CN105452911B

CN105452911B - 光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块

Info

Publication number: CN105452911B
Application number: CN201480043450.7A
Authority: CN
Inventors: 长屋胜也; 田中幸恵; 大月敏敬; 坪内孝史; 重冈大介
Original assignee: JSR Corp
Current assignee: JSR Corp
Priority date: 2013-10-17
Filing date: 2014-10-16
Publication date: 2017-06-09
Anticipated expiration: 2034-10-16
Also published as: TWI557445B; TW201520609A; US20160170105A1; JP5884953B2; KR101661088B1; KR20160027201A; WO2015056734A1; CN105452911A; JPWO2015056734A1; US9606275B2

Abstract

本发明涉及一种光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块，所述光学滤波器会选择性地透射可见光线与一部分近红外线，其满足特定的透光率特性，具有基材且在所述基材的至少一个面具有介电体多层膜，所述基材具有透明树脂层，所述透明树脂层包含在波长为600nm～850nm具有吸收极大值的化合物(Z)。本发明的光学滤波器可见光线与一部分近红外线的透射特性优异，并且入射角依存少。

Description

光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块

技术领域

本发明涉及一种光学滤波器及使用光学滤波器的装置。详细而言，涉及选择性地透射包含具有特定吸收的化合物的可见光线与一部分近红外线的光学滤波器(2波长带通滤波器)、以及使用所述光学滤波器的固体摄像装置及照相机模块。

背景技术

摄影机、数字静态照相机、带有照相机功能的移动电话、智能手机等固体摄像装置中，使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)或互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)图像传感器，所述固体摄像元件在其受光部使用对以人眼无法感知的近红外线具有感度的硅发光二极管。所述固体摄像元件中，需要进行以人眼观看而成为自然的色调的视感度修正，大多使用选择性地透射或截止特定波长区域的光线的光学滤波器(例如近红外线截止滤波器)。

作为此种近红外线截止滤波器，从前以来，使用利用各种方法制造的。例如，在专利文献1中记载：使用包含透明树脂的基板，在透明树脂中包含近红外线吸收剂的近红外线截止滤波器，在专利文献2中记载：使用含有铜离子的玻璃基板的近红外截止滤波器。

另一方面，近年来，进行了将利用近红外线的动作捕捉(motion capture)或距离识别(空间识别)等感测功能赋予照相机模块的尝试。在此种用途中，需要选择性地透射可见光线与一部分近红外线，因此无法使用如从前的将近红外线一律遮蔽的近红外线截止滤波器。

作为选择性地透射可见光线与一部分近红外线的光学滤波器，东亚理化学研究所(股)或日本塞拉泰科(CERATEC JAPAN)(股)等销售在玻璃基板上制作介电体多层膜的滤波器。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开平6-200113号公报

[专利文献2]日本专利第5036229号公报

发明内容

发明要解决的课题

作为选择性地透射所述可见光线与一部分近红外线的光学滤波器而市售的光学滤波器，在光线斜向入射至所述滤波器时，分光特性会发生大的变化。特别是若在可见光透射频带的长波长侧、或近红外线选择透射频带的短波长侧，光学滤波器的入射角依存大，则光线自所述滤波器的斜向入射时，除了用于感测功能的近红外线的信号噪声比(S/N比)恶化外，也存在照相机画质或图像端部的色再现性出现不良影响等问题。因此，期望出现可见光透射频带的长波长侧、或近红外线选择透射频带的短波长侧的入射角依存性少，且满足良好的近红外线S/N比、照相机画质、可见光线及一部分近红外线的选择性透射的全部的光学滤波器。

本发明的目的在于提供一种具有选择性地透射可见光线与一部分近红外线的功能、且入射角依存少的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置。

解决问题的技术手段

本发明人等人为了达成所述课题而努力研究，结果发现，利用在具有透明树脂层的基材上设置介电体多层膜的满足特定透光率特性的光学滤波器，所述透明树脂层包含具有特定光学特性的化合物，而可获得可见光线与一部分近红外线的透射特性优异、且入射角依存少的光学滤波器，从而完成了本发明。以下表示本发明的形态例。

[1]一种光学滤波器，其选择性地透射可见光线与一部分近红外线，满足下述(a)及(b)的要件，具有基材(i)且在所述基材(i)的至少一个面具有介电体多层膜，

所述基材(i)具有透明树脂层，所述透明树脂层包含在波长为600nm～850nm具有吸收极大值的化合物(Z)；

(a)在波长为430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率的平均值为75％以上

(b)在波长为650nm以上的区域具有光线阻止频带Za、光线透射频带Zb、光线阻止频带Zc，各频带的中心波长为Za＜Zb＜Zc，所述Za及Zc中的自光学滤波器的垂直方向测定时的最小透射率分别为15％以下，所述Zb中的自光学滤波器的垂直方向测定时的最大透射率为55％以上。

[2]根据[1]所述的光学滤波器，其进一步满足下述(c)的要件：

(c)所述Zb中，自光学滤波器的垂直方向测定时成为透射率50％的最短波长侧的波长的值(Xa)与最长波长侧的波长的值(Xb)的差Xb-Xa为5nm～150nm，以Y＝(Xa+Xb)/2表示的Y的值为750nm～950nm。

[3]根据[2]所述的光学滤波器，其中波长为Y-10nm～Y+10nm的区域中的自光学滤波器的垂直方向测定的平均透射率为60％以上。

[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学滤波器，其中在波长为600nm以上的区域中，自所述基材(i)的垂直方向测定的透射率自超过50％变为50％以下的最短波长(Xc)为610nm～670nm。

[5]根据[1]至[4]中任一项所述的光学滤波器，其中在波长为750nm以上的区域中，自所述基材(i)的垂直方向测定的透射率自小于50％变为50％以上的最短波长(Xf)为770nm～900nm。

[6]根据[2]至[5]中任一项所述的光学滤波器，其中在所述基材(i)的两面形成分光特性不同的介电体多层膜，自光学滤波器的至少一个面测定的波长为Y-10nm～Y+10nm的区域中的平均反射率为20％以下。

[7]根据[1]至[6]中任一项所述的光学滤波器，其中所述化合物(Z)为选自由方酸内鎓系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉(hexaphyrin)系化合物及花青系化合物所组成的组群的至少一种化合物。

[8]根据[1]至[7]中任一项所述的光学滤波器，其中所述化合物(Z)为选自由在波长为600nm～750nm具有吸收极大值的化合物(A)及在波长为750nm～850nm具有吸收极大值的化合物(S)所组成的组群的至少一种化合物。

[9]根据[8]所述的光学滤波器，其中所述化合物(A)为下述式(I)或式(II)所示的化合物：

[化1]

[式(I)中，R^a、R^b及Y满足下述(i)或(ii)的条件；

条件(i)：

存在多个的R^a分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基(R^e及R^f分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)，

存在多个的R^b分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基(R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e))，

存在多个的Y分别独立地表示-NR^jR^k基(R^j及R^k分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)，

-L¹为-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e、-L^f、-L^g或-L^h，

所述-L^a～-L^h表示以下的基团：

-L^a可具有取代基-L的碳数为1～12的脂肪族烃基

-L^b可具有取代基-L的碳数为1～12的卤素取代烷基

-L^c可具有取代基-L的碳数为3～14的脂环式烃基

-L^d可具有取代基-L的碳数为6～14的芳香族烃基

-L^e可具有取代基-L的碳数为3～14的杂环基

-L^f可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基

-L^g可具有取代基-L的碳数为1～9的酰基

-L^h可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基羰基

(其中，取代基-L为选自由碳数为1～12的脂肪族烃基、碳数为1～12的卤素取代烷基、碳数为3～14的脂环式烃基、碳数为6～14的芳香族烃基、碳数为3～14的杂环基、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群的至少一种)；

条件(ii)：

1个苯环上的2个R^a中的至少一个与同一苯环上的Y相互键结，形成包含至少一个氮原子的构成原子数为5或6的杂环，所述杂环可具有取代基，R^b及未参与所述杂环的形成的R^a分别独立地与所述条件(i)的R^b及R^a同义]

[化2]

[式(II)中，X独立地表示-O-、-S-、-Se-、-N-R^c-或-C(R^dR^d)-，

存在多个的R^c分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

存在多个的R^d分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，相邻的R^d彼此可连结而形成可具有取代基的环，

-L^a～-L^e、-L¹、R^e及R^f与所述式(I)中所定义的-L^a～-L^e、-L¹、R^e及R^f同义]。

[10]根据[8]所述的光学滤波器，其中所述化合物(S)为下述式(S1)所示的化合物：

[化3]

[式(S1)中，X独立地表示氧原子、硫原子、硒原子或-NH-，

R¹～R⁷分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基(R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e))，

-L¹为-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e、-L^f、-L^g或-L^h，-L^a～-L^h与所述式(I)中所定义的-L^a～-L^h同义]。

[11]根据[1]至[10]中任一项所述的光学滤波器，其中所述透明树脂为选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯系紫外线硬化型树脂所组成的组群的至少一种树脂。

[12]根据[1]至[11]中任一项所述的光学滤波器，其中所述基材(i)含有包含化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)。

[13]根据[1]至[12]中任一项所述的光学滤波器，其为固体摄像装置用途。

[14]一种固体摄像装置，其具备根据[1]至[12]中任一项所述的光学滤波器。

[15]一种照相机模块，其具备根据[1]至[12]中任一项所述的光学滤波器。

发明的效果

根据本发明，可提供一种可见光线与一部分近红外线的透射特性优异、且入射角依存少的光学滤波器。

附图说明

图1(a)是表示测定自基材(i)或光学滤波器的垂直方向测定时的透射率的方法的概略图。图1(b)是表示测定相对于光学滤波器的垂直方向而自30°的角度测定时的透射率的方法的概略图。图1(c)是表示测定光学滤波器的反射率的方法的概略图。

图2是实施例1中所得的基材的分光透射光谱。

图3是实施例1中所得的光学滤波器的分光透射光谱。

图4是实施例1中所得的光学滤波器的分光反射光谱。

图5是实施例2中所得的基材的分光透射光谱。

图6是实施例2中所得的光学滤波器的分光透射光谱。

图7是实施例2中所得的光学滤波器的分光反射光谱。

图8是实施例3中所得的光学滤波器的分光透射光谱。

图9是实施例3中所得的光学滤波器的分光反射光谱。

图10是比较例1中所得的光学滤波器的分光透射光谱。

图11是比较例1中所得的光学滤波器的分光反射光谱。

图12是比较例2中所得的光学滤波器的分光透射光谱。

图13是比较例2中所得的光学滤波器的分光反射光谱。

[符号的说明]

1：光学滤波器或基材(i)

2：分光光度计

3：光

4：反射镜

具体实施方式

以下，对本发明进行具体地说明。

[光学滤波器]

本发明的光学滤波器是选择性地透射可见光线与一部分近红外线的滤波器，其具有包含透明树脂层的基材(i)、及介电体多层膜，所述透明树脂层包含在波长为600nm～850nm具有吸收极大值的化合物(Z)。如此，本发明的光学滤波器将包含化合物(Z)的透明树脂层与介电体多层膜并用，因此是透射率特性优异、而且可见区域或近红外线透射频带的入射角依存性少的光学滤波器。

在将本发明的光学滤波器用于固体摄像元件等时，优选为可见光透射率高。具体而言，在波长为430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的平均透射率为75％以上，优选为80％以上，更优选为83％以上，特别优选为85％以上。在所述波长区域中，若平均透射率为所述范围，则在使用本发明的光学滤波器作为固体摄像元件用途时，可达成优异的摄像感度。

本发明的光学滤波器在波长为650nm以上的区域具有光线阻止频带Za、光线透射频带Zb、光线阻止频带Zc。其中，各频带的波长为Za＜Zb＜Zc。另外，所述“Za＜Zb＜Zc”是各频带的中心波长满足所述式。

Za是指在波长为650nm以上、900nm以下中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率自超过20％变为20％以下的最短波长Za1、至自小于20％变为20％以上的最长波长Za2为止的波长频带。

Zb是指在波长为750nm以上、1050nm以下中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率自40％以下变为超过40％的最短波长Zb1、至自超过40％变为40％以下的最长波长Zb2为止的波长频带。

Zc是指在波长为820nm以上中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率自超过20％变为20％以下的最短波长Zc1、至作为Zc1+200nm的波长Zc2为止的波长频带。

在将本发明的光学滤波器用于兼具近红外感测功能的固体摄像元件等时，光线(近红外线)透射频带Zb的最大透射率优选为高，光线阻止频带Za及光线阻止频带Zc的最小透射率优选为低。此时，可达成优异的近红外感测性能，并且可有效地截止不需要的波长的光线，并可提高照相机图像的色再现性。

光线透射频带Zb中的自光学滤波器的垂直方向测定时的最大透射率为55％以上，优选为57％以上，更优选为60％以上，特别优选为63％以上。光线阻止频带Za及光线阻止频带Zc中的自光学滤波器的垂直方向测定时的最小透射率为15％以下，优选为10％以下，更优选为8％以下，尤其优选为6％以下，特别优选为5％以下。若Zb中的最大透射率或Za及Zc中的最小透射率为所述范围，则可获得达成高的近红外感测性能且噪声少、而且色再现性优异的照相机图像。

所述Zb中，成为透射率50％的最短波长侧的波长的值(Xa)与最长波长侧的波长的值(Xb)的差Xb-Xa的值，优选为5nm～150nm，更优选为10nm～140nm，特别优选为15nm～130nm。另外，以Y＝(Xa+Xb)/2表示的Y的值，优选为750nm～950nm，更优选为760nm～940nm，特别优选为770nm～930nm。若Xb-Xa或Y的值为所述范围，则可获得近红外感测感度与照相机图像的色再现性更优异的光学滤波器。

本发明的光学滤波器中，关于所述Y，Y-10nm～Y+10nm的波长区域中的自光学滤波器的垂直方向测定时的平均透射率，优选为60％以上，更优选为65％以上，特别优选为70％以上。

具有此种透射特性的滤波器，在以可见区域为目的的近红外区域中可达成高的光线透射特性，并能以良好的水平兼具照相机功能与近红外感测功能。

本发明的光学滤波器中，在波长为560nm～800nm的范围中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率变为50％的最短波长的值(Xd)、与相对于光学滤波器的垂直方向而自30°的角度测定时的透射率变为50％的最短波长的值(Xe)的差的绝对值变小，分光特性的入射角依存性小，可获得视角宽的光学滤波器，特别是在用于照相机模块等用途时，可达成良好的照相机画质或图像端部的色再现性。(Xd)与(Xe)的差的绝对值优选为小于25nm，更优选为小于15nm，特别优选为小于10nm。此种光学滤波器通过使用化合物(Z)、特别是下述化合物(A)，具体而言，通过以选择性地透射可见光线与一部分近红外线的方式，在所述基材(i)上形成介电体多层膜而得。

本发明的光学滤波器中，在相对于所述光学滤波器的垂直方向而自30°的角度测定的透射率曲线中与所述Zb相当的频带中，透射率变为50％的最短波长侧的波长的值(Xa′)、与所述Xa的差的绝对值|Xa-Xa′|，优选为小于25nm，更优选为小于23nm，特别优选为小于20nm。若|Xa-Xa′|的值为所述范围，则可获得分光特性的入射角依存性小的光学滤波器，在将所述光学滤波器用于特别是具有感测功能的照相机模块等用途时，即便对所述滤波器斜向入射光，也可同时达成良好的近红外线S/N比与照相机画质。此种光学滤波器通过使用化合物(Z)、特别是下述化合物(S)，具体而言，通过以选择性地透射可见光线与一部分近红外线的方式，在所述基材(i)上形成介电体多层膜而得。

本发明的光学滤波器的厚度只要根据所期望的用途而适当选择即可，根据近年来的固体摄像装置的薄型化、轻量化等潮流，本发明的光学滤波器的厚度也优选为薄。本发明的光学滤波器由于包含所述基材(i)，因此可实现薄型化。

本发明的光学滤波器的厚度例如优选为200μm以下，更优选为180μm以下，尤其优选为150μm以下，特别优选为120μm以下，下限并无特别限制，例如理想为20μm。

[基材(i)]

所述基材(i)可为单层，也可为多层，只要具有含有1种以上的至少在波长为600nm～850nm具有吸收极大值的化合物(Z)的透明树脂层即可。在基材(i)为单层时，例如可列举：包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)的基材，所述透明树脂制基板(ii)成为所述透明树脂层。在为多层时，例如可列举：在玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体等支撑体或透明树脂制基板(ii)上层叠含有化合物(Z)及硬化性树脂的外涂层等透明树脂层的基材，或在含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂的外涂层等树脂层的基材。

就制造成本或光学特性调整的容易性、以及可达成树脂制支撑体或透明树脂制基板(ii)的消除损伤效果或基材(i)的耐损伤性提高等方面而言，特别优选为在含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂的外涂层等树脂层的基材。

以下，将含有化合物(Z)及透明树脂的层也称为“透明树脂层”，将其以外的树脂层也简称为“树脂层”。

所述基材(i)理想为满足下述条件(i-1)及条件(i-2)的至少一个。

(i-1)在波长为600nm以上、且小于750nm的区域中，自所述基材(i)的垂直方向测定的最低透射率(Ta)，优选为40％以下，更优选为25％以下，特别优选为10％以下。

波长为600nm以上的区域中的自基材(i)的垂直方向测定的透射率自超过50％变为50％以下的最短波长(Xc)，优选为610nm～670nm，更优选为620nm～665nm，特别优选为630nm～660nm。

若基材(i)的(Ta)及(Xc)为此种范围，则可选择性地效率佳地截止不需要的近红外线，并且在基材(i)上制作介电体多层膜时，可降低可见波长～近红外波长区域附近的光学特性的入射角依存性。

(i-2)在波长为750nm以上的区域中，自所述基材(i)的垂直方向测定的最低透射率(Tb)，优选为40％以下，更优选为25％以下，特别优选为10％以下。

在波长为750nm以上的区域中，自所述基材(i)的垂直方向测定的透射率自小于50％变为50％以上的最短波长(Xf)，优选为770nm～900nm，更优选为775nm～890nm，特别优选为780nm～880nm。

若基材(i)的(Tb)及(Xf)为此种范围，则可选择性地效率佳地截止近红外线选择透射频带附近的不需要的近红外线，并且可提高感测用近红外线S/N比，并且在基材(i)上制作介电体多层膜时，可降低近红外线选择透射频带的短波长侧的光学特性的入射角依存性。

基材(i)在波长为430nm～580nm时的平均透射率，优选为75％以上，更优选为78％以上，特别优选为80％以上。若使用具有此种透射特性的基材，则在以可见区域为目的的近红外区域中可达成高的光线透射特性，并能以良好的水平兼具照相机功能与近红外感测功能。

所述基材(i)的厚度可根据所期望的用途进行适当选择，并无特别限制，优选为以降低所得的光学滤波器的入射角依存性的方式进行适当选择，优选为10μm～200μm，更优选为20μm～180μm，特别优选为30μm～150μm。

若基材(i)的厚度为所述范围，则可使利用所述基材(i)的光学滤波器薄型化及轻量化，并可优选地用于固体摄像装置等各种用途。特别是在将包含所述透明树脂制基板(ii)的基材(i)用于照相机模块等透镜单元时，可实现透镜单元的低背化、轻量化，因此优选。

<化合物(Z)>

化合物(Z)若为在波长为600nm～850nm具有吸收极大值的化合物，则并无特别限制，优选为选自由在波长为600nm～750nm具有吸收极大值的化合物(A)及在波长为750nm～850nm具有吸收极大值的化合物(S)所组成的组群的至少一种化合物，且优选为溶剂可溶型色素化合物，更优选为选自由方酸内鎓系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉系化合物及花青系化合物所组成的组群的至少一种。在本发明中，所述中，就具有优异的可见光透射特性、陡峭的吸收特性及高的摩尔吸光系数而言，尤其优选为使用方酸内鎓系化合物。

在本发明中，化合物的吸收极大波长例如只要在二氯甲烷等适当的溶剂中溶解化合物后，使用分光光度计测定所得的溶液即可。

在并用所述化合物(A)与所述化合物(S)时，所述化合物可包含在同一层中，也可包含在不同的层中。在包含在同一层中时，例如可列举：化合物(A)与化合物(S)一起包含在同一透明树脂制基板(ii)中的基材、或在玻璃支撑体等支撑体上层叠包含化合物(A)与化合物(S)的透明树脂层的基材，在包含在不同的层中时，例如可列举：在包含化合物(A)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含化合物(S)的透明树脂层的基材、或在包含化合物(S)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含化合物(A)的透明树脂层的基材。

化合物(A)与化合物(S)更优选为包含在同一层中，此种情况下，与包含在不同的层中的情形相比，更容易控制化合物(A)与化合物(S)的含量比率。

关于化合物(Z)的含量，例如在使用包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)的基材、或在含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层的基材作为所述基材(i)时，相对于透明树脂100重量份，优选为0.01重量份～2.0重量份，更优选为0.02重量份～1.5重量份，特别优选为0.03重量份～1.0重量份，在使用于玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层的基材作为所述基材(i)时，相对于形成包含化合物(Z)的透明树脂层的树脂100重量份，优选为0.1重量份～5.0重量份，更优选为0.2重量份～4.0重量份，特别优选为0.3重量份～3.0重量份。

若化合物(Z)的含量为所述范围内，则可获得兼具良好的近红外线吸收、透射特性与高的可见光透射率的光学滤波器。

《化合物(A)》

化合物(A)的吸收极大波长优选为620nm～750nm，更优选为650nm～745nm，特别优选为660nm～740nm。作为化合物(A)，尤其优选为分别包含一种以上的方酸内鎓系化合物与其他化合物(A)，在使用方酸内鎓系化合物与其他化合物(A)时，方酸内鎓系化合物与其他化合物(A)相比，特别优选为在短波长侧具有吸收极大值，优选为方酸内鎓系化合物与其他化合物(A)的至少一种的吸收极大波长的差为5nm～50nm。另外，在使用方酸内鎓系化合物与其他化合物(A)作为化合物(A)时，在将所用的化合物(A)总体设为100重量％时，方酸内鎓系化合物的含有比例优选为10重量％～95重量％，更优选为15重量％～85重量％，特别优选为20重量％～80重量％。方酸内鎓系化合物存在根据结构而在光线吸收时产生成为散射光的原因的荧光的情况，在使用方酸内鎓系化合物与其他化合物(A)作为化合物(A)时，在使用吸收极大波长的差为所述范围的化合物(A)时，或以所述量使用方酸内鎓系化合物时，优选为在满足所述的全部条件时，可在可见区域～近红外波长区域中效率佳地截止包括散射光的不需要的光线，并可达成优异的入射角依存改良性能与因散射光降低效果引起的良好的照相机画质。

作为化合物(A)，优选为包含选自由式(I)所示的方酸内鎓系化合物及式(II)所示的方酸内鎓系化合物所组成的组群的至少一种。以下，也分别称为“化合物(I)”及“化合物(II)”。

[化4]

式(I)中，R^a、R^b及Y满足下述(i)或(ii)的条件。

条件(i)

存在多个的R^a分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基。R^e及R^f分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e。

存在多个的R^b分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基。R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)。

存在多个的Y分别独立地表示-NR^jR^k基。R^j及R^k分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e。

-L¹为-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e、_-L^f、-L^g或-L^h。

所述-L^a～-L^h表示以下的基团。

-L^a可具有取代基-L的碳数为1～12的脂肪族烃基

-L^b可具有取代基-L的碳数为1～12的卤素取代烷基

-L^c可具有取代基-L的碳数为3～14的脂环式烃基

-L^d可具有取代基-L的碳数为6～14的芳香族烃基

-L^e可具有取代基-L的碳数为3～14的杂环基

-L^f可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基

-L^g可具有取代基-L的碳数为1～9的酰基

-L^h可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基羰基

取代基-L为选自由碳数为1～12的脂肪族烃基、碳数为1～12的卤素取代烷基、碳数为3～14的脂环式烃基、碳数为6～14的芳香族烃基、碳数为3～14的杂环基、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群的至少一种。

所述-L^a～-L^h中，包括取代基的碳数的合计优选为分别为50以下，更优选为碳数为40以下，特别优选为碳数为30以下。若碳数多于所述范围，则有难以合成化合物的情况，并且有每单位重量的光的吸收强度变小的倾向。

条件(ii)

1个苯环上的2个R^a中的至少一个与同一苯环上的Y相互键结，形成包含至少一个氮原子的构成原子数为5或6的杂环。所述杂环可具有取代基，R^b及未参与所述杂环的形成的R^a分别独立地与所述条件(i)的R^b及R^a同义。

各基团的具体例

作为所述-L^a及-L中的碳数为1～12的脂肪族烃基，例如可列举：甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基(n-Pr)、异丙基(i-Pr)、正丁基(n-Bu)、仲丁基(s-Bu)、叔丁基(t-Bu)、戊基、己基、辛基、壬基、癸基及十二烷基等烷基；乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、丁烯基、1，3-丁二烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-戊烯基、己烯基及辛烯基等烯基；以及乙炔基、丙炔基、丁炔基、2-甲基-1-丙炔基、己炔基及辛炔基等炔基。

作为所述-L^b及-L中的碳数为1～12的卤素取代烷基，例如可列举：三氯甲基、三氟甲基、1，1-二氯乙基、五氯乙基、五氟乙基、七氯丙基及七氟丙基。

作为所述-L^c及-L中的碳数为3～14的脂环式烃基，例如可列举：环丁基、环戊基、环己基、环庚基及环辛基等环烷基；降冰片烷基及金刚烷基等多环脂环式基。

作为所述-L^d及-L中的碳数为6～14的芳香族烃基，例如可列举：苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、1-萘基、2-萘基、蒽基、菲基、苊基、丙烯合萘基(phenalenyl)、四氢萘基、二氢茚基及联苯基。

作为所述-L^e及-L中的碳数为3～14的杂环基，例如可列举：包含呋喃、噻吩、吡咯、吡唑、咪唑、三唑、噁唑、噁二唑、噻唑、噻二唑、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、咔唑、二苯并呋喃、二苯并噻吩、吡啶、嘧啶、吡嗪、哒嗪、喹啉、异喹啉、吖啶、吗啉及吩嗪等杂环的基团。

作为所述-L^f中的碳数为1～12的烷氧基，例如可列举：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基。

作为所述-L^g中的碳数1～9的酰基，例如可列举：乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰基、异戊酰基及苯甲酰基。

作为所述-L^h中的碳数1～9的烷氧基羰基，例如可列举：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、异丙氧基羰基、丁氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基及辛氧基羰基。

作为所述-L^a，优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基、4-苯基丁基、2-环己基乙基，更优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基。

作为所述-L^b，优选为三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基、5-环己基-2，2，3，3-四氟戊基，更优选为三氯甲基、五氯乙基、三氟甲基、五氟乙基。

作为所述-L^c，优选为环丁基、环戊基、环己基、4-乙基环己基、环辛基、4-苯基环庚基，更优选为环戊基、环己基、4-乙基环己基。

作为所述-L^d，优选为苯基、1-萘基、2-萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、3，5-二-叔丁基苯基、4-环戊基苯基、2，3，6-三苯基苯基、2，3，4，5，6-五苯基苯基，更优选为苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、2，3，4，5，6-五苯基苯基。

作为所述-L^e，优选为包含呋喃、噻吩、吡咯、吲哚、吲哚啉、假吲哚、苯并呋喃、苯并噻吩、吗啉的基团，更优选为包含呋喃、噻吩、吡咯、吗啉的基团。

作为所述-L^f，优选为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、甲氧基甲基、甲氧基乙基、2-苯基乙氧基、3-环己基丙氧基、戊氧基、己氧基、辛氧基，更优选为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基。

作为所述-L^g，优选为乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、苯甲酰基、4-丙基苯甲酰基、三氟甲基羰基，更优选为乙酰基、丙酰基、苯甲酰基。

作为所述-L^h，优选为甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、异丙氧基羰基、丁氧基羰基、2-三氟甲基乙氧基羰基、2-苯基乙氧基羰基，更优选为甲氧基羰基、乙氧基羰基。

所述-L^a～-L^h可进一步具有选自由卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群的至少一种原子或基团。作为此种例子，可列举：4-磺基丁基、4-氰基丁基、5-羧基戊基、5-氨基戊基、3-羟基丙基、2-磷酰基乙基、6-氨基-2，2-二氯己基、2-氯-4-羟基丁基、2-氰基环丁基、3-羟基环戊基、3-羧基环戊基、4-氨基环己基、4-羟基环己基、4-羟基苯基、五氟苯基、2-羟基萘基、4-氨基苯基、4-硝基苯基、包含3-甲基吡咯的基团、2-羟基乙氧基、3-氰基丙氧基、4-氟苯甲酰基、2-羟基乙氧基羰基、4-氰基丁氧基羰基。

作为所述条件(i)中的R^a，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、硝基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基。

作为所述条件(i)中的R^b，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、氰基、硝基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、N-甲基乙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基、二甲基氨基、硝基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基。

作为所述Y，优选为氨基、甲基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基、二-正丙基氨基、二异丙基氨基、二-正丁基氨基、二-叔丁基氨基、N-乙基-N-甲基氨基、N-环己基-N-甲基氨基，更优选为二甲基氨基、二乙基氨基、二-正丙基氨基、二异丙基氨基、二-正丁基氨基、二-叔丁基氨基。

作为所述式(I)的条件(ii)中的1个苯环上的2个R^a中的至少一个与同一苯环上的Y相互键结而形成的包含至少一个氮原子的构成原子数为5或6的杂环，例如可列举：吡咯啶、吡咯、咪唑、吡唑、哌啶、吡啶、哌嗪、哒嗪、嘧啶及吡嗪等。所述杂环中，优选为构成所述杂环、且构成所述苯环的碳原子的邻近的1个原子为氮原子的杂环，更优选为吡咯啶。

[化5]

式(II)中，X独立地表示-O-、-S-、-Se-、-N-R^c-或-C(R^dR^d)-；存在多个的R^c分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e；存在多个的R^d分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^eR^f基，相邻的R^d彼此可连结而形成可具有取代基的环；-L^a～-L^e、-L¹、R^e及R^f与所述式(I)中所定义的-L^a～-L^e、-L¹、R^e及R^f同义。

作为所述式(II)中的R^c，优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、苯基、三氟甲基、五氟乙基，更优选为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基。

作为所述式(II)中的R^d，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、正己基、环己基、苯基、甲氧基、三氟甲基、五氟乙基、4-氨基环己基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、三氟甲基、五氟乙基。

作为所述X，优选为-O-、-S-、-Se-、-N-Me-、-N-Et-、-CH₂-、-C-Me₂-、-C-Et₂-，更优选为-S-、-C-Me₂-、-C-Et₂-。

在所述式(II)中，相邻的R^d彼此连结可形成环。作为此种环，例如可列举：苯并假吲哚环、α-萘并咪唑环、β-萘并咪唑环、α-萘并噁唑环、β-萘并噁唑环、α-萘并噻唑环、β-萘并噻唑环、α-萘并硒唑环、β-萘并硒唑环。

化合物(I)及化合物(II)除了如下述式(I-1)及下述式(II-1)的记载方法外，也可如下述式(I-2)及下述式(II-2)般利用如取得共振结构的记载方法表示结构。即，下述式(I-1)与下述式(I-2)的差异、及下述式(II-1)与下述式(II-2)的差异仅为结构的记载方法，均表示同一化合物。在本发明中，只要无特别说明，利用如下述式(I-1)及下述式(II-1)的记载方法表示方酸内鎓系化合物的结构。

[化6]

而且，例如下述式(I-3)所示的化合物与下述式(I-4)所示的化合物可视作同一化合物。

[化7]

化合物(I)及化合物(II)只要分别满足所述式(I)及所述式(II)的要件，则结构并无特别限定。例如如所述式(I-1)及所述式(II-1)般表示结构时，与中央的四元环键结的左右的取代基可相同，也可不同，取代基相同的在合成上容易，因此优选。

作为化合物(I)及化合物(II)的具体例，可列举：具有下述(I-A)～(I-H)所示的基本骨架的下述表1～表3所记载的化合物(a-1)～化合物(a-36)。

[化8]

[化9]

[表1]

表1

[表2]

表2

[表3]

表3

化合物(I)及化合物(II)只要利用通常所知的方法进行合成即可，例如可参照日本专利特开平1-228960号公报、日本专利特开2001-40234号公报、日本专利第3196383号公报等所记载的方法等进行合成。

《酞菁系化合物》

所述酞菁系化合物优选为下述式(III)所示的化合物(以下也称为“化合物(III)”)。

[化10]

式(III)中，M表示2个氢原子、2个1价金属原子、2价金属原子、或包含3价或4价金属原子的取代金属原子，

存在多个的R_a、R_b、R_c及R_d分别独立地表示选自由氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴、或与R_a与R_b、R_b与R_c、及R_c与R_d中至少一个组合键结的下述式(A)～式(H)所示的基团所组成的组群的至少一种基团。其中，键结于同一芳香环的R_a、R_b、R_c及R_d中至少一个不为氢原子。

所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有所述式(I)中所定义的取代基-L，

-L¹与所述式(I)中所定义的-L¹同义，

-L²表示氢原子或所述式(I)中所定义的-L^a～-L^e的任一个，

-L³表示羟基或所述-L^a～-L^e的任一个，

-L⁴表示所述-L^a～-L^e的任一个。

[化11]

式(A)～式(H)中，R_x及R_y表示碳原子，

存在多个的R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴，

所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有所述式(I)中所定义的取代基-L，-L¹～-L⁴与所述式(III)中所定义的-L¹～-L⁴同义。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为可具有取代基-L的氨基，可列举：氨基、乙基氨基、二甲基氨基、甲基乙基氨基、二丁基氮基、二异丙基氨基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为可具有取代基-L的酰胺基，可列举：酰胺基、甲基酰胺基、二甲基酰胺基、二乙基酰胺基、二丙基酰胺基、二异丙基酰胺基、二丁基酰胺基、α-内酰胺基、β-内酰胺基、γ-内酰胺基、δ-内酰胺基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为可具有取代基-L的酰亚胺基，可列举：酰亚胺基、甲基酰亚胺基、乙基酰亚胺基、二乙基酰亚胺基、二丙基酰亚胺基、二异丙基酰亚胺基、二丁基酰亚胺基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为可具有取代基-L的硅烷基，可列举：三甲基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、三苯基硅烷基、三乙基硅烷基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为-S-L²，可列举：硫醇基、甲基硫醚基、乙基硫醚基、丙基硫醚基、丁基硫醚基、异丁基硫醚基、仲丁基硫醚基、叔丁基硫醚基、苯基硫醚基、2，6-二-叔丁基苯基硫醚基、2，6-二苯基苯基硫醚基、4-枯基苯基硫醚基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为-SS-L²，可列举：二硫醚基、甲基二硫醚基、乙基二硫醚基、丙基二硫醚基、丁基二硫醚基、异丁基二硫醚基、仲丁基二硫醚基、叔丁基二硫醚基、苯基二硫醚基、2，6-二-叔丁基苯基二硫醚基、2，6-二苯基苯基二硫醚基、4-枯基苯基二硫醚基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为-SO₂-L³，可列举：磺基、甲磺酰基、乙基磺酰基、正丁基磺酰基、对甲苯磺酰基等。

所述R_a～R_d及R_A～R_L中，作为-N＝N-L⁴，可列举：甲基偶氮基、苯基偶氮基、对甲基苯基偶氮基、对二甲基氨基苯基偶氮基等。

所述M中，作为1价金属原子，可列举：Li、Na、K、Rb、Cs等。

所述M中，作为2价金属原子，可列举：Be、Mg、Ca、Ba、Ti、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ni、Pd、Pt、Cu、Zn、Cd、Hg、Sn、Pb等。

所述M中，作为包含3价金属原子的取代金属原子，可列举：Al-F、Al-Cl、Al-Br、Al-I、Ga-F、Ga-Cl、Ga-Br、Ga-I、In-F、In-Cl、In-Br、In-I、Tl-F、Tl-Cl、Tl-Br、Tl-I、Fe-Cl、Ru-Cl、Mn-OH等。

所述M中，作为包含4价金属原子的取代金属原子，可列举：TiF₂、TiCl₂、TiBr₂、TiI₂、ZrCl₂、HfCl₂、CrCl₂、SiF₂、SiCl₂、SiBr₂、SiT₂、GeF₂、GeCl₂、GeBr₂、GeI₂、SnF₂、SnCl₂、SnBr₂、SnI₂、Zr(OH)₂、Hf(OH)₂、Mn(OH)₂、Si(OH)₂、Ge(OH)₂、Sn(OH)₂、TiR₂、CrR₂、SiR₂、GeR₂、SnR₂、Ti(OR)₂、Cr(OR)₂、Si(OR)₂、Ge(OR)₂、Sn(OR)₂(R表示脂肪族基或芳香族基)、TiO、VO、MnO等。

作为所述M，优选为归属于元素周期表第5族～第11族、且第4周期～第5周期的2价过渡金属、3价或4价金属卤化物或4价金属氧化物，其中，就可达成高的可见光透射率或稳定性而言，特别优选为Cu、Ni、Co及VO。

所述酞菁系化合物通过如下述式(V)的邻苯二腈衍生物的环化反应来合成的方法通常为已知，所得的酞菁系化合物成为如下述式(VI-1)～式(VI-4)的4种异构体的混合物。本发明中，只要无特别说明，对1种酞菁系化合物仅例示1种异构体，对于其他3种异构体也可同样地使用。另外，所述异构体根据需要也可分离而使用，但在本发明中，对异构体混合物进行一次性操作。

[化12]

[化13]

作为所述化合物(III)的具体例，可列举：具有下述式(III-A)～式(III-J)所示的基本骨架的下述表4～表7所记载的(b-1)～(b-61)等。

[化14]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

化合物(III)只要利用通常已知的方法进行合成即可，例如可参照日本专利第4081149号公报或“酞菁-化学与功能-”(IPC、1997年)所记载的方法进行合成。

《花青系化合物》

所述花青系化合物优选为下述式(IV-1)～式(IV-3)的任一式所示的化合物(以下也称为“化合物(IV-1)～化合物(IV-3)”)。

[化15]

式(IV-1)～式(IV-3)中，X_a ^-表示1价阴离子，

存在多个的D独立地表示碳原子、氮原子、氧原子或硫原子，

存在多个的R_a、R_b、R_c、R_d、R_e、R_f、R_g、R_h及R_i分别独立地表示选自由氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴、或与R_b与R_c、R_d与R_e、R_e与R_f、R_f与R_g、R_g与R_h及R_h与R_i中至少一个组合键结的下述式(A)～式(H)所示的基团所组成的组群的至少一种基团，

-L¹与所述式(I)中所定义的-L¹同义，

-L²表示氢原子或所述式(I)中所定义的-L^a～-L^e的任一个，

-L³表示氢原子或所述-L^a～-L^e的任一个，

-L⁴表示所述-L^a～-L^e的任一个，

Z_a～Z_c及Y_a～Y_d分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴(-L¹～-L⁴与所述R_a～R_i中的-L¹～-L⁴同义)、或选自所述中邻接的二个的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数为6～14的芳香族烃基；可包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的5元或6元环的脂环式烃基；或包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的碳数为3～14的杂芳香族烃基；所述芳香族烃基、脂环式烃基及杂芳香族烃基可具有碳数为1～9的脂肪族烃基或卤素原子。

[化16]

式(A)～式(H)中，R_x及R_y表示碳原子，

存在多个的R_A～R_L分别独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、羧基、硝基、氨基、酰胺基、酰亚胺基、氰基、硅烷基、-L¹、-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³或-N＝N-L⁴(-L¹～-L⁴与所述式(IV-1)～式(IV-3)中所定义的-L¹～-L⁴同义)，所述氨基、酰胺基、酰亚胺基及硅烷基可具有所述取代基-L。

作为所述Z_a～Z_c及Y_a～Y_d中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数为6～14的芳香族烃基，例如可列举：由所述取代基-L中的芳香族烃基例示的化合物。

作为所述Z_a～Z_c及Y_a～Y_d中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的可包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的5元或6元环的脂环式烃基，例如可列举：由所述取代基-L中的脂环式烃基及杂环例示的化合物(杂芳香族烃基除外)。

作为所述Z_a～Z_c及Y_a～Y_d中的Z彼此或Y彼此相互键结而形成的碳数为3～14的杂芳香族烃基，例如可列举：作为所述取代基-L中的杂环基而例示的化合物(包含至少一个氮原子、氧原子或硫原子的脂环式烃基除外)。

所述(IV-1)～(IV-3)中，作为-S-L²、-SS-L²、-SO₂-L³、-N＝N-L⁴、可具有取代基-L的氨基、酰胺基、酰亚胺基、硅烷基，可列举：与所述式(III)所例示的基团同样的基团等。

X_a ^-若为1价阴离子，则并无特别限定，可列举：I^-、Br^-、PF₆ ^-、N(SO₂CF₃)₂ ^-、B(C₆F₅)₄ ^-、镍二硫醇盐系络合物、铜二硫醇盐系络合物等。

作为所述化合物(IV-1)～化合物(IV-3)的具体例，可列举：下述表8所记载的(c-1)～(c-24)等。

[表8]

表8

所述化合物(IV-1)～化合物(IV-3)只要利用通常已知的方法进行合成即可，例如可利用日本专利特开2009-108267号公报所记载的方法进行合成。

《化合物(S)》

化合物(S)的吸收极大波长优选为755nm～845nm，更优选为760nm～840nm，特别优选为765nm～835nm。若化合物(S)的吸收极大波长为此种范围，则可选择性地效率佳地截止近红外线选择透射频带附近的不需要的近红外线。

作为所述化合物(S)，优选为下述式(S1)所示的方酸内鎓系化合物(以下也称为“化合物(S1)”)。

[化17]

式(S1)中，X独立地表示氧原子、硫原子、硒原子或-NH-，R¹～R⁷分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L¹或-NR^gR^h基。R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L³或-C(O)Rⁱ基(Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e)。

-L¹为-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e、-L^f、-L^g或-L^h。

-L^a～-L^h与所述式(I)中所定义的-L^a～-L^h同义。

作为所述R¹，优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、硝基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、羟基。

作为所述R²～R⁷，优选为分别独立地为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、环己基、苯基、羟基、氨基、二甲基氨基、氰基、硝基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、N-甲基乙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基，更优选为氢原子、氯原子、氟原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、羟基、二甲基氨基、硝基、乙酰基氨基、丙酰基氨基、三氟甲酰基氨基、五氟乙酰基氨基、叔丁酰基氨基、环己酰基氨基。

作为所述X，优选为氧原子、硫原子，特别优选为氧原子。

化合物(S1)除了如下述式(S1-1)的记载方法外，也可如下述式(S1-2)般利用如取得共振结构的记载方法表示结构。即，下述式(S1-1)与下述式(S1-2)的差异仅为结构的记载方法，均表示同一化合物。本发明中，只要无特别说明，利用如下述式(S1-1)的记载方法表示方酸内鎓系化合物的结构。

[化18]

而且，例如下述式(S1-3)所示的化合物与下述式(S1-4)所示的化合物，可视作同一化合物。

[化19]

化合物(S1)若满足所述式(S1)的要件，则结构并无特别限定。例如如所述式(S1-1)般表示结构时，与中央的四元环键结的左右的取代基可相同，也可不同，但取代基相同的在合成上容易，因此优选。

作为化合物(S1)的具体例，可列举：下述表9所记载的化合物(s-1)～化合物(s-20)。

[表9]

化合物(S)只要利用通常已知的方法进行合成即可，例如可参照日本专利特开平1-228960号公报、日本专利特开2001-40234号公报、日本专利第3094037号公报、日本专利第3196383号公报等所记载的方法等进行合成。

<其他色素(X)>

所述基材(i)可进一步包含不与化合物(Z)相当的其他色素(X)。

作为其他色素(X)，若为吸收极大波长小于600nm或超过850nm的，则并无特别限制，例如可列举：选自由方酸内鎓系化合物、酞菁系化合物、花青系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、卟啉系化合物及金属二硫醇盐系化合物所组成的组群的至少一种化合物。根据化合物(Z)的吸收特性或作为目标的近红外透射波长，通过将化合物(Z)与其他色素(X)并用，而除了可见波长区域外，也可在近红外透射频带的长波长侧降低入射角依存性，并可达成良好的红外感测性能。

关于其他色素(X)的含量，例如在使用包含含有其他色素(X)的透明树脂制基板(ii)的基材、或在含有其他色素(X)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层的基材作为所述基材(i)时，相对于透明树脂100重量份，优选为0.01重量份～1.5重量份，更优选为0.02重量份～1.0重量份，特别优选为0.03重量份～0.7重量份，在使用在玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体上层叠包含其他色素(X)及硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层的基材作为所述基材(i)时，相对于形成包含其他色素(X)的透明树脂层的树脂100重量份，优选为0.1重量份～4.0重量份，更优选为0.2重量份～3.0重量份，特别优选为0.3重量份～2.0重量份。

若其他色素(X)的含量为所述范围内，则可兼具良好的近红外线吸收特性与高的可见光透射率。

<透明树脂>

层叠于树脂制支撑体或玻璃支撑体等的透明树脂层及透明树脂制基板(ii)，可使用透明树脂而形成。

作为所述基材(i)所用的透明树脂，可为单独1种，也可为2种以上。

作为透明树脂，只要不损害本发明的效果，则并无特别限制，例如为了制成确保热稳定性或在膜上的成型性、且可通过在100℃以上的蒸镀温度下进行的高温蒸镀而形成介电体多层膜的基材，可列举：玻璃化温度(Tg)优选为110℃～380℃、更优选为110℃～370℃、尤其优选为120℃～360℃的树脂。另外，若所述树脂的玻璃化温度为140℃以上，则可获得能在更高温下蒸镀形成介电体多层膜的膜(透明树脂层及透明树脂制基板(ii))，因此特别优选。

Tg具体可利用下述实施例所记载的方法进行测定。

作为透明树脂，在形成包含所述树脂的厚度为0.1mm的树脂制支撑体时，可使用所述树脂制支撑体的总透光率(JIS K7375)优选为75％以上、更优选为78％以上、特别优选为80％以上的树脂。若使用总透光率为此种范围的树脂，则所得的基材(i)会表现出作为光学膜的良好的透明性。

作为透明树脂，在使用溶剂可溶性树脂时，所述透明树脂的利用凝胶渗透色谱(Gel Permeation Chromatography，GPC)法测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)，通常为15,000～350,000，优选为30,000～250,000，数量平均分子量(Mn)通常为10,000～150,000，优选为20,000～100,000。

Mw及Mn具体可利用下述实施例所记载的方法进行测定。

作为透明树脂，例如可列举：环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene Naphthalate，PEN)系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯系紫外线硬化型树脂。

<<环状(聚)烯烃系树脂>>

作为环状(聚)烯烃系树脂，优选为由选自由下述式(X₀)所示的单体及下述式(Y₀)所示的单体所组成的组群的至少一种单体而得的树脂、及通过将所述树脂氢化而得的树脂。

[化20]

式(X₀)中，R^x1～R^x4分别独立地表示选自下述(i′)～(ix′)的原子或基团，k^x、m^x及p^x分别独立地表示0或正整数。

(i′)氢原子

(ii′)卤素原子

(iii′)三烷基硅烷基

(iv′)具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基的经取代或未经取代的碳数为1～30的烃基

(v′)经取代或未经取代的碳数为1～30的烃基

(vi′)极性基(其中，(iv′)除外)

(vii′)R^x1与R^x2或R^x3与R^x4相互键结而形成的亚烷基(其中，未参与所述键结的R^x1～R^x4分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)的原子或基团)

(viii′)R^x1与R^x2或R^x3与R^x4相互键结而形成的单环或多环的烃环或杂环(其中，未参与所述键结的R^x1～R^x4分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)的原子或基团)

(ix′)R^x2与R^x3相互键结而形成的单环的烃环或杂环(其中，未参与所述键结的R^x1与R^x4分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)的原子或基团)

[化21]

式(Y₀)中，R^y1及R^y2分别独立地表示选自所述(i′)～(vi′)的原子或基团，或表示R^y1与R^y2相互键结而形成的单环或多环的脂环式烃、芳香族烃或杂环，k^y及p^y分别独立地表示0或正整数。

<<芳香族聚醚系树脂>>

芳香族聚醚系树脂优选为具有选自由下述式(1)所示的结构单元及下述式(2)所示的结构单元所组成的组群的至少一种结构单元。

[化22]

式(1)中，R¹～R⁴分别独立地表示碳数为1～12的1价有机基，a～d分别独立地表示0～4的整数。

[化23]

式(2)中，R¹～R⁴及a～d分别独立地与所述式(1)中的R¹～R⁴及a～d同义，Y表示单键、-SO₂-或＞C＝O，R⁷及R⁸分别独立地表示卤素原子、碳数为1～12的1价有机基或硝基，g及h分别独立地表示0～4的整数，m表示0或1。其中，在m为0时，R⁷不为氰基。

另外，所述芳香族聚醚系树脂优选为进一步具有选自由下述式(3)所示的结构单元及下述式(4)所示的结构单元所组成的组群的至少一种结构单元。

[化24]

式(3)中，R⁵及R⁶分别独立地表示碳数为1～12的1价有机基，Z表示单键、-O-、-S-、-SO₂-、＞C＝O、-CONH-、-COO-或碳数为1～12的2价有机基，e及f分别独立地表示0～4的整数，n表示0或1。

[化25]

式(4)中，R⁷、R⁸、Y、m、g及h分别独立地与所述式(2)中的R⁷、R⁸、Y、m、g及h同义，R⁵、R⁶、Z、n、e及f分别独立地与所述式(3)中的R⁵、R⁶、Z、n、e及f同义。

<<聚酰亚胺系树脂>>

作为聚酰亚胺系树脂，并无特别限制，只要为在重复单元中包含酰亚胺键的高分子化合物即可，例如可利用日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报所记载的方法进行合成。

<<芴聚碳酸酯系树脂>>

作为芴聚碳酸酯系树脂，并无特别限制，只要为包含芴部位的聚碳酸酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2008-163194号公报所记载的方法进行合成。

<<芴聚酯系树脂>>

作为芴聚酯系树脂，并无特别限制，只要为包含芴部位的聚酯树脂即可，例如可利用日本专利特开2010-285505号公报或日本专利特开2011-197450号公报所记载的方法进行合成。

<<氟化芳香族聚合物系树脂>>

作为氟化芳香族聚合物系树脂，并无特别限制，优选为含有具有至少一个氟原子的芳香族环、与包含选自由醚键、酮键、砜键、酰胺键、酰亚胺键及酯键所组成的组群的至少一种键的重复单元的聚合物，例如可利用日本专利特开2008-181121号公报所记载的方法进行合成。

<<丙烯酸系紫外线硬化型树脂>>

作为丙烯酸系紫外线硬化型树脂，并无特别限制，可列举：由含有在分子内具有一个以上丙烯酸基或甲基丙烯酸基的化合物、与通过紫外线进行分解而产生活性自由基的化合物的树脂组合物而合成的。丙烯酸系紫外线硬化型树脂在使用在玻璃支撑体上或成为基础的树脂制支撑体上层叠包含化合物(Z)及硬化性树脂的透明树脂层的基材、或在含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)上层叠包含硬化性树脂等的外涂层等树脂层的基材，来作为所述基材(i)时，可特别优选地用作所述硬化性树脂。

<<市售品>>

作为透明树脂的市售品，可列举以下的市售品等。作为环状(聚)烯烃系树脂的市售品，可列举：日本合成橡胶公司(Japan Synthetic Rubber co，JSR)(股)制造的塑料亚通(ARTON)、日本瑞翁(ZEON)(股)制造的瑞翁诺亚(ZEONOR)、三井化学(股)制造的环烯烃共聚亚派璐(APEL)、日本宝理(Polyplastics)(股)制造的托帕斯(TOPAS)等。作为聚醚砜系树脂的市售品，可列举：住友化学(股)制造的斯密卡埃库赛尔聚醚砜(Sumikaexcel PES)等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，可列举：三菱瓦斯化学(Mitsubishi Gas Chemical)(股)制造的尼奥精华L(Neoprime L)等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举：帝人(股)制造的皮莱阿塞(PUREACE)等。作为芴聚碳酸酯系树脂的市售品，可列举：三菱瓦斯化学(股)制造的尤匹甾拓(Iupizeta)EP-5000等。作为芴聚酯系树脂的市售品，可列举：大阪瓦斯化学(Osaka Gas Chemicals)(股)制造的OKP4HT等。作为丙烯酸系树脂的市售品，可列举：日本催化剂(股)制造的阿酷理毕油而(ACRYVIEWA)等。作为硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂的市售品，可列举：新日铁化学(股)制造的硅帕鲁(SILPLUS)等。

<其他成分>

所述基材(i)在不损害本发明的效果的范围内，可进一步含有抗氧化剂、近紫外线吸收剂、荧光消光剂及金属络合物系化合物等添加剂。另外，在通过后述的浇铸成型制造基材(i)时，可通过添加流平剂或消泡剂而容易制造基材(i)。所述其他成分可单独使用1种，也可并用2种以上。

作为所述近紫外线吸收剂，例如可列举：甲亚胺系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物等。

作为所述抗氧化剂，例如可列举：2，6-二-叔丁基-4-甲基苯酚、2，2′-二氧-3，3′-二-叔丁基-5，5′-二甲基二苯基甲烷、及四[亚甲基-3-(3，5-二-叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]甲烷等。

另外，所述添加剂可在制造基材(i)时与树脂等一起混合，也可在合成树脂时添加。另外，添加量根据所期望的特性进行适当选择，但相对于树脂100重量份，通常为0.01重量份～5.0重量份，优选为0.05重量份～2.0重量份。

<基材(i)的制造方法>

在所述基材(i)为包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)的基材时，所述透明树脂制基板(ii)例如可通过熔融成型或浇铸成型而形成，而且根据需要，可通过在成型后涂布抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂，而制造层叠了外涂层的基材。

在所述基材(i)为在玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体或透明树脂制基板(ii)上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层的基材时，例如可通过在玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体或透明树脂制基板(ii)上将包含化合物(Z)的树脂溶液进行熔融成型或浇铸成型，优选为通过利用旋涂、狭缝涂布、喷墨等方法涂敷后将溶剂干燥除去，根据需要进一步进行光照射或加热，而制造在玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体或透明树脂制基板(ii)上形成有透明树脂层的基材。

<<熔融成型>>

作为所述熔融成型，具体可列举：将树脂与化合物(Z)等熔融混练而得的颗粒熔融成型的方法；将含有树脂与化合物(Z)的树脂组合物熔融成型的方法；或者将自包含化合物(Z)、树脂及溶剂的树脂组合物除去溶剂而得的颗粒熔融成型的方法等。作为熔融成型方法，可列举：射出成型、熔融挤出成型或吹塑成型等。

<<浇铸成型>>

作为所述浇铸成型，也可利用以下的方法而制造：将包含化合物(Z)、树脂及溶剂的树脂组合物浇铸在适当的支撑体上而除去溶剂的方法；或者将包含化合物(Z)、与光硬化性树脂和/或热硬化性树脂的硬化性组合物浇铸在适当的支撑体上而除去溶剂后，利用紫外线照射或加热等恰当的方法进行硬化的方法等。

在所述基材(i)为包含含有化合物(Z)的透明树脂制基板(ii)的基材时，所述基材(i)可通过在浇铸成型后自支撑体剥离涂膜而得，另外，在所述基材(i)为在玻璃支撑体或成为基础的树脂制支撑体等支撑体或透明树脂制基板(ii)上层叠包含含有化合物(Z)的硬化性树脂等的外涂层等透明树脂层的基材时，所述基材(i)可通过在浇铸成型后不剥离涂膜而得。

作为所述支撑体，例如可列举：玻璃板、钢带(steel belt)、钢鼓及透明树脂制支撑体(例如包含所述透明树脂等的膜(聚酯膜、环状烯烃系树脂膜等))。

而且，也可利用以下方法在光学零件上形成透明树脂层：在玻璃板、石英或透明塑料制等的光学零件上，涂布所述树脂组合物使溶剂干燥的方法；或者涂布所述硬化性组合物使其硬化及干燥的方法等。

利用所述方法而得的透明树脂层(透明树脂制基板(ii))中的残留溶剂量优选为尽可能少。具体而言，相对于透明树脂层(透明树脂制基板(ii))的重量，所述残留溶剂量优选为3重量％以下，更优选为1重量％以下，尤其优选为0.5重量％以下。若残留溶剂量为所述范围，则可获得变形或特性难以变化、可容易地发挥出所期望的功能的透明树脂层(透明树脂制基板(ii))。

[介电体多层膜]

构成本发明的光学滤波器的介电体多层膜，是具有通过反射截止不需要的近红外线并且使需要的近红外线透射的能力的膜。本发明中，介电体多层膜可设置于基材(i)的单面，也可设置于两面。在设置于单面时，制造成本或制造容易性优异，设置于两面时，可获得具有高的强度，并且难以产生翘曲的光学滤波器。

在将本发明的光学滤波器应用于固体摄像元件等用途时，优选为光学滤波器的翘曲小，因此优选为将介电体多层膜设置于基材(i)的两面，设置于两面的介电体多层膜的分光特性可相同也可不同。在设置于两面的介电体多层膜的分光特性相同时，可在近红外波长区域效率佳地降低光线阻止频带Za及光线阻止频带Zc的透射率，在设置于两面的介电体多层膜的分光特性不同时，有容易将光线阻止频带Zc扩大至更长波长侧的倾向。

另外，在基材(i)的两面具有分光特性不同的介电体多层膜时，自光学滤波器的至少一个面侧(具有介电体多层膜的面侧)测定的、优选为自光学滤波器的两面(具有介电体多层膜的面)测定的波长为Y-10nm～Y+10nm的波长区域中的平均反射率，优选为20％以下，更优选为18％以下，特别优选为15％以下。若波长为Y-10nm～Y+10nm的波长区域中的介电体多层膜的反射率为所述范围，则所得的光学滤波器在所期望的近红外波长中的感度变高，并可达成优异的近红外感测性能。

作为介电体多层膜，可列举：将高折射率材料层与低折射率材料层交替层叠的。作为构成高折射率材料层的材料，可使用折射率为1.7以上的材料，选择折射率通常为1.7～2.5的材料。作为此种材料，例如可列举：将氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌或氧化铟等作为主成分，并含有少量(例如相对于主成分而为0重量％～10重量％)的氧化锡和/或氧化铈等的。

作为构成低折射率材料层的材料，可使用折射率为1.6以下的材料，选择折射率通常为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化硅、氧化铝、氟化镧、氟化镁及六氟化铝钠。

关于将高折射率材料层与低折射率材料层层叠的方法，只要形成将所述材料层层叠的介电体多层膜，则并无特别限制。例如可在基材(i)上利用化学气相沉积(ChemicalVapor Deposition，CVD)法、溅镀法、真空蒸镀法、离子辅助蒸镀法或离子镀敷法等，直接形成将高折射率材料层与低折射率材料层交替地层叠的介电体多层膜。

高折射率材料层及低折射率材料层的各层的物理膜厚也取决于各层的折射率，通常优选为5nm～500nm，介电体多层膜的物理膜厚的合计值以光学滤波器整体计优选为1.0μm～8.0μm。

介电体多层膜中的高折射率材料层与低折射率材料层的合计的层叠数，以光学滤波器整体计优选为16层～70层，更优选为20层～60层。若各层的厚度、以光学滤波器整体计的介电体多层膜的厚度或合计的层叠数为所述范围，则可确保充分的制造余裕(margin)，而且可降低光学滤波器的翘曲或介电体多层膜的龟裂。

本发明中，通过恰当地选择构成高折射率材料层及低折射率材料层的材料种类、高折射率材料层及低折射率材料层的各层的厚度、层叠的顺序、层叠数，而可获得在可见区域确保充分的透射率，而且在近红外波长区域具有所期望的波长的光线阻止频带或光线透射频带的光学滤波器。

此处，为了使所述条件最佳化，例如只要以如下方式设定参数即可，使用光学薄膜设计软件(例如麦克劳德(Essential Macleod)、薄膜中心(Thin Film Center)公司制造)，在近红外波长区域降低欲控制光线的透射的波长区域的透射率，并且提高欲透射光线的波长区域的透射率。例如可列举以下的参数设定方法：通过形成于两面的介电体多层膜在800nm附近设置光线透射频带时，使用所述软件，将一个介电体多层膜的波长为720nm～760nm的目标透射率设为0％，将780nm～820nm的目标透射率设为100％，而且将各波长区域的目标公差(Target Tolerance)的值设为0.5以下等，将另一个介电体多层膜的波长为780nm～820nm的目标透射率设为100％，将850nm～1100nm的目标透射率设为0％，而且将各波长区域的目标公差的值设为0.5以下等。

[其他功能膜]

本发明的光学滤波器在不损害本发明的效果的范围内，可在基材(i)与介电体多层膜之间、与基材(i)的设置有介电体多层膜的面相反侧的面、或与介电体多层膜的设置有基材(i)的面相反侧的面，为了提高基材(i)或介电体多层膜的表面硬度、提高耐化学品性、抗静电及消除损伤等，可适当设置抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。

本发明的光学滤波器可包含1层含有所述功能膜的层，也可包含2层以上。在本发明的光学滤波器包含2层以上的含有所述功能膜的层时，可包含2层以上同样的层，也可包含2层以上不同的层。

作为层叠功能膜的方法，并无特别限制，可列举：在基材(i)或介电体多层膜上，以与所述相同的方式，将抗反射剂、硬涂剂和/或抗静电剂等涂布剂等进行熔融成型或浇铸成型的方法等。

另外，也可通过以下方式制造：利用棒涂机等将包含所述涂布剂等的硬化性组合物涂布于基材(i)或介电体多层膜上后，通过紫外线照射等进行硬化。

作为所述涂布剂，可列举：紫外线(Ultraviolet，UV)/电子束(Electron Beam，EB)硬化型树脂或热硬化型树脂等，具体可列举：乙烯系化合物类、或氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系树脂等。作为包含所述涂布剂的所述硬化性组合物，可列举：乙烯系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、丙烯酸酯系、环氧系及环氧丙烯酸酯系硬化性组合物等。

另外，所述硬化性组合物可包含聚合引发剂。作为所述聚合引发剂，可使用公知的光聚合引发剂或热聚合引发剂，也可将光聚合引发剂与热聚合引发剂并用。聚合引发剂可单独使用1种，也可并用2种以上。

所述硬化性组合物中，在将硬化性组合物的总量设为100重量％时，聚合引发剂的调配比例优选为0.1重量％～10重量％，更优选为0.5重量％～10重量％，尤其优选为1重量％～5重量％。若聚合引发剂的调配比例为所述范围，则可获得硬化性组合物的硬化特性及操作性优异、并具有所期望的硬度的抗反射膜、硬涂膜或抗静电膜等功能膜。

而且，在所述硬化性组合物中可添加有机溶剂作为溶剂，作为有机溶剂，可使用公知的。作为有机溶剂的具体例，可列举：甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇等醇类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯等酯类；乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚等醚类；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。

所述溶剂可单独使用1种，也可并用2种以上。

所述功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，更优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。

另外，为了提高基材(i)与功能膜和/或介电体多层膜的密接性、或功能膜与介电体多层膜的密接性，可对基材(i)、功能膜或介电体多层膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。

[光学滤波器的用途]

本发明的光学滤波器的视角宽，可选择性地透射可见光与一部分近红外线。因此，有效用作兼具照相机功能与近红外感测功能的CCD或CMOS图像传感器等固体摄像元件的视感度修正用途。特别有效用于：数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄影机、可穿戴装置(wearable device)用照相机、个人计算机(Personal Computer，PC)照相机、监视照相机、汽车用照相机、夜视照相机、动作捕捉、激光距离计、虚拟(virtual)试穿、号牌(number plate)识别装置、电视机、汽车导航(car navigation)、个人数字助理、视频游戏机、掌上型游戏机、指纹识别系统、数字音乐播放器等。

[固体摄像装置]

本发明的固体摄像装置具备本发明的光学滤波器。此处，所谓固体摄像装置，是具备兼具照相机功能与近红外感测功能的CCD或CMOS图像传感器等固体摄像元件的图像传感器，具体而言，可用于数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、可穿戴装置用照相机、数字摄影机等用途。例如，本发明的照相机模块具备本发明的光学滤波器。

[实施例]

以下，根据实施例对本发明进行更具体地说明，但本发明不受所述实施例任何限定。另外，“份”只要无特别说明，是指“重量份”。另外，各物性值的测定方法及物性的评价方法如以下所述。

<分子量>

树脂的分子量是考虑各树脂在溶剂中的溶解性等，利用下述(a)或(b)的方法进行测定。

(a)使用沃特世(WATERS)公司制造的凝胶渗透色谱(Gel PermeationChromatography，GPC)装置(150C型、管柱：东曹(Tosoh)(股)制造的H型管柱、展开溶剂：邻二氯苯)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。

(b)使用东曹(股)制造的GPC装置(HLC-8220型、管柱：TSKgelα-M、展开溶剂：四氢呋喃)，测定标准聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)。

另外，关于后述树脂合成例3中所合成的树脂，并非利用所述方法的分子量的测定，而是利用下述方法(c)进行对数粘度的测定。

(c)将聚酰亚胺树脂溶液的一部分投入至无水甲醇中，使聚酰亚胺树脂析出，进行过滤将未反应单体分离。将在80℃下进行12小时真空干燥而得的聚酰亚胺0.1g溶解于N-甲基-2-吡咯烷酮20mL中，使用堪农-芬斯克(Cannon Fenske)粘度计利用下述式求出30℃时的对数粘度(μ)。

μ＝{ln(t_s/t₀)}/C

t₀：溶剂的流下时间

t_s：稀高分子溶液的流下时间

C：0.5g/dL

<玻璃化温度(Tg)>

使用精工电子纳米科技(SII Nanotechnologies)(股)制造的示差扫描热量计(DSC6200)，在升温速度：每分钟20℃、氮气流下进行测定。

<分光透射率>

关于基材的(Ta)、(Xc)、(Tb)及(Xf)、以及光学滤波器的各波长区域中的透射率及反射率、(Xa)、(Xb)、(Xd)、(Xe)及(Xa′)，使用日立高新技术(Hitachi High-Technologies)(股)制造的分光光度计(U-4100)进行测定。

此处，自基材及光学滤波器的垂直方向测定时的透射率，如图1(a)般测定相对于基材或光学滤波器而垂直地透射的光。另外，相对于光学滤波器的垂直方向而自30°的角度测定时的透射率，如图1(b)般测定相对于光学滤波器的垂直方向而以30°的角度透射的光。

另外，所述透射率中，除了测定(Xe)及(Xa′)的情形外，是在光相对于基材及光学滤波器而垂直地入射的条件下，使用所述分光光度计测定的。在测定(Xe)及(Xa′)时，是在光相对于光学滤波器的垂直方向而以30°的角度入射的条件下使用所述分光光度计测定的。

另外，光学滤波器的反射率是在如图1(c)般的装置附属的夹具上设置光学滤波器，相对于垂直方向而自5°的角度进行测定。

[合成例]

下述实施例中所用的化合物(A)、化合物(S)及其他色素(X)，可利用通常已知的方法合成，例如可参照日本专利第3366697号、日本专利第2846091号、日本专利第2864475号、日本专利第3094037号、日本专利第3703869号、日本专利特开昭60-228448号公报、日本专利特开平1-146846号公报、日本专利特开平1-228960号公报、日本专利第4081149号、日本专利特开昭63-124054号公报、“酞菁-化学与功能-”(IPC、1997年)、日本专利特开2007-169315号公报、日本专利特开2009-108267号公报、日本专利特开2010-241873号公报、日本专利第3699464号、日本专利第4740631号等所记载的方法进行合成。

<树脂合成例1>

将下述式(a)所示的8-甲基-8-甲氧基羰基四环[4.4.0.1^2，5.1^7，10]十二-3-烯100份、1-己烯(分子量调节剂)18份及甲苯(开环聚合反应用溶剂)300份投入至经氮气置换的反应容器中，将所述溶液加热至80℃。继而，在反应容器内的溶液中，添加三乙基铝的甲苯溶液(浓度为0.6mol/升)0.2份、及甲醇改性的六氯化钨的甲苯溶液(浓度为0.025mol/升)0.9份作为聚合催化剂，将所得的溶液在80℃下加热搅拌3小时，由此进行开环聚合反应而获得开环聚合物溶液。所述聚合反应中的聚合转化率为97％。

[化26]

将如此而得的开环聚合物溶液1,000份投入至高压釜中，在所述开环聚合物溶液中，添加0.12份RuHCl(CO)[P(C₆H₅)₃]₃，在氢气压为100kg/cm²、反应温度为165℃的条件下，加热搅拌3小时进行氢化反应。将所得的反应溶液(氢化聚合物溶液)冷却后，将氢气放压。将所述反应溶液注入至大量的甲醇中将凝固物分离回收，并将其干燥，而获得氢化聚合物(以下也称为“树脂A”)。所得的树脂A的数量平均分子量(Mn)为32,000、重量平均分子量(Mw)为137,000，玻璃化温度(Tg)为165℃。

<树脂合成例2>

在3L的四口烧瓶中，添加2，6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)、9，9-双(4-羟基苯基)芴87.60g(0.250mol)、碳酸钾41.46g(0.300mol)、N，N-二甲基乙酰胺(以下也称为“(Dimethylacetamide，DMAc)”)443g及甲苯111g。继而，在四口烧瓶中安装温度计、搅拌机、附有氮气导入管的三通旋塞、水分离(Dean-Stark)管及冷却管。继而，将烧瓶内进行氮气置换后，将所得的溶液在140℃下反应3小时，将所生成的水自水分离管随时去除。在确认不到水的生成时，缓慢地将温度上升至160℃为止，并在所述温度下反应6小时。冷却至室温(25℃)为止后，利用滤纸将所生成的盐除去，将滤液投入至甲醇中进行再沉淀，通过过滤分离来将过滤物(残渣)分离。将所得的过滤物在60℃下真空干燥一晚，而获得白色粉末(以下也称为“树脂B”)(产率为95％)。所得的树脂B的数量平均分子量(Mn)为75,000、重量平均分子量(Mw)为188,000，玻璃化温度(Tg)为285℃。

<树脂合成例3>

在具备温度计、搅拌器、氮气导入管、附有侧管的滴液漏斗、水分离管及冷却管的500mL的五口烧瓶中，在氮气流下，加入1，4-XX(4-氨基-α，α-二甲基苄基)苯27.66g(0.08摩尔)及4，4′-双(4-氨基苯氧基)联苯7.38g(0.02摩尔)，并溶解于γ-丁内酯68.65g及N，N-二甲基乙酰胺17.16g中。将所得的溶液使用冰水浴而冷却至5℃，一边保持所述温度一边一次性添加1，2，4，5-环己烷四羧酸二酐22.62g(0.1摩尔)及作为酰亚胺化催化剂的三乙基胺0.50g(0.005摩尔)。添加结束后，升温至180℃，一边随时将馏出液蒸馏除去一边回流6小时。在6小时的回流后，将内温空气冷却至100℃为止，添加DMAc 143.6g进行稀释，一边搅拌一边冷却，由此获得固体成分浓度为20重量％的聚酰亚胺树脂溶液264.16g。将所述聚酰亚胺树脂溶液的一部分注入至1L的甲醇中使聚酰亚胺沉淀。将经过滤分离的聚酰亚胺利用甲醇清洗后，在100℃的真空干燥机中干燥24小时，而获得白色粉末(以下也称为“树脂C”)。

测定所得的树脂C的红外(Infrared，IR)光谱，结果见到酰亚胺基特有的1704cm^-1、1770cm^-1的吸收。树脂C的玻璃化温度(Tg)为310℃，测定对数粘度的结果为0.87。

<树脂合成例4>

将9，9-双(4-2-羟基乙氧基)苯基芴9.167kg(20.90摩尔)、双酚A 4.585kg(20.084摩尔)、碳酸二苯酯9.000kg(42.01摩尔)、及碳酸氢钠0.02066kg(2.459×10^-4摩尔)加入至具备搅拌机及馏出装置的50L反应器中，在氮气环境下在760Torr下历时1小时加热至215℃并搅拌。然后，历时15分钟将减压度调整为150Torr，在215℃、150Torr的条件下保持20分钟，进行酯交换反应。继而，以37.5℃/hr的速度升温至240℃为止，在240℃、150Torr下保持10分钟后，历时10分钟调整为120Torr，在240℃、120Torr下保持70分钟后，继而历时10分钟调整为100Torr，在240℃、100Torr下保持10分钟。然后，历时40分钟设为1Torr以下，在240℃、1Torr以下的条件下搅拌10分钟进行聚合反应。反应结束后，在反应器内导入氮气形成加压状态，一边将所生成的聚碳酸酯树脂(以下也称为“树脂D”)颗粒化一边取出。所得的树脂D的重量平均分子量为41,000，玻璃化温度(Tg)为152℃。

<树脂合成例5>

在反应器中添加9，9-双{4-(2-羟基乙氧基)-3，5-二甲基苯基}芴0.8摩尔、乙二醇2.2摩尔及间苯二甲酸二甲酯1.0摩尔，一边搅拌一边缓慢地加热熔融进行酯交换反应。继而，添加氧化锗20×10^-4摩尔，一边缓慢地进行升温至290℃及减压到达1Torr以下，一边除去乙二醇。然后，将内容物自反应器取出，而获得聚酯树脂(以下也称为“树脂E”)的颗粒。所得的树脂E的数量平均分子量为40,000，玻璃化温度为145℃。

<树脂合成例6>

在具备温度计、冷却管、气体导入管及搅拌机的反应器中，投入4，4′-双(2，3，4，5，6-五氟苯甲酰基)二苯醚(BPDE)16.74份、9，9-双(4-羟基苯基)芴(HF)10.5份、碳酸钾4.34份及DMAc90份。将所述混合物加温至80℃，并反应8小时。反应结束后，一边利用搅拌器剧烈搅拌反应溶液，一边添加于1％乙酸水溶液中。将析出的反应物过滤分离，利用蒸馏水及甲醇清洗后，进行减压干燥，而获得氟化聚醚酮(以下也称为“树脂F”)。所得的树脂F的数量平均分子量为71,000，玻璃化温度(Tg)为242℃。

[实施例1]

在实施例1中，制作具有包含透明树脂制基板的基材，并在波长为790nm～830nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝810nm)。

在容器中，添加合成例1中所得的树脂A 100份、作为化合物(A)的所述表1所记载的化合物(a-16)(在二氯甲烷(dichloromethane)中的吸收极大波长为698nm)0.03份及所述表4所记载的化合物(b-3)(在二氯甲烷(dichloromethane)中的吸收极大波长为733nm)0.03份、以及二氯甲烷(methylene chloride)，而获得树脂浓度为20重量％的溶液。继而，将所得的溶液浇铸在平滑的玻璃板上，在20℃下干燥8小时后，自玻璃板剥离。将剥离的涂膜进一步在减压下在100℃下干燥8小时，而获得厚度为0.1mm、纵为60mm、横为60mm的包含透明树脂制基板的基材。

测定所述基材的分光透射率，求出(Ta)、(Tb)、(Xc)及(Xf)。将结果表示于图2及表15。

继而，在所得的基材的单面形成介电体多层膜(I)，继而在基材的另一个面形成介电体多层膜(II)，而获得厚度约为0.106mm的光学滤波器。

介电体多层膜(I)是在蒸镀温度为100℃下将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)。介电体多层膜(II)是在蒸镀温度为100℃下将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)。介电体多层膜(I)及介电体多层膜(II)的任一介电体多层膜中，二氧化硅层及二氧化钛层是自基材侧依序交替地层叠二氧化钛层、二氧化硅层、二氧化钛层、…二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化硅层，并将光学滤波器的最外层设为二氧化硅层。

介电体多层膜(I)及介电体多层膜(II)的设计以如下方式进行。

关于各层的厚度与层数，以可达成可见区域的抗反射效果与近红外区域的选择性透射、反射性能的方式，根据基材折射率的波长依存特性、或所使用的化合物(A)的吸收特性，使用光学薄膜设计软件(Essential Macleod、薄膜中心公司制造)进行最佳化。进行最佳化时，在本实施例1中将在软件中的输入参数(目标(Target)值)设为如下述表10所述。

[表10]

关于膜构成最佳化的结果，在实施例1中，介电体多层膜(I)成为将膜厚为22nm～467nm的二氧化硅层与膜厚为6nm～130nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为30的多层蒸镀膜，介电体多层膜(II)成为将膜厚为84nm～206nm的二氧化硅层与膜厚为8nm～109nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为20的多层蒸镀膜。将进行最佳化的膜构成的一例表示于表11。

[表11]

*λ＝550nm

测定所述光学滤波器的垂直方向以及相对于垂直方向自30°的角度测定的分光透射率及相对于垂直方向自5°的角度测定的反射率，评价各波长区域中的光学特性。将结果表示于图3、图4及表15。波长为430nm～580nm中的透射率的平均值为88％，Xa为778nm，Xb为842nm，Y为810nm，波长为Y-10nm～Y+10nm的波长区域中的平均透射率为85％，波长为Y-10nm～Y+10nm中的平均反射率为8％，绝对值|Xd-Xe|为3nm，绝对值|Xa-Xa′|为23nm。另外，本实施例1中，波长为Y-10nm～Y+10nm中的平均反射率是自光学滤波器的介电体多层膜(I)侧进行测定。

[实施例2]

在实施例2中，制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并在波长790nm～830nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝811nm)。

在实施例1中，代替作为化合物(A)的化合物(a-16)及化合物(b-3)，而使用所述表1所记载的化合物(a-17)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为703nm)0.04份及所述表6所记载的化合物(b-39)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为736nm)0.04份，除此以外，在与实施例1相同的顺序、条件下获得包含化合物(A)的透明树脂制基板。

在所得的透明树脂制基板的单面，利用棒涂机涂布下述组成的树脂组合物(1)，在烘箱中在70℃下加热2分钟，将溶剂挥发除去。此时，以干燥后的厚度为2μm的方式，调整棒涂机的涂布条件。继而，使用输送带式曝光机进行曝光(曝光量为500mJ/cm²、200mW)，使树脂组合物(1)硬化，而在透明树脂制基板上形成树脂层。同样，在透明树脂制基板的另一个面也形成包含树脂组合物(1)的树脂层，而获得在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有树脂层的基材。

测定所述基材的分光透射率，求出(Ta)、(Tb)、(Xc)及(Xf)。将结果表示于图5及表15。

树脂组合物(1)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羟基环己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮(溶剂、固体成分浓度(TSC)：30％)

继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(III)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(IV)，而获得厚度约为0.110mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地在考虑基材折射率的波长依存性等特性之后，使用与实施例1相同的设计参数而进行。

测定所述光学滤波器的分光透射率及反射率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果表示于图6、图7及表15。

[实施例3]

在实施例3中，制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并在波长为840nm～890nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝864nm)。

以与实施例1相同的方式制作透明树脂制基板后，以与实施例2相同的方式，在所得的透明树脂制基板的两面形成包含树脂组合物(1)的树脂层，而获得在包含化合物(A)的透明树脂制基板的两面具有树脂层的基材。

测定所述基材的分光透射率，求出(Ta)、(Tb)、(Xc)及(Xf)。将结果表示于表15。

继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成介电体多层膜(V)，继而在基材的另一个面形成介电体多层膜(VI)，而获得厚度约为0.110mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地在考虑基材折射率的波长依存性等特性之后，使用表12所记载的设计参数进行。

[表12]

关于膜构成最佳化的结果，在实施例3中，介电体多层膜(V)成为将膜厚为15nm～222nm的二氧化硅层与膜厚为9nm～179nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为30的多层蒸镀膜，介电体多层膜(VI)成为将膜厚为94nm～211nm的二氧化硅层与膜厚为7nm～115nm的二氧化钛层交替地层叠而成的层叠数为20的多层蒸镀膜。将进行最佳化的膜构成的一例表示于表13。

[表13]

*λ＝550nm

测定所述光学滤波器的分光透射率及反射率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果表示于图8、图9及表15。

[实施例4]

在实施例4中，制作具有包含在两面具有含有化合物(A)的透明树脂层的树脂制支撑体的基材，并在波长为790nm～830nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝810nm)。

在容器中，如表15所示般添加合成例1中所得的树脂A及二氯甲烷，而获得树脂浓度为20重量％的溶液。除此以外，以与实施例1相同的方式，制作树脂制支撑体。

在所得的树脂制支撑体的两面，以与实施例2相同的方式，形成包含下述组成的树脂组合物(2)的树脂层，而获得包含在两面具有含有化合物(A)的透明树脂层的树脂制支撑体的基材。

树脂组合物(2)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯100重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、所述表1所记载的化合物(a-16)0.8重量份、所述表4所记载的化合物(b-3)0.7重量份、甲基乙基酮(溶剂、TSC：25％)

继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(VII)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(VIII)，而获得厚度约为0.110mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地在考虑基材折射率的波长依存性等特性之后，使用与实施例1相同的设计参数进行。

测定所述光学滤波器的分光透射率及反射率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果表示于表15。

[实施例5]

在实施例5中，制作具有包含在单面具有含有化合物(A)的透明树脂层的玻璃支撑体的基材，并在波长为790nm～830nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝811nm)。

在裁断成纵为60mm、横为60mm的大小的玻璃支撑体“OA-10G(厚度为200μm)”(日本电气硝子(股)制造)上，利用旋涂机涂布下述组成的树脂组合物(3)，在加热板上在80℃下加热2分钟将溶剂挥发除去。此时，以干燥后的厚度为2μm的方式，调整旋涂机的涂布条件。继而，使用输送带式曝光机进行曝光(曝光量为500mJ/cm²、200mW)，使树脂组合物(3)硬化，而获得包含具有含有化合物(A)的透明树脂层的玻璃支撑体的基材。

树脂组合物(3)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯20重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯80重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、所述表1所记载的化合物(a-16)1.4重量份、所述表4所记载的化合物(b-3)1.4重量份、甲基乙基酮(溶剂、TSC：35％)

继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(IX)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(X)，而获得厚度约为0.210mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是与实施例1同样地在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例1相同的设计参数进行。

[比较例1]

在实施例1中，不使用化合物(A)，除此以外，以与实施例1相同的方式制作基材。继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为32层)的介电体多层膜(XI)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(XII)，而获得厚度约为0.106mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用表14所记载的设计参数进行。

测定所述光学滤波器的分光透射率及反射率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果表示于图10、图11及表15。

[表14]

[比较例2]

使用近红外线吸收玻璃支撑体“BS-6(厚度为210μm)”(松浪硝子工业(股)制造)作为基材。测定所述基材的分光透射率，求出(Ta)、(Tb)及(Xc)。将结果表示于表15。

除了使用所述基材以外，以与实施例1相同的方式，在基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(XIII)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(XIV)，而获得厚度约为0.216mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例1相同的设计参数进行。

测定所述光学滤波器的分光透射率，并评价各波长区域中的光学特性。将结果表示于图12、图13及表15。

[比较例3]

在实施例2中，使用0.05份的下述式(x-1)所示的花青系化合物(在二氯甲烷中的吸收极大波长为996nm)代替化合物(A)，除此以外，以与实施例2相同的方式制作基材。测定所述基材的分光透射率，求出(Ta)、(Tb)、(Xc)及(Xf)。将结果表示于表15。

[化27]

继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(XV)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(XVI)，而获得厚度约为0.106mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性等特性之后，使用与实施例1相同的设计参数进行。

[比较例4]

在实施例1中，使用0.05份的下述式(x-2)所示的化合物(在二氯甲烷中的吸收极大波长为550nm)代替化合物(A)，除此以外，以与实施例1相同的方式制作基材。测定所述基材的分光透射率，求出(Ta)、(Tb)及(Xc)。将结果表示于表15。

[化28]

继而，以与实施例1相同的方式，在所得的基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(XVII)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(XVIII)，而获得厚度约为0.106mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性等特性之后，使用与实施例1相同的设计参数进行。

[比较例5]

使用玻璃支撑体“OA-10G(厚度为200μm)”(日本电气硝子(股)制造)，除此以外，以与实施例1相同的方式，在基材的单面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为30层)的介电体多层膜(XIX)，继而在基材的另一个面形成将二氧化硅(SiO₂)层与二氧化钛(TiO₂)层交替地层叠而成(合计为20层)的介电体多层膜(XX)，而获得厚度约为0.206mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例1相同的设计参数进行。

[实施例6～实施例17]

以表15所示的方式变更树脂、化合物(A)、溶剂及透明树脂制基板的干燥条件，除此以外，以与实施例2相同的方式，制作基材及光学滤波器。将所得的基材及光学滤波器的光学特性表示于表15。

[实施例18]

在实施例18中，制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并在波长为830nm～880nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝858nm)。

在实施例3中，使用所述表9所记载的化合物(s-5)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为770nm)0.03份代替化合物(a-16)及化合物(b-3)，除此以外，在与实施例3相同的顺序、条件下，获得在包含化合物(S)的透明树脂制基板的两面具有树脂层的基材。

继而，以与实施例3相同的方式，在所得的基材的单面形成介电体多层膜(XXI)，继而在基材的另一个面形成介电体多层膜(XXII)，而获得厚度约为0.106mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例3相同的设计参数进行。

[实施例19]

在实施例19中，制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并在波长为830nm～880nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝859nm)。

在实施例18中，除了化合物(s-5)0.03份外，还使用作为化合物(A)的化合物(a-17)0.02份、化合物(b-39)0.05份，除此以外，在与实施例18相同的顺序、条件下，获得包含化合物(S)及化合物(A)的透明树脂制基板。

继而，以与实施例3相同的方式，在所得的基材的单面形成介电体多层膜(XXIII)，继而在基材的另一个面形成介电体多层膜(XXIV)，而获得厚度约为0.110mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例3相同的设计参数进行。

[实施例20]

在实施例20中，制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并在波长为830nm～880nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝859nm)。

在实施例3中，使用作为化合物(S)的所述表9的化合物(s-8)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为776nm)0.03份、作为化合物(A)的化合物(a-16)0.03份、化合物(b-3)0.03份，代替化合物(a-16)及化合物(b-3)，除此以外，在与实施例3相同的顺序、条件下，获得包含化合物(S)及化合物(A)的透明树脂制基板。

继而，以与实施例3相同的方式，在所得的基材的单面形成介电体多层膜(XXV)，继而在基材的另一个面形成介电体多层膜(XXVI)，而获得厚度约为0.110mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例3相同的设计参数进行。

[实施例21]

在实施例21中，制作具有包含在两面具有树脂层的透明树脂制基板的基材，并在波长为830nm～880nm附近具有近红外线选择透射频带的光学滤波器(Y＝860nm)。

在实施例3中，使用作为化合物(S)的所述表9的化合物(s-8)0.03份、作为化合物(A)的化合物(a-22)0.03份、化合物(b-16)0.04份，代替化合物(a-16)及化合物(b-3)，除此以外，在与实施例3相同的顺序、条件下，获得包含化合物(S)及化合物(A)的透明树脂制基板。

继而，以与实施例3相同的方式，在所得的基材的单面形成介电体多层膜(XXVII)，继而在基材的另一个面形成介电体多层膜(XXVIII)，而获得厚度约为0.110mm的光学滤波器。介电体多层膜的设计是在考虑基材折射率的波长依存性之后，使用与实施例3相同的设计参数进行。

实施例及比较例中所应用的基材的构成、各种化合物等如下所述。

<基材的形态>

·形态(1)：包含化合物(Z)的透明树脂制基板

·形态(2)：在包含化合物(Z)的透明树脂制基板的两面具有树脂层

·形态(3)：在树脂制支撑体的两面具有包含化合物(Z)的透明树脂层

·形态(4)：在玻璃支撑体的单面具有包含化合物(Z)的透明树脂层

·形态(5)：不含化合物(Z)的树脂制支撑体(比较例)

·形态(6)：近红外线吸收玻璃支撑体(比较例)

·形态(7)：在包含其他色素(X)的树脂制支撑体的两面具有树脂层(比较例)

·形态(8)：包含其他色素(X)的树脂制支撑体(比较例)

·形态(9)：玻璃支撑体(比较例)

<透明树脂>

·树脂A：环状烯烃系树脂(树脂合成例1)

·树脂B：芳香族聚醚系树脂(树脂合成例2)

·树脂C：聚酰亚胺系树脂(树脂合成例3)

·树脂D：芴聚碳酸酯系树脂(树脂合成例4)

·树脂E：芴聚酯系树脂(树脂合成例5)

·树脂F：氟化聚醚酮(树脂合成例6)

·树脂G：环状烯烃系树脂“瑞翁诺亚(ZEONOR)1420R”(日本瑞翁(股)制造)

·树脂H：环状烯烃系树脂“亚派璐(APEL)#6015”(三井化学(股)制造)

·树脂I：聚碳酸酯系树脂“皮莱阿塞(PUREACE)”(帝人(股)制造)

·树脂J：聚醚砜系树脂“苏米莱特(Sumilite)FS-1300”(住友电木(SumitomoBakelite)(股)制造)

·树脂K：耐热丙烯酸系树脂“阿酷理毕油而(ACRYVIEWA)”(日本催化剂(股)制造)

<玻璃支撑体>

·玻璃支撑体(1)：裁断成纵为60mm、横为60mm的大小的透明玻璃支撑体“OA-10G(厚度为200μm)”(日本电气硝子(股)制造)

·玻璃支撑体(2)：裁断成纵为60mm、横为60mm的大小的近红外线吸收玻璃支撑体“BS-6(厚度为210μm)”(松浪硝子工业(股)制造)

<<化合物(A)>>

·化合物(a-16)：所述表1所记载的化合物(a-16)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为698nm)

·化合物(a-17)：所述表1所记载的化合物(a-17)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为703nm)

·化合物(a-22)：所述表2所记载的化合物(a-22)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为670nm)

·化合物(b-3)：所述表4所记载的化合物(b-3)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为733nm)

·化合物(b-16)：所述表4所记载的化合物(b-16)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为688nm)

·化合物(b-39)：所述表6所记载的化合物(b-39)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为736nm)

<<化合物(S)>>

·化合物(s-5)：所述表9所记载的化合物(s-5)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为770nm)

·化合物(s-8)：所述表9所记载的化合物(s-8)(在二氯甲烷中的吸收极大波长为776nm)

<<其他色素(X)>>

·其他色素(x-1)：所述式(x-1)所示的花青系化合物(在二氯甲烷中的吸收极大波长为996nm)

·其他色素(x-2)：所述式(x-2)所示的化合物(在二氯甲烷中的吸收极大波长为550nm)

<溶剂>

·溶剂(1)：二氯甲烷

·溶剂(2)：N，N-二甲基乙酰胺

·溶剂(3)：乙酸乙酯/甲苯(重量比：5/5)

·溶剂(4)：环己烷/二甲苯(重量比：7/3)

·溶剂(5)：环己烷/二氯甲烷(重量比：99/1)

·溶剂(6)：N-甲基-2-吡咯烷酮

<透明树脂制基板及树脂制支撑体的干燥条件>

表15中的实施例及比较例的透明树脂制基板及树脂制支撑体的干燥条件如以下所述。另外，在减压干燥前将涂膜自玻璃板剥离。

·条件(1)：20℃/8hr(时间)→减压下100℃/8hr

·条件(2)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下140℃/8hr

·条件(3)：60℃/8hr→80℃/8hr→减压下100℃/24hr

·条件(4)：40℃/4hr→60℃/4hr→减压下100℃/8hr

<树脂层形成用组合物>

表15的实施例中的形成树脂层的树脂组合物如以下所述。

·树脂组合物(1)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯60重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯40重量份、1-羟基环己基苯基酮5重量份、甲基乙基酮(溶剂、TSC：30％)

·树脂组合物(2)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯100重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、所述表1所记载的化合物(a-16)0.8重量份、所述表4所记载的化合物(b-3)0.7重量份、甲基乙基酮(溶剂、TSC：25％)

·树脂组合物(3)：三环癸烷二甲醇丙烯酸酯20重量份、二季戊四醇六丙烯酸酯80重量份、1-羟基环己基苯基酮4重量份、所述表1所记载的化合物(a-16)1.4重量份、所述表4所记载的化合物(b-3)1.4重量份、甲基乙基酮(溶剂、TSC：35％)

[表15]

[产业上的可利用性]

本发明的光学滤波器可优选地用于：数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄影机、可穿戴装置用照相机、PC照相机、监视照相机、汽车用照相机、夜视照相机、动作捕捉、激光距离计、虚拟试穿、号牌识别装置、电视机、汽车导航、个人数字助理、个人计算机(personal computer)、视频游戏机、掌上型游戏机、指纹识别系统、数字音乐播放器等。

Claims

1.一种光学滤波器，其选择性地透射可见光线与一部分近红外线，其满足下述(a)及(b)的要件，具有基材且在所述基材的至少一个面具有介电体多层膜，

所述基材具有透明树脂层，所述透明树脂层包含在波长为600nm～850nm具有吸收极大值的化合物Z，其中所述化合物Z为选自由方酸内鎓系化合物、酞菁系化合物、萘酞菁系化合物、克酮鎓系化合物、六元卟啉系化合物及花青系化合物所组成的组群的至少一种化合物；

(a)在波长为430nm～580nm的区域中，自光学滤波器的垂直方向测定时的透射率的平均值为75％以上；

2.根据权利要求1所述的光学滤波器，其进一步满足下述(c)的要件：

(c)在所述Zb中，自光学滤波器的垂直方向测定时成为透射率50％的最短波长侧的波长的值Xa与最长波长侧的波长的值Xb的差Xb-Xa为5nm～150nm，以Y＝(Xa+Xb)/2表示的Y的值为750nm～950nm。

3.根据权利要求1所述的光学滤波器，其中在相对于所述光学滤波器的垂直方向而自30°的角度测定的透射率曲线中与所述Zb相当的频带中，透射率变为50％的最短波长侧的波长的值Xa′、与所述Zb中，自光学滤波器的垂直方向测定时成为透射率50％的最短波长侧的波长的值Xa的差的绝对值|Xa-Xa′|为小于25nm。

4.根据权利要求2或3所述的光学滤波器，其中波长为Y-10nm～Y+10nm的区域中的自光学滤波器的垂直方向测定的平均透射率为60％以上。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其中在波长为600nm以上的区域中，自所述基材的垂直方向测定的透射率自超过50％变为50％以下的最短波长Xc为610nm～670nm。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其中在波长为750nm以上的区域中，自所述基材的垂直方向测定的透射率自小于50％变为50％以上的最短波长Xf为770nm～900nm。

7.根据权利要求2或3所述的光学滤波器，其中在所述基材的两面形成分光特性不同的介电体多层膜，自光学滤波器的至少一个面测定的波长为Y-10nm～Y+10nm的区域的平均反射率为20％以下。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其中所述化合物Z为选自由在波长为600nm～750nm具有吸收极大值的化合物A及在波长为750nm～850nm具有吸收极大值的化合物S所组成的组群的至少一种化合物。

9.根据权利要求8所述的光学滤波器，其中所述化合物A为下述式(I)或式(II)所示的化合物：

式(I)中，R^a、R^b及Y满足下述(i)或(ii)的条件；

条件(i)：

存在多个的R^a分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L^l或-NR^eR^f基，其中R^e及R^f分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

存在多个的R^b分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L^l或-NR^gR^h基，其中R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基，Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

存在多个的Y分别独立地表示-NR^jR^k基，其中R^j及R^k分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

-L^l为-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e、-L^f、-L^g或-L^h，

所述-L^a～-L^h表示以下的基团：

-L^a可具有取代基-L的碳数为1～12的脂肪族烃基；

-L^b可具有取代基-L的碳数为1～12的卤素取代烷基；

-L^c可具有取代基-L的碳数为3～14的脂环式烃基；

-L^d可具有取代基-L的碳数为6～14的芳香族烃基；

-L^e可具有取代基-L的碳数为3～14的杂环基；

-L^f可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基；

-L^g可具有取代基-L的碳数为1～9的酰基；

-L^h可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基羰基；

其中，取代基-L为选自由碳数为1～12的脂肪族烃基、碳数为1～12的卤素取代烷基、碳数为3～14的脂环式烃基、碳数为6～14的芳香族烃基、碳数为3～14的杂环基、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群的至少一种；

条件(ii)：

1个苯环上的2个R^a中的至少一个与同一苯环上的Y相互键结，形成包含至少一个氮原子的构成原子数为5或6的杂环，所述杂环可具有取代基，R^b及未参与所述杂环的形成的R^a分别独立地与所述条件(i)的R^b及R^a同义；

式(II)中，X独立地表示-O-、-S-、-Se-、-N-R^c-或-C(R^dR^d)-，

存在多个的R^d分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L^l或-NR^eR^f基，相邻的R^d彼此可连结而形成可具有取代基的环，

-L^a～-L^e、-L^l、R^e及R^f与所述式(I)中所定义的-L^a～-L^e、-L^l、R^e及R^f同义。

10.根据权利要求8所述的光学滤波器，其中所述化合物S为下述式(S1)所示的化合物：

式(S1)中，X独立地表示氧原子、硫原子、硒原子或-NH-，

R¹～R⁷分别独立地表示氢原子、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基、-L^l或-NR^gR^h基，其中R^g及R^h分别独立地表示氢原子、-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e或-C(O)Rⁱ基，Rⁱ表示-L^a、-L^b、-L^c、-L^d或-L^e，

-L^l为-L^a、-L^b、-L^c、-L^d、-L^e、-L^f、-L^g或-L^h，

所述-L^a～-L^h表示以下的基团：

-L^a可具有取代基-L的碳数为1～12的脂肪族烃基；

-L^b可具有取代基-L的碳数为1～12的卤素取代烷基；

-L^c可具有取代基-L的碳数为3～14的脂环式烃基；

-L^d可具有取代基-L的碳数为6～14的芳香族烃基；

-L^e可具有取代基-L的碳数为3～14的杂环基；

-L^f可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基；

-L^g可具有取代基-L的碳数为1～9的酰基；

-L^h可具有取代基-L的碳数为1～9的烷氧基羰基；

其中，取代基-L为选自由碳数为1～12的脂肪族烃基、碳数为1～12的卤素取代烷基、碳数为3～14的脂环式烃基、碳数为6～14的芳香族烃基、碳数为3～14的杂环基、卤素原子、磺基、羟基、氰基、硝基、羧基、磷酸基及氨基所组成的组群的至少一种。

11.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其中所述透明树脂为选自由环状(聚)烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、(改性)丙烯酸系树脂、环氧系树脂、烯丙酯系硬化型树脂、硅倍半氧烷系紫外线硬化型树脂、丙烯酸系紫外线硬化型树脂及乙烯系紫外线硬化型树脂所组成的组群的至少一种树脂。

12.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其中所述基材含有包含化合物Z的透明树脂制基板。

13.根据权利要求1至3中任一项所述的光学滤波器，其为固体摄像装置用途。

14.一种固体摄像装置，其具备根据权利要求1至12中任一项所述的光学滤波器。

15.一种照相机模块，其具备根据权利要求1至12中任一项所述的光学滤波器。