Kohlenstoff, Titanschwarz und Eisenoxid. Jedoch kann eben
falls ein Gemisch von anderen Pigmenten, die insgesamt ein schwarzes Aus
sehen ergeben, angewendet werden. Beispielsweise können ebenfalls C. I.
Pigment Black 1 und 7 einzeln oder in Kombination verwendet werden.
Für eine beliebige Farbe können Kombinationen von mehr als zwei
Pigmenten angewendet werden. Besonders geeignet in Farbfilteranwendungen
sind pulverförmig verarbeitete Pigmente, die durch feines Dispergieren
der vorstehend erwähnten Pigmente in ein Harz hergestellt werden.
Die Konzentration des Pigments in der gesamten, festen Kompo
nente (Pigmente von verschiedenen Farben und Harz) liegt beispielsweise
im Bereich von 5% bis 80 Gewichtsprozent, insbesondere im Bereich von 20%
bis 40 Gewichtsprozent.
Die Pigmente in der Farbfilter-Resistzusammensetzung weisen
vorzugsweise einen mittleren Teilchendurchmesser auf, der kleiner als die
Wellenlänge des sichtbaren Lichtes (400 nm bis 700 nm) ist. Besonders
bevorzugt ist ein mittlerer Pigmentdurchmesser von < 100 nm.
Die Konzentration des Pigments in der gesamten festen Komponen
te in jeder Farbe liegt im Bereich von 5 Gewichtsprozent bis 80 Gewichts
prozent, vorzugsweise im Bereich von 20% bis 45%.
Falls erforderlich, können die Pigmente in der lichtempfindli
chen Zusammensetzung durch Vorbehandlung der Pigmente mit einem Disper
giermittel stabilisiert werden, um die Dispersionsstabilität des Pigments
in der flüssigen Formulierung zu verbessern.
Beispiele für Farbfilterresists der Zusammensetzung solcher Re
sists und Verarbeitungsbedingungen werden von T. Kudo et al., Japan. J.
Appl. Phys. Band 37 (1998) 3594, T. Kudo et al., J. Photopolym. Sci.
Technol. Band 9 (1996) 109, K. Kobayashi, Solid State Technol. November
1992, Seite 515-S18, US-A-5 368 976, US-A-5 800 952, US-A-5 882 843, US-
A-5 879 855, US-A-5 866 298, US-A-5 863 678, JP 06-230212-A, EP-A-320
264, JP 09-269410-A, JP 10-221843-A, JP 01-090516-A, JP 10-171119-A, US-
A-5 821 016, US-A-5 847 015, US-A-5 882 843, US-A-5 719 008, EP-A-881 541
oder EP-A-902 327 angegeben.
Die erfindungsgemäßen Photostarter können in Farbfilterresists,
beispielsweise jene, die in den vorstehenden Beispielen angegeben werden,
verwendet werden oder können teilweise oder vollständig die bekannten
Photostarter in solchen Resists ersetzen. Es ist für den Fachmann ver
ständlich, daß die Verwendung von neuen, erfindungsgemäßen Photostartern
nicht auf die speziellen Bindemittelharze, Vernetzungsmittel und Formu
lierungen der Farbfilterresistbeispiele, die vorstehend angegeben werden,
begrenzt ist, sondern diese auch in Verbindung mit einer beliebigen radi
kalisch polymerisierbaren Komponente in Kombination mit einem Farbstoff
oder Farbpigment oder latentem Pigment unter Bildung einer lichtempfind
lichen Farbfilterdruckfarbe oder eines lichtempfindlichen Farbfilterre
sists angewendet werden können.
Folglich ist ein Farbfilter, hergestellt durch Bereitstellen
von roten, grünen und blauen (RGB) Farbelementen und gegebenenfalls einer
schwarzen Matrix ebenfalls Gegenstand der Erfindung, wobei alle ein
lichtempfindliches Harz und ein Pigment auf einem transparenten Substrat
umfassen und entweder auf der Oberfläche des Substrats oder auf der Ober
fläche der Farbfilterschicht eine transparente Elektrode bereitstellen,
wobei das lichtempfindliche Harz ein polyfunktionelles Acrylatmonomer,
ein organisches Polymerbindemittel und einen Photopolymerisationsstarter
der Formel I, II, III oder IV, wie vorstehend beschrieben, umfaßt Die
Monomer- und Bindemittelkomponenten sowie die geeigneten Pigmente sind
wie vorstehend beschrieben. Bei der Herstellung der Farbfilter der trans
parenten Elektrodenschicht können sie entweder auf die Oberfläche des
transparenten Substrats aufgetragen werden oder können auf der Oberfläche
der roten, grünen und blauen Bildelemente und der schwarzen Matrix be
reitgestellt werden. Das transparente Substrat ist beispielsweise ein
Glassubstrat, das zusätzlich eine Elektrodenschicht auf ihrer Oberfläche
aufweisen kann. Es ist bevorzugt, eine schwarze Matrix zwischen den Farb
flächen unterschiedlicher Farbe aufzutragen, um den Kontrast eines Farb
filters zu verbessern.
Anstelle des Erzeugens einer schwarzen Matrix unter Verwendung
einer lichtempfindlichen Zusammensetzung und photolithographischer Mu
sterbildung mit der schwarzen, lichtempfindlichen Zusammensetzung durch
mustermäßiges Belichten (das heißt durch eine geeignete Maske) unter Bil
dung des schwarzen Musters, das die rot-, grün- und blaugefärbten Flächen
auf dem transparenten Substrat trennt, ist es alternativ möglich, eine
anorganische, schwarze Matrix zu verwenden. Solche anorganische, schwarze
Matrix kann aus abgeschiedenem (das heißt aufgesputtertem) Metall- (das
heißt Chrom)-Film auf das transparente Substrat durch ein geeignetes Bil
derzeugungsverfahren, beispielsweise unter Anwendung von photolithogra
phischen Musterbildung mit Hilfe eines Ätzresists, Ätzen der anorgani
schen Schicht in den Flächen, die nicht von dem Ätzresist geschützt sind
und anschließend Entfernen des verbleibenden Ätzresists, erzeugt werden.
Es gibt unterschiedliche Verfahren, von denen bekannt ist, wie
und bei welchem Schritt in dem Farbfilterherstellungsverfahren die
schwarze Matrix aufgetragen werden kann. Sie kann entweder direkt auf das
transparente Substrat vor der Bildung des roten, grünen und blauen (RGB)
Farbfilters, wie bereits vorstehend erwähnt, aufgetragen werden oder sie
kann, nachdem der RGB-Farbfilter auf dem Substrat gebildet wurde, aufge
tragen werden.
Bei einer von einem Farbfilter für eine Flüssigkristallanzeige,
gemäß US-A-5 626 796, verschiedenen Ausführungsform kann die schwarze
Matrix ebenfalls auf dem Substrat gegenüber dem RGB-Farbfilterelement
tragenden Substrat aufgetragen werden, das von dem Vorangehenden durch
eine Flüssigkristallschicht getrennt ist.
Wenn die transparente Elektrodenschicht nach Auftragen der RGB-
Farbfilterelemente und - gegebenenfalls - der schwarzen Matrix abgeschie
den ist, kann ein weiterer Überzugsfilm vor der Abscheidung der Elektro
denschicht, wie beispielsweise in US-A-5 650 263 beschrieben, als eine
Schutzschicht auf die Farbfilterschicht aufgetragen werden.
Es ist für den Fachmann einleuchtend, daß die erfindungsgemäßen
lichtempfindlichen Zusammensetzungen zum Erzeugen von roten, grünen und
blauen Farbpixeln und einer schwarzen Matrix zur Herstellung eines Farb
filters, ungeachtet der vorstehend beschriebenen Unterschiede beim Verar
beiten, ungeachtet von weiteren Schichten, die aufgetragen werden können
und ungeachtet von Unterschieden im Aufbau des Farbfilters, angewendet
werden können. Die Verwendung einer erfindungsgemäßen Zusammensetzung zur
Bildung von gefärbten Elementen sollte nicht als durch unterschiedlichen
Aufbau und unterschiedliche Herstellungsverfahren solcher Farbfilter be
grenzt angesehen werden.
Vorzugsweise umfaßt das organische Polymerbindemittel in der
Farbfilterresistzusammensetzung ein in Alkali lösliches Copolymer, das.
als zusätzliche, polymerisierbare Monomereinheiten mindestens eine unge
sättigte, organische Säureverbindung, wie Acrylsäure, Methacrylsäure und
dergleichen, umfaßt. Es ist bevorzugt, als ein weiteres Comonomer für das
polymere Bindemittel eine ungesättigte organische Säureesterverbindung,
wie Acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester, (Meth)acrylsäu
rebenzylester, Styrol und dergleichen anzuwenden, um die Eigenschaften,
wie Alkalilöslichkeit, Anhaftung, Steifigkeit, chemische Beständigkeit,
usw., auszugleichen.
Das organische Polymerbindemittel kann entweder ein statisti
sches Copolymer oder ein Blockcopolymer, wie beispielsweise in US-A-5 368
976 beschrieben, sein.
Vorzugsweise enthält die erfindungsgemäße Farbfilterresistzu
sammensetzung zusätzlich mindestens eine monomere durch Addition polyme
risierbare Verbindung.
Beispielsweise können die nachstehenden Verbindungen einzeln
oder in Kombination mit den anderen Monomeren als das Additions
polymerisierbare Monomer mit einer ethylenisch ungesättigten Doppelbin
dung, das in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, angewendet wer
den. Insbesondere schließen sie (Meth)acrylsäure-t-butylester, Di(meth)-
acrylsäureethylenglycolester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester, Di-
(meth)acrylsäuretriethylenglycolester, Tri(meth)acrylsäuretrimethylolpro
panester, Di(meth)acrylsäure-2-ethyl-2-butylpropandiolester, Tri(meth)-
acrylsäurepentaerythritester, Tetra(meth)acrylsäurepentaerythritester,
Hexa(meth)acrylsäuredipentaerythritester, Penta(meth)acrylsäuredipenta
erythritester, polyoxylierten Tri(meth)acrylsäuretrimethylolpropanester,
Tris(2-(meth)acryloyloxyethyl)isocyanurat, 1,4-Diisopropenylbenzol,
(Meth)acrylsäure-1,4-dihydroxybenzolester, Di(meth)acrylsäuredecamethy
lenglycolester, Styrol, Fumarsäurediallylester, Trimellitsäuretriallyl
ester, (Meth)acrylsäurelaurylester, (Meth)acrylamid und Xylolbis(-
meth)acrylamid ein. Des weiteren kann ein Reaktionsprodukt einer Verbin
dung mit einer Hydroxylgruppe, wie (Meth)acrylsäure-2-hydroxyethylester,
(Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester und Mono(meth)acrylsäurepolyethy
lenglycolester mit Diisocyanat, wie Hexamethylendiisocyanat, Toluoldii
socyanat und Xyloldiisocyanat, angewendet werden. Besonders bevorzugt
sind Tetraacrylsäurepentaerythritester, Hexaacrylsäuredipentaerythri
tester, Pentaacrylsäuredipentaerythritester und Tris(2-acryloyloxy
ethyl)isocyanurat.
In einer Farbfilterresistzusammensetzung ist die Gesamtmenge
der in der photopolymerisierbaren Zusammensetzung enthaltenen Monomere
vorzugsweise 5 bis 80 Gewichtsprozent, insbesondere 10 bis 70 Gewichts
prozent, bezogen auf die gesamten Komponenten der Zusammensetzung.
Als das in der Farbfilterresistzusammensetzung verwendete Bin
demittel, das in einer alkalischen, wässerigen Lösung löslich und in Was
ser unlöslich ist, können ein Homopolymer einer polymerisierbaren Verbin
dung mit einer oder mehreren Säuregruppen und einer oder mehreren polyme
risierbaren, ungesättigten Bindungen in dem Molekül, oder ein Copolymer
von zwei oder mehreren Arten davon, und ein Copolymer von einer oder meh
reren polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren ungesättig
ten Bindungen, die mit diesen Verbindungen copolymerisierbar sind und
keine Säuregruppe enthalten, verwendet werden. Solche Verbindungen können
durch Copolymerisieren von einer oder mehreren Arten einer Verbindung mit
niederem Molekulargewicht, die eine oder mehrere Säuregruppen und eine
oder mehrere polymerisierbare, ungesättigte Bindungen in dem Molekül ent
hält, mit einer.oder mehreren polymerisierbaren Verbindungen, die eine
oder mehrere ungesättigte Bindungen, die mit diesen Verbindungen copoly
merisierbar sind und keine Säuregruppe enthält/enthalten, erhalten wer
den. Beispiele für Säuregruppen sind eine Gruppe -COOH, eine Gruppe
-SO3H, eine Gruppe -SO2NHCO-, eine phenolische Hydroxygruppe, eine Gruppe
-SO2NH- und eine Gruppe -CO-NH-CO-. Unter diesen ist eine Verbindung mit
hohem Molekulargewicht mit einer Gruppe -COOH besonders bevorzugt.
Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder meh
reren Säuregruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättig
ten Bindungen in dem Molekül schließen die nachstehenden Verbindungen
ein:
Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Malein
säure, Vinylbenzoesäure und Zimtsäure sind Beispiele für die polymeri
sierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppe/n -COOH und einer
oder mehreren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen in einem Mole
kül. Vinylbenzolsulfonsäure und 2-(Meth)acrylamid-2-methylpropansul
fonsäure sind Beispiele der polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder
mehreren Gruppen -SO3H und einer oder mehreren polymerisierbaren; unge
sättigten Bindungen.
N-Methylsulfonyl(meth)acrylamid, N-Ethylsulfonyl(meth)acryl
amid, N-Phenylsulfonyl(meth)acrylamid und N-(p-Methylphenylsulfonyl)-
(meth)acrylamid sind Beispiele der polymerisierbaren Verbindungen mit
einer oder mehreren Gruppen -SO2NHCO- und einer oder mehreren polymeri
sierbaren, ungesättigten Bindungen.
Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder meh
reren phenolischen Hydroxygruppe/n und einer oder mehreren polymerisier
baren, ungesättigten Bindungen in einem Molekül schließen Hydroxyphe
nyl(meth)acrylamid, Dihydroxyphenyl(meth)acrylamid, (Meth)acrylsäure
hydroxyphenylcarbonyloxyethylester, (Meth)acrylsäurehydroxyphenyloxy
ethylester, (Meth)acrylsäurehydroxyphenylthioethylester, (Meth)acrylsäu
redihydroxyphenylcarbonyloxyethylester, (Meth)acrylsäuredihydroxyphenyl
oxyethylester und (Meth)acrylsäuredihydroxyphenylthioethylester ein.
Beispiele der polymerisierbaren Verbindung mit einer oder meh
reren Gruppen -SO2NH- und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesät
tigten Bindungen in dem Molekül schließen Verbindungen, die durch die
Formel (a) oder (b) wiedergegeben werden, ein:
CH2=CHA1-Y1-A2-SO2-NH-A3 (a)
CH2 =CHA4-Y2-A5-NH-SO2-A6 (b)
worin Y1 und Y2 jeweils -COO-, -CONA7- oder eine Einfachbindung
wiedergeben; A1 und A4 jeweils H oder CH3 wiedergeben; A2 und A5 jeweils
C1-C12-Alkylen, gegebenenfalls mit einem Substituenten, Cycloalkylen, Ary
len oder Aralkylen oder eine C2-C12-Alkylengruppe, in die eine Ethergruppe
oder eine Thioethergruppe eingeschoben wurde, wiedergeben, Cycloalkylen,
Arylen oder Aralkylen wiedergeben; A3 und A6 jeweils H, C1-C12-Alkyl, gege
benenfalls mit einem Substituenten, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgrup
pe oder eine Aralkylgruppe wiedergeben und A7 H, C1-C12-Alkyl, gegebenen
falls mit einem Substituenten, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe
oder eine Aralkylgruppe wiedergibt.
Die polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren
Gruppen -CO-NH-CO- und einer oder mehreren polymerisierbaren, ungesättig
ten Bindungen schließen Maleimid und N-Acryloylacrylamid ein. Diese poly
merisierbaren Verbindungen werden zu den Verbindungen mit hohem Moleku
largewicht, die eine Gruppe -CO-NH-CO- umfassen, worin ein Ring, zusammen
mit einer primären Kette, durch Polymerisation gebildet wird. Weiterhin
können ebenfalls ein Methacrylsäurederivat und ein Acrylsäurederivat je
weils mit einer Gruppe -CO-NH-CO- verwendet werden. Solche Methacrylsäu
rederivate und die Acrylsäurederivate schließen beispielsweise ein
Methacrylamidderivat, wie N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacryl
amid, N-Butanoylmethacrylamid, N-Pentanoylmethacrylamid, N-Decanoyl
methacrylamid, N-Dodecanoylmethacrylamid, N-Benzoylmethacrylamid, N-(p-
Methylbenzoyl)methacrylamid, N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid, N-(Naph
thylcarbonyl)methacrylamid, N-(Phenylacetyl)methacrylamid und 4-Meth
acryloylaminophthalimid und ein Acrylamidderivat mit dem gleichen Substi
tuenten wie diese, ein. Diese polymerisierbaren Verbindungen polymerisie
ren zu Verbindungen mit einer -CO-NH-CO-Gruppe in einer Seitenkette.
Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder meh
reren polymerisierbaren, ungesättigten Bindungen, die keine Säuregruppe
enthalten, schließen eine Verbindung mit einer polymerisierbaren, unge
sättigten Bindung, ausgewählt aus (Meth)acrylaten, (Meth)acrylamiden,
einer Acrylverbindung, Vinylethern, Vinylestern, Styrolen und Crotonaten
und insbesondere einschließlich (Meth)acrylaten, wie (Meth)acryl
säurealkylester oder substituiertem (Meth)acrylsäurealkylester (bei
spielsweise (Meth)acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester,
(Meth)acrylsäurepropylester, (Meth)acrylsäureisopropylester, (Meth)acryl
säurebutylester, (Meth)acrylsäureamylester, (Meth)acrylsäurehexylester,
(Meth)acrylsäurecyclohexylester, (Meth)acrylsäureethylhexylester, (Meth)
acrylsäureoctylester, (Meth)acrylsäure-t-octylester, (Meth)acrylsäure
chlorethylester, (Meth)acrylsäureallylester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxy
ethylester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester, (Meth)acrylsäure-4-hy
droxybutylester, (Meth)acrylsäure-2,2-dimethyl-3-hydroxypropylester,
(Meth)acrylsäure-5-hydroxypentylester, Mono(meth)acrylsäuretrimethylol
propanester, Mono(meth)acrylsäurepentaerythritester, (Meth)acrylsäure
benzylester, (Meth)acrylsäuremethoxybenzylester, (Meth)acrylsäurechlor
benzylester, (Meth)acrylsäurefurfurylester, (Meth)acrylsäuretetrahydro
furfurylester, (Meth)acrylsäürephenoxyethylester und (Meth)cresylester
und (Meth)acrylsäurenaphthylester); (Meth)acrylamide, wie (Meth)acryl
amid, N-Alkyl(meth)acrylamid (die Alkylgruppe schließt beispielsweise
Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, t-Butyl, Heptyl, Octyl, Ethylhexyl, Cyclo
hexyl, Hydroxyethyl und Benzyl ein), N-Aryl(meth)acrylamid (die Arylgrup
pe schließt beispielsweise Phenyl, Tolyl, Nitrophenyl, Naphthyl und Hy
droxyphenyl ein), N,N-Dialkyl(meth)acrylamid (die Alkylgruppe schließt
beispielsweise Methyl, Ethyl, Butyl, Isobutyl, Ethylhexyl und Cyclohexyl
ein), N,N-Diaryl(meth)acrylamid (die Arylgruppe schließt beispielsweise
Phenyl ein), N-Methyl-N-phenyl(meth)acrylamid, N-Hydroxyethyl-N-methyl-
(meth)acrylamid, N-2-Acetamidethyl-N-acetyl(meth)acrylamid, N-(Phenyl
sulfonyl)(meth)acrylamid und N-(p-Methylphenylsulfonyl)(meth)acrylamid;
eine Allylverbindung, wie Allylester (beispielsweise Essigsäu
reallylester, Capronsäureallylester, Caprylsäureallylester, Laurinsäure
allylester, Palmitinsäureallylester, Stearinsäureallylester, Benzoesäure
allylester, Acetoessigsäureallylester und Milchsäureallylester) und Ally
loxyethanol; Vinylether, wie Alkylvinylether (die Alkylgruppe schließt
beispielsweise Hexyl, Octyl, Decyl, Ethylhexyl, Methoxyethyl, Ethoxy
ethyl, Chlorethyl, 1-Methyl-2,2-dimethylpropyl, 2-Ethylbutyl, Hydroxye
thyl, Hydroxyethoxyethyl, Dimethylaminoethyl, Diethylaminoethyl, Butyl
aminoethyl, Benzyl und Tetrahydrofurfuryl ein) und Vinylarylether (die
Arylgruppe schließt beispielsweise Phenyl, Tolyl, Chlorphenyl, 2,4-
Dichlorphenyl, Naphthyl und Anthranyl ein);
Vinylester, wie Buttersäurevinylester, Isobuttersäurevinyl
ester, Trimethylessigsäurevinylester, Diethylessigsäurevinylester, ein
Vinylester (vinyl barate], Capronsäurevinylester, Chloressigsäurevinyl
ester, Dichloressigsäurevinylester, Methoxyessigsäurevinylester, Bu
toxyessigsäurevinylester, Phenylessigsäurevinylester, Acetoessigsäure
vinylester, Milchsäurevinylester, Vinyl-b-phenylbutylat, Cyclohexylcar
bonsäurevinylester, Benzoesäurevinylester, Salicylsäurevinylester, Chlor
benzoesäurevinylester, Tetrachlorbenzoesäurevinylester und Naphthalincar
bonsäurevinylester;
Styrole, wie Styrol, Alkylstyrol (beispielsweise Methylstyrol,
Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Diethylstyrol, Isopropyls
tyrol, Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzyls
tyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol und
Acetoxymethylstyrol), Alkoxystyrol (beispielsweise Methoxystyrol, 4-
Methoxy-3-methylstyrol und Dimethoxystyrol) und Halogenstyrol (beispiels
weise Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pen
tachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol, Jodstyrol, Fluorstyrol, Tri
fluorstyrol, 2-Brom-4-trifluormethylstyrol und 4-Fluor-3-trifluormethyl
styrol);
Crotonate, wie Crotonsäurealkylester (beispielsweise Crotonsäu rebutylester, Crotonsäurehexylester und Monocrotonsäureglycerinester);
Itaconsäuredialkylester (beispielsweise Itaconsäuredimethy lester, Itaconsäurediethylester und Itaconsäuredibutylester);
Maleinsäure- oder Fumarsäuredialkylester (beispielsweise Ma leinsäuredimethylester und Fumarsäuredibutylester) und (Meth)acrylnitril, ein.
Crotonate, wie Crotonsäurealkylester (beispielsweise Crotonsäu rebutylester, Crotonsäurehexylester und Monocrotonsäureglycerinester);
Itaconsäuredialkylester (beispielsweise Itaconsäuredimethy lester, Itaconsäurediethylester und Itaconsäuredibutylester);
Maleinsäure- oder Fumarsäuredialkylester (beispielsweise Ma leinsäuredimethylester und Fumarsäuredibutylester) und (Meth)acrylnitril, ein.
Es können auch Hydroxystyrolhomo- oder -copolymere oder ein
Phenolharz vom Novolak-Typ verwendet werden, beispielsweise Po
ly(hydroxystyrol) und Poly(hydroxystyrol-Co-vinylcyclohexanol), ein Novo
lakharz, ein Cresolnovolakharz und ein halogeniertes Phenolnovolakharz.
Insbesondere schließt es beispielsweise die Methacrylsäure-Copolymere,
die Acrylsäure-Copolymere, die Itaconsäure-Copolymere, die Crotonsäure-
Copolymere, die Maleinsäureanhydrid-Copolymere, beispielsweise mit Styrol
als Comonomer und Maleinsäure-Copolymere und teilweise veresterte Malein
säure-Copolymere, jeweils beispielsweise in JP 59-44615-B4 (der hierin
verwendete Begriff "JP-B4" bedeutet eine geprüfte Japanische Patent-
Veröffentlichung), JP 54-34327-B4, JP 58-12577-B4 und JP 54-25957-B4, JP
59-53836-A, JP 59-71048-A, JP 60-159743-A, JP 60-258539-A, JP 1-152449-A,
JP 2-199403-A und JP 2-199404-A, und wobei Copolymere weiter mit einem
Amin, wie beispielsweise in US-A-5 650 263 offenbart, umgesetzt werden
können, ein, des weiteren kann ein Cellulosederivat mit einer Carboxyl
gruppe an einer Seitenkette verwendet werden, und besonders bevorzugt
sind Copolymere von (Meth)acrylsäurebenzylester und (Meth)acrylsäure und
Copolymere von (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäure und anderen
Monomeren, wie beispielsweise in US-A-4 139 391, JP 59-44615-B4, JP 60-
159743-A und JP 60-258539-A beschrieben.
Bezüglich jenen mit Carbonsäuregruppen unter den vorstehenden
organischen Bindemittelpolymeren ist es möglich, einige oder alle der
Carbonsäuregruppen mit (Meth)acrylsäureglycidylester oder einem Ep
oxy(meth)acrylat umzusetzen unter Gewinnung von photopolymerisierbaren,
organischen Bindemittelpolymeren zur Verbesserung der Lichtempfindlich
keit, Beschichtungsfilmfestigkeit, Beständigkeit der Beschichtung gegen
Lösungsmittel und Chemikalien und Anhaftung an dem Substrat. Beispiele
werden in JP 50-34443-B4 und JP 50-34444-B4, US-A-5 153 095, von T. Kudo
et al. in J. Appl. Phys., Band 37 (1998), Seiten 3594-3603, US-A-5 677
385 und US-A-5 650 233 offenbart.
Das gewichtsmittlere Molekulargewicht der Bindemittel ist vor
zugsweise 500 bis 1 000 000, beispielsweise 3 000 bis 1 000 000, bevor
zugter 5 000 bis 400 000.
Diese Verbindungen können einzeln oder als ein Gemisch von zwei
oder mehreren Arten verwendet werden. Der Anteil des Bindemittels in der
lichtempfindlichen Harzzusammensetzung ist vorzugsweise 10 bis 95 Ge
wichtsprozent, bevorzugter 15 bis 90 Gewichtsprozent, bezogen auf die
gesamten Feststoffe.
Weiterhin kann in dem Farbfilter die Gesamtfeststoffkomponente
von jeder Farbe einen Fänger für ionische Verunreinigung [ionic Impurity
scavenger], beispielsweise eine organische Verbindung mit einer Epoxy
gruppe, enthalten. Die Konzentration des Fängers für ionische Verunreini
gung in der gesamten Feststoffkomponente liegt im allgemeinen im Bereich
von 0,1 Gewichtsprozent bis 10 Gewichtsprozent.
Beispiele für Farbfilter, insbesondere bezüglich der vorstehend
beschriebenen Kombinationen an Pigmenten und Fängern für ionische Verun
reinigung werden in EP-A-320 264 angegeben. Es ist verständlich, daß die
erfindungsgemäßen Photostarter, das heißt die Verbindungen der Formel I,
II, III und IV, in den in EP-A-320 264 beschriebenen Farbfilterformulie
rungen die Triazinstarterverbindungen ersetzen können.
Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können zusätzlich ein
Vernetzungsmittel, das durch eine Säure, beispielsweise wie in JP 10-
221843-A beschrieben, aktiviert ist und eine Verbindung, die thermisch
oder durch aktinische Strahlung Säure erzeugt und die eine Vernetzungsre
aktion aktiviert, umfassen.
Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können auch latente
Pigmente umfassen, die während der Wärmebehandlung des lichtempfindlichen
Musters oder der lichtempfindlichen Beschichtung, das/die das latente
Pigment enthält, in fein dispergierte Pigmente überführt werden. Die Wär
mebehandlung kann nach Belichtung oder nach Entwicklung der das latente
Pigment enthaltenden, Bild erzeugenden Schicht ausgeführt werden. Solche
latenten Pigmente sind lösliche Pigmentvorstufen, die mit Hilfe von che
mischer, thermischer, photolytischer oder durch Strahlung induzierter
Verfahren, wie beispielsweise in US-A-5 879 855 beschrieben, in unlösli
che Pigmente überführt werden können. Diese Überführung solcher latenter
Pigmente kann durch Zugabe einer Verbindung, die Säure erzeugt, bei Aus
setzen von aktinischer Strahlung oder durch Zugabe einer sauren Verbin
dung zu der Zusammensetzung verstärkt werden. Deshalb kann ebenfalls ein
Farbfilterresist hergestellt werden, der ein latentes Pigment in einer
erfindungsgemäßen Zusammensetzung umfaßt.
Diese erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können auch zur Her
stellung von ein- oder mehrschichtigen Materialien zur Bildaufzeichnung
oder Bildreproduktion (Kopien, Reprographie), die mono- oder polychrom
sein können. Anwendung finden. Weiterhin sind die Materialien für Farb
prüfsysteme geeignet. Bei dieser Technologie können Mikrokapseln enthal
tende Formulierungen aufgetragen werden und für die Bilderzeugung kann
der Strahlungshärtung eine thermische Behandlung folgen. Solche Systeme
und Technologien und deren Anwendungen werden beispielsweise in US-A-5
376 459 offenbart.
Für photographische Informationsaufzeichnungen verwendete Sub
strate schließen beispielsweise Folien aus Polyester, Celluloseacetat
oder Polymer-beschichteten Papieren ein; Substrate für Offsetdruckformen
sind spezialbehandeltes Aluminium, Substrate zur Erzeugung gedruckter
Schaltkreise sind kupferkaschierte Laminate und Substrate zur Erzeugung
integrierter Schaltkreise sind Siliziumwafer. Die Schichtdicken für pho
tographische Materialien und Offsetdruckformen sind im allgemeinen etwa
0,5 µm bis 10 µm, während sie für Leiterplatten 1,0 µm bis etwa 100 µm
sind. Nach der Beschichtung der Substrate wird das Lösungsmittel im all
gemeinen durch Trocknen entfernt, wonach eine Beschichtung des Photore
sists auf dem Substrat zurückbleibt.
Nach der Beschichtung der Substrate wird das Lösungsmittel im
allgemeinen durch Trocknen unter Hinterlassen eines im wesentlichen troc
kenen Resistfilms des Photoresists auf dem Substrat entfernt.
Der Begriff "bildmäßige" Belichtung schließt sowohl Belichtung
durch eine Photomaske, die ein vorbestimmtes Muster, beispielsweise ein
Dia oder ein Gitter (Netz), umfaßt, als auch Belichtung mittels eines
Laser- oder Lichtstrahls, der z. B. unter Computersteuerung über die Ober
fläche des beschichteten Substrats bewegt wird und auf diese Weise ein
Bild erzeugt, und Bestrahlung mit Computergesteuerten Elektronenstrahlen
ein. Es ist auch möglich, aus Flüssigkristallen hergestellte Masken zu
verwenden, die zur Erzeugung von Digitalbildern Pixel für Pixel angesteu
ert werden können, wie beispielsweise von A. Bertsch, J. Y. Jezequel, J. C.
Andre in Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997,
107, Seite 275-281 und von K.-P. Nicolay in Offset Printing 1997, 6, Sei
te 34-37, beschrieben.
Nach der bildmäßigen Belichtung des Materials und vor der Ent
wicklung ist es vorteilhaft, für einen kurzen Zeitraum Wärmebehandlung
auszuführen. Nach der Entwicklung kann ein Thermo-Nachsintern ausgeführt
werden, um die Zusammensetzung zu härten und alle Lösungsmittelspuren zu
entfernen. Die angewendeten Temperaturen sind im allgemeinen 50-250°C,
vorzugsweise 80-220°C; die Dauer der Wärmebehandlung liegt im allgemeinen
zwischen 0,25 und 60 Minuten.
Die photohärtbare Zusammensetzung kann zusätzlich in einem Ver
fahren zur Herstellung von Druckplatten oder Photoresists, wie beispiels
weise in DE-A-40 13 358 beschrieben, angewendet werden. In einem solchen
Verfahren wird die Zusammensetzung für einen kurzen Zeitraum ohne eine
Maske vor, gleichzeitig mit oder nach bildmäßiger Bestrahlung sichtbarem
Licht mit einer Wellenlänge von mindestens 400 nm ausgesetzt.
Nach der Belichtung und, falls vorgesehen, thermischer Behand
lung werden die unbelichteten Flächen der lichtempfindlichen Beschichtung
mit einem Entwickler in an sich bekannter Weise entfernt.
Wie bereits erwähnt, können die erfindungsgemäßen Zusammenset
zungen durch wässerige Alkalien entwickelt werden. Besonders geeignete,
wässerig-alkalische Entwicklerlösungen sind wässerige Lösungen von
Tetraalkylammoniumhydroxiden oder von Alkalimetallsilikaten, -phosphaten,
-hydroxiden und -carbonaten. Geringe Mengen an Benetzungsmitteln und/oder
organischen Lösungsmitteln können, falls erwünscht, diesen Lösungen eben
falls zugesetzt werden. Beispiele für typische organische Lösungsmittel,
die den Entwicklerflüssigkeiten in kleinen Mengen zugesetzt werden kön
nen, sind Cyclohexanon, 2-Ethoxyethanol, Toluol, Aceton und Gemische von
solchen Lösungsmitteln. In Abhängigkeit von den Substraten können auch
Lösungsmittel, beispielsweise organische Lösungsmittel, als Entwickler
oder wie vorstehend erwähnt, Gemische von wässerigen Alkali mit solchen
Lösungsmitteln angewendet werden.
Das Photohärten ist für das Drucken von größter Bedeutung, da
die Trocknungszeit der Druckfarbe ein kritischer Faktor für die Herstel
lungsgeschwindigkeit von graphischen Produkten darstellt und sollte in
der Größenordnung von Bruchteilen von Sekunden ablaufen. UV-härtbare
Druckfarben sind besonders zum Siebdrucken und für Offsetdruckfarben von
Bedeutung.
Wie bereits angeführt, sind die erfindungsgemäßen Gemische auch
zur Herstellung von Druckplatten sehr geeignet. Diese Anwendung verwendet
beispielsweise Gemische von löslichen, linearen Polyamiden oder Sty
rol/Butadien- und/oder Styrol/Isopren-Kautschuk, Polyacrylaten oder Poly
methylmethacrylaten, die Carboxylgruppen enthalten, Polyvinylalkoholen
oder Urethanacrylaten mit photopolymerisierbaren Monomeren, beispielswei
se Acrylamiden und/oder Methacrylamiden, Acrylaten und/oder Methacrylaten
und einem Photostarter. Filme und Platten, die aus diesen Systemen herge
stellt werden (naß oder trocken) werden durch das Negativ (oder Positiv)
des Druckoriginals belichtet und die ungehärteten Teile werden anschlie
ßend unter Verwendung eines geeigneten Lösungsmittels oder geeigneter
wässeriger Lösungen ausgewaschen.
Ein weiterer Anwendungsbereich für die Photohärtung ist die Be
schichtung von Metallen, beispielsweise bei der Beschichtung von Metall
blechen und -röhren, Dosen oder Flaschenverschlüssen und die Photohärtung
von Kunststoffbeschichtungen, beispielsweise Wand- oder Bodenbelägen auf
PVC-Basis.
Beispiele der Photohärtung von Papierbeschichtungen sind farb
lose Beschichtungen von Etiketten, Plattenhüllen oder Buchdeckeln.
Die Verwendung der erfindungsgemäßen Verbindungen zur Härtung
von Formgegenständen, die aus Verbundmassen hergestellt werden, ist eben
falls von Interesse. Die Verbundmasse besteht aus einem selbsttragenden
Matrixmaterial, beispielsweise Glasfasergewebe, oder auch beispielsweise
Pflanzenfasern [vergleiche K.-P. Mieck und T. Reussmann in Kunststoffe 85
(1995), 366-370), das mit der photohärtbaren Formulierung imprägniert
wird. Formgegenstände, die aus Verbundmassen unter Verwendung der erfin
dungsgemäßen Verbindungen hergestellt werden, sind mechanisch sehr stabil
und beständig. Die erfindungsgemäßen Verbindungen können auch als photo
härtende Mittel bei Form-, Imprägnier- und Beschichtungszusammensetzun
gen, wie beispielsweise in EP-A-7 086 beschrieben, verwendet werden. Bei
spiele solcher Zusammensetzungen sind Feinbeschichtungsharze [gel coat
resins], an die stärkere Anforderungen hinsichtlich ihrer Härtungsaktivi
tät und Vergilbungsbeständigkeit gestellt werden, oder faservetstärkte
Formlinge, wie ebene oder längs- oder quergewellte lichtdiffuse Platten.
Verfahren zur Herstellung solcher Formlinge, beispielsweise Hand-lay-up,
Spray-lay-up, zentrifugales oder Filamentwickelverfahren, sind beispiels
weise bei P. H. Selden in "Glasfaserverstärkte Kunststoffe", Seite 610,
Springer Verlag Berlin-Heidelberg-New York, 1967, beschrieben. Beispiele
für Gegenstände zur Verwendung, die durch dieses Verfahren hergestellt
werden können, sind Bootskörper, Spanplatten oder Sperrholzplatten, die
auf beiden Seiten mit Glasfaser-verstärkten Kunststoffen beschichtet
sind, Rohre, Behälter und dergleichen. Ein weiteres Beispiel für Form-,
Imprägnier- und Beschichtungszusammensetzungen sind UP-Harz-Feinbe
schichtungen [gel coats] für Formlinge, die Glasfasern enthalten (GRP),
beispielsweise Wellplatten und Papierlaminate. Papierlaminate können
ebenfalls auf Harnstoff- oder Melaminharzen basieren. Die Feinbeschich
tung wird auf einem Träger (beispielsweise einer Folie) vor der Herstel
lung des Laminats erzeugt. Die erfindungsgemäßen, photohärtbaren Zusam
mensetzungen können auch für Gießharze oder zum Einkapseln von Gegenstän
den, wie elektronischen Bauelementen und dergleichen, verwendet werden.
Die Zusammensetzungen und Verbindungen gemäß der vorliegenden
Erfindung können zur Herstellung von Holographien, Lichtleitern und opti
schen Schaltern verwendet werden, wobei der Vorteil der Entwicklung einer
Differenz in dem Brechungsindex zwischen bestrahlten und nichtbestrahlten
Flächen hergenommen wird.
Ebenfalls von Bedeutung ist die Verwendung von photohärtbaren
Zusammensetzungen für Bilderzeugungsverfahren und für die optische Her
stellung von Informationsträgern. Bei diesen Anwendungen wird die auf den
Träger aufgetragene Beschichtung (naß oder trocken), wie vorstehend be
reits beschrieben, mit UV- oder sichtbarem Licht durch eine Photomaske
bestrahlt und die unbelichteten Flächen der Schicht werden durch Behand
lung mit einem Lösungsmittel ( = Entwickler) entfernt. Die photohärtbare
Schicht kann auch durch Elektroabscheidung auf Metall aufgetragen werden.
Die belichteten Flächen sind durch Vernetzung polymer geworden und somit
unlöslich und bleiben auf dem Träger. Wenn geeignete Färbung ausgeführt
wird, werden sichtbare Bilder erzeugt. Wenn der Träger eine metallisierte
Schicht ist, kann das Metall aus den unbelichteten Flächen durch Ätzen
nach Belichtung und Entwicklung entfernt werden und kann in der Dicke
durch Elektroplattieren verstärkt werden. Auf diese Weise können Leiter
platten und Photoresists erzeugt werden. Bei der Verwendung in Bild er
zeugenden Materialien stellen die neuen Photostarter ausgezeichnete Lei
stung beim Erzeugen von sogenannten Bildausdrucken bereit, wobei aufgrund
Bestrahlung eine Farbänderung eingeführt wird. Um solche Bildausdrucke zu
erzeugen, werden unterschiedliche Farbstoffe und/oder deren Leukoform
angewendet, und Beispiele für solche Bildausdrucksysteme sind in WO
96/41240, EP-A-706 091, EP-A-511 403, US-A-3 579 339 und US-A-4 622 286
angeführt.
Die Lichtempfindlichkeit der erfindungsgemäßen Zusammensetzun
gen liegt im allgemeinen im Bereich des UV-Bereiches (etwa 190 nm) bis
etwa 600 nm und überspannt daher einen sehr breiten Bereich. Geeignete
Bestrahlung umfaßt beispielsweise Sonnenlicht oder Licht aus künstlichen
Quellen. Daher kann eine Vielzahl von verschiedenen Arten von Lichtquel
len verwendet werden. Sowohl Punktquellen als auch flache Strahler (Lam
penteppiche) sind geeignet. Beispiele sind Kohlebogenlampen, Xenonbogen
lampen, Mitteldruck-, Hochdruck- und Niederdruck-Quecksilberlampen, gege
benenfalls mit Metallhalogeniden dotiert (Metallhalogenlampen), Mikrowel
lenstimulierte Metalldampflampen, Exzimerlampen, superaktinische Fluo
reszenzröhren, Fluoreszenzlampen, Argonglühlampen, elektronische Blitz
lichter, Photoflutlichtlampen, Licht emittierende Dioden (LED), Elektro
nenstrahlen und Röntgenstrahlen. Der Abstand zwischen der Lampe und dem
erfindungsgemäßen, zu belichtenden Substrat kann von der Anwendung und
von der Art und/oder der Leistung der Lampe, beispielsweise von 2 cm bis
150 cm, abhängen. Geeignet sind auch Laserlichtquellen, beispielsweise
Exzimerlaser, wie Kr-F-Laser, zur Belichtung bei 248 nm und ArF-
Exzimerlaser, zur Belichtung bei 193 nm. Laser im sichtbaren Licht können
ebenfalls verwendet werden. In diesem Fall ist die hohe Empfindlichkeit
der erfindungsgemäßen Materialien sehr vorteilhaft. Durch dieses Verfah
ren ist es möglich, gedruckte Schaltungen in der elektronischen Indu
strie, Offsetflachdruckplatten oder Reliefdruckplatten und photographi
sche Bildaufzeichnungsmaterialien herzustellen.
Die Erfindung stellt deshalb ebenfalls ein Verfahren für die
Photopolymerisation von monomeren, oligomeren oder polymeren Verbindungen
bereit, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung ent
halten, das die Zugabe mindestens eines Photostarters der Formel I, II,
III oder IV, wie vorstehend beschrieben, zu den vorstehend erwähnten Ver
bindungen und Bestrahlen der erhaltenen Zusammensetzung mit elektromagne
tischer Strahlung, insbesondere Licht der Wellenlänge 190 bis 600 nm, mit
Elektronen- oder mit Röntgenstrahlen umfaßt.
Die Erfindung stellt zusätzlich Zusammensetzungen zur Herstel
lung von pigmentierten und nichtpigmentierten Anstrichstoffen und Lacken,
Pulverbeschichtungen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen, dentalen
Massen, Resistmaterialien, einschließlich Photoresists, Farbfiltermate
rialien, als Zusammensetzung zum Einkapseln von elektrischen und elektro
nischen Bauelementen, zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsmate
rialien, mikromechanischen Bauteilen, Wellenleitern, optischen Schaltern,
Plattierungsmasken, Ätzmasken, Farbprüfabzugsystemen, Glasfaserkabelüber
zügen, Siebdruckschablonen, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegen
ständen mit Hilfe von Stereolithographie und als Bildaufzeichnungsmateri
al, insbesondere für holographische Aufzeichnungen, mikroelektronische
Schaltkreise, Entfärbematerialien, Entfärbematerialien für Bildaufzeich
nungsmaterialien, für Bildaufzeichnungsmaterialien unter Verwendung von
Mikrokapseln bereit.
Die Erfindung stellt weiterhin ein beschichtetes Substrat be
reit, das auf mindestens einer Oberfläche mit einer wie vorstehend be
schriebenen Zusammensetzung beschichtet ist und beschreibt ein Verfahren
für die photographische Herstellung von Reliefbildern, in dem ein be
schichtetes Substrat bildmäßiger Belichtung unterzogen wird und anschlie
ßend die unbelichteten Teile mit einem Entwickler entfernt werden. Bild
mäßige Belichtung kann mittels Bestrahlen durch eine Maske oder mit Hilfe
eines Laserstrahls bewirkt werden. Von besonderem Vorteil ist in diesem
Zusammenhang, wie bereits vorstehend erwähnt, Laserstrahlbelichtung.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen weisen hohe Empfindlichkeit
und Auflösung bei niedriger Konzentration auch ohne Sensibilisator auf.
Sie weisen eine gute thermische Stabilität und geringe Flüchtigkeit auf
und sind auch für Photopolymerisationen in Anwesenheit von Luft (Sauer
stoff) geeignet. Des weiteren verursachen die erfindungsgemäßen Verbin
dungen nur geringes Vergilben der Zusammensetzungen nach Photopolymerisa
tion.
Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung genauer.
Teile und Prozentangaben sind wie im Rest der Beschreibung und in den
Ansprüchen auf das Gewicht bezogen, sofern nicht anders ausgewiesen.
Wenn, ohne besonderen Hinweis auf spezielle Isomeren, Alkylreste mit mehr
als drei Kohlenstoffatomen erwähnt werden, sind in jedem Fall die n-
Isomeren gemeint.
In Formel I: R1 = C2H5; R2 = COCH3; R3, R4, R6, R7, = H; R5 = SCH3
11,0 g (0,206 Mol) Natriummethoxid werden in 130 ml Methanol
suspendiert. Anschließend werden Isoamylnitrit (27 ml, 0,206 Mol) und 25
g (0,129 Mol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on, gelöst in 70 ml Te
trahydrofuran (THF), zugesetzt und die Reaktionslösung wird bei Raumtem
peratur 1,5 Tage gerührt. Nach Aufkonzentrieren werden Wasser und Essig
säure zum Neutralisieren zugesetzt. Das Rohprodukt wird mit Essigsäu
reethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet
und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an
Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (15 : 85) als Elutionsmittel ge
reinigt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3), δ [ppm]:
1,14 (t, 3H), 2,52 (s, 3H), 2,72 (q, 2H), 7,25 (d, 2H), 7,86 (d, 2H),
8,01 (s, 1H) bestätigt.
3,5 g (15,7 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1,2-dion-2-
oxim werden in 20 ml THF gelöst und die Lösung wird in einem Eisbad abge
kühlt. Acetylchlorid (1,23 ml, 17,3 mMol) und Triethylamin (3,3 ml, 23,6
mNol) werden nacheinander zugesetzt und die Reaktionslösung wird bei 0%
1 Stunde gerührt und danh in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit
Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen, über MgSO4 ge
trocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatogra
phie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (20 : 80) als Elutionsmit
tel gereinigt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestä
tigt. δ [ppm]: 1,17 (t, 3H), 2,27 (s, 3H), 2,53 (s, 3H), 2,78 (q, 25)
7,27 (d, 2H), 8,00 (d, 2H).
Die Verbindungen der Beispiele 2-17 werden gemäß dem im Bei
spiel 1 beschriebenen Verfahren aus den entsprechenden Ketonen, die durch
Friedel-Crafts-Reaktion unter Verwendung der entsprechenden Aromaten und
Acylchloride in Gegenwart von Aluminiumchlorid in Dichlormethan syntheti
siert werden, hergestellt. Die Verbindungen und 1H-NMR-Daten werden in
Tabelle 1 angegeben.
In Formel III: R1' = C3H7; R2 = COCH3; R5' = SCH3; R4', R6' = H
9,72 g (50 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on werden in
heißem Ethanol gelöst. Anschließend wird eine Lösung aus Hydroxylammoni
umchlorid (3,58 g, 51,5 mMol) und Natriumacetät (7,0 g, 85 mMol) in 20 ml
Wasser zugesetzt und die Reaktionslösung wird 4 Stunden bei 100°C ge
rührt. Nach Abkühlen und Aufkonzentrieren wird Wasser zugesetzt. Das Roh
produkt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewa
schen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird
durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan
(20 : 80) als Elutionsmittel gereinigt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-
Spektrum (CDCl3) bestätigt. δ (ppm]: 0,98 (t, 3H), 1,54-1,64 (m, 2H),
2,50 (s, 3H), 2,76 (t, 2H), 7,24 (d, 2H), 7,54 (d, 2H), 7,98 (s, 1H).
2,0 g (9,56 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)butan-1-on-oxim
werden in 10 ml Tetrahydrofuran (THF) gelöst und die Lösung wird in einem
Eisbad abgekühlt. Acetylchlorid (0,75 ml, 10,5 mMol) und Triethylamin
(2,0 ml, 14,3 mMol) werden nacheinander zugesetzt und die Reaktionslösung
wird bei 0°C 1 Stunde gerührt und dann in Wasser gegossen. Das Rohpro
dukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewaschen,
über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säu
lenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (20 : 80)
als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt ist ein farbloses Öl. Die
Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt. δ [ppm]: 0,98
(t, 3H), 1,56-1,64 (m, 2H), 2,26 (s, 3H), 2,50 (s, 3H), 2,81 (t, 2H),
7,25 (d, 2H), 7,65 (d, 2H).
In Formel III: R1' = C3H7; R2 = COCH3; R4', R6' = H; R5' = -S-C6H5
Die Verbindung wird gemäß dem in Beispiel 22 beschriebenen Ver
fahren unter Verwendung von 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)butan-1-on als Aus
gangsmaterial hergestellt. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum
(CDCl3) bestätigt. δ [ppm]: 1,04 (t, 3H), 1,71 (m, 2H), 2,93 (t, 2H),
7,32-7,52 (m, 9H), 7,62 (t, 1H), 7,70 (d, 2H), 8,10 (d, 2H).
In Formel III: R1' = COOC2H5; R2 = COCH3; R4', R6' H; R5' = SCH3
37,5 g (0,3 Mol) Thioanisol und 41,4 g (0,3 Mol) Chlor-oxo
essigsäureethylester, gelöst in 200 ml Dichlormethan, werden tropfenweise
zu einer Suspension von 60 g (0,45 Mol) von Aluminiumtrichlorid in 350 ml
Dichlormethan bei 0°C gegeben. Die Lösung wird über Nacht bei Raumtempe
ratur gerührt und dann zwei Stunden unter Rückfluß erhitzt. Nach Abkühlen
auf Raumtemperatur wird das Reaktionsgemisch in ein Gemisch von 100 ml
konz. HCl und Eis/Wasser gegossen. Nach Extraktion mit Dichlormethan wird
die organische Phase mit Wasser und Natriumbicarbonat gewaschen und über
Magnesiumsulfat getrocknet. Das Salz wird abfiltriert und das Lösungsmit
tel abdestilliert zu 52,3 g (78%) (4-Methylsulfanylphenyl)-oxo-essig
säureethylester als gelbes Öl. Dieses Öl wird für den nächsten Schritt
ohne weitere Reinigung verwendet. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-
Spektrum (in CDCl3) bestätigt. δ [ppm]: 7,87 (d, 2H), 7,24 (d, 2H), 4,39
(q, 2H), 2,48 (s, 2H), 1,37 (t, 3H).
22,4 g (0,1 Mol) (4-Methylsulfanylphenyl)-oxo-essigsäureethyl
ester und 7,6 g (0,1 Mol) Hydroxylammoniumhydrochlorid werden in 180 ml
Pyridin gelöst und das Gemisch wird 16 Stunden bei Raumtemperatur ge
rührt. Die gelbliche Lösung wird mit Wasser und Essigsäureethylester ver
dünnt, die organische Phase abgetrennt und die wässerige Phase einige
Male mit Essigsäureethylester extrahiert. Die vereinigten organischen
Extrakte werden mit verdünnter Salzsäure und Wasser gewaschen und das
Lösungsmittel wird abgedampft. 24 g (100%) roher Hydroxyimino-(4-
methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester (66 : 34-Gemisch der E- und Z-
Isomeren) werden so erhalten und im nächsten Schritt ohne weitere Reini
gung verwendet. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (in CDCl3)
bestätigt. δ [ppm]: 7,46 (d, 2H), 7,19 (d, 2H), 4,44 (E) und 4,32 (Z)
(zwei d, 2H), 2,47 (Z) und 2,46 (E)(s, 3H), 1,37 (E) und 1,28 (Z)(t, 3H).
14,35 g (0,06 Mol) roher Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphe
nyl)essigsäureethylester und 9,1 g (0,09 Mol) Triethylamin werden in 100
ml THF gelöst. 5,2 g (0,066 Mol) Acetylchlorid, gelöst in 10 ml THF, wer
den bei 0°C zugegeben. Die Suspension wird auf Raumtemperatur erwärmen
lassen und über Nacht gerührt. Das Reaktionsgemisch wird mit Essigsäu
reethylester und Wasser verdünnt, die Wasserphase wird einige Male mit
weiterem Essigsäureethylester extrahiert und die vereinigten organischen
Fraktionen mit Salzlösung und Wasser gewaschen und über MgSO4 getrocknet.
Nach Abdestillieren des Lösungsmittels wird das Rohprodukt als ein Öl
erhalten, das durch Filtration über Kieselgel gereinigt wird. 11,2 g
(66%) Hydroxyimino-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester-O-acetat
werden als gelbliches Öl erhalten. Das 1H-NMR-Spektrum zeigt ein 70 : 30-
Gemisch der (E)- und (Z)-Isomeren. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-
Spektrum (in CDCl3) bestätigt. δ [ppm]: 7,59 und 7,43 (d, 2H), 4,44 und
4,35 (q, 2H), 2,48 und 2,47 (s, 3H), 2,15 und 2,13 (s, 3H), 1,33 und 1,32
(t, 3H).
Elementaranalyse:
berechn. C 55,50%; H 5,37; N 4,98%; S 11,40%;
gefunden C 55,54%; H 5,46%; N 4,95%; S 11,41%.
Elementaranalyse:
berechn. C 55,50%; H 5,37; N 4,98%; S 11,40%;
gefunden C 55,54%; H 5,46%; N 4,95%; S 11,41%.
In Formel III: R1' = COOC2H5, R2 =
R4' = R6' = H, R5' SCH3
Wie in Beispiel 24.c. beschrieben, werden 12,3 g (0,05 Mol) Hy
droxyimino-(4-methylsulfanylphenyl)essigsäureethylester-O-acetat mit 7,95
g (0,056 Mol) Benzoylchlorid umgesetzt. 17,5 g des Rohprodukts werden als
bräunliches Öl, das durch Flashchromatographie an Kieselgel (Elutionsmit
tel: Petrolether/Essigsäureethylester 5 : 1, dann 3 : 1) weiter gereinigt
wurde, erhalten. Eine erste Fraktion (gelbliches Öl, 5,4 g, 31%) wird
durch 1H-NMR als das reine (E)-Isomer von Hydroxyimino-(4-methylsul
fanylphenyl)essigsäureethylester-O-benzoat identifiziert.
Eine zweite Fraktion (gelbliches Öl, 7,6 g, 44%) wird als ein
45 : 55-Gemisch der (E)- und (Z)-Isomeren von Hydroxyimino-(4-methylsul
fanylphenyl)essigsäureethylester-O-benzoat identifiziert. Fraktion 1
((E)-Isomer): 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: 8,01 (d, 2H), 7,68 (d, 2H), 7,57
(t, 1H), 7,48 (t, 2H), 7,25 (d, 2H), 4,49 (q, 2H), 2,49 (s, 3H), 1,38 (t,
3H).
Elementaranalyse:
berechn. C 62,96%; H 4,99%; N 4,08%; S 9,34%;
gefunden C 62,98%; H 4,99%; N 3,97%; S 9,20%.
Elementaranalyse:
berechn. C 62,96%; H 4,99%; N 4,08%; S 9,34%;
gefunden C 62,98%; H 4,99%; N 3,97%; S 9,20%.
Fraktion 2 ((E)- und (Z)-Isomer): 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: 8,01
und 7,89 (d, 2H), 7,68-7,20 (7H), 4,49 und 4,39 (q, 2H), 2,52 und 2,49
(s,3H), 1,40 und 1,38 (t,3H).
Elementaranalyse:
berechn. C 62,96%; H 4,99%; N 4,08%; S 9,34%;
gefunden C 62,98%; H 4,90%; N 4,34%; S 9,25%.
Elementaranalyse:
berechn. C 62,96%; H 4,99%; N 4,08%; S 9,34%;
gefunden C 62,98%; H 4,90%; N 4,34%; S 9,25%.
In Formel III: R1' = COOC2H5, R2 = COCH3, R4' = OCH3, R5' = OCH3,
R5, = H
Diese Verbindung wird analog zu dem in Beispiel 24.a. beschrie
benen Verfahren unter Verwendung von Veratrol anstelle von Thioanisol als
Ausgangsmaterial hergestellt. Ausbeute: 74% eines orangen Öls. Die Struk
tur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) verifiziert, δ [ppm]: 7,58
(dxd,1H), 7,53 (d,1H), 6,87 (d,1H), 4,38 (q,2H), 3,92 (s,3H), 3,89
(s,3H), 1,37 (q,3H).
Diese Verbindung wird aus (3,4-Dimethoxyphenyl)-oxo-essigsäure
ethylester, wie in Beispiel 24.b. beschrieben und in einer Ausbeute von
83% eines 80 : 20-Gemisches der (E)- und (Z)-Isomeren hergestellt. 1H-NMR
(CDCl3), δ [ppm]: 8,43 (breites s,1H), 7,18 und 7,17 (d,1H), 6,99
(dxd,1H), 6,83 (d,1H), 4,44 und 4,33 (q,2H), 3,90, 3,89, 3,87, 3,86
(s,6H), 1,38, 1,36 (t,3H).
Wie in Beispiel 24. c. beschrieben, wird (3,4-Dimeth
oxyphenyl)hydroxyiminoessigsäureethylester mit Acetylchlorid umgesetzt.
Das Produkt wird in 79%-iger Ausbeute als gelbliche Flüssigkeit erhalten.
Das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) zeigt ein 85 : 15-Gemisch der (E)- und (Z)-
Isomeren: δ [ppm]: 7,38 und 7,32 (d,1H), 7,15-7,10 (1H), 6,88 und 6,83
(d,1H), 4,44 und 4,35 (q,2H), 3,87, 3,86, 3,84, 3,83 (s,6H), 2,27 und
2,16 (s,3H), 1,37 und 1,32 (d,3H).
Elementaranalyse:
berechn. C 56,95%; H 5,80%; N 4,74%;
gefunden C 56,71%; H 5,76%; N 4,88%;
Elementaranalyse:
berechn. C 56,95%; H 5,80%; N 4,74%;
gefunden C 56,71%; H 5,76%; N 4,88%;
In Formel III: R1' = COOCH3, R2 =
R4' = OCH3, R5'. = OCH3, R6' = H
Diese Verbindung wird aus (3,4-Dimethoxyphenyl)hydroxyimino
essigsäureethylester durch Reaktion mit Benzoylchlorid, wie in Beispiel
25 beschrieben, hergestellt. Das feste Produkt wird aus Toluol umkristal
lisiert zu dem rainen (E)-Isomer als weißer Feststoff, Fp. 98-99°C (Aus
beute: 49%). Eindampfen der Mutterlauge ergibt 43% einer gelben Flüssig
keit, die gemäß dem 1H-NMR-Spektrum ein rohes 55 : 45-Gemisch des (E)- und
des (Z)-Isomers darstellt. 1H-NMR-Spektrum (CDCl3), (E)-Isomer, 8 [ppm]:
8,02 (d,1H), 7,57, 7,49 (d), 7,48 (t,3E), 7,13 (d,1H), 6,87 (d,2H), 4,49
(q,2H), 3,94 (s,3H), 3,92 (s,3H), 1,39 (t,3H).
Elementaranalyse:
berechn. C 63,86%; H 5,36%; N 4,08%; S 3,92%;
gefunden C 63,95%; H 5,37%; N 5,37%; S 3,75%.
Elementaranalyse:
berechn. C 63,86%; H 5,36%; N 4,08%; S 3,92%;
gefunden C 63,95%; H 5,37%; N 5,37%; S 3,75%.
In Formel III: R1' = C3H7, R2 =
R4', R6' = H, Rs' = SCH3
Diese Verbindung wird wie in Beispiel 22.b. beschrieben unter
Verwendung von Benzoylchlorid anstelle von Acetylchlorid hergestellt. Das
Produkt wird als ein Öl erhalten, das sich nach Stehen bei Raumtemperatur
verfestigt (Fp. 48-53°C). Die Struktur wird durch das 1 42693 00070 552 001000280000000200012000285914258200040 0002019928742 00004 42574H-NMR-Spektrum be
stätigt, δ [ppm]: 1,04 (t,3H), 1,71 (dt,2H), 2,52 (s,3H), 2,94 (t,2H),
7,27 (d,2H), 7,51 (t,2H), 7,62 (t,1H), 7,74 (d,2H), 8,11 (d,2H).
In Formel III: R1' = C7H15, R2 = COCH3, R4', R6' = H, R5' = SC6H5
Diese Verbindung wird wie in Beispiel 22.b. beschrieben aus dem
entsprechenden Keton hergestellt. Das Produkt wird als ein Öl erhalten.
Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum bestätigt, δ [ppm]: 0,87
(t,3H), 1,20-1,39 (m,8H), 1,49-1,60 (m,2H), 2,25 (s,3H), 2,79 (t,2H),
7,26 (d,2H), 7,31-7,38 (m,3H), 7,42 (d,2H), 7,61 (d,211<.
In Formel III: R1' = C7H15, R2 = CO-C6H5, R4', R6' = H, R5' = SC6H5
Diese Verbindung wird wie in Beispiel 29 beschrieben unter Ver
wendung von Benzoylchlorid anstelle von Acetylchlorid hergestellt. Die
Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum bestätigt, δ [ppm]: 0,85 (t,3H),
1,25-1,44 (m,8H), 1,65 (t,2H), 2,94 (t,2H), 7,20-7,45 (m,7H), 7,50
(t,2H), 7,62 (t,1H), 7,69 (d,2H), 8,10 (d,2H).
In Formel III: R1' = CF3, R2 = COCH3, R4' = R6' = H, R5' = SCH3
Zu 50,0 g (403 mMol) Thioanisol und 49,2 g (403 mMol) 4-
Dimethylaminopyridin in 500 ml CH2Cl2 werden vorsichtig bei 0°C 84,6 g
(403 mMol) Trifluoressigsäureanhydrid und anschließend 123 g (926 mMol)
AlCl3 gegeben. Das Reaktionsgemisch wird bei Raumtemperatur über Nacht
gerührt und dann auf Eis gegossen. Nach Extraktion mit CH2Cl2 wird die
organische Schicht mit Wasser, wässeriger Ammoniumchloridlösung und Salz
lösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Fil
tration und Abdampfen des Lösungsmittels werden 50,0 g gelber Feststoff
erhalten (56%). Dieser Feststoff wird für die nächste Reaktion ohne wei
tere Reinigung verwendet. Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum
(CDCl3, ppm) bestätigt: d 2,55 (s,3H), 7,32 (d,2H), 7,97 (d,2H).
49,3 g (224 mMol) 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)-
ethanon werden in 250 ml heißem Ethanol gelöst. Zu dieser Lösung wird
tropfenweise eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (16,3 g, 235 mMol)
und Natriumacetat (31,2 g, 381 mMol) in 125 ml Wasser gegeben und die
Reaktionslösung wird 6,5 Stunden unter Rückfluß gerührt. Das Reaktionsge
misch wurde durch Rotationsverdampfen aufkonzentriert und in Eis/Wasser
gegossen. Der erhaltene, gelbe Feststoff wird filtriert und mit Wasser
gewaschen. Nach Trocknen unter vermindertem Druck liefert Umkristallisa
tion aus Hexan/Essigsäureethylester 28,4 g weißen Feststoff (54%). Die
Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt, δ [ppm): d 2,51
(s,3H), 7,31 (d,2H), 7,49 (d,2H), 8,80 (breites s, 1H).
Zu einer Lösung von 2,2,2-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)-
ethanonoxim (2,00 g, 8,50 mMol) und Acetylchlorid (0,734 g, 9,35 mMol) in
30 ml THF wird tropfenweise Triethylamin (1,29 g, 12,8 mMol) bei 0°C ge
geben. Nach Rühren für 3 Stunden bei 0°C wird das Reaktionsgemisch in
Eis/Wasser gegossen. Die Produkte werden mit Essigsäureethylester extra
hiert und die organische Schicht wird mit wässeriger NaHCO3-Lösung und
Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach
Filtration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt
durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan
(1 : 9) als Elutionsmittel gereinigt. 1,20 g farbloses Öl werden erhalten
(51%). Die Struktur wird durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt, δ
[ppm]: d 2,11 (s,3H), 2,45 (s,3H), 7,24 (d,2H), 7,32 (d,2H).
In Formel III: R1' = CF3, R2 = COCH3, R4' = R6' = H, R5' = SC6H5
Zu 37,3 g (200 mMol) Diphenylsulfid und 36,7 g (300 mMol) 4-
Dimethylaminopyridin in 500 ml CH2Cl2 werden vorsichtig bei 0°C 63,0 g
(300 mMol) Trifluoressigsäureanhydrid und anschließend 92,0 g (690 mMol)
AlCl3 gegeben. Das Reaktionsgemisch wird bei Raumtemperatur über Nacht
gerührt und dann auf Eis gegossen. Nach Extraktion mit CH2Cl2 wird die
organische Schicht mit Wasser, wässeriger Ammoniumchloridlösung und Salz
lösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Fil
tration und Abdampfen des Lösungsmittels werden 54,1 g braunes Öl erhal
ten. 10 g dieses Rohprodukts werden zur Säulenchromatographie auf Kiesel
gel mit CH2Cl2-Hexan (1 : 4) als Elutionsmittel angewendet. 7,40 g gelbes
Öl werden erhalten (13%). 1H-NMR (CDCl3, ppm): d 7,19 (d,2H), 7,45-7,49
(m,3H), 7,54-7,58 (m,2H), 7,90 (d,2H).
6,21 g (22,0 mMol) 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)-
ethanon werden in 25 ml heißem Ethanol gelöst. Zu dieser Lösung wird
tropfenweise eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (1,61 g, 23,1 mMol)
und Natriumacetat (3,07 g, 37,4 mMol) in 12,5 ml Wasser gegeben und die
Reaktionslösung wird 6 Stunden unter Rückfluß gerührt. Das Reaktionsge
misch wird durch Rotationsverdampfen aufkonzentriert und in Eis/Wasser
gegossen. Der erhaltene, weiße Feststoff wird filtriert und mit Wasser
gewaschen. Nach Trocknen unter vermindertem Druck liefert Umkristallisa
tion aus Hexan/CH2Cl2 4,1 g weißer Feststoff (63%). Die Struktur wird
durch das 1H-NMR-Spektrum (CDCl3) bestätigt, δ [ppm]: d 7,26 (d,2H), 7,36-
7,44 (m, 5H), 7,48-7,51 (m,2H), 8,78 (s, 1H).
Zu einer Lösung von 2,2,2-Trifluor-1-(4-phenylsulfanylphenyl)-
ethanonoxim (1,50 g, 5,05 mMol) und Acetylchlorid (0,436 g, 5,56 mMol) in
THF (25 ml) witd tropfenweise bei 0°C Triethylamin (0,766 g, 7,57 mMol)
gegeben. Nach Rühren bei 0°C für 3 Stunden wird das Reaktionsgemisch in
Eis/Wasser gegossen. Die Produkte werden mit Essigsäureethylester extra
hiert und die organische Schicht mit wässeriger NaHCO3-Lösung und Salzlö
sung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Fil
tration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt
durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2Cl2/Hexan (1 : 1) als Elu
tionsmittel gereinigt. 0,91 g weißer Feststoff (53%) werden als Isomeren
gemisch von syn und anti erhalten. Das Verhältnis des Hauptisomers zu dem
Nebenisomer ist 87 : 13, bezogen auf 1H-NMR. 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm): d 2,18
und 2,28 (s,3H), 7,24 (d,2H), 7,34-7,53 (m,7H). Die als das Hauptisomer
bewerteten Signale sind wie nachstehend. d 2,18 (s,3H), 7,34 (d,2H), 7,53
(dd,2H). Der Schmelzpunkt des Feststoffs ist 76-80°C.
In Formel III: R1' = C9H19, R2 = COC6F5, R4' = R6' = H, R5' = SC6H5
Zu einer Lösung von 1-(4-Phenylsulfanylphenyl)decan-1-on-oxim
(2,00 g, 5,63 mMol) und Pentafluorbenzoylchlorid (1,43 g, 6,19 mMol) in
THF (25 ml) wird tropfenweise bei 0°C Triethylamin (0,85 g, 8,45 mMol)
gegeben. Nach Rühren bei 0°C für 1 Stunde wird das Reaktionsgemisch in
Eis/Wasser gegossen. Die Produkte werden aus Essigsäureethylester extra
hiert und die organische Schicht mit wässeriger NaHCO3-Lösung und Salzlö
sung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Fil
tration und Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt
durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan
(1 : 4) als Elutionsmittel gereinigt. 2,08 g.weißer Feststoff mit einem
Schmelzpunkt von 56-59°C werden erhalten (67%). 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: d
0,86 (t,3H), 1,2-1,4 (m,12H), 1,56 (breites s,2H), 2,84 (t,2H), 7,27
(d,2H), 7,35-7,38 (m,3H), 7,45 (dd,2H), 7,64 (d,2H).
In Formel III: R1' = CF3CH2, R2 = COCH3, R4' = R6' = H, R5' = SCH3
34.1 N,N-Dimethyl-N'-(4-methylsulfanylbenzyliden)hydrazin
7,44 g (48,9 mMol) 4-Methylthiobenzaldehyd und 4,0 ml (52,7
mMol) 1,1-Dimethylhydrazin werden in Toluol (50 ml) gelöst und 2,5 Stun
den unter Rückfluß erhitzt. Salzlösung wird nach Abkühlen zu dem Reakti
onsgemisch gegeben und das Produkt mit Toluol extrahiert. Die Toluol
schicht wird kondensiert und der Rückstand wird zur Säulenchromatographie
an Kieselgel mit Aceton/Hexan (1 : 20) als Elutionsmittel aufgetragen. 9,07
g hellgelbes Öl werden erhalten (96%). 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: d 2,48
(s,3H), 2,96 (s,6H), 7,20 (s,1H), 7,21 (d,2H), 7,49 (d,2H).
64 ml (453 mMol) Trifluoressigsäureanhydrid werden tropfenweise
zu 8,68 g (44,7 mMol) N,N-Dimethyl-N'-(4-methylsulfanylbenzyliden}-
hydrazin in Pyridin bei 0°C innerhalb 20 Minuten gegeben. Dann wird die
Reaktionslösung schrittweise auf Raumtemperatur erwärmt und über Nacht
gerührt. Überschüssiges Trifluoressigsäureanhydrid und Pyridin werden
durch Abdampfen im Vakuum entfernt. Der Rückstand wird in 200 ml Acetoni
tril und 200 ml wässeriger 6 N HCl-Lösung gelöst. Nach Rühren über Nacht
bei Raumtemperatur wird die Reaktionslösung mit NaHCO3 neutralisiert. Die
Entfernung von Acetonitril liefert einen weißen Feststoff, der filtriert
und mit Wasser gewaschen wird. Das Produkt wird durch Säulenchromatogra
phie an Kieselgel mit CH2Cl2/Hexan (1 : 1) als Elutionsmittel gereinigt.
3,18 g weißer Feststoff mit einem Schmelzpunkt von 118-120°C werden er
halten (30%). 1H-NMR (CDCl3) δ [ppm]: d 2,54 (s,31-1), 3,75 (q,2H),
7,29(d,2H), 7,84 (d,2H).
Hydroxylammoniumchlorid (1,07 g, 15,4 mMol) und Natriumacetat
(1,85 g, 22,5 mMol) werden in 10 ml Wasser gelöst. Zu dieser Lösung wer
den 2,35 g (10,0 mMol) 3,3,3-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)propan-1-
on in 30 ml Ethanol gegeben. Das Reaktionsgemisch wird 6,5 Stunden unter
Rückfluß erhitzt. Das Reaktionsgemisch wurde durch Rotationsverdampfen
aufkonzentriert und in Wasser gegossen. Das Produkt wird mit CH2Cl2 ex
trahiert und die organische Schicht mit Wasser gewaschen, gefolgt von
Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Verdampfen des Lösungsmittels wird
das Produkt durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit CH2Cl2/Hexan
(2 : 1) als Elutionsmittel gereinigt. 1,48 g weißer Feststoff, der bei 106-
107°C schmilzt, werden erhalten (59%). 1H-NMR (CDCl3), δ (ppm]: d 2,51
(s,3H), 3,73 (q,2H), 7,26 (d,2H), 7,57 (d,2H), 8,23 (s,1H).
Zu einer Lösung von 3,3,3-Trifluor-1-(4-methylsulfanylphenyl)-
propan-1-on-oxim (1,12 g, 4,50 mMol) und Acetylchlorid (0,35 ml, 4,92
mMol) in THF (10 ml) wird tropfenweise bei 0°C Pyridin (0,40 ml, 4,95
mMol) gegeben. Nach Rühren bei Raumtemperatur über Nacht wird das Reakti
onsgemisch in Wasser gegossen. Die Produkte werden mit THF extrahiert und
die organische Schicht mit wässeriger NaHCO3-Lösung und Salzlösung gewa
schen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Filtration und
Abdampfen des Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt durch Säulen
chromatographie an Kieselgel mit CH2Cl2/Hexan (2 : 1) als Elutionsmittel
gereinigt. 0,997 g hellgelber Feststoff, der bei 70-71°C schmilzt, werden
erhalten (76%). 1H-NMR (CDCl3), δ (ppm]: d 2,28 (s,3H), 2,51 (s,3H), 3,75
(q,2H), 7,26 (d,2H), 7,69 (d,2H).
In Formel III: R1' = C6H5CH2, R2 = COCH3, R4' = R6' = H, R5' = SCH3
Thioanisol (6,22 g, 50 mMol), verdünnt mit CH3Cl2 (5 ml), wird
zu einer Suspension von AlCl3 (6,8 g, 51 mMol) in 45 ml CH2Cl2 gegeben.
Phenylacetylchlorid (7,73 g, 50,0 mMol) in CH2Cl2 (15 ml) wird tropfen
weise innerhalb 5 Minuten bei 0°C zugegeben. Dann wird die Reaktionslö
sung schrittweise auf Raumtemperatur erwärmt und über Nacht gerührt. Die
Reaktionslösung wird auf Eis gegossen. Der erhaltene, weiße Niederschlag
wird mit CH2Cl2 extrahiert und die organische Schicht mit Wasser und wäs
seriger NaHCO3-Lösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem
MgSO4. Nach Verdampfen des Lösungsmittels wird der Rückstand durch Umkri
stallisation aus Hexan/CH2Cl2 gereinigt. 10,4 g weißer Feststoff werden
erhalten (86%). 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: d 2,50 (s,3H), 4,23 (s,2H), 7,22-
7,27 (m,5H), 7,32 (t,2H), 7,91 (d,2H).
Hydroxylammoniumchlorid (4,19 g, 60,2 mMol) und Natriumacetat
(7,42 g, 90,4 mMol) werden in 20 ml Wasser gelöst. Zu dieser Lösung wer
den 9,72 g (40,1 mMol) 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanon in 60
ml Ethanol gegeben. Das Reaktionsgemisch wird 18,5 Stunden unter Rückfluß
erhitzt. Das Reaktionsgemisch wird durch Rotationsverdampfen aufkonzen
triert und in Wasser gegossen. Der erhaltene, weiße Feststoff wird fil
triert und mit Wasser gewaschen. Nach Trocknen unter vermindertem Druck
liefert Umkristallisation aus Hexan/CH2Cl2 7,32 g weißen Feststoff (71%)
1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: d 2,45 (s,3H), 4,20 (s,2H), 7,16-7,20 (m,3H),
7,24-7,27 (m,4H), 7,54 (d,2H), 9,03 (s,1H).
Zu einer Lösung von 1-(4-Methylsulfanylphenyl)-2-phenylethanon
oxim (2,64 g, 10,3 mMol) und Acetylchlorid (0,8 ml, 11,3 mMol) in THF (20
ml) wird tropfenweise bei 0°C Pyridin (1,0 ml, 12,4 mMol) gegeben. Nach
Rühren bei Raumtemperatur über Nacht wird das Reaktionsgemisch in Wasser
gegossen. Die Produkte werden mit THF extrahiert und die organische
Schicht mit wässeriger NaHCO3-Lösung und Salzlösung gewaschen, gefolgt
von Trocknen über wasserfreiem MgSO4. Nach Filtration und Abdampfen des
Lösungsmittels wird das gewünschte Produkt durch Säulenchromatographie an
Kieselgel mit CH2Cl2 als Elutionsmittel gereinigt. 2,79 g weißer Fest
stoff, der bei 57-59°C schmilzt, werden erhalten (91%). 1H-NMR (CDCl3), δ
[ppm]: d 2,20 (s,3H), 2,44 (s,3H), 4,20 (s,2H), 7,16-7,23 (m,5H), 7,26
(dd,2H), 7,67 (d,2H).
In Formel II: M = -(CH2)5-; R2 = -COCH3; R3, R4, R6, R7 = H, R5 =
SCH3
Thioanisol (23,5 ml, 0,20 Mol) wird zu einer Suspension von
AlCl3 (27,3 g, 0,205 Mol) in 200 ml CH2Cl2 gegeben. Azelaoylchlorid (19,7
ml, 0,10 Mol) witd langsam tropfenweise, während das Reaktionsgemisch in
einem Eisbad abgekühlt wird, zugegeben und die Reaktionslösung wird 19
Stunden bei Raumtemperatur gerührt. Dann wird die Reaktionslösung in Eis
wasser gegossen. Der hergestellte, weiße Niederschlag wird abfiltriert
und das Rohprodukt wird aus dem Filtrat mit CH2Cl2 extrahiert, mit Salzlö
sung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand
wird durch Umkristallisation aus i-Pr2O-CHCl3 gereinigt. Das Produkt wird
als ein weißer Feststoff erhalten. 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm): δ 1,35-1,43
(m,6H), 1,72 (t,4H), 2,52 (s,6H), 2,91 (t,4H), 7,26 (d,4H), 7,87 (d,4H).
5,0 g (12,5 mMol) 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,9-dion
werden in 120 ml t-Butylmethylether und 200 ml CH2Cl2 gelöst. HCl-Gas wird
durch das Gemisch geleitet und anschließend wird Methylnitritgas 0,5
Stunden durchgeleitet. Nachdem das Durchleiten beendet ist, wird die Re
aktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethy
lester extrahiert, mit Wasser und Salzlösung gewaschen, über MgSO4 ge
trocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Umkristallisation
aus Methanol gereinigt. Das Produkt wird als ein hellgelber Feststoff
erhalten. 1H-NMR (DMSO-d6), δ [ppm): 1,25 (m,2H), 1,41 (m,4H), 2,45
(s,6H), 2,50 (t,4H), 7,24 (d,4H), 7,69 (d,4H).
Acetylchlorid (0,33 ml, 4,58 mMol) und Triethylamin (0,91 ml,
6,54 mMol) werden zu einer Lösung von 1,9-Bis(4-methylsulfanyl
phenyl)nonan-1,2,8,9-tetraon-2,8-dioxim (1,0 g, 2,18 mMol) in 35 ml THF
gegeben. Nach Rühren bei 0°C für 3 Stunden wird der hergestellte Fest
stoff abfiltriert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulen
chromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 4 bis 2 : 3)
als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als viskoses Öl erhalten.
1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: 1,40-1,49 (m,2H), 1,52-1,64 (m,4H), 2,25 (s,6H),
2,52 (s,6H), 2,76 (t,4H), 7,26 (d,4H), 7,98 (d,4H).
In Formel IV: M = -(CH2)7-; R2 = -COCH3; R4', R6' = H, R5' = -SCH3
8,0 g (20 mMol) 1,9-Bis(4-methylsulfanylphenyl)nonan-1,9-dion
werden in 400 ml heißem Ethanol und 70 ml heißem THF gelöst. Dann wird
eine Lösung von Hydroxylammoniumchlorid (2,9 g, 42 mMol) und Natriumace
tat (5,6 g, 68 mMol) in 70 ml Wasser zugegeben und die Reaktionslösung 3
Stunden bei 100°C gerührt. Nach Abkühlen und Aufkonzentrieren wird Wasser
zugegeben. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit
Salzlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der
Rückstand wird durch Umkristallisation aus Methanol gereinigt. Das Pro
dukt wird als weißer Feststoff erhalten. 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: 1,30-
1,40 (m,6H), 1,48-1,58 (m,4H), 2,50 (s,6H), 2,75 (t,4H), 7,23 (d,4H),
7, 52 (d, 4H).
Acetylchlorid (0,69 ml, 9,74 mMol) und Triethylamin (1,9 ml,
13,9 mMol) werden zu einer Lösung von 1,9-Bis(4-methylsul
fanylphenyl)nonan-1,9-diondioxim (2,0 g, 4,64 mMol) in 20 ml THF gegeben.
Nach Rühren bei 0°C für 30 Minuten wird der hergestellte Feststoff abfil
triert. Das Röhprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulenchromatogra
phie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 4 bis 2 : 3) als Eluti
onsmittel gereinigt. Das Produkt wird als viskoses Öl erhalten. 1H-NMR
(CDCl3), δ [ppm]: 1,27-1,40 (m,6H), 1,48-1,58 (m,4H), 2,25 (s,68), 2,50
(s,6H), 2,80 (t,4H), 7,24 (d,4H), 7,63 (d,4H).
In Formel I: R1 = C2H5; R2 = -COCH3; R3, R4, R6, R7 = H, R5 = SR9;
R9 =
M2 = direkte Bindung
Diphenylsulfid (33,3 ml, 0,20 Mol) wird zu einer Suspension von
AlCl3 (54,7 g, 0,41 Mol) in 350 ml CH2Cl2 gegeben. n-Butyrylchlorid (41,4
ml, 0,40 Mol) wird langsam tropfenweise in ein Eisbad gegeben und die
Reaktionslösung wird bei Raumtemperatur 15 Stunden gerührt. Dann wird die
Reaktionslösung in Eiswasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit CH2Cl2 ex
trahiert, mit 1N NaOH und Salzlösung gewaschen, über MgSO4 getrocknet und
aufkonzentriert. Das Produkt wird als weißer Feststoff erhalten. 1H-NMR
(CDCl3), δ [ppm]: 1,00 (t,6H), 1,77 (tq,4H), 2,92 (s,4H), 7,40 (d,4H)
7,90 (d,4H).
20 g (61 mMol) 1-[4-(4-Butyrylphenylsulfanyl)phenyl]butan-1-on
werden in 300 ml t-Butylmethylether und 50 ml CH2Cl2 gelöst. HCl-Gas wird
durch das Gemisch geleitet und anschließend wird Methylnitritgas 0,5
Stunden durchgeleitet. Nachdem das Durchleiten beendet ist, wird die Re
aktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethy
lester extrahiert, mit Wasser und Salzlösung gewaschen, über MgSO4 ge
trocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatogra
phie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 8 bis 1 : 3) als Eluti
onsmittel gereinigt. Das Produkt wird als gelber Feststoff erhalten. 1H-
NMR (CDCl3), δ [ppm]: 1,15 (t,6H), 2,73 (q,4H), 7,35 (d,4H), 7,84 (d,4H),
8,40 (bs, 2H).
Acetylchlorid (2,0 ml, 28,6 mMol) und Triethylamin (5,7 ml,
40,8 mMol) werden zu einer Lösung von 1-{4-[4-(2-Hydroxyiminobutyryl)phe
nylsulfanyl]phenyl)butan-1,2-dion-2-oxim (5,0 g, 13,6 mMol) in 20 ml THF
gegeben. Nach Rühren bei 0°C für 30 Minuten wird der hergestellte Fest
stoff abfiltriert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulen
chromatographie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 8 bis 1 : 3)
als Elutionsmittel gereinigt. Das Produkt wird als hellgelbes Öl erhal
ten. 1H-NMR (CDCl3), δ (ppm]: 1,18 (t,6H), 2,27 (s,6H), 2,80 (q,4H), 7,44
(d,4H), 8,04 (d,4H).
In Formel I: R1 = C2H5; R2 = -CO-Phenyl; R3, R4, R6, R7, = H, R5 =
SR9; R9 =
M2 = direkte Bindung
Benzoylchlorid (4,72 ml, 40,7 mMol) und Triethylamin (8,5 ml,
61 mMol) werden zu einer Lösung von 1-{4-[4-(2-Hydroxyiminobutyryl)-
phenylsulfanyl]phenyl}butan-1,2-dion-2-oxim (7,45 g, 20,3 mMol) in 40 ml
THF gegeben. Nach Rühren bei 0°C für 50 Minuten wird die Reaktionslösung
in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extra
hiert, mit Wasser gewaschen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert.
Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie an Kieselgel mit Essigsäu
reethylester/Hexan-CH2Cl2 (1 : 9 : 0 bis 1 : 3 : 1) als Elutionsmittel gereinigt.
Das Produkt wird als hellgelber Feststoff, der bei 110-113°C schmilzt,
erhalten. 1H-NMR (CDCl3), δ [ppm]: 1,28 (t,6H), 2,93 (q,4H), 7,45-7,56 (m,
8H), 7,65 (t, 2H), 8,08-8,18 (m, 8H)
In Formel III: R1' = C3H7; R2 = -COCH3; R4', R6' = H, R5 = SR9; R9 =
M2 = direkte Bindung
20 g (61,3 mMol) 1-[4-(4-Butyrylphenylsulfanyl)phenyl)butan-1-
on werden in 140 ml heißem Ethanol gelöst. Dann wird eine Lösung von Hy
droxylammoniumchlorid (8,55 g, 123 mMol) und Natriumacetat (17,1 g, 208
mMol) in 70 ml Wasser zugegeben und die Reaktionslösung bei 100°C 2 h
gerührt. Nach Abkühlen und Aufkonzentrieren wird Wasser zugegeben. Das
Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert, mit Salzlösung gewa
schen, über MgSO4 getrocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird
durch Umkristallisation aus Methanol gereinigt. Das Produkt (ein Isome
rengemisch) wird als weißer Feststoff erhalten. <Hauptisomer< 1H-NMR
(CDCl3), δ [ppm]: 0,98 (t, 6H), 1,61 (tq, 4H), 2,76 (t, 4H), 7,34 (d, 4H),
7,55 (d, 4H).
Acetylchlorid (2,1 ml, 29,4 mMol) und Triethylamin (5,9 ml, 42
mMol) werden zu einer Lösung von 1-{4-[4-(1-Hydroxyiminobutyl)phenylsul
fanyl]phenyl}butan-1-on-oxim (5,0 g, 14,0 mMol) in 40 ml THF gegeben.
Nach Rühren bei 0°C für 30 Minuten wird der hergestellte Feststoff abfil
triert. Das Rohprodukt wird aufkonzentriert und durch Säulenchromatogra
phie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 4 bis 2 : 5) als Eluti
onsmittel gereinigt. Das Produkt wird als farbloses Öl erhalten. 1H-NMR
(CDCl3), δ [ppm]: 0,99 (t,6H), 1,60 (tq,4H), 2,26 (s, 6H), 2,81 (t, 4H),
7,35 (d, 4H), 7,66 (d, 4H).
(R1' ist SR9, das über den Rest
R9 mit einem Kohlenstoffatom des Phenylrings, das die Gruppen R4' und R6'
trägt, einen Ring bildet.)
41.1 2,4-Diethylthioxanthen-9-on-oxim
7, 0 g (26 mMol) Diethylthioxanthen-9-on werden in 15 ml heißem
Ethanol und 15 ml Pyridin gelöst. Dann wird Hydroxylammoniumchlorid (3,6
g, 52 mMol) zugegeben und die Reaktionslösung 21 Stunden bei 115°C ge
rührt. Nach Abkühlen wird Wasser zugegeben. Das Rohprodukt wird mit Es
sigsäureethylester extrahiert, mit Wasser gewaschen, über MgSO4 getrock
net und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatographie
an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 30 bis 1 : 10) als Elutions
mittel gereinigt. Das Produkt (ein Isomerengemisch) wird als hellgelber
Feststoff erhalten. 1H NMR (CDCl3), δ (ppm]: 1,23-1,32 (m, 6H), 2,65-2,72
(m, 2H), 2,77-2,86 (m, 2H), 7,12 (s, 1H), 7,30-7,36 (m, 2H), 7,45 (dd,
1/2H), 7,53-7,55 (m, 1H), 7,80 (dd, 1/2H), 8,03 (d, 1/2H), 8,09-8,48 (bs,
1H), 8,34 (dd, 1/2H), worin 1/2H 1H von jedem Isomer bedeutet.
Benzoylchlorid (1,1 ml, 9, 9 mMol) und Triethylamin (1,9 ml,
13,5 mMol) werden zu einer Lösung von 2,4-Diethylthioxanthen-9-on-oxim
(2,56 g, 9,0 mMol) in 10 ml THF gegeben. Nach Rühren bei 0°C für 70 Minu
ten wird die Reaktionslösung in Wasser gegossen. Das Rohprodukt wird mit
Essigsäureethylester extrahiert, mit Wasser gewaschen, über MgSO4 ge
trocknet und aufkonzentriert. Der Rückstand wird durch Säulenchromatogra
phie an Kieselgel mit Essigsäureethylester/Hexan (1 : 20 bis 1 : 8) als Elu
tionsmittel gereinigt. Das Produkt (ein Isomerengemisch) wird als gelber
Feststoff erhalten. 1H NMR (CDCl3), δ [ppm]: 1,24-1,36 (m, 6H), 2,71-2,76
(q, 2H), 2,81-2,90 (m, 2H), 7,20 (d, 1/2H), 7,23 (d, 1/2H), 7,38-7,54 (m,
4H + 1/2H), 7,59-7,65 (m, 1H + 1/2H), 7,87 (m, 1/2H), 7,94 (m, 1/2H),
8,08 (t, 2H), 8,16 (dd, 1/2H), 8,22 (dd, 1/2H), worin 1/2H 1H von jedem
Isomer bedeutet.
Eine photohärtbare Formulierung wird durch Vermischen der nach
stehenden Komponenten hergestellt.
200 Gewichtsteile acryliertes AcrylcopolymerRTM ACA200M, her gestellt von Daicel Industries, Ltd.
15 Gewichtsteile Dipentaerythrithexaacrylat (DPHA), bereit gestellt von UCB Chemicals
2,3 Gewichtsteile des zu prüfenden Photostarters
200 Gewichtsteile acryliertes AcrylcopolymerRTM ACA200M, her gestellt von Daicel Industries, Ltd.
15 Gewichtsteile Dipentaerythrithexaacrylat (DPHA), bereit gestellt von UCB Chemicals
2,3 Gewichtsteile des zu prüfenden Photostarters
Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Formu
lierungen werden auf eine Aluminiumplatte aufgetragen. Das Lösungsmittel
wird durch Erhitzen auf 80°C für 15 Minuten in einem Konvektionsofen ent
fernt. Die Dicke des trockenen Films ist 25 µm. Auf diese Beschichtung
wird eine Acetatfolie aufgelegt, über die ein standardisiertes Testnega
tiv mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dichte/Schwärzung (Stouf
fer-Stufen-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einer zweiten UV-
durchlässigen Folie bedeckt und durch Vakuum an eine Metallplatte ange
drückt. Die Belichtung wird in einer ersten Testreihe für 40 Sekunden, in
einer zweiten Testreihe für 80 Sekunden und in einer dritten Testreihe
für 160 Sekunden unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe (ORC, Modell
SMX 3000) mit 3 kW bei einem Abstand von 60 cm ausgeführt. Nach der Be
lichtung werden die Deckfolien und die Maske entfernt und der belichtete
Film wird mit einer 1%-igen wässerigen Natriumcarbonatlösung für 180 Se
kunden bei 30°C unter Verwendung eines Entwicklers vom Sprühtyp (Walter
Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Star
tersystems wird durch Angabe der höchsten Stufenzahl, die nach der Ent
wicklung verbleibt (das heißt polymerisiert wurde), charakterisiert. Je
höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das geprüfte System.
Eine weitere Testreihe wird bereitgestellt durch Zugeben von
0,23 Gewichtsteilen eines Gemisches von 2-Isopropylthioxanthon und 4-
Isopropylthioxanthon (RTMQUANTACURE ITX, International Biosynthetics) zu
der vorstehend beschriebenen Formulierung.
Die Ergebnisse werden in Tabelle 2 zusammengefaßt.
Eine photohärtbare Formulierung, die als ein Modell für einen
Trockenfilm-Ätzresist dient, wird durch Vermischen der nachstehenden Kom
ponenten hergestellt:
45,1 Gewichtsteile RTMSCRIPSET 540 (Styrol-Maleinsäureanhydrid- Copolymer, bereitgestellt von Monsanto)
48, 3 Gewichtsteile Triacrylsäuretrimethylolpropanester
6,6 Gewichtsteile Diacrylsäurepentaethylenglycolester
105,2 Gewichtsteile Aceton
45,1 Gewichtsteile RTMSCRIPSET 540 (Styrol-Maleinsäureanhydrid- Copolymer, bereitgestellt von Monsanto)
48, 3 Gewichtsteile Triacrylsäuretrimethylolpropanester
6,6 Gewichtsteile Diacrylsäurepentaethylenglycolester
105,2 Gewichtsteile Aceton
Zu dem Gemisch 0,25% (bezogen auf den Feststoffgehalt) von
RTMQUANTACURE ITX werden 0,14% (bezogen auf den Feststoffgehalt)
Bis(diethylamino)benzophenon und 3% (bezogen auf den Feststoffgehalt) des
zu prüfenden Starters gegeben und gerührt. Alle Vorgänge werden unter
gelben Lichtbedingungen ausgeführt. Die Probe, zu der der Starter gegeben
wurde, wird auf eine Aluminiumfolie aufgetragen. Das Lösungsmittel wird
durch Trocknen bei 60°C für 15 Minuten in einem Umluftofen entfernt. Nach
Trocknen ist die Filmdicke 35-40 µm. Auf diesen Film wird eine 76 µm dik
ke Polyesterfolie aufgetragen, über die ein standardisiertes Testnegativ
mit 21 Schritten von unterschiedlicher optischer Dichte (Stouffer-Keil)
gelegt wird. Die Probe wird mit einer zweiten UV-durchlässigen Folie be
deckt und mit Hilfe von Vakuum an eine Metallplatte gedrückt. Das Belich
ten wird in einer ersten Testreihe für 10 Sekunden, in einer zweiten
Testreihe für 20 Sekunden und in einer dritten Testreihe für 40 Sekunden
unter Verwendung einer 5 kW-Metallhalogenidlampe (MO61, Staub AG) bei
einem Abstand von 30 cm ausgeführt. Nach dem Belichten werden die Deckfo
lien und die Maske entfernt und die belichtete Folie mit einer 0.85%-
igen Natriumcarbonatlösung für 8 Minuten bei 35°C unter Verwendung des
Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Emp
findlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Anzeigen des letz
ten Keilschrittes, der ohne Anhaften reproduziert wird (das heißt polyme
risiert), charakterisiert. Je höher die Anzahl der Schritte, umso emp
findlicher ist das untersuchte System.
24 g Methacrylsäurebenzylester, 6 g Methacrylsäure und 0,525 g
Azobisisobutyronitril (AIBN) werden in 90 ml Propylenglycol-1-mono
methylether-2-acetat (PGMEA) gelöst. Das erhaltene Reaktionsgemisch wird
in ein vorerhitztes Ölbad bei 80°C gestellt. Nach Rühren für 5 Stunden
unter Stickstoff bei 80°C wird die erhaltene viskose Lösung auf Raumtem
peratur abgekühlt und ohne weitere Reinigung verwendet. Der Feststoffge
halt ist etwa 25%.
Eine photohärtbare Zusammensetzung wird durch Vermischen der
nachstehenden Komponenten hergestellt:
200,0 Gewichtsteile des Copolymers von Methacrylsäurebenzyle ster und Methacrylsäure (Methacrylsäureben zylester:Methacrylsäure = 80 : 20 auf das Ge wicht)
25% Gewichtsteile Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA)-Lösung, hergestellt wie vorstehend beschrieben;
50,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritester (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals);
4,0 Gewichtsteile Photostarter und
150,0 Gewichtsteile PGMEA.
200,0 Gewichtsteile des Copolymers von Methacrylsäurebenzyle ster und Methacrylsäure (Methacrylsäureben zylester:Methacrylsäure = 80 : 20 auf das Ge wicht)
25% Gewichtsteile Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA)-Lösung, hergestellt wie vorstehend beschrieben;
50,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritester (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals);
4,0 Gewichtsteile Photostarter und
150,0 Gewichtsteile PGMEA.
Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Zusam
mensetzungen werden auf eine Aluminiumplatte unter Verwendung eines elek
trischen Applikators mit einem mit Draht umwickelten Stab aufgetragen.
Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen auf 100°C für 2 Minuten in einem
Konvektionsofen entfernt. Die Dicke des trockenen Films ist 2 µm. Auf
diese Beschichtung wird eine Acetatfolie aufgelegt, über die ein standar
disiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher optischer Dich
te/Schwärzung (Stouffer-Keil) angeordnet wird. Die Probe wird mit einer
zweiten UV-durchlässigen Folie bedeckt und durch Vakuum an eine Metall
platte angedrückt. Interferenzfilter werden obenauf angebracht, um die
Wellenlängen bei 365 nm und 405 nm auszuwählen. Die Belichtung erfolgt
unter Verwendung einer Quecksilberhöchstdrucklampe 250 W (USHIO,USH-250BY)
bei einem Abstand von 15 cm. Nach der Belichtung werden die Deckfolien
und die Maske entfernt und der belichtete Film wird mit einer 1%igen wäs
serigen Natriumcarbonatlösung für 200 Sekunden bei 30°C unter Verwendung
eines Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt.
Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Angabe der
höchsten Stufenzahl, die nach der Entwicklung verbleibt (das heißt poly
merisiert wurde), charakterisiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto
empfindlicher ist das geprüfte System. Die Ergebnisse werden in Tabelle 4
zusammengefaßt.
Eine photohärtbare Zusammensetzung wird durch Vermischen der
nachstehenden Komponenten hergestellt:
200,0 Gewichtsteile des Copolymers von Methacrylsäurebenzyle ster und Methacrylsäure (Methacrylsäureben zylester : Methacrylsäure = 80 : 20 auf das Ge wicht)
25% Gewichtsteile Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA)-Lösung, hergestellt wie in Beispiel 43 beschrieben;
50,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritester (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals);
4,0 Gewichtsteile Photostarter und
150,0 Gewichtsteile PGMEA.
200,0 Gewichtsteile des Copolymers von Methacrylsäurebenzyle ster und Methacrylsäure (Methacrylsäureben zylester : Methacrylsäure = 80 : 20 auf das Ge wicht)
25% Gewichtsteile Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA)-Lösung, hergestellt wie in Beispiel 43 beschrieben;
50,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritester (DPHA), bereitgestellt von UCB Chemicals);
4,0 Gewichtsteile Photostarter und
150,0 Gewichtsteile PGMEA.
Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Zusam
mensetzungen werden auf eine Aluminiumplatte unter Verwendung eines elek
trischen Applicators mit einem mit Draht umwickelten Stab aufgetragen.
Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen auf 100°C für 2 Minuten in einem
Konvektionsofen entfernt. Die Dicke des trockenen Films ist 2 µm. Ein
standardisierter Test-Negativfilm mit 21 Schritten von unterschiedlicher
optischer Dichte (Stouffer-Schritt-Keil) wird mit einem Luftspalt von
rund 100 µm zwischen den Film und den Resist angeordnet. Ein Interferenz
filter wird obenauf angeordnet, um die Wellenlänge 365 nm auszuwählen.
Die Belichtung wird unter Verwendung einer Quecksilberhöchstdrucklampe
(USHIO, USH-250BY) bei 250 W und einem Abstand von 15 cm ausgeführt. Nach
der Belichtung wird der Film mit einer wässerigen 1%-igen Natriumcarbo
natlösung 200 Sekunden bei 30°C unter Verwendung eines Entwicklers vom
Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des
verwendeten Startersystems wird durch Angabe der höchsten Stufenzahl, die
nach der Entwicklung verbleibt (das heißt polymerisiert wurde), charakte
risiert. Je höher die Zahl der Stufen, desto empfindlicher ist das ge
prüfte System. Die Ergebnisse werden in Tabelle 5 zusammengefaßt.
Ein Polyamicsäureester wird aus Oxydiphthalsäuredianhydrid,
Methacrylsäure-2-hydroxyethylester und 4,4'-Diaminodiphenylether gemäß
Beispiel I.1. von EP-A-624 826 hergestellt. Die Grenzviskosität ist 0,31
dl/g und die zahlenmittleren Molekulargewichte sind Mw = 2550 g/Mol und
Mn = 3800 g/Mol. Eine Formulierung wird durch Auflösen von 16,97 g der
vorstehenden Vorstufe, 2,545 g Dimethacrylsäuretetraethylenglycolester
(SR 209, Cray Valley) und 0,85 g der Verbindung von Beispiel 21 in 29,52
g N-Methylpyrrolidon hergestellt. Die Formulierung wird auf einen Silizi
umwafer mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 5 Sekunden bei 1500 U/min
zum gleichmäßigen Verteilen, gefolgt von 30 Sekunden bei 5000 U/min
schleuderbeschichtet. Der beschichtete Wafer wird 5 Minuten bei 100°C auf
einer Heizplatte getrocknet. Ein lichtempfindlicher nichtklebender Film
von 6 µm Dicke wird erhalten. Der Wafer wird dann durch einen Stufenkeil
unter Verwendung eines Belichtungsgeräts ORIEL (Modell 87532), ausgestat
tet mit einem 350 W Quecksilberlichtbogen, entweder durch einen 365 nm
schmalen Bandpass oder mit dem vollständigen Bogenspektrum belichtet.
Vakuumkontakt der Stufenkeilmaske wird auf einem Vakuumtisch unter Ver
wendung einer Polyesterfolie, die das Substrat und die Stufenkeilmaske
bedeckt, erhalten. Die Intensitäten werden unter Verwendung eines Lei stungsmeßgeräts OAI, ausgestattet mit einem 365 nm-Sensor, gemessen. Der
belichtete Film wird durch Tauchen in Cyclopentanon für 60 s entwickelt,
zweimal mit einem 1 : 1-Gemisch von Cyclopentanon/Isopropanol für 10 s und
schließlich mit reinem Isopropanol für 10 s gespült.
Bei monochromatischer Belichtung bei 365 nm ist zur ausreichen
den Vernetzung eine Dosis von 28 mJ/cm2 erforderlich, damit der Film in
dem Entwickler unlöslich wird. Unter Verwendung des vollständigen Spek
trums des Quecksilberlichtbogens wird zur Vernetzung eine Dosis von 38
mJ/cm2 benötigt, damit der Film sich in dem Entwickler nicht löst.
Eine Formulierung wird durch Vermischen von 16,97 g der Polyi
midvorstufe, beschrieben im Beispiel A, 2,545 g Dimethacrylsäuretetrae
thylenglycolester (RTMSR 209, Cray Valley), 0,85 g des Starters vom Bei
spiel 29, 0,17 g Michler's Keton und 29,52 g N-Methylpyrrolidon herge
stellt. Die Formulierung wird auf einen Siliziumwafer mit einer Umdre
hungsgeschwindigkeit von 5 Sekunden bei 1500 U/min zum gleichmäßigen Ver
teilen, gefolgt von 30 Sekunden bei 5000 U/min schleuderbeschichtet. Der
beschichtete Wafer wird 5 Minuten bei 100°C auf einer Heizplatte getrock
net. Ein lichtempfindlicher nichtklebender Film von 6 µm Dicke wird er
halten. Der Wafer wird dann durch einen Stufenkeil unter Verwendung eines
Belichtungsgeräts ORIEL (Modell 87532), ausgestattet mit einem 350 W
Quecksilberlichtbogen, entweder durch einen 365 nm schmalen Bandpass oder
mit dem vollständigen Bogenspektrum belichtet. Vakuumkontakt der Stufen
keilmaske wird auf einem Vakuumtisch unter Verwendung einer Polyesterfo
lie, die das Substrat und die Stufenkeilmaske bedeckt, erhalten. Die In
tensitäten werden unter Verwendung eines Leistungsmeßgeräts OAI, ausge
stattet mit einem 365 nm-Sensor, gemessen. Der belichtete Film wird durch
Tauchen in Cyclopentanon für 60 s entwickelt, zweimal mit einem 1 : 1-
Gemisch von Cyclopentanon/Isopropanol für 10 s und schließlich mit reinem
Isopropanol für 10 s gespült.
Bei monochromatischer Belichtung bei 365 nm ist eine Dosis von
36 mJ/cm2 erforderlich, damit der Film in dem Entwickler unlöslich wird.
Unter Verwendung des vollständigen Spektrums wird zur Vernetzung eine
Dosis von 75 mJ/cm2 benötigt, damit der Film sich in dem Entwickler nicht
löst.
Claims (18)
1. Verbindungen der Formeln I, II, III und IV
worin
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder meh reren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C5-C8-Cycloalkyl, C2-C20-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder meh reren C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder meh rere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 sub stituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)mC1-C6-Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-Cl2-Aryl; SO2O-C1-C6-Alkyl, SO2O-C6-C10-Aryl, oder Diphenylphos phinoyl darstellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, -CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, oder Phenyl, substituiert mit Halogen oder SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unter brochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren OR8, SR9 oder NR10H11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbro chen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Phenoxycarbonyl oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10H11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10H11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoff atome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7 OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2H9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4-(C1-C10-Alkyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2OH2CN, -OCH2OH2 (CO) O (C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2CH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R 8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
darstellt,
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2OH2CN, -OCH2CH2 (CO)O(C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
darstellt;
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
sein kann;
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12-Al kylen) -O (CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O)n-(CO)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen)-(CO)- darstellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
worin
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder meh reren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C5-C8-Cycloalkyl, C2-C20-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder meh reren C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder meh rere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 sub stituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)mC1-C6-Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-Cl2-Aryl; SO2O-C1-C6-Alkyl, SO2O-C6-C10-Aryl, oder Diphenylphos phinoyl darstellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, -CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, oder Phenyl, substituiert mit Halogen oder SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unter brochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren OR8, SR9 oder NR10H11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbro chen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Phenoxycarbonyl oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10H11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10H11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoff atome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7 OR8, SR9 oder NR10R11 darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2H9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4-(C1-C10-Alkyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2OH2CN, -OCH2OH2 (CO) O (C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2CH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R 8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
darstellt,
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2OH2CN, -OCH2CH2 (CO)O(C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
darstellt;
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
sein kann;
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12-Al kylen) -O (CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O)n-(CO)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen)-(CO)- darstellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
- a) wenn R5 Methoxy darstellt und R2 Benzoyl oder Acetyl dar stellt, R1 dann kein Phenyl darstellt;
- b) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Benzoyl oder Ethoxycarbonyl darstellt;
- c) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 4-Methoxybenzoyl dar stellt, R2 dann kein Ethoxycarbonyl darstellt;
- d) wenn R5 Methacryloylamino darstellt und R1 Methyl dar stellt, R2 dann kein Benzoyl darstellt;
- e) wenn beide, R5 und R4 oder R5 und R6 OR8 darstellen, und die se Gruppen OR8 zusammen über R8 einen Ring bilden und dadurch -O-CH2-O- ergeben und R1 Methyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt;
- f) wenn R4, R5 und R6 gleichzeitig Methoxy darstellen und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt; (vii) wenn R5 Methoxy darstellt und R4 oder R6 gleichzeitig Acetoxy darstellen und R1 Ethyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt; (viii) wenn in Formel III R1' Methyl darstellt, R5' Phenylthio darstellt und R4' und R6' beide H darstellen, R2 dann kein 4-Chlorbenzoyl darstellt.
2. Verbindungen der Formel I und III nach Anspruch 1, worin
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt, oder R1 C1-C20-Alkyl, gegebe nenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C1-C4-Halogenalkyl darstellt;
R1' Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8, NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' -CONR10R11 darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' SR9 darstellt, R1' weiterhin C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder Phenyl, substituiert mit SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit Halogen substitu iert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonylgruppe konjugiert ist; oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;
R3 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4, R6, R4' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1-C12-Alkyl, OR8 oder SR9, wobei die Substituenten OR8 und SR9 gegebenen falls über die Reste R8 und/oder R9 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6- gliedrige Ringe bilden, darstellen; und
R5 und R5' OR8 odet SR9 darstellen.
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt, oder R1 C1-C20-Alkyl, gegebe nenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C1-C4-Halogenalkyl darstellt;
R1' Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8, NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' -CONR10R11 darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' SR9 darstellt, R1' weiterhin C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder Phenyl, substituiert mit SR9, substituiert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH-(CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit Halogen substitu iert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonylgruppe konjugiert ist; oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;
R3 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4, R6, R4' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1-C12-Alkyl, OR8 oder SR9, wobei die Substituenten OR8 und SR9 gegebenen falls über die Reste R8 und/oder R9 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6- gliedrige Ringe bilden, darstellen; und
R5 und R5' OR8 odet SR9 darstellen.
3. Verbindungen der Formel I oder III nach Anspruch 1, worin
mindestens einer der Reste R3, R4, R5, R6 oder R7 oder R4', R5' oder R6' SR9
oder NR10R11 darstellt.
4. Verbindungen der Formel I oder III nach Anspruch 1, worin R3,
R4 und R7 oder R4' und R6' Wasserstoff darstellen, und R5 oder R5' SR9 dar
stellt.
5. Verbindungen der Formel I nach Anspruch 1, worin R3 und R7
Wasserstoff darstellen und R4 und R5 beide OR8 darstellen.
6. Verbindungen der Formel III nach Anspruch 1, worin R1' C1-C12-
Alkyl, das unsubstituiert oder mit Halogen oder Phenyl substituiert ist,
darstellt.
7. Verbindungen nach Anspruch 1 der Formel I, II, III oder IV,
worin
R1 Phenyl, C1-C12-Alkyl darstellt;
R1' C2-C4-Alkoxycarbonyl oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Her stellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn minde stens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit Phenyl oder einem oder mehreren Fluor substi tuiert ist, darstellt;
R2 C2-C4-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit ei nem oder mehreren C1-C4-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;
R3, R6 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4 und R5 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R4' und R5' unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R6' Wasserstoff darstellt;
R8 und R9 C1-C4-Alkyl, Phenyl oder eine Gruppe
darstellen;
R10 und R11 Methyl oder Ethyl darstellen oder R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, das durch -O- unterbrochen ist, darstellen;
M C1-C12-Alkylen darstellt; und
M2 eine direkte Bindung darstellt.
R1 Phenyl, C1-C12-Alkyl darstellt;
R1' C2-C4-Alkoxycarbonyl oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Her stellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn minde stens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' C1-C12-Alkyl, das unsubstituiert oder mit Phenyl oder einem oder mehreren Fluor substi tuiert ist, darstellt;
R2 C2-C4-Alkanoyl oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit ei nem oder mehreren C1-C4-Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;
R3, R6 und R7 Wasserstoff darstellen;
R4 und R5 unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R4' und R5' unabhängig voneinander Wasserstoff oder eine Gruppe OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen;
R6' Wasserstoff darstellt;
R8 und R9 C1-C4-Alkyl, Phenyl oder eine Gruppe
darstellen;
R10 und R11 Methyl oder Ethyl darstellen oder R10 und R11 zusammen C2-C6-Alkylen, das durch -O- unterbrochen ist, darstellen;
M C1-C12-Alkylen darstellt; und
M2 eine direkte Bindung darstellt.
8. Photopolymerisierbare Zusammensetzung, umfassend
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C5-C8-Cycloalkyl, C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenen falls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C2- C20-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxyl gruppe/n substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubsti tuiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)mC1-C6- Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-C12- Aryl; SO2O-C1-C6-Alkyl, SO2O-C6-C10-Aryl, oder Diphenylphosphinoyl dar stellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5 ' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder mit SR9 substituiertem Phenyl substitu iert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH- (CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R7, Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen sub stituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Phenoxycarbonyl; eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weite ren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7, OR8 , SR9 oder NR10R11, darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4-(C1-C10-Alkyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2OH2(CO)O(C1-C4-Alkyl), O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2OH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
darstellt,
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2OH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
darstellt;
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
sein kann;
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12- Alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O)n-(CO)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen)-(CO)- darstellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
- a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte, photopolymeri sierbare Verbindung und
- b) als Photostarter, mindestens eine Verbindung der Formel I,
II, III und/oder IV
R1 Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1- C6-Alkyl, Phenyl, Halogen, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, dar stellt; oder R1 C5-C8-Cycloalkyl, C1-C20-Alkyl oder C2-C20-Alkyl, gegebenen falls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen substituiert, darstellt; oder R1 C2- C20-Alkanoyl; oder Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren C1-C6-Alkyl, Phenyl, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1 C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxyl gruppe/n substituiert, darstellt; oder R1 Phenoxycarbonyl, das unsubsti tuiert oder mit C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1 -CONR10R11, CN, NO2, C1-C4-Halogenalkyl, S(O)mC1-C6- Alkyl; unsubstituiertes oder mit C1-C12-Alkyl-substituiertes S(O)m-C6-C12- Aryl; SO2O-C1-C6-Alkyl, SO2O-C6-C10-Aryl, oder Diphenylphosphinoyl dar stellt;
m 1 oder 2 ist,
R1' C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hy droxylgruppe n substituiert, darstellt; oder R1' Phenoxycarbonyl, das un substituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, Phenyl, OR8 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R1' C5-C8-Cycloalkyl, CONR10R11, CN; oder Phenyl, das mit SR9 substituiert ist, wobei gegebenen falls ein 5- oder 6-gliedriger Ring über die Gruppe R9 durch Herstellen einer Bindung an ein Kohlenstoffatom des Phenylrings, der die Gruppen R4', R5 ' und R6' trägt, gebildet wird, darstellt; oder wenn mindestens einer der Reste R4', R5' oder R6' -SR9 darstellt, R1' zusätzlich C1-C12- Alkyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, OH, OR2, Phenyl, halogeniertem Phenyl oder mit SR9 substituiertem Phenyl substitu iert ist und wobei das C1-C12-Alkyl gegebenenfalls durch -O- oder -NH- (CO)- unterbrochen ist, darstellt;
R2 C2-C12-Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehre ren Halogen oder CN substituiert ist, darstellt; oder R2 C4-C6-Alkenoyl darstellt, mit der Maßgabe, daß die Doppelbindung nicht mit der Carbonyl gruppe konjugiert ist oder R2 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C1-C6-Alkyl, Halogen, CN, OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R2 C2-C6-Alkoxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit C1-C6-Alkyl oder Halogen substituiert ist, dar stellt;
R3, R4, R5, R6 und R7 unabhängig voneinander Wasserstoff, Halo gen, C1-C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstitu iert oder mit einem oder mehreren OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellt; oder R3, R4, R5, R6 und R7, Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2- C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen sub stituiert, darstellen; oder R3, R4, R5, R6 und R7 Phenoxycarbonyl; eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9 oder NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weite ren Substituenten an dem Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens eine der Gruppen R3, R4, R5, R6 oder R7, OR8 , SR9 oder NR10R11, darstellt;
R4', R5' und R6' unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C1- C12-Alkyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit OR8, SR9 oder NR10R11 substituiert ist, darstellen; oder R4', R5' und R6' Benzyl, Benzoyl, C2-C12-Alkanoyl; C2-C12-Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls durch ein oder mehrere -O- unterbrochen und/oder gegebenenfalls mit einer oder mehreren Hydroxylgruppe/n substituiert, darstellt; oder R4', R5' und R6' Phenoxycarbonyl; oder eine Gruppe OR8, SR9, SOR9, SO2R9, NR10R11, worin die Substituenten OR8, SR9 und NR10R11 gegebenenfalls über die Reste R8, R9, R10 und/oder R11 mit weiteren Substituenten an dem Phenylring oder mit ei nem der Kohlenstoffatome des Phenylrings 5- oder 6-gliedrige Ringe bil den, darstellen; mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R4', R5' und R6' OR8, SR9 oder NR10R11 darstellen; und mit der Maßgabe, daß, wenn R5' Methoxy darstellt und R4' und R6' beide gleichzeitig Wasserstoff darstel len, und R1' CN darstellt, R2' nicht Benzoyl oder 4-(C1-C10-Alkyl)benzoyl darstellt;
R8 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl; oder C2-C6-Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2CH2CN, -OCH2OH2(CO)O(C1-C4-Alkyl), O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) sub stituiert ist, darstellt; oder R8 C2-C6-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R8 -(CH2OH2O)nH, C2-C8-Alkanoyl, C3- C12-Alkenyl, C3-C6-Alkenoyl, Cyclohexyl; oder Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, dar stellt, oder R8 Phenyl-C1-C3-alkyl, Si(C1-C8-Alkyl)r(phenyl)3-r oder eine Gruppe
darstellt,
n 1-20 ist,
r 1, 2 oder 3 ist,
R9 Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C3-C12-Alkenyl, Cyclohexyl; C2-C6- Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C1-C4-Alkoxy, C3-C6-Alkenoxy, -OCH2OH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C4-Alkyl), -O(CO)-C1-C4-Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C1-C4-Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R9 C2-C12-Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R9 Phenyl, das unsubstituiert oder mit Halogen, C1-C12-Alkyl oder C1-C4-Alkoxy substituiert ist, darstellt; oder R9 Phenyl-C1-C3-alkyl oder eine Gruppe
darstellt;
R10 und R11 unabhängig voneinander Wasserstoff, C1-C12-Alkyl, C2- C4-Hydroxyalkyl, C2-C10-Alkoxyalkyl, C3-C5-Alkenyl, C5-C12-Cycloalkyl, Phe nyl-C1-C3-alkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit C1-C12-Alkyl oder C1- C4-Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R10 und R11 C2-C3-Alkanoyl, C3- C6-Alkenoyl oder Benzoyl darstellen; oder R10 und R11 zusammen C2-C6- Alkylen, gegebenenfalls durch -O- oder -NR8- unterbrochen, und/oder gege benenfalls mit Hydroxyl, C1-C4-Alkoxy, C2-C4-Alkanoyloxy oder Benzoyloxy substituiert sind, darstellen, oder wenn R10 Wasserstoff darstellt, R11 eine Gruppe der Formel
sein kann;
M C1-C12-Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, -(CO)O-(C2-C12- Alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O)n-(CO)- oder -(CO)-(C2-C12-Alkylen)-(CO)- darstellt;
M1 eine direkte Bindung; oder C1-C12-Alkylenoxy, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M2 eine direkte Bindung oder C1-C12-Alkylen-S-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unterbrochen, darstellt;
M3 eine direkte Bindung, eine Piperazinogruppe; oder C1-C12- Alkylen-NH-, gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR10- unter brochen, darstellt;
mit der Maßgabe, daß
- a) wenn R5 Methoxy darstellt und R2 Benzoyl oder Acetyl dar stellt, R1 dann kein Phenyl darstellt;
- b) wenn R5 Methoxy darstellt und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Benzoyl oder Ethoxycarbonyl darstellt;
- c) wenn R5 Methoxy darstellt und R14-Methoxybenzoyl dar stellt, R2 dann kein Ethoxycarbonyl darstellt;
- d) wenn R5 Methacryloylamino darstellt und R1 Methyl dar stellt, R2 dann kein Benzoyl darstellt;
- e) wenn beide, R5 und R4 oder R5 und R6 OR8 darstellen, und die se Gruppen OR8 zusammen über R8 einen Ring bilden und dadurch -O-CH2-O- ergeben und R1 Methyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt; (vi) wenn R4, R5 und R6 gleichzeitig Methoxy darstellen und R1 Ethoxycarbonyl darstellt, R2 dann kein Acetyl darstellt.
9. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8, um
fassend zusätzlich zu dem Photostarter (b), mindestens einen weiteren
Photostarter (c) und/oder andere Additive (d).
10. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Anspruch 8 oder
9, umfassend 0,05 bis 20 Gewichtsprozent des Photostarters (b), oder der
Photostarter (b) und (c), bezogen auf die Zusammensetzung.
11. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach Ansprüchen 9
oder 10, die als weiteres Additiv (d) einen Photosensibilisator, insbe
sondere eine Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Benzo
phenon und den Derivaten davon, Thioxanthon und den Derivaten davon, An
thrachinon und den Derivaten davon oder Cumarin und den Derivaten davon,
umfaßt.
12. Photopolymerisierbare Zusammensetzung nach einem der An
sprüche 8 bis 11, zusätzlich umfassend ein Bindemittelpolymer (e), insbe
sondere ein Copolymer von Methacrylat und Methacrylsäure.
13. Verfahren für die Photopolymerisation von Verbindungen, die
ethylenisch ungesättigte Doppelbindungen enthalten, das Bestrahlen einer
Zusammensetzung nach Anspruch 8 mit elektromagnetischer Strahlung im Be
reich von 190 bis 600 nm mit Elektronenstrahlen oder mit Röntgenstrahlen
umfaßt.
14. Verwendung einer Zusammensetzung nach Anspruch 8, zur Her
stellung von pigmentierten und nichtpigmentierten Anstrichstoffen und
Lacken, Pulverbeschichtungen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen,
dentalen Massen, Resistmaterialien, einschließlich Photoresists, Farbfil
termaterialien, als Zusammensetzung zum Einkapseln von elektrischen und
elektronischen Bauelementen, zur Herstellung von magnetischen Aufzeich
nungsmaterialien, mikromechanischen Bauteilen, Wellenleitern, optischen
Schaltern, Plattierungsmasken, Ätzmasken, Farbprüfabzugsystemen, Glasfa
serkabelüberzügen, Siebdruckschablonen, zur Herstellung von dreidimensio
nalen Gegenständen mit Hilfe von Stereolithographie, und als Bildauf
zeichnungsmaterial, insbesondere für holographische Aufzeichnungen, mi
kroelektronische Schaltkreise, Entfärbematerialien, Entfärbematerialien
für Bildaufzeichnungsmaterialien, für Bildaufzeichnungsmaterialien unter
Verwendung von Mikrokapseln.
15. Verfahren nach Anspruch 13 zur Herstellung von pigmentier
ten und nichtpigmentierten Anstrichstoffen und Lacken, Pulverbeschichtun
gen, Druckfarben, Druckplatten, Klebstoffen, dentalen Massen, Verbund
werkstoffen, Resistmaterialien, einschließlich Photoresists, Farbfilter
materialien, Zusammensetzungen zum Einkapseln von elektrischen und elek
tronischen Bauelementen, zur Herstellung von magnetischen Aufzeichnungs
materialien, mikromechanischen Bauteilen, Wellenleitern, optischen Schal
tern, Plattierungsmasken, Ätzmasken, Farbprüfabzugsystemen, Glasfaserka
belüberzügen, Siebdruckschablonen, zur Herstellung von dreidimensionalen
Gegenständen mit Hilfe von Microlithographie, Plattieren, Stereolithogra
phie, zur Herstellung von Bildaufzeichnungsmaterialien, insbesondere für
holographische Aufzeichnungen, mikroelektronische Schaltkreise, Entfärbe
materialien, Entfärbematerialien für Bildaufzeichnungsmaterialien, für
Bildaufzeichnungsmaterialien unter Verwendung von Mikrokapseln.
16. Beschichtetes Substrat, das auf mindestens einer Oberfläche
mit einer Zusammensetzung nach Anspruch 8 beschichtet ist.
17. Verfahren zur photographischen Herstellung von Reliefbil
dern, wobei ein beschichtetes Substrat nach Anspruch 16 bildmäßiger Be
lichtung unterzogen wird und anschließend die unbelichteten Teile mit
einem Entwickler entfernt werden.
18. Farbfilter, hergestellt durch Bereitstellen von roten, grü
nen und blauen Bildelementen und einer schwarzen Matrix, die alle ein
lichtempfindliches Harz und ein Pigment auf einem transparenten Substrat
umfassen und Bereitstellen einer transparenten Elektrode, entweder auf
der Oberfläche des Substrats oder auf der Oberfläche der Farbfilter
schicht, wobei das lichtempfindliche Harz ein polyfunktionelles Acrylat
monomer, ein organisches Polymerbindemittel und einen Photopolymerisati
onsstarter der Formel I, II, III oder IV nach Anspruch 1 umfaßt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP988105953 | 1998-06-26 | ||
EP98810595 | 1998-06-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19928742A1 true DE19928742A1 (de) | 1999-12-30 |
DE19928742B4 DE19928742B4 (de) | 2008-10-30 |
Family
ID=8236163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19928742A Expired - Lifetime DE19928742B4 (de) | 1998-06-26 | 1999-06-23 | Neue O-Acyloxim-Photostarter |
Country Status (23)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6596445B1 (de) |
JP (1) | JP4454067B2 (de) |
KR (1) | KR100663044B1 (de) |
CN (1) | CN1178902C (de) |
AT (1) | AT410547B (de) |
AU (1) | AU760212B2 (de) |
BE (2) | BE1012721A5 (de) |
BR (1) | BR9903285A (de) |
CA (1) | CA2276588C (de) |
CH (1) | CH694095A5 (de) |
CZ (1) | CZ298405B6 (de) |
DE (1) | DE19928742B4 (de) |
DK (1) | DK199900904A (de) |
ES (1) | ES2170605B1 (de) |
FI (1) | FI991407A7 (de) |
FR (1) | FR2781794B1 (de) |
GB (1) | GB2339571B (de) |
IT (1) | IT1312120B1 (de) |
MY (1) | MY133220A (de) |
NL (1) | NL1012222C2 (de) |
SE (1) | SE521582C2 (de) |
SG (1) | SG77689A1 (de) |
TW (1) | TW457268B (de) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000052530A1 (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-08 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
WO2002100903A1 (en) * | 2001-06-11 | 2002-12-19 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators having a combined structure |
WO2004104051A1 (en) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Bimolecular photoinitiator systems |
AT500127A1 (de) * | 1999-12-15 | 2005-10-15 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-photostarter |
US7329401B2 (en) | 2002-04-15 | 2008-02-12 | The Regents Of The University Of California | Cyclooxygenase-2 selective agents useful as imaging probes and related methods |
WO2008078686A1 (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Adeka Corporation | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
US7449574B2 (en) | 2005-11-07 | 2008-11-11 | Lg Chem, Ltd. | Triazine based photoactive compound containing oxime ester |
WO2009011538A2 (en) | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Lg Chem, Ltd. | Dendritic photoactive compound comprising oxime ester and method for preparing the same |
US7556910B2 (en) | 2005-12-01 | 2009-07-07 | LF Chem, Ltd. | Photosensitive composition comprising triazine-based photoactive compound containing oxime ester |
WO2011069947A1 (en) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks |
US8569393B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | UV-LED curable compositions and inks |
Families Citing this family (378)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4505864B2 (ja) * | 1998-11-04 | 2010-07-21 | 凸版印刷株式会社 | 転写型カラーフィルタの製造方法 |
SG97168A1 (en) * | 1999-12-15 | 2003-07-18 | Ciba Sc Holding Ag | Photosensitive resin composition |
JP5072140B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2012-11-14 | 新中村化学工業株式会社 | 床用塗料組成物およびその塗料被覆物 |
TWI272451B (en) * | 2000-09-25 | 2007-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Chemically amplified photoresist composition, process for preparation of a photoresist, and use of said chemically amplified photoresist composition |
US7923173B1 (en) * | 2000-10-19 | 2011-04-12 | Illinois Tool Works Inc. | Photo definable polyimide film used as an embossing surface |
DE60138576D1 (de) * | 2000-11-30 | 2009-06-10 | Toyoda Gosei Kk | Optisches Sende- und Empfangsmodul |
KR100417091B1 (ko) * | 2001-05-15 | 2004-02-05 | 주식회사 엘지화학 | 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물 |
JP4982016B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2012-07-25 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物およびそれを用いたカラーフィルター |
TW200714651A (en) * | 2002-10-28 | 2007-04-16 | Mitsubishi Chem Corp | Photopolymerization composition and color filter using the same |
CA2505893A1 (en) * | 2002-12-03 | 2004-06-17 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups |
JP4291638B2 (ja) | 2003-07-29 | 2009-07-08 | 富士フイルム株式会社 | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版 |
TW200519535A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Taiyo Ink Mfg Co Ltd | Hardenable resin composition, hardened body thereof, and printed circuit board |
JP2005174778A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法および転写フィルム |
JP4595498B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2010-12-08 | チッソ株式会社 | 有機ケイ素化合物含有重合性液晶組成物 |
US7165839B2 (en) * | 2003-12-19 | 2007-01-23 | Novartis Ag | Method for producing tinted contact lenses |
US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
JP2005215147A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物 |
TWI349677B (en) * | 2004-03-30 | 2011-10-01 | Nippon Steel Chemical Co | Photosensitive resin composition and color filter using the same |
US20070144384A1 (en) | 2004-05-19 | 2007-06-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd | Image recording method |
JP4448381B2 (ja) * | 2004-05-26 | 2010-04-07 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物 |
EP2618215B1 (de) | 2004-05-31 | 2017-07-05 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte |
WO2006083284A2 (en) * | 2004-06-01 | 2006-08-10 | Dow Corning Corporation | A material composition for nano- and micro-lithography |
DE102004027476A1 (de) * | 2004-06-02 | 2005-12-22 | Beiersdorf Ag | 2-Phenylehtylbenzoat in kosmetischen Öl-in-Wasser-UV-Lichtschutzemulsionen |
DE102004027477A1 (de) * | 2004-06-02 | 2005-12-29 | Beiersdorf Ag | 2-Phenylethylbenzoat in kosmetischen Öl-in-Wasser-UV-Lichtschutzemulsionen |
JP4428151B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2010-03-10 | Jsr株式会社 | 着色層形成用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US7146909B2 (en) | 2004-07-20 | 2006-12-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
KR101193824B1 (ko) * | 2004-07-20 | 2012-10-24 | 시바 홀딩 인크 | 옥심 유도체 및 잠산으로서의 이의 용도 |
US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
US20070115336A1 (en) * | 2004-07-30 | 2007-05-24 | Ko Victory H | Digital ink jet printing process method |
US20060032390A1 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
DE602005019888D1 (de) | 2004-08-20 | 2010-04-22 | Adeka Corp | Oximesterverbindung und photopolymerisationsinitiator, der eine solche verbindung enthält |
DE602005005403T2 (de) | 2004-08-24 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp. | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP3798008B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2006-07-19 | 旭電化工業株式会社 | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
US8414982B2 (en) | 2004-12-22 | 2013-04-09 | Basf Se | Process for the production of strongly adherent coatings |
JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
EP1798031A3 (de) | 2005-01-26 | 2007-07-04 | FUJIFILM Corporation | Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckverfahren |
EP1696268B1 (de) | 2005-02-28 | 2016-11-09 | FUJIFILM Corporation | Flachdruckplattenvorläufer |
JP4574399B2 (ja) * | 2005-03-07 | 2010-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物及びそれから得られるカラーフィルタ |
JP2006285187A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置 |
US7786183B2 (en) * | 2005-06-20 | 2010-08-31 | Dow Global Technologies Inc. | Coated glass articles |
US7781493B2 (en) | 2005-06-20 | 2010-08-24 | Dow Global Technologies Inc. | Protective coating for window glass |
TWI290931B (en) * | 2005-07-01 | 2007-12-11 | Eternal Chemical Co Ltd | Photoimageable composition |
CN101223477B (zh) * | 2005-07-13 | 2011-08-31 | 太阳控股株式会社 | 银糊剂组合物及使用其的导电性图案的形成方法、以及该导电性图案 |
WO2007007800A1 (ja) * | 2005-07-13 | 2007-01-18 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 黒色ペースト組成物、及びそれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法、並びにそのブラックマトリックスパターン |
JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP2007056221A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Jsr Corp | 重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
JP4650211B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
JP4650212B2 (ja) * | 2005-10-31 | 2011-03-16 | 東洋インキ製造株式会社 | 光重合性組成物 |
US8940464B2 (en) * | 2005-12-01 | 2015-01-27 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
WO2007071497A1 (en) * | 2005-12-20 | 2007-06-28 | Ciba Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators |
TWI392966B (zh) * | 2006-01-13 | 2013-04-11 | Toyo Ink Mfg Co | 二酮肟酯化合物及其用途 |
US8293436B2 (en) | 2006-02-24 | 2012-10-23 | Fujifilm Corporation | Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same |
CN101024624B (zh) * | 2006-02-24 | 2013-09-11 | 富士胶片株式会社 | 肟衍生物、可光聚合的组合物、滤色片及其制造方法 |
JP4584164B2 (ja) * | 2006-03-08 | 2010-11-17 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
JP2007241144A (ja) | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置 |
JP5171005B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤 |
JP4698470B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
JP2007286482A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
TWI403840B (zh) | 2006-04-26 | 2013-08-01 | Fujifilm Corp | 含染料之負型硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 |
JP4884853B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2012-02-29 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
US7524889B2 (en) * | 2006-07-06 | 2009-04-28 | Bisco, Inc. | Light emitting diode curable acrylates with reduced yellowing |
JP2008037930A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光硬化型インクジェットインキ |
KR100781690B1 (ko) | 2006-08-24 | 2007-12-03 | 한국화학연구원 | 다가의 옥심 에스테르 기를 갖는 광 개시제 및 이의 제조방법 |
JP5030527B2 (ja) * | 2006-10-20 | 2012-09-19 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
JP4777226B2 (ja) | 2006-12-07 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録材料、及び新規化合物 |
RU2455329C2 (ru) | 2006-12-19 | 2012-07-10 | ДАУ ГЛОБАЛ ТЕКНОЛОДЖИЗ ЭлЭлСи | Добавки, способствующие адгезии, и способы улучшения композиций для покрытия |
EP2122638B1 (de) | 2006-12-19 | 2012-11-07 | Dow Global Technologies LLC | Verbesserte verbundstoffe und verfahren für leitfähige transparente substrate |
US7939161B2 (en) | 2006-12-19 | 2011-05-10 | Dow Global Technologies Llc | Encapsulated panel assemblies and methods for making same |
US8771924B2 (en) | 2006-12-26 | 2014-07-08 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
TW200831541A (en) * | 2006-12-28 | 2008-08-01 | Jsr Corp | Sealant for liquid crystal display device and liquid crystal display device |
JP4945432B2 (ja) | 2006-12-28 | 2012-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US7985785B2 (en) | 2007-01-15 | 2011-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink composition and inkjet recording method using the same |
EP2447780B1 (de) | 2007-01-17 | 2013-08-28 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte |
US20110123929A1 (en) | 2007-01-23 | 2011-05-26 | Fujifilm Corporation | Oxime compound, photosensitive composition, color filter, production method for the color filter, and liquid crystal display element |
JP4881756B2 (ja) | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
JP4885014B2 (ja) * | 2007-02-28 | 2012-02-29 | 株式会社リコー | 像担持体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
JP2008233660A (ja) | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
DE602008001572D1 (de) | 2007-03-23 | 2010-08-05 | Fujifilm Corp | Negativ-Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit |
JP4860525B2 (ja) | 2007-03-27 | 2012-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及び平版印刷版原版 |
JP5030638B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-09-19 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法 |
EP1975702B1 (de) | 2007-03-29 | 2013-07-24 | FUJIFILM Corporation | Farbige lichthärtbare Zusammensetzung für eine Festkörperbildaufnahmevorrichtung, Farbfilter und Verfahren zur Herstellung davon, sowie Festkörperbildaufnahmevorrichtung |
EP1974914B1 (de) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte |
JP5075450B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP1975706A3 (de) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithografiedruckplattenvorläufer |
EP1975710B1 (de) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plattenherstellungsverfahren eines Lithografiedruckplattenvorläufers |
CA2629952C (en) * | 2007-04-26 | 2015-10-06 | Finishes Unlimited, Inc. | Radiation-curable coating compositions, composite and plastic materials coated with said compositions and methods for their preparation |
KR101450705B1 (ko) | 2007-05-09 | 2014-10-15 | 가부시키가이샤 아데카 | 신규 에폭시화합물, 알칼리 현상성 수지 조성물 및 알칼리 현상성 감광성 수지 조성물 |
US8524425B2 (en) * | 2007-05-11 | 2013-09-03 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
ATE496910T1 (de) * | 2007-05-11 | 2011-02-15 | Basf Se | Oximesther-fotoinitiatoren |
JP5535063B2 (ja) * | 2007-05-11 | 2014-07-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光重合開始剤 |
JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5376844B2 (ja) | 2007-06-21 | 2013-12-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US8426102B2 (en) | 2007-06-22 | 2013-04-23 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method |
JP5247261B2 (ja) | 2007-07-02 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5213375B2 (ja) | 2007-07-13 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 |
TWI436163B (zh) | 2007-07-17 | 2014-05-01 | Fujifilm Corp | 混合物、可光聚合的組成物、彩色濾鏡以及平版印刷的印刷板前驅物 |
WO2009017064A1 (ja) | 2007-08-01 | 2009-02-05 | Adeka Corporation | アルカリ現像性感光性樹脂組成物及びβ-ジケトン化合物 |
JP4890388B2 (ja) * | 2007-08-22 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP5496482B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP2009069761A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
JP2009091555A (ja) | 2007-09-18 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版 |
JP5255369B2 (ja) | 2007-09-25 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性コーティング組成物、オーバープリント及びその製造方法 |
JP5244518B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
JP5002399B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の処理方法 |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
JP5055077B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法および平版印刷版原版 |
JP2009098688A (ja) | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法および平版印刷方法 |
JP4951454B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作成方法 |
ATE475906T1 (de) | 2007-09-28 | 2010-08-15 | Fujifilm Corp | Negatives lichtempfindliches material und negativer planographischer druckplattenvorläufer |
KR100830561B1 (ko) * | 2007-10-09 | 2008-05-22 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 다기능성 액정화합물 및 이들의 제조방법 그리고 이로부터얻어진 미세패턴 |
JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2009139852A (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
JP5571572B2 (ja) | 2007-12-18 | 2014-08-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | ガラス接着性接着剤への接着の強化された、窓ガラスのための保護コーティング |
JP5066452B2 (ja) | 2008-01-09 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用現像処理方法 |
JP2009186997A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法 |
JP5155677B2 (ja) | 2008-01-22 | 2013-03-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、およびその製版方法 |
JP5371449B2 (ja) | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
JP2009184188A (ja) | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および印刷方法 |
JP5150287B2 (ja) | 2008-02-06 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
EP2243813B1 (de) | 2008-02-22 | 2015-11-04 | Adeka Corporation | Flüssigkristallzusammensetzung mit einer polymerisierbaren verbindung und flüssigkristallanzeigevorrichtung mit der flüssigkristallzusammensetzung |
JP2009230095A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-10-08 | Jsr Corp | 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子 |
JP5175582B2 (ja) | 2008-03-10 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP2009214428A (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP4940174B2 (ja) | 2008-03-21 | 2012-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用自動現像装置 |
JP2009229771A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用自動現像方法 |
JP5305704B2 (ja) | 2008-03-24 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、光重合性組成物、カラーフィルタ用光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5422134B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 浸漬型平版印刷版用自動現像方法 |
JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
JP2009236942A (ja) | 2008-03-25 | 2009-10-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5422146B2 (ja) | 2008-03-25 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法 |
JP2009258705A (ja) | 2008-03-25 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
JP5535444B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子用緑色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法 |
EP2105298B1 (de) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negativ arbeitender Lithografiedruckplattenvorläufer und Lithografiedruckverfahren damit |
JP5507054B2 (ja) | 2008-03-28 | 2014-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子 |
JP5528677B2 (ja) | 2008-03-31 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法 |
JP4914864B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
JP5137662B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
US8057701B2 (en) | 2008-04-01 | 2011-11-15 | Adeka Corporation | Trifunctional (meth)acrylate compound and polymerizable composition containing same |
US20090260531A1 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-22 | Fujifilm Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
KR101441998B1 (ko) | 2008-04-25 | 2014-09-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자 |
JP5494479B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2014-05-14 | 三菱化学株式会社 | ケトオキシムエステル系化合物及びその利用 |
JP5222624B2 (ja) | 2008-05-12 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法 |
KR101626172B1 (ko) | 2008-06-06 | 2016-05-31 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
JP5439755B2 (ja) * | 2008-06-26 | 2014-03-12 | 三菱化学株式会社 | ホログラム記録層形成用組成物、並びにそれを用いたホログラム記録材料及びホログラム光記録媒体 |
JP5171506B2 (ja) | 2008-06-30 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5296434B2 (ja) | 2008-07-16 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
US8378002B2 (en) | 2008-07-16 | 2013-02-19 | Fujifilm Corporation | Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method |
JP5359100B2 (ja) * | 2008-08-01 | 2013-12-04 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物 |
JP2010044273A (ja) | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子 |
JP5274151B2 (ja) | 2008-08-21 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5444933B2 (ja) | 2008-08-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
JP5284735B2 (ja) | 2008-09-18 | 2013-09-11 | 株式会社Adeka | 重合性光学活性イミド化合物及び該化合物を含有する重合性組成物 |
JP5449898B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5408942B2 (ja) | 2008-09-22 | 2014-02-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および製版方法 |
EP2168767A1 (de) | 2008-09-24 | 2010-03-31 | Fujifilm Corporation | Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte |
JP5079653B2 (ja) | 2008-09-29 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5171514B2 (ja) | 2008-09-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP5127651B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5660268B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
JP5340102B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット |
JP5315909B2 (ja) * | 2008-10-08 | 2013-10-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
JP5669386B2 (ja) | 2009-01-15 | 2015-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 新規化合物、重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、並びに、平版印刷版原版 |
JP5469471B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、 |
JP4344400B1 (ja) | 2009-02-16 | 2009-10-14 | 株式会社日本化学工業所 | オキシムエステル化合物及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
EP2221665A3 (de) | 2009-02-19 | 2011-03-16 | Fujifilm Corporation | Dispersionszusammensetzung, lichtempfindliche Harzzusammensetzung für einen lichtabschirmenden Farbfilter, lichtabschirmender Farbfilter, Herstellungsverfahren dafür und Festkörperbildsensor mit dem Farbfilter |
JP5340198B2 (ja) | 2009-02-26 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物 |
JP5535692B2 (ja) | 2009-03-17 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
JP5277039B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版およびその製版方法 |
JP5479163B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5554106B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、固体撮像素子、および液晶表示装置 |
WO2010119924A1 (ja) | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用重合性組成物、カラーフィルタ、及び固体撮像素子 |
CN101565472B (zh) * | 2009-05-19 | 2011-05-04 | 常州强力电子新材料有限公司 | 酮肟酯类光引发剂 |
KR101678028B1 (ko) * | 2009-06-17 | 2016-11-21 | 토요잉크Sc홀딩스주식회사 | 옥심에스테르 화합물, 라디칼 중합개시제, 중합성 조성물, 네가티브형 레지스트 및 화상 패턴 |
JP2011042735A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Fujifilm Corp | 水系着色剤分散物及びその製造方法、インク組成物、インクセット、画像形成方法、並びに分散剤 |
JP5694654B2 (ja) | 2009-09-09 | 2015-04-01 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクセット、および画像形成方法 |
JP2011056800A (ja) | 2009-09-10 | 2011-03-24 | Fujifilm Corp | インクセットおよび画像形成方法 |
JP5535814B2 (ja) | 2009-09-14 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、平版印刷版原版、並びに、新規化合物 |
JP5501175B2 (ja) | 2009-09-28 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びその製造方法、遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP5535842B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ用黒色硬化性組成物、及び、ウェハレベルレンズ |
JP5760374B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2015-08-12 | 三菱化学株式会社 | ケトオキシムエステル系化合物及びその利用 |
JP5709761B2 (ja) | 2009-11-18 | 2015-04-30 | 株式会社Adeka | 重合性化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子 |
JP5701576B2 (ja) | 2009-11-20 | 2015-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子 |
JP4818458B2 (ja) | 2009-11-27 | 2011-11-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
KR101594191B1 (ko) * | 2010-01-11 | 2016-02-15 | 동우 화인켐 주식회사 | 저굴절층 형성용 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치 |
JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
JP2011158655A (ja) | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Fujifilm Corp | 重合性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子 |
KR20110098638A (ko) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 경화성 조성물, 컬러필터와 그 제조방법, 고체촬상소자 및 액정표시장치 |
JP5791874B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
JP5638285B2 (ja) | 2010-05-31 | 2014-12-10 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子 |
US8152863B2 (en) | 2010-06-01 | 2012-04-10 | Fujifilm Corporation | Pigment dispersion composition, red colored composition, colored curable composition, color filter for a solid state imaging device and method for producing the same, and solid state imaging device |
JP5778038B2 (ja) | 2010-06-28 | 2015-09-16 | 株式会社Adeka | 硬化性樹脂組成物 |
JP5622564B2 (ja) | 2010-06-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 |
JP5544239B2 (ja) | 2010-07-29 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物 |
JP5680353B2 (ja) | 2010-08-24 | 2015-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 水性インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物 |
CN101923287B (zh) * | 2010-08-31 | 2011-11-30 | 常州强力电子新材料有限公司 | 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
JP2012052066A (ja) | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Fujifilm Corp | 活性エネルギー線硬化型インク組成物、インクジェット記録方法及びインクジェット印画物 |
IT1402691B1 (it) * | 2010-11-10 | 2013-09-13 | Lamberti Spa | Tioxantoni a bassa migrabilita' |
EP2472330B1 (de) | 2010-12-28 | 2017-01-25 | Fujifilm Corporation | Schwarze strahlungsempfindliche Zusammensetzung, schwarzer gehärteter Film, Festkörperabbildungselement und Verfahren zum Herstellen eines schwarzen gehärteten Films |
JP5634888B2 (ja) | 2011-01-12 | 2014-12-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
JP5398760B2 (ja) | 2011-02-23 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
JP5611870B2 (ja) | 2011-03-15 | 2014-10-22 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
KR101930099B1 (ko) * | 2011-03-25 | 2018-12-17 | 가부시키가이샤 아데카 | 옥심에스테르 화합물 및 그 화합물을 함유하는 광중합 개시제 |
JP5591770B2 (ja) | 2011-08-15 | 2014-09-17 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
CN103608704B (zh) | 2011-09-14 | 2016-03-16 | 富士胶片株式会社 | 着色放射线敏感性组合物、图案形成方法、彩色滤光片及其制备方法以及固态图像传感器 |
WO2013069789A1 (ja) * | 2011-11-11 | 2013-05-16 | 旭硝子株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、隔壁、ブラックマトリックス及び光学素子 |
JP5922013B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP5976523B2 (ja) | 2011-12-28 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
JPWO2013115195A1 (ja) | 2012-01-31 | 2015-05-11 | 旭硝子株式会社 | 化合物、重合体、硬化性組成物、塗布用組成物、ならびに硬化膜を有する物品、親液性領域と撥液性領域とのパターンを有する物品およびその製造方法 |
CN102633603B (zh) * | 2012-03-06 | 2014-06-04 | 无锡济民可信山禾药业股份有限公司 | 一种高纯度左旋龙脑的制备方法 |
JP5934664B2 (ja) | 2012-03-19 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
JP5775479B2 (ja) | 2012-03-21 | 2015-09-09 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
KR101968462B1 (ko) * | 2012-05-09 | 2019-04-11 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
CN104519863A (zh) | 2012-06-04 | 2015-04-15 | 欧莱雅 | 用于采用uv-led对可自由基聚合的树脂进行光固化而产生无粘性表面的快速固化化妆品组合物 |
JP2014040529A (ja) | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Fujifilm Corp | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
JP5894943B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-03-30 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子 |
JP5934682B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法 |
JP5909468B2 (ja) | 2012-08-31 | 2016-04-26 | 富士フイルム株式会社 | 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子 |
WO2014084289A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
EP2927716A4 (de) | 2012-11-30 | 2015-12-30 | Fujifilm Corp | Härtbare harzzusammensetzung und bildsensorchpherstellungsverfahren und bildsensorchip damit |
JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
JP6140604B2 (ja) | 2012-12-28 | 2017-05-31 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線反射膜形成用の硬化性樹脂組成物、赤外線反射膜及びその製造方法、並びに赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2014104137A1 (ja) | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子 |
JP6061697B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2017-01-18 | 株式会社日本化学工業所 | 新規な光重合開始剤及びその使用方法 |
JP6095408B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-03-15 | 株式会社日本化学工業所 | 新規な光重合開始剤及びこれらを用いた感光性樹脂組成物 |
KR101852509B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2018-04-26 | 동우 화인켐 주식회사 | 착색 감광성 수지 조성물 |
JP6097128B2 (ja) | 2013-04-12 | 2017-03-15 | 富士フイルム株式会社 | 遠赤外線遮光層形成用組成物 |
JP2015038979A (ja) * | 2013-07-18 | 2015-02-26 | 富士フイルム株式会社 | イメージセンサー及びその製造方法 |
JP6162084B2 (ja) | 2013-09-06 | 2017-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
US9957258B2 (en) | 2013-09-10 | 2018-05-01 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
CN103833872B (zh) | 2014-03-18 | 2016-04-06 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 一种双肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
US9994754B2 (en) | 2014-03-27 | 2018-06-12 | 3M Innovative Properties Company | Filled polydiorganosiloxane-containing compositions, and methods of using same |
KR102369426B1 (ko) | 2014-04-04 | 2022-03-03 | 가부시키가이샤 아데카 | 옥심에스테르 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 광중합 개시제 |
JP6398364B2 (ja) * | 2014-06-20 | 2018-10-03 | 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 | 感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 |
CN104098720B (zh) * | 2014-07-15 | 2017-01-11 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 含杂环硫醚基团的肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
KR101525460B1 (ko) * | 2014-08-25 | 2015-06-04 | 애경화학 주식회사 | 신규한 구조를 갖는 옥심에스테르 광개시제 및 이를 포함하는 반응성 액정 조성물 및 감광성 조성물 |
JP6530902B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2019-06-12 | 株式会社Adeka | 新規重合開始剤及び該重合開始剤を含有するラジカル重合性組成物 |
JP6464764B2 (ja) * | 2015-01-16 | 2019-02-06 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、スペーサー、その形成方法及び液晶表示素子 |
KR101824429B1 (ko) * | 2015-01-26 | 2018-02-06 | 주식회사 삼양사 | 신규한 디옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
CN106278966B (zh) * | 2015-06-03 | 2019-11-05 | 江苏和成新材料有限公司 | 肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
CN106278967B (zh) * | 2015-06-03 | 2020-08-07 | 江苏和成新材料有限公司 | 用于uv固化材料的酰基肟酯类化合物及其合成方法及应用 |
EP3147335A1 (de) | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Farbmittelzusammensetzungen mit netz- und/oder dispergiermittel mit geringer aminzahl |
CN107635960B (zh) | 2015-09-25 | 2022-02-01 | 株式会社艾迪科 | 肟酯化合物及含有该化合物的聚合引发剂 |
TWI634135B (zh) | 2015-12-25 | 2018-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件 |
CN105523975A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-04-27 | 天津英吉诺科技有限公司 | 一种酮肟酯类光引发剂的绿色合成方法 |
JP6721670B2 (ja) | 2016-03-14 | 2020-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、硬化膜、光学センサおよび膜の製造方法 |
WO2017183428A1 (ja) | 2016-04-21 | 2017-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー |
TWI830588B (zh) | 2016-08-01 | 2024-01-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、硬化膜的製造方法、積層體的製造方法及半導體元件 |
KR102667025B1 (ko) * | 2016-08-22 | 2024-05-17 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물 및 경화 릴리프 패턴의 제조 방법 |
TW201821280A (zh) | 2016-09-30 | 2018-06-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 積層體以及半導體元件的製造方法 |
WO2018084076A1 (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム |
WO2018146958A1 (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー |
CN110366567A (zh) | 2017-02-28 | 2019-10-22 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 |
CN110382558B (zh) | 2017-02-28 | 2024-09-13 | 富士胶片株式会社 | 固化性组合物、平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及化合物 |
JP7088004B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2022-06-21 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物フィルム、絶縁膜および電子部品 |
CN106986855A (zh) * | 2017-04-05 | 2017-07-28 | 同济大学 | 新型杂环肟酯类光引发剂及其制备方法和应用 |
WO2018198559A1 (ja) | 2017-04-28 | 2018-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示機能付き防眩ミラー |
EP3633455A4 (de) | 2017-05-31 | 2020-06-17 | FUJIFILM Corporation | Lichtempfindliche harzzusammensetzung, polymervorläufer, gehärteter film, laminat, herstellungsverfahren für gehärteten film und halbleiterbauelement |
BR112019025345B1 (pt) | 2017-06-02 | 2022-09-27 | Covestro (Netherlands) B.V. | Fibra óptica revestida, composição curável por radiação para revestir uma fibra óptica, método para produzir uma fibra óptica revestida e cabo de fibra óptica |
CN114236845B (zh) | 2017-09-07 | 2024-11-05 | 富士胶片株式会社 | 投影图像显示用夹层玻璃及图像显示系统 |
WO2019054281A1 (ja) | 2017-09-15 | 2019-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
JP7003527B2 (ja) * | 2017-09-25 | 2022-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット組成物セット及びインクジェット記録方法 |
CN111315701B (zh) | 2017-11-03 | 2022-10-14 | 科思创(荷兰)有限公司 | 包含用液体可辐射固化超吸收性聚合物组合物涂布的纤维的阻水体系 |
US20200347171A1 (en) | 2017-11-15 | 2020-11-05 | Byk-Chemie Gmbh | Block co-polymer |
KR102407377B1 (ko) | 2017-11-15 | 2022-06-13 | 비와이케이-케미 게엠베하 | 블록 공중합체 |
WO2019163969A1 (ja) | 2018-02-23 | 2019-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム |
WO2019176409A1 (ja) | 2018-03-13 | 2019-09-19 | 富士フイルム株式会社 | 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法 |
JPWO2019193647A1 (ja) * | 2018-04-03 | 2021-04-30 | Hdマイクロシステムズ株式会社 | ポリイミド前駆体の製造方法、感光性樹脂組成物の製造方法、パターン硬化物の製造方法、層間絶縁膜、カバーコート層又は表面保護膜の製造方法、及び電子部品の製造方法 |
CN110437107B (zh) * | 2018-05-03 | 2022-11-08 | 江苏裕事达新材料科技有限责任公司 | 一种丙烯酮肟酯化合物、制备方法、及组合物 |
CN116239949B (zh) | 2018-06-01 | 2024-07-05 | 科思创(荷兰)有限公司 | 用于涂覆光纤的辐射可固化组合物及由其生产的涂层 |
US11555081B2 (en) | 2018-09-07 | 2023-01-17 | Igm Resins Italia S.R.L. | Multifunctional bisacylphosphine oxide photoinitiators |
EP3848627A4 (de) | 2018-09-07 | 2021-10-27 | FUJIFILM Corporation | Fahrzeugscheinwerfereinheit, lichtabschirmende folie für scheinwerfer und verfahren zur herstellung einer lichtabschirmenden folie für scheinwerfer |
EP3854821A4 (de) | 2018-09-20 | 2021-11-17 | FUJIFILM Corporation | Härtbare zusammensetzung, gehärteter film, infrarottransmissionsfilter, laminat, festkörperabbildungselement, sensor und verfahren zur herstellung von mustern |
KR102571972B1 (ko) | 2018-09-28 | 2023-08-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감광성 수지 조성물, 경화막, 적층체, 경화막의 제조 방법, 및 반도체 디바이스 |
WO2020080355A1 (ja) | 2018-10-17 | 2020-04-23 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
CN113165971A (zh) | 2018-12-03 | 2021-07-23 | Ms控股有限公司 | 用于涂布光纤的填充式可辐射固化组合物以及由其产生的涂层 |
WO2020116238A1 (ja) | 2018-12-05 | 2020-06-11 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、及び、デバイス |
CN113383273B (zh) | 2018-12-05 | 2023-11-14 | 富士胶片株式会社 | 感光性树脂组合物、图案形成方法、固化膜、层叠体及器件 |
WO2020122023A1 (ja) | 2018-12-10 | 2020-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
CN113518805B (zh) | 2018-12-28 | 2023-08-08 | 意大利艾坚蒙树脂有限公司 | 光引发剂 |
CN113498487B (zh) | 2019-03-06 | 2023-07-04 | 富士胶片株式会社 | 投影图像显示用层叠膜、投影图像显示用的夹层玻璃及图像显示系统 |
EP3940018A4 (de) | 2019-03-15 | 2022-05-18 | FUJIFILM Corporation | Härtbare harzzusammensetzung, gehärteter film, schichtkörper, verfahren zur herstellung von gehärtetem film und polymervorläufer |
EP3950753A4 (de) | 2019-03-29 | 2022-05-25 | FUJIFILM Corporation | Lichtempfindliche harzzusammensetzung, gehärteter film, induktor und antenne |
WO2020239563A1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
EP3976544A1 (de) | 2019-05-24 | 2022-04-06 | Covestro (Netherlands) B.V. | Strahlenhärtbare zusammensetzungen zur beschichtung von optischen fasern mit verbesserter hochgeschwindigkeitsverarbeitbarkeit |
KR102652548B1 (ko) | 2019-06-27 | 2024-03-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 막 및 광 센서 |
WO2021021971A1 (en) | 2019-07-31 | 2021-02-04 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable compositions with multi-functional long-armed oligomers for coating optical fibers |
JP7237166B2 (ja) | 2019-08-29 | 2023-03-10 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 |
WO2021039253A1 (ja) | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、赤外線センサ、並びに、センサモジュール |
TWI851818B (zh) | 2019-09-26 | 2024-08-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法 |
CN114450635A (zh) | 2019-09-27 | 2022-05-06 | 阿尔塔纳股份公司 | 用于制备彩色滤光片的组合物 |
WO2021060402A1 (ja) | 2019-09-27 | 2021-04-01 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター |
WO2021070152A1 (en) | 2019-10-11 | 2021-04-15 | Igm Resins Italia S.R.L. | Coumarin glyoxylates for led photocuring |
TWI859361B (zh) | 2019-11-21 | 2024-10-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 圖案形成方法、光硬化性樹脂組成物、積層體的製造方法及電子元件的製造方法 |
EP4083142A4 (de) | 2019-12-25 | 2023-02-08 | FUJIFILM Corporation | Harzzusammensetzung, gehärtetes produkt, uv-absorber, uv-schnittfilter, linse, schutzmaterial, verbindung und verfahren zur synthetisierung einer verbindung |
JP7701147B2 (ja) | 2019-12-26 | 2025-07-01 | 住友化学株式会社 | 表示装置 |
JP7470780B2 (ja) | 2020-03-30 | 2024-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜及び光センサ |
JP7454649B2 (ja) | 2020-03-30 | 2024-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム |
JP2021161394A (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
JP2021161392A (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
JP2021161393A (ja) | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
EP4127794A1 (de) | 2020-04-03 | 2023-02-08 | Covestro (Netherlands) B.V. | Selbstheilende optische fasern und zusammensetzungen zu ihrer herstellung |
WO2021202635A1 (en) | 2020-04-03 | 2021-10-07 | Dsm Ip Assets B.V. | Self-healing oligomers and the use thereof |
WO2021202638A1 (en) | 2020-04-03 | 2021-10-07 | Dsm Ip Assets B.V. | Multi-layered optical devices |
JP7449765B2 (ja) | 2020-04-10 | 2024-03-14 | 株式会社Dnpファインケミカル | 感光性着色樹脂組成物、硬化物、カラーフィルタ、表示装置 |
WO2021246402A1 (ja) | 2020-06-03 | 2021-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス |
CN115777077A (zh) | 2020-06-30 | 2023-03-10 | 科思创(荷兰)有限公司 | 光纤涂料的粘度指数改进剂 |
KR20230021725A (ko) | 2020-08-21 | 2023-02-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 조성물, 중합체, 자외선 차폐 재료, 적층체, 화합물, 자외선 흡수제 및 화합물의 제조 방법 |
JP2022041901A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 積層体及び表示装置 |
JP2022041899A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜及び表示装置 |
JP2022041900A (ja) | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 住友化学株式会社 | 積層体及び表示装置 |
EP4216242A4 (de) | 2020-09-18 | 2024-05-22 | FUJIFILM Corporation | Zusammensetzung, magnetpartikelhaltiger film und elektronische komponente |
JPWO2022065183A1 (de) | 2020-09-24 | 2022-03-31 | ||
WO2022065006A1 (ja) | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 積層体の製造方法、アンテナインパッケージの製造方法、積層体及び組成物 |
IT202000023815A1 (it) | 2020-10-09 | 2022-04-09 | Igm Resins Italia Srl | Ketoquinolones as photonitiators |
EP4261575A4 (de) | 2020-12-09 | 2024-06-19 | FUJIFILM Corporation | Reflexionsfolie, windschutzscheibenglas und head-up-anzeigesystem |
EP4266094A4 (de) | 2020-12-16 | 2024-08-28 | FUJIFILM Corporation | Zusammensetzung, membran, optischer filter, festkörperbildaufnahmeelement, bildanzeigevorrichtung und infrarotstrahlsensor |
KR20230121723A (ko) | 2020-12-17 | 2023-08-21 | 가부시키가이샤 아데카 | 화합물 및 조성물 |
WO2022130773A1 (ja) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
CN116888221A (zh) | 2021-02-22 | 2023-10-13 | 科思创(荷兰)有限公司 | 提供低光泽涂层的方法 |
TW202244147A (zh) | 2021-03-19 | 2022-11-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 膜及光感測器 |
TW202248755A (zh) | 2021-03-22 | 2022-12-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 負型感光性樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法以及半導體元件 |
JPWO2022202394A1 (de) | 2021-03-22 | 2022-09-29 | ||
EP4318057A4 (de) | 2021-03-29 | 2024-11-06 | FUJIFILM Corporation | Schwarze lichtempfindliche zusammensetzung, herstellungsverfahren für schwarze lichtempfindliche zusammensetzung, gehärteter film, farbfilter, lichtabschirmender film, optisches element, festkörperbildaufnahmeelement und scheinwerfereinheit |
KR20240004521A (ko) | 2021-04-28 | 2024-01-11 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 경화막 및 표시 장치 |
WO2022230327A1 (ja) | 2021-04-28 | 2022-11-03 | 住友化学株式会社 | 硬化膜及び表示装置 |
IT202100014885A1 (it) | 2021-06-08 | 2022-12-08 | Igm Resins Italia Srl | Fotoiniziatori a base di silicio bifunzionali |
US20240352203A1 (en) | 2021-07-20 | 2024-10-24 | Adeka Corporation | Film-forming material for semiconductor, member-forming material for semiconductor, process member-forming material for semiconductor, underlayer film-forming material, underlayer film, and semiconductor device |
KR102627683B1 (ko) | 2021-08-31 | 2024-01-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화물의 제조 방법, 적층체의 제조 방법, 및, 반도체 디바이스의 제조 방법, 및, 처리액 |
EP4410855A4 (de) | 2021-09-29 | 2024-12-18 | FUJIFILM Corporation | Zusammensetzung, harz, film und optischer sensor |
JPWO2023054565A1 (de) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | ||
WO2023054324A1 (ja) | 2021-09-30 | 2023-04-06 | 富士フイルム株式会社 | ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機 |
IT202100025868A1 (it) | 2021-10-08 | 2023-04-08 | Igm Resins Italia Srl | Nuovi fotoiniziatori |
EP4423155A1 (de) | 2021-10-29 | 2024-09-04 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radikalisch härtbare zusammensetzung |
EP4428599A4 (de) | 2021-11-05 | 2025-03-05 | FUJIFILM Corporation | Virtuelle bildanzeigevorrichtung, head-up-anzeigesystem und transportmaschine |
EP4456133A1 (de) | 2021-12-23 | 2024-10-30 | FUJIFILM Corporation | Verbundkörperherstellungsverfahren, verbundkörper, laminatherstellungsverfahren, laminat, vorrichtungsherstellungsverfahren, vorrichtung und zusammensetzung zur bildung eines polyimidhaltigen vorläuferteils |
CN114522732B (zh) * | 2022-01-07 | 2024-03-08 | 中南大学 | 一种可以作为手性构建单元的手性钛氧簇的制备及其应用 |
EP4485074A1 (de) | 2022-02-24 | 2025-01-01 | FUJIFILM Corporation | Harzzusammensetzung, gehärteter artikel, laminat, verfahren zur herstellung des gehärteten artikels, verfahren zur herstellung des laminats und halbleiterbauelement |
CN119072499A (zh) | 2022-02-24 | 2024-12-03 | 意大利艾坚蒙树脂有限公司 | 光引发剂 |
CN119013330A (zh) | 2022-03-29 | 2024-11-22 | 富士胶片株式会社 | 树脂组合物、固化物、层叠体、固化物的制造方法、层叠体的制造方法、半导体器件的制造方法及半导体器件 |
JP2023152724A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
JP2023152725A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
JP2023152726A (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-17 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
EP4509887A1 (de) | 2022-04-15 | 2025-02-19 | FUJIFILM Corporation | Reflektierende folie, mehrschichtkörper, windschutzscheibenglas und bildanzeigesystem |
JP2025513271A (ja) | 2022-04-21 | 2025-04-24 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 光ファイバを被覆するための放射線硬化性組成物 |
EP4273200A1 (de) | 2022-05-06 | 2023-11-08 | IGM Group B.V. | Photoinitiatorpaket mit speziellen bisacylphosphinoxid-photoinitiatoren und optischen aufheller-sensibilisatoren |
WO2023227683A1 (en) | 2022-05-25 | 2023-11-30 | Covestro (Netherlands) B.V. | Process for providing low gloss coatings |
JPWO2023234096A1 (de) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | ||
WO2023234094A1 (ja) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | 富士フイルム株式会社 | 光検出素子、イメージセンサおよび光検出素子の製造方法 |
JPWO2023234095A1 (de) | 2022-06-01 | 2023-12-07 | ||
JP2024013852A (ja) | 2022-07-21 | 2024-02-01 | 住友化学株式会社 | 組成物、膜及び表示装置 |
EP4577611A1 (de) | 2022-08-24 | 2025-07-02 | Covestro (Netherlands) B.V. | Verfahren zur bereitstellung von beschichtungen mit geringem glanz |
TW202424051A (zh) | 2022-09-30 | 2024-06-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 樹脂組成物、硬化物、積層體、硬化物的製造方法、積層體的製造方法、半導體元件的製造方法及半導體元件 |
CN119998728A (zh) | 2022-09-30 | 2025-05-13 | 富士胶片株式会社 | 膜的制造方法、感光性树脂组合物、固化物的制造方法,固化物及层叠体 |
WO2024071237A1 (ja) | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、硬化物、積層体、硬化物の製造方法、積層体の製造方法、半導体デバイスの製造方法、及び、半導体デバイス |
CN120187765A (zh) | 2022-10-05 | 2025-06-20 | 意大利艾坚蒙树脂有限公司 | 聚合物型(甲基)丙烯酸酯光引发剂 |
CN120019045A (zh) | 2022-10-26 | 2025-05-16 | 株式会社艾迪科 | 化合物、组合物、固化物、固化物的制造方法及电子部件的制造方法 |
WO2024129632A1 (en) | 2022-12-15 | 2024-06-20 | Covestro Llc | Process for producing low gloss coating surface by radiation curing |
IT202300004737A1 (it) | 2023-03-14 | 2024-09-14 | Igm Resins Italia Srl | Uso di fotoiniziatori specifici in un processo di fotopolimerizzazione utilizzando lunghezze d’onda combinate di luce a led |
WO2025011754A1 (en) | 2023-07-10 | 2025-01-16 | Basf Se | Photocurable as well as thermally curable compositions suitable for low temperature curing |
WO2025027517A1 (en) | 2023-08-03 | 2025-02-06 | Igm Resins Italia S.R.L. | 10,11 -dihydro-5h-dibenzo[b,f]azepine derivatives as photoinitiatiors in photopolymerisation for use in photocurable compositions |
EP4534614A1 (de) | 2023-10-02 | 2025-04-09 | IGM Group B.V. | Photoinitiator-verpackung enthaltend spezielle bisacylphosphinoxid-photoinitiatoren, weitere acylphosphinoxid-photoinitiatoren und aufhellersensibilisatoren |
WO2025140854A2 (en) | 2023-12-28 | 2025-07-03 | Igm Resins Italia S.R.L. | NOVEL SOLID FORM OF BIS(2,4,6-TRIMETHYLBENZOYL)-n-OCTYL-PHOSPHINE OXIDE |
EP4579344A1 (de) | 2023-12-29 | 2025-07-02 | IGM Group B.V. | Thioalkylcoumarin photosensibilisatoren zur photopolymerisation |
EP4578918A1 (de) | 2023-12-29 | 2025-07-02 | IGM Group B.V. | Photosensibilisatoren für die photopolymerisation |
US20250215139A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-03 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
US12187852B1 (en) | 2024-01-02 | 2025-01-07 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated oligomers, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
WO2025147343A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-10 | Covestro Llc | Ethylenically unsaturated compounds, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
WO2025147337A1 (en) | 2024-01-02 | 2025-07-10 | Covestro Llc | Polysilanes, methods for their preparation, and the use thereof in coating compositions |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1180846A (en) * | 1967-08-08 | 1970-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds |
FR2393345A1 (fr) * | 1977-06-01 | 1978-12-29 | Agfa Gevaert Nv | Fabrication d'elements modifies sous forme d'images |
GB2029423A (en) | 1978-08-25 | 1980-03-19 | Agfa Gevaert Nv | Photo-polymerisable materials and recording method |
CH636601A5 (en) * | 1978-08-30 | 1983-06-15 | Ciba Geigy Ag | Diphenyl ether oxime ethers and diphenyl ether oxime esters with a selective herbicidal action |
US4416686A (en) * | 1978-08-31 | 1983-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | 3,4-Dichlorophenylacetonitrile-N-tert.butylcarbamoyloxy ether for the protection of crops against injury by herbicides |
AT365410B (de) * | 1978-08-31 | 1982-01-11 | Ciba Geigy Ag | Mittel zum schutz von kulturpflanzen vor aggressi-ven herbiziden |
US4347372A (en) * | 1978-09-01 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | Benzoxazolyl-glyoxylonitrile-2-oxime ether derivatives |
JPS59216141A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-06 | Daicel Chem Ind Ltd | 感光性積層体 |
US4590145A (en) * | 1985-06-28 | 1986-05-20 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Photopolymerization initiator comprised of thioxanthones and oxime esters |
JPS62184056A (ja) * | 1986-02-10 | 1987-08-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH0755925B2 (ja) * | 1986-02-28 | 1995-06-14 | 旭化成工業株式会社 | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 |
JP2505746B2 (ja) * | 1986-05-20 | 1996-06-12 | 旭化成工業株式会社 | 感光性組成物 |
JPS62286961A (ja) * | 1986-06-05 | 1987-12-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新規なオキシムエステル化合物及びその製造方法 |
US5019482A (en) * | 1987-08-12 | 1991-05-28 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Polymer/oxime ester/coumarin compound photosensitive composition |
JP2640470B2 (ja) * | 1987-08-19 | 1997-08-13 | 旭化成工業株式会社 | 新しい感光性組成物 |
JPS6443562A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-15 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive composition |
US4934791A (en) | 1987-12-09 | 1990-06-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color filter |
JPH05323608A (ja) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
JPH06201859A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Casio Comput Co Ltd | フィルム液晶表示装置及びフィルム液晶表示機器 |
KR0147207B1 (ko) * | 1993-07-28 | 1998-08-17 | 단노 다께시 | 광개시제 조성물 및 그를 사용한 감광성 물질 |
JP3425311B2 (ja) * | 1996-03-04 | 2003-07-14 | 株式会社東芝 | ネガ型感光性ポリマー樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、および電子部品 |
JPH10171119A (ja) | 1996-12-11 | 1998-06-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性樹脂組成物、およびこれを用いた色フィルタの製造方法 |
MY121423A (en) * | 1998-06-26 | 2006-01-28 | Ciba Sc Holding Ag | Photopolymerizable thermosetting resin compositions |
NL1016815C2 (nl) * | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
-
1999
- 1999-05-27 SG SG1999002594A patent/SG77689A1/en unknown
- 1999-06-02 MY MYPI99002207A patent/MY133220A/en unknown
- 1999-06-03 NL NL1012222A patent/NL1012222C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1999-06-04 TW TW088109264A patent/TW457268B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-06-15 GB GB9913756A patent/GB2339571B/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-16 AT AT0106399A patent/AT410547B/de not_active IP Right Cessation
- 1999-06-21 FI FI991407A patent/FI991407A7/fi not_active Application Discontinuation
- 1999-06-21 CH CH01154/99A patent/CH694095A5/de not_active IP Right Cessation
- 1999-06-21 BE BE9900431A patent/BE1012721A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1999-06-22 SE SE9902078A patent/SE521582C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1999-06-22 JP JP17486699A patent/JP4454067B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 DE DE19928742A patent/DE19928742B4/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-23 AU AU35844/99A patent/AU760212B2/en not_active Ceased
- 1999-06-23 US US09/338,152 patent/US6596445B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-24 CZ CZ0231799A patent/CZ298405B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-06-24 ES ES009901409A patent/ES2170605B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-24 FR FR9908070A patent/FR2781794B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-24 DK DK199900904A patent/DK199900904A/da not_active Application Discontinuation
- 1999-06-25 KR KR1019990024286A patent/KR100663044B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-25 CA CA002276588A patent/CA2276588C/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-25 IT IT1999MI001423A patent/IT1312120B1/it active
- 1999-06-25 CN CNB991085981A patent/CN1178902C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-28 BR BR9903285-6A patent/BR9903285A/pt not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-10-02 BE BE2000/0621A patent/BE1014009A5/fr not_active IP Right Cessation
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6806024B1 (en) | 1999-03-03 | 2004-10-19 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
WO2000052530A1 (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-08 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime derivatives and the use thereof as photoinitiators |
AT500127A1 (de) * | 1999-12-15 | 2005-10-15 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-photostarter |
WO2002100903A1 (en) * | 2001-06-11 | 2002-12-19 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Oxime ester photoinitiators having a combined structure |
US7189489B2 (en) | 2001-06-11 | 2007-03-13 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Oxime ester photoiniators having a combined structure |
KR100801457B1 (ko) * | 2001-06-11 | 2008-02-11 | 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. | 결합된 구조를 가지는 옥심 에스테르 광개시제 |
US7329401B2 (en) | 2002-04-15 | 2008-02-12 | The Regents Of The University Of California | Cyclooxygenase-2 selective agents useful as imaging probes and related methods |
WO2004104051A1 (en) * | 2003-05-26 | 2004-12-02 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Bimolecular photoinitiator systems |
US7449574B2 (en) | 2005-11-07 | 2008-11-11 | Lg Chem, Ltd. | Triazine based photoactive compound containing oxime ester |
US7556910B2 (en) | 2005-12-01 | 2009-07-07 | LF Chem, Ltd. | Photosensitive composition comprising triazine-based photoactive compound containing oxime ester |
WO2008078686A1 (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Adeka Corporation | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
EP2128132A4 (de) * | 2006-12-27 | 2012-04-25 | Adeka Corp | Oximesterverbindung und fotopolymerisationsinitiator mit der verbindung |
WO2009011538A2 (en) | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Lg Chem, Ltd. | Dendritic photoactive compound comprising oxime ester and method for preparing the same |
US8198462B2 (en) | 2007-07-18 | 2012-06-12 | Lg Chem, Ltd. | Dendritic photoactive compound comprising oxime ester and method for preparing the same |
WO2011069947A1 (en) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Agfa-Gevaert | Photoinitiators for uv-led curable compositions and inks |
US8569393B2 (en) | 2009-12-07 | 2013-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | UV-LED curable compositions and inks |
US8957224B2 (en) | 2009-12-07 | 2015-02-17 | Agfa Graphics Nv | Photoinitiators for UV-LED curable compositions and inks |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
AT410547B (de) | Neue o-acyloxim-photostarter | |
DE602005003960T2 (de) | Oximester-Photoinitiatoren | |
DE60028738T2 (de) | Oximderivate und ihre verwendung als photoinitiatoren | |
AT410146B (de) | Lichtempfindliche harzzusammensetzung | |
AT404729B (de) | Alkylphenylbisacylphosphinoxide und photoinitiatormischungen | |
JP3860170B2 (ja) | 組み合わされた構造を有するオキシムエステルの光開始剤 | |
JP5312743B2 (ja) | オキシム化合物及びそれを含む感光性組成物 | |
JP5289649B2 (ja) | オキシムエステルの光開始剤 | |
DE60032131T2 (de) | Neue photoinitiatoren und deren anwendungen | |
CH692422A5 (de) | Alpha-Aminoacetophenon-Photostarter. | |
KR20160053927A (ko) | 옥심 에스테르 광개시제 | |
JP2004536352A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4874659B2 (ja) | アニリン化合物及びその製造方法、並びに、感光性組成物 | |
DE69917261T2 (de) | Photoinitiatoren und ihre Verwendungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: PFENNING MEINIG & PARTNER GBR, 80339 MUENCHEN |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: CIBA HOLDING INC., BASEL, CH |
|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: MAIWALD PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH, 80335 MUENC |
|
R082 | Change of representative | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNER: CIBA HOLDING INC., BASEL, CH Effective date: 20131120 |
|
R071 | Expiry of right |