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CN102811966A - 具有不连续的金属层的防阳光涂层 - Google Patents

具有不连续的金属层的防阳光涂层 Download PDF

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CN102811966A
CN102811966A CN2011800141502A CN201180014150A CN102811966A CN 102811966 A CN102811966 A CN 102811966A CN 2011800141502 A CN2011800141502 A CN 2011800141502A CN 201180014150 A CN201180014150 A CN 201180014150A CN 102811966 A CN102811966 A CN 102811966A
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metal
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A·V·瓦格纳
H·布海
A·布翰达利
J·J·芬雷
P·R·小欧赫德尼奇
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J·A·贝尼哥尼
P·A·麦德维克
J·P·蒂尔
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Abstract

一种建筑透明体，其包括基材，形成于所述基材至少一部分上的第一介电层，形成于所述第一介电层至少一部分上的连续金属层，形成于所述第一金属层至少一部分上的第二介电层，和形成于所述第二介电层至少一部分上的亚临界金属层，从而使得该亚临界金属层形成不连续的金属区域。

Description

具有不连续的金属层的防阳光涂层
相关申请的交叉参考
本申请要求2010年3月29日提交的美国临时专利申请61/318,471的优先权，将它的全部内容通过引用并入本申请。
发明背景
技术领域
本发明总地涉及防阳光涂层，和，在一种具体的实施方式中，涉及具有增加的吸光率和不对称的反射率的防阳光涂层。
技术考虑
防阳光涂层在建筑和汽车透明体领域是已知的。这些防阳光涂层阻挡或过滤有选择的范围的电磁辐射，例如在日光红外或者日光紫外辐射范围内的电磁辐射，从而减少进入到交通工具或者建筑的太阳能的量。太阳能透射的这种减少帮助减少交通工具或者建筑物的冷却单元的负担。在汽车应用中，透明体(例如挡风玻璃)通常需要具有较高的可见光透射，例如大于70%，从而允许乘客看见交通工具的外面。对于建筑应用，可见光透射可较低。在一些建筑应用中，可能期望具有反射性外表面，从而减少对建筑物内部的可见性，从而尽可能地保持私密性，同时仍然容许可见光进入建筑物，并且容许建筑物内部的工作人员看见外面。同样地，为了增加安全性，通常回火或者热处理这些透明体。
在一种已知的建筑物透明体中，用具有吸光物质例如镍-铬合金材料(例如，
Figure BDA00002144837900011
)的防阳光涂层涂覆热增强的玻璃基板，从而吸收可见光使窗户变暗。这种透明体也包括较厚的、连续的、红外反射金属层来反射太阳能，例如日光红外能。但是，这种已知的透明体的问题是，必需将玻璃基板切成期望的形状并回火，然后施加涂层。如果在玻璃基板回火之前施加涂层，那么得到的涂层在回火工艺所需的高温加工期间变得模糊。这种雾度是美学上所不期望的。
可能期望能够将防阳光涂层施加到未回火的玻璃片材上，并且将该玻璃片材装运到制造商，然后制造商能够将该片材切成期望的形状用于具体的工作，然后回火或者热处理该切片，而不有害地影响得到的透明体的美学或者防阳光性质。
发明内容
在本发明的一个宽泛的方面，本发明的涂层包括与亚临界(即，不连续的)金属层结合的一个或者多个连续的、红外反射性金属层。该不连续的金属层增加涂层的可见光吸收，并且，与合适厚度的介电层结合，还能够为涂覆的制品提供不对称的反射率。
本发明的涂层包括与多个介电层交替的多个金属层，其中至少一个所述金属层包括具有不连续的金属区域的亚临界金属层。
一种涂覆的制品，包括基材和在所述基材至少一部分上的涂层堆叠体。所述涂层堆叠体包括多个金属层和多个介电层，其中至少一个所述金属层包括具有不连续的金属区域的亚临界金属层。
另一种涂覆的制品包括玻璃基材和形成于所述玻璃基材至少一部分上的涂层。所述涂层包括形成于所述玻璃基材至少一部分上的第一介电层；形成于所述第一介电层至少一部分上的连续金属层；形成于所述第一金属层至少一部分上的第二介电层；形成于所述第二介电层至少一部分上的亚临界金属层，使得该亚临界金属层形成不连续的金属区域；形成于所述亚临界金属层至少一部分上的第三介电层；形成于所述第三介电层至少一部分上的第三连续的金属层；形成于所述第三金属层至少一部分上的第三介电层；和形成于所述第三金属层至少一部分上的保护层。
进一步的涂覆的制品包括基材和涂层，所述涂层包括形成于所述基材至少一部分上的第一介电层；形成于所述第一介电层至少一部分上的第一金属层；形成于所述第一金属层至少一部分上的第二介电层；形成于所述第二介电层至少一部分上的第二金属层；和形成于所述第二金属层至少一部分上的第三介电层。至少一个所述金属层是具有不连续的金属区域的亚临界金属层。
另外的涂覆的制品包括基材和在所述基材至少一部分上的涂层堆叠体。所述涂层堆叠体包括第一介电层；在所述第一介电层上的至少一个不连续的金属层；和在所述不连续的金属层上的第二介电层。进一步的涂覆的制品包括基材和形成于所述基材至少一部分上的涂层。所述涂层包括形成于所述基材至少一部分上的第一介电层，并且包括在锡酸锌层上的氧化锌层；第一连续的金属银层，其包括在所述第一介电层上的银；在所述连续的第一金属银层上的第一底漆层，所述第一底漆包括钛；在所述第一底漆层上的第二介电层，其包括在氧化锌层上的锡酸锌层；在第二介电层上的不连续的第二金属银层；在不连续的第二金属银层上的并且包括镍-铬合金的第二底漆；在第二底漆层上并且包括氧化锌层、锡酸锌层和另一氧化锌层的第三介电层；在所述第三介电层上的连续的第三金属银层；第三底漆层，其包括在连续的第三金属银层上的钛；第四介电层，其包括在第三底漆层上的氧化锌层上的锡酸锌层；和保护性涂层，其包括在第四介电涂层上的氧化钛。
本发明的建筑透明体包括基材，所述基材具有形成于所述基材至少一部分上的第一介电层。在所述第一介电层至少一部分上形成连续的金属层。在所述第一金属层至少一部分上形成第二介电层。在所述第二介电层至少一部分上形成亚临界金属层，使得该亚临界金属层形成不连续的金属区域。在所述亚临界金属层至少一部分上形成第三介电层。连续的金属层和亚临界金属层的金属可为相同的或者不同的金属。
本发明的另一种建筑透明体包括玻璃基材，其具有形成于所述玻璃基材至少一部分上的第一介电层。在所述第一介电层至少一部分上形成连续的第一金属层。在所述第一金属层至少一部分上形成第二介电层。在所述第二介电层至少一部分上形成第二金属层(亚临界金属层)，使得该亚临界金属层形成不连续的金属区域。在所述亚临界金属层至少一部分上形成第三介电层。在所述第三介电层至少一部分上形成连续的第三金属层。在所述第三金属层至少一部分上形成保护性层。所述连续的金属层和所述亚临界金属层的金属可为相同的或者不同的金属。在在所述保护性层下的所述第三金属层至少一部分上形成第四介电层。
进一步的建筑透明体包括基材，其具有形成于所述基材至少一部分上的第一介电层。在所述第一介电层至少一部分上形成连续的第一金属层。在所述第一金属层至少一部分上形成吸收层。所述吸收层包括第一氮化硅膜，形成于所述第一氮化硅膜至少一部分上的金属层，和形成于所述金属层上的第二氮化硅膜。
另一种建筑透明体包括玻璃基材，其具有形成于所述玻璃基材至少一部分上的第一介电层。在所述第一介电层至少一部分上形成连续的第一金属层。在所述第一金属层至少一部分上形成第一底漆层。所述第一底漆层包括多膜层。在第一底漆层上形成第二介电层。在第二介电层上形成第二连续的金属层。在第二金属层上形成第二底漆层。第二底漆层包括多膜层。第一和第二底漆层可包括镍-铬合金层(例如Inconel)和金属层，例如钛。
附图说明
将参考如下附图来描述本发明，其中通篇中相同的附图标记表示相同的部件。
图1为具有本发明涂层的绝缘玻璃单元(I GU)的侧视图(未按比例)；
图2为具有本发明特征的涂层的侧视图(未按比例)；
图3是具有底漆层的亚临界金属层的侧横截面视图(未按比例)；
图4是具有本发明特征的另一种涂层的侧视图(未按比例)；
图5是具有本发明特征的又一种涂层的侧视图(未按比例)；
图6是具有本发明特征的再一种涂层的侧视图(未按比例)；和
图7是本发明的另一涂层的横截面侧视图(未按比例)。
具体实施方式
本文使用的空间或方向术语，例如“左”、“右”、“内”、“外”、“上方”、“下方”等等，涉及如附图中所示的本发明。然而，应理解本发明可采用多种替代定向，因此，不应将此类术语考虑为限定。此外，正如本文所使用的，说明书和权利要求书中使用的所有表示尺寸、物理特性、工艺参数、成分数量、反应条件等的数字，应理解为在所有情况下均被术语“约”修饰。因此，除非有相反说明，则在下面的说明书和权利要求书中述及的数值可根据意图通过本发明获得的期望性能而变化。至少，应不限制将等同原则应用于权利要求书的范围，至少应根据所给出的有效数位的数字和通过应用普通舍入技术来理解每个数值。此外，本文公开的所有范围应理解为包括从起始范围值到结束范围值以及其中包含的所有子范围。例如，所述的“1至10”的范围应被理解为包括处在最小值1和最大值10(包含端值)之间的任何子范围和所有子范围；即从1以上的最小值开始并且以10以下的最大值结束的所有子范围，例如1至3.3、4.7至7.5、5.5至10等。此外，本文使用的术语“在......上方形成”、“在......上方沉积(设置)”或“在......上方提供”意味着在表面上但不一定与该表面接触地形成、沉积(设置)或提供。例如，在基材“上方形成的”涂层不排除在形成的涂层和基材之间存在一层或多层其它具有相同或不同组成的涂层或膜。本申请所用的术语“聚合物”或者“聚合的”包括低聚物、均聚物、共聚物、和三元共聚物，例如由两种或者更多种类型的单体或者聚合物形成的聚合物。术语“可见区”或“可见光”是指具有380nm至800nm波长的电磁辐射。术语“红外区”或“红外辐射”是指具有大于800nm至100000nm波长的电磁辐射。术语“紫外区”或“紫外辐射”是指具有300nm至小于380nm波长的电磁能。另外，本文提到的所有文献，例如但不限于授权专利和专利申请，应视为被以其整体“通过引用并入”。本文使用的术语“膜”是指期望的或选择的涂层组合物的涂层区域。“层”可以包含一个或多个“膜”，并且“涂层”或“涂层堆叠体”可包含一个或多个“层”。术语″不对称反射率″是指该涂层从一侧的可见光反射率不同于该涂层从相对侧的可见光反射率。术语″临界厚度″是指一个厚度，高于该厚度时该涂层材料形成连续的，不间断的层，而低于该厚度时该涂层材料形成涂层材料的不连续的区域或者岛状物，而不是连续的层。术语″亚临界厚度″是指低于临界厚度的厚度，使得该涂层材料形成该涂层材料的分离的，非连接的区域。术语″岛状的(islanded)″是指该涂层材料不是连续的层，而是，沉积该材料从而形成分离的区域或者岛状物。
对于以下讨论的目的，本发明将会参考使用建筑透明体，例如，但不限于，绝缘玻璃单元(IGU)讨论。本申请所述的术语″建筑透明体″是指位于建筑物上的任何透明体，例如但不限于，窗户和天窗(skylights)。但是，应该理解，本发明不限于使用这种建筑透明体，但是可以使用任何期望领域的透明体实施，例如但不限于，层叠的或者非层叠的住宅和/或商用窗户，绝缘玻璃单元，和/或者用于地面、空中、太空、水上和水下交通工具的透明体。因此，应该理解，具体披露的示例性实施方式仅展示用来解释本发明的总体理念，并且本发明不限于这些具体的示例性实施方式。此外，虽然典型的″透明体″可具有足够的可见光透射率，使得物质可以通过该透明体看见，在本发明的实践中，该″透明体″不需要对于可见光是透明的，而是可以是半透明的或者不透明的。
结合了本发明的特征的非限制性的透明体10在图1中说明。透明体10可具有任何期望的可见光，红外辐射，或者紫外辐射透射率和/或反射率。例如，该透明体10可具有任何期望量的可见光透射率，例如，大于0%至至多100%。
图1的示例性透明体10是常规的绝缘玻璃单元的形式，并且包括具有第一主要表面14(1号表面)和相对的第二主要表面16(2号表面)的第一片层2。在说明性的非限制性实施方式中，该第一主要表面14面向建筑物外部，即，是外主要表面，而第二主要表面16面向建筑物的内部。透明体10也包括第二片层18，所述第二片层18具有外部(第一)主要表面20(3号)和内部(第二)主要表面22(4号表面)并且与第一片层2隔开。片层表面的这种编号方式保持与门窗设计领域的常规实践一致。第一和第二片层12、18可以以任何合适的方式连接到一起，例如通过粘性粘结至常规的隔离框24而进行。间隙或腔室26形成于所述的两个片层12、18之间。该腔室26可填充有经选择的气氛，例如空气，或者非反应性气体例如氩气或者氪气。防阳光涂层30(或者以下描述的任何其它涂层)形成于片层12、18之一的至少一部分上，例如但不限于，在所述2号表面16的至少一部分商或所述3号表面20至少一部分上。但是，需要时，该涂层也能够在1号表面或4号表面上。绝缘玻璃单元的实例可在例如以下文献中找到：美国专利4,193,236；4,464,874；5,088,258；和5,106,663。
在本发明的宽的实践中，透明体10的片层12、18可以是相同的或者不同的材料。片层12、18可包括具有任何期望的特性的任何期望的材料。例如，片层12、18中的一个或者多个可为对可见光透明的或者半透明的。″透明的″是指可见光透射率为大于0%至至多100%。或者，片层12、18中的一个或者多个可为半透明的。″半透明的″是指容许电磁能量(例如，可见光)穿过，但是扩散这个能量，从而使得在观察者对面的物体不是清晰可见的。合适的材料的实例包括但不限于塑料基材(例如丙烯酸类聚合物，例如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基丙烯酸乙酯，聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚对苯二甲酸丙二醇酯，聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含有聚硅氧烷的聚合物；或者用于制备这些的任何单体的共聚物，或者它们的任何混合物)；陶瓷基材；玻璃基材；或者任何上述物质的混合物或者组合。例如，片层12、18中的一个或者多个可包括常规的苏打-石灰-硅酸盐玻璃，硼硅酸盐玻璃，或者铅玻璃。该玻璃可为透明玻璃。″透明玻璃″是指非带色彩的或者非着色的玻璃。或者，该玻璃可为带色彩的或者通过其它方式着色的玻璃。该玻璃可为退火的或者热处理的玻璃。本申请所用的术语″热处理的″是指回火的(tempered)或者至少部分回火的。该玻璃可为任何类型，例如常规的浮法玻璃，并且可为具有任何光学性质例如任何值的可见光透射率、紫外线透射率、红外透射率、和/或总太阳能透射率的任何组合物。″浮法玻璃″是指通过常规的浮法工艺(float process)形成的玻璃，其中将熔融的玻璃沉积于熔融的金属浴上，并且可控制地冷却，从而形成浮法玻璃条带(ribbon)。浮法玻璃工艺的实例披露于美国专利4,466,562和4,671,155。
第一和第二片层12、18各自可为例如透明浮法玻璃，或者可为带色彩的或者着色的玻璃，或者一个片层12、18可为透明玻璃而另一片层12、18为着色玻璃。虽然不限于本发明，适合用于第一片层12和/或第二片层18的玻璃的实例描述于美国专利4,746,347；4,792,536；5,030,593；5,030,594；5,240,886；5,385,872；和5,393,593中。该第一和第二片层12、18可为任何期望的尺寸，例如，长度、宽度、形状、或者厚度。在一种示例性的汽车透明体中，该第一和第二片层各自可为1mm至10mm厚，例如1mm至8mm厚，例如2mm至8mm，例如3mm至7mm，例如5mm至7mm，例如6mm厚。可用于本发明的实践的玻璃的非限制性实例包括透明玻璃，GL-35，
Figure BDA00002144837900082
玻璃，
Figure BDA00002144837900083
玻璃，
Figure BDA00002144837900084
玻璃，和
Figure BDA00002144837900085
玻璃，所有的都可商购自宾夕法尼亚州匹茨堡的PPGIndustries Inc。
将本发明的防阳光涂层30沉积在玻璃片层12、18中之一的至少一个主表面的至少一部分上。在图1中所示的实例中，将涂层30形成于外侧玻璃片层12的内表面16的至少一部分上。本申请所用的术语″防阳光涂层″是指由一个或多个层或者膜组成的涂层，所述一个或多个层或者膜影响涂覆的制品的阳光性质，例如但不限于，从涂覆的制品反射的、被它吸收的或者透过它的太阳辐射量，例如，可见光、红外、或紫外辐射量；遮蔽系数；发射率(emissivity)等。防阳光涂层30能够阻挡、吸收、或者过滤选择部分的太阳光谱，例如但不限于，IR、UV、和/或可见光谱。
防阳光涂层30可通过任何常规的方法沉积，例如但不限于，常规的化学气相沉积(CVD)和/或物理气相沉积(PVD)方法。CVD方法的实例包括喷雾高温热解。PVD方法的实例包括电子束蒸镀和真空溅射(例如磁控溅射气相沉积，MSVD))。也可使用其它的涂覆方法，例如但不限于，溶胶-凝胶沉积。在一种非限制性的实施方式中，涂层30可通过MSVD沉积。MSVD涂覆设备和方法的实例是本领域普通金属人员熟知的，并且描述于例如美国专利4,379,040；4,861,669；4,898,789；4,898,790；4,900,633；4,920,006；4,938,857；5,328,768；和5,492,750中。
岛状的金属层
本发明的示例性的非限制性防阳光涂层30示于图2中。这种示例性的涂层30包括者沉积在基材的主要表面(例如第一片层12的2号表面16)的至少一部分上的第一介电层40或基础层。第一介电层40可为单层或者可包括防反射材料和/或介电材料(例如但不限于，金属氧化物，金属合金的氧化物，氮化物，氧氮化物，或其混合物)的多于一个的膜。第一介电层40可为对可见光透明的。用于第一介电层40的合适的金属氧化物的实例包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡的氧化物，及其混合物。这些金属氧化物可具有少量的其它材料，例如氧化铋中的锰，氧化铟中的锡等。此外，可使用金属合金或者金属混合物的氧化物，例如含有锌和锡的氧化物(例如，下面限定的锡酸锌)，铟-锡合金的氧化物，氮化硅，硅铝氮化物，或者铝氮化物。此外，可使用掺杂的金属氧化物，例如锑或者铟掺杂的锡氧化物或者镍，或硼掺杂的硅氧化物。第一介电层40可为基本上单相的膜，例如金属合金氧化物膜，例如，锡酸锌，或者可为由锌和锡的氧化物组成的多个相的混合物，或者可由多个膜构成。
例如，第一介电层40(无论是单膜还是多膜层)的厚度可为
Figure BDA00002144837900091
至
Figure BDA00002144837900092
例如至
Figure BDA00002144837900094
例如
Figure BDA00002144837900095
至
Figure BDA00002144837900096
例如
Figure BDA00002144837900097
至
Figure BDA00002144837900098
例如
Figure BDA00002144837900099
至
Figure BDA000021448379000910
例如至
Figure BDA000021448379000912
例如
Figure BDA000021448379000913
至
Figure BDA00002144837900101
第一介电层40可包含多膜结构，该结构具有第一膜42，例如，金属合金氧化物膜，其沉积在基材的至少一部分(例如第一片层12的内主要表面16)上，和第二膜44，例如，金属氧化物或氧化物混合物膜，其沉积在第一金属合金氧化物膜42上。在一种非限制性的实施方式中，第一膜42可为锌/锡合金氧化物。″锌/锡合金氧化物″是指真正的合金，并且也指氧化物的混合物。锌/锡合金氧化物可为通过磁控溅射真空沉积从锌和锡的阴极获得的那些。一种非限制性的阴极可包括锌和锡，其比例为5wt.%至95wt.%的锌和95wt.%至5wt.%的锡，例如10wt.%至90wt.%的锌和90wt.%至10wt.%的锡。但是，也可使用锌与锡的其它比例。可存在于第一膜42中的一种合适的金属合金氧化物是锡酸锌。″锡酸锌″是指ZnxSn1-x02-x(式1)的组合物，其中″x″变化的范围为大于0至小于1。例如，″x″可为大于0，和可为大于0至小于1的任何分数或者十进位小数。例如，当x=2/3时，式1是Zn2/3Sn1/3O4/3，其更通常地描述为″Zn2SnO4″。含锡酸锌的膜在该膜中具有主要量的式1的一种或者多种物质。
第二膜44可为金属氧化物膜，例如锌氧化物。氧化锌膜可从锌阴极沉积，所述锌阴极含有其它物质以改善阴极的溅射特性。例如，锌阴极可含有少量的(例如，至多10wt.%，例如至多5wt.%)的锡来改善溅射。在该情况下，得到的氧化锌膜会含有少百分比的氧化锡，例如，至多10wt.%的氧化锡，例如，至多5wt.%的氧化锡。即使可存在少量的锡，从锌阴极沉积的具有至多10wt.%的锡(添加用来提高阴极的导电性)的涂层在本申请中也称为″氧化锌膜″。认为阴极中少量的锡(例如，小于或等于10wt.%，例如小于或等于5wt.%)主要在第二氧化锌膜44中形成氧化锡。
例如，第一膜42可为锡酸锌，而第二膜44可为氧化锌(例如，90wt.%氧化锌和10wt.%氧化锡)。例如，该第一膜42可包括锡酸锌，其厚度为
Figure BDA00002144837900102
至
Figure BDA00002144837900103
例如
Figure BDA00002144837900104
至
Figure BDA00002144837900105
例如
Figure BDA00002144837900106
至
Figure BDA00002144837900107
例如至
Figure BDA00002144837900109
例如
Figure BDA000021448379001010
至
Figure BDA000021448379001011
例如
Figure BDA000021448379001012
至
Figure BDA000021448379001013
例如
Figure BDA00002144837900111
至
Figure BDA00002144837900112
例如
Figure BDA00002144837900113
至
Figure BDA00002144837900114
第二膜44可包括氧化锌，其厚度为
Figure BDA00002144837900115
至
Figure BDA00002144837900116
例如
Figure BDA00002144837900117
至
Figure BDA00002144837900118
例如
Figure BDA00002144837900119
至
Figure BDA000021448379001110
例如
Figure BDA000021448379001111
至
Figure BDA000021448379001112
第一热和/或辐射反射金属层46可沉积在第一介电层40上。第一反射层46可包括反射金属，例如但不限于，金属金、铜、钯、铝、银、或者其混合物、合金、或组合。在一种实施方式中，第一反射层46包括金属银层，其厚度为
Figure BDA000021448379001113
至
Figure BDA000021448379001114
例如，
Figure BDA000021448379001115
至
Figure BDA000021448379001116
例如，至
Figure BDA000021448379001118
例如
Figure BDA000021448379001119
至
Figure BDA000021448379001120
例如
Figure BDA000021448379001121
至
Figure BDA000021448379001122
例如
Figure BDA000021448379001123
至200A，例如至
Figure BDA000021448379001125
第一金属层46是连续的层。″连续的层″是指该涂层形成材料的连续的膜，和没有分离的涂层区域。
第一底漆层48位于第一反射层46上。第一底漆层48可为单一膜或者多膜层。第一底漆层48可包括俘获氧的材料，其可在沉积的过程中牺牲掉从而防止第一反射层46在溅射工艺或者接下来的加热工艺过程中劣化或氧化。第一底漆层48也可吸收至少一部分透过涂层30的电磁辐射，例如可见光。可用于第一底漆层48的材料的实例包括钛、硅、二氧化硅、氮化硅、硅氧氮化物、镍-铬合金(例如Inconel)、锆、铝、硅和铝的合金，含有钴和铬的合金(例如，
Figure BDA000021448379001126
)，及其混合物。例如，第一底漆层48可为钛，并且厚度可为
Figure BDA000021448379001127
至
Figure BDA000021448379001128
例如，至
Figure BDA000021448379001130
例如，
Figure BDA000021448379001131
至
Figure BDA000021448379001132
例如，
Figure BDA000021448379001133
至
Figure BDA000021448379001134
第二介电层50位于第一反射层46上(例如，在第一底漆层48上)。第二介电层50可包括一个或者多个含金属氧化物或者金属合金氧化物的膜，例如以上针对第一介电层40所述的那些。例如，第二介电层50可包括第一金属氧化物膜52，例如，氧化锌膜，其沉积在第一底漆膜48上，和第二金属合金氧化物膜54，例如，锡酸锌(Zn2SnO4)膜，其沉积在第一氧化锌膜52上。任选的第三金属氧化物膜56，例如，另一氧化锌层，可沉积在锡酸锌层上。
第二介电层50的总厚度(例如，多个层的总厚度)可为
Figure BDA000021448379001135
至
Figure BDA000021448379001136
例如，
Figure BDA000021448379001137
至
Figure BDA000021448379001138
例如，
Figure BDA000021448379001139
至
Figure BDA000021448379001140
例如，
Figure BDA00002144837900121
至
Figure BDA00002144837900122
例如，
Figure BDA00002144837900123
至
Figure BDA00002144837900124
例如，
Figure BDA00002144837900125
至
Figure BDA00002144837900126
例如，
Figure BDA00002144837900127
至
Figure BDA00002144837900128
[0042]对于多膜层，例如，该氧化锌膜52(和任选的第二氧化锌膜56，如果存在的话)的厚度可为
Figure BDA00002144837900129
至
Figure BDA000021448379001210
例如，
Figure BDA000021448379001211
至
Figure BDA000021448379001212
Figure BDA000021448379001213
例如，
Figure BDA000021448379001214
至
Figure BDA000021448379001215
例如，
Figure BDA000021448379001216
至
Figure BDA000021448379001217
金属合金氧化物层(锡酸锌)54的厚度可为
Figure BDA000021448379001218
至
Figure BDA000021448379001219
例如，至例如，
Figure BDA000021448379001222
至
Figure BDA000021448379001223
例如，
Figure BDA000021448379001224
至
Figure BDA000021448379001225
例如，至
Figure BDA000021448379001227
亚临界厚度的(不连续的)第二金属层58位于第二介电层50上(例如，存在时在第二氧化锌膜56上，或不存在时在锡酸锌膜54上)。将金属材料，例如但不限于，金属金、铜、钯、铝、银、或其混合物、合金、或组合，以亚临界厚度施加，使得形成材料的分离的区域或者岛状物，而不是材料的连续的层。对于银，已经确定，临界厚度为小于例如小于
Figure BDA000021448379001229
例如小于
Figure BDA000021448379001230
例如小于对于银，连续的层和亚临界层之间的过渡发生于
Figure BDA000021448379001232
至
Figure BDA000021448379001233
的范围。估计铜、金、和钯在该范围内会显示出类似的亚临界性质。第二金属层58可包括以上针对第一反射层46所述的任何一种或多种材料，但是这些材料不以连续的膜存在。在一种非限制性的实施方式中，该第二层58包括岛状的银，其中该岛状物的有效厚度为
Figure BDA000021448379001234
至
Figure BDA000021448379001235
例如，
Figure BDA000021448379001236
至
Figure BDA000021448379001237
例如，
Figure BDA000021448379001238
至
Figure BDA000021448379001239
例如，
Figure BDA000021448379001240
至
Figure BDA000021448379001241
例如，
Figure BDA000021448379001242
至
Figure BDA000021448379001243
例如，
Figure BDA000021448379001244
至
Figure BDA000021448379001245
例如，
Figure BDA000021448379001246
至
Figure BDA000021448379001247
该亚临界金属层58根据等离子体振子共振理论(Plasmon Resonance Theory)吸收电磁辐射。这种吸收至少部分取决于金属岛状物的界面处的边界条件。亚临界金属层58不是红外反射层，与第一金属层46相同。亚临界银层58不是连续的层，对于银来说，估计以低于亚临界厚度沉积的银金属的金属岛状物或者球状物的高度可为约2nm至7nm，例如5nm至7nm的高度。如果亚临界银层能均匀地铺展开，估计它就将会具有约1.1nm的厚度。估计，任选地，该不连续的金属层表现为2.6nm的有效层厚度。将该不连续的金属层沉积在锡酸锌上而不是氧化锌上似乎会增加涂层的可见光吸光率，例如，不连续的金属层的可见光吸光率。
可将第二底漆层60沉积在第二金属层58上。第二底漆层60可如以上针对第一底漆层48所描述的。在一种实例中，第二底漆层可为镍-铬合金(例如Inconel)，其厚度为至例如，
Figure BDA00002144837900133
至
Figure BDA00002144837900134
例如，
Figure BDA00002144837900135
至
Figure BDA00002144837900136
例如，
Figure BDA00002144837900137
至
Figure BDA00002144837900138
由于亚临界材料的吸光率至少部分取决于边界条件，不同的底漆(例如，具有不同的折射率)会为涂层提供不同的吸光光谱，并且因此提供不同的颜色。
第三介电层62可沉积在第二金属层58上(例如，在第二底漆膜60上)。第三介电层62也可包括一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层，例如如上对于第一和第二介电层40、50所讨论的。在一种实例中，第三介电层62是类似于第二介电层50的多膜层。例如，第三介电层62可包括第一金属氧化物层64，例如，氧化锌层，第二含有金属合金氧化物的层66，例如，沉积在氧化锌层64上的锡酸锌层，和任选的第三金属氧化物层68，例如，另一氧化锌层，其沉积在锡酸锌层66上。在一种实施例中，氧化锌层64、68二者都存在，并且各自的厚度为
Figure BDA00002144837900139
至例如
Figure BDA000021448379001311
至
Figure BDA000021448379001312
例如
Figure BDA000021448379001313
至
Figure BDA000021448379001314
例如
Figure BDA000021448379001315
至
Figure BDA000021448379001316
金属合金氧化物层66的厚度可为
Figure BDA000021448379001317
Figure BDA000021448379001318
至
Figure BDA000021448379001319
例如，
Figure BDA000021448379001320
至
Figure BDA000021448379001321
例如，
Figure BDA000021448379001322
至
Figure BDA000021448379001323
例如，至
Figure BDA000021448379001325
例如，
Figure BDA000021448379001326
至
Figure BDA000021448379001327
在一种实例中，第三介电层62的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA000021448379001328
至
Figure BDA000021448379001329
例如，
Figure BDA000021448379001330
至
Figure BDA000021448379001331
例如，
Figure BDA000021448379001332
Figure BDA000021448379001333
至
Figure BDA000021448379001334
例如，至
Figure BDA000021448379001336
例如，
Figure BDA000021448379001337
至
Figure BDA000021448379001338
第三热和/或辐射反射金属层70沉积于第三介电层62上。第三反射层70可为以上针对第一反射层所讨论的任何材料。在一种非限制性的实例中，第三反射层70包括银，并且厚度为
Figure BDA000021448379001339
至
Figure BDA000021448379001340
例如，至例如，
Figure BDA000021448379001343
至
Figure BDA000021448379001344
例如
Figure BDA000021448379001345
至
Figure BDA000021448379001346
例如
Figure BDA000021448379001347
至
Figure BDA000021448379001348
例如
Figure BDA000021448379001349
至
Figure BDA000021448379001350
第三金属层是连续的层。
第三底漆层72位于第三反射层70上。第三底漆层72可为如上针对第一或第二底漆层所讨论的。在一种非限制性的实例中，第三底漆层是钛，并且厚度为
Figure BDA000021448379001351
至
Figure BDA000021448379001352
例如，
Figure BDA000021448379001353
至例如，
Figure BDA00002144837900141
至
Figure BDA00002144837900142
第四介电层74位于第三反射层上(例如，在第三底漆层72上)。第四介电层74可由一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层构成，例如以上针对第一、第二、或第三介电层40、50、62所讨论的那些。在一种非限制性的实例中，第四介电层74是多膜层，其具有沉积在第三底漆膜72上的第一金属氧化物层76，例如，氧化锌层，和沉积在氧化锌层76上的第二金属合金氧化物层78，例如，锡酸锌层。在一种非限制性的实施方式中，所述氧化锌层76的厚度可为
Figure BDA00002144837900143
至例如
Figure BDA00002144837900145
至
Figure BDA00002144837900146
例如
Figure BDA00002144837900147
至
Figure BDA00002144837900148
例如
Figure BDA00002144837900149
至
Figure BDA000021448379001410
锡酸锌层78的厚度可为
Figure BDA000021448379001411
至
Figure BDA000021448379001412
例如，
Figure BDA000021448379001413
至
Figure BDA000021448379001414
例如，
Figure BDA000021448379001415
至
Figure BDA000021448379001416
例如，至
Figure BDA000021448379001418
例如，
Figure BDA000021448379001419
至
Figure BDA000021448379001420
例如，
Figure BDA000021448379001421
至
Figure BDA000021448379001422
在一种非限制性的实例中，第四介电层74的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA000021448379001423
至
Figure BDA000021448379001424
例如，
Figure BDA000021448379001425
至
Figure BDA000021448379001426
例如，
Figure BDA000021448379001427
至
Figure BDA000021448379001428
例如，
Figure BDA000021448379001429
至
Figure BDA000021448379001430
保护层(overcoat)80可位于第四介电层74上。保护层80可帮助保护在下面的涂层不受机械和化学攻击。保护层80可为，例如，金属氧化物或者金属氮化物层。例如，保护层80可为氧化钛，其厚度为至例如
Figure BDA000021448379001433
至
Figure BDA000021448379001434
例如
Figure BDA000021448379001435
至
Figure BDA000021448379001436
例如
Figure BDA000021448379001437
至
Figure BDA000021448379001438
可用于保护层的其它材料包括其它的氧化物，例如二氧化硅、氧化铝、或者二氧化硅和氧化铝的混合物。
在一种非限制性的实施方式中，本发明的透明体10的来自1号表面的可见光百分比反射率(%R)为5%至50%，例如20%至40%，例如25%至30%。透明体10的可见光透射为大于20%，例如大于30%，例如大于40%。透明体的阳光热增益系数(solar heat gain coefficient，SHGC)为小于0.3，例如小于0.27，例如小于0.25。
与现有的制品不同，可使涂有涂层30的片层回火或者热处理，而不有害地影响制品的性能特性或者产生雾度。同样地，本发明的制品在反射和透射上都具有中性的或者适度的反射颜色，例如蓝色或者蓝绿色。
认为在加热时缺乏雾度是由于不连续的中间金属层的岛状的结构导致的。具有形成于介电层92上并且被底漆层94覆盖的不连续的涂层区域91的亚临界金属层90的侧视图示于图3中。亚临界金属厚度导致金属材料在介电层92上形成金属或金属氧化物的不连续的区域或者岛状物。当将底漆层施加于亚临界金属层上时，底漆层的材料覆盖该岛状物，并且也延伸到亚临界金属的相邻的岛状物之间的缝隙，并且与下面的层92接触。
本发明的涂层30相对于已知的涂层提供各种优点。例如，该亚临界金属层增加涂层的可见光吸光率，使该涂覆的制品更暗。亚临界金属层与所选择的厚度的介电层的组合能够为该涂覆的制品提供不对称的反射率。制品的颜色可通过改变涂层中使用的底漆而在透射率上进行调制。同样地，能够热处理本发明的涂层，而不引入雾度。
应该理解，前述的涂层30不限于本发明。例如，该亚临界金属层不需要是在堆叠体中的第二(中间)金属层。该亚临界金属层能够被置于涂层堆叠体中的任何位置。同样地，对于具有多个金属涂层的涂层堆叠体，不止一个所述金属层可为亚临界金属层。
虽然以上实例包含了两个连续的金属层和一个不连续的金属层，但是应该理解这仅是一种非限制性的实例。在本发明的宽范围实践中，本发明的涂层可包括多个连续的金属层和多个不连续的金属层。例如，涂覆的制品能够包括位于两个介电层之间的单个亚临界金属层。或者，该涂层能够包括3个或者更多个金属层，例如4个或者更多个金属层，例如5个或者更多个金属层，例如6个或者更多个金属层，其中至少一个所述金属层是亚临界金属层。
钛底漆
本发明的另一示例性涂层130示于图4中。该示例性涂层130包括基础层或者沉积于基材的主要表面的至少一部分上的第一介电层140(例如，第一片层12的2号表面16)。第一介电层140可类似于如上所述的第一介电层40。例如，该第一介电层140可为单一层或者可包括多于一个防反射材料和/或介电材料的膜，例如但不限于，金属氧化物、金属合金的氧化物、氮化物、氧氮化物、或其混合物。第一介电层140对于可见光可以是透明的。对于第一介电层140来说合适的金属氧化物的实例包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、及其混合物的氧化物。这些金属氧化物可具有少量的其它材料，例如氧化铋中的锰，氧化铟中的锡等。此外，可使用金属合金或者金属混合物的氧化物，例如含有锌和锡的氧化物(例如，如下定义的锡酸锌)、铟-锡合金的氧化物、氮化硅、硅铝氮化物、或者铝氮化物。此外，可使用掺杂的金属氧化物，例如锑或铟掺杂的氧化锡，或镍或硼掺杂的氧化硅。第一介电层140可为基本上单相的膜，例如金属合金氧化物膜，例如，锡酸锌，或者可为由锌和锡的氧化物组成的多个相的混合物，或者可由多个膜构成。
例如，第一介电层140(无论是单膜或者多膜层)的厚度可为
Figure BDA00002144837900161
至
Figure BDA00002144837900162
例如
Figure BDA00002144837900163
至
Figure BDA00002144837900164
例如
Figure BDA00002144837900165
至
Figure BDA00002144837900166
例如
Figure BDA00002144837900167
至
Figure BDA00002144837900168
例如
Figure BDA00002144837900169
至
Figure BDA000021448379001610
例如
Figure BDA000021448379001611
至
Figure BDA000021448379001612
第一介电层140可包括多膜结构，该结构具有第一膜142，例如，金属合金氧化物膜，其沉积在基材的至少一部分上(例如第一片层12的内主要表面16)，和第二膜144，例如，金属氧化物或氧化物混合物膜，其沉积在第一金属合金氧化物膜142上。在一种非限制性的实施方式中，第一膜42可为锡酸锌。
例如，该第一膜142可为锡酸锌，并且第二膜144可为氧化锌(例如，90wt.%氧化锌和10wt.%氧化锡)。例如，第一膜142可包括锡酸锌，其厚度为
Figure BDA000021448379001613
至
Figure BDA000021448379001614
例如
Figure BDA000021448379001615
至
Figure BDA000021448379001616
例如
Figure BDA000021448379001617
至
Figure BDA000021448379001618
例如至
Figure BDA000021448379001620
例如
Figure BDA000021448379001621
至
Figure BDA000021448379001622
例如
Figure BDA000021448379001623
至
Figure BDA000021448379001624
例如
Figure BDA000021448379001625
至
Figure BDA000021448379001626
第二膜144可含有氧化锌，其厚度为
Figure BDA000021448379001627
至
Figure BDA000021448379001628
例如
Figure BDA000021448379001629
至
Figure BDA000021448379001630
例如
Figure BDA000021448379001631
至
Figure BDA000021448379001632
第一热和/或辐射反射金属层146可沉积于第一介电层140上。第一反射层146可包括反射金属，例如但不限于，金属金、铜、钯、银、或者其混合物、合金、或组合。在一种实施方式中，第一反射层46包括金属银层，其厚度为
Figure BDA00002144837900171
至
Figure BDA00002144837900172
例如，
Figure BDA00002144837900173
至例如，
Figure BDA00002144837900175
至
Figure BDA00002144837900176
例如，
Figure BDA00002144837900177
至例如至例如至
Figure BDA000021448379001712
例如
Figure BDA000021448379001713
至
第一底漆层148位于第一反射层146上。第一底漆层148可为单膜或者多膜层。该第一底漆层148可包括俘获氧的材料，其可在沉积的过程中牺牲从而防止第一反射层146在溅射方法或者接下来的加热方法的过程中劣化或氧化。第一底漆层148也可吸收至少一部分透过涂层130的电磁辐射，例如可见光。可用于第一底漆层148的材料的实例包括钛，Inconel，
Figure BDA000021448379001715
及其混合物。例如，第一底漆层148的厚度可为
Figure BDA000021448379001716
至
Figure BDA000021448379001717
例如，
Figure BDA000021448379001718
至
Figure BDA000021448379001719
例如，
Figure BDA000021448379001720
至
Figure BDA000021448379001721
例如，
Figure BDA000021448379001722
至在一种实例中，第一底漆148是钛。
第二介电层150位于第一反射层146上(例如，在第一底漆层48上)。第二介电层150可包括一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的膜，例如以上针对第一介电层140所述的那些。例如，第二介电层150可包括沉积在第一底漆膜148上的第一金属氧化物膜152，例如，氧化锌膜，和沉积在第一氧化锌膜152上的第二金属合金氧化物膜154，例如，锡酸锌(Zn2SnO4)膜。任选的第三金属氧化物膜156，例如，另一氧化锌层，可沉积在锡酸锌层上。
第二介电层150的总厚度(例如，如果存在不止一个层，那么该多个层的总厚度)可为
Figure BDA000021448379001724
至
Figure BDA000021448379001725
例如，至
Figure BDA000021448379001727
例如，至例如，
Figure BDA000021448379001730
至
Figure BDA000021448379001731
例如，
Figure BDA000021448379001732
至例如，至
Figure BDA000021448379001735
例如，至
Figure BDA000021448379001737
例如，对于多膜层，该氧化锌膜152(和任选的第二氧化锌膜156，如果存在的话)的厚度可为
Figure BDA000021448379001738
至
Figure BDA000021448379001739
例如，
Figure BDA000021448379001740
至
Figure BDA000021448379001741
例如，
Figure BDA000021448379001742
至
Figure BDA000021448379001743
例如，
Figure BDA000021448379001744
至金属合金氧化物层(锡酸锌)54的厚度可为
Figure BDA000021448379001746
至例如，
Figure BDA000021448379001748
至例如，
Figure BDA000021448379001750
至
Figure BDA000021448379001751
例如，
Figure BDA000021448379001752
至
Figure BDA000021448379001753
亚临界(不连续的)金属层158位于第二介电层150(例如，在第二氧化锌膜156上(在存在时)，或在锡酸锌膜154上(如果不存在))上。第二金属层158能够包括以上针对第一反射层146所述的任何一种或多种金属材料。在一种非限制性的实施方式中，第二金属层158包括岛状的银，其中该岛状物的有效厚度为
Figure BDA00002144837900181
至
Figure BDA00002144837900182
例如，
Figure BDA00002144837900183
至例如，
Figure BDA00002144837900185
至例如，
Figure BDA00002144837900187
至
Figure BDA00002144837900188
例如，至
Figure BDA000021448379001810
例如，
Figure BDA000021448379001811
至
Figure BDA000021448379001812
例如，至
Figure BDA000021448379001814
可将第二底漆层160沉积在第二金属层158上。第二底漆层160可如以上针对第一底漆层148所描述的。例如，该第二底漆层可为钛，其厚度为
Figure BDA000021448379001815
至
Figure BDA000021448379001816
例如，
Figure BDA000021448379001817
至
Figure BDA000021448379001818
例如，
Figure BDA000021448379001819
至
Figure BDA000021448379001820
例如，
Figure BDA000021448379001821
至
Figure BDA000021448379001822
第三介电层162可沉积在第二反射层158上(例如，在第二底漆层160上)。第三介电层162也可包括一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层，例如如上对于第一和第二介电层140150所讨论的。在一种实例中，第三介电层162是类似于第二介电层150的多膜层。例如，第三介电层162可包括第一金属氧化物层164，例如，氧化锌层，第二含有金属合金氧化物的层166，例如，沉积在氧化锌层164上的锡酸锌层，和任选的第三金属氧化物层168，例如，另一氧化锌层，其沉积在该锡酸锌层166上。在一种实例中，氧化锌层164、168二者都存在，并且各自的厚度为
Figure BDA000021448379001823
至
Figure BDA000021448379001824
例如
Figure BDA000021448379001825
至
Figure BDA000021448379001826
Figure BDA000021448379001827
例如至
Figure BDA000021448379001829
例如至
Figure BDA000021448379001831
金属合金氧化物层166的厚度可为
Figure BDA000021448379001832
至
Figure BDA000021448379001833
例如，
Figure BDA000021448379001834
至
Figure BDA000021448379001835
例如，
Figure BDA000021448379001836
至例如，
Figure BDA000021448379001838
至
Figure BDA000021448379001839
例如，
Figure BDA000021448379001840
至
Figure BDA000021448379001841
在一种实例中，第三介电层162的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA000021448379001842
至
Figure BDA000021448379001843
例如，
Figure BDA000021448379001844
至
Figure BDA000021448379001845
例如，
Figure BDA000021448379001846
至
Figure BDA000021448379001847
例如，
Figure BDA000021448379001848
至
Figure BDA000021448379001849
例如，
Figure BDA000021448379001850
至
Figure BDA000021448379001851
第三热和/或辐射反射金属层金属层170沉积于第三介电层162上。第三反射层170可为以上针对第一和第二反射层所讨论的任何材料。在一种非限制性的实例中，第三反射层170包括银，并且厚度为
Figure BDA00002144837900191
至
Figure BDA00002144837900192
例如，
Figure BDA00002144837900193
至
Figure BDA00002144837900194
例如，
Figure BDA00002144837900195
至
Figure BDA00002144837900196
例如
Figure BDA00002144837900197
至
Figure BDA00002144837900198
例如
Figure BDA00002144837900199
至
Figure BDA000021448379001910
例如
Figure BDA000021448379001911
至
第三底漆层172位于第三反射层170上。第三底漆层172可如上针对第一或第二底漆层所讨论的。在一种非限制性的实例中，第三底漆层是钛，并且厚度为
Figure BDA000021448379001913
至
Figure BDA000021448379001914
例如，
Figure BDA000021448379001915
至
Figure BDA000021448379001916
例如，
Figure BDA000021448379001917
至
Figure BDA000021448379001918
第四介电层174位于第三反射层上(例如，在第三底漆膜172上)。第四介电层174可由一种或者多种含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层构成，例如以上针对第一、第二、或第三介电层140、150、162所讨论的那些。在一种非限制性的实例中，第四介电层174是多膜层，其具有沉积在第三底漆膜172上的第一金属氧化物层176，例如，氧化锌层，和沉积在氧化锌层176上的第二金属合金氧化物层178，例如，锡酸锌层。在一种非限制性的实施方式中，氧化锌层176的厚度可为
Figure BDA000021448379001919
至例如
Figure BDA000021448379001921
至
Figure BDA000021448379001922
例如
Figure BDA000021448379001923
至
Figure BDA000021448379001924
例如
Figure BDA000021448379001925
至
Figure BDA000021448379001926
锡酸锌层178的厚度可为
Figure BDA000021448379001927
至
Figure BDA000021448379001928
例如，
Figure BDA000021448379001929
至
Figure BDA000021448379001930
例如，
Figure BDA000021448379001931
至
Figure BDA000021448379001932
例如，至
Figure BDA000021448379001934
例如，
Figure BDA000021448379001935
至例如，
Figure BDA000021448379001937
至
Figure BDA000021448379001938
在一种非限制性的实例中，第四介电层174的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA000021448379001939
至
Figure BDA000021448379001940
例如，
Figure BDA000021448379001941
至
Figure BDA000021448379001942
例如，至例如，
Figure BDA000021448379001945
至
Figure BDA000021448379001946
保护层180可位于第四介电层174上。保护层180可帮助保护在下面的涂层不受机械和化学攻击。保护层180可为，例如，金属氧化物或者金属氮化物层。例如，保护层180可为氧化钛，其厚度为
Figure BDA000021448379001947
至
Figure BDA000021448379001948
例如至
Figure BDA000021448379001950
例如
Figure BDA000021448379001951
至
Figure BDA000021448379001952
例如至
Figure BDA000021448379001954
Figure BDA000021448379001955
胶囊
本发明的另一示例性非限制性涂层230示于图5中。该示例性涂层230包括基础层或者沉积在基材的主要表面的至少一部分上的第一介电层240(例如，第一片层12的2号表面16)。第一介电层240可为单层或者可包括多于一个防反射材料和/或介电材料的膜，例如但不限于，金属氧化物、金属合金的氧化物、氮化物、氧氮化物、或其混合物。第一介电层240对于可见光可以是透明的。对于第一介电层240合适的金属氧化物的实例包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、及其混合物的氧化物。这些金属氧化物可具有少量的其它材料，例如氧化铋中的锰，氧化铟中的锡等。此外，可使用金属合金或者金属混合物的氧化物，例如含有锌和锡的氧化物(例如，如下定义的锡酸锌)、铟-锡合金的氧化物、氮化硅、氮化硅铝、或者氮化铝。此外，可使用掺杂的金属氧化物，例如锑或铟掺杂的氧化锡，或镍或硼掺杂的氧化硅。第一介电层240可为基本上单相的膜，例如金属合金氧化物膜，例如，锡酸锌，或者可为由锌和锡的氧化物组成的多个相的混合物，或者可由多个膜构成。
例如，第一介电层240(无论是单膜或者多膜层)的厚度可为
Figure BDA00002144837900201
至
Figure BDA00002144837900202
例如
Figure BDA00002144837900203
至
Figure BDA00002144837900204
例如
Figure BDA00002144837900205
至
Figure BDA00002144837900206
例如
Figure BDA00002144837900207
至例如
Figure BDA00002144837900209
至
Figure BDA000021448379002010
例如
Figure BDA000021448379002011
至
Figure BDA000021448379002012
第一介电层240可包括多膜结构，该膜结构具有第一膜242，例如，金属合金氧化物膜，其沉积在基材的至少一部分上(例如第一片层12的内主要表面16)，和第二膜244，例如，金属氧化物或氧化物混合物膜，其沉积在第一金属合金氧化物膜242上。在一种非限制性的实施方式中，第一膜242可为锡酸锌。
例如，第一膜242可为锡酸锌，第二膜244可为氧化锌(例如，90wt.%氧化锌和10wt.%氧化锡)，例如，第一膜242可包括锡酸锌，其厚度为
Figure BDA000021448379002013
至
Figure BDA000021448379002014
例如
Figure BDA000021448379002015
至
Figure BDA000021448379002016
例如
Figure BDA000021448379002017
至
Figure BDA000021448379002018
例如
Figure BDA000021448379002019
至
Figure BDA000021448379002020
例如
Figure BDA000021448379002021
至
Figure BDA000021448379002022
例如至
Figure BDA000021448379002024
例如
Figure BDA000021448379002025
至
Figure BDA000021448379002026
第二膜244可包括氧化锌，其厚度为至
Figure BDA000021448379002028
例如
Figure BDA000021448379002029
至
Figure BDA000021448379002030
例如
Figure BDA000021448379002031
至
Figure BDA000021448379002032
例如
Figure BDA000021448379002033
至
Figure BDA000021448379002034
第一热和/或辐射反射金属层246可沉积于第一介电层240上。第一反射层246可包括反射金属，例如但不限于，金属金、铜、钯、银、或者其混合物、合金、或组合。在一种实施方式中，第一反射层246包括金属银层，其厚度为
Figure BDA00002144837900211
至例如，至例如，
Figure BDA00002144837900215
至例如，
Figure BDA00002144837900217
至
Figure BDA00002144837900218
例如
Figure BDA00002144837900219
至
Figure BDA000021448379002110
例如至
Figure BDA000021448379002112
例如
Figure BDA000021448379002113
至
Figure BDA000021448379002114
第一底漆层248位于第一反射层246上。第一底漆层248可为单膜或者多膜层。第一底漆层248可包括俘获氧的材料，其可在沉积的过程中牺牲从而防止第一反射层246在溅射方法或者接下来的加热方法的过程中劣化或氧化。第一底漆层248也可吸收至少一部分透过涂层230的电磁辐射，例如可见光。
可用于第一底漆层248的材料的实例包括钛，Inconel，
Figure BDA000021448379002115
及其混合物。例如，第一底漆层248的厚度可为
Figure BDA000021448379002116
至
Figure BDA000021448379002117
例如，
Figure BDA000021448379002118
至
Figure BDA000021448379002119
例如，
Figure BDA000021448379002120
至
Figure BDA000021448379002121
例如，
Figure BDA000021448379002122
至
Figure BDA000021448379002123
第二介电层250位于第一反射层246上(例如，在第一底漆层248上)。第二介电层250可包括一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的膜，例如以上针对第一介电层240所述的那些。例如，第二介电层250可包括沉积在第一底漆膜248上的第一金属氧化物膜252，例如，氧化锌膜，和沉积在第一氧化锌膜252上的第二金属合金氧化物膜254，例如，锡酸锌(Zn2SnO4)膜。任选的第三金属氧化物膜256，例如，另一氧化锌层，可沉积在锡酸锌层上。
第二介电层250的总厚度(例如，多个层的总厚度)为
Figure BDA000021448379002124
至
Figure BDA000021448379002125
Figure BDA000021448379002126
例如，
Figure BDA000021448379002127
至
Figure BDA000021448379002128
例如，至
Figure BDA000021448379002130
例如，
Figure BDA000021448379002131
至
Figure BDA000021448379002132
例如，
Figure BDA000021448379002133
至
Figure BDA000021448379002134
例如，
Figure BDA000021448379002135
至
Figure BDA000021448379002136
例如，对于多膜层，该氧化锌膜252(和任选的第三氧化锌膜256，如果存在的话)的厚度可为至
Figure BDA000021448379002138
例如，
Figure BDA000021448379002139
至
Figure BDA000021448379002140
例如，
Figure BDA000021448379002141
至
Figure BDA000021448379002142
例如，至
Figure BDA000021448379002144
金属合金氧化物层(锡酸锌)254的厚度可为
Figure BDA000021448379002145
至
Figure BDA000021448379002146
例如，
Figure BDA000021448379002147
至
Figure BDA000021448379002148
例如，至
Figure BDA000021448379002150
例如，
Figure BDA000021448379002151
至
吸收层257位于第二介电层250上(例如，在第三氧化锌膜256上(如果存在的话)，或者在锡酸锌膜254上(如果不存在))。吸收层257可为多层结构，其具有第一吸收层259，金属层261，和第二吸收层263。第一和第二吸收层259、263可为相同的或者不同的材料。适合用于吸收层的材料包括金属或者硅的氧化物或者氮化物。例如，第一和第二吸收层259、265可为氮化硅。第一吸收层259的厚度可为
Figure BDA00002144837900221
至
Figure BDA00002144837900222
例如，
Figure BDA00002144837900223
至
Figure BDA00002144837900224
例如，至
Figure BDA00002144837900226
例如，
Figure BDA00002144837900227
至
Figure BDA00002144837900228
第二吸收层263也可为氮化硅，厚度可为
Figure BDA00002144837900229
至
Figure BDA000021448379002210
Figure BDA000021448379002211
例如，
Figure BDA000021448379002212
至
Figure BDA000021448379002213
例如，
Figure BDA000021448379002214
至例如，
Figure BDA000021448379002216
至
Figure BDA000021448379002217
Figure BDA000021448379002218
金属层261可为如上所述的亚临界厚度层。在一种实施例中，金属层261是钴-铬合金(例如
Figure BDA000021448379002219
)，并且厚度为
Figure BDA000021448379002220
至
Figure BDA000021448379002221
例如，
Figure BDA000021448379002222
至例如，
Figure BDA000021448379002224
至
Figure BDA000021448379002225
例如，
Figure BDA000021448379002226
至
Figure BDA000021448379002227
例如，至
Figure BDA000021448379002229
例如，
Figure BDA000021448379002230
至
Figure BDA000021448379002231
例如，
Figure BDA000021448379002232
至
第三介电层262可沉积在吸收层257上。第三介电层262也可包括一个或多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层，例如如上对第一和第二介电层240、250所讨论的。在一种实例中，第三介电层262是类似于第二介电层250的多膜层。例如，第三介电层262可包括任选的第一金属氧化物层264，例如，氧化锌层，第二含有金属合金氧化物的层266，例如，沉积在氧化锌层264上的锡酸锌层(如果存的话)，和任选的沉积在锡酸锌(第二)层266上的第三金属氧化物层268，例如，另一氧化锌层。在一种实例中，第一氧化锌层264(如果存在的话)和第三氧化锌层268各自的厚度可为
Figure BDA000021448379002234
至
Figure BDA000021448379002235
例如
Figure BDA000021448379002236
至
Figure BDA000021448379002237
例如
Figure BDA000021448379002238
至
Figure BDA000021448379002239
例如至
Figure BDA000021448379002241
金属合金氧化物层(第二)266的厚度可为
Figure BDA000021448379002242
至
Figure BDA000021448379002243
例如，至
Figure BDA000021448379002245
例如，至例如，
Figure BDA000021448379002248
至例如，
Figure BDA000021448379002250
至
Figure BDA000021448379002252
在一种实例中，第三介电层262的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA000021448379002253
至
Figure BDA000021448379002254
例如，
Figure BDA000021448379002255
至
Figure BDA000021448379002256
例如，至例如，
Figure BDA00002144837900233
至
Figure BDA00002144837900234
例如，
Figure BDA00002144837900235
至
Figure BDA00002144837900236
第三热和/或辐射反射金属层270沉积在第三介电层262上。第三反射层270可为以上针对第一和第二反射层讨论的任何材料。在一种非限制性的实例中，第三反射层270包括银，并且厚度为
Figure BDA00002144837900237
至例如，
Figure BDA00002144837900239
至
Figure BDA000021448379002310
例如，至
Figure BDA000021448379002312
例如
Figure BDA000021448379002313
至
Figure BDA000021448379002314
例如
Figure BDA000021448379002315
至
Figure BDA000021448379002316
例如
Figure BDA000021448379002317
至
Figure BDA000021448379002318
第三底漆层272位于第三反射层270上。第三底漆层272可如上针对第一或第二底漆层所讨论的。在一种非限制性的实例中，第三底漆层是钛，并且厚度为至
Figure BDA000021448379002320
例如，
Figure BDA000021448379002321
至
Figure BDA000021448379002322
例如，
Figure BDA000021448379002323
至
Figure BDA000021448379002324
第四介电层274位于第三反射层(例如，在第三底漆层272上)上。第四介电层274可由一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层构成，例如以上针对第一、第二、或第三介电层240、250、262所讨论的那些。在一种非限制性的实例中，第四介电层274是多膜层，其具有沉积在第三底漆膜272上的第一金属氧化物层276，例如，氧化锌层，和沉积在氧化锌层276上的第二金属合金氧化物层278，例如，锡酸锌层。在一种非限制性的实施方式中，氧化锌层276的厚度可为
Figure BDA000021448379002325
至
Figure BDA000021448379002326
例如
Figure BDA000021448379002327
至例如
Figure BDA000021448379002329
至例如
Figure BDA000021448379002331
至
Figure BDA000021448379002332
锡酸锌层278的厚度可为
Figure BDA000021448379002333
至
Figure BDA000021448379002334
例如，
Figure BDA000021448379002335
至
Figure BDA000021448379002336
例如，
Figure BDA000021448379002337
至
Figure BDA000021448379002338
例如，
Figure BDA000021448379002339
至
Figure BDA000021448379002340
例如，
Figure BDA000021448379002341
至
Figure BDA000021448379002342
例如，
Figure BDA000021448379002343
至
Figure BDA000021448379002344
在一种非限制性的实例中，第四介电层274的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA000021448379002345
至
Figure BDA000021448379002346
例如，
Figure BDA000021448379002347
至
Figure BDA000021448379002348
例如，至
Figure BDA000021448379002350
例如，
Figure BDA000021448379002351
至
保护层280可位于第四介电层274上。保护层280可帮助保护在下面的涂层不受机械和化学攻击。保护层280可为，例如，金属氧化物或者金属氮化物层。例如，保护层280可为氧化钛，其厚度为
Figure BDA000021448379002353
至例如至
Figure BDA000021448379002356
例如
Figure BDA000021448379002357
至例如至
Figure BDA000021448379002360
Figure BDA000021448379002361
双底漆
本发明的另一示例性非限制性涂层330示于图6中。该示例性的涂层330包括基础层或者沉积于基材的主要表面上的至少一部分上的第一介电层340(例如，第一片层12的2号表面16)。第一介电层340可类似于如上所述的第一介电层40。例如，第一介电层340可为单个层或者可包括多于一个防反射材料和/或介电材料的膜，例如但不限于，金属氧化物、金属合金的氧化物、氮化物、氧氮化物、或其混合物。第一介电层340可为对可见光透明的。对于第一介电层340而言合适的金属氧化物包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、及其混合物的氧化物。这些金属氧化物可具有少量的其它材料，例如氧化铋中的锰，氧化铟中的锡等。此外，可使用金属合金或者金属混合物的氧化物，例如含锌和锡的氧化物(例如，如下所限定的锡酸锌)、铟-锡合金的氧化物、氮化硅、氮化硅铝、或者氮化铝。此外，可使用掺杂的金属氧化物，例如锑或者铟掺杂的氧化锡或者镍或硼掺杂的氧化硅。第一介电层340可为基本上单相的膜，例如金属合金氧化物膜，例如，锡酸锌，或者可为由锌和氧化锡组成的多个相的混合物，或者可由多个膜构成。
例如，第一介电层340(无论是单膜或多膜层)的厚度可为
Figure BDA00002144837900241
至
Figure BDA00002144837900242
例如
Figure BDA00002144837900243
至
Figure BDA00002144837900244
例如
Figure BDA00002144837900245
至
Figure BDA00002144837900246
例如
Figure BDA00002144837900247
至
Figure BDA00002144837900248
例如至
Figure BDA000021448379002410
第一介电层340可包括多膜结构，该结构具有第一膜342，例如，金属合金氧化物膜，其沉积在基材的至少一部分上(例如第一片层12的内主要表面16)，和第二膜344，例如，金属氧化物或氧化物混合物膜，其沉积在第一金属合金氧化物膜342上。在一种非限制性的实施方式中，第一膜342可为锡酸锌。
例如，第一膜342可为锡酸锌，和第二膜344可为氧化锌(例如，90wt.%氧化锌和10wt.%氧化锡)。例如，第一膜342可包括锡酸锌，其厚度为
Figure BDA000021448379002411
至
Figure BDA000021448379002412
例如至
Figure BDA000021448379002414
例如
Figure BDA000021448379002415
至
Figure BDA000021448379002416
例如至
Figure BDA00002144837900252
例如
Figure BDA00002144837900253
至
Figure BDA00002144837900254
例如
Figure BDA00002144837900255
至
Figure BDA00002144837900256
第二膜344可包括氧化锌，其厚度为
Figure BDA00002144837900257
至
Figure BDA00002144837900258
例如
Figure BDA00002144837900259
至例如
Figure BDA000021448379002511
至
第一热和/或辐射反射金属层346可沉积在第一介电层340上。第一反射层346可包括反射金属，例如但不限于，金属金、铜、银、或者其混合物、合金、或组合。在一种实施方式中，第一反射层346包括金属银层，其厚度为
Figure BDA000021448379002513
至
Figure BDA000021448379002514
例如，
Figure BDA000021448379002515
至
Figure BDA000021448379002516
例如，至
Figure BDA000021448379002518
例如，
Figure BDA000021448379002519
至
Figure BDA000021448379002520
例如
Figure BDA000021448379002521
至
Figure BDA000021448379002522
例如
Figure BDA000021448379002523
至
Figure BDA000021448379002524
例如
Figure BDA000021448379002525
至
Figure BDA000021448379002526
第一底漆层348位于第一反射层346上。第一底漆层348可为单膜或者多膜层。第一底漆层348可包括俘获氧的物质，其可在沉积的过程中牺牲从而防止第一反射层346在溅射方法或者接下来的加热方法的过程中劣化或氧化。第一底漆层348也可吸收至少一部分透过涂层330的电磁辐射，例如可见光。可用于第一底漆层348的材料的实例包括钛，Inconel，
Figure BDA000021448379002527
及其混合物。例如，第一底漆层348可为多膜层，其具有第一底漆膜349和第二底漆膜351。第一和第二底漆膜349、351通常是不同的材料。例如，第一底漆膜349可为Inconel，其厚度为
Figure BDA000021448379002528
至
Figure BDA000021448379002529
例如，
Figure BDA000021448379002530
至
Figure BDA000021448379002531
第二底漆膜351可为钛，其厚度为
Figure BDA000021448379002532
至
Figure BDA000021448379002533
例如，
Figure BDA000021448379002534
至
Figure BDA000021448379002535
第二介电层350位于第一反射层346上(例如，在第一底漆层348上)。第二介电层350可包括一个或者多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的膜，例如以上针对第一介电层340所述的那些。例如，第二介电层350可包括沉积在第一底漆膜348上的第一金属氧化物膜352，例如，氧化锌膜，和沉积在第一氧化锌膜352上的第二金属合金氧化物膜354，例如，锡酸锌(Zn2SnO4)膜。任选的第三金属氧化物膜356，例如，另一氧化锌层，可沉积在锡酸锌层上。
第二介电层350的总厚度(例如，如果存在不止一个层时多个层的总厚度)可为
Figure BDA000021448379002536
至
Figure BDA000021448379002537
例如，至
Figure BDA000021448379002539
例如，
Figure BDA000021448379002540
至例如，
Figure BDA000021448379002542
至
Figure BDA000021448379002543
例如，
Figure BDA000021448379002544
至
Figure BDA000021448379002545
例如，
Figure BDA00002144837900261
至
Figure BDA00002144837900262
例如，对于多膜层，氧化锌膜352(和任选的第三氧化锌膜356，在存在时)的厚度可为
Figure BDA00002144837900263
至
Figure BDA00002144837900264
例如，
Figure BDA00002144837900265
至
Figure BDA00002144837900266
例如，
Figure BDA00002144837900267
至
Figure BDA00002144837900268
例如，至
Figure BDA000021448379002610
金属合金氧化物层(锡酸锌)54的厚度可为
Figure BDA000021448379002611
至
Figure BDA000021448379002612
例如，
Figure BDA000021448379002613
至
Figure BDA000021448379002614
例如，
Figure BDA000021448379002615
至例如，
Figure BDA000021448379002617
至
Figure BDA000021448379002618
反射金属层358位于第二介电层350上(例如，位于第三氧化锌膜356（如果存在的话）上，或者位于锡酸锌膜354上（如果不存在）)。在一种非限制性的实施方式中，第二反射层358包括银，其厚度为
Figure BDA000021448379002619
Figure BDA000021448379002620
至
Figure BDA000021448379002621
例如，
Figure BDA000021448379002622
至
Figure BDA000021448379002623
例如，
Figure BDA000021448379002624
至
Figure BDA000021448379002625
例如，
Figure BDA000021448379002626
至
Figure BDA000021448379002627
第二底漆层372可沉积在第二反射层358上。第二底漆层372可如上针对第一底漆层348所述的，例如，第二底漆层372可为具有第一底漆膜371和第二底漆膜373的多膜层。第一和第二底漆膜371、373通常是不同的材料制成的。例如，第一底漆膜371可为Incone l，其厚度为
Figure BDA000021448379002628
至
Figure BDA000021448379002629
例如，
Figure BDA000021448379002630
至第二底漆膜373可为钛，其厚度为
Figure BDA000021448379002632
至
Figure BDA000021448379002633
例如，
Figure BDA000021448379002634
至
Figure BDA000021448379002635
第三介电层374可沉积在第二反射层358上(例如。在第二底漆膜372上)。第三介电层374也可包括一个或多个含有金属氧化物或者金属合金氧化物的层，例如如上对第一和第二介电层340、350所述的。在一种实例中，第三介电层374是类似于第二介电层350的多膜层。在一种非限制性实例中，第三介电层374是多膜层，其具有沉积在第二底漆层372上的第一金属氧化物层376，例如，氧化锌层，和沉积在氧化锌层376上的第二金属合金氧化物层378，例如，锡酸锌层。在一种非限制性的实施方式中，氧化锌层376的厚度可为
Figure BDA000021448379002636
至
Figure BDA000021448379002637
Figure BDA000021448379002638
例如
Figure BDA000021448379002639
至
Figure BDA000021448379002640
例如
Figure BDA000021448379002641
至
Figure BDA000021448379002642
锡酸锌层378的厚度可为
Figure BDA000021448379002643
至
Figure BDA000021448379002644
例如，
Figure BDA000021448379002645
至
Figure BDA000021448379002646
例如，
Figure BDA000021448379002647
至
Figure BDA000021448379002648
例如，
Figure BDA000021448379002649
至
Figure BDA000021448379002650
例如，
Figure BDA000021448379002651
至
Figure BDA000021448379002652
例如，
Figure BDA000021448379002653
至
Figure BDA000021448379002655
在一种非限制性的实例中，第三介电层374的总厚度(例如，氧化锌和锡酸锌层的总厚度)为
Figure BDA00002144837900271
至
Figure BDA00002144837900272
例如，
Figure BDA00002144837900273
至
Figure BDA00002144837900274
例如，
Figure BDA00002144837900275
至
Figure BDA00002144837900276
例如，
Figure BDA00002144837900277
至
Figure BDA00002144837900278
保护层380可位于第三介电层374上。保护层380可帮助保护下面的涂层不受机械和化学攻击。保护层380可为，例如，金属氧化物或者金属氮化物层。例如，保护层380可为氧化钛，其厚度为
Figure BDA00002144837900279
至例如至
Figure BDA000021448379002712
例如
Figure BDA000021448379002713
至
Figure BDA000021448379002714
例如
Figure BDA000021448379002715
至
Figure BDA000021448379002716
Figure BDA000021448379002717
纳米复合层
如上所述，可将亚临界银层施加到表面上，然后可将另一层，例如金属氧化物或者金属层施加到亚临界银层上，从而基本上包封和保护该银岛。但是，在本发明的另一实施方式中，可沉积纳米复合物层，其中在介电基质相中包埋或者结合有纳米结晶的金属相。图7显示了纳米复合层382，其将具有金属纳米粒子386的第一材料384结合到沉积在基材388上的第一材料382中。该纳米复合层382能够取代防阳光涂层(例如，任何如上所述的涂层)中的一个或者多个金属银层。该纳米复合层382通过常规的反应性溅射使用具有第一材料和至少一种第二材料的靶来提供。该第一材料可为具有比第二材料相对较强的氮化或氧化倾向的材料。这些材料能够作为合金或者作为复合材料靶存在。例如，第一材料可为Cr、Al、Ti、或者Si。第二材料可为贵金属，例如Ag、Cu、或者Au，或者过渡金属，包括Fe、Ni、或者Co。当该靶被溅射(例如在含氧气氛中)时，第一材料氧化和形成介电基质相，并且将第二材料包含在该相中，例如以金属的纳米粒子的形式。纳米复合层382可通过合适地选择反应性气体、溅射电压等而调节，从而形成具有期望厚度的纳米复合层。具有金属粒子386包埋在第一材料384中的该纳米复合层382能够比具有连续的金属膜的涂层更好地抵抗与热处理或回火相关的高温。
作为吸收剂层的小带隙半导体材料
在一些应用中，可能期望改变具体的透射颜色，而不影响该涂层的防阳光性能。为达此目的的一种方式是将半导体材料集成到防阳光涂层中，该半导体材料在电磁光谱的可见光区域具有带隙边缘(bandgap edge)。本领域技术人员应该理解，在半导体带隙的边缘处，较短波长的辐射被半导体材料吸收，而较长波长的能量透射通过该材料。也即，该材料对于该带隙边缘之上的辐射是透明的。通过选择带隙边缘在可见光区域中的材料，能够选择吸收或者透过该半导体材料的电磁辐射波长。通过使用具有小带隙的半导体材料，例如但不限于，锗或者基于锗的合金，可将吸收边缘置于接近可见光谱的长波长侧。以此方式，可减少光学透射率，而不吸收近红外或者远红外辐射，最小化因吸收导致的不必要地加热玻璃。可将该半导体材料置于常规防阳光涂层中，例如两个银层之间，在银层上，在银层下，或者在该堆叠体中的任何其它位置。
以下示例说明本发明的各种实施方式。但是应该理解，本发明不限于这些具体实施方式。
实施例
在以下实施例中，″Rf″是指膜侧的反射率，″Rg″是指玻璃侧的反射率，″T″是指通过制品的透射率，″Rg60″是指玻璃侧在60°角的反射率，″Rx″是指从1号表面的标准IGU的外部反射率，″Rint″是指从内侧(4号)表面的I GU的反射率，″VLT″是指可见光透射率，和″SHGC″是指阳光加热增益系数。″标准IGU″具有6mm厚玻璃的外部片层，6mm玻璃的内部片层，填充有空气的0.5英寸(1.27cm)的缝隙，其中涂层在2号表面上。″S.C.″是指″亚临界″厚度(即，该层不是连续的层，而是沉积形成不连续的涂层区域)。
在以下的实施例中，″热处理的″是指该涂覆的基材在箱式炉(boxfurnace)中被加热至1,185°F的温度，从而模拟回火，然后空气冷却至室温，然后测量光学特性。
颜色坐标a*，b*，和L*是常规CIE(1931)和CIELAB体系的那些，这将会被本领域普通技术人员所理解。
为了对亚临界层结构对电磁辐射的响应进行建模，从而可优化和控制整个堆叠体的光学性质，可将该亚临界层建模成两个理想化的层。这些理想化的层在它们的整个厚度上具有均匀的光学性质(即，折射率(n)和消光系数(k))，在该堆叠体中的其它层也是这样的。因此，在实施例中所提及的厚度是这些理想化的层的厚度，并且在计算含有这些层的给定涂层堆叠体的光学响应的情况下是有意义的。
同样，在以下的实施例中与″亚临界″层相关的厚度值是″有效厚度″，其是基于比商业涂覆器的实际涂覆速度低的参比涂层速度计算的。例如，银层以与商业涂覆器相同的涂覆速率，但是以比商业涂覆器低的线速度(参比涂覆速度)施涂到基材上。测量以参比涂覆速度设置的涂层的厚度，然后外推以相同的涂覆速度但是比商业涂覆器快的线速度设置的涂层的″有效厚度″。例如，如果特定的涂层速率提供在参比涂覆速率下的的银涂层，该在参比涂覆速率是商业涂覆器线速度的十分之一，则以相同的涂覆速率但是以商业涂覆器线速度(即为参比涂覆的10倍)获得的银层的″有效厚度″外推为
Figure BDA00002144837900292
(即，该厚度的十分之一)。但是，应该理解，该有效厚度的银层(低于亚临界厚度)将不是连续的层，而是具有不连续的银材料的区域的不连续的层。
实施例1
通过常规的MSVD涂覆器(可商购自Applied Materials)在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
Figure BDA00002144837900293
Figure BDA00002144837900301
将该涂覆的玻璃如上所述进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准I GU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm透明玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例2
通过常规的Ai rco MSVD涂覆器在6mm的
Figure BDA00002144837900302
玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构:
Figure BDA00002144837900303
Figure BDA00002144837900311
将该涂覆的玻璃如上所述进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准I GU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的
Figure BDA00002144837900312
玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例3
通过常规的Ai rco MSVD涂覆器在6mm的
Figure BDA00002144837900313
玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
Figure BDA00002144837900321
将该涂覆的玻璃如上所述进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准I GU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的
Figure BDA00002144837900322
玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例4
通过常规的Airco MSVD涂覆器在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
Figure BDA00002144837900323
将该涂覆的玻璃如上所述进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准I GU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的透明玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例5
通过常规的Airco MSVD涂覆器在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
将该涂覆的玻璃如上所述进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准I GU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的透明玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例6
通过常规的Airco MSVD涂覆器在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
Figure BDA00002144837900341
该涂覆的玻璃未进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准IGU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的透明玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例7
通过常规的Airco MSVD涂覆器在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
该涂覆的玻璃未进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准IGU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的透明玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例8
通过常规的Airco MSVD涂覆器在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
Figure BDA00002144837900361
将该涂覆的玻璃如上所述进行热处理，并且该玻璃具有下表1中所示的光学特性。将该制品结合到标准I GU中作为外部片层(内部片层是未涂覆的6mm的透明玻璃)，并且具有下表2中所示的光学特性。
实施例9
通过常规的Airco MSVD涂覆器在6mm的透明玻璃片上沉积涂层。该涂覆的玻璃具有以下结构：
表1
Figure BDA00002144837900372
表2
本领域技术人员应该容易理解，可对本发明进行改进而不偏离前述说明书所披露的观念。因此，本申请详细描述的具体实施方式仅是说明性的，不限制本发明的范围，本发明的范围应该由所附权利要求或其所有的等价物的全部宽度给出。

Claims (17)

1.一种涂覆的制品，其包括:
基材；
在所述基材至少一部分上的涂层堆叠体，所述涂层堆叠体包括多个金属层和多个介电层，其中至少一个所述金属层包括具有不连续的金属区域的亚临界金属层。
2.权利要求1的制品，其中至少一个所述金属层包括连续的金属层。
3.权利要求1的制品，其中所述涂层堆叠体包括:
在所述基材至少一部分上形成的第一介电层；
在所述第一介电层至少一部分上形成的连续的第一金属层；
在所述第一金属层至少一部分上形成的第二介电层；
亚临界第二金属层，其在所述第二介电层至少一部分上形成从而使该亚临界金属层形成不连续的金属区域；和
在所述基本上的金属层至少一部分上的第三介电层。
4.权利要求1的制品，其中所述亚临界金属选自银、金、铜、钯、或其混合物。
5.权利要求2的制品，其中所述连续的金属层包括与所述不连续的金属层相同的金属。
6.权利要求3的制品，包括形成于所述亚临界金属层至少一部分上的底漆层，所述底漆选自钛、含有镍和铬的合金、硅、二氧化硅、氮化硅、硅氧氮化物、NiCr、锆、铝、硅和铝的合金、和含有钴和铬的合金。
7.权利要求3的制品，其包括形成于所述第三介电层至少一部分上的连续的第三金属层，和形成于所述第三金属层至少一部分上的第四介电层。
8.权利要求3的制品，其中所述第一金属层包括金属银，并且所述亚临界金属层包含不连续的银区域。
9.一种涂覆的制品，其包括:
玻璃基材；和
在所述基材至少一部分上的涂层，所述涂层包括:
形成于所述玻璃基材至少一部分上的第一介电层；
形成于所述第一介电层至少一部分上的连续金属层；
形成于所述第一金属层至少一部分上的第二介电层；
亚临界金属层，其形成于所述第二介电层至少一部分上从而使该亚临界金属层形成不连续的金属区域；
形成于所述亚临界金属层至少一部分上的第三介电层；
形成于所述第三介电层至少一部分上的第三连续的金属层；
形成于所述第三金属层至少一部分上的第三介电层；和
形成于所述第三金属层至少一部分上的保护性层。
10.权利要求9的制品，其中所述亚临界金属层选自银、金、铜、钯、及其混合物。
11.权利要求9的制品，其中所述连续的金属层选自金、铜、银、铝、及其混合物。
12.权利要求9的制品，包括形成于所述亚临界金属层至少一部分上的底漆层，所述底漆材料选自硅、二氧化硅、氮化硅、硅氧氮化物、NiCr、锆、铝、硅和铝的合金、镍和铬的合金、和含有钴和铬的合金。
13.一种涂覆的制品，其包括:
基材；和
在所述基材至少一部分上的涂层，所述涂层包括:
形成于所述基材至少一部分上的第一介电层；
形成于所述第一介电层至少一部分上的第一金属层；
形成于所述第一金属层至少一部分上的第二介电层；
形成于所述第二介电层至少一部分上的第二金属层；和
形成于所述第二金属层至少一部分上的第三介电层，
其中至少一个所述金属层是具有不连续的金属区域的亚临界金属层。
14.权利要求13的制品，其中至少一个所述金属层是连续的金属层。
15.权利要求13的制品，还包括在第三介电层上的第三金属层和在所述第三金属层至少一部分上的第四介电层。
16.一种涂覆的制品，包括:
基材；
在所述基材至少一部分上的涂层堆叠体，所述涂层堆叠体包括:
第一介电层；
在所述第一介电层上的至少一个不连续的金属层；和
在所述不连续的金属层上的第二介电层。
17.涂覆的制品，包括:
基材；和
在所述基材至少一部分上的涂层，所述涂层包括:
第一介电层，其在所述基材至少一部分上形成并且包括在锡酸锌层上的氧化锌层；
连续的第一金属银层，其包括在所述第一介电层上的银；
在所述连续的第一金属银层上的第一底漆层，所述第一底漆包括钛；
在所述第一底漆层上的第二介电层，其包括在氧化锌层上的锡酸锌层；
在所述第二介电层上的不连续的第二金属银层；
第二底漆，其在所述不连续的第二金属银层上并且包括镍-铬合金；
第三介电层，其在所述第二底漆层上并且包括氧化锌层、锡酸锌层、和另一氧化锌层；
在所述第三介电层上的连续的第三金属银层；
第三底漆层，其包括在所述连续的第三金属银层上的钛；
第四介电层，其包括在所述第三底漆层上的氧化锌层上的锡酸锌层；和
保护性涂层，其包括在第四介电涂层上的氧化钛。
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