TWI744286B - 感放射線性組成物、光學濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種可形成紅外線遮蔽性良好且矩形性優異的圖案的感放射線性組成物。所述感放射線性組成物包含近紅外線吸收劑、樹脂、自由基聚合性化合物、以及光自由基聚合起始劑，且於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500，樹脂包含具有酸基的樹脂，自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7。

Description

感放射線性組成物、光學濾波器、積層體、圖 案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器

本發明是有關於一種感放射線性組成物、光學濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器。

於攝影機(video camera)、數位相機(digital still camera)、附照相機功能的行動電話等中，一直使用作為彩色圖像的固體攝像元件的電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)或互補式金屬氧化膜半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)。該些固體攝像元件於其光接收部中使用對紅外線具有感度的矽光二極體(silicon photodiode)，故有時使用近紅外線截止濾波器進行視感度修正。

關於近紅外線截止濾波器，已知有為了提高紅外線遮蔽性而使用包含近紅外線吸收劑的感放射線性組成物來製造的方法。例如，於專利文獻1中記載有使用包含吡咯并吡咯化合物的感放射線性組成物來製造近紅外線截止濾波器等。於專利文獻2中記載有使用包含氧化鎢銫等的感放射線性組成物來製造近紅外線截止濾波器等。於專利文獻3中記載有使用包含萘酞青色素等的感放射線性組成物來製造近紅外線截止濾波器等。

[現有技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2014-191190號公報

[專利文獻2]日本專利特開2013-137337號公報

[專利文獻3]日本專利特開2014-224921號公報

先前，將近紅外線截止濾波器用作平坦化膜。近年來，關於近紅外線截止濾波器，亦正研究形成圖案而使用。例如，正研究於近紅外線截止濾波器的圖案上形成彩色濾波器的各畫素(例如，紅色畫素、藍色畫素、綠色畫素等)來使用。當製造此種積層體時，理想的是近紅外線截止濾波器的圖案的矩形性良好。若近紅外線截止濾波器的圖案的矩形性良好，則當在近紅外線截止濾波器的圖案上形成彩色濾波器的各畫素而形成積層體時，可抑制空隙的產生或混色等。

然而，根據本發明者等人的研究可知，與形成使用包含彩色著色劑的著色組成物的彩色濾波器等的畫素圖案等的情況相比，於使用包含近紅外線吸收劑的感放射線性組成物來形成圖案的情況下，矩形性容易變差。另外，先前廣為人知的包含近紅外線吸收劑的感放射線性組成物並非假定形成圖案而使用的組成物。另外，先前公知的感放射線性組成物不可謂矩形性充分，期望矩形性的進一步提高。

因而，本發明的目的在於提供一種可形成紅外線遮蔽性良好且矩形性優異的圖案的感放射線性組成物。另外，本發明的目的在於提供一種光學濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器。

根據所述情況，本發明者等人進行了努力研究，結果發現，藉由使用後述的感放射線性組成物，可達成所述目的，從而完成了本發明。本發明提供以下內容。

<1>一種感放射線性組成物，其包含近紅外線吸收劑、樹脂、自由基聚合性化合物以及光自由基聚合起始劑，且感放射線性組成物於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500，樹脂包含具有酸基的樹脂，自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7。

<2>如<1>所述的感放射線性組成物，其中樹脂包含鹼可溶性樹脂，且自由基聚合性化合物與鹼可溶性樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/鹼可溶性樹脂=0.3~0.7。

<3>如<1>或<2>所述的感放射線性組成物，其中光自由基聚合起始劑包含肟化合物。

<4>如<1>或<2>所述的感放射線性組成物，其中光自由基聚合起始劑包含肟化合物與α-胺基酮化合物。

<5>如<1>至<4>中任一項所述的感放射線性組成物，其中自由基聚合性化合物為包含酸基的自由基聚合性化合物。

<6>如<1>至<5>中任一項所述的感放射線性組成物，其進而包含鏈轉移劑。

<7>如<1>至<6>中任一項所述的感放射線性組成物，其進而包含紫外線吸收劑。

<8>如<1>至<7>中任一項所述的感放射線性組成物，其中近紅外線吸收劑包含選自有機顏料及無機顏料中的至少一種。

<9>如<1>至<7>中任一項所述的感放射線性組成物，其中於感放射線性組成物的總固體成分中含有20質量%以上的近紅外線吸收劑。

<10>一種光學濾波器，其使用如<1>至<9>中任一項所述的感放射線性組成物。

<11>如<10>所述的光學濾波器，其中光學濾波器為近紅外線截止濾波器或紅外線透過濾波器。

<12>如<10>或<11>所述的光學濾波器，其進而具有抗反射膜。

<13>一種積層體，其具有使用如<1>至<9>中任一項所述的感放射線性組成物的近紅外線截止濾波器、與包含彩色著色 劑的彩色濾波器。

<14>一種圖案形成方法，其包括：使用如<1>至<9>中任一項所述的感放射線性組成物而於支撐體上形成感放射線性組成物層的步驟；以圖案狀對感放射線性組成物層進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。

<15>如<14>所述的圖案形成方法，其於將未曝光部顯影去除後進而包括進行曝光的步驟。

<16>一種固體攝像元件，其具有如<10>至<12>中任一項所述的光學濾波器。

<17>一種圖像顯示裝置，其具有如<10>至<12>中任一項所述的光學濾波器。

<18>一種紅外線感測器，其具有如<10>至<12>中任一項所述的光學濾波器。

根據本發明，可提供一種可形成紅外線遮蔽性良好且矩形性優異的圖案的感放射線性組成物。另外，本發明可提供一種光學濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器。

110:固體攝像元件

111:近紅外線截止濾波器

112:彩色濾波器

114:紅外線透過濾波器

115:微透鏡

116:平坦化層

hν:入射光

圖1為表示紅外線感測器的一實施形態的概略圖。

以下，對本發明的內容進行詳細說明。

本說明書中，所謂「~」，是以包含其前後所記載的數值作為下限值及上限值的含義來使用。

本說明書中的基(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基(原子團)，並且亦包含具有取代基的基(原子團)。例如，所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。

本說明書中，所謂「曝光」，只要無特別說明，則不僅包含利用光的曝光，而且利用電子束、離子束等粒子束的描繪亦包含於曝光中。另外，作為曝光中所使用的光，通常可列舉：水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表的遠紫外線、極紫外線(極紫外(Extreme Ultraviolet，EUV)光)、X射線、電子束等光化射線或放射線。

本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基。

本說明書中，重量平均分子量及數量平均分子量被定義為藉由凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)而測定的聚苯乙烯換算值。

所謂近紅外線，是指最大吸收波長區域為波長700nm~2500nm的光(電磁波)。

本說明書中，「步驟」這一用語不僅是指獨立的步驟，即便於無法與其他步驟明確地加以區分的情況下，只要達成該步驟的所期望的作用，則亦包含於本用語中。

<感放射線性組成物>

本發明的感放射線性組成物(以下，亦稱為組成物)為包含近紅外線吸收劑、樹脂、自由基聚合性化合物、以及光自由基聚合起始劑的感放射線性組成物，感放射線性組成物於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500，樹脂包含具有酸基的樹脂，自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7。

藉由使用所述的感放射線性組成物，可形成具有優異的紅外線遮蔽性、且矩形性優異的圖案。本發明的感放射線性組成物包含近紅外線吸收劑，且所述吸光度Amax/吸光度A550為50~500，因此可形成紅外線遮蔽性優異的圖案。而且，藉由以質量比計以自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7的比例包含自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂，可形成矩形性優異的圖案。即，於使用本發明的感放射線性組成物來形成圖案的情況下，當介隔遮罩而進行曝光時，可提高遮罩周邊部的感放射線性組成物的硬化性。而且，藉由將自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂 設為0.3以上，圖案的下部側(膜的支撐體側)不易變得較設計值細，從而可抑制底切(懸伸形狀)的產生。另外，藉由將自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂設為0.7以下，圖案的上部側(膜的表面側)不易變得較設計值細，從而可抑制過度切削(正錐形狀)的產生。因此可形成矩形性優異的圖案。進而，藉由以質量比計以自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7的比例包含自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂，亦可抑制圖案形成時的殘渣的產生。

感放射線性組成物於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，更佳為於720nm~980nm的範圍內具有最大吸收波長，進而佳為於740nm~960nm的範圍內具有最大吸收波長。另外，本發明的感放射線性組成物的吸光度Amax/吸光度A550為50~500，較佳為70~450，更佳為100~400。所述吸光度的條件可藉由任意手段達成，藉由調整近紅外線吸收劑的種類及含量，可較佳地達成所述吸光度的條件。

某波長λ下的吸光度Aλ可藉由以下的式子來定義。

Aλ=-log(Tλ)

Aλ為波長λ下的吸光度，Tλ為波長λ下的透過率。

本發明中，吸光度的值較佳為使用感放射線性組成物而製造的膜中的值。吸光度可使用先前公知的分光光度計而測定。

本發明的感放射線性組成物的較佳態樣之一為進而包含鏈轉移劑。根據該態樣，可促進感放射線性組成物的曝光時的膜表面的硬化。因此，可抑制曝光時的膜厚的減少等，從而容易形成矩形性更優異的圖案。

另外，本發明的感放射線性組成物的較佳態樣之一為進而包含紫外線吸收劑。根據該態樣，當介隔遮罩對本發明的感放射線性組成物進行曝光時，可提高遮罩周邊部的感放射線性組成物的硬化性。因此，容易形成矩形性更優異的圖案。

另外，本發明的感放射線性組成物的較佳態樣之一為包含肟化合物與α-胺基酮化合物作為光自由基聚合起始劑。根據該態樣，藉由併用利用能量移動的自由基產生，圖案的上部側(膜的表面側)不易變得較設計值細，可抑制過度切削的產生，從而可提高矩形性。

以下，對本發明的感放射線性組成物的各成分進行說明。

<<近紅外線吸收劑>>

本發明的感放射線性組成物(以下，亦稱為本發明的組成物)含有近紅外線吸收劑。再者，本發明中，近紅外線吸收劑是指於近紅外區域(較佳為波長700nm~1300nm的範圍，進而佳為波長700nm~1000nm的範圍)具有吸收的材料。

近紅外線吸收劑較佳為含有在700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500的 近紅外線吸收化合物(以下，亦稱為近紅外線吸收化合物A)。另外，當使用於總固體成分中含有26質量%的近紅外線吸收化合物A的組成物來形成膜厚0.7μm的膜時，近紅外線吸收化合物A較佳為所述膜中的吸光度Amax/吸光度A550滿足50~500的分光特性的化合物。上限更佳為450以下，進而佳為400以下。下限更佳為70以上，進而佳為100以上。根據該態樣，容易製造可見透明性與紅外線遮蔽性優異的圖案。

近紅外線吸收化合物A可為顏料及染料的任一種。就容易形成矩形性優異的圖案的理由而言，較佳為顏料。另外，顏料可為有機顏料，亦可為無機顏料。就分光特性的觀點而言，較佳為有機顏料。

再者，本發明中，所謂顏料，是指難以溶解於特定的溶劑的化合物。例如，相對於23℃的丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚、環己酮、環戊酮及二乙二醇單丁醚乙酸酯的任一溶劑，顏料的溶解度較佳為0.1質量%以下，更佳為0.01質量%以下。

若近紅外線吸收化合物A為於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長、所述吸光度Amax/吸光度A550為50~500的化合物，則並無特別限定。例如可列舉：吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸內鎓鹽化合物、酞青化合物、萘酞青化合物、苝化合物、部花青化合物、克酮鎓化合物、氧雜菁化合物、二亞銨化合物、二硫醇化合物、三芳基甲烷化合物、吡咯亞甲基化合物、偶氮甲鹼化合物、蒽醌化合物及二苯并呋喃酮化合物等。其 中，較佳為吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸內鎓鹽化合物、酞青化合物、萘酞青化合物及苝化合物，更佳為吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸內鎓鹽化合物，進而佳為吡咯并吡咯化合物。

另外，近紅外線吸收化合物A亦可使用IRA828、IRA842、IRA848、IRA850、IRA851、IRA866、IRA870、IRA884(依西頓(Exiton)公司製造)，SDO-C33(有本化學工業(股)製造)，艾斯卡拉(EX color)IR-14、艾斯卡拉(EX color)IR-10A、艾斯卡拉(EX color)TX-EX-801B、艾斯卡拉(EX color)TX-EX-805K、艾斯卡拉(EX color)TX-EX-815K(日本觸媒(股)製造)，詩格瑙斯(Shigenox)NIA-8041、詩格瑙斯(Shigenox)NIA-8042、詩格瑙斯(Shigenox)NIA-814、詩格瑙斯(Shigenox)NIA-820、詩格瑙斯(Shigenox)NIA-839(發科路化工(Hakkol Chemical)(股)製造)，依普伊特(Epolite)V-63、依普萊特(Epolight)3801、依普萊特(Epolight)3036(依普林(EPOLIN)公司製造)，PRO-JET825LDI(富士軟片(Fujifilm)(股)製造)，NK-3027、NKX-113、NKX-1199、SMP-363、SMP-387、SMP-388、SMP-389(林原(股)製造)，YKR-3070(三井化學(股)製造)等。

近紅外線吸收劑的所述近紅外線吸收化合物A的含量較佳為60質量%以上。上限可設為100質量%，亦可設為90質量%以下，抑或可設為80質量%以下。下限較佳為70質量%以上，更佳為80質量%以上，進而佳為90質量%以上。

近紅外線吸收劑的顏料的含量較佳為80質量%以上，更佳為90質量%以上，進而佳為95質量%以上。上限亦可設為100質量%。

相對於本發明的組成物的總固體成分，本發明的組成物中的近紅外線吸收劑的含量較佳為20質量%以上。上限較佳為60質量%以下，更佳為50質量%以下。藉由設為該範圍內，可形成具有優異的紅外線遮蔽性且矩形性優異的圖案。再者，於近紅外線吸收劑僅包含所述近紅外線吸收化合物A的情況下，近紅外線吸收劑的含量相當於近紅外線吸收化合物A的含量。另外，於近紅外線吸收劑含有近紅外線吸收化合物A與後述的其他近紅外線吸收化合物的情況下，近紅外線吸收化合物A與後述的其他近紅外線吸收化合物的合計量為近紅外線吸收劑的含量。

相對於本發明的組成物的總固體成分，本發明的組成物中的近紅外線吸收化合物A的含量較佳為20質量%以上。上限較佳為60質量%以下，更佳為50質量%以下。藉由設為該範圍內，可形成具有優異的紅外線遮蔽性且矩形性優異的圖案。

(吡咯并吡咯化合物)

本發明中，吡咯并吡咯化合物較佳為下述式(I)所表示的化合物。下述化合物較佳為具有所述吸光度比的化合物。

[化1]

式(I)中，A¹及A²分別獨立地表示雜芳基，B¹及B²分別獨立地表示-BR¹R²基，R¹及R²分別獨立地表示取代基，R¹與R²可相互鍵結而形成環，C¹及C²分別獨立地表示烷基、芳基、或雜芳基，D¹及D²分別獨立地表示取代基。

式(I)中，A¹及A²分別獨立地表示雜芳基。A¹與A²可為相同的基，亦可為不同的基。A¹與A²較佳為相同的基。

雜芳基較佳為單環或縮合環，且較佳為單環或縮合數為2~8的縮合環，更佳為單環或縮合數為2~4的縮合環。構成雜芳基的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。構成雜芳基的碳原子的個數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12，特佳為3~10。雜芳基較佳為5員環或6員環。

雜芳基較佳為下述式(A-1)所表示的基及下述式(A-2)所表示的基。

[化2]

式(A-1)中，X¹分別獨立地表示O、S、NR^X1或CR^X2R^X3，R^X1~R^X3分別獨立地表示氫原子或取代基，R³及R⁴分別獨立地表示氫原子或取代基，R³與R⁴可相互鍵結而形成環。*表示與式(I)的鍵結位置。

R³、R⁴及R^X1~R^X3所表示的取代基可列舉：烷基、烯基、芳基、雜芳基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜芳氧基羰基、醯氧基、胺基、醯基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、雜芳氧基羰基胺基、磺醯基胺基、胺磺醯基、胺甲醯基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、雜芳基磺醯基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、雜芳基亞磺醯基、脲基、磷酸醯胺基、巰基、磺基、羧基、硝基、羥胺酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基、矽烷基、羥基、鹵素原子、氰基等，較佳為烷基、芳基及鹵素原子。

烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~8。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。烷基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉所述基，例如可列舉鹵素原子、芳基等。

芳基的碳數較佳為6~30，更佳為6~20，進而佳為6~12。 芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉所述基，例如可列舉鹵素原子、烷基等。

鹵素原子可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。

R³與R⁴鍵結而形成的環較佳為芳香族環。於R³與R⁴形成環的情況下，作為式(A-1)所表示的基，可列舉下述的(A-1-1)所表示的基、(A-1-2)所表示的基等。

式中，X¹分別獨立地表示O、S、NR^X1或CR^X2R^X3，R^X1~R^X3分別獨立地表示氫原子或取代基，R¹⁰¹~R¹⁰⁹分別獨立地表示氫原子或取代基。*表示與式(I)的鍵結位置。

式(A-2)中，Y¹~Y⁴分別獨立地表示N或CR^Y1，Y¹~Y⁴的至少兩個為CR^Y1，R^Y1表示氫原子或取代基，鄰接的R^Y1彼此可相互鍵結而形成環。*表示與式(I)的鍵結位置。

R^Y1所表示的取代基可列舉所述取代基，較佳為烷基、芳基及鹵素原子。烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為 1~8。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。烷基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉所述取代基，例如可列舉鹵素原子、芳基等。

芳基的碳數較佳為6~30，更佳為6~20，進而佳為6~12。芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉所述取代基，例如可列舉鹵素原子、烷基等。

鹵素原子可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。

Y¹~Y⁴的至少兩個為CR^Y1，鄰接的R^Y1彼此可相互鍵結而形成環。鄰接的R^Y1彼此鍵結而形成的環較佳為芳香族環。於鄰接的R^Y1彼此形成環的情況下，作為式(A-2)所表示的基，可列舉下述的(A-2-1)~(A-2-5)所表示的基等。

式中，R²⁰¹~R²²⁷分別獨立地表示氫原子或取代基，*表示與式(I)的鍵結位置。

作為A¹及A²的具體例，可列舉以下。以下中，Bu表示丁基。*表示與式(I)的鍵結位置。

[化6]

式(I)中，B¹及B²分別獨立地表示-BR¹R²基，R¹及R²分別獨立地表示取代基。R¹與R²可相互鍵結而形成環。作為取代基，可列舉所述A¹及A²中說明的基，較佳為鹵素原子、烷基、烯基、烷氧基、芳基或雜芳基，更佳為鹵素原子、芳基或雜芳基，進而佳為芳基或雜芳基。R¹與R²可為相同的基，亦可為不同的基。R¹與R²較佳為相同的基。另外，B¹與B²可為相同的基，亦可為不同的基。B¹與B²較佳為相同的基。

鹵素原子較佳為氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，特佳為氟原子。

烷基的碳數較佳為1~40。下限例如更佳為3以上。上限例如更佳為30以下，進而佳為25以下。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

烯基的碳數較佳為2~40。下限例如更佳為3以上，進而佳為5以上，進一步佳為8以上，特佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。烯基可為直鏈、分支、環狀的任一種。

烷氧基的碳數較佳為1~40。下限例如更佳為3以上。上限 例如更佳為30以下，進而佳為25以下。烷氧基可為直鏈、分支、環狀的任一種。

芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉：烷基、烷氧基、鹵素原子等。關於該些的詳細情況，可列舉所述者。

雜芳基可為單環亦可為多環。構成雜芳基的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。構成雜芳基的碳原子的個數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12，特佳為3~5。雜芳基較佳為5員環或6員環。雜芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉：烷基、烷氧基、鹵素原子等。關於該些的詳細情況，可列舉所述者。

-BR¹R²基的R¹與R²亦可相互鍵結而形成環。例如可列舉下述(B-1)~(B-4)所示的結構等。以下中，R表示取代基，R^a1~R^a4分別獨立地表示氫原子或取代基，m1~m3分別獨立地表示0~4的整數，*表示與式(I)的鍵結位置。作為R及R^a1~R^a4所表示的取代基，可列舉R¹及R²中說明的取代基，較佳為鹵素原子及烷基。

[化7]

作為B¹及B²的具體例，可列舉以下。以下中，Me表示甲基，Bu表示丁基。*表示與式(I)的鍵結位置。

式(I)中，C¹及C²分別獨立地表示烷基、芳基、或雜 芳基。C¹與C²可為相同的基，亦可為不同的基。C¹與C²較佳為相同的基。C¹及C²較佳為分別獨立地為芳基、或雜芳基，更佳為芳基。

烷基的碳數較佳為1~40，更佳為1~30，特佳為1~25。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，特佳為分支。

芳基較佳為碳數6~20的芳基，更佳為碳數6~12的芳基。特佳為苯基或萘基。

雜芳基可為單環亦可為多環。構成雜芳基的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。構成雜芳基的碳原子的個數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12。

所述烷基、芳基及雜芳基可具有取代基，亦可未經取代。較佳為具有取代基。

作為取代基，可列舉：可包含氧原子的烴基、胺基、醯基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、雜芳氧基羰基胺基、磺醯基胺基、胺磺醯基、胺甲醯基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、雜芳基磺醯基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、雜芳基亞磺醯基、脲基、磷酸醯胺基、巰基、磺基、羧基、硝基、羥胺酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基、矽烷基、羥基、鹵素原子、氰基等。

作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘 原子等。

作為烴基，可列舉：烷基、烯基、芳基等。

烷基的碳數較佳為1~40。下限更佳為3以上，進而佳為5以上，進一步佳為8以上，特佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，特佳為分支。分支的烷基的碳數較佳為3~40。下限例如更佳為5以上，進而佳為8以上，進一步佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。分支的烷基的分支數例如較佳為2~10，更佳為2~8。

烯基的碳數較佳為2~40。下限例如更佳為3以上，進而佳為5以上，進一步佳為8以上，特佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。烯基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，特佳為分支。分支的烯基的碳數較佳為3~40。下限例如更佳為5以上，進而佳為8以上，進一步佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。分支的烯基的分支數較佳為2~10，更佳為2~8。

芳基的碳數較佳為6~30，更佳為6~20，進而佳為6~12。

作為包含氧原子的烴基，可列舉-L-R^x1所表示的基。

L表示-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-(OR^x2)_m-或-(R^x2O)_m-。R^x1表示烷基、烯基或芳基。R^x2表示伸烷基或伸芳基。m表示2以上的整數，m個R^x2可相同亦可不同。

L較佳為-O-、-(OR^x2)_m-或-(R^x2O)_m-，更佳為-O-。

R^x1所表示的烷基、烯基、芳基的含義與所述者相同，較佳範圍亦相同。R^x1較佳為烷基或烯基，更佳為烷基。

R^x2所表示的伸烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~10，進而佳為1~5。伸烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。R^x2所表示的伸芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。R^x2較佳為伸烷基。

m表示2以上的整數，較佳為2~20，更佳為2~10。

烷基、芳基及雜芳基可具有的取代基較佳為具有分支烷基結構的基。另外，取代基較佳為可包含氧原子的烴基，更佳為包含氧原子的烴基。包含氧原子的烴基較佳為-O-R^x1所表示的基。R^x1較佳為烷基或烯基，更佳為烷基，特佳為分支的烷基。即，取代基更佳為烷氧基，特佳為分支的烷氧基。藉由取代基為烷氧基，容易獲得耐熱性及耐光性優異的膜。烷氧基的碳數較佳為1~40。 下限例如更佳為3以上，進而佳為5以上，進一步佳為8以上，特佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。烷氧基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，特佳為分支。分支的烷氧基的碳數較佳為3~40。下限例如更佳為5以上，進而佳為8以上，進一步佳為10以上。上限更佳為35以下，進而佳為30以下。分支的烷氧基的分支數較佳為2~10，更佳為2~8。

作為C¹及C²的具體例，可列舉以下。以下中，Me表示甲基，Bu表示丁基。*表示與式(I)的鍵結位置。另外，亦可 較佳地使用以下的光學異構體。

[化10]

式(I)中，D¹及D²分別獨立地表示取代基。D¹與D²可為相同的基，亦可為不同的基。D¹與D²較佳為相同的基。

作為取代基，例如可列舉：烷基、烯基、芳基、雜芳基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜芳氧基羰基、醯氧基、胺基、醯基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、雜芳氧基羰基胺基、磺醯基胺基、胺磺醯基、胺甲醯基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、雜芳基磺醯基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、雜芳基亞磺醯基、脲基、磷酸醯胺基、巰基、磺基、羧基、硝基、羥胺酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基、矽烷基、羥基、鹵素原子、氰基等。D¹及D²較佳為拉電子性基。

哈米特(Hammett)的取代基常數σ_p值(sigma para value)為正的取代基作為拉電子基而發揮作用。本發明中，可例示哈米特的σ_p值為0.2以上的取代基作為拉電子基。σ_p值較佳為0.25以上，更佳為0.3以上，特佳為0.35以上。上限並無特別限制，較佳為0.80以下。作為拉電子基的具體例，可列舉：氰基(0.66)、羧基(-COOH：0.45)、烷氧基羰基(例如，-COOMe：0.45)、芳氧基羰基(例如，-COOPh：0.44)、胺甲醯基(例如，-CONH₂：0.36)、烷基羰基(例如，-COMe：0.50)、芳基羰基(例如，-COPh：0.43)、烷基磺醯基(例如，-SO₂Me：0.72)、芳基磺醯基(例如，-SO₂Ph：0.68)等。較佳為氰基、烷基羰基、烷基磺醯基及芳基磺醯基，更佳為氰基。此處，Me表示甲基，Ph表示苯基，括弧內的數值為σ_p值。關於哈米特的σ_p值，可參考日本專利特開2009-263614號公報的段落編號0024~段落編號0025，將該內容併入至本說明書中。

作為D¹及D²的具體例，可列舉以下。*表示與式(I)的鍵結位置。

吡咯并吡咯化合物較佳為下述式(II)所表示的化合物、或下述式(III)所表示的化合物。根據該態樣，容易形成紅外線遮蔽性及耐光性優異的圖案。

式(II)中，X¹及X²分別獨立地表示O、S、NR^X1或CR^X2R^X3，R^X1~R^X3分別獨立地表示氫原子或取代基，R³~R⁶分別獨立地表示氫原子或取代基，R³與R⁴、或R⁵與R⁶可相互鍵結而形成環，B¹及B²分別獨立地表示-BR¹R²基，R¹及R²分別獨立地表示取代基，R¹與R²可相互鍵結而形成環，C¹及C²分別獨立地表示烷基、芳基、或雜芳基，D¹及D²分別獨立地表示取代基。

式(II)的B¹、B²、C¹、C²、D¹及D²的含義與式(I) 的B¹、B²、C¹、C²、D¹及D²相同，較佳範圍亦相同。式(II)的X¹、X²及R³~R⁶的含義與所述式(A-1)的X¹、R³及R⁴相同，較佳範圍亦相同。

式(III)中，Y¹~Y⁸分別獨立地表示N或CR^Y1，Y¹~Y⁴的至少兩個為CR^Y1，Y⁵~Y⁸的至少兩個為CR^Y1，R^Y1表示氫原子或取代基，鄰接的R^Y1彼此可相互鍵結而形成環，B¹及B²分別獨立地表示-BR¹R²基，R¹及R²分別獨立地表示取代基，R¹與R²可相互鍵結而形成環，C¹及C²分別獨立地表示烷基、芳基、或雜芳基，D¹及D²分別獨立地表示取代基。

式(III)的B¹、B²、C¹、C²、D¹及D²的含義與式(I)的B¹、B²、C¹、C²、D¹及D²相同，較佳範圍亦相同。式(III)的Y¹~Y⁸的含義與所述式(A-2)的Y¹~Y⁴相同，較佳範圍亦相同。

作為吡咯并吡咯化合物的具體例，可列舉下述化合物。以下的結構式中，Ph表示苯基，Me表示甲基，Bu表示丁基。另外，作為吡咯并吡咯化合物的具體例，亦可列舉日本專利特開2009-263614號公報的段落編號0049~段落編號0058中記載的化合物，將該內容併入至本說明書中。

[化13]

(方酸內鎓鹽化合物)

本發明中，方酸內鎓鹽化合物較佳為下述式(1)所表示的化合物。下述化合物較佳為具有所述吸光度比的化合物。

式(1)中，A¹及A²分別獨立地表示芳基、雜芳基或下述通式(2)所表示的基；

式(2)中，Z¹表示形成含氮雜環的非金屬原子團，R²表示烷基、烯基或芳烷基，d表示0或1，波浪線表示與式(1)的連結鍵。

式(1)中的A¹及A²分別獨立地表示芳基、雜芳基或式(2)所表示的基，較佳為式(2)所表示的基。

A¹及A²所表示的芳基的碳數較佳為6~48，更佳為6~24，特佳為6~12。作為具體例，可列舉苯基、萘基等。

A¹及A²所表示的雜芳基較佳為5員環或6員環。另外，雜芳基較佳為單環或縮合環，且較佳為單環或縮合數為2~8的縮合環，更佳為單環或縮合數為2~4的縮合環，進而佳為單環或縮合數為2或3的縮合環。作為雜環基中所含的雜原子，可例示氮原子、氧原子、硫原子，較佳為氮原子、硫原子。雜原子的個數較佳為1~3，更佳為1~2。具體而言可列舉自含有氮原子、氧原子及硫原子的至少一者的5員環或6員環等單環、多環芳香族環衍生的雜芳基等。

芳基及雜芳基亦可具有取代基。於芳基及雜芳基具有兩個以上的取代基的情況下，多個取代基可相同亦可不同。

作為取代基，可列舉：鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、芳烷基、-OR¹⁰、-COR¹¹、-COOR¹²、-OCOR¹³、-NR¹⁴R¹⁵、-NHCOR¹⁶、-CONR¹⁷R¹⁸、-NHCONR¹⁹R²⁰、-NHCOOR²¹、-SR²²、-SO₂R²³、-SO₂OR²⁴、-NHSO₂R²⁵或-SO₂NR²⁶R²⁷。R¹⁰~R²⁷分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、或芳烷基。再者，於-COOR¹²的R¹²為氫原子的情況下(即，羧基)，氫原子可解離，亦可為鹽的狀態。另外，於-SO₂OR²⁴的R²⁴為氫原子的情況下(即，磺基)，氫原子可解離，亦可為鹽的狀態。

作為鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。

烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1 ~8。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

烯基的碳數較佳為2~20，更佳為2~12，特佳為2~8。烯基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

炔基的碳數較佳為2~40，更佳為2~30，特佳為2~25。炔基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

芳基的碳數較佳為6~30，更佳為6~20，進而佳為6~12。

芳烷基的烷基部分與所述烷基相同。芳烷基的芳基部分與所述芳基相同。芳烷基的碳數較佳為7~40，更佳為7~30，進而佳為7~25。

雜芳基較佳為單環或縮合環，且較佳為單環或縮合數為2~8的縮合環，更佳為單環或縮合數為2~4的縮合環。構成雜芳基的環的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的環的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。雜芳基較佳為5員環或6員環。構成雜芳基的環的碳原子的個數較佳為3~30，更佳為3~18，進而更佳為3~12。

烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基及雜芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉所述取代基。

其次，對A¹及A²所表示的式(2)所表示的基進行說明。

式(2)中，R²表示烷基、烯基或芳烷基，較佳為烷基。

烷基的碳數較佳為1~30，更佳為1~20，進而佳為1~12，特佳為2~8。

烯基的碳數較佳為2~30，更佳為2~20，進而佳為2~12。

烷基及烯基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

芳烷基的碳數較佳為7~30，更佳為7~20。

式(2)中，由Z¹形成的含氮雜環較佳為5員環或6員環。另外，含氮雜環較佳為單環或縮合環，且較佳為單環或縮合數為2~8的縮合環，更佳為單環或縮合數為2~4的縮合環，進而更佳為縮合數為2或3的縮合環。含氮雜環除氮原子以外亦可包含硫原子。另外，含氮雜環亦可具有取代基。作為取代基，可列舉所述取代基。例如，較佳為鹵素原子、烷基、羥基、胺基、醯基胺基，更佳為鹵素原子及烷基。鹵素原子較佳為氯原子。烷基的碳數較佳為1~30，更佳為1~20，進而佳為1~12。烷基較佳為直鏈或分支。

式(2)所表示的基較佳為下述式(3)或式(4)所表示的基。

[化21]

式(3)及式(4)中，R¹¹表示烷基、烯基或芳烷基，R¹²表示取代基，於m為2以上的情況下，R¹²彼此可連結而形成環，X表示氮原子、或CR¹³R¹⁴，R¹³及R¹⁴分別獨立地表示氫原子或取代基，m表示0~4的整數，波浪線表示與式(1)的連結鍵。

式(3)及式(4)中的R¹¹的含義與式(2)中的R²相同，較佳範圍亦相同。

式(3)及式(4)中的R¹²表示取代基。作為取代基，可列舉所述式(1)中說明的取代基。例如，較佳為鹵素原子、烷基、羥基、胺基、醯基胺基，更佳為鹵素原子、烷基。鹵素原子較佳為氯原子。烷基的碳數較佳為1~30，更佳為1~20，進而佳為1~12。烷基較佳為直鏈或分支。

於m為2以上的情況下，R¹²彼此可連結而形成環。作為環，可列舉脂環(非芳香性的烴環)、芳香環、雜環等。環可為單環，亦可為多環。作為取代基彼此連結而形成環時的連結基，可列舉 選自由-CO-、-O-、-NH-、二價脂肪族基、二價芳香族基、二價不飽和鏈式烴基及該些的組合所組成的群組中的二價連結基。例如，較佳為R¹²彼此連結而形成苯環。

式(3)中的X表示氮原子、或CR¹³R¹⁴，R¹³及R¹⁴分別獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可列舉所述式(1)中說明的取代基。例如可列舉烷基等。烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~10，進而佳為1~5，特佳為1~3，最佳為1。烷基較佳為直鏈或分支，特佳為直鏈。

m表示0~4的整數，較佳為0~2。

再者，式(1)中，陽離子如以下般非定域化地存在。

方酸內鎓鹽染料較佳為下述式(5)所表示的化合物。

環A及環B分別獨立地表示芳香環或雜芳香環，X^A及X^B分別獨立地表示取代基，G^A及G^B分別獨立地表示取代基，kA表示0~nA的整數，kB表示0~nB的整數，nA及nB分別表示可取代於環A或環B的最大整數，X^A與G^A、X^B與G^B可相互鍵結而形成環，於G^A及G^B分別存在多個的情況下，亦可相互鍵結而形成環結構。

G^A及G^B分別獨立地表示取代基。作為取代基，可列舉所述式(1)中說明的取代基。

X^A及X^B分別獨立地表示取代基。取代基可列舉所述式(1)中說明的取代基，較佳為具有活性氫的基，更佳為-OH、-SH、-COOH、-SO₃H、-NR^X1R^X2、-NHCOR^X1、-CONR^X1R^X2、-NHCONR^X1R^X2、-NHCOOR^X1、-NHSO₂R^X1、-B(OH)₂及-PO(OH)₂，進而佳為-OH、-SH及-NR^X1R^X2。

R^X1及R^X2分別獨立地表示氫原子或取代基。作為取代基，可列舉：烷基、烯基、炔基、芳基、或雜芳基，較佳為烷基。烷基較佳為直鏈或分支。關於烷基、烯基、炔基、芳基及雜芳基的詳細情況，與所述取代基一欄中說明的範圍相同。

環A及環B分別獨立地表示芳香環或雜芳香環。

芳香環及雜芳香環可為單環，亦可為縮合環。

作為芳香環及雜芳香環的具體例，可列舉：苯環、萘環、戊搭烯環、茚環、薁環、庚搭烯環、苯并二茚環、苝環、稠五苯環、 苊萘(acenaphthene)環、菲環、蒽環、稠四苯環、

環、三伸苯環、茀環、聯苯環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、咪唑環、噁唑環、噻唑環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、噠嗪環、吲哚嗪環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環、異苯并呋喃環、喹嗪環、喹啉環、酞嗪環、萘啶環、喹噁啉環、喹噁唑啉環、異喹啉環、咔唑環、啡啶環、吖啶環、啡啉環、噻蒽環、苯并哌喃環、呫噸環、啡噁噻環、啡噻嗪環及啡嗪環，較佳為苯環或萘環。

芳香族環可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉所述式(1)中說明的取代基。

X^A與G^A、X^B與G^B可相互鍵結而形成環，於G^A及G^B分別存在多個的情況下，亦可相互鍵結而形成環。

環較佳為5員環或6員環。環可為單環，亦可為多環。

於X^A與G^A、X^B與G^B、G^A彼此或G^B彼此鍵結而形成環的情況下，該些可直接鍵結而形成環，亦可經由選自由伸烷基、-CO-、-O-、-NH-、-BR-及該些的組合所組成的群組中的二價連結基鍵結而形成環。較佳為X^A與G^A、X^B與G^B、G^A彼此或G^B彼此經由-BR-鍵結而形成環。

R表示氫原子或取代基。作為取代基，可列舉所述式(1)中說明的取代基，較佳為烷基或芳基。

kA表示0~nA的整數，kB表示0~nB的整數，nA表示可取代於A環的最大整數，nB表示可取代於B環的最大整數。

kA及kB較佳為分別獨立地為0~4，更佳為0~2，特佳為0 ~1。

作為方酸內鎓鹽染料的一實施形態，可列舉下述式(6)所表示的化合物。該化合物的耐熱性優異。

式中，R¹及R²分別獨立地表示取代基，R³及R⁴分別獨立地表示氫原子、或烷基，X¹及X²分別獨立地表示-O-、或-N(R⁵)-，R⁵表示氫原子、烷基、芳基或雜芳基，Y¹~Y⁴分別獨立地表示取代基，Y¹與Y²、及Y³與Y⁴亦可相互鍵結而形成環，Y¹~Y⁴於分別具有多個的情況下，亦可相互鍵結而形成環，p及s分別獨立地表示0~3的整數，q及r分別獨立地表示0~2的整數。

R¹、R²、Y¹~Y⁴所表示的取代基可列舉所述式(1)中說明的取代基。

R³及R⁴較佳為分別獨立地為氫原子、甲基或乙基，更佳為氫原子或甲基，特佳為氫原子。

X¹及X²分別獨立地表示-O-、或-N(R⁵)-。X¹與X²可相同亦可不同，較佳為相同。

R⁵表示氫原子、烷基、芳基或雜芳基。

R⁵較佳為氫原子、烷基或芳基。R⁵所表示的烷基、芳基及雜芳基可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉所述式(1)中說明的取代基。

烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~10，進而佳為1~4，特佳為1~2。烷基可為直鏈、分支的任一種。

芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~12。

雜芳基可為單環亦可為多環。構成雜芳基的環的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜芳基的環的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。構成雜芳基的環的碳原子的個數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12。

作為方酸內鎓鹽化合物的具體例，可列舉以下所示的化合物。另外，可列舉日本專利特開2011-208101號公報的段落編號0044~段落編號0049中記載的化合物，將該內容併入至本說明書中。

[化25]

(花青化合物)

本發明中，花青化合物較佳為下述式(C)所表示的化合物。下述化合物較佳為具有所述吸光度比的化合物。

式(C)[化26]

式(C)中，Z¹及Z²分別獨立地為形成可縮環的5員或6員的含氮雜環的非金屬原子團，R¹⁰¹及R¹⁰²分別獨立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，L¹表示具有奇數個次甲基的次甲基鏈，a及b分別獨立地為0或1，於a為0的情況下，碳原子與氮原子藉由雙鍵而鍵結，於b為0的情況下，碳原子與氮原子藉由單鍵而鍵結，於式中的Cy所表示的部位為陽離子部的情況下，X¹表示陰離子，c表示用以取得電荷的平衡而所需的個數，於式中的Cy所表示的部位為陰離子部的情況下，X¹表示陽離子，c表示用以取得電荷的平衡而所需的個數，於式中的Cy所表示的部位的電荷在分子內中和的情況下，c為0。

式(C)中，Z¹及Z²分別獨立地表示形成可縮環的5員或6員的含氮雜環的非金屬原子團。於含氮雜環中，其他雜環、芳香族環或脂肪族環亦可進行縮合。含氮雜環較佳為5員環。進 而佳為於5員的含氮雜環上縮合有苯環或萘環的結構。作為含氮雜環的具體例，可列舉：噁唑環、異噁唑環、苯并噁唑環、萘并噁唑環、噁唑并咔唑環、噁唑并二苯并呋喃環、噻唑環、苯并噻唑環、萘并噻唑環、假吲哚環、苯并假吲哚環、咪唑環、苯并咪唑環、萘并咪唑環、喹啉環、吡啶環、吡咯并吡啶環、氟吡咯環、吲哚嗪環、咪唑并喹噁啉環、喹噁啉環等，較佳為喹啉環、假吲哚環、苯并假吲哚環、苯并噁唑環、苯并噻唑環、苯并咪唑環，特佳為假吲哚環、苯并噻唑環、苯并咪唑環。含氮雜環及縮合於其的環可具有取代基。作為取代基，可列舉式(1)中說明的取代基。

式(C)中，R¹⁰¹及R¹⁰²分別獨立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基。

烷基的碳數較佳為1~20，進而佳為1~12，特佳為1~8。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種。

烯基的碳數較佳為2~20，進而佳為2~12，特佳為2~8。烯基可為直鏈、分支、環狀的任一種。

炔基的碳數較佳為2~20，進而佳為2~12，特佳為2~8。炔基可為直鏈、分支、環狀的任一種。

芳基的碳數較佳為6~25，進而佳為6~15，最佳為6~10。芳基可未經取代，亦可具有取代基。

芳烷基的烷基部分與所述烷基相同。芳烷基的芳基部分與所述芳基相同。芳烷基的碳數較佳為7~40，更佳為7~30，進而佳 為7~25。

烷基、烯基、炔基、芳烷基及芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列舉：鹵素原子、羥基、羧基、磺基、烷氧基、胺基等，較佳為羧基及磺基，特佳為磺基。羧基及磺基的氫原子可解離，亦可為鹽的狀態。

式(C)中，L¹表示具有奇數個次甲基的次甲基鏈。L¹較佳為具有3個、5個或7個次甲基的次甲基鏈。

次甲基可具有取代基。具有取代基的次甲基較佳為中央的(間位的)次甲基。作為取代基的具體例，可列舉Z¹及Z²的含氮雜環可具有的取代基、及下述式(a)所表示的基等。另外，次甲基鏈的兩個取代基亦可鍵結而形成5員環或6員環。

式(a)中，*表示與次甲基鏈的連結部，A¹表示-O-。

式(C)中，a及b分別獨立地為0或1。於a為0的情況下，碳原子與氮原子藉由雙鍵而鍵結，於b為0的情況下，碳原子與氮原子藉由單鍵而鍵結。a及b較佳為均為0。再者，於a及b均為0的情況下，式(C)如以下般表示。

式(C)中，於式中的Cy所表示的部位為陽離子部的情況下，X¹表示陰離子，c表示用以取得電荷的平衡而所需的個數。作為陰離子的例子，可列舉：鹵化物離子(Cl^-、Br^-、I^-)、對甲苯磺酸根離子、乙基硫酸根離子、PF₆ ^-、BF₄ ^-、ClO₄ ^-、三(鹵代烷基磺醯基)甲基化物陰離子(例如，(CF₃SO₂)₃C^-)、二(鹵代烷基磺醯基)醯亞胺陰離子(例如(CF₃SO₂)₂N^-)、四氰基硼酸鹽陰離子等。

式(C)中，於式中的Cy所表示的部位為陰離子部的情況下，X¹表示陽離子，c表示用以取得電荷的平衡而所需的個數。作為陽離子，可列舉：鹼金屬離子(Li⁺、Na⁺、K⁺等)、鹼土金屬離子(Mg²⁺、Ca²⁺、Ba²⁺、Sr²⁺等)、過渡金屬離子(Ag⁺、Fe²⁺、Co²⁺、Ni²⁺、Cu²⁺、Zn²⁺等)、其他金屬離子(Al³⁺等)、銨離子、三乙基銨離子、三丁基銨離子、吡啶鎓離子、四丁基銨離子、胍鎓離子、四甲基胍鎓離子、二氮雜雙環十一烯鎓離子等。陽離子較佳為Na⁺、K⁺、Mg²⁺、Ca²⁺、Zn²⁺、二氮雜雙環十一烯鎓離子。

式(C)中，於式中的Cy所表示的部位的電荷在分子內中和的情況下，X¹不存在。即，c為0。

花青化合物亦較佳為下述式(C-1)~式(C-3)所表示 的化合物。

式中，R^1A、R^2A、R^1B及R^2B分別獨立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，L^1A及L^1B分別獨立地表示具有奇數個次甲基的次甲基鏈，Y¹及Y²各自獨立地表示-S-、-O-、-NR^X1-或-CR^X2R^X3-， R^X1、R^X2及R^X3各自獨立地表示氫原子或烷基，V^1A、V^2A、V^1B及V^2B分別獨立地表示取代基，m1及m2分別獨立地表示0~4，於式中的Cy所表示的部位為陽離子部的情況下，X¹表示陰離子，c表示用以取得電荷的平衡而所需的個數，於式中的Cy所表示的部位為陰離子部的情況下，X¹表示陽離子，c表示用以取得電荷的平衡而所需的個數，於式中的Cy所表示的部位的電荷在分子內中和的情況下，X¹不存在。

R^1A、R^2A、R^1B及R^2B所表示的基的含義與式(C)的R¹⁰¹及R¹⁰²中說明的烷基、烯基、炔基、芳烷基及芳基相同，較佳範圍亦相同。該些基可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉：鹵素原子、羥基、羧基、磺基、烷氧基、胺基等，較佳為羧基及磺基，特佳為磺基。羧基及磺基的氫原子可解離，亦可為鹽的狀態。於R^1A、R^2A、R^1B及R^2B表示烷基的情況下，更佳為直鏈的烷基。

Y¹及Y²各自獨立地表示-S-、-O-、-NR^X1-或-CR^X2R^X3-，較佳為-NR^X1-。R^X1、R^X2及R^X3各自獨立地表示氫原子或烷基，較佳為烷基。烷基的碳數較佳為1~10，更佳為1~5，特佳為1~3。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支，特佳為直鏈。烷基特佳為甲基或乙基。

L^1A及L^1B的含義與式(C)的L¹相同，較佳範圍亦相 同。

V^1A、V^2A、V^1B及V^2B所表示的取代基可列舉所述取代基，較佳範圍亦相同。

m1及m2分別獨立地表示0~4，較佳為0~2。

X¹所表示的陰離子及陽離子與式(C)的X¹中說明的範圍相同，較佳範圍亦相同。

作為花青化合物的具體例，可列舉以下所示的化合物。另外，可列舉日本專利特開2015-172004號公報及日本專利特開2015-172102號公報中記載的化合物。

[化30]

[化31]

(其他近紅外線吸收化合物)

近紅外線吸收劑亦可進而包含所述近紅外線吸收化合物A以外的近紅外線吸收化合物(亦稱為其他近紅外線吸收化合物)。

其他近紅外線吸收化合物可為顏料，亦可為染料。就容易形成矩形性優異的圖案的理由而言，較佳為顏料。另外，顏料可為無機顏料，亦可為有機顏料。

作為其他近紅外線吸收化合物，例如可列舉：酞青化合物、萘酞青化合物、苝化合物、部花青化合物、克酮鎓化合物、氧雜菁化合物、二亞銨化合物、二硫醇化合物、三芳基甲烷化合物、吡咯亞甲基化合物、偶氮甲鹼化合物、蒽醌化合物及二苯并呋喃酮化合物等。作為酞青化合物，可列舉酞青氧鈦顏料等。另外，酞青化合物、萘酞青化合物、二亞銨化合物及克酮鎓化合物亦可使用日本專利特開2010-111750號公報的段落編號0010~段落編號0081中揭示的化合物，將該內容併入至本說明書中。另外，亦可使用IRA868(依西頓(Exiton)公司製造)、IRG-068(日本化藥(股)製造)等。

另外，作為其他近紅外線吸收化合物，亦可使用無機顏料。就紅外線遮蔽性更優異的方面而言，無機顏料較佳為金屬氧化物粒子或金屬粒子。作為金屬氧化物粒子，例如可列舉：氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)粒子、氧化銻錫(Antimony Tin Oxide，ATO)粒子、氧化鋅(ZnO)粒子、摻鋁氧化鋅(Al-doped ZnO)粒子、摻氟二氧化錫(F-doped SnO₂)粒子、摻鈮二氧化鈦(Nb-doped TiO₂)粒子等。作為金屬粒子，例如可列舉：銀(Ag)粒子、金(Au)粒子、銅(Cu)粒子、鎳(Ni)粒子等。無機顏料的形狀並無特別限制，不限於球狀、非球狀，亦可為片狀、線 狀、管狀。

另外，作為無機顏料，亦可使用氧化鎢系化合物，具體而言，較佳為下述式(W-1)所表示的氧化鎢系化合物。

M_xW_yO_z．．．(W-1)

M表示金屬，W表示鎢，O表示氧。

0.001≦x/y≦1.1 2.2≦z/y≦3.0

作為M所表示的金屬，可列舉：鹼金屬、鹼土金屬、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Sn、Pb、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi，較佳為鹼金屬，更佳為Rb或Cs，特佳為Cs。M的金屬可為一種，亦可為兩種以上。

藉由x/y為0.001以上，可充分地遮蔽紅外線，藉由x/y為1.1以下，可更可靠地避免於氧化鎢系化合物中生成雜質相。

藉由z/y為2.2以上，可進一步提高作為材料的化學穩定性，藉由z/y為3.0以下，可充分地遮蔽紅外線。

作為氧化鎢系化合物的具體例，可列舉：Cs_0.33WO₃、Rb_0.33WO₃、K_0.33WO₃、Ba_0.33WO₃等，較佳為Cs_0.33WO₃或 Rb_0.33WO₃，進而佳為Cs_0.33WO₃。

氧化鎢系化合物例如可作為住友金屬礦山(股)製造的YMF-02、YMS-01A-2等鎢微粒子的分散物而獲取。

無機顏料的平均粒徑較佳為800nm以下，更佳為400nm以下，進而佳為200nm以下。藉由無機顏料的平均粒徑為此種範圍，可使可見光區域中的透光性變得更可靠。就避免光散射的觀點而言，平均粒徑越小越佳，但就製造時的處理容易性等理由而言，無機顏料的平均粒徑的下限為1nm以上。

於近紅外線吸收劑含有其他近紅外線吸收化合物的情況下，相對於近紅外線吸收化合物A的100質量份，其他近紅外線吸收化合物的含量較佳為0.1質量份~80質量份，更佳為5質量份~60質量份，進而佳為10質量份~40質量份。

<<彩色著色劑>>

本發明的組成物可含有彩色著色劑。本發明中，所謂彩色著色劑，是指白色著色劑及黑色著色劑以外的著色劑。彩色著色劑較佳為於波長400nm以上且未滿650nm的範圍內具有吸收的著色劑。本發明中，彩色著色劑可為顏料，亦可為染料。

顏料較佳為有機顏料，可列舉以下者。但是，本發明中可使用的顏料並不限定於該些。

染料索引(Colour Index，C.I.)顏料黃(Pigment Yellow)1、C.I.顏料黃2、C.I.顏料黃3、C.I.顏料黃4、C.I.顏料黃5、C.I.顏料黃6、C.I.顏料黃10、C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃12、C.I.顏料黃 13、C.I.顏料黃14、C.I.顏料黃15、C.I.顏料黃16、C.I.顏料黃17、C.I.顏料黃18、C.I.顏料黃20、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃31、C.I.顏料黃32、C.I.顏料黃34、C.I.顏料黃35、C.I.顏料黃35：1、C.I.顏料黃36、C.I.顏料黃36：1、C.I.顏料黃37、C.I.顏料黃37：1、C.I.顏料黃40、C.I.顏料黃42、C.I.顏料黃43、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃55、C.I.顏料黃60、C.I.顏料黃61、C.I.顏料黃62、C.I.顏料黃63、C.I.顏料黃65、C.I.顏料黃73、C.I.顏料黃74、C.I.顏料黃77、C.I.顏料黃81、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃86、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃94、C.I.顏料黃95、C.I.顏料黃97、C.I.顏料黃98、C.I.顏料黃100、C.I.顏料黃101、C.I.顏料黃104、C.I.顏料黃106、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃113、C.I.顏料黃114、C.I.顏料黃115、C.I.顏料黃116、C.I.顏料黃117、C.I.顏料黃118、C.I.顏料黃119、C.I.顏料黃120、C.I.顏料黃123、C.I.顏料黃125、C.I.顏料黃126、C.I.顏料黃127、C.I.顏料黃128、C.I.顏料黃129、C.I.顏料黃137、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃148、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃152、C.I.顏料黃153、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃156、C.I.顏料黃161、C.I.顏料黃162、C.I.顏料黃164、C.I.顏料黃166、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃168、C.I.顏料黃169、C.I.顏料黃170、C.I.顏料黃171、C.I.顏料黃172、C.I.顏料黃173、C.I.顏料黃174、C.I.顏料黃175、C.I.顏料黃176、C.I.顏料黃177、C.I.顏料黃179、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃181、C.I.顏料黃182、 C.I.顏料黃185、C.I.顏料黃187、C.I.顏料黃188、C.I.顏料黃193、C.I.顏料黃194、C.I.顏料黃199、C.I.顏料黃213、C.I.顏料黃214等(以上為黃色顏料)，C.I.顏料橙(Pigment Orange)2、C.I.顏料橙5、C.I.顏料橙13、C.I.顏料橙16、C.I.顏料橙17：1、C.I.顏料橙31、C.I.顏料橙34、C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙43、C.I.顏料橙46、C.I.顏料橙48、C.I.顏料橙49、C.I.顏料橙51、C.I.顏料橙52、C.I.顏料橙55、C.I.顏料橙59、C.I.顏料橙60、C.I.顏料橙61、C.I.顏料橙62、C.I.顏料橙64、C.I.顏料橙71、C.I.顏料橙73等(以上為橙色顏料)，C.I.顏料紅(Pigment Red)1、C.I.顏料紅2、C.I.顏料紅3、C.I.顏料紅4、C.I.顏料紅5、C.I.顏料紅6、C.I.顏料紅7、C.I.顏料紅9、C.I.顏料紅10、C.I.顏料紅14、C.I.顏料紅17、C.I.顏料紅22、C.I.顏料紅23、C.I.顏料紅31、C.I.顏料紅38、C.I.顏料紅41、C.I.顏料紅48：1、C.I.顏料紅48：2、C.I.顏料紅48：3、C.I.顏料紅48：4、C.I.顏料紅49、C.I.顏料紅49：1、C.I.顏料紅49：2、C.I.顏料紅52：1、C.I.顏料紅52：2、C.I.顏料紅53：1、C.I.顏料紅57：1、C.I.顏料紅60：1、C.I.顏料紅63：1、C.I.顏料紅66、C.I.顏料紅67、C.I.顏料紅81：1、C.I.顏料紅81：2、C.I.顏料紅81：3、C.I.顏料紅83、C.I.顏料紅88、C.I.顏料紅90、C.I.顏料紅105、C.I.顏料紅112、C.I.顏料紅119、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅123、C.I.顏料紅144、C.I.顏料紅146、C.I.顏料紅149、C.I.顏 料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅166、C.I.顏料紅168、C.I.顏料紅169、C.I.顏料紅170、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅172、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅178、C.I.顏料紅179、C.I.顏料紅184、C.I.顏料紅185、C.I.顏料紅187、C.I.顏料紅188、C.I.顏料紅190、C.I.顏料紅200、C.I.顏料紅202、C.I.顏料紅206、C.I.顏料紅207、C.I.顏料紅208、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅210、C.I.顏料紅216、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅226、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅246、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料紅270、C.I.顏料紅272、C.I.顏料紅279等(以上為紅色顏料)，C.I.顏料綠(Pigment Green)7、C.I.顏料綠10、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58、C.I.顏料綠59等(以上為綠色顏料)，C.I.顏料紫(Pigment Violet)1、C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫27、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫37、C.I.顏料紫42等(以上為紫色顏料)，C.I.顏料藍(Pigment Blue)1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：2、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍64、C.I.顏料藍66、C.I.顏料藍79、C.I.顏料藍80等(以上為藍色顏料)。

該些有機顏料可單獨使用或者將各種有機顏料組合使用。

染料並無特別限制，可使用公知的染料。作為化學結構，可使用吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、苯亞甲基系、氧雜菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑偶氮甲鹼(pyrrolopyrazole azomethine)系、呫噸系、酞青系、苯并吡喃系、靛藍系、吡咯亞甲基系等染料。另外，亦可使用該些染料的多聚體。另外，亦可使用日本專利特開2015-028144號公報、日本專利特開2015-34966號公報中記載的染料。

<<透過紅外區域的光的至少一部分且遮蔽可見區域的光的有色材料(遮蔽可見光的有色材料)>>

本發明的組成物亦可含有透過紅外區域的光的至少一部分且遮蔽可見區域的光的有色材料(以下，亦稱為遮蔽可見光的有色材料)。

遮蔽可見光的有色材料較佳為滿足以下的(1)及(2)的至少一個的要件，進而佳為滿足(1)的要件。

(1)：包含兩種以上的彩色著色劑的態樣。

(2)：包含有機系黑色著色劑的態樣。

<<顏料衍生物>>

本發明的組成物於包含顏料的情況下，可進而含有顏料衍生物。顏料衍生物較佳為具有顏料的一部分經酸性基、鹼性基或鄰苯二甲醯亞胺甲基取代而成的結構的化合物，進而佳為下述式(B1)所表示的顏料衍生物。

式(B1)中，P表示色素結構，L表示單鍵或連結基，X表示酸性基、鹼性基、具有鹽結構的基或鄰苯二甲醯亞胺基，m表示1以上的整數，n表示1以上的整數，於m為2以上的情況下，多個L及X可相互相同亦可不同，於n為2以上的情況下，多個X可相互相同亦可不同。

式(B1)中，P表示色素結構，較佳為選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構、蒽醌色素結構、二蒽醌色素結構、苯并異吲哚色素結構、噻嗪靛藍色素結構、偶氮色素結構、喹酞酮色素結構、酞青色素結構、萘酞青色素結構、二噁嗪色素結構、苝色素結構、紫環酮色素結構、苯并咪唑酮色素結構、苯并噻唑色素結構、苯并咪唑色素結構及苯并噁唑色素結構中的至少一種，進而佳為選自吡咯并吡咯色素結構、二酮基吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構及苯并咪唑酮色素結構中的至少一種，特佳為吡咯并吡咯色素結構。

另外，P所表示的色素結構較佳為源自近紅外線吸收化合物的色素結構，更佳為與近紅外線吸收劑中所含的近紅外線吸收化合物共通的骨架的色素結構。例如，於使用吡咯并吡咯化合物作為近紅外線吸收化合物的情況下，P所表示的色素結構較佳為吡咯 并吡咯色素結構。

式(B1)中，L表示單鍵或連結基。連結基較佳為包括1個~100個碳原子、0個~10個氮原子、0個~50個氧原子、1個~200個氫原子及0個~20個硫原子的基，可未經取代亦可進而具有取代基。

式(B1)中，X表示酸性基、鹼性基、具有鹽結構的基或鄰苯二甲醯亞胺基。

作為顏料衍生物的具體例，可列舉下述化合物。另外，亦可使用日本專利特開昭56-118462號公報、日本專利特開昭63-264674號公報、日本專利特開平1-217077號公報、日本專利特開平3-9961號公報、日本專利特開平3-26767號公報、日本專利特開平3-153780號公報、日本專利特開平3-45662號公報、日本專利特開平4-285669號公報、日本專利特開平6-145546號公報、日本專利特開平6-212088號公報、日本專利特開平6-240158號公報、日本專利特開平10-30063號公報、日本專利特開平10-195326號公報、國際公開WO2011/024896號手冊的段落編號0086~段落編號0098、國際公開WO2012/102399號手冊的段落編號0063~段落編號0094等中記載的化合物，將該內容併入至本說明書中。

[化33]

[化34]

[化35]

[化36]

[化37]

於本發明的組成物含有顏料衍生物的情況下，相對於組成物中所含的顏料100質量份，顏料衍生物的含量較佳為1質量份~50質量份。下限值較佳為3質量份以上，更佳為5質量份以上。上限值較佳為40質量份以下，更佳為30質量份以下。若顏料衍生物的含量為所述範圍，則可提高顏料的分散性，且可效率良好地抑制粒子的凝聚。顏料衍生物可僅為一種，亦可為兩種以上，於為兩種以上的情況下，較佳為合計量成為所述範圍。

<<自由基聚合性化合物>>

本發明的組成物含有自由基聚合性化合物(以下，亦稱為聚合性化合物)。聚合性化合物只要為可藉由自由基的作用而聚合的化合物即可，並無特別限定。聚合性化合物較佳為具有1個以上的含有乙烯性不飽和鍵的基等自由基聚合性基的化合物，更佳為具有2個以上的自由基聚合性基的化合物，進而佳為具有3個以上的自由基聚合性基。自由基聚合性基的個數的上限例如較佳為15個以下，更佳為6個以下。作為具有乙烯性不飽和鍵的基，可列舉乙烯基、苯乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等，較佳為(甲基)丙烯醯基。

聚合性化合物可為單體、聚合物的任一形態，較佳為單體。單體型的聚合性化合物的分子量較佳為200~3000。分子量的上限較佳為2500以下，進而佳為2000以下。分子量的下限較佳為250以上，進而佳為300以上。

作為聚合性化合物的例子，可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落編號0033~段落編號0034的記載，將該內容併入至本說明書中。所述化合物較佳為乙烯氧基改質季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為NK酯(NK Ester)ATM-35E；新中村化學工業(股)製造)、二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-330；日本化藥(股)製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-320；日本化藥(股)製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-310；日本化藥(股)製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA，日本化藥(股)製造；A-DPH-12E，新中村化學工業(股)製造)、及該些的(甲基)丙烯醯基介隔乙二醇殘基、丙二醇殘基而鍵結的結構的化合物。另外，亦可使用該些的寡聚物類型。另外，可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落編號0034~段落編號0038的聚合性化合物的記載，將該內容併入至本說明書中。另外，可列舉日本專利特開2012-208494號公報的段落編號0477(相對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0585])中記載的聚合性單體等，將該些內容併入至本說明書中。

另外，較佳為二甘油環氧乙烷(Ethylene Oxide，EO)改質(甲基)丙烯酸酯(市售品為M-460；東亞合成(股)製造)。季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學工業(股)製造，A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(日本化藥(股)製造，卡亞拉得(KAYARAD)HDDA)亦較佳。亦可使用該些的寡聚物類型。例如可列舉RP-1040(日本化藥(股)製造)等。

作為聚合性化合物，亦可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基，例如可較佳地列舉具有酸基的乙烯性不飽和化合物類。具有酸基的聚合性化合物可利用將多官能醇的一部分羥基(甲基)丙烯酸酯化，使酸酐與殘餘的羥基進行加成反應而形成羧基等的方法來獲得。另外，亦可使非芳香族羧酸酐等與所述羥基反應而導入酸基。作為非芳香族羧酸酐的具體例，可列舉：四氫鄰苯二甲酸酐、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、丁二酸酐、馬來酸酐。

具有酸基的聚合性化合物較佳為脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸的酯，更佳為使非芳香族羧酸酐與脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基進行反應而加成酸基的聚合性化合物，進而佳為於所述酯中脂肪族多羥基化合物為季戊四醇及二季戊四醇中的至少一者的化合物。作為市售品，可列舉：阿羅尼斯(Aronix)M-510、M-520(東亞合成(股)製造)，CBX-0、CBX-1(新中村化學工業(股)製造)等。具有酸基的聚合性化合物的酸價較佳為0.1mgKOH/g~40mgKOH/g。下限較佳為5mgKOH/g以上。上 限較佳為30mgKOH/g以下。

具有酸基的聚合性化合物較佳為下述通式(1)所表示的化合物。

通式(1)(A)_n1-L-(Ac)_n2

(通式(1)中，A表示羥基，L為至少包含碳原子及氫原子的(n1+n2)價的基，Ac表示(甲基)丙烯醯氧基。n1表示1以上的整數，n2表示1以上的整數)

A所表示的酸基可列舉羧基、磺基、磷酸基等，較佳為羧基。

L表示至少包含碳原子及氫原子的(n1+n2)價的基。例如可列舉：-CH₂-、-O-、-S-、-C(=O)-、-COO-、-NR-、-CONR-、-OCO-、-SO-、-SO₂-及將該些的兩個以上連結而形成的基。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、或雜芳基。L較佳為至少包含-CH₂-的基。構成L的碳原子的個數較佳為3~100，更佳為6~50。

n1較佳為1或2，更佳為1。n2較佳為1~6，更佳為2~5。

具有酸基的聚合性化合物較佳為下述通式(11)或通式(12)所表示的化合物。

[化38]

通式(11)中，R¹、T¹及X¹各自獨立地表示作為R¹、T¹、或X¹而以下所示的基的任一個。n表示0~14的整數。

通式(12)中，Z¹及G¹各自獨立地表示作為Z¹或G¹ 而以下所示的基的任一個。W¹的含義與通式(11)中R¹或X¹所表示的基相同，存在6個的W¹中的3個以上表示與R¹中列舉的基相同的基，1個以上表示與X¹中列舉的基相同的基。p表示0~14的整數。

於通式(11)或通式(12)所表示的化合物中，更佳為使用季戊四醇衍生物及二季戊四醇衍生物中的至少一者。

關於聚合性化合物，具有己內酯結構的化合物亦為較佳態樣。作為具有己內酯結構的化合物，只要於分子內具有己內酯結構，則並無特別限定，例如可列舉藉由將三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油(glycerin)、二丙三醇(diglycerol)、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與(甲基)丙烯酸及ε-己內酯加以酯化而獲得的ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯。作為具有己內酯結構的化合物，可參考日本專利特開2013-253224號公報的段落編 號0042~段落編號0045的記載，將該內容併入至本說明書中。具有己內酯結構的化合物例如可列舉：作為卡亞拉得(KAYARAD)DPCA系列而由日本化藥(股)市售的DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等；沙多瑪(Sartomer)公司製造的作為具有四個伸乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯的SR-494、作為具有三個伸異丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯的TPA-330等。

關於聚合性化合物，如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中所記載的胺基甲酸酯丙烯酸酯類，或日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本專利特公昭62-39418號公報中記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類亦較佳。另外，可使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中所記載的於分子內具有胺基結構或硫醚結構的加成聚合性化合物類。

作為市售品，可列舉：胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策紙漿(Sanyo Kokusaku Pulp)(股)製造)，UA-7200(新中村化學工業(股)製造)，DPHA-40H(日本化藥(股)製造)，UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600、萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)DCP-A(共榮社化學(股)製造)等。

另外，聚合性化合物可較佳地使用阿羅尼斯(Aronix)M-215、M-305、M-313、M-315(東亞合成(股)製造)，SR-368(沙多瑪(Sartomer)公司製造)，A-9300(新中村化學工業(股)製造)等異氰脲酸環氧乙烷(EO)改質單體。

本發明的組成物中，於組成物的總固體成分中，聚合性化合物的含量較佳為10質量%~35質量%。下限較佳為12質量%以上，更佳為14質量%以上。上限較佳為33質量%以下，更佳為30質量%以下。

<<光自由基聚合起始劑>>

本發明的組成物含有光自由基聚合起始劑(以下，亦稱為光聚合起始劑)。光聚合起始劑並無特別限制，可自公知的光聚合起始劑中適宜選擇。例如較佳為對紫外線區域至可見區域的光線具有感光性者。光聚合起始劑較佳為光自由基聚合起始劑。另外，光聚合起始劑較佳為含有至少一種於約300nm~800nm(更佳為330nm~500nm)的範圍內具有至少約50的莫耳吸光係數的化合物。

作為光聚合起始劑，例如可列舉：鹵化烴衍生物(例如，具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等)、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。作為具有三嗪骨架的鹵化烴化合物，例如可列舉：若林等著，「日本化學學會通報(Bull.Chem.Soc.Japan)」,42， 2924(1969)中記載的化合物，英國專利1388492號說明書中記載的化合物，日本專利特開昭53-133428號公報中記載的化合物，德國專利3337024號說明書中記載的化合物，F.C.謝弗(F.C.Schaefer)著的「有機化學期刊(J.Org.Chem.)」，29，1527(1964)中記載的化合物，日本專利特開昭62-58241號公報中記載的化合物，日本專利特開平5-281728號公報中記載的化合物，日本專利特開平5-34920號公報中記載的化合物，美國專利第4212976號說明書中所記載的化合物等。

另外，就曝光感度的觀點而言，較佳為選自由三鹵甲基三嗪化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚體、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物所組成的群組中的化合物。另外，亦可使用2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑(市售品為B-CIM，保土谷化學工業(股)製造)等。

作為α-胺基酮化合物，可列舉下述式(AK-1)所表示的化合物。

[化42]

式中，Ar表示經-SR¹³或-N(R^7E)(R^8E)取代的苯基，R¹³表示氫原子或烷基。

R^1D及R^2D分別獨立地表示碳數1~8的烷基。R^1D與R^21D可相互鍵結而構成碳數2~9的伸烷基。

R^1D及R^2D所表示的烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

R^1D及R^2D所表示的烷基可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉：芳基、雜環基、硝基、氰基、鹵素原子、-OR^Y1、-SR^Y1、-COR^Y1、-COOR^Y1、-OCOR^Y1、-NR^Y1R^Y2、-NHCOR^Y1、-CONR^Y1R^Y2、-NHCONR^Y1R^Y2、-NHCOOR^Y1、-SO₂R^Y1、-SO₂OR^Y1、-NHSO₂R^Y1等。R^Y1及R^Y2分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基。該些中，R^1D及R^2D所表示的烷基的取代基較佳為芳基。特佳為R^1D及R^2D的任一者為未經取代的烷基，另一者為經芳基取代的烷基。

鹵素原子可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。

R^Y1及R^Y2所表示的烷基的碳數較佳為1~20。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。

作為取代基的芳基以及R^Y1及R^Y2所表示的芳基的碳數較佳 為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。芳基可為單環，亦可為縮合環。

R^Y1及R^Y2所表示的雜環基較佳為5員環或6員環。雜環基可為單環，亦可為縮合環。構成雜環基的碳原子的個數較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12。構成雜環基的雜原子的個數較佳為1~3。構成雜環基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子。

R^3D及R^4D分別獨立地表示氫原子、碳數1~12的烷基、經碳數1~4的烷氧基取代的碳數2~4的烷基、或碳數3~5的烯基。R^3D與R^4D可相互鍵結而形成環。

R^7E及R^8E分別獨立地表示氫原子、碳數1~12的烷基、經碳數1~4的烷氧基取代的碳數2~4的烷基、或碳數3~5的烯基。R^7E與R^8E可相互鍵結而形成環。

作為式(AK-1)所表示的化合物的例子，可列舉：2-甲基-1-苯基-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(己基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-乙基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮-1、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮等。

作為α-胺基酮化合物的市售品，可列舉：豔佳固(IRGACURE)907、豔佳固(IRGACURE)369及豔佳固(IRGACURE)379(商品名，均為巴斯夫(BASF)公司製造)等。

光聚合起始劑亦可較佳地使用α-羥基酮化合物及醯基 膦化合物。作為α-羥基酮化合物，可使用豔佳固(IRGACURE)184、達羅卡(DAROCUR)1173、豔佳固(IRGACURE)500、豔佳固(IRGACURE)2959、豔佳固(IRGACURE)127(商品名，均為巴斯夫(BASF)公司製造)。作為醯基膦化合物，可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)819或豔佳固(IRGACURE)TPO(商品名，均為巴斯夫(BASF)公司製造)。

光聚合起始劑亦較佳為使用肟化合物。作為肟化合物的具體例，可使用日本專利特開2001-233842號公報中記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報中記載的化合物、日本專利特開2006-342166號公報中記載的化合物、日本專利特開2016-21012號公報中記載的化合物。

本發明中，作為可較佳地使用的肟化合物，例如可列舉：3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。另外，亦可列舉「英國化學會志-普爾金會刊II(J.C.S.Perkin II)」((1979年)第1653-1660頁)、「英國化學會志-普爾金會刊II(J.C.S.Perkin II)」((1979年)第156-162頁)、「光聚合物科學與技術期刊(Journal of Photopolymer Science and Technology)」((1995年)第202-232頁)、日本專利特開2000-66385號公報中記載的化合物、日本專利特開2000-80068號 公報、日本專利特表2004-534797號公報、日本專利特開2006-342166號公報的各公報中記載的化合物等。市售品中亦可較佳地使用豔佳固(IRGACURE)OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)、豔佳固(IRGACURE)OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)。另外，可使用TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製造)、艾迪科阿克魯茲(Adeka Arkls)NCI-930(艾迪科(ADEKA)(股)製造)。

另外，作為所述記載以外的肟化合物，亦可使用於咔唑環的N位連結有肟的日本專利特表2009-519904號公報中記載的化合物、於二苯甲酮部位導入有雜取代基的美國專利第7626957號公報中記載的化合物、於色素部位導入有硝基的日本專利特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號公報中記載的化合物、國際公開2009/131189號公報中記載的酮肟化合物、於同一分子內含有三嗪骨架與肟骨架的美國專利7556910號公報中記載的化合物、於405nm下具有最大吸收波長且對g射線光源具有良好的感度的日本專利特開2009-221114號公報中記載的化合物、日本專利特開2014-137466號公報的段落編號0076~段落編號0079中所記載的化合物等。

較佳為例如可參考日本專利特開2013-29760號公報的段落編號0274~段落編號0275，並將該內容併入至本說明書中。

具體而言，肟化合物較佳為下述式(OX-1)所表示的化合物。肟化合物可為肟的N-O鍵為(E)體的肟化合物，亦可為肟的N-O 鍵為(Z)體的肟化合物，抑或可為(E)體與(Z)體的混合物。

式(OX-1)中，R及B各自獨立地表示一價取代基，A表示二價有機基，Ar表示芳基。

式(OX-1)中，R所表示的一價取代基較佳為一價的非金屬原子團。

作為一價的非金屬原子團，可列舉：烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。另外，該些基亦可具有一個以上的取代基。另外，所述取代基亦可進一步經其他取代基取代。

作為取代基，可列舉：鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。

式(OX-1)中，B所表示的一價取代基較佳為芳基、雜環基、芳基羰基、或雜環羰基。該些基可具有一個以上的取代基。作為取代基，可例示所述取代基。

式(OX-1)中，A所表示的二價有機基較佳為碳數1~12的伸烷基、伸環烷基、伸炔基。該些基可具有一個以上的取代基。作為取代基，可例示所述取代基。

本發明中亦可使用具有茀環的肟化合物作為光聚合起始劑。作為具有茀環的肟化合物的具體例，可列舉日本專利特開2014-137466號公報中記載的化合物。將該內容併入至本說明書中。

本發明中亦可使用具有氟原子的肟化合物作為光聚合起始劑。作為具有氟原子的肟化合物的具體例，可列舉日本專利特開2010-262028號公報中記載的化合物、日本專利特表2014-500852號公報中記載的化合物24、化合物36~化合物40、日本專利特開2013-164471號公報中記載的化合物(C-3)等。將該內容併入至本說明書中。

本發明中可使用具有硝基的肟化合物作為光聚合起始劑。具有硝基的肟化合物亦較佳為設為二聚體。作為具有硝基的肟化合物的具體例，可列舉日本專利特開2013-114249號公報的段落編號0031~段落編號0047、日本專利特開2014-137466號公報的段落編號0008~段落編號0012、段落編號0070~段落編號0079中所記載的化合物、日本專利4223071號公報的段落編號0007~段落編號0025中所記載的化合物、艾迪科阿克魯茲(Adeka Arkls)NCI-831(艾迪科(ADEKA)(股)製造)。

以下示出本發明中可較佳地使用的肟化合物的具體例，但本發明並不限定於該些。

[化44]

[化45]

肟化合物較佳為於350nm~500nm的波長區域具有最大吸收波長的化合物，更佳為於360nm~480nm的波長區域具有最大吸收波長的化合物，特佳為365nm及405nm的吸光度高的化合物。

就感度的觀點而言，肟化合物的365nm或405nm下的莫耳吸光係數較佳為1,000~300,000，更佳為2,000~300,000，特佳為5,000~200,000。化合物的莫耳吸光係數的測定可使用公知的方法，具體而言，例如較佳為藉由紫外可見分光光度計(瓦里安(Varian)公司製造的凱里-5分光光度計(Cary-5 spectrophotometer))且使用乙酸乙酯溶媒並於0.01g/L的濃度下 進行測定。

光聚合起始劑亦較佳為包含肟化合物與α-胺基酮化合物。藉由併用兩者，容易形成顯影性提高、矩形性優異的圖案。於併用肟化合物與α-胺基酮化合物的情況下，相對於肟化合物100質量份，α-胺基酮化合物較佳為50質量份~600質量份，更佳為150質量份~400質量份。

相對於本發明的組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量較佳為0.1質量%~50質量%，更佳為0.5質量%~30質量%，進而佳為1質量%~20質量%。於該範圍內可獲得更良好的感度與圖案形成性。本發明的組成物可僅包含一種光聚合起始劑，亦可包含兩種以上。於包含兩種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。

<<樹脂>>

本發明的組成物含有樹脂。樹脂例如以使顏料等分散於組成物中的用途、黏合劑的用途調配。再者，將主要用以使顏料等分散的樹脂亦稱為分散劑。其中，樹脂的此種用途為一例，亦可出於此種用途以外的目的來使用。

本發明中，樹脂使用包含具有酸基的樹脂者。作為酸基，可列舉：羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為羧基。具有酸基的樹脂例如可用作後述的鹼可溶性樹脂或分散劑。

樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~2,000,000。上限較佳為1,000,000以下，更佳為500,000以下。下限較佳為3,000 以上，更佳為5,000以上。另外，於為環氧樹脂的情況下，環氧樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為100以上，更佳為200~2,000,000。上限較佳為1,000,000以下，更佳為500,000以下。下限較佳為100以上，更佳為200以上。

(鹼可溶性樹脂)

本發明的組成物較佳為含有鹼可溶性樹脂作為樹脂。藉由本發明的組成物含有鹼可溶性樹脂，顯影性及圖案形成性得到提高。

鹼可溶性樹脂可自具有促進鹼可溶性的基的樹脂中適宜選擇。

鹼可溶性樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為5,000~100,000。另外，鹼可溶性樹脂的數量平均分子量(Mn)較佳為1,000~20,000。鹼可溶性樹脂的酸價較佳為30mgKOH/g~500mgKOH/g。下限更佳為50mgKOH/g以上，進而佳為70mgKOH/g以上。上限更佳為400mgKOH/g以下，進而佳為200mgKOH/g以下，特佳為150mgKOH/g以下，最佳為120mgKOH/g以下。

作為鹼可溶性樹脂，就耐熱性的觀點而言，較佳為多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。

作為促進鹼可溶性的基(以下，亦稱為酸基)，例如可列舉：羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為於有機溶劑中可溶 且可藉由弱鹼性水溶液顯影者，特佳為羧基。酸基可僅為一種，亦可為兩種以上。

鹼可溶性樹脂較佳為於側鏈具有羧基的聚合物，可列舉：甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物、酚醛清漆型樹脂、以及於側鏈具有羧基的酸性纖維素衍生物、於具有羥基的聚合物中加成酸酐而成的聚合物。尤其，較佳的是將(甲基)丙烯酸和可與其進行共聚的其他單體的共聚物作為鹼可溶性樹脂。作為可與(甲基)丙烯酸進行共聚的其他單體，可列舉：(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作為(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸四氫糠酯等，作為乙烯基化合物，可列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯巨分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯巨分子單體等，作為日本專利特開平10-300922號公報中記載的N位取代馬來醯亞胺單體，可列舉：N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等。再者，該些可與(甲基)丙烯酸進行共聚的其他單體可僅為一種，亦可為兩種以上。

鹼可溶性樹脂可較佳地使用(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、包含(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他單體的多元共聚物。另外，亦可較佳地使用將(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯共聚而成者、日本專利特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯巨分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。另外，作為市售品，例如亦可使用FF-426(藤倉化成(股)製造)等。

鹼可溶性樹脂亦較佳為包含將單體成分聚合而成的聚合物，所述單體成分包含下述式(ED1)所示的化合物及下述式(ED2)所表示的化合物(以下，有時亦將該些化合物稱為「醚二聚體」)中的至少一者。

式(ED1)中，R¹及R²分別獨立地表示氫原子或可具 有取代基的碳數1~25的烴基。

式(ED2)中，R表示氫原子或碳數1~30的有機基。作為式(ED2)的具體例，可參考日本專利特開2010-168539號公報的記載。

式(ED1)中，R¹及R²所表示的可具有取代基的碳數1~25的烴基並無特別限制，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸烷基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基取代的烷基；苄基等經芳基取代的烷基等。該些之中，就耐熱性的方面而言，特佳為甲基、乙基、環己基、苄基等不易因酸或熱而脫離的一級碳或二級碳的取代基。

作為醚二聚體的具體例，例如可參考日本專利特開2013-29760號公報的段落編號0317，將該內容併入至本說明書中。醚二聚體可僅為一種，亦可為兩種以上。

鹼可溶性樹脂亦可包含源自下述式(X)所示的化合物的重複單元。

式(X)中，R₁表示氫原子或甲基，R₂表示碳數2~10的伸烷基，R₃表示氫原子或可包含苯環的碳數1~20的烷基。n表示1~15的整數。

所述式(X)中，R₂的伸烷基的碳數較佳為2~3。另外，R₃的烷基的碳數為1~20，更佳為1~10，R₃的烷基可包含苯環。作為R₃所表示的包含苯環的烷基，可列舉苄基、2-苯基(異)丙基等。

鹼可溶性樹脂亦可使用接枝共聚物。再者，本發明中，所謂接枝共聚物是指具有接枝鏈的樹脂。另外，所謂接枝鏈，表示自聚合物的主鏈的根部直至從主鏈分支的基的末端為止。

接枝共聚物較佳為具有除氫原子以外的原子數為40~10000的範圍的接枝鏈的樹脂。另外，每一條接枝鏈的除氫原子以外的原子數較佳為40~10000，更佳為50~2000，進而佳為60~500。

作為接枝共聚物的主鏈結構，可列舉：(甲基)丙烯酸樹 脂、聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚脲樹脂、聚醯胺樹脂、聚醚樹脂等。其中，較佳為(甲基)丙烯酸樹脂。為了使接枝部位與溶劑的相互作用性提昇並藉此提高分散性，接枝共聚物的接枝鏈較佳為具有聚(甲基)丙烯酸、聚酯、或聚醚的接枝鏈，更佳為具有聚酯或聚醚的接枝鏈。

接枝共聚物較佳為包含下述式(1)~式(4)的任一者所表示的重複單元。

式(1)~式(4)中，W¹、W²、W³及W⁴分別獨立地表示氧原子或NH，X¹、X²、X³、X⁴及X⁵分別獨立地表示氫原子、一價基，Y¹、Y²、Y³及Y⁴分別獨立地表示二價連結基，Z¹、Z²、Z³及Z⁴分別獨立地表示一價基，R³表示伸烷基，R⁴表示氫原子或一價基，n、m、p及q分別獨立地表示1~500的整數，j及k分別獨立地表示2~8的整數。式(3)中，當p為2~500時，存在多個的R³可相互相同亦可不同。式(4)中，當q為2~500時， 存在多個的X⁵及R⁴可相互相同亦可不同。

W¹、W²、W³及W⁴較佳為氧原子。

X¹、X²、X³、X⁴及X⁵較佳為分別獨立地為氫原子或碳數1~12的烷基，更佳為氫原子或甲基，特佳為甲基。

Y¹、Y²、Y³及Y⁴分別獨立地表示二價連結基。作為二價連結基，可列舉：包含-CO-、-O-、-NH-、伸烷基、伸芳基及該些的組合的基。

Z¹、Z²、Z³及Z⁴所表示的一價基的結構並無特別限定。例如可列舉：烷基、羥基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、雜芳基硫醚基及胺基等。

式(1)~式(4)中，n、m、p及q分別獨立地為1~500的整數。另外，式(1)及式(2)中，j及k分別獨立地表示2~8的整數。就分散穩定性、顯影性的觀點而言，式(1)及式(2)中的j及k較佳為4~6的整數，最佳為5。

式(3)中，R³表示伸烷基，較佳為碳數1~10的伸烷基，更佳為碳數2或3的伸烷基。當p為2~500時，存在多個的R³可相互相同亦可不同。

式(4)中，R⁴表示氫原子或一價基。R⁴較佳為氫原子、烷基、芳基、或雜芳基，更佳為氫原子、或烷基。式(4)中，當q為2~500時，存在多個的X⁵及R⁴可相互相同亦可不同。

關於所述式的詳細情況，可參考日本專利特開2012-255128號公報的段落編號0025~段落編號0069的記載，將 所述內容併入至本說明書中。

作為鹼可溶性樹脂的具體例，可列舉以下。

鹼可溶性樹脂可參考日本專利特開2012-208494號公報的段落編號0558~段落編號0571(相對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0685]~[0700])的記載，將該些內容併入至本說明書中。另外，亦可使用日本專利特開2012-32767號公報的段落編號0029~段落編號0063中記載的共聚物(B)及實施例中所使用的鹼可溶性樹脂、日本專利特開2012-208474號公報的段落編號0088~段落編號0098中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-137531號公報的段落編號0022~段落編號0032中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2013-024934號公報的段落編號0132~段落編號0143中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2011-242752號公報的段落編號0092~段落編號0098中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-032770號公報的段落編號0030~段落編號0072中記載的黏合劑樹脂。將該些內容併入至本說明書中。

亦可於鹼可溶性樹脂中使用具有聚合性基的鹼可溶性樹脂。作為聚合性基，可列舉(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。具有聚合性基的鹼可溶性樹脂中，於側鏈含有聚合性基的鹼可溶性樹脂等有用。作為含有聚合性基的鹼可溶性樹脂，可列舉：戴娜爾(Dianal)NR系列(三菱麗陽(股)製造)、佛陀瑪(Photomer)6173(含有COOH的聚胺基甲酸酯丙烯酸系寡聚物，鑽石三葉草有限公司(Diamond Shamrock Co.,Ltd.)製造)、比斯克(Biscoat)R-264、KS抗蝕劑(KS Resist)106(均為大阪有機化學工業(股)製造)、賽庫洛瑪(Cyclomer)P系列(例如，ACA230AA)、普拉賽爾(Placcel)CF200系列(均為大賽璐(Daicel)(股)製造)、艾巴克力(Ebecryl)3800(大賽璐UCB(Daicel UCB)(股)製造)、壓克力庫亞(Acrycure)RD-F8(日本觸媒(股)製造)等。

(分散劑)

本發明的組成物可含有樹脂形式的分散劑。於使用顏料的情況下，特佳為包含分散劑。分散劑可列舉酸性分散劑(酸性樹脂)、鹼性分散劑(鹼性樹脂)。分散劑較佳為至少包含酸性分散劑，更佳為僅為酸性分散劑。藉由分散劑至少包含酸性分散劑，顏料的分散性提高，可獲得優異的顯影性，故可利用光微影較佳地進行圖案形成。再者，所謂分散劑僅為酸性分散劑，例如酸性分散劑於分散劑的總質量中的含量較佳為99質量%以上，亦可設為99.9質量%以上。

此處，所謂酸性分散劑(酸性樹脂)，表示酸基的量多 於鹼性基的量的樹脂。當將酸基的量與鹼性基的量的合計量設為100莫耳%時，酸性分散劑(酸性樹脂)較佳為酸基的量佔70莫耳%以上的樹脂，更佳為實質上僅包含酸基的樹脂。酸性分散劑(酸性樹脂)所具有的酸基較佳為羧基。

另外，所謂鹼性分散劑(鹼性樹脂)，表示鹼性基的量多於酸基的量的樹脂。當將酸基的量與鹼性基的量的合計量設為100莫耳%時，鹼性分散劑(鹼性樹脂)較佳為鹼性基的量佔50莫耳%以上的樹脂。鹼性分散劑所具有的鹼性基較佳為胺基。

酸性分散劑(酸性樹脂)的酸價較佳為40mgKOH/g~105mgKOH/g，更佳為50mgKOH/g~105mgKOH/g，進而佳為60mgKOH/g~105mgKOH/g。

用作分散劑的樹脂較佳為包含具有酸基的重複單元。藉由樹脂包含具有酸基的重複單元，當藉由光微影形成圖案時，可進一步減少畫素的基底上所產生的殘渣。

另外，用作分散劑的樹脂亦較佳為接枝共聚物。接枝共聚物藉由接枝鏈而具有與溶劑的親和性，因此顏料的分散性、以及經時後的分散穩定性優異。另外，組成物中，藉由接枝鏈的存在而具有與聚合性化合物或鹼可溶性樹脂等的親和性，因此可於鹼顯影中難以產生殘渣。接枝共聚物可列舉所述鹼可溶性樹脂中說明的包含式(1)~式(4)的任一者所表示的重複單元的樹脂。例如可列舉下述樹脂。另外，亦可將以下樹脂用作鹼可溶性樹脂。

[化51]

分散劑亦可使用於主鏈及側鏈的至少一者包含氮原子的寡聚亞胺(oligoimine)系樹脂。寡聚亞胺系樹脂較佳為具有含有基X的重複單元與側鏈、且於主鏈及側鏈的至少一者具有鹼性氮原子的樹脂，所述基X含有具有pKa 14以下的官能基的部分結構，所述側鏈包含原子數40~10,000的側鏈Y。所謂鹼性氮原子，只要為呈鹼性的氮原子，則並無特別限制。

寡聚亞胺系樹脂例如可列舉包含式(I-1)所表示的重複單元、式(I-2)所表示的重複單元及式(I-2a)所表示的重複單元中的至少任一者的樹脂等。

R¹及R²各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或烷基(較佳為碳數1~6)。a各自獨立地表示1~5的整數。*表示重複單元間的連結部。

R⁸及R⁹為含義與R¹相同的基。

L為單鍵、伸烷基(較佳為碳數1~6)、伸烯基(較佳為碳數2~6)、伸芳基(較佳為碳數6~24)、伸雜芳基(較佳為碳數1~6)、亞胺基(較佳為碳數0~6)、醚基、硫醚基、羰基、或該些的組合中的連結基。其中，較佳為單鍵或-CR⁵R⁶-NR⁷-(亞胺基成為X或Y)。此處，R⁵、R⁶各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、烷基(較佳為碳數1~6)。R⁷為氫原子或碳數1~6的烷基。

L^a為與CR⁸CR⁹及N一起形成環結構的結構部位，較佳為與CR⁸CR⁹的碳原子一併形成碳數3~7的非芳香族雜環的結構部位。更佳為與CR⁸CR⁹的碳原子及N(氮原子)一併形成5員~7員的非芳香族雜環的結構部位，進而佳為形成5員的非芳香族雜環的結構部位，特佳為形成吡咯啶的結構部位。該結構部位亦可進而具有烷基等取代基。

X表示含有具有pKa 14以下的官能基的部分結構的基。

Y表示原子數40~10,000的側鏈。

所述樹脂(寡聚亞胺系樹脂)亦可進而含有選自式(I-3)、式(I-4)及式(I-5)所表示的重複單元中的一種以上作為共聚成分。藉由所述樹脂包含此種重複單元，可進一步提高顏料的分散性能。

[化53]

R¹、R²、R⁸、R⁹、L、L^a、a及*的含義與式(I-1)、式(I-2)、式(I-2a)中的規定相同。

Ya表示具有陰離子基的原子數40~10,000的側鏈。式(I-3)所表示的重複單元可藉由向於主鏈部具有一級胺基或二級胺基的樹脂中添加具有與胺反應而形成鹽的基的寡聚物或聚合物並使其反應而形成。

關於所述寡聚亞胺系樹脂，可參考日本專利特開2012-255128號公報的段落編號0102~段落編號0166的記載，將所述內容併入至本說明書中。作為寡聚亞胺系樹脂的具體例，例如可列舉以下。另外，可使用日本專利特開2012-255128號公報的段落編號0168~段落編號0174中記載的樹脂。

分散劑亦可使用包含下述式(P1)所表示的重複單元的樹脂。

式(P1)中，R¹表示氫或甲基，R²表示伸烷基，Z表示含氮雜環結構。

R²所表示的伸烷基並無特別限定，例如可較佳地列舉：亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、2-羥基伸丙基、亞甲氧基、伸乙氧基、亞甲氧基羰基、亞甲硫基等，更佳為亞甲基、亞甲氧基、亞甲氧基羰基、亞甲硫基。

Z所表示的含氮雜環結構例如可列舉具有吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吡咯環、咪唑環、三唑環、四唑環、吲哚環、喹啉環、吖啶環、啡噻嗪環、啡噁嗪環、吖啶酮環、蒽醌環、苯并咪唑結構、苯并三唑結構、苯并噻唑結構、環狀醯胺結構、環狀脲結構及環狀醯亞胺結構者。該些中，作為Z所表示的含氮雜環結構，較佳為下述式(P2)或式(P3)所表示的結構。

[化56]

式中，X為單鍵、選自由伸烷基(例如，亞甲基、伸乙基、伸丙基、三亞甲基、四亞甲基等)、-O-、-S-、-NR-及-C(=O)-所組成的群組中的任一者。再者，此處，R表示氫原子或烷基。該些中，X較佳為單鍵、亞甲基、-O-、-C(=O)-，特佳為-C(=O)-。

式中，環A、環B及環C分別獨立地表示芳香環。作為芳香環，例如可列舉：苯環、萘環、茚環、薁環、茀環、蒽環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吡咯環、咪唑環、吲哚環、喹啉環、吖啶環、啡噻嗪環、啡噁嗪環、吖啶酮環、蒽醌環等，其中，較佳為苯環、萘環、蒽環、吡啶環、啡噁嗪環、吖啶環、啡噻嗪環、吖啶酮環、蒽醌環，特佳為苯環、萘環、吡啶環。

作為式(P1)所表示的重複單元的具體例，例如可列舉以下。除此以外，可參考日本專利特開2008-009426號公報的段落編號0023的記載，將該內容併入至本說明書中。

[化57]

作為包含式(P1)所表示的重複單元與其他重複單元的樹脂的具體例，可列舉以下。

分散劑亦可作為市售品而獲取，作為此種具體例，可列舉：楠本化成(股)製造的「DA-7301」；畢克化學(BYKChemie)公司製造的「迪斯帕畢克(Disperbyk)-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、107(羧酸酯)、110(包含酸基的共聚物)、111(磷酸系分散劑)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)」；畢克化學(BYKChemie)公司製造的「畢克(BYK)-P104、P105(高分子量不飽和多羧酸)」；埃夫卡(EFKA)公司製造的「埃夫卡(EFKA)4047、4050~4165(聚胺基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA) 4330~4340(嵌段共聚物)、4400~4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺)、5765(高分子量多羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞青衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)」；味之素精細化學(Ajinomoto Fine-Techno)(股)製造的「阿吉斯帕(Ajisper)PB821、PB822、PB880、PB881」；共榮社化學(股)製造的「弗洛蘭(Flowlen)TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」、「珀利弗洛(Polyflow)No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」；楠本化成(股)製造的「帝司巴隆(Disparlon)KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」；花王(股)製造的「戴默爾(Demol)RN、N(萘磺酸福馬林縮聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸福馬林縮聚物)」；花王(股)製造的「荷摩蓋諾爾(Homogenol)L-18(高分子多羧酸)」；花王(股)製造的「艾瑪爾根(Emulgen)920、930、935、985(聚氧伸乙基壬基苯基醚)」；花王(股)製造的「阿塞他明(Acetamin)86(硬脂基胺乙酸酯)」；日本路博潤(Lubrizol)(股)製造的「索爾斯帕斯(Solsperse)5000(酞青衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、12000、17000、20000、27000(於末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」；日光化學(Nikko Chemicals)(股)製造的「尼考爾(Nikkol)T106(聚氧伸乙基脫水山梨糖醇單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧伸乙基單硬脂酸酯)」；川研精化(Kawaken Fine Chemicals)(股)製造的「西諾科特(Hinoact)T-8000E」；信越化學工業(股) 製造的「有機矽氧烷聚合物KP341」；森下產業(股)製造的「埃夫卡(EFKA)-46、埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡(EFKA)-47EA、埃夫卡(EFKA)聚合物100、埃夫卡(EFKA)聚合物400、埃夫卡(EFKA)聚合物401、埃夫卡(EFKA)聚合物450」；聖諾普科(San Nopco)(股)製造的「迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)6、迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)8、迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)15、迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)9100」；艾迪科(ADEKA)(股)製造的「艾迪科普魯洛尼克(Adeka Pluronic)L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123」；以及三洋化成(股)製造的「伊歐奈特(Ionet)S-20」等。

本發明的組成物的自由基聚合性化合物與樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/樹脂=0.3~0.7。所述質量比的下限較佳為0.35以上，更佳為0.4以上。所述質量比的上限較佳為0.65以下，更佳為0.6以下。若所述質量比為所述範圍，則可形成矩形性優異的圖案。

本發明的組成物的自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比較佳為自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7。所述質量比的下限較佳為0.35以上，更佳為0.4以上。所述質量比的上限較佳為0.65以下，更佳為0.6以下。若所述質量比為所述範圍，則可形成矩形性優異的圖案。

本發明的組成物的自由基聚合性化合物與鹼可溶性樹 脂的質量比較佳為自由基聚合性化合物/鹼可溶性樹脂=0.3~0.7。所述質量比的下限較佳為0.35以上，更佳為0.4以上。所述質量比的上限較佳為0.65以下，更佳為0.6以下。若所述質量比為所述範圍，則可形成矩形性優異的圖案。

本發明的組成物中，相對於本發明的組成物的總固體成分，樹脂的含量較佳為14質量%~70質量%。下限較佳為17質量%以上，更佳為20質量%以上。上限較佳為56質量%以下，更佳為42質量%以下。

本發明的組成物中，相對於本發明的組成物的總固體成分，具有酸基的樹脂的含量較佳為14質量%~70質量%。下限較佳為17質量%以上，更佳為20質量%以上。上限較佳為56質量%以下，更佳為42質量%以下。

本發明的組成物中，相對於本發明的組成物的總固體成分，鹼可溶性樹脂的含量較佳為14質量%~70質量%。下限較佳為17質量%以上，更佳為20質量%以上。上限較佳為56質量%以下，更佳為42質量%以下。

<<鏈轉移劑>>

本發明的組成物較佳為含有鏈轉移劑。根據該態樣，可藉由圖案形成時的曝光來促進膜表面(圖案表面)的硬化。因此，可抑制曝光時的膜厚的減少等，從而容易形成矩形性更優異的圖案。

作為鏈轉移劑，可列舉N,N-二烷基胺基苯甲酸烷基酯或硫醇化合物等，較佳為硫醇化合物。硫醇化合物較佳為於分子內 具有兩個以上(較佳為2個~8個，更佳為3個~6個)硫醇基的化合物。作為硫醇化合物的具體例，可列舉：2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并噁唑、2-巰基苯并咪唑、N-苯基巰基苯并咪唑、1,3,5-三(3-巰基丁氧基乙基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮等具有雜環的硫醇化合物、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、1,4-雙(3-巰基丁醯氧基)丁烷等脂肪族系的硫醇化合物等。另外，亦較佳為使用下述化合物。另外，作為鏈轉移劑的市售品，可列舉：PEMP(長瀨產業(股)製造，硫醇化合物)、桑塞拉(sanceler)M(三新化學工業(股)製造，硫醇化合物)、卡蘭茨(Karenz)MT BD1(昭和電工(股)製造，硫醇化合物)等。

相對於組成物的總固體成分，鏈轉移劑的含量較佳為0.2質量%~5.0質量%，更佳為0.4質量%~3.0質量%。

相對於自由基聚合性化合物的100質量份，鏈轉移劑的含量較佳為1質量份~40質量份，更佳為2質量份~20質量份。

<<具有環氧基的化合物>>

本發明的組成物亦可含有具有環氧基的化合物。作為具有環氧基的化合物，可列舉：單官能或多官能縮水甘油醚化合物、或者多官能脂肪族縮水甘油醚化合物等。另外，亦可使用具有脂環式環氧基的化合物。

具有環氧基的化合物可列舉於一分子內具有一個以上環氧基的化合物，較佳為具有兩個以上環氧基的化合物。環氧基較佳為於一分子內具有1個~100個。環氧基的上限例如亦可設為10個以下，亦可設為5個以下。環氧基的下限較佳為2個以上。

具有環氧基的化合物的環氧當量(=具有環氧基的化合物的分子量/環氧基的個數)較佳為500g/當量以下，更佳為100g/當量~400g/當量，進而佳為100g/當量~300g/當量。

具有環氧基的化合物可為低分子化合物(例如，分子量未滿2000，進而分子量未滿1000)，亦可為高分子化合物(macromolecule)(例如，分子量為1000以上，於聚合物的情況下，重量平均分子量為1000以上)的任一種。具有環氧基的化合物的重量平均分子量較佳為200~100000，更佳為500~50000。重量平均分子量的上限較佳為10000以下，更佳為5000以下，進 而佳為3000以下。

具有環氧基的化合物亦可使用日本專利特開2013-011869號公報的段落編號0034~段落編號0036、日本專利特開2014-043556號公報的段落編號0147~段落編號0156、日本專利特開2014-089408號公報的段落編號0085~段落編號0092中所記載的化合物。將該些內容併入至本說明書中。作為市售品，例如雙酚A型環氧樹脂為jER825、jER827、jER828、jER834、jER1001、jER1002、jER1003、jER1055、jER1007、jER1009、jER1010(以上為三菱化學(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)1050、艾比克隆(EPICLON)1051、艾比克隆(EPICLON)1055(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等，雙酚F型環氧樹脂為jER806、jER807、jER4004、jER4005、jER4007、jER4010(以上為三菱化學(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)830、艾比克隆(EPICLON)835(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，LCE-21、RE-602S(以上為日本化藥(股)製造)等，苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為jER152、jER154、jER157S70、jER157S65(以上為三菱化學(股)製造)，艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、艾比克隆(EPICLON)N-775(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等，甲酚酚醛清漆型環氧樹脂為艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-690、艾比克 隆(EPICLON)N-695(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，EOCN-1020(日本化藥(股)製造)等，脂肪族環氧樹脂為艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4080S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4085S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4088S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE3150、艾波利得(EPOLEAD)PB 3600、艾波利得(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐(Daicel)(股)製造)，丹納考爾(Denacol)EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L(以上為長瀨化成(Nagase ChemteX)(股)製造)等。除此以外，亦可列舉：艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)，jER1031S(三菱化學(股)製造)，OXT-221(東亞合成(股)製造)等。

具有環氧基的化合物亦可使用日本專利特開2009-265518號公報的段落編號0045等中所記載的化合物。

於組成物的總固體成分中，具有環氧基的化合物的含量較佳為0.5質量%~20質量%。下限較佳為1質量%以上，更佳為2質量%以上。上限較佳為15質量%以下，更佳為10質量%以下。

<<溶劑>>

本發明的組成物可含有溶劑。作為溶劑，可列舉有機溶劑。溶劑只要滿足各成分的溶解性或組成物的塗佈性，則基本上並無特別限制，較佳為考慮組成物的塗佈性、安全性來選擇。

作為有機溶劑的例子，例如可列舉以下者。作為酯類，例如可列舉：乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸環己酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、烷氧基乙酸烷基酯(例如，烷氧基乙酸甲酯、烷氧基乙酸乙酯、烷氧基乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-烷氧基丙酸烷基酯類(例如，3-烷氧基丙酸甲酯、3-烷氧基丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-烷氧基丙酸烷基酯類(例：2-烷氧基丙酸甲酯、2-烷氧基丙酸乙酯、2-烷氧基丙酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-烷氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-烷氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等。作為醚類，例如可列舉：二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲 醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等。作為酮類，例如可列舉：甲基乙基酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮等。作為芳香族烴類，例如可列舉：甲苯、二甲苯等。其中，作為溶劑的芳香族烴類(苯、甲苯、二甲苯、乙基苯等)有因環境方面等的理由而較佳為減少的情況(例如，相對於有機溶劑總量而可設為50質量ppm以下，亦可設為10質量ppm以下，抑或可設為1質量ppm以下)。

有機溶劑可單獨使用一種，亦可將兩種以上組合使用。於將兩種以上的有機溶劑組合使用的情況下，較佳為包含選自3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲醚及丙二醇單甲醚乙酸酯中的兩種以上的混合溶液。

本發明中，較佳為使用金屬含量少的溶劑，溶劑的金屬含量例如較佳為10質量ppb以下。亦可視需要使用質量ppt級的溶劑，此種高純度溶劑例如是由東洋合成工業(股)提供(化學工業日報，2015年11月13日)。

作為自溶劑去除金屬等雜質的方法，例如可列舉蒸餾(分子蒸餾或薄膜蒸餾等)或使用過濾器的過濾。使用過濾器的過濾中的過濾器孔徑較佳為孔尺寸(pore size)10nm以下，更佳為5nm以下，進而佳為3nm以下。作為過濾器的材質，較佳為聚四氟乙烯製、聚乙烯製、尼龍製的過濾器。

溶劑可包含異構體(相同原子種類與數且不同結構的化合物)。另外，異構體可僅包含一種，亦可包含多種。

本發明中，有機溶劑的過氧化物的含有率較佳為0.8mmol/L以下，更佳為實質上不含過氧化物。

相對於組成物的總量，溶劑的含量較佳為10質量%~90質量%，更佳為20質量%~80質量%，進而佳為25質量%~75質量%。

<<矽烷偶合劑>>

本發明的組成物可進而含有矽烷偶合劑。再者，本發明中，矽烷偶合劑為與所述聚合性化合物不同的成分。本發明中，矽烷偶合劑是指具有水解性基與其以外的官能基的矽烷化合物。另外，所謂水解性基，是指直接鍵結於矽原子，並可藉由水解反應及縮合反應的至少任一者而產生矽氧烷鍵的取代基。作為水解性基，例如可列舉：鹵素原子、烷氧基、醯氧基等，較佳為烷氧基。即，矽烷偶合劑較佳為具有烷氧基矽烷基的化合物。另外，水解性基以外的官能基較佳為於與樹脂間形成相互作用或鍵結而顯示親和性的基。例如可列舉：(甲基)丙烯醯基、苯基、巰基、環氧基、氧雜環丁基，較佳為(甲基)丙烯醯基及環氧基。即，矽烷偶合劑較佳為具有烷氧基矽烷基與(甲基)丙烯醯基及環氧基中的至少一者的化合物。矽烷偶合劑可列舉日本專利特開2009-288703號公報的段落編號0018~段落編號0036中記載的化合物、日本專利特開2009-242604號公報的段落編號0056~段落編號0066中記載的化 合物，將該內容併入至本說明書中。

相對於組成物的總固體成分，矽烷偶合劑的含量較佳為0.01質量%~15.0質量%，更佳為0.05質量%~10.0質量%。矽烷偶合劑可僅為一種，亦可為兩種以上。於為兩種以上的情況下，較佳為合計量成為所述範圍。

<<界面活性劑>>

就進一步提昇塗佈性的觀點而言，本發明的組成物亦可含有各種界面活性劑。作為界面活性劑，可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。

藉由於所述組成物中含有氟系界面活性劑，製備成塗佈液時的液體特性(特別是流動性)進一步提高，可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。即，於使用應用了含有氟系界面活性劑的組成物的塗佈液來形成膜的情況下，被塗佈面與塗佈液的界面張力下降，對於被塗佈面的潤濕性得到改善，對於被塗佈面的塗佈性提高。因此，可更佳地進行厚度不均小的厚度均勻的膜形成。

氟系界面活性劑中的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，特佳為7質量%~25質量%。氟含有率為該範圍內的氟系界面活性劑就塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面而言有效，於組成物中的溶解性亦良好。

作為氟系界面活性劑，具體而言可列舉日本專利特開 2014-41318號公報的段落編號0060~段落編號0064(相對應的國際公開WO2014/17669號手冊的段落編號0060~段落編號0064)等中記載的界面活性劑、日本專利特開2011-132503號公報的段落編號0117~段落編號0132中記載的界面活性劑，將該些內容併入至本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品，例如可列舉：美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，弗洛德(Fluorad)FC430、弗洛德(Fluorad)FC431、弗洛德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(Sumitomo 3M)(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)，波利佛斯(PolyFox)PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(歐諾法(OMNOVA)公司製造)等。

氟系界面活性劑亦可使用嵌段聚合物。例如可列舉日本 專利特開2011-89090號公報中所記載的化合物。作為氟系界面活性劑，亦可較佳地使用包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重複單元、與源自具有兩個以上(較佳為五個以上)伸烷氧基(較佳為伸乙氧基、伸丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重複單元的含氟高分子化合物。下述化合物亦可作為本發明中所使用的氟系界面活性劑而例示。

所述化合物的重量平均分子量較佳為3,000~50,000，例如為14,000。所述化合物中，表示重複單元的比例的%為質量%。

另外，氟系界面活性劑亦可使用於側鏈具有乙烯性不飽和基的含氟聚合體。作為具體例，可列舉日本專利特開2010-164965號公報的段落編號0050~段落編號0090及段落編號0289~段落編號0295中所記載的化合物，例如迪愛生(DIC)(股)製造的美佳法(Megafac)RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。氟系界面活性劑亦可使用日本專利特開2015-117327號公報的段落編號0015~段落編號0158中記載的化合物。

作為非離子系界面活性劑，可列舉：丙三醇、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及該些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，丙三醇丙氧基化物、丙三醇乙氧基化物等)、聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚、聚氧伸乙基油烯基醚、聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、普魯洛尼克(Pluronic)L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(巴斯夫(BASF)公司製造)，特托羅尼克(Tetronic)304、701、704、901、904、150R1(巴斯夫(BASF)公司製造)，索爾斯帕斯(Solsperse)20000(日本路博潤(Lubrizol)(股)製造)，NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(和光純藥工業(股)製造)，皮奧寧(Pionin)D-6112、D-6112-W、D-6315(竹本油脂(股)製造)，奧璐芬(Olfine)E1010、薩非諾爾(Surfynol)104、400、440(日信化學工業(股)製造)等。

作為陽離子系界面活性劑，可列舉：有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股)製造)，(甲基)丙烯酸系(共)聚合體珀利弗洛(Polyflow)No.75、No.90、No.95(共榮社化學(股)製造)，W001(裕商(股)製造)等。

作為陰離子系界面活性劑，可列舉：W004、W005、W017(裕商(股)製造)，桑德(Sanded)BL(三洋化成(股)製造)等。

作為矽酮系界面活性劑，例如可列舉：東麗矽酮(Toray Silicone)DC3PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH7PA、東麗矽酮 (Toray Silicone)DC11PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH21PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH28PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH29PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH30PA、東麗矽酮(Toray Silicone)SH8400(以上為東麗道康寧(Toray Dow Corning)(股)製造)，TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上為邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造)，KP341、KF6001、KF6002(以上為信越矽酮(Shinetsu silicone)股份有限公司製造)，畢克(BYK)307、畢克(BYK)323、畢克(BYK)330(以上為畢克化學(BYKChemie)公司製造)等。

界面活性劑可僅使用一種，亦可組合兩種以上。

相對於組成物的總固體成分，界面活性劑的含量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。

<<紫外線吸收劑>>

本發明的組成物較佳為含有紫外線吸收劑。

紫外線吸收劑可列舉共軛二烯系化合物及二酮化合物，較佳為共軛二烯系化合物。共軛二烯系化合物更佳為下述式(UV-1)所表示的化合物。

式(UV-1)中，R¹及R²各自獨立地表示氫原子、碳原子數1~20的烷基、或碳原子數6~20的芳基，R¹與R²可相互相同亦可不同，不存在同時表示氫原子的情況。

R¹及R²可與R¹及R²所鍵結的氮原子一起形成環狀胺基。作為環狀胺基，例如可列舉：哌啶基、嗎啉基、吡咯啶基、六氫氮雜基、哌嗪基等。

R¹及R²較佳為各自獨立地為碳原子數1~20的烷基，更佳為碳原子數1~10的烷基，進而佳為碳原子數1~5的烷基。

R³及R⁴表示拉電子基。此處，拉電子基為哈米特的取代基常數σ_p值(以下，簡稱為「σ_p值」)為0.20以上且1.0以下的拉電子基。較佳為σ_p值為0.30以上且0.8以下的拉電子基。

R³較佳為選自氰基、-COOR⁵、-CONHR⁵、-COR⁵、-SO₂R⁵中的基。R⁴較佳為選自氰基、-COOR⁶、-CONHR⁶、-COR⁶、-SO₂R⁶中的基。R⁵及R⁶各自獨立地表示碳原子數1~20的烷基、或碳原子數6~20的芳基。

R³及R⁴較佳為醯基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、胺磺醯基，更佳為醯基、胺甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、胺磺醯基。另外，R³及R⁴可相互鍵結而形成環狀拉電子基。作為R³及R⁴相互鍵結而形成的環狀拉電子基，例如可列舉包含兩個羰基的6員環。

所述的R¹、R²、R³及R⁴的至少一個亦可經由連結基而形成由與乙烯基鍵結的單體導出的聚合物的形式。亦可為與其他單體的共聚物。

作為式(UV-1)所示的紫外線吸收劑的具體例，可列舉下述化合物。式(UV-1)所示的紫外線吸收劑的取代基的說明可參考WO2009/123109號公報的段落編號0024~段落編號0033(相對應的美國專利申請公開第2011/0039195號說明書的[0040]~[0059])的記載，將該些內容併入至本說明書中。式(UV-1)所表示的化合物的較佳具體例可參考WO2009/123109號公報的段落編號0034~段落編號0037(相對應的美國專利申請公開第2011/0039195號說明書的[0060])的例示化合物(1)~例示化合物(14)的記載，將該些內容併入至本說明書中。作為式(UV-1)所示的紫外線吸收劑的市售品，例如可列舉UV503(大東化學(股)製造)等。

用作紫外線吸收劑的二酮化合物較佳為下述式(UV-2)所表示的化合物。

式(UV-2)中，R¹⁰¹及R¹⁰²各自獨立地表示取代基，m1及m2分別獨立地表示0~4。取代基可列舉：烷基、烯基、芳基、雜芳基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜芳氧基羰基、醯氧基、胺基、醯基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、雜芳氧基羰基胺基、磺醯基胺基、胺磺醯基、胺甲醯基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、雜芳基磺醯基、烷基亞磺醯基、芳基亞磺醯基、雜芳基亞磺醯基、脲基、磷酸醯胺基、巰基、磺基、羧基、硝基、羥胺酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基、矽烷基、羥基、鹵素原子、氰基等，較佳為烷基及烷氧基。

烷基的碳數較佳為1~20。烷基可列舉直鏈、分支、環狀，較佳為直鏈或分支，更佳為分支。

烷氧基的碳數較佳為1~20。烷氧基可列舉直鏈、分支、環狀，較佳為直鏈或分支，更佳為分支。

較佳為R¹⁰¹及R¹⁰²的一者為烷基、另一者為烷氧基的組合。

m1及m2分別獨立地表示0~4。m1及m2較佳為分別獨立 地為0~2，更佳為0~1，特佳為1。

作為式(UV-2)所表示的化合物，可列舉下述化合物。

紫外線吸收劑亦可使用尤比娜璐(Uvinul)A(巴斯夫(BASF)公司製造)。另外，紫外線吸收劑可使用胺基二烯化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、三嗪化合物等紫外線吸收劑，作為具體例，可列舉日本專利特開2013-68814號中記載的化合物。作為苯并三唑化合物，亦可使用三芳(Miyoshi)油脂(股)製造的MYUA系列(化學工業日報，2016年2月1日)。

相對於本發明的組成物的總固體成分，紫外線吸收劑的含量較佳為0.01質量%~10質量%，更佳為0.01質量%~5質量%。

相對於聚合性化合物的100質量份，紫外線吸收劑較佳為含有5質量份~100質量份。上限較佳為80質量份以下，更佳為60質量份以下。下限較佳為10質量份以上，更佳為20質量份以上。

<<聚合抑制劑>>

本發明的組成物為了於組成物的製造中或保存中，阻止聚合 性化合物的不需要的熱聚合，亦可含有聚合抑制劑。作為聚合抑制劑，例如可列舉：含有酚系羥基的化合物類、N-氧化物化合物類、哌啶1-氧自由基化合物類、吡咯啶1-氧自由基化合物類、N-亞硝基苯基羥基胺類、重氮鎓化合物類、陽離子染料類、含有硫醚基的化合物類、含有硝基的化合物類、磷系化合物類、內酯系化合物類、過渡金屬化合物類(FeCl₃、CuCl₂等)。另外，該些化合物類中，亦可為於同一分子內存在多個酚骨架或含磷骨架等表現出聚合抑制功能的結構的複合系化合物。例如，亦可較佳地使用日本專利特開平10-46035號公報中記載的化合物等。聚合抑制劑的具體例可列舉：對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基對甲酚、五倍子酚、第三丁基兒茶酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺鹽(銨鹽、三價鈰鹽等)。其中，較佳為對甲氧基苯酚。

相對於組成物的總固體成分，聚合抑制劑的含量較佳為0.01質量%~5質量%。

相對於聚合性化合物的100質量份，聚合抑制劑較佳為含有0.001質量份~1質量份。上限較佳為0.5質量份以下，更佳為0.2質量份以下。下限較佳為0.01質量份以上，更佳為0.03質量份以上。

<<其他成分>>

本發明的組成物視需要亦可含有增感劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、熱聚合抑制劑、塑化劑及其他助劑類(例如，導 電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。藉由適宜含有該些成分，而可調整作為目標的近紅外線截止濾波器等光學濾波器的穩定性、膜物性等性質。該些成分例如可參考日本專利特開2012-003225號公報的段落編號0183(相對應的美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的[0237])的記載、日本專利特開2008-250074號公報的段落編號0101~段落編號0104、段落編號0107~段落編號0109等的記載，將該些內容併入至本說明書中。另外，作為抗氧化劑，可列舉：苯酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。更佳為分子量500以上的苯酚化合物、分子量500以上的亞磷酸酯化合物或分子量500以上的硫醚化合物。亦可將該些的兩種以上混合而使用。作為苯酚化合物，可使用作為酚系抗氧化劑而已知的任意的苯酚化合物。作為較佳的苯酚化合物，可列舉受阻酚化合物。特佳為於酚性羥基所鄰接的部位(鄰位)具有取代基的化合物。所述取代基較佳為碳數1~22的經取代或未經取代的烷基，更佳為甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、辛基、異辛基、2-乙基己基。另外，亦較佳為於同一分子內具有酚基與亞磷酸酯基的化合物(抗氧化劑)。另外，抗氧化劑亦可較佳地使用磷系抗氧化劑。作為磷系抗氧化劑，可列舉選自由三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷雜庚英-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二氧雜磷 雜庚英-2-基)氧基]乙基]胺及亞磷酸乙基雙(2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基)所組成的群組中的至少一種化合物。該些可作為市售品而容易獲取，可列舉：艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-20、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-30、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-40、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-50、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-50F、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-60、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-60G、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-80、艾迪科斯塔波(ADEKASTAB)AO-330(艾迪科(ADEKA)(股))等。相對於組成物的總固體成分，抗氧化劑的含量較佳為0.01質量%~20質量%，更佳為0.3質量%~15質量%。抗氧化劑可僅為一種，亦可為兩種以上。於為兩種以上的情況下，較佳為合計量成為所述範圍。

(組成物的製備方法)

本發明的組成物可將所述成分混合來製備。

當製備組成物時，可一次性調配各成分，亦可將各成分溶解或分散於溶劑中後依次調配。另外，進行調配時的投入順序或作業條件並不受特別制約。例如，可將所有成分同時溶解或分散於溶劑中來製備組成物，視需要亦可先將各成分適宜製成兩種以上的溶液或分散液，於使用時(塗佈時)將該些混合來製備成組成物。

另外，於使用包含顏料者作為近紅外線吸收劑的情況下，較佳為包括使顏料分散的製程。於使顏料分散的製程中，作為用於 顏料的分散的機械力，可列舉：壓縮、壓榨、衝擊、剪切、空蝕(cavitation)等。

作為該些製程的具體例，可列舉：珠磨機、砂磨機、輥磨機、球磨機、塗料振盪器、微射流均質機、高速葉輪、砂研磨機(sand grinder)、射流混合機(flow jet mixer)、高壓濕式微粒化、超音波分散等。另外，於砂磨機(珠磨機)中的顏料的粉碎中，較佳為於藉由使用直徑小的珠粒、增大珠粒的填充率等而提高粉碎效率的條件下進行處理。另外，較佳為於粉碎處理後藉由過濾、離心分離等來去除粗粒子。另外，使顏料分散的製程及分散機可較佳地使用「分散技術大全，資訊機構股份有限公司發行，2005年7月15日」或「以懸浮液(suspension)(固/液分散系)為中心的分散技術與工業應用的實際，綜合資料集，經營開發中心出版部發行，1978年10月10日」、日本專利特開2015-157893號公報的段落編號0022中記載的製程及分散機。另外，於使顏料分散的製程中，亦可進行利用鹽磨(salt milling)步驟的顏料的微細化處理。用於鹽磨步驟的原材料、機器、處理條件等例如可使用日本專利特開2015-194521號公報、日本專利特開2012-046629號公報中記載者。

於製備組成物時，出於去除異物或減少缺陷等目的，較佳為藉由過濾器進行過濾。作為過濾器，若為自先前以來便用於過濾用途等的過濾器，則可無特別限定地使用。例如可列舉利用聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟樹脂、尼龍(例 如尼龍-6、尼龍-6,6)等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯(polypropylene，PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量的聚烯烴樹脂)等原材料的過濾器。該些原材料中，較佳為聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龍。

過濾器的孔徑合適的是0.01μm~7.0μm左右，較佳為0.01μm~3.0μm左右，進而佳為0.05μm~0.5μm左右。藉由設為該範圍，可將微細的異物確實地去除。另外，亦較佳為使用纖維狀的濾材。作為纖維狀的濾材，例如可列舉聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等，具體而言可使用羅基技術(Roki Techno)(股)製造的SBP型系列(SBP008等)、TPR型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX型系列(SHPX003等)的濾筒(filter cartridge)。

當使用過濾器時，亦可將不同的過濾器加以組合。此時，利用第1過濾器的過濾可僅進行一次，亦可進行兩次以上。

另外，亦可於所述範圍內將孔徑不同的第1過濾器加以組合。此處的孔徑可參照過濾器生產商的標稱值。作為市售的過濾器，例如可自日本頗爾(Pall)股份有限公司(DFA4201NXEY等)、愛多邦得科東洋(Advantec Toyo)(股)、日本英特格(Nihon Entegris)(股)(原日本密科理(Mykrolis)(股))或北澤微濾器(Kitz Microfilter)(股)等所提供的各種過濾器中進行選擇。

第2過濾器可使用藉由與所述第1過濾器相同的材料等形成的過濾器。

例如，利用第1過濾器的過濾可僅於分散液中進行，於混合 其他成分後，進行第2過濾。

例如，於藉由塗佈形成膜的情況下，本發明的組成物的黏度(23℃)較佳為處於1mPa．s~3000mPa．s的範圍。下限較佳為3mPa．s以上，更佳為5mPa．s以上。上限較佳為2000mPa．s以下，更佳為1000mPa．s以下。

本發明的組成物亦可用於固體攝像元件的光接收側的近紅外線截止濾波器(例如，相對於晶圓級透鏡的近紅外線截止濾波器等)、固體攝像元件的背面側(與光接收側為相反側)的近紅外線截止濾波器等。另外，亦可將本發明的組成物直接塗佈於影像感測器上進行塗膜形成來使用。

本發明的組成物由於可以能夠塗佈的狀態供給，故可容易地於固體攝像元件的所期望的構件或位置形成近紅外線截止濾波器。

另外，亦可將本發明的組成物應用於玻璃基材或含有銅的層上。

使用本發明的組成物而獲得的膜較佳為於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，且所述的最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500。

另外，膜的最大吸收波長更佳為於720nm~980nm的範圍內具有，進而佳為於740nm~960nm的範圍內具有。另外，膜的吸光度Amax/吸光度A550更佳為70~450，進而佳為100~400。

另外，使用本發明的組成物而獲得的膜的膜厚較佳為20μm以下，更佳為10μm以下，進而佳為5μm以下。膜厚的下限較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，進而佳為0.3μm以上。所述膜厚的範圍的至少一個中，與吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550較佳為50~500。

使用本發明的組成物而獲得的膜及後述的近紅外線截止濾波器的透過率較佳為滿足以下的(1)~(4)中的至少一個條件，進而佳為滿足(1)~(4)的所有條件。

(1)波長400nm下的透過率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為85%以上，特佳為90%以上。

(2)波長500nm下的透過率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，特佳為95%以上。

(3)波長600nm下的透過率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，特佳為95%以上。

(4)波長650nm下的透過率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上，特佳為95%以上。

使用本發明的組成物而獲得的膜及後述的近紅外線截止濾波器的膜厚為20μm以下，波長400nm~650nm的所有範圍下的透過率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上。另外，波長700nm~1000nm的範圍的至少一點下的透過率較佳為20%以下。

<光學濾波器>

其次，對本發明的光學濾波器進行說明。本發明的光學濾波器為使用所述本發明的組成物而成者。光學濾波器可較佳地用作近紅外線截止濾波器、紅外線透過濾波器。另外，光學濾波器亦可用作紅外線遮蔽濾波器。再者，本發明中，所謂近紅外線截止濾波器，是指透過可見光區域的波長的光(可見光)並遮蔽近紅外區域的波長的光(近紅外線)的至少一部分的濾波器。另外，本發明中，所謂紅外線透過濾波器，是指遮蔽可見光區域的波長的光並透過近紅外區域的波長的光(近紅外線)的至少一部分的濾波器。

於將本發明的光學濾波器用作紅外線透過濾波器的情況下，紅外線透過濾波器例如可列舉：遮蔽可見光且透過波長900nm以上的波長的光的濾波器等。於將本發明的光學濾波器用作紅外線透過濾波器的情況下，較佳為除使用本發明的組成物的層以外另存在包含遮蔽可見光的有色材料的層的濾波器。

光學濾波器中的包含本發明的組成物的膜的膜厚可根據目的而適宜調整。膜厚較佳為20μm以下，更佳為10μm以下，進而佳為5μm以下。膜厚的下限較佳為0.1μm以上，更佳為0.2μm以上，進而佳為0.3μm以上。

於將本發明的光學濾波器用作近紅外線截止濾波器的情況下，除包含本發明的組成物的膜以外亦可進而具有抗反射膜、紫外線吸收膜等。作為紫外線吸收膜，例如可參考WO2015/099060號公報的段落編號0040~段落編號0070、段落編 號0119~段落編號0145中記載的吸收層，將該內容併入至本說明書中。作為抗反射膜，可列舉高折射層與低折射層交替地積層而成的積層體(例如，介電體多層膜等)。抗反射膜的分光特性可根據光源的波長、光學濾波器的分光特性等來適宜選擇。藉由將包含本發明的組成物的膜與抗反射膜組合而使用，亦可遮蔽廣泛區域的紅外線。關於抗反射膜的詳細情況，可參考日本專利特開2014-41318號公報的段落編號0255~段落編號0259的記載，將該內容併入至本說明書中。

本發明的光學濾波器可用於電荷耦合元件(CCD)或互補式金屬氧化膜半導體(CMOS)器件等固體攝像元件、或者紅外線感測器、圖像顯示裝置等各種裝置。另外，本發明的光學濾波器可用於具有吸收或截止近紅外線的功能的透鏡(數位照相機或行動電話或車載照相機等照相機用透鏡、f-θ透鏡、讀取透鏡等光學透鏡)及半導體光接收元件用的光學濾波器、為了節能而阻斷紅外線的近紅外線吸收膜或近紅外線吸收板、以太陽光的選擇性的利用為目的之農業用塗佈膜、利用近紅外線的吸收熱的記錄媒體、電子機器用或照片用近紅外線濾波器、保護眼鏡、太陽眼鏡、紅外線阻斷濾波器、光學文字讀取記錄濾波器、防止機密文檔複印用濾波器、電子照片感光體等。另外，作為CCD照相機用雜訊截止濾波器、CMOS影像感測器用濾波器亦有用。

另外，本發明的光學濾波器具有使用本發明的組成物(較佳為進而包含遮蔽可見光的有色材料的組成物)的畫素與選 自紅、綠、藍、洋紅、黃、青、黑及無色中的畫素的態樣亦為較佳態樣。

<積層體>

本發明的積層體具有使用本發明的感放射線性組成物的近紅外線截止濾波器與包含彩色著色劑的彩色濾波器。本發明的積層體中的近紅外線截止濾波器與彩色濾波器可於厚度方向上鄰接，亦可不鄰接。於近紅外線截止濾波器與彩色濾波器於厚度方向上不鄰接的情況下，可於不同於形成有彩色濾波器的基材的基材上形成有近紅外線截止濾波器，亦可於近紅外線截止濾波器與彩色濾波器之間介隔存在有構成固體攝像元件的其他構件(例如，微透鏡、平坦化層等)。

<圖案形成方法>

其次，對本發明的圖案形成方法進行說明。本發明的圖案形成方法包括：使用本發明的感放射線性組成物而於支撐體上形成感放射線性組成物層的步驟；以圖案狀對感放射線性組成物層進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。以下，對各步驟進行詳細敘述。

<<形成感放射線性組成物層的步驟>>

於形成感放射線性組成物層的步驟中，使用本發明的感放射線性組成物而於支撐體上形成感放射線性組成物層。

作為支撐體，例如可列舉：包含玻璃、矽、聚碳酸酯、聚酯、芳香族聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等材料的基材。 另外，可使用在基材上設置有CCD或CMOS等固體攝像元件(光接收元件)的固體攝像元件用支撐體。

圖案可形成於固體攝像元件用基板的形成有固體攝像元件的面側(表面)，亦可形成於未形成固體攝像元件的面側(背面)。於支撐體上，視需要亦可設置底塗層以改良與上部的層的密接、防止物質的擴散或實現基板表面的平坦化。

作為於支撐體上的本發明的感放射線性組成物的應用方法，可使用公知的方法。例如可列舉：滴加法(滴落澆鑄(drop casting))；狹縫式塗佈法；噴霧法；輥塗法；旋轉塗佈法(spin coating)；流延塗佈法；狹縫及旋轉法；預濕法(例如，日本專利特開2009-145395號公報中所記載的方法)；噴墨(例如應需(on-demand)方式、壓電(piezo)方式、加熱(thermal)方式)、噴嘴噴射等噴出系印刷、柔版印刷、網版印刷、凹版印刷、逆轉膠版印刷、金屬遮罩印刷法等各種印刷法；使用模具等的轉印法；奈米壓印法等。藉由噴墨的應用方法並無特別限定，例如可列舉「擴展．使用的噴墨-專利中可見的無限可能性-，2005年2月發行，住友電木科技研究(Sumibe Techno Research)」中所示的日本專利公報中記載的方法(特別是第115~133頁)、或日本專利特開2003-262716號公報、日本專利特開2003-185831號公報、日本專利特開2003-261827號公報、日本專利特開2012-126830號公報、日本專利特開2006-169325號公報等中記載的方法。

形成於支撐體上的感放射線性組成物層可進行乾燥(預 烘烤)。於藉由低溫製程來形成圖案的情況下，亦可不進行預烘烤。於進行預烘烤的情況下，預烘烤溫度較佳為150℃以下，更佳為120℃以下，進而佳為110℃以下。下限例如可設為50℃以上，亦可設為80℃以上。預烘烤時間較佳為10秒~300秒，更佳為40秒~250秒，進而佳為80秒~220秒。乾燥可利用加熱板、烘箱等進行。

<<進行曝光的步驟>>

其次，以圖案狀對形成於支撐體上的感放射線性組成物層進行曝光。例如使用步進機等曝光裝置，介隔具有規定的遮罩圖案的遮罩對感放射線性組成物層進行曝光，藉此可進行圖案曝光。藉此，可使曝光部分硬化。

作為可於曝光時使用的放射線(光)，可較佳地使用g射線、i射線等紫外線(特佳為i射線)。照射量(曝光量)例如較佳為0.03J/cm²~2.5J/cm²，更佳為0.05J/cm²~1.0J/cm²。

可適宜選擇曝光時的氧濃度，除於大氣下進行曝光以外，可於例如氧濃度為19體積%以下的低氧環境下(例如，15體積%、5體積%、實質上無氧)進行曝光，亦可於氧濃度超過21體積%的高氧環境下(例如，22體積%、30體積%、50體積%)進行曝光。另外，可適宜設定曝光照度，通常可自1000W/m²~100000W/m²(例如，5000W/m²、15000W/m²、35000W/m²)的範圍中選擇。氧濃度與曝光照度可組合適宜條件，例如可設為氧濃度為10體積%且照度為10000W/m²、氧濃度為35體積%且照度為20000W/m² 等。

<<顯影步驟>>

其次，將未曝光部顯影去除而形成圖案。未曝光部的顯影去除可使用顯影液進行。藉此，曝光步驟中的未曝光部的感放射線性組成物溶出至顯影液中，而僅使光硬化的部分殘留。

作為顯影液，理想的是不對基底的固體攝像元件或電路等造成損傷的有機鹼性顯影液。

顯影液的溫度例如較佳為20℃~30℃。顯影時間較佳為20秒~180秒。另外，為了提高殘渣去除性，亦可將以下步驟反覆進行幾次：每隔60秒甩去顯影液，進而供給新的顯影液。

作為顯影液中所用的鹼性劑，例如可列舉：氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺、二乙醇胺、羥基胺、乙二胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化苄基三甲基銨、二甲基雙(2-羥基乙基)氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯等有機鹼性劑。顯影液可較佳地使用利用純水將該些鹼性劑稀釋而成的鹼性水溶液。鹼性水溶液的鹼性劑的濃度較佳為0.001質量%~10質量%，更佳為0.01質量%~1質量%。

另外，顯影液中亦可使用無機鹼性劑。作為無機鹼性劑，例如較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等。

另外，顯影液中亦可使用界面活性劑。作為界面活性劑的例 子，可列舉所述本發明的組成物中說明的界面活性劑，較佳為非離子系界面活性劑。

於使用包含鹼性水溶液的顯影液的情況下，較佳為於顯影後利用純水進行清洗(淋洗)。

亦可於顯影後、實施乾燥後進行加熱處理(後烘烤)。後烘烤是用以使膜完全硬化的顯影後的加熱處理。於進行後烘烤的情況下，後烘烤溫度例如較佳為100℃~240℃。就膜硬化的觀點而言，更佳為200℃~230℃。另外，於使用有機電致發光(有機EL(Electroluminescence))元件作為發光光源的情況下或利用有機原材料構成影像感測器的光電轉換膜的情況下，後烘烤溫度較佳為150℃以下，更佳為120℃以下，進而佳為100℃以下，特佳為90℃以下。下限例如可設為50℃以上。可使用加熱板或對流烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等加熱機構，以成為所述條件的方式，藉由連續式或批次式對顯影後的膜進行後烘烤。

另外，本發明的圖案形成方法亦可於對未曝光部進行顯影去除後(顯影後)進而具有進行曝光的步驟(以下，將顯影後的曝光亦稱為後曝光)。於使用包含肟化合物與α-胺基酮化合物作為光聚合起始劑的感放射線性組成物的情況下，較佳為進行後曝光。藉由以圖案形成前後的兩個階段對感放射線性組成物層進行曝光，可於最初的曝光(形成圖案之前的曝光)中使感放射線性組成物適度地硬化，且可於接下來的曝光(形成圖案之後的曝光)中使感放射線性組成物整體大致硬化。結果，即便後烘烤溫度為 180℃以下，亦可提高感放射線性組成物的硬化性。

於以兩個階段進行曝光的情況下，亦可於後曝光後進而進行後烘烤。後烘烤溫度例如較佳為100℃~240℃。

<固體攝像元件>

本發明的固體攝像元件具有所述本發明的光學濾波器。作為本發明的固體攝像元件的構成，只要為具有本發明的光學濾波器且作為固體攝像元件而發揮功能的構成，則並無特別限定，例如可列舉以下般的構成。

所述固體攝像元件為以下構成：於支撐體上具有構成固體攝像元件的光接收區域的多個光二極體(photodiode)及包含多晶矽等的傳輸電極，於光二極體及傳輸電極上具有僅光二極體的光接收部開口的包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜整個面及光二極體光接收部的方式形成的包含氮化矽等的器件保護膜，於器件保護膜上具有本發明的膜。

進而，亦可為於器件保護膜上且近紅外線截止濾波器之下(靠近支撐體之側)具有聚光機構(例如，微透鏡等。以下相同)的構成、或於近紅外線截止濾波器上具有聚光機構的構成等。另外，固體攝像元件中，彩色濾波器亦可具有在藉由隔離壁而分隔為例如格子狀的空間內將形成各色畫素的硬化膜埋入的結構。此種情況下的隔離壁較佳為相對於各色畫素而為低折射率。作為具有此種結構的攝像裝置的例子，可列舉日本專利特開2012-227478號公報、日本專利特開2014-179577號公報中記載的裝置。

<圖像顯示裝置>

本發明的光學濾波器亦可用於液晶顯示裝置或有機電致發光(有機EL)顯示裝置等圖像顯示裝置。例如，藉由與各著色畫素(例如紅色、綠色、藍色)一起使用，可出於阻斷圖像顯示裝置的背光(例如白色發光二極體(白色LED(Light Emitting Diode)))中所含的紅外光並防止周邊機器的誤動作的目的、或出於形成各著色顯示畫素以及紅外畫素的目的而使用。

關於圖像顯示裝置的定義或圖像顯示裝置的詳細情況，例如記載於「電子顯示器器件(佐佐木昭夫著，工業調查會(股)，1990年發行)」、「顯示器器件(伊吹順章著，產業圖書(股)，1989年發行)」等中。另外，關於液晶顯示裝置，例如記載於「下一代液晶顯示器技術(內田龍男編輯，工業調查會(股)，1994年發行)」中。對於本發明可應用的液晶顯示裝置並無特別限制，例如可應用於所述「下一代液晶顯示器技術」中所記載的多種方式的液晶顯示裝置。

圖像顯示裝置可具有白色有機EL元件。白色有機EL元件較佳為串聯結構。關於有機EL元件的串聯結構，於日本專利特開2003-45676號公報，三上明義主編，「有機EL技術開發的最前線-高亮度．高精度．長壽命化．專有技術集-」，技術資訊協會，第326-328頁，2008年等中有記載。有機EL元件所發出的白色光的光譜較佳為於藍色區域(430nm-485nm)、綠色區域(530nm-580nm)及黃色區域(580nm-620nm)中具有強的最大發光峰值者。 更佳為除該些發光峰值以外，進而於紅色區域(650nm-700nm)中具有最大發光峰值者。

<紅外線感測器>

本發明的紅外線感測器具有所述本發明的光學濾波器。作為紅外線感測器的構成，只要為具有本發明的光學濾波器且作為紅外線感測器而發揮功能的構成，則並無特別限定。

以下，使用圖式對本發明的紅外線感測器的一實施形態進行說明。

圖1中，符號110為固體攝像元件。設於固體攝像元件110上的攝像區域具有近紅外線截止濾波器111與紅外線透過濾波器114。另外，於近紅外線截止濾波器111上積層有彩色濾波器112。於彩色濾波器112及紅外線透過濾波器114的入射光hν側配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115的方式形成有平坦化層116。近紅外線截止濾波器111可使用本發明的組成物而形成。

彩色濾波器112為透過及吸收可見光區域的特定波長的光並形成有畫素的彩色濾波器，並無特別限定，可使用先前公知的畫素形成用的彩色濾波器。例如可使用形成有紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)的畫素的彩色濾波器等。例如可參考日本專利特開2014-043556號公報的段落編號0214~段落編號0263的記載，將該內容併入至本說明書中。

紅外線透過濾波器114藉由後述的紅外LED的發光波長而選擇其特性。例如，於紅外LED的發光波長為850nm的情 況下，紅外線透過濾波器114的膜的厚度方向的透光率於波長400nm~650nm的範圍內的最大值較佳為30%以下，更佳為20%以下，進而佳為10%以下，特佳為0.1%以下。該透過率較佳為於波長400nm~650nm的範圍的整個區域中滿足所述條件。波長400nm~650nm的範圍內的最大值通常為0.1%以上。

紅外線透過濾波器114的膜的厚度方向的透光率於波長800nm以上(較佳為800nm~1300nm)的範圍內的最小值較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上。該透過率較佳為於波長800nm以上的範圍的一部分滿足所述條件，且較佳為於與紅外LED的發光波長相對應的波長下滿足所述條件。波長900nm~1300nm的範圍內的透光率的最小值通常為99.9%以下。

紅外線透過濾波器114的膜厚較佳為100μm以下，更佳為15μm以下，進而佳為5μm以下，特佳為1μm以下。下限值較佳為0.1μm。若膜厚為所述範圍，則可製成滿足所述分光特性的膜。

以下示出紅外線透過濾波器114的分光特性、膜厚等的測定方法。

關於膜厚，使用觸針式表面形狀測定器(愛發科(ULVAC)(股)製造的DEKTAK150)來對具有膜的乾燥後的基板進行測定。

膜的分光特性為使用紫外可見近紅外分光光度計(日立先端科技(Hitachi High-Technologies)(股)製造的U-4100)並於波長300nm~1300nm的範圍下測定透過率而得的值。

具有所述分光特性的紅外線透過濾波器114可使用包含遮蔽可見光的有色材料的組成物來形成。關於遮蔽可見光的有色材料的詳細情況，與所述本發明的組成物中說明的範圍相同。

另外，例如於紅外LED的發光波長為940nm的情況下，紅外線透過濾波器114較佳為膜的厚度方向的透光率於波長450nm~650nm的範圍內的最大值為20%以下，膜的厚度方向的波長835nm的透光率為20%以下，膜的厚度方向的透光率於波長1000nm~1300nm的範圍內的最小值為70%以上。

具有所述分光特性的紅外線透過濾波器114可使用包含遮蔽可見光的有色材料與於750nm~950nm的範圍具有最大吸收波長的近紅外線吸收化合物的組成物來製造。關於遮蔽可見光的有色材料的詳細情況，與所述本發明的組成物中說明的範圍相同。作為近紅外線吸收化合物，可列舉所述本發明的組成物中說明的近紅外線吸收化合物等。

[實施例]

以下，列舉實施例來對本發明進行更具體的說明。以下的實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理程序等只要不脫離本發明的主旨，則可適宜變更。因而，本發明的範圍並不限定於以下所示的具體例。再者，只要無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。以下的結構式中，Me表示甲基，Ph表示苯基。

<酸價的測定方法>

使測定樣品溶解於四氫呋喃/水=9/1(質量比)的混合溶媒 中，並使用電位差滴定裝置(商品名：AT-510，京都電子工業(股)製造)，於25℃下，藉由0.1mol/L氫氧化鈉水溶液對所獲得的溶液進行中和滴定。將滴定pH曲線的拐點設為滴定終點，並藉由下式來算出酸價。

A=56.11×Vs×0.5×f/w

A：酸價(mgKOH/g)

Vs：滴定所需要的0.1mol/L氫氧化鈉水溶液的使用量(mL)

f：0.1mol/L氫氧化鈉水溶液的滴定率

w：測定樣品的質量(g)(固體成分換算)

<胺價的測定>

使測定樣品溶解於乙酸中，並使用電位差滴定裝置(商品名：AT-510，京都電子工業(股)製造)，於25℃下，藉由0.1mol/L過氯酸/乙酸溶液對所獲得的溶液進行中和滴定。將滴定pH曲線的拐點設為滴定終點，並藉由下式來算出胺價。

B=56.11×Vs×0.1×f/w

B：胺價(mgKOH/g)

Vs：滴定所需要的0.1mol/L過氯酸/乙酸溶液的使用量(mL)

f：0.1mol/L過氯酸/乙酸溶液的滴定率

w：測定樣品的質量(g)(固體成分換算)

<重量平均分子量的測定>

關於樹脂的重量平均分子量的測定，使用HPC-8220GPC(東曹(TOSOH)(股)製造)作為測定裝置，使用TSKguardcolumn SuperHZ-L作為保護管柱，且使用將TSKgel SuperHZM-M、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ3000、TSKgel SuperHZ2000直接連結而成的管柱作為管柱，將管柱溫度設為40℃，並注入10μL的試樣濃度為0.1質量%的四氫呋喃溶液，以每分鐘0.35mL的流量使作為溶出溶劑的四氫呋喃流動，並使用示差折射率(RI)檢測裝置檢測出試樣峰值，利用使用標準聚苯乙烯而製作的校準曲線來進行計算。

<分散液的製備>

(分散液1)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物1、1.5質量份的顏料衍生物1、5.6質量份的分散劑1、85質量份的丙二醇單甲醚乙酸酯(Propyleneglycol monomethyl ether acetate，PGMEA)、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液1。

化合物1：下述化合物

[化65]

顏料衍生物1：下述化合物

分散劑1：下述結構的樹脂(酸價=32.3mgKOH/g、胺價=45.0mgKOH/g、重量平均分子量=21000)。附記於主鏈的數值表示重複單元的莫耳比，附記於側鏈的數值表示重複單元的個數。分散劑1亦為鹼可溶性樹脂。

[化67]

(分散液2)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物2、1.5質量份的顏料衍生物1、5.6質量份的分散劑1、85質量份的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液2。

化合物2：下述化合物

(分散液3)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物3、1.5質量份的顏料衍生物1、5.6質量份的分散劑1、85質量份的丙二醇單甲醚 (PGME)、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液3。

化合物3：下述化合物

(分散液4)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物4(IRA884，依西頓(Exiton)公司製造)、5.6質量份的分散劑1、85質量份的PGMEA、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液4。

(分散液5)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物5(SDO-C33，有本化學工業(股)製造)、5.6質量份的分散劑1、85質量份的PGMEA、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液5。

(分散液6)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物6(SMP-388，林原(股)製造)、5.6質量份的分散劑1、85質量份的PGMEA、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液6。

(分散液7)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物7、1.5質量份的顏料衍生物2、5.6質量份的分散劑2、85質量份的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液7。

化合物7：下述化合物

[化70]

顏料衍生物2：下述化合物

分散劑2：下述結構的樹脂(酸價=57mgKOH/g、重量平均分子量=33000)。附記於主鏈的數值表示重複單元的莫耳比，附記於側鏈的數值表示重複單元的個數。分散劑2亦為鹼可溶性樹脂。

[化72]

(分散液8)

將YMS-01A-2(住友金屬礦山(股)製造，鎢微粒子的分散物)用作分散液8。

(分散液9)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物9(IRG-068，日本化藥(股)製造)、5.6質量份的分散劑1、85質量份的PGMEA、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液9。

(分散液10)

藉由塗料振盪器對7.8質量份的化合物10(IRA868，依西頓(Exiton)公司製造)、5.6質量份的分散劑1、85質量份的PGMEA、以及200質量份的直徑0.5mm的氧化鋯珠進行30分鐘的分散處理後，使用日本頗爾(Pall)(股)製造的DFA4201NXEY(0.45μm的尼龍過濾器)進行過濾，繼而藉由過濾將氧化鋯珠分離來製備分散液10。

<感放射線性組成物的製備>

於以下述所示的比例(質量份)將下述表中所示的材料混合及攪拌後，利用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(日本頗爾(Pall)(股)製造，DFA4201NXEY)進行過濾來製備感放射線性組成物。再者，以下的表中，M/B比為自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比(自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂)。

[表1]

所述表中所示的材料如下所述。

(自由基聚合性化合物)

M-510：阿羅尼斯(Aronix)M-510(東亞合成(股)製造，多元酸改質丙烯酸寡聚物)

M-305：阿羅尼斯(Aronix)M-305(東亞合成(股)製造，季戊四醇三丙烯酸酯與季戊四醇四丙烯酸酯的混合物，含有55質量%~63質量%的季戊四醇三丙烯酸酯)

(鹼可溶性樹脂)

樹脂A：下述結構的樹脂(酸價=101mgKOH/g、重量平均分子量=38900)。附記於主鏈的數值表示重複單元的質量比，附記於側鏈的數值表示重複單元的個數。

樹脂B：壓克力庫亞(Acrycure)RD-F8(日本觸媒(股)製造)

(光自由基聚合起始劑)

C-1：豔佳固(IRGACURE)OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)

C-2：豔佳固(IRGACURE)369(巴斯夫(BASF)公司製造)

C-3：下述化合物

C-4：B-CIM(保土谷化學工業(股)製造，2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-聯咪唑)

C-5：豔佳固(IRGACURE)OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)

(紫外線吸收劑)

D-1：下述化合物

D-2：下述化合物

[化76]

D-3：尤比娜璐(Uvinul)A(巴斯夫(BASF)公司製造)

(鏈轉移劑)

E-1：下述化合物

E-2：桑塞拉(sanceler)M(三新化學工業(股)製造，2-巰基苯并噻唑)

E-3：卡蘭茨(Karenz)MT BD1(昭和電工(股)製造，1,4-雙(3-巰基丁醯氧基)丁烷)

(界面活性劑)

F-1：下述混合物(重量平均分子量=14000，表示重複單元的比例的%為質量%)

[化78]

(聚合抑制劑)

G-1：對甲氧基苯酚

(溶劑)

PGMEA：丙二醇單甲醚乙酸酯

PGME：丙二醇單甲醚

BDGAC：二乙二醇單丁醚乙酸酯

<評價>

(矩形性)

利用旋塗法，將各感放射線性組成物以塗佈後的膜厚成為0.7μm的方式塗佈於附底塗層的矽晶圓上，之後於加熱板上以100℃進行2分鐘加熱，而獲得感放射線性組成物層。

繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，介隔具有1.1μm見方的拜耳圖案的遮罩，對所獲得的感放射線性組成物層進行曝光(曝光量是選擇線寬成為1.1μm的最佳曝光量)。

繼而，使用氫氧化四甲基銨(Tetramethylammonium hydroxide，TMAH)0.3質量%水溶液，於23℃下對曝光後的感放 射線性組成物層進行60秒鐘覆液式顯影。之後，藉由旋轉噴淋來進行淋洗，進而藉由純水進行水洗而獲得圖案。

利用掃描式電子顯微鏡(Scanning electron microscope，SEM)來觀察(倍率25000倍)圖案部的剖面(畫素側壁)並評價矩形性。將結果示於下述表中。

4：畫素側壁的角度為85°以上且未滿95°

3：畫素側壁的角度為80°以上且未滿85°、或者為95°以上且未滿100°

2：畫素側壁的角度為70°以上且未滿80°、或者為100°以上且未滿110°

1：畫素側壁的角度未滿70°、或者為110°以上

<殘渣殘留>

利用旋塗法，將各感放射線性組成物以塗佈後的膜厚成為0.7μm的方式塗佈於附底塗層的矽晶圓上，之後於加熱板上以100℃進行2分鐘加熱，而獲得感放射線性組成物層。

繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，介隔遮罩以1.1μm見方的拜耳圖案對所獲得的感放射線性組成物層進行曝光(曝光量是選擇線寬成為1.1μm的最佳曝光量)。

繼而，使用氫氧化四甲基銨(TMAH)0.3質量%水溶液，於23℃下對曝光後的感放射線性組成物層進行60秒鐘覆液式顯影。之後，藉由旋轉噴淋來進行淋洗，進而藉由純水進行水洗而獲得 圖案。

藉由圖像的二值化處理來對殘留於所獲得的圖案的基底上的殘渣的量進行評價。將結果示於下述表中。

3：殘渣的量未滿基底總面積的1%

2：殘渣的量為基底總面積的1%~3%

1：殘渣的量超過基底總面積的3%

(分光特性)

利用旋塗法，將所述獲得的實施例及比較例的各感放射線性組成物以塗佈後的膜厚成為0.7μm的方式塗佈於玻璃晶圓上，之後於加熱板上以100℃進行2分鐘加熱。其次，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，以1000mJ/cm²進行曝光。進而，於加熱板上以220℃進行5分鐘加熱而形成感放射線性組成物層。對於形成有感放射線性組成物層的基板，使用分光光度計U-4100(日立先端科技(Hitachi High-Technologies)(股)製造)，求出最大吸收波長、最大吸收波長下的吸光度Amax、波長550nm下的吸光度A550，並算出最大吸收波長下的吸光度Amax與波長550nm下的吸光度A550的比(吸光度Amax/吸光度A550)。

5：吸光度Amax/吸光度A550比為100~500，並且最大吸收波長為700nm以上且1000nm以下

4：吸光度Amax/吸光度A550比為50以上且未滿100，並且最大吸收波長為700nm以上且1000nm以下

3：吸光度Amax/吸光度A550比為20以上且未滿50，並且最大吸收波長為700nm以上且1000nm以下

2：吸光度Amax/吸光度A550比未滿20，並且最大吸收波長為700nm以上且1000nm以下

1：吸光度Amax/吸光度A550比未滿20，並且最大吸收波長未滿700nm或超過1000nm

如所述表所示，實施例的分光特性及矩形性優異，可形成紅外線遮蔽性良好且矩形性優異的圖案。進而亦可抑制殘渣殘留。另外，將使用實施例的感放射線性組成物的硬化膜組入至固體攝像元件中，結果紅外線遮蔽性高，圖像的視認性優異。

相對於此，比較例的矩形性及分光特性的至少一者差。

(實施例101)

利用旋塗法，將實施例1的感放射線性組成物以塗佈後的膜厚成為0.7μm的方式塗佈於附底塗層的矽晶圓上，之後於加熱板上以100℃進行2分鐘加熱，而獲得感放射線性組成物層。

繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，介隔具有1.1μm見方的拜耳圖案的遮罩，對所獲得的感放射線性組成物層進行曝光(曝光量是選擇線寬成為1.1μm的最佳曝光量)。

繼而，使用氫氧化四甲基銨(TMAH)0.3質量%水溶液，於23℃下對曝光後的感放射線性組成物層進行60秒鐘覆液式顯影。之後，藉由旋轉噴淋來進行淋洗，並藉由純水進行水洗，於加熱板上以220℃進行5分鐘加熱而獲得圖案。

(實施例102)

利用旋塗法，將實施例1的感放射線性組成物以塗佈後的膜厚成為0.7μm的方式塗佈於附底塗層的矽晶圓上，之後於加熱板上以100℃進行2分鐘加熱，而獲得感放射線性組成物層。

繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon) (股)製造)，介隔具有1.1μm見方的拜耳圖案的遮罩，對所獲得的感放射線性組成物層進行曝光(曝光量是選擇線寬成為1.1μm的最佳曝光量)。

繼而，使用氫氧化四甲基銨(TMAH)0.3質量%水溶液，於23℃下對曝光後的感放射線性組成物層進行60秒鐘覆液式顯影。之後，藉由旋轉噴淋來進行淋洗，並藉由純水進行水洗。進而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，以1000mJ/cm²進行全面曝光，然後於加熱板上以220℃進行5分鐘加熱而獲得圖案。

實施例101與實施例102中可形成紅外線遮蔽性及矩形性優異的圖案。另外，實施例101與實施例102中，利用掃描式電子顯微鏡(SEM)來觀察(倍率25000倍)圖案部的剖面(畫素側壁)，結果相較於實施例101而實施例102的矩形性良好。

110:固體攝像元件

111:近紅外線截止濾波器

112:彩色濾波器

114:紅外線透過濾波器

115:微透鏡

116:平坦化層

hν:入射光

Claims (25)

1. 一種感放射線性組成物，其包含近紅外線吸收劑、樹脂、自由基聚合性化合物以及光自由基聚合起始劑，且所述感放射線性組成物於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，所述最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500，所述樹脂包含具有酸基的樹脂，所述自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.5~0.7。
2. 如申請專利範圍第1項所述的感放射線性組成物，其中所述樹脂包含鹼可溶性樹脂，且所述自由基聚合性化合物與所述鹼可溶性樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/鹼可溶性樹脂=0.3~0.7。
3. 一種感放射線性組成物，其包含近紅外線吸收劑、樹脂、自由基聚合性化合物以及光自由基聚合起始劑，且所述感放射線性組成物於700nm~1000nm的範圍內具有最大吸收波長，所述最大吸收波長下的吸光度Amax、與波長550nm下的吸光度A550的比即吸光度Amax/吸光度A550為50~500，所述樹脂包含具有酸基的樹脂，所述自由基聚合性化合物與具有酸基的樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/具有酸基的樹脂=0.3~0.7，所述樹脂包含鹼可溶性樹脂，所述鹼可溶性樹脂不含有聚合 性基。
4. 如申請專利範圍第3項所述的感放射線性組成物，其中所述自由基聚合性化合物與所述鹼可溶性樹脂的質量比為自由基聚合性化合物/鹼可溶性樹脂=0.3~0.7。
5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述光自由基聚合起始劑包含肟化合物。
6. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述光自由基聚合起始劑包含肟化合物與α-胺基酮化合物。
7. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述自由基聚合性化合物為包含酸基的自由基聚合性化合物。
8. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其進而包含鏈轉移劑。
9. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其進而包含紫外線吸收劑。
10. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述近紅外線吸收劑包含選自有機顏料及無機顏料中的至少一種。
11. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中於所述感放射線性組成物的總固體成分中含有20質量%以上的所述近紅外線吸收劑。
12. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述鹼可溶性樹脂的酸價為30mgKOH/g~500mgKOH/g。
13. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中於所述感放射線性組成物的總固體成分中，所述自由基聚合性化合物的含量為10質量%~35質量%。
14. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述近紅外線吸收劑為吡咯并吡咯化合物。
15. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的感放射線性組成物，其中所述近紅外線吸收劑為下述式(5)所表示的化合物，

    

    環A及環B分別獨立地表示芳香環或雜芳香環，X^A及X^B分別獨立地表示取代基，G^A及G^B分別獨立地表示取代基，kA表示0~nA的整數，kB表示0~nB的整數，nA及nB分別表示可取代於環A或環B的最大整數，X^A與G^A、X^B與G^B可相互鍵結而形成環，於G^A及G^B分別 存在多個的情況下，亦可相互鍵結而形成環結構。
16. 如申請專利範圍第15項所述的感放射線性組成物，其中所述式(5)中，所述環A及環B為萘環，所述X^A及X^B分別獨立地表示-NR^X1R^X2，所述R^X1及R^X2分別獨立地表示氫原子或取代基，所述kA及所述kB表示1，所述X^A與G^A相互鍵結而形成環，所述X^B與G^B相互鍵結而形成環。
17. 一種光學濾波器，其使用如申請專利範圍第1項至第16項中任一項所述的感放射線性組成物。
18. 如申請專利範圍第17項所述的光學濾波器，其中所述光學濾波器為近紅外線截止濾波器或紅外線透過濾波器。
19. 如申請專利範圍第17項或第18項所述的光學濾波器，其進而具有抗反射膜。
20. 一種積層體，其具有使用如申請專利範圍第1項至第16項中任一項所述的感放射線性組成物的近紅外線截止濾波器、與包含彩色著色劑的彩色濾波器。
21. 一種圖案形成方法，其包括：使用如申請專利範圍第1項至第16項中任一項所述的感放射線性組成物而於支撐體上形成感放射線性組成物層的步驟；以圖案狀對感放射線性組成物層進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成圖案的步驟。
22. 如申請專利範圍第21項所述的圖案形成方法，其於將所述未曝光部顯影去除後進而包括進行曝光的步驟。
23. 一種固體攝像元件，其具有如申請專利範圍第17項 所述的光學濾波器。
24. 一種圖像顯示裝置，其具有如申請專利範圍第17項所述的光學濾波器。
25. 一種紅外線感測器，其具有如申請專利範圍第17項所述的光學濾波器。

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