JP6173768B2 - 赤外線遮蔽シート及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、効率的に赤外線を吸収、反射するとともに透明性に優れ、低ヘイズ性の新たな赤外線遮蔽シートならびにその製造方法に関するものである。

近年、省エネルギーや地球環境問題の観点から、空調機器の負荷を軽減することが求められている。例えば、住宅や自動車の分野では太陽光からの赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽材料を窓ガラスへ敷設し、室内や車内の温度を制御することが求められている。

赤外線遮蔽性を有する材料は様々あるが、特許文献１では赤外線領域の特定波長の光線を反射させる為に高屈折率層と低屈折率層の誘電体多層膜と、ＡＴＯ等の微粒子膜を積層した断熱部材が開示されている。この断熱部材は誘電体多層膜と微粒子層を別々に製膜するため、製造コストの問題がある。

特許文献２では透明導電層と赤外線領域における屈折率が相対的に高い高屈折率層とが積層された断熱部材が開示されている。しかし、赤外線領域の低屈折率層として導電層が用いられているため、携帯電話、テレビ、ＧＰＳ等室内外と電波送受信を行うための電波透過性能が求められるシステムに対しては使用できないという問題がある。さらにスパッタ等の真空設備が必要なため製造コストの問題がある。

特開２００２−２２０２６２号公報 特開２０１０−２０２４６５号公報

本発明は、可視光領域における透明性、電波透過性、赤外線遮蔽性、製造コストを大幅に改善した新たな赤外線遮蔽シートを提供することを目的とする。

本発明者らは、従来技術のこのような問題に対して鋭意検討した結果、微粒子を含有する高屈折率樹脂層と赤外線領域で前記高屈折率樹脂層中に含有される微粒子よりも相対的に低屈折率を示す微粒子を含有する低屈折率樹脂層を塗布にて積層することにより、透明性、電波透過性を有し、且つ製造コスト、赤外線遮蔽性が大幅に改善された新たな赤外線遮蔽シートを得ることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は
（１）透明支持体上に微粒子を含有した高屈折率樹脂層（Ａ）と低屈折率樹脂層（Ｂ）が交互に積層した積層膜において、高屈折率樹脂層（Ａ）が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以下、低屈折率樹脂層（Ｂ）が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ当該差分の波長領域において、前記（Ａ）、（Ｂ）での任意の同一波長にて（Ｂ）の屈折率が（Ａ）より低い屈折率である事を特徴とする赤外線遮蔽シート、
（２）（Ａ）、（Ｂ）各層の表面抵抗が１ｋΩ／□以上であり、前記（Ａ）、（Ｂ）の層数の合計が３以上であり、各層の光学膜厚が１９５ｎｍ〜３７５ｎｍである（１）に記載の赤外線遮蔽シート、
（３）可視光透過率が５０％以上、ヘイズが８％以下である（１）または（２）に記載の赤外線遮蔽シート、
（４）前記高屈折率樹脂層（Ａ）に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物の群から選択される少なくとも一種の微粒子である（１）乃至（３）の何れか一項に記載の赤外線線遮蔽シート、
（５）前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステンの群から選択される少なくとも一種の微粒子である（１）乃至（４）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（６）前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子がＳｂドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、Ｇａドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸素欠乏酸化タングステン、Ｃｓドープ酸化タングステンの群から選択される少なくとも一種である（１）乃至（５）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（７）低屈折率樹脂層（Ｂ）に（５）又は（６）から選ばれる微粒子に加え、さらに中空微粒子が含まれる（１）乃至（６）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（８）高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が９０重量％以下である（１）及至（７）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート、
（９）高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層が塗布により形成されることを特徴とする（１）及至（８）の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートの製造方法。
（１０）（１）乃至（９）に記載の赤外線遮蔽シートと、７８０ｎｍ〜２０００ｎｍを選択的に反射するコレステリック液晶膜、複屈折多層膜、又は７８０ｎｍ〜２５００ｎｍを選択的に吸収する赤外線吸収色素の少なくとも１種を組み合わせて為る赤外線遮蔽シート、
に関する。

本発明の赤外線遮蔽シートは、赤外線の広い領域に対して良好な吸収特性に加え反射特性を有し且つ、電波透過性、透明性、製造コストに優れ、低ヘイズ性であり赤外線遮蔽性能を効果的に大幅に向上させることができ、冬季暖房費低減効果および夏期温度低減効果を両方ともに向上させることができる。

本発明の実施例１に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する透過率・反射率を示すグラフである。 本発明の比較例に係る赤外線遮蔽シートの波長に対する屈折率・反射率を示すグラフである。

本発明の赤外線遮蔽シートは、透明支持体のうち、少なくとも一方の面に、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子を含有する樹脂層と、この層よりも赤外線領域で相対的に低屈折率を示す微粒子を含有する樹脂層とを交互に積層した多層構造体であることを特徴とする。なお、本発明での赤外線領域とは７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの事を示す。

本発明に用いられる透明支持体としては、種々の樹脂フィルム、ガラスを用いることができ、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（以下、ＰＥＮ）等）、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリアミド、ポリイミド等を用いることができる。

高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層とを交互に積層してなる赤外線遮蔽シートは、赤外線領域における両者の屈折率差と、高屈折率樹脂層の屈折率の絶対値とが赤外線反射機能を決定するのに重要となる。即ち、屈折率差、屈折率の絶対値とも大きい方が赤外線反射機能は大きくなる。

本発明において、少なくとも隣接した２層（高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層）の屈折率差が反射させる赤外線波長において０．２以上であることを特徴とする。好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上である。

屈折率差が０．２未満の場合は、赤外線反射率を所望の値にする為には積層数が多くなり、可視透過率が低下し、また製造コストが増加するため好ましくない。

反射させる赤外線波長λは一般的に式（１）で与えられる。ｎ_Ｈ、ｄ_Ｈは高屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚、ｎ_Ｌ、ｄ_Ｌは低屈折率樹脂層の屈折率、幾何学膜厚である。
式（１）
ｎ_Ｈｄ_Ｈ＋ｎ_Ｌｄ_Ｌ＝λ／２

ここで、高屈折率樹脂層と低屈折率樹脂層はλ／４の整数倍となるよう同じ光学膜厚（屈折率ｎと幾何学膜厚ｄの積）にすることが好ましい。また、反射させる赤外線波長は７８０ｎｍ〜１５００ｎｍが好ましい。７８０ｎｍ未満の場合は、可視光領域になるため可視光透過率が低下するので好ましくない。また、１５００ｎｍ以上では低屈折率樹脂層に含有される微粒子による吸収があるので赤外線遮蔽効果が薄れる為好ましくない。即ち高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層の７８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長における光学膜厚は１９５ｎｍ〜３７５ｎｍが好ましい。

本発明の多層膜の層数は、３層〜３０層であること好ましく、より好ましくは３層〜２０層、特に好ましくは３層〜１５層である。多層膜の層数が３未満であると赤外線の反射機能が不十分であり、また、３０層以上になると製造コストの増加、可視光透過率、耐久性の低下、膜応力増加によるフィルムのカールが問題となるので好ましくない。

赤外線遮蔽シートの光学性能としては、可視光透過率が高く、日射透過率が低いものが理想的であるが、一般的には両者は比例関係にあり、どちらの性能を重視するかにより光学性能を決定することになる。種々検討した結果、照明コスト並びに冬季の暖房コストの上昇を最小限にするためには、本発明の赤外線遮蔽シートの可視光透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上とするが良い。さらに赤外線遮蔽シートのヘイズ値は、透明性を損なわないものとする必要があり、８％以下とするのが良く、好ましくは３％以下とするのが良い。

塗布による屈折率差を利用した多層膜を作製する場合、従来の技術では高屈折率樹脂層に屈折率が高い誘電体微粒子（酸化チタン等）を含有させ、低屈折率樹脂層に屈折率が低い誘電体微粒子（二酸化ケイ素等）を含有させていた（例えば、特開２０１２−９３４８１）。可視光領域から赤外線領域における前記誘電体微粒子の屈折率は概ね一定である。

しかし、本発明者らは鋭意検討した結果、可視光領域の屈折率と赤外線領域の屈折率が異なる微粒子群を発見し、さらに赤外吸収能も有していることから、前記微粒子群と従来の誘電体微粒子群を組み合わせることで、より効率的に赤外線領域を遮蔽することが可能となることを見出した。

前記微粒子が含有された高屈折率樹脂層は５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以下である事が好ましく、低屈折率樹脂層は５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ当該差分の波長領域において、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層での任意の同一波長にて低屈折率樹脂層の屈折率が高屈折率樹脂層より低い屈折率である事が好ましい。

前記条件が満たされる高屈折率樹脂層に含有される微粒子は可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で高屈折率を示す微粒子が適している。そのような微粒子としては酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、ダイヤモンド等の誘電体微粒子を例示することができる。このうち、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、ダイヤモンドが好適である。また、前記誘電体微粒子ではないが、赤外線領域で高屈折率を示すかつ、赤外吸収能を有する微粒子としてホウ化物、窒化物を例示することができる。具体的には六ホウ化ランタン、窒化チタンが好適である。

これら赤外線領域で高屈折率を示す微粒子は単独または２種類以上で用いても良く、さらに積層膜中の各々の高屈折率樹脂層において別々の微粒子を用いても構わない。

また、低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、可視光領域の吸収が少なく、赤外線領域で良好な吸収を有し、且つ屈折率が高屈折率樹脂層含有微粒子よりも相対的に低い屈折率を有しているものが適している。そのようなものとして、赤外線領域にプラズマ波長を持っている電気伝導性の金属酸化物微粒子が挙げられる。具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。このうち、可視光領域に光吸収性の少ない酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステンが好ましく、その中でも酸化インジウムがさらに好ましい。

また、これらの金属酸化物微粒子の電気導電性を向上させるために第三成分をドープまたは酸素欠陥を有することが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化スズに対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が挙げられ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が挙げられ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が挙げられ、酸化タングステンに対して酸素欠陥ＷＯ_ｘ（但し、２．４５≦ｘ≦２．９９９）、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｕ等が挙げられる。これらの中でも、Ｓｎドープ酸化インジウムが好ましい。

さらに低屈折率樹脂層に含有される微粒子は、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗が１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、微粒子のプラズマ共鳴に由来する吸収が２５００ｎｍより大きくなり赤外線遮蔽効果が低減する。なお、紛体抵抗の測定法として、紛体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型（三菱化学アナリテック製）が好ましいが、これに限定されるものではない。

また、低屈折率樹脂層に含有される微粒子に加え、低屈折率である中空微粒子を含有させることが好ましい。中空微粒子としては中空シリカ、中空アクリルビーズ等公知の中空微粒子を用いることができる。

中空微粒子の空孔率は１０体積％〜９０体積％が好ましい。空孔率が１０体積％未満の場合は中空微粒子の屈折率が低下せず、低屈折率樹脂層に用いることができない。また空孔率が９０体積％より高い場合、中空粒子の機械的強度が低下し、中空を保てなくなるので好ましくない。

低屈折率樹脂層に金属酸化物微粒子と中空微粒子を組み合わせる場合、低屈折率樹脂層に含有される微粒子の内、金属酸化物微粒子の割合は１０重量％〜９０重量％が好ましく、より好ましくは２０重量％〜９０重量％である。金属酸化物微粒子が１０重量％未満の場合は金属酸化物による赤外線吸収能が不足するので好ましくない。また９０重量％より多い場合は中空微粒子の割合が少なくなり好ましくない。

さらに本発明の赤外線遮蔽シートに用いる微粒子は、一次粒子径が３００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ〜２００ｎｍのものが用いられる。一次粒子径が３００ｎｍより大きくなると赤外線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。なお、粒径はＢＥＴ法で測定された比表面積より算出されたものである。

赤外線遮蔽シートの赤外線遮蔽性能、平滑性、低ヘイズ、電波透過性を満たす為に微粒子を適切に分散する事は重要である。分散方法として、サンドミル、アトライター、ボールミル、ホモジナイザー、ロールミル、ビーズミルを用いることが好ましい。これらの中でもビーズミルが特に好ましい。ビーズミルを用いた場合、周速は３ｍ／ｓ〜１０ｍ／ｓが好ましい。３ｍ／ｓより低くなると、微粒子を十分分散できずに、１０ｍ／ｓより高くなると特に低屈折率樹脂層に含有される微粒子の表面が傷つけられ、赤外線吸収性能が低下する。適正な範囲は用いる装置、バインダー、分散時の微粒子濃度等によって若干異なるが、比較的低い分散エネルギーで分散させた方が良い。さらに、粗粒子が残る場合は更に濾過、遠心分離などの処理で粗粒子を除く事が好ましい。

分散に使用する溶媒とは、特に限定されるものではないが、本発明では水や有機溶媒、また、各々配合し混合物として使用しても良い。有機溶媒としては、例えば炭化水素系溶媒（トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール等）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン等）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、酢酸アミル等）、エーテル系溶媒（イソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、１、４−ジオキサン等）、グリコール系溶媒（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール等）、グリコールエーテル系溶媒（ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、グリコールエステル系溶媒（エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等）、グライム系溶媒（モノグライム、ジグライム等）、ハロゲン系溶媒（ジクロロメタン、クロロホルム等）、アミド系溶媒（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン）や、ピリジン、テトラヒドロフラン、スルホラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシドが挙げられる。好ましくは、水、ケトン系溶媒、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、炭化水素系溶媒であり、より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンである。

分散剤としては、脂肪酸塩（石けん）、α−スルホ脂肪酸エステル塩（ＭＥＳ）、アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＡＢＳ）、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩（ＬＡＳ）、アルキル硫酸塩（ＡＳ）、アルキルエーテル硫酸エステル塩（ＡＥＳ）、アルキル硫酸トリエタノールといった低分子陰イオン性（アニオン性）化合物、脂肪酸エタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ＡＥ）、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル（ＡＰＥ）、ソルビトール、ソルビタンといった低分子非イオン系化合物、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジメチルアンモニウムクロリド、アルキルピリジニウムクロリド、といった低分子陽イオン性（カチオン性）化合物、アルキルカルボキシルベタイン、スルホベタイン、レシチンといった低分子両性系化合物や、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、ビニル化合物とカルボン酸系単量体の共重合体塩、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコールなどに代表される高分子水系分散剤、ポリアクリル酸部分アルキルエステル、ポリアルキレンポリアミンといった高分子非水系分散剤、ポリエチレンイミン、アミノアルキルメタクリレート共重合体といった高分子カチオン系分散剤が代表的なものであるが、本発明の粒子に好適に適用されるものであれば、ここに例示したような形態のもの以外の構造を有するものを排除しない。

添加する分散剤としては、具体的名称を挙げると次のようなものが知られている。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学株式会社製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（エフカアディディブズ社製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ株式会社製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン株式会社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成株式会社）、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（株式会社ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成株式会社製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王株式会社製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬株式会社製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ株式会社製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業株式会社製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ株式会社製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）といったものが例示できる。

本発明に用いる樹脂バインダーとしては微粒子を分散維持できる樹脂であれば、特に制限はなく、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等が挙げられる。

熱可塑性樹脂としては、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４、６、ナイロン６、ナイロン６、６、ナイロン６、１０、ナイロン６、１２、ナイロン１２、ナイロン６、Ｔ、ナイロン９、Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの樹脂２種以上を混合させたものであっても良い。

熱硬化性樹脂としては、加熱により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテルを有する硬化性化合物が挙げられる。また、光硬化性樹脂としては、光照射により硬化可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリル基等の不飽和二重結合を有する硬化性化合物を有する樹脂が挙げられる。

上記環状エーテルを有する熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フラン樹脂等が挙げられる。なかでも、反応速度や汎用性の観点からエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、オキセタン樹脂が好適である。上記エポキシ樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニルノボラック型、トリスフェノールノボラック型、ジシクロペンタジエンノボラック型等のノボラック型；ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、２、２’−ジアリルビスフェノールＡ型、水添ビスフェノール型、ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型等のビスフェノール型等が挙げられる。また、その他にグリシジルアミン等も挙げられる。

上記エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピクロンＮ−７４０、Ｎ−７７０、Ｎ−７７５（以上、いずれも大日本インキ化学社製）、エピコート１５２、エピコート１５４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型としては、例えば、エピクロンＮ−６６０、Ｎ−６６５、Ｎ−６７０、Ｎ−６７３、Ｎ−６８０、Ｎ−６９５、Ｎ−６６５−ＥＸＰ、Ｎ−６７２−ＥＸＰ（以上、いずれも大日本インキ化学社製）；ビフェニルノボラック型としては、例えば、ＮＣ−３０００Ｐ（日本化薬社製）；トリスフェノールノボラック型としては、例えば、ＥＰ１０３２Ｓ５０、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製）；ジシクロペンタジエンノボラック型としては、例えば、ＸＤ−１０００−Ｌ（日本化薬社製）、ＨＰ−７２００（大日本インキ化学社製）；ビスフェノールＡ型エポキシ化合物としては、例えば、エピコート８２８、エピコート８３４、エピコート１００１、エピコート１００４（以上、いずれもジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン８５０、エピクロン８６０、エピクロン４０５５（以上、いずれも大日本インキ化学工業社製）；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン８３０（大日本インキ化学工業社製）；２、２’−ジアリルビスフェノールＡ型としては、例えば、ＲＥ−８１０ＮＭ（日本化薬社製）；水添ビスフェノール型としては、例えば、ＳＴ−５０８０（東都化成社製）；ポリオキシプロピレンビスフェノールＡ型としては、例えば、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４００５（以上、いずれも旭電化工業社製）等が挙げられる。

上記オキセタン化合物の市販品として、例えば、エタナコールＥＨＯ、エタナコールＯＸＢＰ、エタナコールＯＸＴＰ、エタナコールＯＸＭＡ（以上、いずれも宇部興産社製）等が挙げられる。また、上記脂環式エポキシ化合物としては特に限定されず、例えば、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０８０、セロキサイド３０００（以上、いずれもダイセル・ユーシービー社製）等が挙げられる。これらの環状エーテル基を有する硬化性化合物は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

上記不飽和二重結合を有する光硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、アリル基、マレイミド基、（メタ）アクリル基等を有する樹脂が挙げられ、なかでも反応性や汎用性の面より（メタ）アクリル基を有する樹脂が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリル基とは、アクリル基又はメタクリル基のことをいう。

（メタ）アクリル基を有する樹脂としては例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１、４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、水酸基含有（メタ）アクリレートと多カルボン酸化合物の酸無水物の反応物であるハーフエステル、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−２２０、ＨＸ−６２０等）、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールとε−カプロラクトンの反応物のポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート（例えば日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等）、モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

モノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートに用いられるグリシジル化合物としては、特に制限はなく、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４、４’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル−４、４’−ビフェノール、ジメチル−４、４’−ビフェニルフェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−［４−（１、１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２、２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４、４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類、１、１−ジ−４−ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノール化ポリブタジエン、ブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のポリフェノール類のグリシジルエーテル化物が挙げられる。

これらモノ又はポリグリシジル化合物と（メタ）アクリル酸の反応物であるエポキシ（メタ）アクリレートは、そのエポキシ基に当量の（メタ）アクリル酸をエステル化反応させる事によって得ることができる。この合成反応は一般的に知られている方法により行うことが出来る。例えば、レゾルシンジグリシジルエーテルにその当量の（メタ）アクリル酸を、触媒（例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエチルアミン、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルスチビン等）及び重合防止剤（例えば、メトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、フェノチアジン、ジブチルヒドロキシトルエン等）と共に添加して、例えば８０℃〜１１０℃でエステル化反応を行う。こうして得られた（メタ）アクリル化レゾルシンジグリシジルエーテルは、ラジカル重合性の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂である。

また、本発明の赤外線遮蔽シートの樹脂バインダーは、必要に応じて、光反応開始剤や熱硬化剤を加える事ができる。光反応開始剤としては、光照射により、硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を重合反応させるためのものであれば特に制限は無く、例えば、カチオン重合型光開始剤やラジカル重合型光開始剤が挙げられる。また、熱硬化剤としては、加熱により硬化性樹脂中の不飽和二重結合やエポキシ基等を反応させ、架橋させるためのものであれば特に制限は無く、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロックイソシアネート類等が挙げられる。

赤外線遮蔽シート中の各層の微粒子の含有率は４０重量％〜９５重量％、好ましくは５０重量％〜９０重量％、より好ましくは６０重量％〜９０重量％である。９５重量％より多くなると、バインダー成分が少なくなる為、膜が硬化しなくなり、積層することが困難となる。さらに、電気伝導性微粒子の場合、微粒子同士が繋がるため電波透過性能が付与できなくなる。また、４０重量％より少なくなると、樹脂バインダーの屈折率が支配的となり赤外反射性能を付与できなくなる。

本発明において高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層の表面抵抗は１０^３Ω／□以上、好ましくは１０^４Ω／□以上、より好ましくは１０^６Ω／□以上である。１０^３Ω／□より低いと、電波を透過しなくなるので好ましくない。

また、各層の表面の最大高低差は７０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。凝集微粒子がなくなるまで分散させてから薄膜塗工をすると、好ましい微粒子層表面の最大高低差が得られる。また、７０ｎｍ以上の表面粗さがあると、膜表面で入射した近赤外光の散乱が起きてしまい、良好な反射性能を付与できなくなる。

本発明の赤外線遮蔽シートは、高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層を、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することが好ましい。塗布方式について特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等が挙げられるが、各層の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。

また、赤外線遮蔽シート中若しくは新たに別の層に、必要に応じ、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等の各種添加剤を添加することができる。さらに目的に応じて赤外線遮蔽シートの上に粘着層、ハードコート層等の機能性シートを積層させて赤外線遮蔽積層シートとしても構わない。

本発明の赤外線遮蔽シートでは遮蔽できない赤外領域については、赤外線吸収色素、コレステリック液晶膜、複屈折多層膜等の公知の材料を組み合わせても良い。

本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせる赤外線吸収色素としては、特に限定されるものではないが、具体的には、７５０ｎｍ〜１１００ｎｍに吸収極大をもつ赤外線吸収色素、例えば、フタロシアニン系色素、アントラキノン系色素、ジチオール系色素、ジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、ジチオール金属錯体系色素、スクアリリウム系色素、ナフタロシアニン系色素、アミニウム系色素、有機金属錯体系色素、シアニン系色素、アゾ色素、ポリメチン系色素、キノン系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素、メルカプトナフトール系色素を用いることができる。

これらの中でも、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、、アントラキノン系色素が好適に用いられる。

本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせるコレステリック液晶膜は、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面では角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれていく構造である。このような分子軸の方向がねじれていく構造はカイラル構造と呼ばれる。該平面の法線（カイラル軸）はコレステリック液晶層の厚み方向に略平行になっていることが好ましい。

コレステリック液晶材料に光が入射すると、特定波長領域の左回り及び右回りのうち一方の円偏光が反射される。カイラル構造において分子軸がねじれる時の回転軸を表すらせん軸と、コレステリック液晶材料の法線とが平行である場合、カイラル構造のピッチ長ｐと反射される円偏光の波長λ_ｃとは下記式（２）および式（３）の関係を有する。
式（２）
式（３）
式（２）及び式（３）中、λ_ｃは反射させる波長領域の中心波長、ｎ_ｏは液晶化合物の短軸方向の屈折率、ｎ_ｅは液晶化合物の長軸方向の屈折率、ｎは（ｎ_ｏ＋ｎ_ｅ）／２、θは光の入射角（面法線からの角度）を表す。

これより、反射させる波長領域の中心波長は、コレステリック液晶材料におけるカイラル構造のピッチ長に依存する。このカイラル構造のピッチ長を変えることにより反射させる中心波長を変えることができる。

コレステリック液晶材料の層数は、１層でもよく、２層以上でもよい。層数が２層以上あると、反射できる赤外線の波長帯域を広げることができるので好ましい。

コレステリック液晶材料を２層以上にする場合、反射させる中心波長領域をより効率的に反射させるには、分子軸のねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましい。つまり右円偏光と左円偏光の両方を反射することが可能となり、効果的な反射率を実現することができる。また、コレステリック液晶材料を２層以上にする際、反射させる波長領域を広範囲にしたい場合は、ピッチ長のことなるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましく、さらにねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることでより広範囲な近赤外波長領域を高効率に反射することが可能である。層数、右円偏光、左円偏光コレステリック液晶層等の組合せは、製造コスト、可視光透過率等を鑑みて適切な組み合わせを用いることができる。

コレステリック液晶材料は、硬化性の液晶組成物を用いるのが好ましい。前記液晶組成物の一例は、棒状液晶化合物、光学活性化合物（キラル化合物）及び重合開始剤を少なくとも含有する。各成分を２種以上含んでいてもよい。例えば、重合性の液晶化合物と非重合性の液晶化合物との併用が可能である。また、低分子液晶化合物と高分子液晶化合物との併用も可能である。更に、配向の均一性や塗布適性、膜強度を向上させるために、水平配向性、ムラ防止剤、ハジキ防止剤、及び重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも一種を含有していてもよい。また、前記液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学性能を低下させない範囲で添加することができる。

（１）棒状液晶化合物
棒状液晶化合物としては、棒状ネマチック液晶化合物である。前記棒状ネマチック液晶化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等の低分子液晶化合物および高分子液晶化合物が好ましく用いられる。

本発明に使用する棒状液晶化合物は、重合性であっても非重合性であってもよい。重合性基を有しない棒状液晶化合物については、様々な文献（例えば、Ｙ．Ｇｏｔｏ ｅｔ．ａｌ．、 Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ． Ｌｉｑ． Ｃｒｙｓｔ． １９９５、 Ｖｏｌ． ２６０、 ｐｐ．２３−２８）に記載がある。
重合性棒状液晶化合物は、重合性基を棒状液晶化合物に導入することにより得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、棒状液晶化合物の分子中に導入できる。重合性棒状液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１個〜６個、より好ましくは１個〜３個である。重合性棒状液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．、１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性棒状液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。

（２）光学活性化合物（キラル剤）
前記液晶組成物は、コレステリック液晶相を示すものであり、そのためには、光学活性化合物を含有しているのが好ましい。ただし、上記棒状液晶化合物が不斉炭素原子を有する分子である場合には、光学活性化合物を添加しなくても、コレステリック液晶層を安定的に形成可能である場合もある。前記光学活性化合物は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択することができる。光学活性化合物は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が含まれる。光学活性化合物（キラル剤）は、重合性基を有していてもよい。光学活性化合物が重合性基を有するとともに、併用する棒状液晶化合物も重合性基を有する場合は、重合性光学活性化合物と重合性棒状液晶化合物との重合反応により、棒状液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、光学活性化合物から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性光学活性化合物が有する重合性基は、重合性棒状液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。したがって、光学活性化合物の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基又はアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。また、光学活性化合物は、液晶化合物であってもよい。

前記液晶組成物中の光学活性化合物は、併用される液晶化合物に対して、０．１モル％〜３０モル％であることが好ましい。光学活性化合物の使用量は、より少なくしたほうが液晶性に影響を及ぼさないことが多いため好まれる。したがって、キラル剤として用いられる光学活性化合物は、少量でも所望の螺旋ピッチの捻れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。この様な、強い捻れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２００３−２８７６２３号公報に記載のキラル剤が挙げられ、本発明に好ましく用いることができる。

（３）重合開始剤
前記光反射層の形成に用いる液晶組成物は、重合性液晶組成物であるのが好ましく、そのためには、重合開始剤を含有しているのが好ましい。本発明では、紫外線照射により硬化反応を進行させるので、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。上記光重合開始剤は特に限定されず、例えば、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー９０７」）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー１８４」）、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー２９５９」）、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュアー９５３」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュアー１１１６」）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー１１７３」）、ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２、２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（チバスペシャリティーケミカルズ社製「イルガキュアー６５１」）等のベンゾイン化合物、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３、３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン（日本化薬社製「カヤキュアーＭＢＰ」）等のベンゾフェノン化合物、チオキサントン、２−クロルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＣＴＸ」）、２−メチルチオキサントン、２、４−ジメチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＲＴＸ」）、イソプロピルチオキサントン、２、４−ジクロオチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＣＴＸ」）、２、４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＤＥＴＸ」）、２、４−ジイソプロピルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアーＤＩＴＸ 」）等のチオキサントン化合物等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

組成物中の上記光重合開始剤の含有量は特に限定されないが、上記重合性液晶化合物や（メタ）アクリレート系のモノマー組成物１００重量部に対して、好ましい下限は０．５重量部、好ましい上限は１０重量部以下であり、より好ましい下限は２重量部、より好ましい上限は８重量部である。

上記光重合開始剤として、上記ベンゾフェノン化合物や上記チオキサントン化合物を用いる場合には、光重合反応を促進させるために、反応助剤を併用することが好ましい。上記反応助剤としては特に限定されず、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチルメタアクリレート、ミヒラーケトン、４、４’−ジエチルアミノフェノン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン化合物が挙げられる。

上記重合性液晶組成物中の上記反応助剤の含有量は特に限定されないが、上記重合性液晶組成物の液晶性に影響を与えない範囲で使用することが好ましく、上記重合性液晶化合物と紫外線硬化型の重合性化合物の合計１００重量部に対して、好ましい下限は０．５重量部、好ましい上限は１０重量部以下であり、より好ましい下限は２重量部、より好ましい上限は８重量部である。また、上記反応助剤の含有量は、上記光重合開始剤の含有量に対して、０．５倍量〜２倍量であることが好ましい。

更に、上記組成物には必要に応じてレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。
重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。
可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。

コレステリック液晶層の塗布の方法に関しては特に限定しないが、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター、等が挙げられるが、微粒子含有層表面の平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が良い。また、コレステリック液晶層中の液晶化合物の配向方向をより精密に規定するために、コレステリック液晶層を塗布する層（微粒子層、基板等）の表面を配向させてもよい。配向するためには基板の表面をラビング処理して配向面を形成するのが好ましい。

本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせる複屈折多層膜は、複屈折（好ましくは正の複屈折）を有する層（以下、複屈折層）と等方屈折または負の複屈折を有する層（以下、等方屈折層）とを交互に積層して構成されており、複屈折層と等方屈折層との間の屈折率差およびそれぞれの膜厚によって引き起こされるコヒーレント干渉に基づいている。平面内屈折率が複屈折層と等方屈折層との間で異なる時、前記２層の間の境界面は反射面を形成する。

複屈折とは直交ｘ、ｙおよびｚ方向の屈折率がすべて同じであるとは限らないこと意味する。ｘ軸およびｙ軸が層の平面内であり、ｚ軸が層の平面に対して直角であり、配向ポリマーの場合、ｘ軸は最大屈折率を有する平面内方向であるように選択され、その方向は光学体が配向される（例えば、延伸される）方向の一つに対応する。

複屈折層と等方屈折層両方の平面内屈折率は層間で異なる（すなわち、ｎ_１ｘ≠ｎ_２ｘ、ｎ_１ｙ≠ｎ_２ｙ、ここでｎ_１ｘおよびｎ_１ｙは、複屈折層の平面内屈折率であり、ｎ_２ｘおよびｎ_２ｙは等方屈折層の平面内屈折率である）。また、複屈折層、等方屈折層のｚ軸屈折率が等しい場合、ｐ偏光の反射は光の入射角に依存しない為、視角の範囲に渡って反射率が均一となるので、好ましい。

複屈折層の平面内屈折率を増加させるために一軸配向、好ましくは二軸配向されている複屈折ポリマー（好ましくは正の複屈折を有するポリマー）を用いることで、複屈折層と等方屈折層の屈折率差を増加させる。

各層の光学膜厚は反射させる波長領域の中心波長をλ_ｃとすると、λ_ｃ／４となるように制御されている。複屈折層材料は延伸によって（正の複屈折に）配向する材料が用いられ、例えばＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＥＴ等が用いられる。等方屈折材料は延伸によっても配向しない材料（若しくは延伸によって負に複屈折する材料）が用いられ、例えばＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）等が用いられる。また、複屈折多層構造材料は例えば特表２００８−５２８３１３の記載されている同時共押出法によって多層膜を形成し、延伸することで作製することができる。前記複屈折層と等方屈折層間の屈折率差は小さい為、多数積層する必要がある。積層数は反射させたい反射領域、製造コスト等を鑑みて３層以上、１０００層以下が好ましい。

以下実施例により本発明を更に詳細に説明する。実施例において部は重量部を、％は重量％をそれぞれ意味する。

実施例１
（高屈折率樹脂層１の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（商品名、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）０．４部、イルガキュアー１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン製）０．０５部をメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫ）４部に溶解した中に、酸化ジルコニウム（ＮＡＮＯＮ５ ＺＲ−０１０、平均粒子径１５ｎｍ、固形分濃度３０重量％、ソーラー製）４．７部を分散させ、高屈折率樹脂層塗布液１を調製した。

次いで、高屈折率層塗布液１をＰＥＴ基材にワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させＭＥＫを蒸発させた後、ＵＶ照射によって高屈折率樹脂層１を作製した。作製した高屈折率層１を分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて各波長に対する屈折率、消衰係数を測定した。

（低屈折率樹脂層１の作製）
平均粒子径２５．６ｎｍ、粉体抵抗０．８Ω・ｃｍである錫ドープ酸化インジウム（以下、ＩＴＯ）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ０．４部、イルガキュアー１８４ ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．３部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させ、低屈折率樹脂層塗布液１を作製した。

次いで、低屈折率樹脂層塗布液１をＰＥＴ基材にワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させトルエンを蒸発させた後、ＵＶ照射によって低屈折率樹脂層１を作製した。作製した高屈折率層を分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて各波長に対する屈折率、消衰係数を測定した。

（積層膜の作製）
反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に高屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍ、低屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に低屈折率樹脂層１−高屈折率層１の順番で交互に積層し、層数が８の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例２
（高屈折率樹脂層２の作製）
平均粒子径３５ｎｍである酸化チタン（ＴＴＯ−５１Ａ、石原産業製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ０．４部、イルガキュアー９０７ ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．３部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させ、高屈折率樹脂層塗布液２を作製した。

次いで、高屈折率樹脂層塗布液２をＰＥＴ基材にワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させトルエンを蒸発させた後、ＵＶ照射によって高屈折率樹脂層２を作製した。作製した高屈折率樹脂層２を分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて各波長に対する屈折率、消衰係数を測定した。

（積層膜の作製）
反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に高屈折率樹脂層２の光学膜厚が３００ｎｍ、実施例１で作製した低屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に高屈折率樹脂層２−低屈折率樹脂層２の順番で交互に積層し、層数が７の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例３
（高屈折率樹脂層３の作製）
六ホウ化ランタン（和光純薬製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ０．４部、イルガキュアー１８４ ０．０５部、アミノアルキルメタクリレート共重合体分散剤０．３部をトルエン７部中に加え、ビーズミルを用いて周速１０ｍ／ｓにて分散させた。得られた分散体を遠心分離機（日立工機株式会社 ｈｉｍａｃ ＣＲ１８）を用いて回転数５０００ｒｐｍで１５分間遠心処理を行い、高屈折率層塗布液３を作製した。塗布液の平均粒子径は３５ｎｍであった。

次いで、高屈折率層塗布液３をＰＥＴ基材にワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させトルエンを蒸発させた後、ＵＶ照射によって高屈折率樹脂層３を作製した。作製した高屈折率樹脂層３を分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて各波長に対する屈折率、消衰係数を測定した。

（積層膜の作製）
反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に高屈折率樹脂層３の光学膜厚が３００ｎｍ、実施例１で作製した高屈折率層１の光学膜厚が３００ｎｍ、実施例１で作製した低屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に高屈折率樹脂層３−低屈折率樹脂子層１−高屈折率樹脂層１−低屈折率樹脂層１−高屈折率樹脂層１の順番で積層し、層数が５の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例４
（高屈折率樹脂層４の作製）
微粒子をナノダイヤモンド（平均粒子径３．５ｎｍ）に変更した以外は実施例２と同様にして高屈折率樹脂層４作製した。

（積層膜の作製）
反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に高屈折率層の光学膜厚が３００ｎｍ、微粒子層の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に低屈折率樹脂層１−高屈折率層４の順番で交互に積層し、層数が８の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例５
（低屈折率樹脂層２の作製）
実施例１で作製した低屈折率樹脂層塗布液１に中空シリカ（Ｖ８２１６、平均粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成製）３部を加えて低屈折率樹脂層塗布液２を作製した。

次いで、低屈折率樹脂層塗布液２をＰＥＴ基材にワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させトルエンを蒸発させた後、ＵＶ照射によって低屈折率樹脂層１を作製した。作製した高屈折率層を分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて各波長に対する屈折率、消衰係数を測定した。

（積層膜の作製）
反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に高屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍ、低屈折率樹脂層２の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に低屈折率樹脂層２−高屈折率層１の順番で交互に積層し、層数が８の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例６
（赤外吸収色素合成例）
スルホラン１２０部にナフタル酸無水物１５．９部、尿素２９部、モリブデン酸アンモニウム０．４０部及び塩化バナジル（Ｖ）３．５部加え、２００℃まで昇温し、同温度で１１時間反応させた。反応終了後６５℃まで冷却し、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００部加え、析出固体をろ過分離した。得られた固体をＤＭＦ５０部で洗浄し、ウェットケーキ２０．３部得た。得られたウェットケーキをＤＭＦ１００部に加え、８０℃に昇温し、同温度で２時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水２００部で洗浄しウェットケーキを１８．９部得た。得られたウェットケーキを水１５０部に加え、９０に昇温し、同温度で２時間撹拌した。析出固体をろ過分離し、水２００部で洗浄してウェットケーキ１６．１部を得た。得られたウェットケーキを８０℃で乾燥し、赤外吸収色素を１２．３部得た。

実施例１で作製した高屈折率樹脂層塗布液１、低屈折率樹脂層塗布液１に前記合成した赤外吸収色素をそれぞれ０．０３部分散させ、反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に高屈折率樹脂層の光学膜厚が３００ｎｍ、低屈折率樹脂層の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に低屈折率樹脂層−高屈折率層の順番で交互に積層し、層数が８の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例７
（コレステリック液晶膜作製）
ＬＣ−２４２（棒状液晶化合物、ＢＡＳＦ製）１０部、ＬＣ−７５６（キラル剤、ＢＡＳＦ製）０．２５部、ルシリンＴＰＯ（重合開始剤、ＢＡＳＦ）０．５部をシクロペンタノン２６部中に加え、液晶膜塗布液１を作製した。
また、液晶膜塗布液１中のＬＣ−７５６を０．３部に変更して液晶塗布液２を作製した。

ＰＥＴ基材に液晶膜塗布液１、２を膜厚がそれぞれ４μｍとなるようワイヤーバーにて積層してコレステリック液晶膜を作製した。

前記作製したコレステリック液晶膜上に実施例１で作製した高屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍ、低屈折率樹脂層１の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件（反射波長を１２００ｎｍに設定）で、低屈折率樹脂層１−高屈折率層１の順番で交互に積層し、層数が６の本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例８
コレステリック液晶膜を複屈折多層（ｎａｎｏ９０Ｓ、住友スリーエム製）に変更した以外は実施例８と同様にして本発明の赤外線遮蔽シートを作製した。

比較例１
（低屈折率層の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（商品名、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬製）１部、イルガキュアー１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン製）０．０１部をメチルエチルケトン（以下、ＭＥＫ）１０部に溶解した中に、酸化ケイ素（ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学製）３．８部を分散させ、低屈折率層塗布液を調製した。

次いで、低屈折率層塗布液をＰＥＴ基材にワイヤーバーにて塗布し、１００℃、２分間乾燥させＭＥＫを蒸発させた後、ＵＶ照射によって低屈折率層を作製した。作製した低屈折率層を分光エリプソメータ（Ｍ−２０００、ジェー・エー・ウーラム製）にて各波長に対する屈折率、消衰係数を測定した。

（積層膜の作製）
反射させる波長を１２００ｎｍに設定し、ＰＥＴ基材に実施例１で作製した高屈折率層１の光学膜厚が３００ｎｍ、低屈折率層の光学膜厚が３００ｎｍとなる条件で、基材上に高屈折率層１−低屈折率層の順番で交互に積層し、層数が７の比較用の赤外線遮蔽シートを作製した。

実施例１〜８および比較例１の赤外線遮蔽シートの可視光透過率、ヘイズ、全日射エネルギー、各層の５５０ｎｍでの屈折率、１２００ｎｍでの屈折率、５５０ｎｍを基準とした屈折率差△ｎ、表面抵抗を測定した結果を表１に示す。
（可視光透過率の測定）
分光光度計（島津製作所社製 ＵＶ−３１００）を用いて、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートの波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける上記可視光透過率を測定した。
（全日射エネルギー（Ｔｔｓ）の測定）
全日射エネルギー（Ｔｔｓ；Ｔｏｔａｌ Ｓｏｌａｒ Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）は太陽からの熱的エネルギーのうち、対象となる材料をどの程度透過するかという尺度であり、ＩＳＯ１３８３７に定義されている計算式にて算出した。算出された数値が小さいほど全日射エネルギーが小さいことを示し、熱線遮蔽性が高いことを示す。
（ヘイズ値の測定）
ヘーズメーター（東京電色社製 ＴＣ−ＨＩＩＩＤＰＫ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ６７１４に準拠して、得られた赤外線遮蔽シートのヘイズ値を測定した。
（表面抵抗の測定）
表面抵抗計（三菱化学アナリテック社製 ハイレスターＵＰ、ロレスターＧＰ）を用いて測定した。

図１、図２、表１より本発明の赤外線遮蔽シートは比較例１に比べて、波長７８０ｎｍ〜１５００ｎｍ領域を効率的に反射していることに加え、波長１５００ｎｍ〜２５００ｎｍ領域を吸収していることで、Ｔｔｓが大幅に改善されていた。

実施例３では六ホウ化ランタンの赤外線吸収に加え、六ホウ化ランタン層の赤外線領域の高屈折率により、効率的に赤外線を遮蔽していた。

実施例５では中空微粒子を添加することで、近赤外の屈折率を変化させること無く、ＩＴＯによる吸収波長を低波長化することができたので、実施例１に比べてＴｔｓが改善した。

実施例６〜８は本発明の赤外線遮蔽シートと組み合わせることで、透過率を維持しつつ、赤外線をより効果的に遮蔽することができた。

比較例１は図２より、微粒子による近赤外吸収が無い為、Ｔｔｓが不十分であり、さらに人がジリジリ感を感じる１５００ｎｍ以降の熱線が遮蔽されていない為、不快に感じてしまう事が懸念される。

本発明によれば微粒子の赤外線吸収能に加え屈折率差を利用した赤外線反射能を付与する事で、従来の赤外線遮蔽シートと比較して、赤外線による温度上昇を抑えることを見出した。これにより住宅や自動車の空間の温度上昇を抑え、空調機器の負荷を軽減し、省エネルギーや地球環境問題に貢献できる。さらに、赤外線領域を選択的に遮蔽できるので、ＩＲカットフィルター、偽造防止等に利用可能である。

Claims (10)

1. 透明支持体上に、微粒子を含有した高屈折率樹脂層（Ａ）と微粒子を含有した低屈折率樹脂層（Ｂ）が交互に積層した積層膜において、高屈折率樹脂層（Ａ）が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以下、低屈折率樹脂層（Ｂ）が５５０ｎｍでの屈折率から７８０ｎｍ〜１５００ｎｍでの任意波長における屈折率を差し引いた値が０．１以上であって、かつ７８０ｎｍ〜１５００ｎｍの波長領域において、前記（Ａ）、（Ｂ）での任意の同一波長にて（Ｂ）の屈折率が（Ａ）より低い屈折率である事を特徴とする赤外線遮蔽シート。
2. （Ａ）、（Ｂ）各層の表面抵抗が１ｋΩ／□以上であり、前記（Ａ）、（Ｂ）の層数の合計が３以上であり、各層の光学膜厚が１９５ｎｍ〜３７５ｎｍである請求項１に記載の赤外線遮蔽シート。
3. 可視光透過率が５０％以上、ヘイズが８％以下である請求項１または２に記載の赤外線遮蔽シート。
4. 前記高屈折率樹脂層（Ａ）に含有される微粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブ、酸化セリウム、酸化鉛、ダイヤモンド、酸化亜鉛、ホウ化物、窒化物の群から選択される少なくとも一種の微粒子である請求項１乃至３の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
5. 前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子が酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステンの群から選択される少なくとも一種の微粒子である請求項１乃至４の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
6. 前記低屈折率樹脂層（Ｂ）に含有される微粒子がＳｂドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、Ｓｎドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、Ｇａドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸素欠乏酸化タングステン、Ｃｓドープ酸化タングステンの群から選択される少なくとも一種である請求項１乃至５の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
7. 低屈折率樹脂層（Ｂ）に請求項５又は６から選ばれる微粒子に加え、さらに中空微粒子が含まれる請求項１乃至６の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
8. 高屈折率樹脂層又は低屈折率樹脂層に含有される微粒子の含有率が９０重量％以下である請求項１及至７の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シート。
9. 高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層が塗布により形成されることを特徴とする請求項１及至８の何れか一項に記載の赤外線遮蔽シートの製造方法。
10. 請求項１乃至９に記載の赤外線遮蔽シートと、７８０ｎｍ〜２０００ｎｍを選択的に反射するコレステリック液晶膜、複屈折多層膜、又は７８０ｎｍ〜２５００ｎｍを選択的に吸収する赤外線吸収色素の少なくとも１種を組み合わせて為る赤外線遮蔽シート。