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CN110554585B - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 Download PDF

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CN110554585B CN201910467065.XA CN201910467065A CN110554585B CN 110554585 B CN110554585 B CN 110554585B CN 201910467065 A CN201910467065 A CN 201910467065A CN 110554585 B CN110554585 B CN 110554585B
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Abstract

本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括支承体和表面层，其中表面层包含组合物的共聚物，该组合物至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，并且由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件，具有该电子照相感光构件的处理盒，和具有该电子照相感光构件的电子照相设备。
背景技术
为了改进图像品质和耐久性，已经对安装至电子照相设备的电子照相感光构件进行了各种研究。作为实例，存在通过对于电子照相感光构件(以下，也称为感光构件)的表面层使用自由基聚合性树脂来改进耐磨耗性(机械耐久性)的研究。尽管此类表面层具有高耐磨耗性，但是可能由于如外部添加剂和纸粉等异物而引起深划痕和图像缺陷。为了抑制深划痕的发生，日本专利申请特开No.2015-225132公开了使用具有一个甲基丙烯酰氧基的三芳基胺化合物。日本专利申请特开No.2010-170077还公开了使用具有四个以上甲基丙烯酰氧基的三芳基胺化合物。
发明内容
上述目的通过下述本发明来实现。即，根据本发明的电子照相感光构件为包括支承体和表面层的电子照相感光构件，其中表面层包含至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物，在该组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，并且由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上：
在通式(1)中，a和b为0或1，p为2以上且5以下的整数，
在通式(2)中，e为0或1，q为2以上且5以下的整数，
然而，a、b和e中的至少之一为1。
另外，根据本发明的处理盒一体化地支承上述电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且该处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
另外，根据本发明的电子照相设备包括上述电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
参照附图，从以下示例性实施方案的描述，本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1为示出具有设置有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的实例的图。
具体实施方式
根据本发明人的研究，已经发现，日本专利申请特开No.2015-225132中公开的构造由于在低温低湿环境下重复使用而会引起深划痕。认为原因在于，围绕感光构件的纸、纸粉，和在一些情况下，清洁刮板和充电辊等由于温度下降而变硬并且容易推入感光构件中，从而容易引起深划痕。
另外，日本专利申请特开No.2010-170077中公开的构造在低温低湿环境下重复使用时不具有充分的耐磨耗性。认为这是因为在低温低湿环境下，具有四个以上甲基丙烯酰氧基的三芳基胺化合物的振动被抑制，并且外部应力不能作为热而耗散并且达到如刮擦等现象。
因此，本发明的目的是提供一种电子照相感光构件，其在低温低湿环境下重复使用时具有高耐磨耗性并且抑制深划痕的发生。
以下，将参照优选实施方案详细描述本发明。
本发明人考虑是否存在通过关注构成电子照相感光构件的表面层的材料的组合以选择适当的材料而赋予表面层高耐磨耗性并且进一步抑制深划痕发生的方法。
本发明人关注到构成表面层的膜的密度，作为控制深划痕的发生的抑制和耐磨耗性的提高的因素。本发明人认为，因为通过提高膜的密度使得聚合物的网络致密，因此外部摩擦应力作为热而耗散而不是外部摩擦应力作为如磨耗等破坏性能量来发散的可能性提高。另外，本发明人认为，由于通过使网络致密而官能团均匀存在并且表面自由能的不均匀性可以降低，因而异物的附着可以得到抑制并且深划痕的发生可以得到抑制。
根据本发明的一方面的电子照相感光构件的构造如下。该电子照相感光构件具有支承体和表面层，其中表面层包含组合物的共聚物，该组合物至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物，
在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，和
由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上。
在通式(1)中，a和b为0或1，p为2以上且5以下的整数。
在通式(2)中，e为0或1，q为2以上且5以下的整数。
然而，a、b和e中至少之一为1。
将由通式(1)和通式(2)表示的化合物组合对于抑制深划痕的发生和改进耐磨耗性是有效的。
进一步优选的是，a、b和e为a＝b＝1，因此，e＝0；或a＝b＝0，因此，e＝1。原因在于，认为膜的密度将提高。
关于由通式(1)和通式(2)表示的化合物，以下示出具体的示例性化合物。
通式(1)的示例性化合物
通式(2)的示例性化合物
更优选的是，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为30质量％以上且60质量％以下。
另外，更优选的是，由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为70质量％以上。
本发明人推测能够通过此类组合物解决上述技术问题的机理如下。
通过使用具有小分子量的三芳基胺化合物作为膜的基本骨架可以增加膜的密度。因此，使用具有小分子量的三芳基胺化合物生产具有高密度的膜，并且评价耐磨耗性。
将表1中示出的三芳基胺化合物和聚碳酸酯树脂以三芳基胺化合物/聚碳酸酯树脂＝7/10的质量比溶解在氯苯中。然后，通过借助棒涂机涂布铝板使得膜厚度设定为20μm并且将铝板在120℃下干燥60分钟来形成膜。其后，用旋转式泰伯耐磨耗试验机(rotaryTaber's abrasion resistance tester)(由Yasuda Seiki Seisakusho,Ltd.制造)来测量磨耗量。在测量时，作为磨损环，使用具有缠绕膜(商品名：C2000，由Fuji FilmCorporation制造)的两个磨损环(商品名：CS-0，由Taber Instruments Corporation制造)，并且向两个磨损环各自施加4.9N(500g)的负荷。测量各试样的旋转磨耗前后的重量损失，将其取作泰伯磨耗量。
这意味着，当表1所示的磨耗量的值小时，难以磨损，并且使用由No.1所示的三芳基胺化合物的膜不具有充分的耐磨耗性。此外，已知的是，使用由No.2所示的三芳基胺化合物的膜难以磨损。然而，由于氧化电位高，使得与相邻层的电荷交换不充分；和由于在电荷积累时发生问题，使得该膜作为构成表面层的结构不是最佳的。接下来，提及由No.3和No.4所示的三芳基胺化合物作为形成难以磨损的膜的结构，并且已知的是，氧化电位的值也没有问题。
尽管表1中的化合物没有聚合，如由No.3和No.4所示，但是就改进耐磨耗性而言，对于化合物优选的是具有至少一个3,4-二甲苯基。推测可以热耗散的部分的数量随着化合物具有两个甲基而增加。
另外，认为通过将由通式(1)表示的具有一个聚合性官能团的化合物与由通式(2)表示的具有两个聚合性官能团的化合物在特定范围内混合，具有一个具有高自由度的聚合性官能团的化合物进入间隙中。因此，推测膜为高度致密的。另外，由于网络变得致密，因而认为外部摩擦应力作为热而耗散而不是外部摩擦应力作为如磨耗等破坏性能量来发散的可能性提高。另外，推测可以热耗散的部分的数量通过具有两个甲基而增多的事实为改进耐磨耗性的原因之一。
另外，随着膜的密度提高，官能团倾向于均匀存在。因此，推测通过减小表面自由能的差和减小异物特定地附着至其的部分来抑制深划痕的发生。
即使在低温低湿环境下重复使用时也可以获得本发明的效果。
另外，当甲基丙烯酰氧基用作聚合性官能团时，甲基丙烯酰氧基优选彼此反应，因此，已知的是，在低温低湿环境下耐磨耗性和深划痕发生的抑制不充分。推测原因在于，由于通过使甲基丙烯酰氧基优选彼此反应而网络不致密，因而膜的密度降低。另外，推测产生表面自由能高的部分，并且异物容易附着。由于附着的异物难以滚动或滑动，因而认为通过外部冲击而推入异物并且深划痕发生。
另外，当表面层包含具有高拒水性的硅系或氟系化合物时，这些化合物容易移动至表面，初始表面自由能降低，而当存在于表面上的具有高拒水性的化合物减少时，效果降低。
另外，分子量大于用于本发明的三芳基胺化合物的分子量的化合物倾向于降低耐磨耗性。推测原因在于，密度降低。
如以上推测机理中，构成表面层的共聚物的化合物和组成比产生协同效应，从而获得本发明的效果。
[表1]
[电子照相感光构件]
根据本发明的一方面的电子照相感光构件具有支承体和表面层。
作为电子照相感光构件的生产方法，可以提及如下方法：制备后述各层用的涂布液，以期望的层顺序涂布涂布液，并且将各层干燥。此时，涂布液的涂布方法的实例包括浸涂、喷涂、喷墨涂布、辊涂、模涂布、刮刀涂布、帘式涂布、线棒涂布和环涂布等。其中，从效率和生产性的观点，浸涂是优选的。
以下，将描述各层。
<支承体>
在本发明中，电子照相感光构件具有支承体。在本发明中，支承体优选为具有导电性的导电性支承体。另外，支承体的形状的实例包括圆筒状、带状和片状。其中，圆筒状支承体是优选的。另外，支承体的表面可以进行如阳极氧化等电化学处理，喷砂处理，和切割处理等。
支承体的材料的实例优选包括金属、树脂和玻璃等。
金属的实例包括铝、铁、镍、铜、金、不锈钢，或其合金等。其中，铝制支承体是优选的。
另外，通过将树脂或玻璃如与导电性材料混合或者用导电性材料涂覆等处理，树脂或玻璃可以具有导电性。
<导电层>
在本发明中，可以在支承体上设置导电层。通过设置导电层，可以遮蔽支承体表面的划痕或凹凸以控制在支承体表面上的光反射。
导电层优选包含导电性颗粒和树脂。
导电性颗粒的材料的实例包括金属氧化物、金属和炭黑等。金属氧化物的实例包括氧化锌、氧化铝、氧化铟、氧化硅、氧化锆、氧化锡、氧化钛、氧化镁、氧化锑和氧化铋等。金属的实例包括铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌和银等。
其中，优选使用金属氧化物作为导电性颗粒，并且特别是，更优选使用氧化钛、氧化锡或氧化锌作为导电性颗粒。
当金属氧化物用作导电性颗粒时，金属氧化物的表面可以用硅烷偶联剂等处理，或者金属氧化物可以掺杂有如磷或铝等元素、或者这些元素的氧化物。
另外，导电性颗粒可以为具有核颗粒和覆盖该颗粒的涂覆层的层叠构造。核颗粒的实例包括氧化钛、硫酸钡和氧化锌等。涂覆层可以为例如，如氧化锡等金属氧化物。
另外，当金属氧化物用作导电性颗粒时，体积平均粒径优选为1nm以上且500nm以下，更优选3nm以上且400nm以下。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂(polyvinyl acetalresin)、丙烯酸系树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂等。
另外，导电层可以进一步包含如硅油、树脂颗粒和氧化钛等掩蔽剂(maskingagent)等。
导电层的平均膜厚度优选为1μm以上且50μm以下，并且特别优选3μm以上且40μm以下。
导电层可以通过以下来形成：制备包含上述各材料和溶剂的导电层用涂布液；形成其涂膜；和使该涂膜干燥。用于该涂布液的溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂等。用于将导电性颗粒分散在导电层用涂布液中的分散方法的实例包括使用油漆搅拌器、砂磨机、球磨机或液体碰撞型高速分散机的方法。
<底涂层>
在本发明中，可以在支承体或导电层上设置底涂层。通过设置底涂层，可以提高各层之间的粘接功能，并且可以提供电荷注入阻挡功能。
底涂层优选包含树脂。另外，通过使包含具有聚合性官能团的单体的组合物聚合，可以形成作为固化膜的底涂层。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸系树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚乙烯基酚醛树脂、醇酸树脂、聚乙烯醇树脂、聚氧化乙烯树脂、聚氧化丙烯树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂和纤维素树脂等。
具有聚合性官能团的单体的聚合性官能团的实例包括异氰酸酯基、封端异氰酸酯基、羟甲基、烷基化羟甲基、环氧基、金属醇盐基团、羟基、氨基、羧基、硫羟基(thiolgroup)、羧酸酐基团、和碳-碳双键基团等。
另外，为了提高电特性的目的，底涂层可以进一步包含电子输送物质、金属氧化物、金属和导电性高分子等。其中，优选使用电子输送物质和金属氧化物。
电子输送物质的实例包括醌化合物、酰亚胺化合物、苯并咪唑化合物、亚环戊二烯基化合物、芴酮化合物、呫吨酮化合物、二苯甲酮化合物、氰基乙烯基化合物、卤化芳基化合物、噻咯(silole)化合物和硼化合物等。
底涂层可以通过使用具有聚合性官能团的电子输送物质作为电子输送物质并且与具有上述聚合性官能团的单体共聚合形成为固化膜。
金属氧化物的实例包括氧化铟锡、氧化锡、氧化铟、氧化钛、氧化锌、氧化铝和二氧化硅等。金属的实例包括金、银和铝等。
另外，底涂层可以进一步包含添加剂。
底涂层的平均厚度优选为0.1μm以上且50μm以下，更优选0.2μm以上且40μm以下，特别优选0.3μm以上且30μm以下。
底涂层可以通过以下来形成：制备包含上述各材料和溶剂的底涂层用涂布液；形成其涂膜；和使该涂膜干燥和/或固化。用于该涂布液的溶剂的实例包括醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂等。
<感光层>
电子照相感光构件的感光层主要分类为(1)层叠型感光层和(2)单层型感光层。(1)层叠型感光层具有包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层。(2)单层型感光层具有同时包含电荷产生物质和电荷输送物质的感光层。
(1)层叠型感光层
层叠型感光层具有电荷产生层和电荷输送层。
(1-1)电荷产生层
电荷产生层优选包含电荷产生物质和树脂。
电荷产生物质的实例包括偶氮颜料、苝颜料、多环醌颜料、靛蓝颜料和酞菁颜料。其中，偶氮颜料和酞菁颜料是优选的。在酞菁颜料中，氧钛酞菁颜料、氯镓酞菁颜料和羟基镓酞菁颜料是优选的。
在电荷产生层中荷产生物质的含量相对于电荷产生层的总质量优选为40质量％以上且85质量％以下，更优选60质量％以上且80质量％以下。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、丙烯酸系树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、聚乙烯醇树脂、纤维素树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂和聚氯乙烯树脂等。其中，聚乙烯醇缩丁醛树脂是更优选的。
另外，电荷产生层可以进一步包含如抗氧化剂和紫外线吸收剂等添加剂。具体地，可以提及受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物和二苯甲酮化合物等。
电荷产生层的平均膜厚度优选为0.1μm以上且1μm以下，更优选0.15μm以上且0.4μm以下。
电荷产生层可以通过以下来形成：制备包含上述各材料和溶剂的电荷产生层用涂布液；形成其涂膜；和使各涂膜干燥。用于该涂布液的溶剂的实例包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂等。
(1-2)电荷输送层
当电子照相感光构件不具有保护层时，在本发明中电荷输送层为表面层。即，电荷输送层包含含有由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物。
电荷输送层优选包含电荷输送物质和树脂。
电荷输送物质的实例包括多环芳香族化合物、杂环化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、烯胺化合物、联苯胺化合物、三芳基胺化合物、和具有源自这些物质的基团的树脂。其中，三芳基胺化合物和联苯胺化合物是优选的。
另外，当电子照相感光构件具有保护层时，本发明的表面层不是电荷输送层而是保护层。此时，电荷输送层中的至少一种类型的电荷输送物质的玻璃化转变温度为70℃以上并且玻璃化转变温度为70℃以上的电荷输送物质的含量相对于电荷输送层中全部电荷输送物质的含量为20质量％以上。更优选的是，电荷输送物质的含量为40质量％以上。
认为原因在于，在低温低湿环境下电荷输送层可以保持较硬状态，并且保护层可以为几乎不受电荷输送层影响的表面层，并且可以更多地获得本发明的效果。
另外，在电子照相感光构件具有保护层的情况下，电荷输送层中的电荷输送物质不具有芳香环的取代基，或者优选具有甲基、乙基或苯基等作为取代基。认为原因在于，保护层为几乎不受电荷输送层影响的表面层，并且可以更多地获得本发明的效果。
以下，下表2示出电荷输送物质的示例性化合物。
[表2]
在电荷输送层中电荷输送物质的含量相对于电荷输送层的总质量优选为35质量％以上且70质量％以下，更优选40质量％以上且55质量％以下。
树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和聚苯乙烯树脂等。其中，聚碳酸酯树脂和聚酯树脂是优选的。作为聚酯树脂，聚芳酯树脂是特别优选的。
电荷输送物质和树脂的含量比(质量比)优选为6:10至20:10，更优选7:10至12:10。
另外，电荷输送层还可以包含如抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、流平剂、滑动性赋予剂和耐磨耗性改进剂等添加剂。
具体地，可以存在受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物、二苯甲酮化合物、硅氧烷改性的树脂、硅油、氟树脂颗粒、聚苯乙烯树脂颗粒、聚乙烯树脂颗粒、二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒和氮化硼颗粒等。
电荷输送层的平均膜厚度优选为5μm以上且30μm以下，更优选8μm以上且20μm以下，特别优选10μm以上且16μm以下。
当电荷输送层的平均膜厚度为10μm以上且16μm以下，并且电子照相感光构件具有保护层作为表面层时，表面层的膜厚度相对于表面层的膜厚度和电荷输送层的膜厚度之和更优选为17.0％以上且21.5％以下。
这意味着，优选的是电荷输送层的膜厚度为特定表面层(保护层)的膜厚度。认为原因在于，由于在低温低湿环境下硬度根据电荷输送层的膜厚度而变化，因而通过适当地组合电荷输送层的膜厚度和表面层的膜厚度，表面层几乎不受电荷输送层影响，并且可以更多地获得本发明的效果。
电荷输送层可以通过以下来形成：制备包含上述各材料和溶剂的电荷输送层用涂布液；形成其涂膜；和使该涂膜干燥。用于该涂布液的溶剂的实例包括醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂等。在这些溶剂中，醚系溶剂或芳香族烃系溶剂是优选的。
(2)单层型感光层
单层型感光层可以通过以下来形成：制备包含电荷产生物质、电荷输送物质、树脂和溶剂的感光层用涂布液；形成其涂膜；和使该涂膜干燥。电荷产生物质、电荷输送物质和树脂与上述“(1)层叠型感光层”中的材料的实例相同。
当电子照相感光构件不具有保护层时，感光层为本发明的表面层。即，感光层包含含有由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物。
<保护层>
根据本发明的一方面的电子照相感光构件可以在感光层上具有保护层。当电子照相感光构件具有保护层时，保护层为本发明中的表面层。
如上所述，作为表面层的保护层包含含有由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物。
用于形成保护层的组合物还可以包含除了由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物以外的具有聚合性官能团的化合物。具有聚合性官能团的化合物的聚合性官能团的实例包括丙烯酰氧基。作为具有聚合性官能团的化合物，可以使用不具有电荷输送能力的材料。用于形成保护层的反应方法的实例包括热聚合反应、光聚合反应和辐射聚合反应等。
保护层还可以包含如抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、流平剂、滑动性改进剂和耐磨耗性改进剂等添加剂。
具体地，可以存在受阻酚化合物、受阻胺化合物、硫化合物、磷化合物、二苯甲酮化合物、硅氧烷改性的树脂、硅油、氟树脂颗粒、聚苯乙烯树脂颗粒、聚乙烯树脂颗粒、二氧化硅颗粒、氧化铝颗粒和氮化硼颗粒等。
保护层可以包含导电性颗粒和/或电荷输送物质、和树脂，只要不损害本发明的效果即可。
导电性颗粒的实例包括如氧化钛、氧化锌、氧化锡和氧化铟等金属氧化物的颗粒。
电荷输送物质的实例包括联苯胺化合物和三芳基胺化合物等。
树脂的实例包括聚酯树脂、丙烯酸系树脂、苯氧基树脂、聚碳酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂和环氧树脂等。其中，聚碳酸酯树脂、聚酯树脂和丙烯酸系树脂是优选的。
保护层的平均膜厚度优选为0.5μm以上且10μm以下，更优选1μm以上且7μm以下。
保护层可以通过以下来形成：制备包含上述各材料和溶剂的保护层用涂布液；形成其涂膜；和使该涂膜干燥和/或固化。用于该涂布液的溶剂的实例包括醇系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、亚砜系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂等。
[处理盒和电子照相设备]
另外，根据本发明的一方面的处理盒一体化地支承上述电子照相感光构件，和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且该处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
另外，根据本发明的一方面的电子照相设备包括上述电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
图1示出具有设置有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的实例。
首先，将描述附图标记。
附图标记1为电子照相感光构件，附图标记2为轴，附图标记3为充电单元，附图标记4为曝光光，附图标记5为显影单元，附图标记6为转印单元，附图标记7为转印材料，附图标记8为定影单元，附图标记9为清洁单元，和附图标记10为预曝光光。
附图标记11为处理盒和附图标记12为引导单元。
附图标记1为圆筒状电子照相感光构件并且围绕轴2沿箭头方向以预定的圆周速度旋转驱动。电子照相感光构件1的表面通过充电单元3充电至预定的正或负电位。另外，尽管在附图示出使用辊型充电构件的辊充电系统，但是可以采用如电晕充电系统、接近充电系统和注射充电系统等充电系统。曝光光4从曝光单元(未示出)发射至电子照相感光构件1的带电表面，并且在电子照相感光构件1的带电表面上形成对应于目标图像信息的静电潜像。形成在电子照相感光构件1的表面上的静电潜像通过容纳在显影单元5中的调色剂显影，并且在电子照相感光构件1的表面上形成调色剂图像。形成在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像通过转印单元6转印至转印材料7。其上转印有调色剂图像的转印材料7输送至定影单元8，进行调色剂图像的定影处理，和打印出来至电子照相设备外。电子照相设备可以具有用于除去如转印后残留在电子照相感光构件1的表面上的调色剂等附着物的清洁单元9。另外，可以使用其中使用显影单元等除去附着物而没有单独设置清洁单元的所谓的无清洁器系统。电子照相设备可以具有用来自预曝光单元(未示出)的预曝光光10从电子照相感光构件1的表面除电的抗静电机构。另外，为了从电子照相设备的主体拆卸根据本发明的一方面的处理盒11，可以设置如导轨等引导单元12。
根据本发明的一方面的电子照相感光构件可以用于如激光束打印机、LED打印机、复印机、传真机、或其多功能复合机等。
[实施例]
以下将参照实施例和比较例更详细地描述本发明。本发明不限于以下实施例，只要不背离本发明的要旨即可。在以下实施例的说明中，"份"基于质量，除非另有说明。
<电子照相感光构件的生产>
[实施例1]
直径为24mm并且长度为257.5mm的铝圆筒(JIS-A3003，铝合金)用作支承体(导电性支承体)。
接下来，准备以下材料。
·214份作为金属氧化物颗粒的涂覆有氧缺少型氧化锡(SnO2)的氧化钛(TiO2)颗粒(平均一次粒径：230nm)
·132份作为粘结材料的酚醛树脂(酚醛树脂的单体/低聚物)(商品名：PlyofenJ-325，Dainippon Ink and Chemicals,Inc.，树脂固成分：60质量％)
·98份作为溶剂的1-甲氧基-2-丙醇
将这些材料放入使用450份直径为0.8mm的玻璃珠的砂磨机中，并且在转数为2,000rpm、分散处理时间为4.5小时和冷却水的预设温度为18℃的条件下进行分散处理，从而获得分散液。通过网筛(网筛开口：150μm)从分散液中除去玻璃珠。
将表面粗糙化赋予剂添加至所得分散液中使得相对于除去玻璃珠后的分散液中的金属氧化物颗粒和粘结材料的总质量为10质量％。硅酮树脂颗粒(商品名：Tospearl120，由Momentive Performance Materials Co.,Ltd.制造，平均粒径：2μm)用作表面粗糙化赋予剂。
另外，将作为流平剂的硅油(商品名：SH28PA，由Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)添加至分散液中，使得相对于分散液中的金属氧化物颗粒和粘结材料的总质量为0.01质量％。
接下来，将甲醇和1-甲氧基-2-丙醇的混合溶剂(质量比：1:1)添加至分散液中，使得分散液中的金属氧化物颗粒、粘结材料和表面粗糙化赋予剂的总质量(即，固成分的质量)相对于分散液的质量为67质量％。通过搅拌该混合物来制备导电层用涂布液。
将支承体用导电层用涂布液浸涂，并且在140℃下加热1小时以形成膜厚度为30μm的导电层。
接下来，准备以下材料。
·4份由下式E-1表示的电子输送物质
·5.5份封端异氰酸酯(商品名：Duranate SBN-70D，由Asahi Kasei ChemicalsCorporation制造)
·0.3份聚乙烯醇缩丁醛树脂(S-LEC KS-5Z，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)
·0.05份作为催化剂的己酸锌(II)(Mitsuwa Chemicals Co.,Ltd.)
将这些材料溶解在50份四氢呋喃和50份1-甲氧基-2-丙醇的混合溶剂中，从而制备底涂层用涂布液。
将导电层用底涂层用涂布液浸涂，并且在170℃下加热30分钟，从而形成膜厚度为0.7μm的底涂层。
接下来，准备以下材料。
·10份在从CuKα特征X-射线衍射获得的谱图中在7.5°和28.4°的位置处具有峰的晶体形式的羟基镓酞菁
·5份聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-LEC BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)
将这些材料添加至200份环己酮中，并且在使用直径为0.9mm的玻璃珠的砂磨设备中分散6小时。
将150份环己酮和350份乙酸乙酯进一步添加至混合物中并且稀释以获得电荷产生层用涂布液。将底涂层用获得的涂布液浸涂，并且在95℃下干燥10分钟，从而形成厚度为0.20μm的电荷产生层。
另外，在以下条件下进行X-射线衍射的测量。
[粉末X-射线衍射测量]
使用的测量仪器：X-射线衍射仪RINT-TTRII，由Rigaku Denki Co.,Ltd.制造
X-射线管：Cu
管电压：50KV
管电流：300mA
扫描方法：2θ/θ扫描
扫描速度：4.0°/min
取样间隔：0.02°
开始角度(2θ)：5.0°
停止角度(2θ)：40.0°
附件：标准样品保持器
滤光器：未使用
入射单色仪：使用
计数器单色仪：未使用
发散狭缝：打开
发散纵向限制狭缝：10.00mm
散射狭缝：打开
光接收狭缝：打开
平板单色仪：使用
计数器：闪烁计数器
接下来，准备以下材料。
·6份由下式C-1表示的电荷输送物质
·3份由下式C-2表示的电荷输送物质
·1份由下式C-3表示的电荷输送物质
·10份聚碳酸酯(商品名：Iupilon Z400，由Mitsubishi Engineering-PlasticsCorporation制造)
·0.02份具有D-1和D-2的共聚单元的聚碳酸酯树脂(x/y＝0.95/0.05，粘均分子量＝20000)
将这些材料溶解在25份邻二甲苯/25份苯甲酸甲酯/25份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备电荷输送层用涂布液。将电荷产生层用电荷输送层用涂布液浸涂以形成涂膜，并且将涂膜在120℃下干燥30分钟，从而形成膜厚度为9μm的电荷输送层。
另外，电荷输送物质的玻璃化转变温度的测量在以下条件下进行。作为本申请中所描述的玻璃化转变温度，采用在以下温度条件下的第二次170℃升温时出现的吸热峰中变化点前的温度范围的切线与变化点后的温度范围的切线之间的交叉点处的温度。
[玻璃化转变点的测量]
使用的测量仪器：X-DSC7000，由Hitachi High-Tech Science Corporation制造
温度条件：
以10℃/min从25℃降温至0℃
在0℃下保持5分钟
以10℃/min从0℃升温至170℃
在170℃下保持5分钟
以50℃/min从170℃降温至0℃
在0℃下保持5分钟
以10℃/min从0℃升温至170℃
在170℃下保持5分钟
以50℃/min从170℃降温至25℃
在25℃下保持5分钟
试样量：3mg
测量环境：在N2气流下
接下来，准备以下材料。
·21.7份由通式(1)表示的化合物1-5
·9.3份由通式(2)表示的化合物2-1
·0.2份硅氧烷改性的丙烯酸系化合物(BYK-3550，由BYK Japan KK制造)
将这些材料与20.7份1-丙醇和48.3份环己烷的溶剂混合并且搅拌该混合物。通过这样做，制备表面层用涂布液，并且获得包含由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的组合物。
将电荷输送层用表面层用涂布液浸涂以形成涂膜，并且将获得的涂膜在50℃下干燥5分钟。其后，在支承体(被照射体)在加速电压为70kV和束电流为5.0mA的条件下在氮气气氛下以300Rpm的速度旋转时，用电子束照射涂膜1.6秒。表面位置的剂量为15kGy。然后，在氮气气氛下，将涂膜的温度升高至117℃。从电子束照射至随后的加热处理的氧气浓度为10ppm。接下来，在大气气氛中使涂膜自然冷却直到涂膜的温度为25℃之后，在涂膜的温度为120℃的条件下使涂膜进行加热处理1小时，从而获得膜厚度为5μm的作为表面层的保护层。通过这样做，生产实施例1的具有表面层的圆筒状(鼓状)电子照相感光构件。
[实施例2～10和12～16]
在实施例1中，如表3所示各自改变由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物。此处，如表3所示改变在组合物中由通式(1)表示的化合物与由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量的含量比(以下，称为通式(1)的比率)。另外，如表3所示改变由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物与组合物的总质量的总含量比(以下，称为通式(1)和(2)的总比率)。
另外，如表4所示改变用于形成电荷输送层的电荷输送物质的种类和质量比。
另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及表面层的膜厚度与表面层的膜厚度和电荷输送层的膜厚度之和的比率(以下，称为S/(S+CT)比)。
除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。另外，实施例16中的由通式(1)表示的化合物为化合物1-3和化合物1-9的混合物，并且其质量比为化合物1-3/化合物1-9＝7/3。
[实施例11]
在实施例1中，用于形成表面层的由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物分别为10.3份由通式(1)表示的化合物1-1和6.8份由通式(2)表示的化合物2-2。另外，14.0份由下式F-1表示的化合物用于组合物的制备。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[实施例17]
在实施例1中，用于形成表面层的由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物分别为7.4份由通式(1)表示的化合物1-3和17.3份由通式(2)表示的化合物2-1。另外，6.2份由下式F-2表示的化合物用于组合物的制备。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[比较例1]
在实施例1中，用于形成表面层的由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物分别为0.03份由通式(1)表示的化合物1-3和30.9份由通式(2)表示的化合物2-2。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[比较例2]
在实施例1中，用于形成表面层的由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物分别为10.2份由通式(1)表示的化合物1-3和20.7份由通式(2)表示的化合物2-2。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[比较例3]
在实施例1中，用于形成表面层的由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物分别为6.2份由通式(1)表示的化合物1-3和24.8份由通式(2)表示的化合物2-1。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[比较例4]
在实施例1中，用于形成表面层的由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物分别为24.8份由通式(1)表示的化合物1-3和6.2份由通式(2)表示的化合物2-1。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[比较例5]
在实施例1中，使用20.7份由通式(2)表示的化合物2-2而不使用由通式(1)表示的化合物。另外，代替由通式(1)表示的化合物，10.2份由下式F-3表示的化合物用于组合物的制备。另外，如表5所示各自改变表面层和电荷输送层的膜厚度以及S/(S+CT)比。除了上述以外，以与实施例1相同的方式生产电子照相感光构件。
[表3]
[表4]
[表5]
<评价>
通过使用生产的实施例1～17的电子照相感光构件和比较例1～5的电子照相感光构件在以下条件下评价耐磨耗性、耐划痕性、和深划痕的发生。
作为评价设备，通过使用由Hewlett-Packard Company制造的激光束打印机(商品名：HP Color LaserJet Enterprise M652)，改造驱动系统使得电子照相感光构件的旋转速度为350mm/sec。将评价设备在温度为15℃并且相对湿度为10％的低温低湿环境下放置7天以上。将生产的电子照相感光构件安装至盒，并且在低温低湿环境下放置7天以上，然后安装至评价设备，并且使用打印率为1％的A4测试图案进行10,000张连续通纸。然后，用单点桂马(日本象棋的马(knight of Japanese chess))图案打印一张。
通过测量膜厚度基于膜损耗的程度评价耐磨耗性。在以下条件下测量膜厚度。
使用的测量仪器：光谱干涉位移型多层膜厚度测量仪器，由Keyence Corporation制造(光谱单元：SI-T80)
测量方法：以1mm的间隔测量圆筒状电子照相感光构件的母线方向和圆周方向，并且取平均值。测量的值为通过组合电荷输送层与最外表面层获得的膜厚度，并且计算连续通纸前后的膜厚度之差作为磨削量(μm)。
对于深划痕的发生的存在与否，目视观察单点桂马(日本象棋的马)图案的图像，并且基于图像缺陷的存在与否来判定。
另外，通过测量表面粗糙度来评价耐划痕性。表面粗糙度的测量在以下条件下进行。
使用的测量仪器：触针式表面粗糙度测试仪(商品名：SE3500)，由KosakaLaboratory Ltd.制造
测量方法：通过与支承体的长度方向(圆筒的轴方向)平行地移动触针来进行测量。依照JIS B0601 1994测量，并且条件如下。
测量长度：6.0mm
截止值(Cutoff)：0.8mm
触针顶端形状：圆锥形
触针顶端角度：60°
触针顶端半径：5μm
测量速度：0.1mm/sec
测量位置：目视观察电子照相感光构件，并且通过在划痕似乎深的部分或对应于图像上存在似乎由划痕引起的图像缺陷的部分的部分测量来采用Rmax值。
评价结果示于表6中。
[表6]
在上文，如参照实施方案和实施例所述，根据本发明，提供在低温低湿环境下重复使用时具有高耐磨耗性并且抑制深划痕的发生的电子照相感光构件。另外，提供设置有电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
虽然参考示例性实施方案已描述了本发明，但应理解本发明并不局限于公开的示例性实施方案。权利要求的范围符合最宽泛的解释以涵盖所有此类修改以及等同的结构和功能。

Claims (5)

1.一种电子照相感光构件，其包括支承体和表面层，其特征在于，
所述表面层包含至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物的组合物的共聚物，
在所述组合物中由所述通式(1)表示的化合物的含量相对于由所述通式(1)表示的化合物和由所述通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，和
由所述通式(1)表示的化合物和由所述通式(2)表示的化合物的总含量相对于所述组合物的总质量为55质量％以上：
在通式(1)中，a和b为0或1，p为2以上且5以下的整数：
在通式(2)中，e为1，q为2以上且5以下的整数。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中电荷产生层、电荷输送层和表面层依次设置在所述支承体上，所述电荷输送层的膜厚度为10μm以上且16μm以下，和所述表面层的膜厚度相对于所述表面层的膜厚度与所述电荷输送层的膜厚度之和为17.0％以上且21.5％以下。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，其中所述电荷输送层中的至少一种电荷输送物质的玻璃化转变温度为70℃以上，并且玻璃化转变温度为70℃以上的所述电荷输送物质的含量相对于所述电荷输送层中的所有电荷输送物质的含量为20质量％以上。
4.一种处理盒，其特征在于，其一体化地支承根据权利要求1所述的电子照相感光构件，和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
5.一种电子照相设备，其特征在于，其包括根据权利要求1所述的电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
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