CN111095046B - 组合物、膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种能够形成在来自于可见光线的干扰少的状态下可透射红外线的膜的组合物。并且,提供一种膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器。该组合物包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材、红外线吸收剂及固化性化合物,红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料。该组合物的波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上。
Description
技术领域
本发明涉及一种适于制造红外线透射滤波器等的组合物及使用了前述组合物的膜。并且,涉及一种适于红外线透射滤波器等的层叠体。并且,涉及一种红外线透射滤波器、使用了红外线透射滤波器的固体摄像元件及使用了红外线透射滤波器的红外线传感器。
背景技术
固体摄像元件在各种用途中作为光传感器而被使用。例如,与可见光线相比,红外线的波长较长而不易散射,还能够使用于距离测定、三维测定等。并且,红外线对于人类、动物等的眼睛来讲是看不见的,因此即使在夜间用红外线光源照射被摄体也不会被被摄体察觉,还能够使用于拍摄夜间活动性野生动物的用途、为了防范而在不刺激对象的情况下进行拍摄的用途。如此,感知红外线的光传感器(红外线传感器)能够扩展至各种用途,且期待开发能够使用于红外线传感器的膜。
专利文献1中记载有一种组合物,形成了膜厚1μm的膜时,膜的厚度方向的透光率在波长400~750nm的范围内的最大值为20%以下,膜的厚度方向的透光率在波长900~1300nm的范围内的最小值为90%以上。
专利文献2中记载有一种滤色器用着色感放射线性组合物,其包含(A)颜料、(B)光聚合引发剂及(C)聚合性化合物,在形成波长600nm下的分光透射率为30%的着色感放射线性组合物层的情况下,着色感放射线性组合物层满足下述(1)~(5)的条件。
(1)400nm下的分光透射率为20%以下;
(2)550nm下的分光透射率为10%以下;
(3)700nm下的分光透射率为70%以上;
(4)表示分光透射率50%的波长为650nm~680nm的范围;
(5)着色感放射线性组合物层具有0.55μm~1.8μm的范围的膜厚。
专利文献3中记载有一种着色组合物,其为包含着色剂和树脂的着色组合物,波长400~830nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1000~1300nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上,着色剂含有一种以上的在波长800~900nm的范围内具有吸收极大的第1着色剂及两种以上的在波长400~700nm的范围内具有吸收极大的第2着色剂。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2014-130338号公报
专利文献2:日本特开2013-077009号公报
专利文献3:国际公开WO2015/166779号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
如此,近年来,正在对遮蔽可见光并使红外线透射的膜进行各种研究。
另一方面,近年来,正在研究尝试使用更长波的红外线进行感知和成像。
然而,如专利文献1~3等中所记载的迄今为止众所周知的膜中,得知若使用波长大于1400nm的红外线作为光源应用于光传感器等时易于产生干扰。
因此,本发明的目的在于提供一种能够形成在干扰少的状态下可透射红外线的膜的组合物。并且,本发明的目的在于提供一种膜、层叠体、红外线透射滤波器、固体摄像元件及红外线传感器。
本发明人等进行详细研究的结果,发现通过使用后述组合物能够实现上述课题,从而完成了本发明。即,本发明为如下所述。
<1>一种组合物,其包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材、红外线吸收剂及固化性化合物,其中,
红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,
组合物的波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上。
<2>根据<1>所述的组合物,其中,
遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料是在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
<3>根据<2>所述的组合物,其中,
在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物中,极大吸收波长下的吸光度Amax与波长1400nm下的吸光度A1400的比即吸光度Amax/吸光度A1400为4.5以上。
<4>根据<1>所述的组合物,其中,
遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料是选自二亚胺鎓化合物、方酸化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金属络合物、硼化镧化合物、金属平板粒子、量子点及含稀土类原子的陶瓷中的至少一种。
<5>根据<1>~<4>中任一项所述的组合物,其中,
红外线吸收剂还包含在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
<6>根据<1>~<5>中任一项所述的组合物,其中,
红外线吸收剂还包含在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
<7>一种膜,其由<1>~<6>中任一项所述的组合物所获得。
<8>根据<7>所述的膜,其中,
膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下,膜的厚度方向上的光的透射率在波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上。
<9>一种层叠体,其具有包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材的层、及包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的层,该层叠体中,
层叠体的波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上。
<10>根据<9>所述的层叠体,其中,
层叠体的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下,层叠体的厚度方向上的光的透射率在波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上。
<11>一种红外线透射滤波器,其具有<7>或<8>所述的膜或者<9>或<10>所述的层叠体。
<12>一种固体摄像元件,其具有<7>或<8>所述的膜或者<9>或<10>所述的层叠体。
<13>一种红外线传感器,其具有<7>或<8>所述的膜或者<9>或<10>所述的层叠体。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够形成在来自于可见光线的干扰少的状态下可透射红外线的膜的组合物。并且,能够提供一种膜、层叠体、固体摄像元件及红外线传感器。
附图说明
图1是表示本发明的红外线传感器的一实施方式的结构的示意剖视图。
图2是表示本发明的红外线传感器的另一实施方式的结构的示意剖视图。
具体实施方式
本说明书中,总固体成分是指从整个组合物中去除溶剂之后的成分的总质量。
本说明书中,红外线是指波长700~2,500nm的光(电磁波)。
关于本说明书中的基团(原子团)的标记,未记述经取代及未经取代的标记同时包含不具有取代基的基团和具有取代基的基团。例如,“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基),还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。
本说明书中“曝光”是指,只要无特别限定,除了利用光的曝光以外,利用电子束、离子束等粒子束的描绘也包含于曝光中。并且,作为使用于曝光的光,通常可列举以水银灯的明线光谱、准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等光化射线或放射线。
本说明书中,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者或其中任一个,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两者或其中任一个,“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者或其中任一个。
本说明书中,化学式中的Me表示甲基,Et表示乙基,Pr表示丙基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。
本说明书中,“工序”这一术语,不仅是独立的工序,而且在无法与其他工序明确区分的情况下,只要可实现对该工序所预期的作用,则也包含于本术语中。
本说明书中,重均分子量及数均分子量作为通过凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算值而定义。本说明书中,重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)例如能够通过使用HLC-8220(TOSOH CORPORATION制),使用TSKgel Super AWM-H(TOSOH CORPORATION制,6.0mmID(内径)×15.0cm)作为管柱,并使用10mmol/L溴化锂NMP(N-甲基吡咯啶酮)溶液作为洗提液来求出。
用于本发明的颜料是指难溶于溶剂的不溶性的色素化合物。典型而言,是指在组合物中以作为粒子而分散的状态存在的色素化合物。其中,溶剂可列举任意的溶剂,例如可列举在后述的溶剂栏中例示的溶剂。用于本发明的颜料例如对丙二醇单甲醚乙酸酯及水中的任何一个在25℃下的溶解度,优选为0.1g/100g溶剂(Solvent)以下。
<组合物>
本发明的组合物是包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材、红外线吸收剂及固化性化合物的组合物,该组合物的特征在于,
红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,
组合物的波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上。
通过本发明的组合物,能够适当地形成具有如下分光特性的膜,即膜的厚度方向上的光的透射率在400~1100nm的范围内的最大值为20%以下,且膜的厚度方向上的光的透射率在1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上。
上述吸光度的条件可通过任何手段实现,例如,如在后面进行详细叙述,组合物含有使红外线透射且遮蔽可见光的色材、遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,并且通过调整这些种类及含量,能够适当地实现上述吸光度的条件。
关于本发明的组合物所具有的分光特性,上述的A/B的值优选为10以上,更优选为20以上,进一步优选为30以上。上限例如能够设为90以下。
一波长λ中的吸光度Aλ通过以下式(1)而定义。
Aλ=-log(Tλ/100)……(1)
Aλ是波长λ中的吸光度,Tλ是波长λ中的透射率(%)。
本发明中,吸光度的值可以为在溶液的状态下进行测定的值,也可以为使用本发明的组合物进行制膜的膜中的值。当在膜的状态下测定吸光度时,优选使用如下膜进行测定,该膜是在玻璃基板上通过旋涂等方法,以干燥后的膜的厚度成为规定厚度的方式涂布组合物,并用加热板在100℃下干燥120秒钟而制造的膜。关于膜的厚度,能够利用触针式表面形状测定仪(ULVAC公司制DEKTAK150)对具有膜的基板进行测定。
并且,吸光度能够使用以往公知的分光光度计来测定。吸光度的测定条件并无特别限定,优选在以波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A成为0.1~3.0的方式进行调整的条件下,测定波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B。通过在这种条件下测定吸光度,能够进一步减小测定误差。作为以波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A成为0.1~3.0的方式进行调整的方法,并无特别限定。例如,当在溶液的状态下测定吸光度时,可列举调整试样槽的光路长度的方法。并且,当在膜的状态下测定吸光度时,可列举调整膜厚的方法等。
以下示出通过本发明的组合物形成的膜的分光特性、膜厚等的测定方法。
通过旋涂等方法,以干燥后的膜的厚度成为规定厚度的方式将本发明的组合物涂布于玻璃基板上,并用加热板在100℃下干燥120秒钟。关于膜的厚度,利用触针式表面形状测定仪(ULVAC公司制DEKTAK150)对具有膜的干燥后的基板进行测定。利用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制U-4100),对具有该膜的干燥后的基板的波长300~1300nm的范围内的透射率进行测定。
本发明的组合物使红外线透射,由此也可称为红外线透射性组合物。以下,对可构成本发明的组合物的各成分进行说明。
<<使红外线透射且遮蔽可见光的色材>>
本发明的组合物含有使红外线透射且遮蔽可见光的色材(以下,也称为遮蔽可见光的色材)。
本发明中,遮蔽可见光的色材优选是吸收紫色至红色波长区域的光的色材。并且,本发明中,遮蔽可见光的色材优选是遮蔽波长450~650nm(优选为波长400~700nm)的波长的光的色材。并且,本发明中,遮蔽可见光的色材优选在波长为400nm以上且700nm以下的范围内具有极大吸收波长。并且,遮蔽可见光的色材优选是对波长1400~1500nm的范围的光的透射性高的色材。
本发明中,遮蔽可见光的色材优选满足以下(1)及(2)中的至少一个要件。
(1):包含两种以上的彩色着色剂,且由两种以上的彩色着色剂的组合形成了黑色。
(2):包含有机系黑色着色剂。(2)的方式中,优选还含有彩色着色剂。
此外,本发明中,彩色着色剂是指除了白色着色剂及黑色着色剂以外的着色剂。彩色着色剂优选是在波长400nm以上且700nm以下的范围内具有极大吸收波长的着色剂。并且,“在波长400nm以上且700nm以下的范围内具有极大吸收波长”是指在吸收光谱中,在波长400nm以上且700nm以下的范围内具有显示最大吸光度的波长。例如,在波长350~1300nm的范围内的吸收光谱中,优选在波长400nm以上且700nm以下的范围内具有显示最大吸光度的波长。
并且,在本发明中,作为遮蔽可见光的色材的有机系黒色着色剂是指,虽吸收可见光线,但红外线的至少一部分透射的材料。因此,在本发明中,作为遮蔽可见光的色材的有机系黑色着色剂不包括吸收可见光线及红外线两者的黑色着色剂,例如炭黑或钛黑。有机系黒色着色剂优选是在波长400nm以上且700nm以下的范围内具有极大吸收波长的着色剂。
在本发明中,优选遮蔽可见光的色材中,例如波长450~650nm的范围内的吸光度的最小值A1与波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B1的比即A1/B1为4.5以上。
关于遮蔽可见光的色材的上述分光特性,可以用一种原材料来满足,也可以用多种原材料的组合来满足。例如,当为上述(1)的方式时,优选组合多个彩色着色剂来满足上述分光特性。并且,当为上述(2)的方式时,可以是有机系黑色着色剂满足上述分光特性。并且,可以用有机系黑色着色剂与彩色着色剂的组合来满足上述分光特性。
(彩色着色剂)
在本发明中,彩色着色剂优选是选自红色着色剂、绿色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂及橙色着色剂中的着色剂。
本发明中,彩色着色剂可以为颜料,也可以为染料。优选为颜料。
颜料的平均粒径(r)优选满足以下:优选为20nm≤r≤300nm,更优选为25nm≤r≤250nm,尤其优选为30nm≤r≤200nm。在此所说的“平均粒径”是指关于颜料的一次粒子集合而成的二次粒子的平均粒径。
并且,能够使用的颜料的二次粒子的粒径分布(以下,也简称为“粒径分布”。)是进入到(平均粒径±100)nm的二次粒子为整体的70质量%以上,优选为80质量%以上。此外,二次粒子的粒径分布能够使用散射强度分布来测定。
具有上述平均粒径及粒径分布的颜料能够通过制成将市售的颜料和根据情况使用的其他颜料(二次粒子的平均粒径通常超过300nm)一起,优选为与树脂及有机溶剂混合而得到的颜料混合液,例如使用珠磨机、辊磨机等粉碎机一边粉碎一边混合、分散来进行制备。如此所得的颜料通常呈颜料分散液的方式。
颜料优选是有机颜料,能够列举以下的颜料。但本发明不限定于这些。
比色指数(C.I.)Pigment Yellow(颜料黄)1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等(以上为黄色颜料)、
C.I.Pigment Orange(颜料橙)2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等(以上为橙色颜料)、
C.I.Pigment Red(颜料红)1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等(以上为红色颜料)、
C.I.Pigment Green(颜料绿)7、10、36、37、58、59等(以上为绿色颜料)、
C.I.Pigment Violet(颜料紫)1、19、23、27、32、37、42等(以上为紫色颜料)、
C.I.Pigment Blue(颜料蓝)1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、80等(以上为蓝色颜料)、
这些有机颜料能够单独使用或组合多种来进行使用。
作为染料,并无特别限制,能够使用公知的染料。作为化学结构,能够使用吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、三芳基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、苯亚甲基系、氧杂菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亚氨系、呫吨系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系、亚甲基吡咯系等染料。并且,也可以使用这些染料的多聚体。并且,也能够使用日本特开2015-028144号公报、日本特开2015-034966号公报中所记载的染料。
作为以两种以上的彩色着色剂的组合来形成黑色时的彩色着色剂的组合,例如可列举以下。
(1)含有黄色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。
(2)含有黄色着色剂、蓝色着色剂及红色着色剂的方式。
(3)含有黄色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。
(4)含有黄色着色剂及紫色着色剂的方式。
(5)含有绿色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。
(6)含有紫色着色剂及橙色着色剂的方式。
(7)含有绿色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式。
(8)含有绿色着色剂及红色着色剂的方式。
作为上述(1)方式的具体例,可列举含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为蓝色颜料的C.I.颜料蓝15:6、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。
作为上述(2)方式的具体例,可列举含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为蓝色颜料的C.I.颜料蓝15:6、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。
作为上述(3)方式的具体例,可列举含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。
作为上述(4)方式的具体例,可列举含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23的方式。
作为上述(5)方式的具体例,可列举含有作为绿色颜料的C.I.颜料绿7或C.I.颜料绿36、作为蓝色颜料的C.I.颜料蓝15:6、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。
作为上述(6)方式的具体例,可列举含有作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为橙色颜料的C.I.颜料橙71的方式。
作为上述(7)的具体例,可列举含有作为绿色颜料的C.I.颜料绿7或C.I.颜料绿36、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。
作为上述(8)的具体例,可列举含有作为绿色颜料的C.I.颜料绿7或C.I.颜料绿36、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。
作为各着色剂的比率(质量比)例如可列举以下。
[表1]
N0. | 黄色着色剂 | 绿色着色剂 | 蓝色着色剂 | 紫色着色剂 | 红色着色剂 | 橙色着色剂 |
1 | 0.1~0.4 | 0.1~0.6 | 0.01~0.3 | 0.1~0.6 | ||
2 | 0.1~0.4 | 0.1~0.6 | 0.2~0.7 | |||
3 | 0.1~0.6 | 0.1~0.6 | 0.1~0.6 | |||
4 | 0.2~0.8 | 0.2~0.8 | ||||
5 | 0.1~0.4 | 0.1~0.4 | 0.1~0.4 | 0.1~0.4 | ||
6 | 0.2~0.6 | 0.4~0.8 | ||||
7 | 0.1~0.5 | 0.2~0.7 | 0.1~0.4 | |||
8 | 0.5~0.8 | 0.2~0.5 |
(有机系黑色着色剂)
在本发明中,作为有机系黑色着色剂,例如可列举二苯并呋喃酮化合物、甲亚氨化合物、苝化合物、偶氮系化合物等,优选二苯并呋喃酮化合物、苝化合物。作为二苯并呋喃酮化合物,可列举日本特表2010-534726号公报、日本特表2012-515233号公报、日本特表2012-515234号公报、国际公开WO2014/208348号公报、日本特表2015-525260号公报等中所记载的化合物,例如能够作为BASF公司制“Irgaphor Black”而获得。作为苝化合物,可列举C.I.Pigment Black 31、32等。作为甲亚氨化合物,可列举日本特开平1-170601号公报、日本特开平2-034664号公报等中所记载的化合物,例如能够作为Dainichiseika Color&Chemicals Mfg.Co.,Ltd.制“酞青黑A1103”而获得。
在本发明中,二苯并呋喃酮化合物优选是由下述式表示的化合物及它们的混合物。
[化学式1]
式中,R1及R2分别独立地表示氢原子或取代基,R3及R4分别独立地表示取代基,a及b分别独立地表示0~4的整数,当a为2以上时,多个R3可以相同,也可以不同,多个R3可以键结而形成环,当b为2以上时,多个R4可以相同,也可以不同,多个R4可以键结而形成环。
R1~R4所表示的取代基表示卤素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基、杂芳基、-OR301、-COR302、-COOR303、-OCOR304、-NR305R306、-NHCOR307、-CONR308R309、-NHCONR310R311、-NHCOOR312、-SR313、-SO2R314、-SO2OR315、-NHSO2R316或-SO2NR317R318,R301~R318分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基或杂芳基。
关于二苯并呋喃酮化合物的详细内容,能够参考日本特表2010-534726号公报的0014~0037段的记载,并将该内容编入本说明书中。
在本发明中,当作为遮蔽可见光的色材而使用有机系黑色着色剂时,优选与彩色着色剂组合使用。通过同时使用有机系黑色着色剂与彩色着色剂,可轻松地得到优异的分光特性。作为与有机系黑色着色剂组合使用的彩色着色剂,例如可列举红色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂等,优选红色着色剂及蓝色着色剂。这些可以单独使用,也可以同时使用两种以上。
并且,彩色着色剂与有机系黑色着色剂的混合比例相对于有机系黑色着色剂100质量份,优选为彩色着色剂10~200质量份,更优选为15~150质量份。
在本发明中,遮蔽可见光的色材中的颜料的含量相对于遮蔽可见光的色材的总量优选为95质量%以上,更优选为97质量%以上,进一步优选为99质量%以上。
在本发明的组合物中,遮蔽可见光的色材的含量优选是组合物的总固体成分的10~60质量%。上限优选为50质量%以下,更优选为45质量%以下。下限优选为20质量%以上,更优选为25质量%以上。
<<红外线吸收剂>>
本发明的组合物含有红外线吸收剂。本发明中所使用的红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料。
(遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料)
作为遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,可列举吸收波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料或通过使波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光反射而遮蔽的材料等。作为吸收波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,可列举在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。上述化合物的极大吸收波长优选设在1030~1170nm的范围内,更优选设在1050~1150nm的范围内,进一步优选设在1070~1130nm的范围内。并且,上述化合物中,波长1400nm下的吸光度A1400与极大吸收波长中的吸光度Amax的比即吸光度Amax/吸光度A1400优选为4.5以上,更优选为10以上,进一步优选为30以上。上限例如优选为90以下。通过该方式,能够提高波长大于1400nm的红外线的透射性。
作为遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,可列举二亚胺鎓化合物、方酸化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金属络合物、硼化镧、金属平板粒子、量子点、含稀土类原子的陶瓷等,从兼顾可见透明性和红外线遮蔽性的观点考虑,优选二亚胺鎓化合物。
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的二亚胺鎓化合物,优选由下述式(Im)表示的化合物。
式(Im)
[化学式2]
式中,R11~R18分别独立地表示烷基或芳基,V11~V15分别独立地表示烷基、芳基、卤素原子、烷氧基或氰基,X表示抗衡阴离子,c表示为了得到电荷的平衡而所需的数,n1~n5分别独立地为0~4。
R11~R18分别独立地表示烷基或芳基。烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~12,尤其优选为1~8。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链。芳基的碳原子数优选为6~25,更优选为6~15,进一步优选为6~12。烷基及芳基可以具有取代基,也可以为未经取代。作为取代基,可列举以下述取代基T进行说明的基团。
V11~V15分别独立地表示烷基、芳基、卤素原子、烷氧基或氰基。作为卤素原子,可列举氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~12,尤其优选为1~8。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为直链。芳基的碳原子数优选为6~25,更优选为6~15,进一步优选为6~12。烷氧基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~12,尤其优选为1~8。烷氧基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为直链。
n1~n5分别独立地为0~4。n1~n4优选为0~2,更优选为0或1。n5优选为0~3,更优选为0~2。
X表示抗衡阴离子。作为抗衡阴离子的例子,可列举卤化物离子(Cl-、Br-、I-)、对甲苯磺酸离子、硫酸乙酯离子、SbF6 -、PF6 -、BF4 -、ClO4 -、三(卤代烷基磺酰基)甲基化物阴离子(例如,(CF3SO2)3C-)、二(卤代烷基磺酰基)酰亚胺阴离子(例如(CF3SO2)2N-)、四氰基硼酸根阴离子等。
c表示为了得到电荷的平衡所需的数,例如优选为2。
(取代基T)
烷基(优选为碳原子数1~30的烷基)、烯基(优选为碳原子数2~30的烯基)、炔基(优选为碳原子数2~30的炔基)、芳基(优选为碳原子数6~30的芳基)、氨基(优选为碳原子数0~30的氨基)、烷氧基(优选为碳原子数1~30的烷氧基)、芳氧基(优选为碳原子数6~30的芳氧基)、杂芳氧基、酰基(优选为碳原子数1~30的酰基)、烷氧基羰基(优选为碳原子数2~30的烷氧基羰基)、芳氧基羰基(优选为碳原子数7~30的芳氧基羰基)、酰氧基(优选为碳原子数2~30的酰氧基)、酰氨基(优选为碳原子数2~30的酰氨基)、烷氧基羰基氨基(优选为碳原子数2~30的烷氧基羰基氨基)、芳氧羰基氨基(优选为碳原子数7~30的芳氧羰基氨基)、氨磺酰基(优选为碳原子数0~30的氨磺酰基)、氨基甲酰基(优选为碳原子数1~30的氨基甲酰基)、烷硫基(优选为碳原子数1~30的烷硫基)、芳硫基(优选为碳原子数6~30的芳硫基)、杂芳硫基(优选为碳原子数1~30)、烷基磺酰基(优选为碳原子数1~30)、芳基磺酰基(优选为碳原子数6~30)、杂芳基磺酰基(优选为碳原子数1~30)、烷基亚磺酰基(优选为碳原子数1~30)、芳基亚磺酰基(优选为碳原子数6~30)、杂芳基亚磺酰基(优选为碳原子数1~30)、脲基(优选为碳原子数1~30)、羟基、羧基、磺基、磷酸基、羧酸酰胺基(优选为是由-NHCORA1表示的基团,RA1表示烃基或杂环基。烃基及杂环基进而可以具有取代基。作为取代基,优选为卤素原子,更优选为氟原子。)、磺酸酰胺基(优选为是由-NHSO2RA2表示的基团。RA2表示烃基或杂环基。烃基及杂环基进而可以具有取代基。作为取代基,优选为卤素原子,更优选为氟原子。)、酰亚胺酸基(优选为是由-SO2NHSO2RA3、-CONHSO2RA4、-CONHCORA5或-SO2NHCORA6表示的基团。RA3~RA6分别独立地表示烃基或杂环基。烃基及杂环基进而可以具有取代基。)、羟基、卤素原子、氰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、肼基、亚氨基、杂芳基(优选为碳原子数1~30)。
当这些基团是能够进一步进行取代的基团时,进而可以具有取代基。作为取代基,可列举以上述取代基T进行说明的基团。
作为二亚胺鎓化合物的具体例,可列举以下所示的化合物。表中的λmax是该化合物的极大吸收波长。并且,作为二亚胺鎓化合物的市售品,可列举IRG-068(Nippon KayakuCo.,Ltd.制)等。
[表2]
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的方酸化合物,可列举由下述式(SQ1)或式(SQ2)表示的化合物。
[化学式3]
式中,As1及As2分别独立地表示芳基、杂环基或由式(As-1)表示的基团;
[化学式4]
式中,*表示键结键,
Rs1~Rs3分别独立地表示氢原子或烷基,
As3表示杂环基,
ns1表示0以上的整数,
Rs1与Rs2可以相互键结而形成环,
Rs1与As3可以相互键结而形成环,
Rs2与Rs3可以相互键结而形成环,
ns1为2以上时,多个Rs2及Rs3分别可以相同,也可以不同。
As1及As2所表示的芳基的碳原子数优选为6~48,更优选为6~22,尤其优选为6~12。
As1、As2及As3所表示的杂环基优选为5元环或6元环的杂环基。并且,杂环基优选为单环的杂环基或缩合数为2~8的缩合环的杂环基,更优选为单环的杂环基或缩合数为2~4的缩合环的杂环基,更优选为单环的杂环基或缩合数为2或3的缩合环的杂环基,尤其优选为单环的杂环基或缩合数为2的缩合环的杂环基。作为构成杂环基的环的杂原子,可例示氮原子、氧原子、硫原子,优选为氮原子、硫原子。构成杂环基的环的杂原子的数优选为1~3,更优选为1~2。
式(As-1)中的Rs1~Rs3分别独立地表示氢原子或烷基。Rs1~Rs3所表示的烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~15,进一步优选为1~8。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链。Rs1~Rs3优选为氢原子。
式(As-1)中的ns1表示0以上的整数。ns1优选为0~2的整数,更优选为0或1,进一步优选为0。
式(As-1)中,Rs1与Rs2可以相互键结而形成环,Rs1与As3可以相互键结而形成环,Rs2与Rs3可以相互键结而形成环。作为形成上述环时的连接基,优选为选自包含-CO-、-O-、-NH-、碳原子数1~10的亚烷基及它们的组合的组中的2价的连接基。作为连接基的亚烷基可以为未经取代,也可以具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。
式(SQ1)及式(SQ2)中,As1及As2所表示的基团优选为具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。
式(SQ1)及式(SQ2)中,优选为As1及As2分别独立地为芳基或杂环基,或As1及As2分别独立地为由式(As-1)表示的基团。
另外,式(SQ1)中,阳离子以如下方式非定域化而存在。
[化学式5]
并且,式(SQ2)中,阳离子以如下方式非定域化而存在。
[化学式6]
并且,还优选用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的方酸化合物是在1分子中具有2个以上的由式(SQ1a)或式(SQ2b)表示的部分结构的化合物。
[化学式7]
式中,波浪线表示连接键。
作为方酸化合物的具体例,可列举下述结构的化合物。
[化学式8]
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的克酮鎓化合物,优选为由下述式(Cr1)表示的化合物。
[化学式9]
式中,Ac1及Ac2分别独立地表示芳基、杂环基或由式(Ac-1)表示的基团,
[化学式10]
式中,*表示键结键,
Rc1~Rc3分别独立地表示氢原子或烷基,
Ac3表示杂环基,
nc1表示0以上的整数,
Rc1与Rc2可以相互键结而形成环,
Rc1与Ac3可以相互键结而形成环,
Rc2与Rc3可以相互键结而形成环,
nc1为2以上时,多个Rc2及Rc3分别可以相同,也可以不同。
Ac1及Ac2所表示的芳基的碳原子数优选为6~48,更优选为6~22,尤其优选为6~12。
Ac1、Ac2及Ac3所表示的杂环基优选为5元环或6元环的杂环基。并且,杂环基优选为单环的杂环基或缩合数为2~8的缩合环的杂环基,更优选为单环的杂环基或缩合数为2~4的缩合环的杂环基,更优选为单环的杂环基或缩合数为2或3的缩合环的杂环基,尤其优选为单环的杂环基或缩合数为2的缩合环的杂环基。作为构成杂环基的环的杂原子,可例示氮原子、氧原子、硫原子,优选为氮原子、硫原子。构成杂环基的环的杂原子的数优选为1~3,更优选为1~2。
式(Ac-1)中的Rc1~Rc3分别独立地表示氢原子或烷基。Rc1~Rc3所表示的烷基的碳原子数优选为1~20,更优选为1~15,进一步优选为1~8。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链。Rc1~Rc3优选为氢原子。
式(Ac-1)中的nc1表示0以上的整数。nc1优选为0~2的整数,更优选为0或1,进一步优选为1。
式(Ac-1)中,Rc1与Rc2可以相互键结而形成环,Rc1与Ac3可以相互键结而形成环,Rc2与Rc3可以相互键结而形成环。作为形成上述环时的连接基,优选选自包含-CO-、-O-、-NH-、碳原子数1~10的亚烷基及它们的组合的组中的2价的连接基。作为连接基的亚烷基可以为未经取代,也可以具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。
式(Cr1)中,优选Ac1及Ac2所表示的基团具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。
式(Cr1)中,优选Ac1及Ac2分别独立地为芳基或杂环基,或Ac1及Ac2分别独立地为由式(Ac-1)所表示的基团。
另外,式(Cr1)中,阳离子以如下方式非定域化而存在。
[化学式11]
并且,还优选用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的克酮鎓化合物是在1分子中具有2个以上的由式(Cr1a)表示的部分结构的化合物。
[化学式12]
式中,波浪线表示连接键。
作为克酮鎓化合物的具体例,可列举下述结构的化合物。
[化学式13]
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的花青化合物,优选由下述式(Cy1)表示的化合物。
[化学式14]
Rcy1~Rcy5分别独立地表示氢原子或取代基,Rcy1~Rcy5中,2个可以键结而形成环。ncy1表示0~2的整数,ncy1为2时,多个Rcy4及Rcy5可以相同,也可以不同。Acy1及Acy2分别独立地表示芳基或杂环基。式中的Cy所表示的部位为阳离子部时,Y表示抗衡阴离子,c表示为了得到电荷的平衡所需的数,式中的Cy所表示的部位为阴离子部时,Y表示抗衡阳离子,c表示为了得到电荷的平衡所需的数,式中的Cy所表示的部位的电荷在分子内被中和时,c为0。
Rcy1~Rcy5分别独立地表示氢原子或取代基。作为取代基,可列举上述取代基T。式(Cy1)中,Rcy1~Rcy5中,2个可以键结而形成环。作为上述形成环时的连接基,优选选自包含-CO-、-O-、-NH-、碳原子数1~10的亚烷基及它们的组合的组中的2价的连接基。作为连接基的亚烷基可以为未经取代,也可以具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。
ncy1表示0~2的整数,优选为0或1。ncy1为2时,多个Rcy4及Rcy5可以相同,也可以不同。
Acy1及Acy2所表示的芳基的碳原子数优选为6~48,更优选为6~22,尤其优选为6~12。Acy1及Acy2所表示的杂环基优选为5元环或6元环的杂环基。并且,杂环基优选为单环的杂环基或缩合数为2~8的缩合环的杂环基,更优选为单环的杂环基或缩合数为2~4的缩合环的杂环基,更优选为单环的杂环基或缩合数为2或3的缩合环的杂环基,尤其优选为单环的杂环基或缩合数为2的缩合环的杂环基。作为构成杂环基的环的杂原子,可列举氮原子、氧原子、硫原子,优选为氧原子、硫原子。构成杂环基的环的杂原子的数优选为1~3,更优选为1~2。Acy1及Acy2所表示的基团可以具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。
Acy1及Acy2优选分别独立地表示杂环基。
用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的花青化合物,优选由下述式(Cy1a)表示的化合物。
[化学式15]
Rcy1~Rcy5分别独立地表示氢原子或取代基,Rcy1~Rcy5中,2个可以键结而形成环。
Rcy11及Rcy12分别独立地表示取代基。
ncy1表示0~2的整数,ncy1为2时,多个Rcy4及Rcy5可以相同,也可以不同。
n11表示0~4的整数,n11为2时,多个Rcy11可以相同,也可以不同,n11个Rcy11中2个可以键结而形成环。
n12表示0~4的整数,n12为2时,多个Rcy12可以相同,也可以不同,n12个Rcy12中2个可以键结而形成环。
Y1表示抗衡阴离子。
作为Rcy1~Rcy5、Rcy11及Rcy12所表示的取代基,可列举上述取代基T。作为Y1所表示的抗衡阴离子,可列举以式(Cy1)进行说明的抗衡阴离子。
作为花青化合物的具体例,可列举下述结构的化合物。
[化学式16]
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的二硫醇金属络合物,优选为由下述式(Dt1)所表示的化合物。
[化学式17]
式中,Rt1~Rt4分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基。Rt1与Rt2可以键结而形成环,Rt3与Rt4可以键结而形成环。M表示金属原子。Rt1~Rt4所表示的烷基、芳基及杂芳基可以具有取代基。作为取代基可列举上述取代基T。Rt1~Rt4优选分别独立地表示芳基。作为M所表示的金属原子,可列举Ni、Pt、Co、Fe、Cu、Mo,优选为Ni。
作为二硫醇金属络合物的具体例,可列举下述结构的化合物。
[化学式18]
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的金属平板粒子的材料,优选为银、金、铝、铜、铑、镍、白金等,更优选为银。作为金属平板粒子,只要是包括2个主平面的粒子则无特别限制,能够根据目的而适当地选择,例如可列举六边形状、圆形状、三角形状。这些中,就可见光透射率高的方面而言,更优选为六边形状以上的多边形状~圆形状,尤其优选为六边形状或圆形状。金属平板粒子的厚度优选为20nm以下,更优选为14nm以下。作为金属平板粒子的纵横比,无特别限制,能够根据目的适当地选择,但从波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的反射率变高的方面考虑,优选为6~40,更优选为8~30。前述纵横比是指将金属平板粒子的一次粒子的平均粒径(平均当量圆直径)除以金属平板粒子的平均粒子厚度而得的值。平均粒子厚度相当于金属平板粒子的主平面间距离,能够利用原子力显微镜(AFM)进行测量。关于金属平板粒子的详细内容能够参考日本特开2013-195563号公报的0017~0027段的记载,并将该内容编入本说明书中。
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的量子点的材料,可列举FeSi、Ge、InN、InAs、PbTe、PbSe、InSb等。作为量子点的形状,无特别限定,可列举圆球状、鳞片状、板状、椭圆球状、不规则形。
作为用作遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的含稀土类原子的陶瓷,可列举包含Yb、Ho、Tm等稀土类原子的陶瓷。作为具体例,可列举包含Yb及Ho的Y2O3、包含Yb及Tm的Y2O3等。
在本发明的组合物中,遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的含量优选为组合物的总固体成分的1~50质量%。上限优选为45质量%以下,更优选为40质量%以下。下限优选为2质量%以上,更优选为3质量%以上。
并且,在作为遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料使用二亚胺鎓化合物的情况下,二亚胺鎓化合物的含量优选为组合物的总固体成分的2~40质量%。上限优选为35质量%以下,更优选为30质量%以下。下限优选为3质量%以上,更优选为5质量%以上。
并且,作为遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的二亚胺鎓化合物与遮蔽可见光的色材的总计量是组合物的总固体成分的10~90质量%。上限优选为80质量%以下,更优选为70质量%以下。下限优选为15质量%以上,更优选为30质量%以上。
并且,红外线吸收剂与遮蔽可见光的色材的总计量中的、作为遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的二亚胺鎓化合物的含量优选为10~80质量%。上限优选为70质量%以下,更优选为50质量%以下。下限优选为12质量%以上,更优选为18质量%以上。
(在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
本发明中的红外线吸收剂优选包含在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。通过包含这种化合物,能够提高波长900~1000nm附近的红外线的遮蔽性。上述化合物的极大吸收波长优选在900~990nm的范围,更优选在900~980nm的范围,进一步优选在900~960nm的范围。并且,上述化合物中,波长1020nm下的吸光度A1020与极大吸收波长下的吸光度Amax的比、即吸光度Amax/吸光度A1020优选为4.5以上,更优选为10以上,进一步优选为30以上。上限例如优选为90以下。通过该方式,能够提高波长大于1000nm的红外线的透射性。
在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物优选为选自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物中的至少一种化合物,更优选为吡咯并吡咯化合物。作为吡咯并吡咯化合物,可列举国际公开WO2015/166873号公报的0010~0033段记载的化合物等。作为花青化合物,可列举下述结构的化合物、日本特开2014-095007号公报中所记载的化合物等。作为酞菁化合物,可列举日本特开2014-021421号公报中所记载的化合物等。作为方酸化合物,可列举日本特开2014-077066号公报中所记载的化合物、日本特开2013-147595号公报中所记载的化合物等。将这些公报的内容编入本说明书中。并且,作为市售品,也能够使用FDN-005、FDN-006、FDN-007(以上为YAMADA CHEMICAL CO.,LTD.制、酞菁化合物)。
[化学式19]
作为在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物使用的吡咯并吡咯化合物优选为由下述式(1)表示的化合物。通过使用该化合物,能够期待能够提高所获得的膜的耐热性或耐光性的效果。
[化学式20]
式(1)中,X1及X2分别独立地表示氢原子或取代基,A1及A2分别独立地表示取代基,R1~R10分别独立地表示氢原子或取代基,R1~R8中的至少一个表示取代基。
作为A1及A2所表示的取代基,可列举芳基、杂芳基等,优选为芳基。
作为芳基,优选为碳原子数6~20的芳基,更优选为碳原子数6~12的芳基。尤其优选为苯基或萘基。
杂芳基可以为单环也可以为多环。构成杂芳基的杂原子的数优选为1~3。构成杂芳基的杂原子优选为氮原子、氧原子或硫原子。杂芳基的碳原子数优选为3~30,更优选为3~18,更优选为3~12。作为杂芳基的具体例,例如可列举咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、噻吩基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、萘并噻唑基、间-咔唑基(meta-carbazolyl)、吖庚因基等。
上述芳基及杂芳基可以具有取代基,也可以为未经取代。从能够提高对溶剂的溶解性的观点考虑,芳基及杂芳基优选具有取代基。作为取代基,可列举以上述取代基T进行说明的取代基、后述-L100-X100所表示的基团等。
烷基的碳原子数优选为1~40,更优选为1~30,尤其优选为1~25。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为支链。
烯基的碳原子数优选为2~40。下限例如更优选为3以上,进一步优选为5以上,更进一步优选为8以上,尤其优选为10以上。上限更优选为35以下,进一步优选为30以下。烯基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为支链。
烷氧基的碳原子数优选为1~40,更优选为1~30,尤其优选为1~25。烷氧基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为支链。
-L100-X100中,L100表示单键或2价的连接基,X100表示反应性基团。作为反应性基团,优选为选自乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基、环氧基、氧杂环丁基、异氰酸酯基、羟基、氨基、羧基、硫醇基、烷氧基甲硅烷基、羟甲基、磺酸基、苯乙烯基及马来酰亚胺基中的1种以上,优选为乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基、羟基及羧基。并且,作为反应性基团,还优选由下述式(A-1)表示的基团、由下述式(A-2)表示的基团、由下述式(A-3)表示的基团。
[化学式21]
式(A-1)中,R15、R16及R17分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基或芳基。
烷基的碳原子数优选为1~18,更优选为1~10,进一步优选为1~6,尤其优选为1~3,最优选为1。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种。
烯基的碳原子数优选为2~18,更优选为2~10,进一步优选为2~6,尤其优选为2~3。烯基可以为直链、支链、环状中的任一种。
炔基的碳原子数优选为2~18,更优选为2~10,进一步优选为2~6,尤其优选为2~3。炔基可以为直链、支链、环状中的任一种。
芳基的碳原子数优选为6~12,更优选为6~8,进一步优选为6。
式(A-1)中,R15优选为氢原子或碳原子数1~18的烷基,更优选为氢原子。式(A-1)中,R16及R17优选为分别独立地表示氢原子或碳原子数1~18的烷基,更优选为氢原子。
式(A-2)中,R18、R19及R20分别独立地表示氢原子、甲基、氟原子或-CF3。式(A-2)中,R18优选为甲基。式(A-2)中,R19及R20优选为氢原子。
式(A-3)中,R21及R22分别独立地表示氢原子、甲基、氟原子或-CF3,优选为氢原子。式(A-3)中,Q表示1或2。
L100表示2价的连接基时,L100优选为碳原子数1~20的亚烷基、碳原子数6~18的亚芳基、碳原子数3~18的杂亚芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、或由这些基团的组合而成的基团。
式(1)中,R1~R10分别独立地表示氢原子或取代基,R1~R8中的至少一个表示取代基。优选R1~R8的2~8个为取代基,更优选2~6个为取代基,尤其优选2~4个为取代基。
作为R1~R8所表示的取代基,可列举上述取代基T、上述-L100-X100所表示的基团等,优选为卤素原子、烷基、烷氧基、芳基、氰基,更优选为卤素原子。
作为卤素原子,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,尤其优选为氯原子。
作为烷基的碳原子数,优选为1~40,更优选为1~30,尤其优选为1~25。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为直链。
作为烷氧基的碳原子数,优选为1~40,更优选为1~30,尤其优选为1~25。烷氧基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为直链。
作为芳基的碳原子数,优选为6~20,更优选为6~12。
作为R9、R10所表示的取代基,可列举上述取代基T。R9、R10所表示的取代基优选为吸电子基团。作为吸电子基团,例如优选为哈米特的取代基常数σp值(sigma para-value:对位取代基常数值)为正的取代基。σp值优选为0.20以上,更优选为0.25以上,进一步优选为0.3以上,尤其优选为0.35以上。上限无特别限制,优选为0.80以下。作为具体例,可列举氰基(σp值=0.66)、羧基(-COOH:σp值=0.45)、烷氧基羰基(例如-COOMe:σp值=0.45)、芳氧基羰基(例如-COOPh:σp值=0.44)、氨基甲酰基(例如-CONH2:σp值=0.36)、烷基羰基(例如-COMe:σp值=0.50)、芳基羰基(例如-COPh:σp值=0.43)、烷基磺酰基(例如-SO2Me:σp值=0.72)、芳基磺酰基(例如-SO2Ph:σp值=0.68)等。其中,Me表示甲基,Ph表示苯基。另外,关于哈米特的取代基常数σp值,例如能够参考日本特开2011-068731号公报的0017~0018段,并将该内容编入本说明书中。
R9、R10所表示的取代基优选为氰基、羧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、烷基羰基、芳基羰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基,更优选为氰基。
式(1)中,X1及X2分别独立地表示氢原子或取代基。
作为X1及X2所表示的取代基,可列举烷基、芳基、杂芳基、金属原子、由-BR23R24表示的基团等,优选为氢原子或由-BR23R24表示的基团,更优选为由-BR23R24表示的基团。
烷基的碳原子数优选为1~40,更优选为1~30,尤其优选为1~25。烷基可以为直链、支链、环状中的任一种,优选为直链或支链,尤其优选为直链。
作为芳基的碳原子数,优选为6~20,更优选为6~12。
杂芳基可以为单环,也可以为多环,优选为单环。构成杂芳基的杂原子的数优选为1~3。构成杂芳基的杂原子优选为氮原子、氧原子或硫原子。杂芳基的碳原子数优选为3~30,更优选为3~18,更优选为3~12,尤其优选为3~5。
作为金属原子,优选为镁、铝、钙、钡、锌、锡、钒、铁、钴、镍、铜、钯、铱、铂,更优选为铝、锌、钒、铁、铜、钯、铱、铂。
由-BR23R24表示的基团中,R23及R24分别独立地表示取代基,R23与R24可以相互键结而形成环。作为R23及R24所表示的取代基,可列举上述取代基T、上述-L100-X100所表示的基团。优选为卤素原子、烷基、芳基、杂芳基及上述-L100-X100所表示的基团。
作为卤素原子,优选为氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,尤其优选为氟原子。
作为烷基、芳基、杂芳基,与以X1及X2进行说明的烷基、芳基、杂芳基相同,优选范围也相同。
R23及R24可以相互键结而形成环。作为R23与R24键结而形成的环,例如可列举以下所示的结构等。
[化学式22]
作为由式(1)表示的化合物,例如可列举以下所示的化合物、国际公开WO2015/166873号公报的0026~0033段中所记载的化合物,并将该内容编入本说明书中。
[化学式23]
在本发明的组合物中,在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物的含量优选为组合物的总固体成分的1~40质量%。上限优选为30质量%以下,更优选为20质量%以下。下限优选为3质量%以上,更优选为5质量%以上。
并且,在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物与遮蔽可见光的色材的总计量优选为组合物的总固体成分的10~60质量%。上限优选为55质量%以下,更优选为50质量%以下。下限优选为20质量%以上,更优选为25质量%以上。
并且,红外线吸收剂与遮蔽可见光的色材的总计量中的、在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物的含量优选为5~40质量%。上限优选为30质量%以下,更优选为25质量%以下。下限优选为10质量%以上,更优选为15质量%以上。
(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
本发明中的红外线吸收剂还优选包含在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。根据该方式,能够更有效地遮蔽可见区域的光,容易制造在来自于可见光线的干扰少的状态下可选择地透射波长大于1400nm的红外线的膜。优选在750~900nm的范围具有上述化合物的极大吸收波长,更优选在800~880nm的范围具有。
在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物可列举吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、部花青化合物、克酮鎓化合物、氧杂菁化合物等,优选为吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸化合物。
作为酞菁化合物,例如可列举日本特开2012-077153号公报的0093段中所记载的化合物、日本特开2006-343631号公报中所记载的酞菁氧钛、日本特开2013-195480号公报的0013~0029段中所记载的化合物、日本专利第6081771号公报中所记载的钒酞菁,并将这些内容编入本说明书中。并且,作为酞菁化合物,也能够使用下述结构的化合物。作为萘酞菁化合物,例如可列举日本特开2012-077153号公报的0093段中所记载的化合物,并将该内容编入本说明书中。
[化学式24]
作为吡咯并吡咯化合物,优选为由式(PP)表示的化合物。
[化学式25]
式中,R1a及R1b分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基,R2及R3分别独立地表示氢原子或取代基,R2及R3可以相互键结而形成环,R4分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、-BR4AR4B或金属原子,R4可以与选自R1a、R1b及R3中的至少一个共价键结或配位键结,R4A及R4B分别独立地表示取代基。关于式(PP)的详细内容,能够参考日本特开2009-263614号公报的0017~0047段、日本特开2011-068731号公报的0011~0036段、国际公开WO2015/166873号公报的0010~0024段的记载,并将这些内容编入本说明书中。
式(PP)中,优选R1a及R1b分别独立地为芳基或杂芳基,更优选为芳基。并且,R1a及R1b所表示的烷基、芳基及杂芳基可以具有取代基,也可以为未经取代。作为取代基,可列举上述取代基T。
式(PP)中,R2及R3分别独立地表示氢原子或取代基。作为取代基可列举上述取代基T。R2及R3中的至少一个优选为吸电子基团,更优选为氰基、羧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、烷基羰基、芳基羰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基,进一步优选为氰基。
式(PP)中,R2表示吸电子基团(优选为氰基),R3优选为表示杂芳基。杂芳基优选为5元环或6元环。并且,优选为单环或缩合环,优选为单环或缩合数为2~8的缩合环,更优选为单环或缩合数为2~4的缩合环。构成杂芳基的杂原子的数优选为1~3,更优选为1~2。作为杂原子,例如可例示氮原子、氧原子、硫原子。杂芳基优选为具有1个以上的氮原子。式(PP)中的2个R2彼此可以相同,也可以不同。并且,式(PP)中的2个R3彼此可以相同,也可以不同。
式(PP)中,R4优选为氢原子、烷基、芳基、杂芳基或由-BR4AR4B表示的基团,更优选为氢原子、烷基、芳基或由-BR4AR4B表示的基团,进一步优选为由-BR4AR4B表示的基团。作为R4A及R4B所表示的取代基,优选为卤素原子、烷基、烷氧基、芳基或杂芳基,更优选为烷基、芳基或杂芳基,尤其优选为芳基。这些基团还可以具有取代基。式(PP)中的2个R4彼此可以相同,也可以不同。R4A及R4B可以相互键结而形成环。
作为由式(PP)表示的化合物的具体例可列举下述化合物。以下结构式中,Me表示甲基,Ph表示苯基。并且,作为吡咯并吡咯化合物,可列举日本特开2009-263614号公报的0016~0058段中所记载的化合物、日本特开2011-068731号公报的0037~0052段中所记载的化合物等,并将这些内容编入本说明书中。
[化学式26]
作为方酸化合物,优选为由下述式(SQ)表示的化合物。
[化学式27]
式(SQ)中,A1及A2分别独立地表示芳基、杂芳基或由式(A-1)表示的基团,
[化学式28]
式(A-1)中,Z1表示形成含氮杂环的非金属原子团,R2表示烷基、烯基或芳烷基,d表示0或1,波浪线表示连接键。关于式(SQ)的详细内容,能够参考日本特开2011-208101号公报的0020~0049段、日本专利第6065169号公报的0043~0062段、国际公开WO2016/181987号公报的0024~0040段的记载,并将这些内容编入本说明书中。
另外,式(SQ)中,阳离子以如下方式非定域化而存在。
[化学式29]
方酸化合物优选为由下述式(SQ-1)表示的化合物。
[化学式30]
环A及环B分别独立地表示芳香族环,
XA及XB分别独立地表示取代基,
GA及GB分别独立地表示取代基,
kA表示0~nA的整数,kB表示0~nB的整数,
nA及nB分别表示可以取代为环A或环B的最大的整数,
XA与GA、XB与GB、XA与XB可以相互键结而形成环,GA及GB分别存在多个时,可以相互键结而形成环结构。
作为GA及GB所表示的取代基,可列举上述取代基T。
作为XA及XB所表示的取代基,优选为具有活性氢的基团,更优选为-OH、-SH、-COOH、-SO3H、-NRX1RX2、-NHCORX1、-CO-NRX1RX2、-NHCO-NRX1RX2、-NHCOORX1、-NHSO2RX1、-B(OH)2及-PO(OH)2,进一步优选为-OH、-SH及-NRX1RX2。RX1及RX2分别独立地表示氢原子或取代基。作为XA及XB所表示的取代基,可列举烷基、芳基或杂芳基,优选为烷基。
环A及环B分别独立地表示芳香族环。芳香族环可以为单环,也可以为缩合环。作为芳香族环的具体例,可列举苯环、萘环、并环戊二烯(pentalene)环、茚环、薁环、庚搭烯(heptalene)环、茚烯(indacene)环、苝环、并五苯(pentacene)环、苊环、菲环、蒽环、并四苯环、环、三亚苯环、茀环、联苯环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、咪唑环、噁唑环、噻唑环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、吲嗪环、吲哚环、苯并呋喃环、苯并噻吩环、异苯并呋喃环、喹嗪环、喹啉环、酞嗪环、萘啶环、喹噁啉环、喹噁唑啉环、异喹啉环、咔唑环、啡啶环、吖啶环、啡啉环、噻嗯环、色烯环、呫吨环、啡噁噻环、啡噻嗪环及啡嗪环,优选为苯环或萘环。芳香族环可以为未经取代,也可以具有取代基。作为取代基,可列举上述取代基T。
XA与GA、XB与GB、XA与XB可以相互键结而形成环,GA及GB分别存在多个时,可以相互键结而形成环。作为环,优选为5元环或6元环。环可以为单环,也可以为缩合环。XA与GA、XB与GB、XA与XB、GA彼此或GB彼此键结而形成环时,它们可以直接键结而形成环,也可以经包含亚烷基、-CO-、-O-、-NH-、-BR-及它们的组合的2价的连接基键结而形成环。R表示氢原子或取代基。作为取代基,可列举上述取代基T,优选为烷基或芳基。
kA表示0~nA的整数,kB表示0~nB的整数,nA表示可以取代为环A的最大的整数,nB表示可以取代为环B的最大的整数。kA及kB分别独立地优选为0~4,更优选为0~2,尤其优选为0~1。
方酸化合物还优选由下述式(SQ-10)、式(SQ-11)或式(SQ-12)表示的化合物。
式(SQ-10)
[化学式31]
式(SQ-11)
[化学式32]
式(SQ-12)
[化学式33]
式(SQ-10)~(SQ-12)中,X独立地为1个以上的氢原子可以由卤素原子、碳原子数1~12的烷基或烷氧基所取代的式(1)或式(2)表示的2价的有机基。
-(CH2)n1-……(1)
式(1)中,n1为2或3。
-(CH2)n2-O-(CH2)n3-……(2)
式(2)中,n2和n3分别独立地为0~2的整数,n2+n3为1或2。
R1及R2分别独立地表示烷基或芳基。烷基及芳基可以具有取代基,也可以为未经取代。作为取代基可列举取代基T。
R3~R6分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基或烷氧基。
n为2或3。
作为方酸化合物,可列举下述结构的化合物。并且,可列举日本特开2011-208101号公报的0044~0049段中所记载的化合物、日本专利第6065169号公报的0060~0061段中所记载的化合物、国际公开WO2016/181987号公报的0040段中所记载的化合物、国际公开WO2013/133099号公报中所记载的化合物、国际公开WO2014/088063号公报中所记载的化合物、日本特开2014-126642号公报中所记载的化合物、日本特开2016-146619号公报中所记载的化合物、日本特开2015-176046号公报中所记载的化合物、日本特开2017-025311号公报中所记载的化合物、国际公开WO2016/154782号公报中所记载的化合物、日本专利5884953号公报中所记载的化合物、日本专利6036689号公报中所记载的化合物、日本专利5810604号公报中所记载的化合物、日本特开2017-068120号公报中所记载的化合物等,并将这些内容编入本说明书中。
[化学式34]
花青化合物优选为由式(C)表示的化合物。
式(C)
[化学式35]
式中,Z1及Z2分别独立地为形成可以缩环的5元或6元的含氮杂环的非金属原子团,
R101及R102分别独立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基,
L1表示具有奇数个次甲基的次甲基链,
a及b分别独立地为0或1,
a为0的情况下,碳原子与氮原子以双键键结,b为0的情况下,碳原子与氮原子以单键键结,
式中的由Cy表示的部位为阳离子部的情况下,X1表示阴离子,c表示用于使电荷平衡所需的数,式中的由Cy表示的部位为阴离子部的情况下,X1表示阳离子,c表示用于使电荷平衡所需的数,式中的由Cy表示的部位的电荷在分子内中和的情况下,c为0。
作为花青化合物,可列举日本特开2009-108267号公报的0044~0045段中所记载的化合物、日本特开2002-194040号公报的0026~0030段中所记载的化合物、日本特开2015-172004号公报中所记载的化合物、日本特开2015-172102号公报中所记载的化合物、日本特开2008-088426号公报中所记载的化合物、日本特开2017-031394号公报中所记载的化合物等,并将这些内容编入本说明书中。
本发明中,作为在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物,也能够使用市售品。例如,可列举SDO-C33(Arimoto Chemical Co.,Ltd.制)、EX ColorIR-14、EX Color IR-10A、EX Color TX-EX-801B、EX Color TX-EX-805K(Nippon ShokubaiCo.,Ltd.制)、ShigenoxNIA-8041、ShigenoxNIA-8042、ShigenoxNIA-814、ShigenoxNIA-820、ShigenoxNIA-839(HAKKO Chemical Co.,Ltd.制)、EpoliteV-63、Epolight3801、Epolight3036(EPOLIN公司制)、PRO-JET825LDI(FUJIFILM Co.,Ltd.制)、NK-3027、NK-5060(Hayashibara Co.,Ltd.制)、YKR-3070(Mitsui Chemicals,Inc.制)等。
本发明的组合物中,在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物的含量优选为组合物的总固体成分的0.5~30质量%。上限优选为20质量%以下,更优选为15质量%以下。下限优选为1质量%以上,更优选为2质量%以上。
并且,在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物与在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物的总计量优选为组合物的总固体成分的1~30质量%。上限优选为25质量%以下,更优选为20质量%以下。下限优选为3质量%以上,更优选为5质量%以上。
并且,在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物与遮蔽可见光的色材的总计量优选为组合物的总固体成分的15~45质量%。上限优选为40质量%以下,更优选为35质量%以下。下限优选为18质量%以上,更优选为20质量%以上。
并且,红外线吸收剂与遮蔽可见光的色材的总计量中的、在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物的含量优选为1~40质量%。上限优选为38质量%以下,更优选为35质量%以下。下限优选为3质量%以上,更优选为5质量%以上。
<<固化性化合物>>
本发明的组合物含有固化性化合物。作为固化性化合物,可列举聚合性化合物、树脂、明胶和纤维素等天然高分子等。作为明胶,根据其合成方法,有酸处理明胶及碱处理明胶(石灰处理等),均能够优选地进行使用。明胶的分子量优选为10,000~1,000,000。并且,也能够使用利用明胶的氨基或羧基进行改质处理的改质明胶(例如,邻苯二甲酸酯化明胶等)。作为明胶,能够使用惰性明胶(例如,新田明胶750)及邻苯二甲酸酯化明胶(例如,新田明胶801)等。树脂可以为非聚合性的树脂(不具有聚合性基团的树脂),也可以为聚合性树脂(具有聚合性基团的树脂)。作为聚合性基团,可列举具有乙烯性不饱和键的基团、环氧基、羟甲基、烷氧基甲基等。作为具有乙烯性不饱和键的基团,可列举乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基等。另外,聚合性树脂(具有聚合性基团的树脂)也为聚合性化合物。
本发明中,作为固化性化合物,优选使用至少包含树脂的化合物,更优选使用树脂和单体类型的聚合性化合物,进一步优选使用树脂、具有含有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物。
本发明的组合物中,固化性化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1~80质量%。下限优选为0.5质量%以上,更优选为1质量%以上,进一步优选为5质量%以上。上限优选为70质量%以下,更优选为60质量%以下,进一步优选为50质量%以下,更进一步优选为40质量%以下,尤其优选为30质量%以下。固化性化合物可以仅为一种,也可以为两种以上。当为两种以上时,优选总计量为上述范围。
(聚合性化合物)
作为聚合性化合物,可列举含有具有乙烯性不饱和键的基团的化合物、具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物等。聚合性化合物可以为单体,也可以为树脂。具有含有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物能够优选地用作自由基聚合性化合物。并且,具有环氧基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基甲基的化合物能够优选地用作阳离子聚合性化合物。
单体类型的聚合性化合物的分子量优选为小于2000,更优选为100以上且小于2000,进一步优选为200以上且小于2000。上限例如优选为1500以下。树脂类型的聚合性化合物的重均分子量(Mw)优选为2,000~2,000,000。上限优选为1,000,000以下,更优选为500,000以下。下限优选为3,000以上,更优选为5,000以上。
作为树脂类型的聚合性化合物,可列举环氧树脂、包含具有聚合性基团的重复单元的树脂等。作为具有聚合性基团的重复单元,可列举下述(A2-1)~(A2-4)等。
[化学式36]
R1表示氢原子或烷基。烷基的碳原子数优选为1~5,进一步优选为1~3,尤其优选为1。R1优选为氢原子或甲基。
L51表示单键或2价的连接基。作为2价的连接基,可列举亚烷基、亚芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2-、-NR10-(R10表示氢原子或烷基,优选为氢原子)、或由这些组合而成的基团。亚烷基的碳原子数优选为1~30,更优选为1~15,进一步优选为1~10。亚烷基可以具有取代基,优选为未经取代。亚烷基可以为直链、支链、环状中的任一种。并且,环状的亚烷基可以为单环、多环中的任一个。亚芳基的碳原子数优选为6~18,更优选为6~14,进一步优选为6~10。
P1表示聚合性基团。作为聚合性基团,可列举具有烯属不饱和键的基团、环氧基、羟甲基、烷氧基甲基等。
作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物优选为3~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物,更优选为3~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物的例子,能够参考日本特开2013-253224号公报的0033~0034段的记载,并将该内容编入本说明书中。作为具有含有乙烯性不饱和基的基团的化合物,优选为亚乙基氧基改质季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品为NK Ester ATM-35E;Shin-Nakamura ChemicalCo.,Ltd.制)、二季戊四醇三丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD D-330;Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、二季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD D-320;Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD D-310;Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作为市售品为KAYARAD DPHA;Nippon KayakuCo.,Ltd.制,A-DPH-12E;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制)及它们的(甲基)丙烯酰基介由乙二醇残基和/或丙二醇残基键结的结构。并且,也能够使用它们的寡聚物类型。并且,能够参考日本特开2013-253224号公报的0034~0038段的记载,并将该内容编入本说明书中。并且,可列举日本特开2012-208494号公报的0477段(对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的0585段)中所记载的聚合性单体等,将这些内容编入本说明书中。并且,还优选二甘油EO(环氧乙烷)改质(甲基)丙烯酸酯(作为市售品为M-460;TOAGOSEI CO.,LTD.制)、季戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制,A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制,KAYARAD HDDA)。也能够使用它们的寡聚物类型。例如可列举RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)等。并且,也能够使用ARONIX M-350、TO-2349(TOAGOSEI CO.,LTD.制)。
包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物还可具有羧基、磺基、磷酸基等酸基。作为市售品,例如可列举TOAGOSEI CO.,LTD.制的ARONIX系列(例如M-305、M-510、M-520)等。
包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物还优选具有己内酯结构的化合物的方式。作为具有己内酯结构的化合物,能够参考日本特开2013-253224号公报的0042~0045段的记载,并将该内容编入本说明书中。具有己内酯结构的化合物例如由NIPPON KAYAKUCO.,Ltd.作为KAYARAD DPCA系列而在市场上出售,可列举DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等。
作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,也能够使用具有烯属不饱和键的基团和具有亚烷氧基的化合物。作为具有烯属不饱和键的基团和具有亚烷氧基的化合物,优选为具有烯属不饱和键的基团、具有亚乙基氧基及/或亚丙氧基的化合物,更优选为具有烯属不饱和键的基团和具有亚乙基氧基的化合物,进一步优选为具有4~20个亚乙基氧基的3~6官能(甲基)丙烯酸酯化合物。作为具有烯属不饱和键的基团和具有亚烷氧基的化合物的市售品,例如可列举Sartomer Company,Inc制的作为具有4个亚乙氧基的4官能(甲基)丙烯酸酯的SR-494、作为具有3个异亚丁氧基的3官能(甲基)丙烯酸酯的KAYARAD TPA-330等。
作为包含具有乙烯性不饱和键的基团的化合物,还优选如日本特公昭48-041708号公报、日本特开昭51-037193号公报、日本特公平2-032293号公报、日本特公平2-016765号公报中记载的聚氨酯丙烯酸酯(Urethane acrylate)类或日本特公昭58-049860号公报、日本特公昭56-017654号公报、日本特公昭62-039417号公报、日本特公昭62-039418号公报记载的具有环氧乙烷系骨架的聚氨酯化合物类。并且,能够使用日本特开昭63-277653号公报、日本特开昭63-260909号公报、日本特开平1-105238号公报中所记载的在分子内具有氨基结构或硫化物结构的加成聚合性化合物类。作为市售品,可列举UA-7200(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(Kyoeisha Chemical Co.,Ltd.制)等。
并且,作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,也能够使用日本特开2017-048367号公报、日本专利第6057891号公报、日本专利第6031807号公报中所记载的化合物。
并且,作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物,还优选使用8UH-1006、8UH-1012(TAISEI FINE CHEMICAL CO.,LTD.制)、LIGHT ACRYLATEPOB-A0(Kyoeisha chemicalCo.,Ltd.制)等。
本发明的组合物含有包含具有烯属不饱和键的基团的化合物时,包含具有烯属不饱和键的基团的化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量%以上,更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上,尤其优选为5质量%以上。上限优选为80质量%以下,更优选为70质量%以下,进一步优选为60质量%以下,更进一步优选为50质量%以下,更进一步优选为40质量%以下,尤其优选为30质量%以下。
作为具有环氧基的化合物(以下,也称为环氧化合物),可列举单官能或多官能缩水甘油醚化合物、或多官能脂肪族缩水甘油醚化合物等。并且,作为环氧化合物,也能够使用具有脂环式环氧基的化合物。
作为环氧化合物,可列举在1分子中具有1个以上的环氧基的化合物。环氧化合物优选为在1分子中具有1~100个环氧基的化合物。环氧基的数量的上限例如能够设为10个以下,也能够设为5个以下。环氧基的下限优选为2个以上。
环氧化合物可以为低分子化合物(例如分子量小于1000),也可以为高分子化合物(macromolecule)(例如,分子量1000以上,其为聚合物时,重均分子量为1000以上)。环氧化合物的重均分子量优选为2000~100000。重均分子量的上限优选为10000以下,更优选为5000以下,进一步优选为3000以下。
作为环氧化合物的市售品,可列举EHPE3150(Daicel Chemical Industri esLtd.制)、EPICLON N-695(DIC CORPORATION CO.,LTD.制)、ADEKA GLYCIROL ED-505(ADEKACORPORATION制,含环氧基的单体)、MARPROOF G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(NOF CORPORATION制,含环氧基的聚合物)等。并且,作为环氧化合物,也能够使用日本特开2013-011869号公报的0034~0036段、日本特开2014-043556号公报的0147~0156段、日本特开2014-089408号公报的0085~0092段中所记载的化合物。将这些内容编入本说明书中。
本发明的组合物含有环氧化合物时,环氧化合物的含量相对于组合物的总固体成分,优选为0.1质量%以上,更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上,尤其优选为5质量%以上。上限优选为80质量%以下,更优选为70质量%以下,进一步优选为60质量%以下,更进一步优选为50质量%以下,更进一步优选为40质量%以下,尤其优选为30质量%以下。
作为具有羟甲基的化合物(以下,也称为羟甲基化合物),可列举羟甲基键结于氮原子或形成芳香族环的碳原子的化合物。并且,作为具有烷氧基甲基的化合物(以下,也称为烷氧基甲基化合物),可列举烷氧基甲基键结于氮原子或形成芳香族环的碳原子的化合物。作为烷氧基甲基或羟甲基键结于氮原子的化合物,优选为烷氧基甲基化三聚氰胺、羟甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、羟甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲、羟甲基化甘脲、烷氧基甲基化脲及羟甲基化脲等。并且,能够参考日本特开2004-295116号公报的0134~0147段、日本特开2014-089408的0095~0126段的记载,并将这些内容编入本说明书中。
本发明的组合物含有羟甲基化合物时,羟甲基化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量%以上,更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上,尤其优选为5质量%以上。上限优选为80质量%以下,更优选为70质量%以下,进一步优选为60质量%以下,更进一步优选为50质量%以下,更进一步优选为40质量%以下,尤其优选为30质量%以下。
本发明的组合物含有烷氧基甲基化合物时,烷氧基甲基化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1质量%以上,更优选为0.5质量%以上,进一步优选为1质量%以上,尤其优选为5质量%以上。上限优选为80质量%以下,更优选为70质量%以下,进一步优选为60质量%以下,更进一步优选为50质量%以下,更进一步优选为40质量%以下,尤其优选为30质量%以下。
(树脂)
本发明的组合物能够使用树脂作为固化性化合物。关于固化性组合物,优选使用至少包含树脂的固化性化合物。树脂也能够用作分散剂。另外,将用于使颜料等分散的树脂称为分散剂。但是,树脂的这种用途为一例,也能够以这样的用途以外的目的来使用树脂。另外,具有聚合性基团的树脂还对应于聚合性化合物。
树脂的重均分子量(Mw)优选为2,000~2,000,000。上限优选为1,000,000以下,更优选为500,000以下。下限优选为3,000以上,更优选为5,000以上。
作为树脂,可列举(甲基)丙烯酸树脂、环氧树脂、烯-硫醇树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚苯树脂、聚亚芳基醚氧化膦树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、环状烯烃树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂等。作为环氧树脂,可列举在作为上述聚合性化合物一栏中说明的环氧化合物例示的化合物中聚合物类型的化合物。作为环状烯烃树脂的市售品,可列举ARTON F4520(JSR CORPORATION制)等。并且,树脂也能够使用国际公开WO2016/088645号公报的实施例中所记载的树脂、日本特开2017-057265号公报中所记载的树脂、日本特开2017-032685号公报中所记载的树脂、日本特开2017-075248号公报中所记载的树脂、日本特开2017-066240号公报中所记载的树脂,并将这些内容编入本说明书中。并且,也能够优选地使用具有茀骨架的树脂。作为具有茀骨架的树脂,可列举下述结构的树脂。以下的结构式中,A是选自均苯四甲酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、联苯四羧酸二酐及二苯醚四羧酸二酐中的四羧酸二酐的残基,M是苯基或苄基。关于具有茀骨架的树脂,能够参考美国专利申请公开第2017/0102610号公报的记载,并将该内容编入本说明书中。
[化学式37]
本发明中所使用的树脂可以具有酸基。作为酸基,例如可列举羧基、磷酸基、磺基、酚性羟基等,优选为羧基。这些酸基可以是仅一种,也可以是两种以上。具有酸基的树脂也能够用作碱溶性树脂。
作为具有酸基的树脂,优选为在侧链具有羧基的聚合物。作为具体例,可列举甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物、酚醛清漆树脂等碱溶性酚醛树脂、在侧链具有羧基的酸性纤维素衍生物、对具有羟基的聚合物加成酸酐而成的树脂。尤其,优选(甲基)丙烯酸和能够与其共聚的其他单体的共聚物作为碱溶性树脂。作为能够与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体,可列举烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯化合物等。作为烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯,可列举(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸环己酯等,作为乙烯基化合物,可列举苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基丙烯酸四氢糠酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体等。并且,其他单体也能够使用日本特开平10-300922号公报中所记载的N位取代马来酰亚胺单体,例如N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等。此外,这些能够与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体可以是仅一种,也可以是两种以上。
具有酸基的树脂还可以含有具有聚合性基团的重复单元。具有酸基的树脂进一步含有具有聚合性基团的重复单元时,所有重复单元中的具有聚合性基团的重复单元的含量优选为10~90摩尔%,更优选为20~90摩尔%,进一步优选为20~85摩尔%。并且,所有重复单元中的具有酸基的重复单元的含量优选为1~50摩尔%,更优选为5~40摩尔%,进一步优选为5~30摩尔%。
作为具有酸基的树脂能够优选地使用(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯共聚物、包含(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他单体的多元共聚物。并且,也能够优选地使用将2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯聚合的共聚物,日本特开平7-140654号公报中所记载的2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
还优选具有酸基的树脂包含如下聚合物,该聚合物通过对包含由下述式(ED1)表示的化合物和/或由下述式(ED2)表示的化合物(以下,还将这些化合物称为“醚二聚体”。)的单体成分进行聚合而成。
[化学式38]
式(ED1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1~25的烃基。
[化学式39]
式(ED2)中,R表示氢原子或碳原子数1~30的有机基。作为由式(ED2)表示的化合物的具体例,能够参考日本特开2010-168539号公报的记载。
作为醚二聚体的具体例,例如能够参考日本特开2013-029760号公报的0317段,并将该内容编入本说明书中。醚二聚体可以是仅一种,也可以是两种以上。
具有酸基的树脂可以包含来自于由下述式(X)表示的化合物的重复单元。
[化学式40]
式(X)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示碳原子数2~10的亚烷基,R3表示氢原子或可以包含苯环的碳原子数1~20的烷基。n表示1~15的整数。
关于具有酸基的树脂,能够参考日本特开2012-208494号公报的0558~0571段(相对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的0685~0700段)的记载、日本特开2012-198408号公报的0076~0099段的记载,并将这些内容编入本说明书中。并且,具有酸基的树脂也能够使用市售品。例如,可列举Acrybase FF-426(FUJIKURA KASEI CO.,LTD.制)等。
具有酸基的树脂的酸值优选为30~200mgKOH/g。下限优选为50mgKOH/g以上,更优选为70mgKOH/g以上。上限优选为150mgKOH/g以下,更优选为120mgKOH/g以下。
作为具有酸基的树脂,例如可列举下述结构的树脂等。以下结构式中,Me表示甲基。
[化学式41]
本发明的组合物也能够含有作为分散剂的树脂。关于分散剂,可列举酸性分散剂(酸性树脂)、碱性分散剂(碱性树脂)。在此,酸性分散剂(酸性树脂)表示酸基的量比碱性基的量多的树脂。关于酸性分散剂(酸性树脂),将酸基的量和碱性基的量的总计量设为100摩尔%时,优选为酸基的量占70摩尔%以上的树脂,更优选为实质上仅包括酸基的树脂。酸性分散剂(酸性树脂)所具有的酸基优选为羧基。酸性分散剂(酸性树脂)的酸值优选为40~105mgKOH/g,更优选为50~105mgKOH/g,进一步优选为60~105mgKOH/g。并且,碱性分散剂(碱性树脂)表示碱性基的量比酸基的量多的树脂。关于碱性分散剂(碱性树脂),将酸基的量和碱性基的量的总计量设为100摩尔%时,优选为碱性基的量大于50摩尔%的树脂。碱性分散剂所具有的碱性基优选为氨基。
用作分散剂的树脂优选包含具有酸基的重复单元。用作分散剂的树脂包含具有酸基的重复单元,从而通过光刻法来形成图案时,能够进一步减少在像素的基底产生的残渣。
用作分散剂的树脂优选接枝共聚物。接枝共聚物通过接枝链而具有与溶剂的亲和性,从而颜料的分散性及经时后的分散稳定性优异。接枝共聚物的详细内容能够参考日本特开2012-255128号公报的0025~0094段的记载,并将该内容编入本说明书中。并且,关于接枝共聚物的具体例,可列举下述树脂。以下的树脂也是具有酸基的树脂(碱溶性树脂)。并且,作为接枝共聚物,可列举日本特开2012-255128号公报的0072~0094段中所记载的树脂,并将该内容编入本说明书中。
[化学式42]
并且,本发明中,关于树脂(分散剂),还优选使用在主链及侧链上的至少一个中包含氮原子的寡聚亚胺系分散剂。作为寡聚亚胺系分散剂,优选为具有包括含有pKa14以下的官能团的部分结构X的结构单元和包括原子数40~10,000的侧链Y的侧链,且在主链及侧链中的至少一个中具有碱性氮原子的树脂。碱性氮原子若为呈碱性的氮原子,则并无特别限制。关于寡聚亚胺系分散剂,能够参考日本特开2012-255128号公报的0102~0166段的记载,并将该内容编入本说明书中。作为寡聚亚胺系分散剂,能够使用下述结构的树脂或日本特开2012-255128号公报的0168~0174段中所记载的树脂。
[化学式43]
分散剂也能够作为市售品而获得,作为它们的具体例,可列举BYK2000(BYKChemie Japan KK制)等。并且,也能够使用日本特开2014-130338号公报的0041~0130段中所记载的颜料分散剂,并将该内容编入本说明书中。并且,也能够使用具有上述酸基的树脂等来作为分散剂。
在本发明的组合物含有树脂的情况下,树脂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1~50质量%。下限优选为1质量%以上,更优选为3质量%以上,进一步优选为5质量%以上,尤其优选为10质量%以上。上限更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。并且,具有酸基的树脂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1~50质量%。下限优选为1质量%以上,更优选为3质量%以上,进一步优选为5质量%以上,尤其优选为10质量%以上。上限更优选为40质量%以下,进一步优选为30质量%以下。本发明的组合物可以仅包含一种树脂,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,它们的总计量优选成为上述范围。
本发明的组合物包含聚合性化合物(优选为含有具有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物)和树脂时,聚合性化合物与树脂的质量比优选为聚合性化合物/树脂=0.4~1.4。上述质量比的下限优选为0.5以上,更优选为0.6以上。上述质量比的上限优选为1.3以下,更优选为1.2以下。若上述质量比在上述范围,则能够形成矩形性更优异的图案。
并且,具有聚合性化合物(优选为含有具有烯属不饱和键的基团的单体类型的聚合性化合物)和酸基的树脂的质量比优选为聚合性化合物/具有酸基的树脂=0.4~1.4。上述质量比的下限优选为0.5以上,更优选为0.6以上。上述质量比的上限优选为1.3以下,更优选为1.2以下。若上述质量比在上述范围,则能够形成矩形性更优异的图案。
<<光聚合引发剂>>
本发明的组合物能够含有光聚合引发剂。作为光聚合引发剂,可列举光自由基聚合引发剂、光阳离子聚合引发剂等。优选为根据聚合性化合物的种类选择使用。作为聚合性化合物,使用含有具有烯属不饱和键的基团的化合物等自由基聚合性化合物时,优选为作为光聚合引发剂使用光自由基聚合引发剂。并且,作为聚合性化合物使用阳离子聚合性化合物时,优选为作为光聚合引发剂使用光阳离子聚合引发剂。作为光聚合引发剂无特别限制,能够从公知的光聚合引发剂中适当地选择。例如,优选为对从紫外区域至可见区域的光线具有感光性的化合物。
光聚合引发剂的含量相对于组合物的总固体成分优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,进一步优选为1~20质量%。若光聚合引发剂的含量在上述范围,则可获得更良好的灵敏度和图案形成性。本发明的组合物可以仅包含一种光聚合引发剂,也可以包含两种以上。当包含两种以上光聚合引发剂时,它们的总计量优选为上述范围。
(光自由基聚合引发剂)
作为光自由基聚合引发剂,例如可列举卤化烃衍生物(例如,具有三嗪骨架的化合物、具有噁二唑骨架的化合物等)、酰基膦化合物、六芳基双咪唑、肟化合物、有机过氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓盐、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物等。从曝光灵敏度的观点考虑,光聚合引发剂优选为是三卤甲基三嗪化合物、苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、茂金属化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚体、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、环戊二烯-苯-铁络合物、卤甲基噁二唑化合物及3-芳基取代香豆素化合物,更优选为选自肟化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物及酰基膦化合物中的化合物,进一步优选为肟化合物。作为光自由基聚合引发剂,能够参考日本特开2014-130173号公报的0065~0111段的记载,并将该内容编入本说明书中。
作为α-羟基酮化合物的市售品,可列举IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上为BASF公司制)等。作为α-氨基酮化合物的市售品,可列举IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG(以上为BASF公司制)等。作为酰基膦化合物的市售品,可列举IRGACURE-819、DAROCUR-TPO(以上为BASF公司制)等。
作为肟化合物,可列举日本特开2001-233842号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年,pp.1653-1660)的化合物、J.C.S.Perkin II(1979年,pp.156-162)记载的化合物、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年,pp.202-232)记载的化合物、日本特开2000-066385号公报中所记载的化合物、日本特开2000-080068号公报中所记载的化合物、日本特表2004-534797号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物、日本特开2017-019766号公报中所记载的化合物、日本专利第6065596号公报中所记载的化合物、国际公开WO2015/152153号公报中所记载的化合物、国际公开WO2017/051680公报中所记载的化合物等。作为肟化合物的具体例,可列举3-苯甲酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亚胺基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚胺基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亚胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。作为市售品,可列举IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上,BASF公司制)、TR-PBG-304(Changzhou TronlyNew Electronic Materials CO.,LTD.制)、ADEKA OPTOMER N-1919(ADEKA CORPORATION制,日本特开2012-014052号公报中所记载的光聚合引发剂2)。并且,作为肟化合物,还优选使用无着色性的化合物或透明性高且不易变色的化合物。作为市售品,可列举ADEKA ARKLSNCI-730、NCI-831、NCI-930(以上为ADEKA CORPORATION制)等。
本发明中,作为光聚合引发剂,也能够使用具有茀环的肟化合物。作为具有茀环的肟化合物的具体例,可列举日本特开2014-137466号公报中所记载的化合物。将该内容编入本说明书中。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,也能够使用具有氟原子的肟化合物。作为具有氟原子的肟化合物的具体例,可列举日本特开2010-262028号公报中所记载的化合物、日本特表2014-500852号公报中所记载的化合物24、36~40、日本特开2013-164471号公报中所记载的化合物(C-3)等。将该内容编入本说明书中。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,能够使用具有硝基的肟化合物。具有硝基的肟化合物还优选为二聚体。作为具有硝基的肟化合物的具体例,可列举日本特开2013-114249号公报的0031~0047段、日本特开2014-137466号公报的0008~0012段、0070~0079段中所记载的化合物、日本专利4223071号公报的0007~0025段中所记载的化合物、ADEKAARKLS NCI-831(ADEKA CORPORATION制)。
本发明中,作为光自由基聚合引发剂,也能够使用具有苯并呋喃骨架的肟化合物。作为具体例,可列举国际公开WO2015/036910号公报中所记载的OE-01~OE-75。
以下示出在本发明中优选地使用的肟化合物的具体例,但本发明并不限定于这些。
[化学式44]
[化学式45]
肟化合物优选为在波长350nm~500nm的范围具有极大吸收波长的化合物,更优选为在波长360nm~480nm的范围具有极大吸收波长的化合物。并且,从灵敏度的观点考虑,优选为肟化合物在波长365nm或405nm下的摩尔吸光系数高,更优选为1,000~300,000,进一步优选为2,000~300,000,尤其优选为5,000~200,000。化合物的摩尔吸光系数能够使用公知的方法来测量。例如,优选通过分光光度计(Varian公司制的Cary-5spectrophotometer),并使用乙酸乙酯溶剂,以0.01g/L的浓度进行测量。
本发明作为光自由基聚合引发剂可以使用2官能或3官能以上的光自由基聚合引发剂。作为这种光自由基聚合引发剂的具体例,可列举日本特表2010-527339号公报、日本特表2011-524436号公报、国际公开WO2015/004565号公报、日本特表2016-532675号公报的0417~0412段、国际公开WO2017/033680号公报的0039~0055段中所记载的肟化合物的二聚体、日本特表2013-522445号公报中所记载的化合物(E)及化合物(G)、国际公开WO2016/034963号公报中所记载的Cmpd1~7等。
光自由基聚合引发剂还优选包含肟化合物和α-氨基酮化合物。通过同时使用两者,显影性提高,且可轻松地形成矩形性优异的图案。当同时使用肟化合物和α-氨基酮化合物时,相对于肟化合物100质量份,α-氨基酮化合物优选为50~600质量份,更优选为150~400质量份。
光自由基聚合引发剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,进一步优选为1~20质量%。若光自由基聚合引发剂的含量在上述范围内,则可得到更加良好的灵敏度和图案形成性。本发明的组合物可以仅含有一种光自由基聚合引发剂,也可以含有两种以上。当含有两种以上的光自由基聚合引发剂时,其总计量优选成为上述范围。
(光阳离子聚合引发剂)
作为光阳离子聚合引发剂,可列举光酸产生剂。作为光酸产生剂,能够列举通过光照射进行分解而产生酸的、重氮盐、磷盐、锍盐、碘盐等鎓盐化合物、酰亚胺磺酸盐、肟磺酸盐、重氮二砜、二砜、邻硝基苄基磺酸盐等磺酸盐化合物等。关于光阳离子聚合引发剂的详细内容,能够参考日本特开2009-258603号公报的0139~0214段的记载,并将该内容编入本说明书中。
光阳离子聚合引发剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,进一步优选为1~20质量%。若光阳离子聚合引发剂的含量为上述范围,可获得更良好的灵敏度和图案形成性。本发明的组合物可以仅包含一种光阳离子聚合引发剂,也可以包含两种以上。当包含两种以上的光阳离子聚合引发剂时,它们的总计量优选为上述范围。
<<多官能硫醇>>
本发明的组合物能够含有多官能硫醇。多官能硫醇是具有2个以上的硫醇(SH)基的化合物。通过同时使用多官能硫醇与上述光自由基聚合引发剂,在光照射后的自由基聚合过程中,由于可作为链转移剂发挥作用而产生不易受到氧阻碍聚合的硫基自由基,因此能够提高组合物的灵敏度。尤其优选SH基键结于亚甲基、亚乙基等脂肪族基团上的多官能脂肪族硫醇。
作为多官能硫醇,例如可列举己烷二硫醇、癸烷二硫醇、1,4-丁二醇双硫基丙酸酯、1,4-丁二醇双硫基甘油酸酯、乙二醇双硫基甘油酸酯、乙二醇双硫基丙酸酯、三羟甲基丙烷三硫基甘油酸酯、三羟甲基丙烷三硫基丙酸酯、三羟甲基乙烷三(3-羟基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-羟基丁酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-羟基丙酸酯)、季戊四醇四硫基甘油酯、季戊四醇四硫基丙酸酯、季戊四醇四(3-羟基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-羟基丙酸酯)、三羟基丙酸三(2-羟基乙基)异氰尿酸酯、1,4-二甲基羟基苯、2、4、6-三羟基-s-三嗪、2-(N,N-二丁基氨基)-4,6-二羟基-s-三嗪等。并且,也可列举下述结构的化合物。
[化学式46]
多官能硫醇的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.1~20质量%,更优选为0.1~15质量%,进一步优选为0.1~10质量%。本发明的组合物可以仅包含一种多官能硫醇,也可以包含两种以上。当包含两种以上时,它们的总计量优选为上述范围。
<<环氧树脂固化剂>>
当本发明的组合物包含环氧基树脂时,进一步优选为包含环氧树脂固化剂。作为环氧树脂固化剂,例如可列举胺系化合物、酸酐系化合物、酰胺系化合物、酚系化合物、多元羧酸等。作为环氧树脂固化剂,从耐热性、固化物的透明性等观点考虑,优选为多元羧酸,最优选为在分子内具有2个以上的羧酸酐基的化合物。作为环氧树脂固化剂的具体例,可列举丁二酸等。关于环氧树脂固化剂的详细内容,能够参考0072~0078段,将该内容编入本说明书中。
环氧树脂固化剂的含量相对于环氧树脂100质量份,优选为0.01~20质量份,更优选为0.01~10质量份,进一步优选为0.1~6.0质量份。
<<颜料衍生物>>
本发明的组合物还能够含有颜料衍生物。作为颜料衍生物,可列举具有由酸基、碱性基、具有盐结构的基团或酞酰亚胺甲基取代了颜料的一部分的结构的化合物。作为颜料衍生物,优选为由式(B1)表示的化合物。
[化学式47]
式(B1)中,P表示色素结构,L表示单键或连接基,X表示酸基、碱性基、具有盐结构的基团或酞酰亚胺甲基,m表示1以上的整数,n表示1以上的整数,当m为2以上时,多个L及X可以彼此不同,当n为2以上时,多个X可以彼此不同。
作为由P表示的色素结构,优选为选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖酮色素结构、蒽醌色素结构、二蒽醌色素结构、苯并异吲哚色素结构、噻嗪靛蓝色素结构、偶氮色素结构、喹啉黄色素结构、酞菁色素结构、萘酞菁色素结构、二噁嗪色素结构、苝色素结构、紫环酮色素结构、苯并咪唑啉酮色素结构、苯并噻唑色素结构、苯并咪唑色素结构及苯并噁唑色素结构中的至少一种,进一步优选为选自吡咯并吡咯色素结构、二酮吡咯并吡咯色素结构、喹吖酮色素结构及苯并咪唑啉酮色素结构中的至少一种,尤其优选为吡咯并吡咯色素结构。
作为由L表示的连接基,可列举烃基、杂环基、-NR-、-SO2-、-S-、-O-、-CO-或由这些组合而成的基团。R表示氢原子、烷基或芳基。
作为由X表示的酸基,可列举羧基、磺基、羧酸酰胺基、磺酸酰胺基、酰亚胺酸基等。作为羧酸酰胺基,优选为由-NHCORX1表示的基团。作为磺酸酰胺基,优选为由-NHSO2RX2表示的基团。作为酰亚胺酸基,优选为由-SO2NHSO2RX3、-CONHSO2RX4、-CONHCORX5或-SO2NHCORX6表示的基团。RX1~RX6分别独立地表示烃基或杂环基。由RX1~RX6表示的烃基及杂环基进而可以具有取代基。作为又一取代基,可列举以上述的式(PP)进行说明的取代基T,优选为卤素原子,更优选为氟原子。作为由X表示的碱性基可列举氨基。作为由X表示的盐结构,可列举上述的酸基或碱性基的盐。
作为颜料衍生物,可列举下述结构的化合物。并且,也能够使用日本特开昭56-118462号公报、日本特开昭63-264674号公报、日本特开平1-217077号公报、日本特开平3-009961号公报、日本特开平3-026767号公报、日本特开平3-153780号公报、日本特开平3-045662号公报、日本特开平4-285669号公报、日本特开平6-145546号公报、日本特开平6-212088号公报、日本特开平6-240158号公报、日本特开平10-030063号公报、日本特开平10-195326号公报、国际公开WO2011/024896号公报的0086~0098段、国际公开WO2012/102399号公报的0063~0094段、国际公开WO2017/038252号公报的0082段等中所记载的化合物、日本专利第5299151号公报中所记载的化合物,并将这些内容编入本说明书中。
[化学式48]
本发明的组合物含有颜料衍生物的情况下,颜料衍生物的含量相对于颜料100质量份,优选为1~50质量份。下限值优选为3质量份以上,更优选为5质量份以上。上限值优选为40质量份以下,更优选为30质量份以下。颜料衍生物的含量只要是上述范围,则能够提高颜料的分散性而有效地抑制颜料的凝聚。颜料衍生物可以仅使用一种,也可以使用两种以上。当使用两种以上时,总计量优选成为上述范围。
<<溶剂>>
本发明的组合物能够含有溶剂。作为溶剂,可列举有机溶剂。溶剂只要满足各成分的溶解性或组合物的涂布性,则基本上并无特别限制。作为有机溶剂的例子,例如可列举酯类、醚类、酮类、芳香族烃类等。关于它们的详细内容,能够参考国际公开WO2015/166779号公报的0223段,并将该内容编入本说明书中。并且,也能够优选地使用经环状烷基取代的酯系溶剂、经环状烷基取代的酮系溶剂。作为有机溶剂的具体例,可列举二氯甲烷、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙酸环己酯、环戊酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇单甲醚及丙二醇单甲醚乙酸酯等。本发明中,有机溶剂可以单独使用一种,也可以组合两种以上来使用。并且,从溶解性提高的观点考虑,还优选3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺。但是,作为溶剂的芳香族烃类(苯、甲苯、二甲苯、乙苯等),有时因环境方面等的理由而减少为佳的情况(例如,相对于有机溶剂总量,能够设为50质量ppm(parts per million(百万分率))以下,也能够设为10质量ppm以下,且也能够设为1质量ppm以下)。
本发明中,优选使用金属含量较少的溶剂,溶剂的金属含量例如优选为10质量ppb(parts per billion(十亿分率))以下。可以根据需要而使用质量ppt(parts pertrillion(兆分率))级的溶剂,这种高纯度溶剂例如由Toyo Gosei Co.,Ltd提供(化学工业日报,2015年11月13日)。
作为从溶剂去除金属等杂质的方法,例如能够列举蒸馏(分子蒸馏或薄膜蒸馏等)或使用过滤器的过滤。作为过滤中所使用的过滤器的孔径,优选为10μm以下,更优选为5μm以下,进一步优选为3μm以下。过滤器的材质优选聚四氟乙烯、聚乙烯或尼龙。
溶剂中可以含有异构物(原子数相同但结构不同的化合物)。并且,异构物可以仅包含一种,也可以包含多种。
本发明中,有机溶剂中过氧化物的含有率优选为0.8mmol/L以下,更优选实质上不包含过氧化物。
溶剂的含量相对于本发明的组合物的总量优选为10~99质量%。上限优选为95质量%以下,更优选为90质量%以下。下限优选为30质量%以上,更优选为40质量%以上,进一步优选为50质量%以上,更进一步优选为60质量%以上,尤其优选为70质量%以上。
<<聚合抑制剂>>
本发明的组合物能够含有聚合抑制剂。作为聚合抑制剂,可列举对苯二酚、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、五倍子酚(pyrogallol)、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺盐(铵盐、亚铈盐等)。其中,优选对甲氧基苯酚。聚合抑制剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.001~5质量%。
<<硅烷偶联剂>>
本发明的组合物能够含有硅烷偶联剂。本发明中,硅烷偶联剂是指具有水解性基和其以外的官能团的硅烷化合物。并且,水解性基是指与硅原子直接键结,并通过水解反应及缩合反应中的至少任一种而可产生硅氧烷键的取代基。作为水解性基,例如可列举卤素原子、烷氧基、酰氧基等,优选烷氧基。即,硅烷偶联剂优选具有烷氧基甲硅烷基的化合物。并且,作为水解性基以外的官能团,例如,可列举乙烯基、(甲基)丙烯酰基、羟基、环氧基、氧杂环丁烷基、氨基、脲基、硫醚基、异氰酸酯基、苯基等,优选(甲基)丙烯酰基及环氧基。关于硅烷偶联剂,可列举日本特开2009-288703号公报的0018~0036段中所记载的化合物、日本特开2009-242604号公报的0056~0066段中所记载的化合物,并将这些内容编入本说明书中。
硅烷偶联剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.01~15.0质量%,更优选为0.05~10.0质量%。硅烷偶联剂可以是仅一种,也可以是两种以上。为两种以上时,总计量优选成为上述范围。
<<表面活性剂>>
本发明的组合物能够含有表面活性剂。作为表面活性剂,能够使用氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、硅酮系表面活性剂等各种表面活性剂。表面活性剂能够参考国际公开WO2015/166779号公报的0238~0245段,并将该内容编入本说明书中。
本发明中,表面活性剂优选氟系表面活性剂。本发明的组合物中含有氟系表面活性剂,由此液特性(尤其,流动性)进一步提高,从而能够进一步改善省液性。并且,也能够形成厚度不均小的膜。
氟系表面活性剂中的含氟率优选为3~40质量%,更优选为5~30质量%,尤其优选为7~25质量%。从涂布膜的厚度的均匀性及省液性方面考虑,氟含有率在该范围内的氟系表面活性剂为有效,在组合物中的溶解性也为良好。
作为氟系表面活性剂,具体而言可列举日本特开2014-041318号公报的0060~0064段(相对应的国际公开2014/017669号公报的0060~0064段)等中所记载的表面活性剂、日本特开2011-132503号公报的0117~0132段中所记载的表面活性剂,并将这些内容编入本说明书中。作为氟系表面活性剂的市售品,例如可列举MEGAFACE F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780、EXP、MFS-330(以上为DIC CORPORATION制)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上为Sumitomo 3M Limited制)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上为ASAHI GLASS CO.,LTD.制)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上为OMNOVA公司制)等。
并且,氟系表面活性剂还能够优选地使用具有含有氟原子的官能团的分子结构,且加热时含有氟原子的官能团的一部分被切断而氟原子挥发的丙烯酸系化合物。作为这种氟系表面活性剂,可列举DIC CORPORATION制的MEGAFACE DS系列(化学工业日报,2016年2月22日)(日经产业新闻,2016年2月23日),例如MEGAFACE DS-21。
并且,氟系表面活性剂还优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。这种氟系表面活性剂能够参考日本特开2016-216602号公报的记载,并将该内容编入本说明书中。
氟系表面活性剂也能够使用嵌段聚合物。例如可列举日本特开2011-089090号公报中所记载的化合物。氟系表面活性剂还能够优选地使用含氟高分子化合物,该含氟高分子化合物包含来自于具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元和来自于具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元。下述化合物也作为在本发明中所使用的氟系表面活性剂而例示。
[化学式49]
上述化合物的重均分子量优选为3,000~50,000,例如为14,000。上述化合物中,表示重复单元的比例的%为摩尔%。
并且,氟系表面活性剂也能够使用在侧链具有乙烯性不饱和基的含氟聚合物。作为具体例,可列举日本特开2010-164965号公报的0050~0090段及0289~0295段中所记载的化合物,例如DIC CORPORATION制的MEGAFACE RS-101、MAGAFACE RS-102、MEGAFACE RS-718K、MEGAFACE RS-72-K等。氟系表面活性剂也能够使用日本特开2015-117327号公报的0015~0158段中所记载的化合物。
作为非离子系表面活性剂,可列举甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷及这些乙氧基化物及丙氧基化物(例如,甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司制)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司制)、Solsperse 20000(Lubrizol Japan Limited制)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(Wako PureChemical Industries,LTD.制)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil&FatCo.,Ltd.制)、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440(Nissin Chemical Co.,Ltd.制)等。
表面活性剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.001质量%~5.0质量%,更优选为0.005~3.0质量%。表面活性剂可以是仅一种,也可以是两种以上。为两种以上时,总计量优选成为上述范围。
<<紫外线吸收剂>>
本发明的组合物能够含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂,能够使用共轭二烯化合物、氨基丁二烯化合物、甲基二苯甲酰化合物、香豆素化合物、水杨酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、甲亚氨化合物、吲哚化合物、三嗪化合物等。它们的详细内容能够参考日本特开2012-208374号公报的0052~0072段、日本特开2013-068814号公报的0317~0334段、日本特开2016-162946号公报的0061~0080段的记载,并将这些内容编入本说明书中。作为共轭二烯化合物的市售品,例如可列举UV-503(DAITOCHEMICAL CO.,LTD.制)等。作为吲哚化合物可列举下述结构的化合物。并且,作为苯并三唑化合物,可以使用MIYOSHI OIL&FAT CO.,LTD.制MYUA系列(化学工业日报,2016年2月1日)。
[化学式50]
本发明中,作为紫外线吸收剂,也能够优选地使用由式(UV-1)~式(UV-3)表示的化合物。
[化学式51]
式(UV-1)中,R101及R102各自独立地表示取代基,m1及m2分别独立地表示0~4。式(UV-2)中,R201及R202各自独立地表示氢原子或烷基,R203及R204各自独立地表示取代基。式(UV-3)中,R301~R303各自独立地表示氢原子或烷基,R304及R305各自独立地表示取代基。
作为由式(UV-1)~式(UV-3)表示的化合物的具体例,可列举以下化合物。
[化学式52]
紫外线吸收剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.01~10质量%,更优选为0.01~5质量%。本发明中,紫外线吸收剂可以仅使用一种,也可以使用两种以上。当使用两种以上时,总计量优选成为上述范围。
<<抗氧化剂>>
本发明的组合物能够含有抗氧化剂。作为抗氧化剂,可列举酚化合物、亚磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作为酚化合物,能够使用作为酚系抗氧化剂而已知的任意的酚化合物。作为优选的酚化合物,可列举受阻酚化合物。优选在与酚性羟基相邻的部位(邻位)具有取代基的化合物。作为前述取代基,优选为碳原子数1~22的取代或未经取代的烷基。并且,抗氧化剂还优选在同一分子内具有酚基和亚磷酸酯基的化合物。并且,抗氧化剂也能够优选地使用磷系抗氧化剂。作为磷系抗氧化剂,可列举三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷杂庚英-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-叔丁基二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷杂庚英-2-基)氧基]乙基]胺、亚磷酸酯乙基双(2,4-二-叔丁基-6-甲基苯基)等。作为抗氧化剂的市售品,例如可列举ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330(以上为ADEKA CORPORATION)等。并且,作为抗氧化剂,也能够使用国际公开WO17/006600号公报中所记载的多官能受阻胺抗氧化剂。
抗氧化剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选为0.01~20质量%,更优选为0.3~15质量%。抗氧化剂可以仅使用一种,也可以使用两种以上。当使用两种以上时,总计量优选成为上述范围。
<<其他成分>>
本发明的组合物可以根据需要而含有增感剂、固化促进剂、填料、热固化促进剂、增塑剂及其他助剂类(例如,导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、调平剂、剥离促进剂、香料、表面张力调节剂、链转移剂等)。通过适当地含有这些成分,能够调整膜物性等性质。关于这些成分,例如能够参考日本特开2012-003225号公报的0183段之后(相对应的美国专利申请公开第2013/0034812号说明书的0237段)的记载,日本特开2008-250074号公报的0101~0104、0107~0109段等的记载,并将这些内容编入本说明书中。
并且,本发明的组合物可以根据需要而含有潜在的抗氧化剂。作为潜在的抗氧化剂,可列举作为抗氧化剂而发挥功能的部位被保护基保护的化合物,且为以100~250℃进行加热,或者酸/碱催化剂的存在下,以80~200℃进行加热而保护基脱离且作为抗氧化剂而发挥功能的化合物。作为潜在抗氧化剂,可列举国际公开WO2014/021023号公报、国际公开WO2017/030005号公报、日本特开2017-008219号公报中所记载的化合物。作为市售品,可列举ADEKA ARKLS GPA-5001(ADEKA CORPORATION制)等。
作为本发明的组合物的收纳容器,并无特别限定,能够使用公知的收纳容器。并且,作为收纳容器,以抑制杂质混入原材料或组合物中为目的,还优选使用由6种6层的树脂构成容器内壁的多层瓶或将6种树脂设为7层结构的瓶。作为这种容器,例如可列举日本特开2015-123351号公报中所记载的容器。
本发明的组合物的用途并无特别限定。例如能够优选地使用于红外线透射滤波器等的形成中。
<组合物的制备方法>
本发明的组合物能够混合前述成分来制备。例如,制备组合物时,可以将所有成分同时溶解或分散于溶剂来制备组合物,也可以根据需要预先制备适当掺合有各成分的2个以上的溶液或分散液,使用时(涂布时)将它们混合来作为组合物而制备。
并且,当本发明的组合物包含颜料等粒子时,优选包含使粒子分散的工艺。使粒子分散的工艺中,作为使用于粒子的分散的机械力,可列举压缩、挤压、冲击、剪断、气蚀等。作为这些工艺的具体例,可列举珠磨机、混砂机(sand mill)、辊磨机、球磨机、涂料振荡器、微射流机、高速叶轮、砂磨机(sand grinder)、喷流混合器、高压湿式微粒化、超声波分散等。并且,砂磨机(珠磨机)中的粒子的粉碎中,在通过使用直径较小的微珠、加大微珠的填充率来提高粉碎效率的条件下进行处理。并且,粉碎处理之后优选通过过滤、离心分离等来去除粗粒子。并且,使粒子分散的工艺及分散机能够优选地使用“分散技术大全,JOHOKIKO Co.,LTD.发行,2005年7月15日”或“以Suspension(悬浮)(固/液分散系统)为中心的分散技术和工业应用的实际总合资料集,经营开发中心出版部发行,1978年10月10日”、日本特开2015-157893号公报的0022段中所记载的工艺及分散机。并且,在使粒子分散的工艺中,可以通过盐磨工序进行粒子的微细化处理。盐磨工序中所使用的原材料、机器、处理条件等例如能够参考日本特开2015-194521号公报、日本特开2012-046629号公报的记载。
制备组合物时,出于去除杂质或减少缺陷的目的,优选利用过滤器对组合物进行过滤。作为过滤器,只要是从以往就使用于过滤用途等的过滤器,则能够无特别限定地使用。例如,可列举使用了聚四氟乙烯(PTFE)等氟树脂、尼龙(例如,尼龙-6、尼龙-6,6)等的聚酰胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等的聚烯烃树脂(含有高密度、超高分子量的聚烯烃树脂)等的原材料的过滤器。这些原材料中,优选聚丙烯(含有高密度聚丙烯)及尼龙。
过滤器的孔径为0.01~7.0μm左右为适当,优选为0.01~3.0μm左右,进一步优选为0.05~0.5μm左右。过滤器的孔径若为上述范围,则能够可靠地去除微细的杂质。并且,还优选使用纤维状滤材。作为纤维状滤材,例如可列举聚丙烯纤维、尼龙纤维、玻璃纤维等。具体而言,可列举ROKI TECHNO CO.,LTD.制SBP类型系列(SBP008等)、TPR类型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX类型系列(SHPX003等)的过滤器滤芯。
使用过滤器时,可以组合不同的过滤器(例如,第1过滤器和第2过滤器等)。此时,利用各过滤器的过滤可以仅进行一次,也可以进行两次以上。
并且,可以组合上述的范围内不同孔径的过滤器。这里的孔径能够参考过滤器制造商的标称值。作为市售的过滤器,例如能够从由NIHON PALL LTD.(DFA4201NXEY等)、Advantec Toyo Kaisha,LTD.、Nihon Entegris K.K.(旧Japan Microlis Co.,Ltd.)或KITZ MICRO FILTER CORPORATION等提供的各种过滤器中选择。
第2过滤器能够使用由与第1过滤器相同的原材料等来形成的过滤器。
并且,利用第1过滤器的过滤可以仅对分散液进行,并将其他成分进行混合之后,利用第2过滤器进行过滤。
本发明的组合物的总固体成分(固体成分浓度)通过应用方法来改变,例如优选为1~50质量%。下限更优选为10质量%以上。上限更优选为30质量%以下。
本发明的组合物优选为满足如下分光特性:在制造干燥后的膜厚为0.1~50μm(优选为0.1~20μm,更优选为0.5~10μm)的膜时,前述膜厚的至少一个中,膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
并且,本发明的组合物优选满足以下(1)~(4)中的至少一个分光特性。
(1)在制造干燥后的膜厚为1μm的膜时,膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
(2)在制造干燥后的膜厚为2μm的膜时,膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
(3)在制造干燥后的膜厚为3μm的膜时,膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
(4)在制造干燥后的膜厚为5μm的膜时,膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
并且,关于本发明的组合物,前述各膜厚中的至少一个中,波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A例如优选为0.1~5,更优选为0.3~3。并且,波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B例如优选为0.01~0.5,更优选为0.02~0.3。
利用本发明的组合物所形成的膜能够优选地用作红外线透射滤波器。例如,通过将利用本发明的组合物所形成的膜组装到红外线传感器中,能够高灵敏度检测水分。
<图案形成方法>
接着,对使用了本发明的组合物的图案形成方法进行说明。图案形成方法优选包括以下工序,该工序为使用本发明的组合物,在支撑体上形成组合物层的工序;及通过光刻法或干式蚀刻法,在组合物层形成图案的工序。
通过光刻法的图案形成优选包括以下工序,该工序为使用本发明的组合物,在支撑体上形成组合物层的工序;将组合物层以图案状进行曝光的工序;及将未曝光部显影去除而形成图案的工序。并且,使用干式蚀刻法的图案形成能够通过如下等方法来进行:使用本发明的组合物在支撑体上形成组合物层,并使支撑体上的组合物层固化而形成固化物层,接着,在该固化物层上形成经图案化的抗蚀剂层,接着,将经图案化的抗蚀剂层作为掩模,使用蚀刻气体对固化物层进行干式蚀刻。以下,对各工序进行说明。
<<形成组合物层的工序>>
在形成组合物层的工序中,使用本发明的组合物在支撑体上形成组合物层。作为支撑体,例如可列举由硅酮、无碱玻璃、钠玻璃、派热克斯(注册商标)玻璃、石英玻璃等材质构成的基板。并且,还优选使用InGaAs基板等。InGaAs基板对波长大于1000nm的光的灵敏度良好,因此通过在InGaAs基板上层叠本发明的膜,容易获得灵敏度优异的红外线传感器。并且,在支撑体上可以形成电荷耦合元件(CCD)、互补型金属氧化物半导体(CMOS)、透明导电膜等。并且,有时在支撑体上形成有隔离各像素的黑色矩阵。并且,为了改善与上部层的密合性,防止物质扩散或使基板表面平坦化,可根据需要,在支撑体上设置底涂层。
作为组合物在支撑体的应用方法,能够利用公知的方法。例如,可列举:滴加法(滴落涂布);狭缝涂布法;喷涂法;辊涂法;旋转涂布法(旋涂);流延涂布法;狭缝及旋转法;预湿法(例如,日本特开2009-145395号公报中所记载的方法);喷墨法(例如,按需喷涂方式、压电方式、热方式)、喷嘴喷涂等吐出型印刷、柔性版印刷、网版印刷、凹版印刷、反转胶版印刷、金属掩模印刷法等各种印刷法;使用模具等的转引法、奈米压印法等。作为通过喷墨的应用方法,并无特别限定,例如可列举“扩展、能够使用的喷墨-专利中出现的无限可能性-、2005年2月发行、Sumitbe Techon Research Co.,LTD.”中示出的方法(尤其115页~133页)、在日本特开2003-262716号公报、日本特开2003-185831号公报、日本特开2003-261827号公报、日本特开2012-126830号公报、日本特开2006-169325号公报等中所记载的方法。并且,关于树脂组合物的涂布方法,能够参考国际公开WO2017/030174号公报、国际公开WO2017/018419号公报的记载,并将这些内容编入本说明书中。
形成于支撑体上的组合物层可以进行干燥(预烘烤)。通过低温工艺而形成图案的情况下,可以不进行预烘烤。当进行预烘烤时,预烘烤温度优选为150℃以下,更优选为120℃以下,进一步优选为110℃以下。下限例如能够设为50℃以上,也能够设为80℃以上。预烘烤时间优选为10~3000秒,更优选为40~2500秒,进一步优选为80~2200秒。干燥能够利用加热板、烘箱等来进行。
(利用光刻法形成图案的情况)
<<曝光工序>>
接着,将组合物层以图案状进行曝光(曝光工序)。例如,通过对组合物层使用步进机等曝光装置并经由具有规定的掩模图案的掩模而进行曝光,能够对组合物层进行图案曝光。由此,能够对曝光部分进行固化。作为能够在曝光时使用的放射线(光),优选g射线、i射线等紫外线,更优选i射线。照射量(曝光量)例如优选为0.03~2.5J/cm2,更优选为0.05~1.0J/cm2,最优选为0.08~0.5J/cm2。关于曝光时的氧浓度,能够适当选择,除了在大气下进行以外,例如可以在氧浓度为19体积%以下的低氧环境下(例如,15体积%、5体积%、实质上无氧)进行曝光,也可以在氧浓度大于21体积%的高氧环境下(例如,22体积%、30体积%、50体积%)进行曝光。并且,曝光照度能够适当设定,通常能够从1000W/m2~100000W/m2(例如,5000W/m2、15000W/m2、35000W/m2)的范围进行选择。氧浓度和曝光照度可以适当组合条件,例如能够设为氧浓度10体积%且照度10000W/m2,氧浓度35体积%且照度20000W/m2等。
<<显影工序>>
接着,显影去除曝光后的组合物层中的未曝光部的组合物层来形成图案。未曝光部的组合物层的显影去除能够使用显影液来进行。由此,曝光工序中的未曝光部的组合物层溶出于显影液,而仅光固化的部分残留于支撑体上。作为显影液,优选不会损坏基底的固体摄像元件或电路等的碱显影液。显影液的温度例如优选为20~30℃。显影时间优选为20~180秒。并且,为了提高残渣去除性,可以重复进行多次如下工序,即按每60秒钟甩掉显影液,进而供给新的显影液。
作为使用于显影液的碱剂,例如可列举氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二乙二醇胺、二乙醇胺、羟基胺、乙二胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、乙基三甲基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、二甲基双(2-羟乙基)氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯等有机碱性化合物、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠等无机碱性化合物。关于碱剂,从环境方面及安全方面考虑,优选分子量大的化合物。显影液可优选地使用以纯水将这些碱剂稀释而成的碱性水溶液。碱性水溶液的碱剂的浓度优选为0.001~10质量%,更优选为0.01~1质量%。并且,显影液中可以添加表面活性剂来进行使用。作为表面活性剂的例子,可列举上述的表面活性剂,优选为非离子表面活性剂。关于显影液,从便于输送或保管等观点考虑,可以暂且作为浓缩液而制造,而在使用时稀释成所需要的浓度。稀释倍率并无特别限定,例如能够设定为1.5~100倍的范围。此外,当使用由这些碱性水溶液形成的显影液时,优选显影后以纯水进行清洗(冲洗)。
本发明中,可以在显影工序后进行在实施干燥之后通过加热处理(后烘烤)或后曝光使其固化的固化工序。
后烘烤为用于设为完全固化的显影后的加热处理。后烘烤下的加热温度例如优选为100~240℃,更优选为200~240℃。并且,当作为发光光源而使用了有机电致发光(有机EL)元件时或由有机原材料构成图像传感器的光电转换膜时,加热温度优选为150℃以下,更优选为120℃以下,进一步优选为100℃以下,尤其优选为90℃以下。下限例如能够设为50℃以上。关于后烘烤,能够以成为上述条件的方式利用加热板或对流式烘箱(热风循环式干燥机)、高频加热机等加热机构,以连续式或间歇式对显影后的膜进行。
后曝光能够通过g射线、h射线、i射线、KrF和ArF等准分子激光、电子束、X射线等来进行,但优选通过现有高压水银灯在20~50℃左右的低温下进行。作为照射时间为10~180秒钟,优选为30秒钟~60秒钟。当同时使用后曝光和后加热时,优选预先实施后曝光。
(利用干式蚀刻法形成图案的情况)
利用干式蚀刻法的图案形成能够通过如下等方法进行:对支撑体上的组合物层进行固化而形成固化物层,接着,在该固化物层上形成经图案化的抗蚀剂层,接着,将经图案化的抗蚀剂层作为掩模而使用蚀刻气体对固化物层进行干式蚀刻。作为抗蚀剂层的形成工艺,优选实施曝光后的加热处理、显影后的加热处理(后烘烤处理)的方式。关于利用干式蚀刻法的图案形成,能够参考日本特开2013-064993号公报的0010~0067段的记载,并将该内容编入本说明书中。
通过进行以上说明的各工序,能够形成具有本发明的特定的分光的膜的图案(像素)。
<膜>
接着,对本发明的膜进行说明。
本发明的膜是使用上述的本发明的组合物而获得的膜。本发明的膜能够优选地用作红外线透射滤波器。例如,通过将本发明的膜组装到红外线传感器中,能够高灵敏度检测水分。
本发明的膜优选具有以下(1)的分光特性。根据该方式,能够制成遮蔽波长400~1100nm的范围的光,且能够以来自于可见光线的干扰少的状态下使红外线透射(优选为波长大于1400nm的红外线,更优选为波长1400~1500nm的红外线)的膜。
(1):膜的厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),波长1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
本发明的膜的膜厚无特别限定,优选为0.1~50μm,更优选为0.1~20μm,进一步优选为0.5~10μm。
<层叠体>
接着,对本发明的层叠体进行说明。本发明的层叠体是具有包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材的层(以下,还称为第1层)和包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的层(以下,还称为第2层),
所述层叠体中,作为层叠体的波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B是4.5以上。上述的A/B的值优选为10以上,更优选为20以上,进一步优选为30以上。上限例如能够设为90以下。本发明的层叠体能够优选地用作红外线透射滤波器。例如,通过将本发明的层叠体组装到红外线传感器中,能够高灵敏度检测水分。
另外,遮蔽可见光的色材、遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料能够使用在上述本发明的组合物进行说明的材料。
关于本发明的层叠体,其厚度方向上的光的透射率在波长400~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),层叠体的厚度方向上的光的透射率在波长1400~1500nm的范围内的最小值优选为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
本发明的层叠体优选以下(1)~(4)中的任一方式。
(1)第1层及第2层中的至少一个还包含在波长大于700nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
(2)还具有包含在波长大于700nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物的层(以下,还称为第3层)。
(3)第1层及第2层中的至少一个包含在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物及在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
(4)第1层及第2层中的一个包含在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物,另一层包含在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
本发明的层叠体的膜厚优选为1~5μm,更优选为1.5~3.5μm。
本发明的层叠体中的各层的层叠顺序并无特别限定。可以从支撑体侧以第1层、第2层的顺序配置,也可以以第2层、第1层的顺序配置。并且,当还具有第3层时,可以从支撑体侧以第1层、第2层、第3层的顺序配置,也可以以第1层、第3层、第2层的顺序配置,也可以以第2层、第3层、第1层的顺序配置,也可以以第3层、第1层、第2层的顺序配置,也可以以第3层、第2层、第1层的顺序配置。
本发明的层叠体中,第1层的厚度方向上的光的透射率的400~700nm的范围内的最大值优选为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下)。
本发明的层叠体中,第1层的膜厚优选为0.5~4μm,更优选为1~3μm。
本发明的层叠体中,优选为第2层的厚度方向上的光的透射率的400~700nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),并且厚度方向上的透光率的1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
并且,当第2层包含在波长大于700nm且1000nm以下的范围具有极大吸收波长的化合物时,优选为第2层的厚度方向上的光的透射率的700~1100nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),并且厚度方向上的透光率的、1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
本发明的层叠体中,第2层的膜厚优选为0.4~4μm,更优选为0.6~3μm。
当本发明的层叠体还具有第3层时,第3层的厚度优选为0.5~2μm,更优选为0.6~1.5μm。并且,优选为第3层的厚度方向上的光的透射率的700~1000nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),并且厚度方向上的透光率的1400~1500nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)。
<红外线透射滤波器>
接着,对本发明的红外线透射滤波器进行说明。本发明的红外线透射滤波器具有本发明的膜或层叠体。
优选将本发明的红外线透射滤波器层叠于支撑体而使用。作为支撑体,可列举上述支撑体。
本发明的红外线透射滤波器也能够与包含彩色着色剂的滤色器组合使用。滤色器能够通过使用包含彩色着色剂的着色组合物来制造。作为彩色着色剂,可列举以本发明的组合物进行说明的彩色着色剂。着色组合物还能够含有树脂、聚合性化合物、光聚合引发剂、表面活性剂、溶剂、聚合抑制剂、紫外线吸收剂等。关于它们的详细内容,可列举以本发明的组合物进行说明的材料,并能够使用它们。
本发明的红外线透射滤波器也能够与具有与本发明的膜或层叠体不同的分光特性的其他红外线透射滤波器组合使用。
作为其他红外线透射滤波器,可列举满足以下(1)~(3)中任一分光特性的过滤器等。
(1):过滤器的厚度方向上的光的透射率在波长400~750nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),过滤器的厚度方向上的光的透射率在波长900~1300nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)的过滤器。该过滤器能够遮蔽波长400~750nm的范围的光,并透射波长大于850nm的红外线。
(2):过滤器的厚度方向上的光的透射率在波长400~830nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),过滤器的厚度方向上的光的透射率在波长1000~1300nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)的过滤器。该过滤器能够遮蔽波长400~830nm的范围的光,并透射波长大于940nm的红外线。
(3):过滤器的厚度方向上的光的透射率在波长400~950nm的范围内的最大值为20%以下(优选为15%以下,更优选为10%以下),过滤器的厚度方向上的光的透射率在波长1100~1300nm的范围内的最小值为70%以上(优选为75%以上,更优选为80%以上)的过滤器。该过滤器能够遮蔽波长400~950nm的范围的光,并透射波长大于1040nm的红外线。
<固体摄像元件>
本发明的固体摄像元件具有上述的本发明的膜或层叠体。作为本发明的固体摄像元件的结构,只要是具有本发明的膜或层叠体的结构,且是作为固体摄像元件而发挥功能的结构,则并无特别限定,例如,可列举如下结构。
该结构为如下:在支撑体上具有由构成固体摄像元件(CCD影像传感器、CMOS影像传感器等)的受光区的多个光电二极管及多晶硅等构成的转移电极,在光电二极管及转移电极上具有仅光电二极管的受光部开口的包含钨等的遮光膜,遮光膜上具有以包覆整个遮光膜及光电二极管受光部的方式形成的包含氮化硅等的装置保护膜,且在装置保护膜上具有本发明的膜或层叠体。进而,可以为在装置保护膜上且在本发明的膜或层叠体的下侧(接近支撑体的一侧)具有聚光机构(例如,微透镜等。以下相同)的结构、本发明的膜或层叠体上具有聚光机构的结构等。
<红外线传感器>
本发明的红外线传感器包含上述的本发明的膜。作为红外线传感器的结构,只要是能够作为红外线传感器而发挥功能的结构,则并无特别限定。以下,利用附图对本发明的红外线传感器的一实施方式进行说明。
图1中,符号110为固体摄像元件。设置于固体摄像元件110上的摄像区域具有红外线截止滤波器111和红外线透射滤波器114。并且,红外线截止滤波器111上层叠有滤色器112。在滤色器112及红外线透射滤波器114的入射光hν侧配置有微透镜115。以包覆微透镜115的方式形成有平坦化层116。
红外线截止滤波器111是透射可见光线区域的光(例如,波长400~700nm的光)而遮蔽红外区域的光的过滤器。滤色器112是形成有透射及吸收可见区域中的特定波长的光的像素的滤色器,且并无特别限定,能够使用以往公知的像素形成用滤色器。例如,可使用形成有红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的像素的滤色器等。例如,能够参考日本特开2014-043556号公报的0214~0263段的记载,并将该内容编入本说明书中。红外线透射滤波器114具有可见光线遮蔽性,且使特定波长的红外线透射的过滤器,且由具有上述的分光特性的本发明的膜或层叠体构成。
图1所示的红外线传感器中,可以在平坦化层116上进而配置有与红外线截止滤波器111不同的红外线截止滤波器(其他红外线截止滤波器)。作为其他红外线截止滤波器,可列举含有铜的层和/或具有电介质多层膜的滤波器等。关于它们的详细内容,可列举上述。并且,作为其他红外线截止滤波器,可以使用双带通滤波器。
并且,图1所示的实施方式中,滤色器112设置于比红外线截止滤波器111更靠入射光hν侧,但可以更换红外线截止滤波器111与滤色器112的顺序而将红外线截止滤波器111设置于比滤色器112更靠入射光hν侧。
并且,图1所示的实施方式中,红外线截止滤波器111与滤色器112相邻而层叠,但两个过滤器无需一定相邻,可以在其之间设置有其他层。
并且,图1所示的实施方式中,还可具有具备与红外线透射滤波器114不同的分光特性的其他红外线透射滤波器。
图2所示的红外线传感器是本发明的红外线传感器的其他实施方式,该红外线传感器在固体摄像元件110的撮像区域具有红外线透射滤波器114及与红外线透射滤波器114不同的第2红外线透射滤波器120。并且,红外线透射滤波器114及第2红外线透射滤波器120的入射光hν侧配置有微透镜115。以包覆微透镜115的方式形成有平坦化层116。
图2所示的红外线传感器中,作为第2红外线透射滤波器120,可以具有两种以上的具有不同分光特性的红外线透射滤波器。
<图像显示装置>
本发明的膜或层叠体还能够使用于液晶显示装置或有机电致发光元件(有机EL)显示装置等的图像显示装置中。关于显示装置的定义或各显示装置的详细内容,例如记载于“电子显示设备(佐佐木昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.1990年发行)”、“显示设备(伊吹顺章著、Sangyo Tosho Publishing Co.,Ltd.1989年发行)”等中。并且,关于液晶显示装置,例如记载于“下一代液晶显示技术(内田龙男主编、Kogyo ChosakaiPublishing Co.,Ltd.1994年发行)”中。在本发明中能够应用的液晶显示装置的类型并无特别限制,例如能够应用于记载于上述的“下一代液晶显示技术”中的各种方式的液晶显示装置。
图像显示装置可以是具有白色有机EL元件来作为显示元件的图像显示装置。作为白色有机EL元件,优选为串联结构。关于有机EL元件的串联结构,记载于日本特开2003-045676号公报、三上名义主编、“有机EL技术开发的最前线-高亮度/高精度/长寿化/技术秘密集-”、技术信息协会、326~328页、2008年等中。有机EL元件所发光的白色光的光谱优选在蓝色区域(430nm~485nm)、绿色区域(530nm~580nm)及黄色区域(580nm~620nm)具有极大发光峰值。除了这些发光峰值以外,更优选还在红色区域(650nm~700nm)具有极大发光峰值。
实施例
以下,通过实施例对本发明进行更加具体的说明,但本发明只要不脱离其主旨,则并不限定于以下实施例。此外,只要无特别限定,则“份”、“%”为质量基准。
<试验例1>
〔颜料分散液的制备〕
使用0.3mm直径的氧化锆珠,并利用珠磨机(带减压机构的高压分散机NA NO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.制))将下述组成的混合液混合并分散3小时来分别制备了颜料分散液A-1~A-2、颜料分散液B-1~B-5。
(颜料分散液A-1)
·红色颜料(C.I.颜料红254)与黄色颜料(C.I.颜料黄139)的混合颜料(红色颜料:黄色颜料=70:30(质量比))……18.0质量份
·分散剂1……8.1质量份
·丙二醇甲基醚乙酸酯(PGMEA)……73.1质量份
(颜料分散液A-2)
·蓝色颜料(C.I.颜料蓝15:6)与紫色颜料(C.I.颜料紫23)的混合颜料(青色颜料:紫色颜料=80:20(质量比))……18.0质量份
·分散剂1……3.1质量份
·碱溶性树脂1……5.0质量份
·环己酮……31.2质量份
·PGMEA……42.7质量份
(颜料分散液B-1)
·颜料1……5.4质量份
·衍生物1……2.1质量份
·分散剂1……6.0质量份
·PGMEA……86.5质量份
(颜料分散液B-2)
·颜料2……5.4质量份
·衍生物1……2.1质量份
·分散剂1……6.0质量份
·PGMEA……86.5质量份
(颜料分散液B-3)
·颜料3……5.4质量份
·衍生物2……2.1质量份
·分散剂1……6.0质量份
·PGMEA……86.5质量份
(颜料分散液B-4)
·颜料4……5.4质量份
·衍生物3……2.1质量份
·分散剂1……6.0质量份
·PGMEA……86.5质量份
(颜料分散液B-5)
·颜料5……5.4质量份
·衍生物4……2.1质量份
·分散剂2……6.0质量份
·PGMEA……86.5质量份
〔组合物的制备〕
(组合物101~108、201、301)
以下述表中记载的比例混合下述表中记载的成分而制备了组合物。下述表中示出对应成分的使用量(单位:质量份)。
[表3]
组合物101 | 组合物102 | 组合物103 | 组合物104 | 组合物105 | 组合物106 | 组合物107 | |
颜料分散液A-1 | 16 | 16 | 16 | 16 | 16 | 16 | 16 |
颜料分散液A-2 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 |
颜料分散液B-1 | 2 | ||||||
颜料分散液B-2 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | ||||
颜料分散液B-3 | 12.8 | 12.8 | |||||
颜料分散液B-4 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 |
颜料分散液B-5 | |||||||
染料C-1 | 3.8 | 3.8 | 3.8 | 3.8 | 3.8 | 3.8 | 3.8 |
染料C-2 | 1 | ||||||
染料C-3 | 0.2 | ||||||
染料C-4 | 1 | ||||||
染料C-5 | 0.2 | ||||||
染料C-6 | |||||||
染料C-7 | |||||||
染料C-8 | |||||||
染料C-9 | |||||||
染料C-10 | |||||||
染料C-11 | |||||||
染料C-12 | |||||||
染料C-13 | |||||||
染料C-14 | |||||||
碱溶性树脂1 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 |
聚合性化合物1 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 |
聚合性化合物2 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
硅烷偶联剂1 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 |
光聚合引发剂1 | 1 | 1 | 1 | 1 | |||
光聚合引发剂2 | 1 | ||||||
光聚合引发剂3 | 1 | ||||||
光聚合引发剂4 | 1 | ||||||
表面活性剂1 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 | 0.05 |
有机溶剂1 | 15.55 | 15.55 | 27.35 | 13.55 | 15.35 | 15.35 | 27.35 |
[表4]
组合物108 | 组合物109 | 组合物110 | 组合物111 | 组合物112 | 组合物113 | 组合物114 | |
颜料分散液A-1 | 16 | 16 | 16.0 | 16.0 | 16.0 | 16.0 | 16.0 |
颜料分散液A-2 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 12.8 |
颜料分散液B-1 | |||||||
颜料分散液B-2 | |||||||
颜料分散液B-3 | |||||||
颜料分散液B-4 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | 33.3 |
颜料分散液B-5 | 12.8 | ||||||
染料C-1 | 3.8 | ||||||
染料C-2 | |||||||
染料C-3 | |||||||
染料C-4 | 1 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | |
染料C-5 | |||||||
染料C-6 | 3.8 | ||||||
染料C-7 | 3.8 | ||||||
染料C-8 | 3.8 | ||||||
染料C-9 | 3.8 | ||||||
染料C-10 | 3.8 | ||||||
染料C-11 | 3.8 | ||||||
染料C-12 | |||||||
染料C-13 | |||||||
染料C-14 | |||||||
碱溶性树脂1 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 2.2 |
聚合性化合物1 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 0.6 |
聚合性化合物2 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 |
硅烷偶联剂1 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 1.4 |
光聚合引发剂1 | 1 | 1 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.0 |
光聚合引发剂2 | |||||||
光聚合引发剂3 | |||||||
光聚合引发剂4 | |||||||
表面活性剂1 | 0.05 | 0.05 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 |
有机溶剂1 | 27.35 | 15.55 | 27.4 | 27.4 | 27.4 | 27.4 | 27.4 |
[表5]
组合物115 | 组合物116 | 组合物117 | 组合物201 | 组合物301 | |
颜料分散液A-1 | 16.0 | 16.0 | 16.0 | 26.3 | 47.1 |
颜料分散液A-2 | 12.8 | 12.8 | 12.8 | 21.0 | 37.8 |
颜料分散液B-1 | |||||
颜料分散液B-2 | |||||
颜料分散液B-3 | 21.0 | ||||
颜料分散液B-4 | 33.3 | 33.3 | 33.3 | ||
颜料分散液B-5 | |||||
染料C-1 | |||||
染料C-2 | |||||
染料C-3 | |||||
染料C-4 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | ||
染料C-5 | |||||
染料C-6 | |||||
染料C-7 | |||||
染料C-8 | |||||
染料C-9 | |||||
染料C-10 | |||||
染料C-11 | |||||
染料C-12 | 3.8 | ||||
染料C-13 | 3.8 | ||||
染料C-14 | 3.8 | ||||
碱溶性树脂1 | 2.2 | 2.2 | 2.2 | 3.6 | 0.6 |
聚合性化合物1 | 0.6 | 0.6 | 0.6 | 1.0 | 0.6 |
聚合性化合物2 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.8 | 0.5 |
硅烷偶联剂1 | 1.4 | 1.4 | 1.4 | 2.3 | 1.4 |
光聚合引发剂1 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 1.6 | 1 |
光聚合引发剂2 | |||||
光聚合引发剂3 | |||||
光聚合引发剂4 | |||||
表面活性剂1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 0.05 |
有机溶剂1 | 27.4 | 27.4 | 27.4 | 22.2 | 10.95 |
(组合物401)
在2.5mmol/L的柠檬酸钠水溶液50mL中添加0.5g/L的聚苯乙烯磺酸水溶液2.5mL,加热至35℃。在该溶液中添加10mmol/L的硼氢化钠水溶液3mL,将0.5mmol/L的硝酸银水溶液50mL以20mL/min进行搅拌的同时进行添加。将该溶液搅拌30分钟,从而制作了种溶液。
接着,在该种溶液250mL中添加10mmol/L的抗坏血酸水溶液2mL,加热至35℃。在该溶液中将0.5mmol/L的硝酸银水溶液79.6mL以10mL/min进行搅拌的同时进行添加。将所获得的溶液搅拌30分钟之后,添加0.35mol/L的氢醌磺酸钾水溶液71.1mL,并添加7质量%的明胶水溶液200g。在该溶液中,添加了能够将0.26mol/L的亚硫酸钠水溶液107mL与0.47mol/L的硝酸银水溶液107mL进行混合而得的亚硫酸银的白色沉殿物混合液。搅拌至银充分还原为止,并添加了0.17mol/L的NaOH水溶液72mL。如此获得了银平板粒子分散液A1。确认到在所获得的银平板粒子分散液A1中,生成了平均当量圆直径130nm的银的六边平板粒子(以下,称为Ag六边平板粒子)。并且,可知利用原子力显微镜(NanocuteII,SeikoInstruments Inc.制)测量了六边平板粒子的厚度的结果,生成了平均10nm且纵横比为13的平板粒子。
在60mL的所获得的银平板粒子分散液A1中添加1mol/L的NaOH0.5mL,并添加离子交换水90mL,利用离心分离器(KOKUSAN Co.,Ltd.制H-200N,ANGLE ROTOR(角转子)BN)进行离心分离,使Ag六边平板粒子沉殿。弃掉离心分离后的上清液,并添加水10mL,将沉淀的Ag六边平板粒子以13000rpm的转速经20分钟再次分散于均质器SX-10(MITSUI ELECTRICCO.,LTD制)中而获得了组合物401。
用于制备颜料分散液及组合物的原料为如下。
颜料1:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式53]
颜料2:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式54]
颜料3:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式55]
颜料4:下述结构的化合物(在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式56]
颜料5:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式57]
染料C-1:下述结构的化合物(在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式58]
染料C-2:Exiton公司制IRA884(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
染料C-3:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式59]
染料C-4:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式60]
染料C-5:下述结构的化合物(在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式61]
染料C-6:Nippon Kayaku Co.,Ltd.公司制IRG-068(在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
染料C-7~C-14:下述结构的化合物(在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物)
[化学式62]
衍生物1~4:下述结构的化合物1~4
[化学式63]
分散剂1:下述结构的树脂(附注于主链的数值是重复单元的摩尔比,附注于侧链的数值是重复单元的数。Mw=20900)
[化学式64]
分散剂2:下述结构的树脂(附注于主链的数值是重复单元的摩尔比,附注于侧链的数值是重复单元的数。Mw=32700)
[化学式65]
聚合性化合物1:下述结构的化合物(左侧化合物与右侧化合物的摩尔比为7:3的混合物)
[化学式66]
聚合性化合物2:下述结构的化合物
[化学式67]
硅烷偶联剂1:下述结构的化合物
[化学式68]
碱溶性树脂1:下述结构的树脂(附注于主链的数值是重复单元的摩尔比。Mw=11000)
[化学式69]
光聚合引发剂1:IRGACURE-OXE01(BASF公司制)
光聚合引发剂2:IRGACURE-OXE02(BASF公司制)
光聚合引发剂3:下述结构的化合物
[化学式70]
光聚合引发剂4:IRGACURE-369(BASF公司制)
表面活性剂1:下述混合物(Mw=14000)。下述式中,表示重复单元的比例的%是摩尔%。
[化学式71]
有机溶剂1:PGMEA
[吸光度及分光特性的评价]
关于实施例1~17、比较例1,以后烘烤后的膜厚成为1.0μm的方式将各组合物旋涂于玻璃基板上。接着,使用加热板,在100℃下加热了120秒钟。接着,利用加热板在200℃下进行300秒钟的加热处理(后烘烤),从而形成了膜。利用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制U-4100),对具有上述膜的玻璃基板测量了波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A和波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B。
关于实施例18,以后烘烤后的膜厚成为1.0μm的方式将组合物201旋涂于玻璃基板上。接着,利用加热板,在100℃下加热120秒钟。接着,利用加热板在200℃下进行300秒钟加热处理(后烘烤)来形成了膜。在该膜的表面以后烘烤后的膜厚成为0.1μm的方式将组合物401旋涂于玻璃基板上。接着,利用加热板,在100℃下加热120秒钟。接着,利用加热板在200℃下进行300秒钟加热处理(后烘烤)来形成膜,从而制造了层叠体。利用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-Technologies Corporation制U-4100),对具有该层叠体的玻璃基板测量了波长400~1100nm的范围内的吸光度的最小值A和波长1400~1500nm的范围内的吸光度的最大值B。
[过滤器的制作]
(实施例1~17、比较例1)
以后烘烤后的膜厚成为1.0μm的方式在InGaAs基板上旋涂下述表的IR像素1的栏中记载的组合物。接着,利用加热板在100℃下加热120秒钟。
接着,使用i射线步进器曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制),并利用形成1.4μm见方的正方形像素图案的光掩模,从50mJ/cm2至750mJ/cm2按50mJ/cm2上升而确定分辨上述正方形像素图案的最佳曝光量,并以该最佳曝光量进行了曝光。
然后,将形成有经曝光的涂布膜的InGaAs基板载置于旋转喷淋显影机(DW-30型、Chemitronics Co., Ltd.制)的水平旋转台上,并利用CD-2060(四甲基氢氧化铵水溶液,FUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.制)在23℃下进行60秒钟的搅拌显影而形成了IR像素1的图案。用纯水对形成有IR像素1的图案的InGaAs基板进行冲洗处理之后旋转干燥。进而,使用200℃的加热板进行300秒钟的加热处理(后烘烤)。
接着,以后烘烤后的膜厚成为1.0μm的方式在形成有IR像素1的图案的InGaAs基板上旋涂下述表的IR像素2的栏中记载的组合物。接着,利用加热板在100℃下加热了120秒钟。接着,通过与IR像素1相同的方法进行曝光及显影来形成IR像素2的图案,从而制造了过滤器。
(实施例18)
关于实施例18,以后烘烤后的膜厚成为1.0μm的方式将组合物201旋涂于InGaAs基板上。接着,利用加热板在100℃下加热120秒钟。接着,利用加热板在200℃下进行300秒钟加热处理(后烘烤)而形成了膜。在该膜的表面以后烘烤后的膜厚成为0.1μm的方式旋涂组合物401。接着,利用加热板在100℃下加热120秒钟。接着,利用加热板在200℃下进行300秒钟加热处理(后烘烤)来形成膜,从而制造了层叠体。
接着,通过利用i射线抗蚀剂的干式蚀刻形成了1.4μm见方的正方形像素图案的IR像素1。
接着,在形成有IR像素1的图案的InGaAs基板上以后烘烤后的膜厚成为1.0μm的方式旋涂组合物201。接着,利用加热板在100℃下加热120秒钟。接着,通过与实施例1~17相同的方法进行曝光及显影来形成IR像素2的图案,从而制造了过滤器。
[评价1]
将所获得的过滤器按公知的方法组装到固体摄像元件。利用所获得的固体摄像元件拍摄用水润湿的白色器皿和干燥后的白色器皿的图像,并评价是否能够区别用水润湿的情况。
A:能够明确区别干燥后的器皿和用水润湿的器皿。
B:能够区别干燥后的器皿和用水润湿的器皿。
C:无法区别干燥后的器皿和用水润湿的器皿。
[表6]
[表7]
[表8]
在实施例1~18中,均能够明确区别干燥后的器皿和用水润湿的器皿,分光识别良好。另一方面,比较例1中,无法区别干燥后的器皿和用水润湿的器皿,分光识别不充分。
在组合物101中,即使代替染料C-1置换成具有相同的遮蔽性能的硼化镧化合物、金属平板粒子、量子点及含稀土类原子的陶瓷,也可获得相同的效果。
[试验例2]
以制膜后的膜厚成为1.0μm的方式利用旋涂法将红外线截止滤波器形成用组合物涂布于InGaAs基板上。接着,使用加热板在100℃下加热2分钟。接着,使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Co.,LTD.制),以1000mJ/cm2的曝光量经由具有2μm四方的拜耳图案的掩模而进行了曝光。
接着,使用氢氧化四甲铵(TMAH)0.3质量%水溶液,在23℃下进行60秒钟的搅拌式(paddle)显影。接着,通过旋转喷淋进行冲洗,进而通过纯水来水洗。接着,使用加热板,在200℃下加热5分钟而形成了2μm四方的拜耳图案(红外线截止滤波器)。
接着,以制膜后的膜厚成为1.0μm的方式利用旋涂法,将Red组合物涂布于红外线截止滤波器的拜耳图案上。接着,使用加热板,在100℃下加热了2分钟。接着,使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Co.,LTD.制),以1000mJ/cm2的曝光量经由具有2μm四方的拜耳图案的掩模而进行了曝光。接着,使用氢氧化四甲铵(TMAH)0.3质量%水溶液,在23℃下进行60秒钟的搅拌式(paddle)显影。接着,通过旋转喷淋进行冲洗,进而通过纯水来水洗。接着,使用加热板,在200℃下加热5分钟,由此在红外线截止滤波器的拜耳图案上对Red组合物进行图案化。同样地,依次对Green组合物、Blue组合物进行图案化,从而形成了红、绿及蓝色着色图案。
接着,以制膜后的膜厚成为2.0μm的方式利用旋涂法,将组合物101涂布于上述图案形成的膜上。接着,使用加热板,在100℃下加热了2分钟。接着,使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Co.,LTD.制),以1000mJ/cm2的曝光量经由具有2μm四方的拜耳图案的掩模而进行了曝光。接着,使用氢氧化四甲铵(TMAH)0.3质量%水溶液,在23℃下进行60秒钟的搅拌式(paddle)显影。接着,通过旋转喷淋进行冲洗,进而通过纯水来水洗。接着,使用加热板,在200℃下加热5分钟,由此对红外线截止滤波器的拜耳图案的缺陷部分进行了红外线透射滤波器的图案化。将它们按公知的方法组装到了固体摄像元件。
利用所获得的固体摄像元件拍摄用水润湿的白色器皿和干燥后的白色器皿的图像,并评价是否能够区别用水润湿的情况,结果能够明确区别干燥后的器皿和用水润湿的器皿。
试验例2中所使用的Red组合物、Green组合物、Blue组合物及红外线截止滤波器形成用组合物如下。
(Red组合物)
将下述成分进行混合并搅拌之后,以孔径0.45μm的尼龙制滤波器(NIHON PALLLTD.制)进行过滤而制备了Red组合物。
Red颜料分散液……51.7质量份
树脂102……0.6质量份
聚合性化合物2……0.6质量份
光聚合引发剂1……0.4质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制)……0.3质量份
PGMEA……42.6质量份
(Green组合物)
将下述成分进行混合并搅拌之后,以孔径0.45μm的尼龙制滤波器(NIHON PALLLTD.制)进行过滤而制备了Green组合物。
Green颜料分散液……73.7质量份
碱溶性树脂1……0.3质量份
聚合性化合物1……1.2质量份
光聚合引发剂1……0.6质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制)……0.5质量份
PGMEA……19.5质量份
(Blue组合物)
将下述成分进行混合并搅拌之后,以孔径0.45μm的尼龙制滤波器(NIHON PALLLTD.制)进行过滤而制备了Blue组合物。
Blue颜料分散液……44.9质量份
碱溶性树脂1……2.1质量份
聚合性化合物1……1.5质量份
聚合性化合物2……0.7质量份
光聚合引发剂1……0.8质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制)……0.3质量份
PGMEA……45.8质量份
(红外线截止滤波器形成用组合物)
颜料分散液B-1……12.8质量份
颜料分散液B-4……33.3质量份
分散液D-1……13.5质量份
碱溶性树脂1……3.0质量份
聚合性化合物1……0.9质量份
聚合性化合物2……2.1质量份
硅烷偶联剂1……0.9质量份
光聚合引发剂1……1.0质量份
表面活性剂101……4.2质量份
紫外线吸收剂(UV-503、DAITO CHEMICAL CO.,LTD.制)……1.6质量份
PGMEA……26.7质量份
Red组合物、Green组合物、Blue组合物及红外线截止滤波器形成用组合物中所使用的原料为如下。
·Red颜料分散液
通过珠磨机(直径为0.3mm的氧化锆珠),对将9.6质量份的C.I.Pigment Red 254、4.3质量份的C.I.Pigment Yellow 139、6.8质量份的分散剂(Disperbyk-161,BYK Chemie公司制)、79.3质量份的PGMEA混合而成的混合液花费3小时进行混合并分散,从而制备了颜料分散液。然后,进一步使用附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BeeChemical Co.,Ltd.制)在2000kg/cm3的压力下以流量500g/min进行了分散处理。将该分散处理重复进行10次而得到了Red颜料分散液。
·Green颜料分散液
通过珠磨机(直径为0.3mm的氧化锆珠),对将6.4质量份的C.I.Pigment Green36、5.3质量份的C.I.Pigment Yellow 150、5.2质量份的分散剂(Disperbyk-161,BYKChemie公司制)、83.1质量份的PGMEA混合而成的混合液花费3小时进行混合并分散,从而制备了颜料分散液。然后,进一步使用附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BeeChemical Co.,Ltd.制)在2000kg/cm3的压力下以流量500g/min进行了分散处理。将该分散处理重复进行10次而得到了Green颜料分散液。
·Blue颜料分散液
通过珠磨机(直径为0.3mm的氧化锆珠),对将9.7质量份的C.I.Pigment Blue 15:6、2.4质量份的C.I.Pigment Violet 23、5.5质量份的分散剂(Disperbyk-161,BYK Chemie公司制)、82.4质量份的PGMEA混合而成的混合液花费3小时进行混合并分散,从而制备了颜料分散液。然后,进一步使用附减压机构的高压分散机NANO-3000-10(Nippon BeeChemical Co.,Ltd.制)在2000kg/cm3的压力下以流量500g/min进行了分散处理。将该分散处理重复10次而得到了Blue颜料分散液。
·分散液D-1
将掺锡氧化铟粉末(Mitsubishi Materials Corporation制,P4-ITO)28.1质量份、分散剂1(固体成分20%,溶剂:丙二醇单甲基醚乙酸酯)18.8质量份、环己酮18.8质量份的混合液利用油漆搅拌器(ASADA IRON WORKS.CO.,LTD.制),并利用直径0.3mm的氧化锆珠分散5小时,从而制备了分散液D-1。
·表面活性剂101:下述混合物(Mw=14000)的1质量%PGMEA溶液。下述式中,表示重复单元的比例的%为摩尔%。
[化学式72]
符号说明
110-固体摄像元件,111-红外线截止滤波器,112-滤色器,114-红外线透射滤波器,115-微透镜,116-平坦化层,120-第2红外线透射滤波器。
Claims (10)
1.一种组合物,其包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材、红外线吸收剂及固化性化合物,所述组合物中,
所述红外线吸收剂包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料,
所述组合物的波长400nm~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400nm~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上,
所述遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料是在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物,
所述在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物中,极大吸收波长下的吸光度Amax与波长1400nm下的吸光度A1400的比即吸光度Amax/吸光度A1400为4.5以上,
所述遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料是选自二亚胺鎓化合物、方酸化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金属络合物、硼化镧化合物、金属平板粒子、量子点及含稀土类原子的陶瓷中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中,
所述红外线吸收剂还包含在波长大于900nm且1000nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
3.根据权利要求1所述的组合物,其中,
所述红外线吸收剂还包含在波长大于700nm且900nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物。
4.一种膜,其由权利要求1至3中任一项所述的组合物所获得。
5.根据权利要求4所述的膜,其中,
所述膜的厚度方向上的光的透射率在波长400nm~1100nm的范围内的最大值为20%以下,所述膜的厚度方向上的光的透射率在波长1400nm~1500nm的范围内的最小值为70%以上。
6.一种层叠体,其具有包含使红外线透射且遮蔽可见光的色材的层、及包含遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料的层,其中,
所述层叠体的波长400nm~1100nm的范围内的吸光度的最小值A与波长1400nm~1500nm的范围内的吸光度的最大值B的比即A/B为4.5以上,
所述遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料是在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物,
所述在波长大于1000nm且1200nm以下的范围内具有极大吸收波长的化合物中,极大吸收波长下的吸光度Amax与波长1400nm下的吸光度A1400的比即吸光度Amax/吸光度A1400为4.5以上,
所述遮蔽波长大于1000nm且1200nm以下的范围的光的材料是选自二亚胺鎓化合物、方酸化合物、克酮鎓化合物、花青化合物、二硫醇金属络合物、硼化镧化合物、金属平板粒子、量子点及含稀土类原子的陶瓷中的至少一种。
7.根据权利要求6所述的层叠体,其中,
所述层叠体的厚度方向上的光的透射率在波长400nm~1100nm的范围内的最大值为20%以下,所述层叠体的厚度方向上的光的透射率在波长1400nm~1500nm的范围内的最小值为70%以上。
8.一种红外线透射滤波器,其具有权利要求4所述的膜。
9.一种固体摄像元件,其具有权利要求4所述的膜。
10.一种红外线传感器,其具有权利要求4所述的膜。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021171929A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
JP7593090B2 (ja) * | 2020-12-18 | 2024-12-03 | artience株式会社 | 樹脂組成物およびその用途 |
CN117795017A (zh) * | 2021-08-17 | 2024-03-29 | 富士胶片株式会社 | 化合物或其互变异构体、组合物、层叠体、光学膜、图像形成材料及化合物或其互变异构体的制造方法 |
CN115806544B (zh) * | 2021-09-14 | 2025-03-11 | 中国科学院深圳先进技术研究院 | 荧光化合物和探针 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101120272A (zh) * | 2005-02-16 | 2008-02-06 | 三菱聚酯薄膜公司 | 近红外线吸收滤光片、等离子体显示器滤光片和等离子体显示板 |
CN101233208A (zh) * | 2005-08-10 | 2008-07-30 | 东洋油墨制造株式会社 | 近红外线吸收材料及其用途 |
CN102341467A (zh) * | 2009-03-11 | 2012-02-01 | 旭化成电子材料株式会社 | 涂布组合物、涂膜、层积体及层积体的制造方法 |
JP4991479B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2012-08-01 | 大阪瓦斯株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法 |
CN103429600A (zh) * | 2011-04-21 | 2013-12-04 | 株式会社艾迪科 | 新型化合物、近红外线吸收剂及含有其的合成树脂组合物 |
CN104838294A (zh) * | 2012-12-06 | 2015-08-12 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤波器 |
CN105122095A (zh) * | 2013-04-10 | 2015-12-02 | 旭硝子株式会社 | 红外线遮蔽滤波器、固体摄像元件和摄像·显示装置 |
CN105190374A (zh) * | 2013-03-14 | 2015-12-23 | 富士胶片株式会社 | 固体摄像元件及其制造方法、红外光截止滤波器形成用硬化性组合物、照相机模块 |
JP2016060671A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 日本電気硝子株式会社 | 近赤外吸収フィルター用ガラス |
TW201641612A (zh) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | Fujifilm Corp | 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 |
CN106461830A (zh) * | 2014-05-01 | 2017-02-22 | 富士胶片株式会社 | 红外线传感器、近红外线吸收组合物、感光性树脂组合物、化合物、近红外线吸收滤波器及摄像装置 |
JP2017109887A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | 日本電気硝子株式会社 | 近赤外線吸収ガラス |
Family Cites Families (156)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4841708B1 (zh) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US3978947A (en) | 1974-08-26 | 1976-09-07 | Warner Electric Brake & Clutch Company | Clutch brake unit |
JPS5311314B2 (zh) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
JPS6036689B2 (ja) | 1978-02-22 | 1985-08-22 | 関西電力株式会社 | 接地混触検出装置 |
DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
JPS6031807B2 (ja) | 1979-01-24 | 1985-07-24 | カネボウ株式会社 | 可変色性ネイルエナメル |
EP0020049B1 (en) | 1979-05-22 | 1983-03-02 | Secretary of State for Industry in Her Britannic Majesty's Gov. of the United Kingdom of Great Britain and Northern Ireland | Apparatus and method for the electrostatic dispersion of liquids |
JPS56118462A (en) | 1980-02-25 | 1981-09-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Pigment composition |
DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3710281A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710282A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710279A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
JPH0778180B2 (ja) | 1987-04-22 | 1995-08-23 | 東洋インキ製造株式会社 | 顔料組成物 |
JPH01170601A (ja) | 1987-12-26 | 1989-07-05 | Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd | 黒色硬化性樹脂組成物 |
JPH083049B2 (ja) | 1988-02-25 | 1996-01-17 | 東洋インキ製造株式会社 | 顔料組成物,分散方法および塗料 |
JPH0217077A (ja) | 1988-07-05 | 1990-01-22 | Kenichi Ishiyama | ポータブル酸素発生兼吸入器 |
JPH0668080B2 (ja) | 1988-07-22 | 1994-08-31 | 大日精化工業株式会社 | 黒色熱硬化性樹脂組成物 |
JPH0819345B2 (ja) | 1989-06-07 | 1996-02-28 | 東洋インキ製造株式会社 | 顔料組成物および顔料の分散方法 |
JP2584515B2 (ja) | 1989-06-23 | 1997-02-26 | 東洋インキ製造株式会社 | 顔料分散剤および顔料組成物 |
JP2507810B2 (ja) | 1989-07-13 | 1996-06-19 | 東洋インキ製造株式会社 | 顔料分散剤,顔料組成物,塗料および印刷インキ |
JP2679851B2 (ja) | 1989-11-10 | 1997-11-19 | 東洋インキ製造株式会社 | カラーフィルター用着色組成物 |
EP0485337B1 (en) | 1990-11-08 | 1995-04-19 | Ciba-Geigy Ag | Pyrazole-containing pigment derivatives |
JPH07110923B2 (ja) | 1992-11-06 | 1995-11-29 | 大日精化工業株式会社 | 顔料組成物及び顔料分散体 |
JPH06240158A (ja) | 1992-12-25 | 1994-08-30 | Sumitomo Chem Co Ltd | 顔料誘導体およびその応用 |
JPH06212088A (ja) | 1993-01-20 | 1994-08-02 | Dainippon Ink & Chem Inc | 顔料組成物及び塗料 |
JPH06222211A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-08-12 | Kuraray Co Ltd | フイルタ−材 |
JP3455915B2 (ja) | 1993-09-24 | 2003-10-14 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ |
JPH0844049A (ja) * | 1994-08-01 | 1996-02-16 | Sekisui Chem Co Ltd | 着色レジスト膜 |
EP0790281B1 (en) | 1996-02-13 | 2001-12-05 | Ciba SC Holding AG | Pigment compositions |
US5711800A (en) | 1996-12-31 | 1998-01-27 | Bayer Corporation | Organic pigment compositions |
JP3867177B2 (ja) | 1997-04-30 | 2007-01-10 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
DK199901098A (da) | 1998-08-18 | 2000-02-19 | Ciba Sc Holding Ag | Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse |
NL1016815C2 (nl) | 1999-12-15 | 2002-05-14 | Ciba Sc Holding Ag | Oximester-fotoinitiatoren. |
JP3881172B2 (ja) | 2000-12-25 | 2007-02-14 | 日本化薬株式会社 | エネルギー線硬化型樹脂組成物 |
CN100528838C (zh) | 2001-06-11 | 2009-08-19 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 具有复合结构的肟酯光引发剂 |
JP4611578B2 (ja) | 2001-07-26 | 2011-01-12 | 淳二 城戸 | 有機エレクトロルミネッセント素子 |
JP2003261827A (ja) | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 着色樹脂エマルジョン、インクジェット印刷用インク及びカラーフィルター |
JP4305608B2 (ja) | 2002-03-11 | 2009-07-29 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ保護膜用組成物および保護膜 |
JP2003185831A (ja) | 2002-11-14 | 2003-07-03 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ及びその製造方法、液晶装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
JP2004219995A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-08-05 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 反射鏡 |
JP4401196B2 (ja) | 2003-03-10 | 2010-01-20 | 富士フイルム株式会社 | 染料含有硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 |
JP4882199B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2012-02-22 | 東洋紡績株式会社 | 近赤外線吸収フィルター |
JP2006169325A (ja) | 2004-12-14 | 2006-06-29 | Sony Corp | インクジェット用記録液、インクカートリッジ、およびインクジェット記録方法 |
JP2006343631A (ja) | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 固体撮像素子用近赤外線吸収組成物およびこれを用いた固体撮像素子 |
JP2008088426A (ja) | 2006-09-06 | 2008-04-17 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規シアニン化合物及びその用途 |
WO2008078678A1 (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Adeka Corporation | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
JP2008250074A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 |
DE602008004757D1 (en) | 2007-05-11 | 2011-03-10 | Basf Se | Oximesther-fotoinitiatoren |
RU2500696C9 (ru) | 2007-07-19 | 2014-08-10 | Басф Се | Оик-инертные субстраты, содержащие бис-оксодигидроиндолиленбензодифураноны |
US20100203445A1 (en) | 2007-09-26 | 2010-08-12 | Fujifilm Corporation | Negative resist composition and resist pattern forming method using the same |
JP2009108267A (ja) | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Fujifilm Corp | シアニン化合物およびそれを含んでなる近赤外線吸収組成物 |
JP2009145395A (ja) | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | プリウェット剤及びそのプリウェット剤を用いたレジスト保護膜形成方法 |
JP5380019B2 (ja) | 2008-03-30 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収性化合物および該化合物からなる微粒子 |
JP5344843B2 (ja) | 2008-03-31 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物および固体撮像素子 |
JP5339781B2 (ja) | 2008-05-30 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子 |
ATE541865T1 (de) | 2008-06-06 | 2012-02-15 | Basf Se | Fotoinitiatormischungen |
JP2010164965A (ja) | 2008-12-19 | 2010-07-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | カラーフィルタ画素形成用組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
JP5702925B2 (ja) | 2008-12-26 | 2015-04-15 | 株式会社日本触媒 | α−アリルオキシメチルアクリル酸系重合体及びその製造方法 |
ES2484942T3 (es) | 2009-01-19 | 2014-08-12 | Basf Se | Matriz negra para filtros de colores |
CN102292397B (zh) | 2009-01-19 | 2014-12-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 有机黑色颜料及其制备 |
JP2010262028A (ja) | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Nippon Steel Chem Co Ltd | ブラックマトリックス用感光性樹脂組成物 |
JP5299151B2 (ja) | 2009-07-31 | 2013-09-25 | 山陽色素株式会社 | 微細顔料組成物およびその製造方法 |
KR101639701B1 (ko) | 2009-08-27 | 2016-07-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 디클로로디케토피롤로피롤 안료, 이것을 함유하는 색재 분산물 및 그 제조방법 |
JP5490475B2 (ja) | 2009-09-24 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外吸収性色素を含有する硬化性組成物、インク用組成物および近赤外線吸収フィルタの製造方法 |
JP5251829B2 (ja) | 2009-10-26 | 2013-07-31 | 東レ株式会社 | ポリエステル樹脂組成物、その製造方法、およびフィルム |
TWI605063B (zh) | 2009-11-25 | 2017-11-11 | 住友化學股份有限公司 | Resin composition and display device |
JP2012003225A (ja) | 2010-01-27 | 2012-01-05 | Fujifilm Corp | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
EP2550307B1 (en) | 2010-03-22 | 2017-11-22 | Henkel IP & Holding GmbH | Macro-photoinitiators and curable compositions thereof |
JP5419778B2 (ja) | 2010-03-30 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | スクアリリウム化合物及びその製造方法並びに赤外線吸収剤 |
JP5734602B2 (ja) | 2010-08-26 | 2015-06-17 | 富士フイルム株式会社 | 赤色着色組成物、着色硬化性組成物、固体撮像素子用カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
JP2012014052A (ja) | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置 |
JP2012077153A (ja) | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Fujifilm Corp | 着色組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示装置 |
EP2625166B1 (en) | 2010-10-05 | 2014-09-24 | Basf Se | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
JP2012126830A (ja) | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Sony Corp | インクジェット用インク組成物、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置 |
CN103339536B (zh) | 2011-01-28 | 2015-07-22 | 东洋油墨Sc控股株式会社 | 彩色滤光片用吡咯并吡咯二酮系颜料组合物、彩色滤光片用着色组合物及彩色滤光片 |
JP5575825B2 (ja) | 2011-03-17 | 2014-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、並びに、染料の製造方法 |
JP5657442B2 (ja) | 2011-03-22 | 2015-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5623958B2 (ja) | 2011-03-30 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 感放射線性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP5898887B2 (ja) | 2011-05-18 | 2016-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、並びに、これを用いた透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、透明膜の製造方法、マイクロレンズの製造方法、及び、固体撮像素子の製造方法 |
TW201302921A (zh) | 2011-05-30 | 2013-01-16 | Nippon Kayaku Kk | 彩色濾光片用色素、使用該色素之著色樹脂組成物及包括該樹脂組成物之彩色濾光片 |
JP5851141B2 (ja) | 2011-07-29 | 2016-02-03 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子及び画像表示装置 |
JP2013064993A (ja) | 2011-08-31 | 2013-04-11 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び固体撮像素子 |
EP2715416B1 (en) | 2011-09-14 | 2019-10-30 | FUJIFILM Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
JP2013068814A (ja) | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Fujifilm Corp | 着色感放射線性組成物、カラーフィルタ及びそのカラーフィルタの製造方法、並びに、固体撮像素子 |
JP2013114249A (ja) | 2011-12-01 | 2013-06-10 | Toppan Printing Co Ltd | 黒色感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ |
JP5845917B2 (ja) | 2012-01-20 | 2016-01-20 | 富士ゼロックス株式会社 | 樹脂組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
JP5772642B2 (ja) | 2012-02-09 | 2015-09-02 | Jsr株式会社 | 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 |
JP6032765B2 (ja) | 2012-03-08 | 2016-11-30 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 光源回路及びこれを備えた光源装置 |
JP5878050B2 (ja) | 2012-03-16 | 2016-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 熱線遮蔽材 |
JP5988630B2 (ja) | 2012-03-16 | 2016-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収性組成物および赤外線カットフィルタ |
JP6081771B2 (ja) | 2012-04-27 | 2017-02-15 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン化合物およびこれを用いる熱線吸収材 |
JP5829641B2 (ja) | 2012-05-08 | 2015-12-09 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性液状組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
EP2963015B1 (en) | 2012-05-09 | 2018-07-11 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
EP2855598B1 (en) | 2012-06-01 | 2017-01-11 | Basf Se | Black colorant mixture |
JP6024048B2 (ja) | 2012-07-23 | 2016-11-09 | 山田化学工業株式会社 | 熱線遮蔽材料 |
JP5946389B2 (ja) | 2012-07-27 | 2016-07-06 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
JP6205193B2 (ja) | 2012-07-30 | 2017-09-27 | 富士フイルム株式会社 | 着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ |
CN107817650B (zh) | 2012-07-31 | 2024-07-02 | 株式会社艾迪科 | 潜伏性添加剂以及含有该添加剂的组合物 |
JP5853927B2 (ja) | 2012-10-10 | 2016-02-09 | 富士ゼロックス株式会社 | フラボン系スクアリリウム化合物、樹脂組成物、画像形成材料、静電潜像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法 |
JP6088794B2 (ja) | 2012-10-31 | 2017-03-01 | 富士フイルム株式会社 | 積層体およびこれを有するカラーフィルタ |
JP2014095007A (ja) | 2012-11-08 | 2014-05-22 | Nippon Kayaku Co Ltd | 新規シアニン色素化合物、樹脂組成物及び近赤外線カットフィルタ |
CN104823082B (zh) | 2012-11-29 | 2017-07-28 | 富士胶片株式会社 | 组合物、红外线透过滤光片及其制造方法、红外线传感器及着色层 |
JP2014126642A (ja) | 2012-12-26 | 2014-07-07 | Adeka Corp | 波長カットフィルタ |
JP6170673B2 (ja) | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
JP6065596B2 (ja) | 2013-01-16 | 2017-01-25 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 |
JP6569220B2 (ja) | 2013-06-24 | 2019-09-04 | 東レ株式会社 | タッチパネル用黒色樹脂組成物 |
JP6152074B2 (ja) | 2013-07-05 | 2017-06-21 | 富士フイルム株式会社 | 色素多量体、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置 |
EP3019473B1 (en) | 2013-07-08 | 2020-02-19 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
JP6333604B2 (ja) | 2013-07-09 | 2018-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、および画像表示装置 |
KR102282647B1 (ko) | 2013-09-10 | 2021-07-28 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
KR101587360B1 (ko) * | 2013-09-27 | 2016-01-20 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 디스플레이 부재 |
KR101661088B1 (ko) | 2013-10-17 | 2016-09-28 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터, 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 |
JP6059646B2 (ja) * | 2013-12-06 | 2017-01-11 | 大日精化工業株式会社 | 近赤外線透過性黒色アゾ顔料、近赤外線透過性黒色アゾ顔料の製造方法、これらの黒色アゾ顔料を用いた着色組成物、物品の着色方法およびカラーフィルター基板 |
JP6198058B2 (ja) | 2013-12-19 | 2017-09-20 | Dic株式会社 | 界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物 |
JP5898172B2 (ja) | 2013-12-27 | 2016-04-06 | コダマ樹脂工業株式会社 | 耐薬品性吹込み成形積層容器 |
JP2015157893A (ja) | 2014-02-24 | 2015-09-03 | 日本化薬株式会社 | インドレニン化合物 |
JP2015172102A (ja) | 2014-03-11 | 2015-10-01 | Jsr株式会社 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
JP6334964B2 (ja) | 2014-03-11 | 2018-05-30 | Jsr株式会社 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
JP6183255B2 (ja) | 2014-03-17 | 2017-08-23 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
JP6340871B2 (ja) | 2014-03-31 | 2018-06-13 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、およびカラーフィルタ |
WO2015152153A1 (ja) | 2014-04-04 | 2015-10-08 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤 |
KR20190021493A (ko) | 2014-05-01 | 2019-03-05 | 후지필름 가부시키가이샤 | 착색 조성물, 막, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 적외선 센서 |
TWI663218B (zh) * | 2014-09-04 | 2019-06-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 組成物、組成物的製造方法、硬化性組成物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線感測器、照相機模組及化合物 |
US10113075B2 (en) | 2014-09-04 | 2018-10-30 | Igm Malta Limited | Polycyclic photoinitiators |
WO2016088645A1 (ja) | 2014-12-04 | 2016-06-09 | Jsr株式会社 | 固体撮像装置 |
JP6631243B2 (ja) | 2015-01-30 | 2020-01-15 | Jsr株式会社 | 固体撮像装置及び光学フィルタ |
CN106104319B (zh) | 2015-02-18 | 2018-12-07 | Agc株式会社 | 光学滤波器和摄像装置 |
JP2016162946A (ja) | 2015-03-04 | 2016-09-05 | Jsr株式会社 | 固体撮像装置 |
WO2016154782A1 (en) | 2015-03-27 | 2016-10-06 | Dow Global Technologies Llc | Squarylium compounds used for lcd color filters |
WO2016178346A1 (ja) * | 2015-05-01 | 2016-11-10 | 富士フイルム株式会社 | 膜、膜の製造方法、固体撮像素子および赤外線センサ |
JP6720969B2 (ja) | 2015-05-12 | 2020-07-08 | Agc株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP6628072B2 (ja) | 2015-05-20 | 2020-01-08 | Dic株式会社 | フッ素系界面活性剤およびこれを含有する組成物 |
JP2017008219A (ja) | 2015-06-23 | 2017-01-12 | 株式会社Adeka | 組成物 |
EP3321323B1 (en) | 2015-07-09 | 2024-01-17 | Zeon Corporation | Resin composition, resin molded article, and optical member |
US9550902B1 (en) | 2015-07-16 | 2017-01-24 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Aqueous ink, ink cartridge, ink drying system, ink drying method, recording apparatus, and recording method |
JP6642313B2 (ja) | 2015-07-28 | 2020-02-05 | Jsr株式会社 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
KR20180033114A (ko) | 2015-07-28 | 2018-04-02 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 광학 필터를 구비하는 환경 광 센서 |
JP6705132B2 (ja) | 2015-07-30 | 2020-06-03 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
CN107636024B (zh) | 2015-08-17 | 2020-06-19 | 株式会社艾迪科 | 组合物 |
WO2017030174A1 (ja) | 2015-08-20 | 2017-02-23 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
EP3321610B1 (en) | 2015-08-26 | 2020-04-01 | PHC Holdings Corporation | Ultra-low temperature freezer |
JP6726050B2 (ja) | 2015-09-01 | 2020-07-22 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 酸変性エポキシ(メタ)アクリレート及びその製造方法並びに用途 |
JP6625130B2 (ja) | 2015-09-04 | 2019-12-25 | 富士フイルム株式会社 | 材料、組成物、硬化性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、赤外線センサ、カメラモジュールおよび材料の製造方法 |
JP2017057265A (ja) | 2015-09-15 | 2017-03-23 | 株式会社日本触媒 | ラクトン単位及びスチレン系単位を有する熱可塑性共重合体 |
JP6799540B2 (ja) | 2015-09-25 | 2020-12-16 | 株式会社Adeka | オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する重合開始剤 |
JP6644406B2 (ja) | 2015-09-29 | 2020-02-12 | 株式会社日本触媒 | アルカリ可溶性樹脂及び感光性樹脂組成物 |
JP6599194B2 (ja) | 2015-09-30 | 2019-10-30 | 株式会社日本触媒 | オキソカーボン系化合物の混合物 |
TWI553410B (zh) | 2015-10-08 | 2016-10-11 | 新應材股份有限公司 | 組成物、紅外線透過濾光片及其製造方法以及紅外線感測器 |
JP6625859B2 (ja) | 2015-10-15 | 2019-12-25 | 株式会社日本触媒 | 重合体とこれを含む樹脂組成物および樹脂成形体、重合体の製造方法、共重合体ならびに新規モノマー |
CN113721316A (zh) * | 2016-01-29 | 2021-11-30 | 富士胶片株式会社 | 组合物、膜、近红外线截止滤波器、层叠体、图案形成方法 |
TWI744286B (zh) | 2016-02-26 | 2021-11-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感放射線性組成物、光學濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 |
-
2018
- 2018-09-07 WO PCT/JP2018/033116 patent/WO2019054281A1/ja unknown
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- 2018-09-07 KR KR1020207007124A patent/KR102483100B1/ko active Active
- 2018-09-11 TW TW107131794A patent/TWI793166B/zh active
-
2020
- 2020-03-11 US US16/815,877 patent/US11592604B2/en active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101120272A (zh) * | 2005-02-16 | 2008-02-06 | 三菱聚酯薄膜公司 | 近红外线吸收滤光片、等离子体显示器滤光片和等离子体显示板 |
CN101233208A (zh) * | 2005-08-10 | 2008-07-30 | 东洋油墨制造株式会社 | 近红外线吸收材料及其用途 |
JP4991479B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2012-08-01 | 大阪瓦斯株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法 |
CN102341467A (zh) * | 2009-03-11 | 2012-02-01 | 旭化成电子材料株式会社 | 涂布组合物、涂膜、层积体及层积体的制造方法 |
CN103429600A (zh) * | 2011-04-21 | 2013-12-04 | 株式会社艾迪科 | 新型化合物、近红外线吸收剂及含有其的合成树脂组合物 |
CN104838294A (zh) * | 2012-12-06 | 2015-08-12 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤波器 |
CN105190374A (zh) * | 2013-03-14 | 2015-12-23 | 富士胶片株式会社 | 固体摄像元件及其制造方法、红外光截止滤波器形成用硬化性组合物、照相机模块 |
CN105122095A (zh) * | 2013-04-10 | 2015-12-02 | 旭硝子株式会社 | 红外线遮蔽滤波器、固体摄像元件和摄像·显示装置 |
CN106461830A (zh) * | 2014-05-01 | 2017-02-22 | 富士胶片株式会社 | 红外线传感器、近红外线吸收组合物、感光性树脂组合物、化合物、近红外线吸收滤波器及摄像装置 |
JP2016060671A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 日本電気硝子株式会社 | 近赤外吸収フィルター用ガラス |
TW201641612A (zh) * | 2015-05-22 | 2016-12-01 | Fujifilm Corp | 著色組成物、膜、彩色濾光片、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及紅外線感測器 |
JP2017109887A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | 日本電気硝子株式会社 | 近赤外線吸収ガラス |
Also Published As
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