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CN108137394A - 具有增强的阳光控制性能的阳光控制涂层 - Google Patents

具有增强的阳光控制性能的阳光控制涂层 Download PDF

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CN108137394A
CN108137394A CN201680056772.4A CN201680056772A CN108137394A CN 108137394 A CN108137394 A CN 108137394A CN 201680056772 A CN201680056772 A CN 201680056772A CN 108137394 A CN108137394 A CN 108137394A
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CN
China
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film
solar control
phase adjustment
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Application number
CN201680056772.4A
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English (en)
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A·V·瓦格纳
P·费舍
P·A·梅德维克
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Vetro Flat Glass Co Ltd
Original Assignee
Vitro Variable Capital Ltd By Share Ltd
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Abstract

阳光控制涂层(30)包括第一相位调整层(40)、第一金属功能层(46)、第二相位调整层(50)、第二金属功能层(58)、第三相位调整层(62)、第三金属功能层(70)、第四相位调整层(86)、和可选的保护层(92)。金属功能层(46、58、70)中的至少一个包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个吸收膜。

Description

具有增强的阳光控制性能的阳光控制涂层
相关申请的交叉引用
本申请要求在2015年9月1日提交的美国临时专利申请No.62/212,665和在2016年3月22日提交的美国临时专利申请No.62/311,440的优先权，其全部内容通过引用并入本申请。
技术领域
本发明整体涉及具有一个或多个金属功能多膜层的阳光控制涂层，所述金属功能多膜层包括至少一个红外反射膜和至少一个吸收膜。
背景技术
阳光控制涂层阻挡或过滤选定范围的电磁辐射(通常是电磁光谱的红外区域和/或紫外区域中的辐射)。这些阳光控制涂层被安置在诸如窗户的透明体上，以减少进入建筑物的选定范围的太阳能的量。这减少了建筑物内部的热量积聚。
太阳能得热系数(SHGC)是表示涂层在多大程度上阻挡太阳能热量的指标。SHGC越低，太阳能热量被阻挡的越多，即，建筑物内的太阳能热量积聚越少。
光热比(LSG)是可见光透射率除以SHGC的比率。
总传热系数(U因子)是例如通过窗口的热损失的指标。U系数越低，通过窗口的热传递越低，即，窗口的隔热水平越高。
虽然阳光控制涂层提供了良好的阳光隔离性能，改善这些涂层的阳光控制性能是有用的。例如，减少SHGC和/或增加光热比(LSG)将是有用的。
为了减小SHGC，可以增加红外反射金属层的厚度。但是，这也会使阳光控制涂层更多地反射可见光。消费者更喜欢具有高可见光透射率但低可见光反射率(内外可见光反射率两者)的透明体。此外，增加红外反射金属层的厚度增加了阳光控制涂层对组成涂层的膜的厚度的随机变化或系统变化的敏感性。这会改变或不利地影响涂层的性能或涂层的美观性。另外，增加红外反射金属层的厚度趋于降低涂层对化学侵蚀和/或机械侵蚀的耐久性。而且，采用一个或多个电介质/银/电介质结构的周期的传统阳光控制涂层的设计限制了最具吸引力并且可使用该传统阳光控制涂层达到的美学/色彩空间的可进入区域。
因此，希望提供一种阳光控制涂层，其提供增强的阳光控制和/或美学性能。例如，希望提供具有低太阳能得热系数(SHGC)以防止建筑物内部热量积聚的阳光控制涂层。例如，希望提供具有高的光热比(LSG)的阳光控制涂层。高LSG表示良好的太阳能热量阻隔，而同时允许可见光穿过涂层，这改善了建筑物内部的自然照明。例如，希望提供具有商业上理想的美学空间和/或更大的可用彩色空间的阳光控制涂层。例如，希望提供具有上述优点中的一个或多个的未经热处理的阳光控制涂层。
发明内容
阳光控制涂层包括多个相位调整层和多个金属功能层。金属功能层中的至少一个包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个包括铜的吸收膜。
阳光控制涂层提供3mm基准的隔热玻璃单元(3mm基准的IGU)，其具有不大于64％的光透射比(T)值，不大于0.29的太阳能得热系数(SHGC)和至少为1.64的光热比(LSG)。
阳光控制涂层提供6mm的隔热玻璃单元(6mm基准的IGU)，其具有不大于64％的光透射比(T)值、不大于0.29的太阳能得热系数(SHGC)，至少为1.85的光热比(LSG)。
涂覆制品包括具有第一主表面和相对的第二主表面的第一层。阳光控制涂层位于第一层的主表面中的至少一个上。阳光控制涂层包括多个相位调整层和多个金属功能层。金属功能层中的至少一个包括金属功能多膜层，其包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个包括铜的吸收膜。
阳光控制涂层可以是未经热处理的阳光控制涂层。
附图说明
将参照以下附图描述本发明，在附图中相同的附图标记表示相同的部分。
图1是具有本发明的阳光控制涂层的涂覆制品的侧视图(未按照比例)；
图2是图1的涂覆制品的侧视图(未按照比例)，示出了本发明的示例性阳光控制涂层的多层结构；
图3是结合到隔热玻璃单元(IGU)中的图1或图2的阳光控制涂层的侧视图(未按照比例)；并且
图4是结合到层压单元中的图1或图2的阳光控制涂层的侧视图(未按照比例)。
具体实施方式
诸如“左”、“右”、“内”、“外”、“上”、“下”等的空间或方向术语指的是在图中示出的本发明。然而，本发明可以呈各种替代取向，因此这些术语不被认为是限制。
说明书和权利要求中使用的所有数字均应被理解为在所有情况中由术语“约”来修饰。“约”是指所述值的正负百分之十的范围。
本文公开的所有范围皆涵盖开始和结束范围值以及包含在其中的任何所有子范围。在此公开的范围表示在指定范围内的平均值。
关于本文所述的涂层或膜，术语“在...上方”意指距离所讨论的涂层或膜所在的基材(或基层)较远。例如，位于第一层“上方”的第二层意味着第二层比第一层更远离基底(或基层)。第二层可以直接接触第一层。替代地，一个或多个其他层可以位于第一层和第二层之间。
术语“膜”是指具有化学上不同和/或均质成份的区域。“层”包含一个或多个“膜”，“涂层”包含一个或多个“层”。
术语“聚合物”或“聚合的”包括低聚物、均聚物、共聚物和三元共聚物，例如，由两种或更多种类型的单体或聚合物形成的聚合物。
术语“紫外辐射”是指波长处于100nm至小于380nm范围内的电磁辐射。术语“可见辐射”或“可见光”是指波长处于380nm至780nm范围内的电磁辐射。术语“红外辐射”是指波长处于大于780nm至100,000nm范围内的电磁辐射。术语“太阳红外辐射”是指波长处于1,000nm至3,000nm范围内的电磁辐射。术语“热红外辐射”意指波长处于大于3,000nm至100,000nm范围内的电磁辐射。
本文提及的所有文献均“整体引入”。
术语“光学厚度”是指材料的几何厚度乘以在参考波长550nm下的材料的折射率。例如，几何厚度为5nm并且在参考波长550nm下折射率为2的材料将具有10nm的光学厚度。
术语“回火”或“热处理”是指所讨论的制品或涂层已被加热到足以实现热回火、热弯曲和/或热强化的温度。该定义包括例如在至少580℃，例如至少600℃，例如至少620℃的温度下在烘箱或炉中加热制品一段时间以实现热回火、热弯曲和/或热强化。例如，加热可以持续1至15分钟，例如1至5分钟的时间段。
术语“未经热处理”是指不经回火或热处理，或没有设计成回火或热处理以供最后使用。
术语“金属”和“金属氧化物”分别包括硅和二氧化硅，以及传统上认可的金属和金属氧化物，即使硅传统上可能不被认为是金属。
“至少”是指“大于或等于”。“不大于”是指“小于或等于”。
除非另有说明，否则对数量的任何引用都是“按重量百分比”。
除非有相反指示，否则厚度值是几何厚度值。
“掺杂剂”是以小于10wt.％，例如小于5wt.％，例如小于4wt.％，例如小于2wt.％的量存在的材料。例如，小于1wt.％。例如，小于0.5wt.％。例如，小于0.1wt.％。
术语“包括”与“包含”同义。
术语“可固化”是指能够聚合或交联的材料。“固化”是指该材料至少部分聚合或交联，优选地完全聚合或交联。
术语“临界厚度”是指这样的临界厚度，在该厚度之上材料形成连续不间断层，在该厚度之下材料形成材料的不连续区域或孤岛而非连续层。
术语“有效厚度”是指在其临界厚度之下但以沉积参数(例如沉积速率、线速度等)沉积的材料的理论几何厚度，所述沉积参数当材料在其临界厚度之上沉积时将提供处于所报告的厚度值的材料连续层。例如，如果已知以X厘米/秒的沉积线速度沉积的材料形成具有10nm的几何厚度的连续层，则预计将线速度增加到2X会沉积具有5nm的几何厚度的涂层。然而，如果5nm低于材料的临界厚度，则沉积的涂层将不具有5nm的连续均匀厚度，而是会形成不连续或岛状结构。这在此被称为具有5nm“有效厚度”的“层”或“膜”。
“3mm基准IGU”被定义为具有两个间隔开的3mm的透明玻璃片，它们由填充有空气的0.5英寸(1.2mm)的间隙分开，涂层位于2号表面上。“3mm基准IGU值”是指当涂层在2号表面上被结合到3mm基准IGU中时的报告值(玻璃中心)。
“6mm基准IGU”被定义为具有两个间隔开6mm的透明玻璃片，它们由填充有空气的0.5英寸(1.2毫米)的间隙分开，涂层位于2号表面上。“6mm基准IGU值”是指当涂层在2号表面上被结合到6mm基准IGU中时的报告值(玻璃中心)。
“基准层压单元”被定义为具有两层2.1mm的透明玻璃，它们由0.76mm的聚乙烯醇缩丁醛隔层连接并且涂层位于2号表面上。基准层压单元值是指在将涂层在2号表面上结合到基准层压单元中时的报告值。
术语“阳光控制涂层”是指由影响涂覆制品的太阳能性质(例如由涂层反射、被涂层吸收或透过涂层的太阳辐射的量)的一个或多个层或膜组成的涂层。
除非有相反指示，否则光学和阳光控制性能值(例如，可见光透射率和/或雾度)是使用Perkin Elmer 1050分光光度计测定的值。除非有相反指示，否则基准IGU值(3mm和6mm两者)根据可从Lawrence Berkeley国家实验室获得的OPTICS(v8.0)软件和WINDOW(v7.3.4,0)软件确定、测量的玻璃中心(COG)、根据NFRC 2010(包括NFRC 100-2010)标准默认设置计算。
除非有相反指示，否则U因子是冬/夜U因子。
除非有相反指示，否则SHGC值是夏/日值。
除非有相反指示，否则片材电阻值是使用四点探针(例如，Nagy Instruments SD-600测量装置或Alessi四点探针)确定的值。表面粗糙度值是使用Instrument Dimension3100Atomic Force Microscope确定的值。
颜色值(例如L*、a*、b*、C*和hue°)符合国际照明委员会规定的1976CIELAB颜色体系。
说明书和权利要求书中的L*、a*和b*值表示色心点值。结合有在正常制造公差内的本发明的阳光控制涂层的基准IGU(3mm或6mm)或基准层压单元相对于中心点值的ΔEcmc色差应该小于4个CMC单位(即，ΔEcmc<4)，优选小于2个CMC单位(即，ΔEcmc<2)。
在某些限制内本发明的讨论可以将某些特征描述为“特别”或“优选地”(例如在某些限制内“优选地”、“更优选地”、或“甚至更优选地”)。应当理解的是发明并不局限于这些特定或优选的限制而是涵盖本公开的整个范围。
本发明包括本发明的以下方面的任何组合、由本发明的以下方面的任何组合组成或基本上由本发明的以下方面的任何组合组成。在单独的附图中示出本发明的各个方面。然而，应当理解的是这仅仅是为了便于说明和讨论。在实施本发明时，一个附图中示出的本发明的一个或多个方面可以与一个或多个其他附图中示出的本发明的一个或多个方面组合。
将参照建筑透明体来讨论本发明。“建筑透明体”是指位于建筑物上的任何透明体，例如窗户、IGU或天窗。然而，应当理解的是，本发明并不局限于用于建筑透明体，而是可以实施在任何期望领域中的透明体，诸如层压或非层压的住宅和/或商业窗口，和/或用于陆地、空中、空间、水上和/或水下交通工具的透明体。因此，应当理解的是具体公开的示例仅用于解释本发明的一般概念，并且本发明并不局限于这些具体实施例。此外，虽然典型的“透明体”可以具有足够的可见光透射率，使得可以通过透明体观看材料，但在本发明的实践中，“透明体”不需要对可见光透明，而是可以是半透明的。
在图1和2中示出结合本发明特征的涂覆制品10。涂覆制品10包括具有第一主表面14和相对的第二主表面16的基底或第一层12。
本发明的阳光控制涂层30位于第一层12的主表面14、16中的至少一个上。在图1和2所示的示例中，阳光控制涂层30位于第一层12的第二主表面16的至少一部分上。如图1所示，阳光控制涂层30包括第一相位调整层40。第一金属功能层46位于第一相位调整层40上方。可选的第一底漆层48可位于第一金属功能层46上方。第二相位调整层50位于可选的第一底漆层48(如果存在)上方。第二金属功能层58位于第二相位调整层50上方。可选的第二底漆层60可位于第二金属功能层58上方。第三相位调整层62位于可选的第二底漆层60(如果存在)上方。第三金属功能层70位于第三相位调整层62上方。可选的第三底漆层72可位于第三金属功能层70上方。第四相位调整层86位于可选的第三底漆层72(如果存在)上方。可选的保护层92可以位于第四相位调整层86上方。金属功能层46、58、70中的至少一个包括金属功能多膜层，该金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个吸收膜。
第一层12对于可见辐射可以是透明或半透明的。“透明”是指具有大于0％至100％的可见辐射透射率。替代地，该层可以是半透明的。“半透明”是指漫射可见辐射，使得位于与观看者相反的一侧上的物体不是清晰可见。适当材料的示例包括但不局限于塑料基材(例如丙烯酸类聚合物，例如聚丙烯酸酯；聚甲基丙烯酸烷基酯，例如聚甲基丙烯酸甲酯，聚甲基丙烯酸乙酯，聚甲基丙烯酸丙酯等；聚氨酯；聚碳酸酯；聚对苯二甲酸烷基酯，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等；含聚硅氧烷的聚合物；或用于制备这些的任何单体的共聚物，或其任何混合物)、陶瓷基材、玻璃基材或上述任何的混合物或组合。例如，该层可以包括常规的钠钙硅酸盐玻璃、硼硅玻璃或含铅玻璃。玻璃可以是透明玻璃。“透明玻璃”是指无染色或无着色玻璃。替代地，玻璃可以是染色玻璃或其他方法着色的玻璃。玻璃可以是未经热处理或经过热处理的玻璃。玻璃能够是任何类型，例如传统浮法玻璃，并且可以是具有任何光学性质(例如，可见光辐射透射率、紫外线辐射透射率、红外辐射透射率和/或总太阳能透射率的任何值)的任何组合物。“浮法玻璃”是指通过常规浮法工艺形成的玻璃，其中，熔融玻璃沉积在熔融金属浴上并可控地冷却以形成浮法玻璃带。
第一层12可以是透明浮法玻璃或可以是染色或着色玻璃。第一层12可以具有任何所需的尺寸，例如长度、宽度、形状或厚度。可用于实践本发明的玻璃的示例包括透明玻璃、 GL-35TM、玻璃、玻璃、玻璃和玻璃，以上玻璃均可从宾夕法尼亚州匹兹堡的PPG工业公司商购获得。
相位调整层40、50、62、86包含非金属层。例如，相位调整层40、50、62、86包括电介质或半导体材料。例如，相位调整层40、50、62、86可以包括氧化物、氮化物、氮氧化物、硼化物、碳化物、碳氧化物、硼碳化物、硼氮化物，碳氮化物和/或其混合物、组合物、混杂物或合金。用于相位调整层40、50、62、86的合适材料的示例包括钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、铝、硼的氧化物、氮化物或氮氧化物以及其混合物、组合物、混杂物或合金。这些可以具有少量的其他材料。示例包括氧化铋中的锰、氧化铟中的锡等。另外，可以使用金属合金或金属混合物的氧化物。示例包括含有锌和锡的氧化物(例如锡酸锌)、铟锡合金的氧化物、氮化硅、氮化硅铝或氮化铝。此外，可以使用掺杂的金属氧化物、低氧化物、氮化物、低氮化物或氮氧化物。示例包括掺杂锑或铟的氧化锡或掺杂镍或硼的氧化硅。材料的具体示例包括氧化锌、氧化锡、氮化硅、氮化硅铝、氮化硅镍、氮化硅铬、掺杂锑的氧化锡、掺杂锡的氧化锌、掺杂铝的氧化锌、掺杂铟的氧化锌、氧化钛和/或它们的混合物、组合物、混杂物或合金。
相位调整层40、50、62、86中的一个或多个可以包括单一材料。替代地，相位调整层40、50、62、86中的一个或多个可以包括多种材料和/或多个膜。相位调整层40、50、62、86可以包括化学上不同的材料或相的分层的一系列膜，并且/或者可以包括一种或多种化学上不同的材料或相的一种或多种组合物。不同的相位调整层40、50、62、86可以包含相同或不同的材料。相位调整层40、50、62、86可以具有相同或不同的厚度。
相位调整层40、50、62、86允许调整从阳光控制涂层30的层的各界面边界部分反射和/或部分透射的电磁辐射的相长和相消光学干涉。改变相位调整层40、50、62、86的厚度和/或成分可以改变阳光控制涂层30的总反射率、透射率和/或吸收率，这能够改变阳光控制涂层30的阳光控制性能、热红外隔热性能、颜色和/或美观性。另外，相位调整层40、50、62、86可以为阳光控制涂层30的其他层(例如金属功能层)提供化学和/或机械保护。
在需要高可见光透射率的情况下，相位调整层40、50、62、86可充当抗反射层以对金属功能层抗反射，以便降低阳光控制涂层30的总可见光反射率和/或增加可见光透射率。具有大约2的折射率的材料对于金属功能层的抗反射尤为有用。
一个或多个相位调整层可以位于层12和最下面的金属功能层之间。一个或多个相位调整层可以位于最上面的金属功能层和周围环境(例如空气)之间。
在图示的示例性涂层30中，第一相位调整层40位于第一层12的第二主表面16的至少一部分上方。第一相位调整层40可以是单层或可以包括上述抗反射材料和/或介电材料的一个或多个膜。第一相位调整层40对于可见光可以是透明的。第一相位调整层40可以具备或不具备在电磁光谱的一个或多个区域中(例如可见光)的最小吸收率。
第一相位调整层40可以包括上述任何相位调整材料中的任意一种。例如，第一相位调整层40可以包括金属氧化物、金属氧化物的混合物或金属合金氧化物。例如，第一相位调整层40可以包含锌和锡的掺杂或非掺杂氧化物。
第一相位调整层40可以具有介于40nm至100nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于50nm至90nm的范围内。例如，光学厚度介于70nm至80nm范围内。例如，光学厚度介于75nm至76nm范围内。
第一相位调整层40可以具有介于20nm至50nm范围内的几何厚度。例如，几何厚度介于25nm至45nm范围内。例如，几何厚度介于35nm至40nm范围内。例如，几何厚度介于37nm至38nm范围内。
如图2所示，第一相位调整层40可以包括具有第一膜42和第二膜44的多膜结构。第二膜44可以位于第一膜42上方。
第一膜42可以包括例如金属合金的氧化物或金属氧化物的混合物。例如，第一膜42可以是锌和锡的合金的氧化物。“锌和锡的合金”是指真正的合金以及混合物。锌和锡的合金的氧化物可以从锌和锡的阴极由磁控溅射真空沉积(MSVD)获得。阴极可以包含锌和锡，其中，锌所占比例为5wt.％至95wt.％，锡所占比例为95wt.％至5wt.％，例如10wt.％至90wt.％的锌和90wt.％至10wt.％的锡。然而，也可以使用其他锌与锡的比例。用于第一膜42的金属合金的示例性氧化物可以写为ZnxSn1－xO2-x(分子式1)，其中“x”在大于0至小于1的范围内变化。例如，“x”可以大于0并且可以是大于0且小于1的任何分数或小数。分子式1的化学计量形式是“Zn2SnO4”，通常称为锡酸锌。锡酸锌层可以在存在氧的条件下从具有52wt.％锌和48wt.％的锡的阴极溅射沉淀。例如，第一膜42可以包含锡酸锌。
掺杂的氧化锌可以从包括另一种材料的锌阴极沉积，以提高阴极的溅射特征。例如，锌阴极能够包括少量锡(例如，10wt.％，例如5wt.％)，以便改进溅射。在这种情况中，所形成的氧化锌膜将包括少量百分比的氧化锡，例如10wt.％的氧化锡，例如5wt.％的氧化锡。其它材料的示例包括铝、铟及其组合物。优选地，其它材料包括锡。在存在氧气的条件下从包括90wt.％的锌和10wt.％的锡的阴极沉淀的掺杂锡的氧化锌材料在此称作ZnO 90/10。
第二膜44可以包括金属氧化物、掺杂的金属氧化物或氧化物混合物。第二膜44可以包括金属氧化物或掺杂的金属氧化物。例如，第二膜44可以包括氧化锌或掺杂的氧化锌。例如，第二膜44可以包含掺杂锡的氧化锌。例如，第二膜44可以包含ZnO 90/10。
第一膜42可以具有介于30nm至70nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于40nm至60nm的范围内。例如，光学厚度介于44nm至54nm的范围内。例如，光学厚度介于49nm至52nm的范围内。
第一膜42可以具有介于15nm至35nm范围内的几何厚度。例如，几何厚度介于20nm至30nm范围内。例如，几何厚度介于22nm至27nm范围内。例如，几何厚度介于24nm至25nm范围内。
第二膜44可以具有介于10nm至40nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于16nm至38nm的范围内。例如，光学厚度介于20nm至30nm的范围内。例如，光学厚度介于26nm至28nm范围内。
第二膜44可以具有介于5nm至20nm范围内的几何厚度。例如，几何厚度介于8nm至18nm范围内。例如，几何厚度介于10nm到15nm范围内。例如，几何厚度介于13nm至14nm范围内。
金属功能层46、58、70可以是单层膜。例如，金属功能层46、58、70可以各自包括连续的金属膜。“连续的”金属膜是指不间断的或不断开的膜，例如均匀的膜。
或者，金属功能层46、58、70中的一个或多个可以是金属功能多膜层。“金属功能多膜层”意指包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个吸收膜的层。红外反射膜可以在电磁光谱的太阳红外部分和/或热红外部分中具有反射率。吸收膜可以在电磁光谱的一个或多个部分中表现出增强的吸收率。例如，在电磁光谱的可见辐射区域和/或红外辐射区域和/或紫外辐射区域中增强的吸收率。
金属功能多膜层可以包括位于红外反射膜上方的吸收膜。吸收膜可以与上面的可选底漆层直接接触。
金属功能多膜层可以包括位于吸收膜上方的红外反射膜。吸收膜可以直接接触下面的相位调整层，
金属功能多膜层可以包括位于两个吸收膜之间的红外反射膜。上吸收膜可以与上面的可选底漆层直接接触。下吸收膜可以与下面的相位调整层直接接触。可选地，底漆层可以位于下吸收膜和下面的相位调整层之间。
红外反射膜的例子包括连续金属膜。用于红外反射膜的红外反射金属的示例包括贵金属或近贵金属。这些金属的示例包括银、金、铂、钯、锇、铱、铑、钌、铜、汞、铼、铝及其组合、混合物、混杂物或合金。例如，金属功能膜中的一个或多个可以包括连续的金属银膜。
用于吸收膜的吸收材料的示例包括金属，例如，金、银、铜、镍、钯、铂、钨、铑、铱、钽、铁、锡、铝、铅、锌、铬、钼、铌、钴、锰、钛、硅、铬及其组合、混合物、混杂物或合金。例如，吸收膜中的一个或多个可以包含铜。吸收膜中的一个或多个可以包含上述材料中的两种或更多种的合金或超合金。例如，镍、铬或镍和铬的合金，例如，600、617、625、690和/或718。
第一金属功能层46可以包括如上所述的金属功能多膜层。
替代地，第一金属功能层46可以包括包含上述红外反射金属中的任意一种的单个红外反射膜。例如，第一金属功能层46可以包括金属银的连续膜。
第一金属功能层46可以具有介于5nm至25nm范围内的几何厚度。例如，几何厚度介于7nm至20nm范围内。例如，几何厚度介于10nm至15nm范围内。例如，几何厚度介于11.5nm至12.5nm的范围内。
可选的底漆层48、60、72可以位于与相关的下面的金属功能层直接接触的位置处。底漆层48、60、72在涂覆过程和/或随后的加工(例如热回火)期间保护相关的金属功能层。底漆材料作为金属沉积。在随后的处理(例如上面的相位调整层的沉积和/或热回火)过程中，一些或全部金属底漆被氧化。当在相位调整层中使用氧化物或氮化物材料时，底漆层48、60、72可以分别包含亲氧或嗜氮材料。底漆层48、60、72不需要是全部相同的材料。底漆层48、60、72不需要具有相同的厚度。
用于底漆层48、60、72的材料的示例包括钛、铌、钨、镍、铬、铁、钽、锆、铝、硅、铟、锡、锌、钼、铪、铋、钒、锰以及它们的组合，混合物、混杂物或合金。
可选的第一底漆层48可以位于第一金属功能层46上方。第一底漆层48可以是单膜或多膜层。第一底漆层48可以包含上述底漆材料中的任意一种。例如，第一底漆层48可以包含钛。例如，第一底漆层48可以作为钛金属沉积。
第一底漆层48的几何厚度或有效厚度可介于0.5nm至10nm范围内，例如介于1nm至5nm的范围内，例如介于1.5nm到2.5nm的范围内，例如2nm。
第二相位调整层50位于第一金属功能层上方，例如位于可选的第一底漆层48(如果存在)上方。第二相位调整层50可以包括上述用于相位调整层的相位调整材料和/或膜中的一种或多种。
第二相位调整层50能够具有介于80nm至200nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于100nm至160nm的范围内。例如，光学厚度介于130nm至140nm的范围内。例如，光学厚度介于136nm至138nm的范围内。
第二相位调整层50可以具有介于40nm至100nm范围内的几何厚度。例如，几何厚度介于50nm至80nm的范围内。例如，几何厚度介于65nm至70nm范围内。例如，几何厚度介于68nm至69nm范围内。
第二相位调整层50可以是单膜或多膜层结构。例如，第二相位调整层50可以包括第一膜52、第二膜54和第三膜56。
第一膜52和/或第三膜56可以包括金属氧化物或掺杂的金属氧化物。例如，第一膜52和/或第三膜56可以包含氧化锌或掺杂的氧化锌。例如，第一膜52和/或第三膜56可以包含掺杂锡的氧化锌。例如，第一膜52和/或第三膜56可以包含ZnO 90/10。
第二膜54可以包含金属合金的氧化物，例如包含锌和锡的氧化物。例如，第二膜54可以包含锡酸锌。
第一膜52(和/或第三膜56)可以具有介于10nm至40nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于16nm至38nm的范围内。例如，光学厚度介于20nm至35nm的范围内。例如，光学厚度介于28nm至30nm的范围内。第一膜52和第三膜56可以包含相同或不同的材料并且可以具有相同或不同的厚度。
第一膜52(和/或第三膜56)可以具有介于5nm至20nm范围内的几何厚度，例如介于8nm至18nm范围内的几何厚度，例如介于10nm至16nm的范围内的几何厚度，例如介于14nm至15nm范围内的几何厚度。
第二膜54可以具有介于50nm至100nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于70nm至90nm的范围内。例如，光学厚度介于76nm至80nm的范围内。例如，光学厚度介于78nm至79nm范围内。
第二膜54可以具有介于25nm至50nm范围内的几何厚度，例如介于35nm至45nm范围内的几何厚度，例如介于38nm至42nm范围内的几何厚度，例如介于39nm至40nm范围内的几何厚度。
第二金属功能层58位于第二相位调整层50上方。第二金属功能层58可以是包括红外反射膜57的单膜。替代地，第二金属功能层58可以包括多膜层。在图2所示的示例中，第二金属功能层58是包括红外反射膜57和吸收膜59的金属功能多膜层。吸收膜59可以位于红外反射膜57的上方或下方。优选地，吸收膜59位于红外反射膜57上方。
红外反射膜57包含上述红外反射材料中的任意一种，例如连续的金属膜，例如连续的银膜。
红外反射膜57可以具有介于5nm至25nm范围内的几何厚度。例如，几何厚度介于7nm至20nm的范围内。例如，几何厚度介于10nm至18nm的范围内。例如，几何厚度介于15nm至16nm的范围内。
吸收膜59可以包括上述吸收材料中的任意一种。例如，吸收膜59可以包含镍和铬的合金。例如，吸收膜59可以包括600、617、625、690和/或718。例如，吸收膜59可以包括600。
吸收膜59可以具有介于0nm至2nm范围内的有效厚度。例如，有效厚度介于0.1nm至1.5nm的范围内。例如，有效厚度介于0.25nm至1nm的范围内。例如，有效厚度介于0.5nm至0.75nm的范围内。
可选的第二底漆层60可以位于第二金属功能层58上方。第二底漆层60可以包括底漆材料中的任意一种并且可以具有关于可选的第一底漆层48在上文描述的任何厚度。例如，第二底漆60可以包含钛。
第二底漆层60可以具有介于0.5nm至10nm范围内的几何厚度或有效厚度，例如介于1nm至5nm范围内的几何厚度或有效厚度，例如介于1.5nm至2.5nm范围内的几何厚度或有效厚度，例如介于2nm至2.25nm范围内的几何厚度或有效厚度。
第三相位调整层62位于第二金属功能层58上方，例如位于可选的第二底漆层60(如果存在)上方。第三相位调整层62可以包括关于第一和第二相位调整层40、50在上文讨论的相位调整材料和/或膜中的任何一种。例如，第三相位调整层62可以是多膜结构。例如，第三相位调整层62可以包括第一膜64、第二膜66和第三膜68。
第三相位调整层62可以具有介于90nm至200nm范围内的光学厚度。例如，光学厚度介于120nm至180nm的范围内。例如，光学厚度介于150nm至170nm的范围内。例如，光学厚度介于158nm至159nm的范围内。
第三相位调整层62可以具有介于45nm至100nm范围内的几何厚度，例如介于60nm至90nm范围内的几何厚度，例如介于75nm至85nm范围内的几何厚度，例如介于79nm至80nm范围内的几何厚度。
第一膜64和/或第三膜68可以包含金属氧化物或掺杂的金属氧化物，例如氧化锌或掺杂的氧化锌，例如掺杂锡的氧化锌，例如ZnO90/10。第二膜66可以包含金属合金的氧化物，例如包含锌和锡的氧化物，例如锡酸锌。
第一膜64(和/或第三膜68)可以具有介于10nm至40nm范围内的光学厚度，例如介于16nm至38nm范围内的光学厚度，例如介于20nm至30nm范围内的光学厚度，例如介于28nm至29nm范围内的光学厚度。第一膜64和第三膜68的厚度可以相同也可以不同。
第一膜64(和/或第三膜68)可以具有介于5nm至20nm范围内的几何厚度，例如介于8nm至18nm范围内的几何厚度，例如介于10nm至15nm范围内的几何厚度，例如介于13nm至14nm范围内的几何厚度。
第二膜66的光学厚度可以介于70nm至140nm范围内。例如，光学厚度介于80nm至120nm的范围内。例如，光学厚度介于90nm至110nm的范围内。例如，光学厚度介于102nm至104nm的范围内。
第二膜66可以具有介于35nm至70nm范围内的几何厚度，例如介于40nm至80nm范围内的几何厚度，例如介于45nm至55nm范围内的几何厚度，例如介于51nm至52nm范围内的几何厚度。
第三金属功能层70可以是单膜或多膜结构。在图2所示的示例中，第三金属功能层70是包括吸收膜71和红外反射膜73的金属功能多膜层。第三金属功能层70的金属功能多膜层能够具有以上针对第二金属功能层58所述的膜取向中的任意一种。吸收膜71可以位于红外反射膜73上方或下方。吸收膜71可以位于红外反射膜73下方。
吸收膜71可以包括上述吸收性材料中的任意一种。例如，吸收膜71可以是金属膜。例如，吸收膜71可以包括金、银、铜、镍、铁、锡、铝、铅、锌、铬及其组合，例如铜。
吸收膜71的物理厚度或有效厚度可以介于1nm至10nm范围内，例如介于2.5nm至4.5rem的范围内，例如介于3nm到4nm的范围内，例如介于3.5nm至3.75nm的范围内，
红外反射膜73可以是连续的金属膜，例如连续的金属制膜，例如金属银膜。
红外反射膜73的几何厚度可以介于5nm至30nm范围内。例如，几何厚度介于10nm到25nm的范围内。例如，几何厚度介于15nm至20nm的范围内。例如，几何厚度介于18nm至19nm范围内。
可选的第三底漆层72可以包括上述底漆材料中的任意一种。例如，第三底漆层72可以包含钛。
第三底漆层72的几何厚度或有效厚度可以介于0.5nm至10nm范围内，例如介于1nm至5nm的范围内，例如介于1.5nm至2.5nm的范围内，例如介于2nm到2.3nm的范围内。
第四相位调整层86可以包括以上关于第一、第二或第三相位调整层40、50、62讨论的相位调整材料和/或膜中的一种或多种。
第四相位调整层86的光学厚度可以介于30nm至100nm范围内。例如光学厚度介于40nm至80nm范围内。例如光学厚度介于50nm至70nm的范围内。例如光学厚度介于58nm至59nm的范围内。
第四相位调整层86的几何厚度可以介于15nm至50nm范围内。例如，几何厚度介于20nm至40nm的范围内。例如，几何厚度介于25nm至35nm范围内。例如，几何厚度介于29nm至30nm范围内。
第四相位调整层86可以包括第一膜88和第二膜90。
第一膜88可以包括金属氧化物或掺杂的金属氧化物，例如氧化锌或掺杂的氧化锌，例如掺杂锡的氧化锌，例如ZnO 90/10。第二膜90可以包括金属合金的氧化物，例如含锌和锡的氧化物，例如锡酸锌。
第一膜88可以具有介于4nm至40nm范围内的光学厚度，例如介于10nm至30nm范围内的光学厚度，例如介于14nm至22nm的范围内的光学厚度，例如介于18nm至19nm范围内的光学厚度。
第一膜88的几何厚度可以介于2nm至20nm范围内。例如，几何厚度介于5nm至15nm的范围内。例如，几何厚度介于7nm至11nm的范围内。例如，几何厚度介于9nm至10nm的范围内。
第二膜90的光学厚度能够介于10nm至80nm范围内。例如，光学厚度介于20nm至60nm的范围内。例如，光学厚度介于30nm至50nm的范围内。例如，光学厚度介于40nm至45nm的范围内。
第二膜90的几何厚度可以介于5nm至40nm范围内。例如，几何厚度介于10nm至30nm的范围内。例如，几何厚度介于15nm至25nm的范围内。例如，几何厚度介于20nm至22nm的范围内。
可选的保护层92可以是阳光控制涂层30的终端层。可选的保护层92可以包括一种或多种非金属材料，例如关于相位调整层在上文所述的非金属材料。替代地，保护层92可以包括金属材料。可选的保护层92可以为下面的涂层提供化学和/或机械保护。可选的保护层92可以提供相位调整和/或吸收。保护层92可以是单膜或具有多膜结构。
作为附加方案或替代方案，终端可选保护层92、一个或多个其他的可选保护层92可位于阳光控制涂层30内，例如位于两个或更多个相位调整层之间。
可选的保护层92可以包括例如金属氧化物或金属氮化物材料。例如，保护层92可以包括钛的氧化物，例如二氧化钛(即，氧化钛)。
可选的保护层92的光学厚度可以介于1nm至30nm范围内。例如，光学厚度介于2nm至20nm的范围内。例如，光学厚度介于4nm至14nm的范围内。例如，光学厚度介于10nm至12nm的范围内。
可选的保护层92的几何厚度或有效厚度可以介于0.5nm至15nm范围内，例如介于1nm至10nm的范围内，例如介于2nm至7nm的范围内，例如介于5nm至6nm的范围内。
阳光控制涂层30可以是未经热处理的涂层。
可以通过任何常规方法形成阳光控制涂层30的层和/或膜。这种方法的示例包括传统的化学气相沉积(CVD)和/或物理气相沉积(PVD)方法。CVD工艺的示例包括喷雾热解。PVD工艺的示例包括电子束蒸发和真空溅射，例如磁控溅射真空沉积(MSVD)。也可以使用其他涂覆方法，例如但不限于溶胶凝胶沉积。可以通过一种方法形成一个或多个层或膜，而可以通过不同的方法形成一个或多个其他层或膜。例如，涂层30可以由MSVD形成。
图3示出了结合到隔热玻璃单元(IGU)100中的图1和图2的涂覆制品10。第一主表面14(1号表面)面向建筑物外部，即外主表面，第二主表面16(2号表面)面向建筑物的内部。隔热玻璃单元100包括具有面向外的主表面120(3号表面)和面向内的主表面122(4号表面)的第二层118。层表面的该编号符合开窗技术的常规实践。
第二层118与第一层12间隔开。第一层12和第二层118可以以任何合适方式(例如通过粘合结合)一起连接到传统的间隔物框架124。间隙或室126形成在两层12、118之间。腔室126可以填充有选定的气氛，例如气体，例如空气或诸如氩气或氪气的非反应性气体。在图示的示例中，阳光控制涂层30位于2号表面16上。然而，阳光控制涂层30可以位于其他表面中的任意一个表面上。例如，阳光控制涂层30可以位于3号表面120上。例如，阳光控制涂层30可以位于1号表面14或4号表面122上。
第二层118可以是上述用于第一层12的材料中的任意一种。第二层118可以与第一层12相同，或者第二层118可以与第一层12不同。第一层和第二层12、118均可以是例如透明浮法玻璃，或者可以是染色或着色玻璃，或者一个层12、118可以是透明玻璃而另一层12、118是着色玻璃。
图4示出了结合到层压单元130中的涂覆制品10。层压单元130包括通过聚合物中间层132连接的第一层12和第二层118。阳光控制涂层30显示在2号表面16上。然而，如同上述IGU 100一样，阳光控制涂层30可位于表面14、16、120或122中的任何一个表面上。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU SHGC不大于0.3，例如不大于0.29，例如不大于0.28，例如不大于0.27，例如不大于0.26，例如不大于0.25，例如不大于0.24。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU SHGC介于0.2至0.3范围内，例如介于0.2至0.29的范围内，诸如0.2至0.26，诸如0.2至0.24，诸如0.21至0.25，例如介于0.22至0.235的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU可见光透射率不大于70％，例如不大于65％，例如不大于60％，例如不大于57％，例如不大于55％，例如介于40％至65％的范围内，例如介于50％至55％的范围内，例如介于51％到54.5％的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU可见光外反射率不大于25％，例如不大于20％，例如不大于15％，例如不大于14％，例如介于10％至15％的范围内，例如介于12％至13.5％的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU可见光内反射率不大于25％，例如不大于22％，例如不大于20％，例如介于16％到22％的范围内，例如介于18％至20％的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU LSG比率为至少1.8，例如至少1.85，例如至少1.9，例如至少2，例如介于1.6至2.5的范围内，例如介于2.1至2.4的范围内，例如介于2.2至2.37的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU透射L*介于74至80的范围内，例如介于75至79的范围内，例如介于76.5至78.5的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU透射a*介于﹣6至﹣3的范围内，例如介于﹣5.5至﹣4的范围内，例如介于﹣5.2至﹣4.25的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU透射b*介于0至6的范围内，例如介于1至5的范围内，例如介于2.8至4.8的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU外反射L*介于30至50的范围内，例如介于35至49的范围内，例如介于41.9至43.2的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU外反射a*介于﹣4至0的范围内，例如介于﹣3至﹣1的范围内，例如介于﹣2.7至﹣1.8的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU外反射b*介于﹣7至0范围内，例如介于约﹣6至﹣1的范围内，例如介于﹣5.6到﹣4.1的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU内反射L*介于35至55的范围内，例如介于40至52的范围内，例如介于48至52的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU内反射a*介于﹣8至0的范围内，例如介于﹣6.2到﹣1的范围内，例如介于﹣5.9至﹣4.5的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU内反射b*介于﹣5至0的范围内，例如介于﹣4至﹣1的范围内，例如介于﹣3.5至﹣2的范围内。
阳光控制涂层30提供的片电阻小于10欧姆/每平方(Ω/□)，例如小于5Ω/□，例如小于2Ω/□，例如小于1Ω/□，例如介于大于0至1.5的范围内，例如介于大于0至1的范围内。
阳光控制涂层30的发射率可以介于0.02至0.04的范围内，例如介于0.023至0.037的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU冬/夜U因子介于0.9至3瓦/每平方米开尔文(W/m 2-K)的范围内，例如介于1至2.5W/m 2-K的范围内，例如介于1.5至1.7W/m2-K的范围内，例如介于1.6至1.67W/m2-K的范围内。
阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU夏/日U因子介于1.4至1.6W/m2–K的范围内，例如介于1.52至1.57W/m2-K的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元透射L*介于65至85的范围内，例如介于72至80的范围内，例如介于75至77的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元透射a*介于2至﹣6的范围内，例如介于1至﹣4的范围内，例如介于﹣0.5至﹣2.5的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元透射b*介于2至8的范围内，例如介于3至7.5的范围内，例如介于4.5至6.5的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元反射(外部)L*介于40至55的范围内，例如介于44至50的范围内，例如介于45.5至47.5的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元反射(外部)a*介于﹣6至﹣16的范围内，例如介于﹣8至﹣15的范围内，例如介于﹣10至﹣12的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元反射(外部)b*介于0至﹣8的范围内，例如介于﹣2到﹣6的范围内，例如介于﹣3至﹣5的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元反射(内部)L*介于45至65的范围内，例如介于50至60的范围内，例如介于54.5至56.5的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元反射(内部)a*介于﹣6至﹣16的范围内，例如，介于﹣8至﹣14的范围内，例如介于﹣10至﹣12的范围内。
阳光控制涂层30提供的基准层压单元反射(内部)b*介于﹣3.5至﹣10的范围内，例如介于﹣4.5至﹣8.5的范围内，例如介于﹣5.5到﹣7.5的范围内。
示例
表格1示出了本发明的示例性涂层。所报告的厚度是以纳米(nm)为单位的几何厚度。ZS是指在存在氧气的条件下从含有52wt.％的锌和48wt.％的锡的阴极沉积的锡酸锌。TZO是指在存在氧气的条件下从含有10wt.％的锡和90wt.％的锌的阴极沉积的掺杂锡的氧化锌(即ZnO 90/10)。Ag是指银。TiOx是指作为金属沉积并在处理过程中被氧化的钛底漆层。INC是指600。Cu是指金属铜。TiO 2是指钛的氧化物，例如二氧化钛(氧化钛)。
表格1
表2和3显示了针对表1的样品的3mm基准IGU值。T(V)表示可见光透射百分比。RE(V)表示可见辐射的外反射百分比，RI(V)表示可见辐射的内反射百分比。T(S)是指太阳辐射透射百分比。RE(S)是指太阳辐射的外反射百分比。RI(S)表示太阳辐射的内反射百分比。UV(T)是指紫外辐射透射率百分比。UF(W)表示冬/夜U因子(W/m2-K)。UF(S)表示夏/日U因子(W/m2-K)，SC表示遮阳系数。L*(T)，a*(T)和b*(T)表示透射的L*、a*、b*。L*(RE)、a*(RE)和b*(RE)表示反射的外部L*、a*、b*。
表格2
样本 T(V) RE(V) RI(V) T(S) RE(S) RI(S) UV(T) UF(W) UF(S)
1 54.3％ 13.1％ 18.7％ 19.7％ 45.4％ 48.0％ 3.5％ 1.657 1.543
2 51.1％ 13.2％ 17.9％ 18.8％ 44.8％ 46.9％ 4.0％ 1.669 1.561
3 52.7％ 13.2％ 18.2％ 19.2％ 45.2％ 47.4％ 3.7％ 1.671 1.564
4 53.2％ 13.2％ 18.4％ 19.5％ 48.1％ 47.3％ 3.8％ 1.673 1.567
5 52.5％ 12.5％ 19.6％ 19.9％ 45.2％ 48.3％ 8.1％ 1.645 1.526
表格3
样本 SC SHGC LSG L*(T) a*(T) b*(T) L*(RE) a*(RE) b*(RE) L*(RI) a*(RI) b*(RI)
1 0.263 0.229 2.37 78.56 -4.25 4.79 42.90 -2.03 -5.61 50.27 -4.76 -3.41
2 0.255 0.222 2.30 76.72 -5.16 2.88 43.12 -2.63 -5.14 49.30 -5.92 -2.73
3 0.259 0.225 2.34 77.67 -4.97 3.19 42.97 -2.63 -4.14 49.71 -5.60 -1.96
4 0.260 0.226 2.35 77.97 -4.81 3.62 43.09 -2.12 -4.85 49.90 -5.33 -2.33
5 0.266 0.231 2.27 77.55 -4.68 2.85 41.99 -1.83 -4.87 51.32 -5.37 -3.25
使用具有NFRC标准默认设置的OPTICS v6.0和WINDOW V7.3.4.0软件(玻璃中心)计算表格2和3中的值。颜色参数L*、a*、b*是对于发光体D65、10°观察者的值。
本发明可以在以下编号的条款中进一步描述：
条款1：阳光控制涂层30，其包括：多个相位调整层40、50、62、86；和多个金属功能层46、58、70，其中，至少一个金属功能层46、58、70包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个吸收膜。
条款2：条款1的阳光控制涂层30，其包括包含红外反射膜的第一金属功能层46；包括红外反射膜57的第二金属功能层58；和包含金属功能多膜层的第三金属功能层70，所述金属功能多膜层包含(i)至少一个红外反射膜73和(ii)至少一个包含铜的吸收膜71。
条款3：条款2的阳光控制涂层30，其中，第一金属功能层46包括连续的金属膜，优选银。
条款4：条款2或3的阳光控制涂层30，其中，第二金属功能层58的红外反射膜57包含连续的金属膜，优选银。
条款5：条款2至4中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二金属功能层58包括金属功能多膜层，其包含(i)红外反射膜57和(ii)至少一个吸收膜59，所述吸收膜59优选包含镍和铬的合金。
条款6：条款5的阳光控制涂层30，其中，第二金属功能层58的吸收膜59位于第二金属功能层58的红外反射膜57上方。
条款7：条款2至6中任一项的阳光控制涂层30，其中，第三金属功能层70的至少一个红外反射膜73包括连续的金属膜，优选银。
条款8：条款2至7中任一项的阳光控制涂层30，其中，第三金属功能层70的至少一个红外反射膜73位于第三金属功能层70的至少一个吸收膜71上方。
条款9：条款2至8中任一项的阳光控制涂层30，其包括：具有40nm至100nm范围内的光学厚度的第一相位调整层40，其中，第一金属功能层46位于第一相调整层40上方；具有介于80nm至200nm范围内的光学厚度的第二相位调整层50，其中，第二金属功能层58位于第二相位调整层50上方；具有介于90nm至200nm范围内的光学厚度的第三相位调整层62，其中，第三金属功能层70位于第三相位调整层62上方；位于第三金属功能层70上方的、具有30nm至100nm范围内的光学厚度的第四相位调整层86；以及位于第四相位调整层86上方的、光学厚度介于1nm至30nm范围内的保护层92，
条款10：条款1的阳光控制涂层30，其包括第一相位调整层40，所述第一相位调整层40具有介于40nm至100nm范围内的光学厚度，优选地介于50nm至90nm范围内的光学厚度，更优选地介于70nm至80nm范围内的光学厚度；位于第一相位调整层40上方的第一金属功能层46，其中，第一金属功能层46包括连续金属膜，优选地银；位于第一金属功能层48上方的第一底漆层48；位于可选的第一底漆层48上方的第二相位调整层50，其中，第二相位调整层50具有介于80nm至200nm范围内的光学厚度，优选地介于100nm至160nm范围内的光学厚度，更优选地介于130nm至140nm范围内的光学厚度；位于第二相位调整层50上方的第二金属功能层58，其中，第二金属功能层58包括金属功能多膜层，该金属功能多膜层包括(i)红外反射膜57和(ii)至少一个吸收膜59，吸收膜59优选包含镍和铬的合金；位于第二金属功能层58上方的第二底漆层60；位于可选的第二底漆层60上方的第三相位调整层62，其中，第三相位调整层62具有介于90nm至200nm范围内的光学厚度，优选地介于120nm至180nm范围内的光学厚度，更优选地介于150nm至170nm范围内的光学厚度；位于第三相位调整层62上方的第三金属功能层70，其中，第三金属功能层70包括金属功能多膜层，该金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜73和(ii)至少一个包含铜的吸收膜71；位于第三金属功能层70上方的第三底漆层72；位于可选的第三底漆层72上方的第四相位调整层86，其中，第四相位调整层86具有介于30nm至100nm范围内的光学厚度，优选地介于40nm至80nm范围内的光学厚度，更优选地介于50nm至70nm范围内的光学厚度；以及位于第四相位调整层86上方的保护层92，其中，保护层92的光学厚度介于1nm至30nm的范围内，优选光学厚度介于2nm至20nm的范围内，更优选地光学厚度介于4nm至14nm的范围内。
条款11：条款1的阳光控制涂层30，其包括第一相位调整层40；第一金属功能层46，其位于第一相位调整层40上方；可选地，位于第一金属功能层46上方的第一底漆层48；位于可选的第一底漆层48上方的第二相位调整层50；位于第二相位调整层50上方的第二金属功能层58；可选地，位于第二金属功能层58上方的第二底漆层60；位于可选的第二底漆层60上方的第三相位调整层62；位于第三相位调整层62上方的第三金属功能层70；可选地，位于第三金属功能层70上方的第三底漆层72；位于可选的第三底漆层72上方的第四相位调整层86；以及可选地位于第四相位调整层86上方的保护层92，其中，金属功能层46、58、70中的至少一个包括金属功能多膜层，该金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一层吸收膜。
条款12：根据条款11的阳光控制涂层30，其中，相位调整层40、50、62、86包括电介质或半导体材料。
条款13：条款11或12的阳光控制涂层30，其中，相位调整层40、50、62、86包含氧化物、氮化物、氮氧化物、硼化物、碳化物、碳氧化物、硼碳化物、硼氮化物、碳氮化物和/或它们的混合物、组合物、混杂物或合金。
条款14：条款11至13中任一项的阳光控制涂层30，其中，相位调整层40、50、62、86包含钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、硅、铝、硼的氧化物、氮化物或氮氧化物及其混合物、组合物、混杂物或合金。
条款15：条款11至14中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一相位调整层40包含锌和/或锡的氧化物。
条款16：条款11至15中任一项的阳光控制涂层30，其中，所述第一相位调整层40具有介于40nm至100nm范围内的光学厚度，优选地介于50nm至90nm范围内的光学厚度，更优选地介于70nm至80nm的范围内的光学厚度。
条款17：条款11至16中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一相位调整层40的几何厚度介于20nm至50nm范围内，优选地几何厚度介于25nm至45nm的范围内，更优选地几何厚度介于35nm至40nm范围内。
条款18：条款11至17中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一相位调整层40包括第一膜42和第二膜44。
条款19：条款18的阳光控制涂层30，其中，第一膜42包含金属合金的氧化物，优选锡酸锌。
条款20：条款18或19的阳光控制涂层30，其中，第二膜44包含金属氧化物或掺杂金属氧化物，优选掺杂氧化锌，更优选掺杂锡的氧化锌。
条款21：条款18至20中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜42具有介于30nm至70nm范围内的光学厚度，优选地介于40nm至60nm范围内的光学厚度，更优选地介于44nm至54nm范围内的光学厚度。
条款22：条款18至21中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜42具有介于15nm至35nm范围内的几何厚度，优选地介于20nm至30nm范围内的几何厚度nm，更优选地介于22nm至27nm范围内的几何厚度。
条款23：条款18至22中任一项所述的阳光控制涂层30，其中，第二膜44具有介于10nm至40nm范围内的光学厚度，优选地介于16nm至38nm范围内的光学厚度，更优选介于20nm至30nm范围内的光学厚度。
条款24：条款18至23中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二膜44具有介于5nm至20nm范围内的几何厚度，优选地介于8nm至18nm范围内的几何厚度，更优选地介于10nm至15nm的范围内的几何厚度。
条款25：条款11至24中任一项的阳光控制涂层30，其中，至少一个红外反射层57、73包括连续的金属膜。
条款26：条款11至25中任一项的阳光控制涂层30，其中，所述至少一个红外反射膜57、73包括银、金、铂、钯、锇、铱、铑、钌、铜、汞、铼、铝以及它们的混合物、组合物、混杂物或合金中的至少一种，优选银。
条款27：条款11至26中任一项的阳光控制涂层30，其中，所述至少一个吸收膜59、71包括金、银、铜、镍、钯、铂、钨、铑、铱、钽、铁、锡、铝、铅、锌、铬、钼、铌、钴、锰、钛、硅、铬以及它们的混合物、组合物、混杂物或合金中的至少一种。
条款28：条款11至27中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一金属功能层46包括具有单膜，所述单膜的几何厚度介于5nm至25nm范围内，优选地介于7nm至20nm的范围内，更优选地介于10nm至15nm范围内。
条款29：条款11至28中任一项的阳光控制涂层30，其中，可选的底漆层48、60、72包含选自由钛、铌、钨、镍、铬、铁、钽、锆、铝、硅、铟、锡、锌、钼、铪、铋、钒、锰及其混合物、组合物、混杂物或合金构成的组的材料，优选地钛。
条款30：条款11至29中任一项的阳光控制涂层30，其中，可选的第一底漆层48的几何厚度或有效厚度介于0.5nm至10nm范围内的，优选地介于1nm至5nm范围内，更优选介于1.5nm至2.5nm的范围内。
条款31：条款11至30中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二相位调整层50的光学厚度介于80nm至200nm范围内，优选地介于100nm至160nm范围内，更优选介于130nm至140nm范围内。
条款32：条款11至31中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二相位调整层50的几何厚度，所述几何厚度介于40nm至100nm范围内，优选地介于50nm至80nm范围内，更优选地介于65nm至70nm范围内。
条款33：条款11至32中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二相位调整层50包括第一膜52、第二膜54和第三膜56。
条款34：条款33的阳光控制涂层30，其中，第一膜52和/或第三膜56包含金属氧化物或掺杂金属氧化物，优选氧化锌或掺杂氧化锌，更优选地掺杂锡的氧化锌。
条款35：条款33或34的阳光控制涂层30，其中，第二膜54包含金属合金的氧化物，优选锡酸锌。
条款36：条款33至35中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜52和/或第三膜56的光学厚度介于10nm至40nm范围内，优选地介于16nm至38nm的范围内，更优选地介于20nm至35nm范围内。
条款37：条款33至36中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜52和/或第三膜56的几何厚度介于5nm至20nm范围内，优选地介于8nm至18nm范围内，更优选地介于10nm至16nm范围内。
条款38：条款33至37中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二膜54具有介于50nm至100nm范围内的光学厚度，优选地介于70nm至90nm范围内的光学厚度，更优选地介于76nm至80nm范围内的光学厚度。
条款39：条款33至38中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二膜54具有介于25nm至50nm范围内的几何厚度，优选地介于35nm至45nm范围内的几何厚度，更优选地介于38nm至42nm范围内的几何厚度。
条款40：条款11至39中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二金属功能层58包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括红外反射膜57(优选地为银)和吸收膜59。
条款41：条款40的阳光控制涂层30，其中，红外反射膜57具有介于5nm至25nm范围内的几何厚度，优选地介于7nm至20nm范围内的几何厚度，更优选地介于10nm至18nm范围内的几何厚度。
条款42：条款40或41的阳光控制涂层30，其中，吸收膜59包括包含镍、铬或镍和铬两者的合金。
条款43：条款40至42中任一项的阳光控制涂层30，其中，吸收膜59具有介于0nm至2nm范围内的几何厚度，优选地介于0.1nm至1.5nm范围内的几何厚度，更优选介于0.25nm至1nm的范围内的几何厚度。
条款44：条款11至43中任一项的阳光控制涂层30，其中，可选的第二底漆层60具有介于0.5nm至10nm范围内的几何厚度或有效厚度，优选地介于1nm至5nm范围内的几何厚度，更优选介于1.5nm至2.5nm范围内的几何厚度。
条款45：条款11至44中任一项的阳光控制涂层30，其中，第三相位调整层62具有介于90nm至200nm范围内的光学厚度，优选介于120nm至180nm范围内的光学厚度，更优选地介于150nm至170nm范围内的光学厚度。
条款46：条款11至45中任一项的阳光控制涂层30，其中，第三相位调整层62具有介于45nm至100nm范围内的几何厚度，优选地介于60nm至90nm范围内的几何厚度，更优选地介于75nm至85nm范围内的几何厚度。
条款47：条款11至46中任一项的阳光控制涂层30，其中，第三相位调整层62包括第一膜84、第二膜86和第三膜88。
条款48：条款47的阳光控制涂层30，其中，第一膜64和/或第三膜68包含金属氧化物或掺杂金属氧化物，优选氧化锌或掺杂氧化锌，更优选掺杂锡的氧化锌。
条款49：条款47或48的太阳能控制涂层30，其中，第二膜66包含金属合金的氧化物，优选地锡酸锌。
条款50：条款47至49中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜64和/或第三膜68具有介于10nm至40nm范围内的光学厚度，优选地介于16nm至38nm范围内的光学厚度，更优选地介于20nm至30nm范围内的光学厚度。
条款51：条款47至50中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜64和/或第三膜68具有介于5nm至20nm范围内的几何厚度，优选地介于8nm至18nm范围内的几何厚度，更优选的介于10nm至15nm的范围内的几何厚度。
条款50：条款47至49中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二膜66具有介于70nm至140nm范围内的光学厚度，优选地介于80nm至120nm范围内的光学厚度，更优选地介于90nm至110nm范围内的光学厚度。
条款51：条款47至50中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二膜66具有介于35nm至70nm范围内的几何厚度，优选地介于40nm至60nm范围内的几何厚度，更优选地介于45nm至55nm的范围内的几何厚度。
条款52：条款11至51中任一项的阳光控制涂层30，其中，第三金属功能层70包括吸收膜71和红外反射膜73。
条款53：条款52的阳光控制涂层30，其中，红外反射膜73包括金属银膜。
条款54：条款52或53的阳光控制涂层30，其中，红外反射膜73具有介于5nm至30nm范围内的几何厚度，优选地介于10nm至25nm范围内的几何厚度，更优选地介于15nm至20nm范围内的几何厚度。
条款55：条款52至54中任一项的阳光控制涂层30，其中，吸收膜71包括金属材料，优选地铜。
条款56：条款52至55中任一项的阳光控制涂层30，其中，吸收膜71的物理或有效厚度介于1nm至10nm范围内，优选地介于2.5nm至4.5nm范围内，更加优选地介于3nm至4nm的范围内。
条款57：条款11至56中任一项的阳光控制涂层30，其中，可选的第三底漆层72的物理或有效厚度介于0.5nm至10nm范围内，优选地介于1nm至5nm的范围内，更优选地介于1.5nm至2.5nm的范围内。
条款58：条款11至57中任一项的阳光控制涂层30，其中，第四相位调整层86具有介于30nm至100nm范围内的光学厚度，优选地介于40nm至80nm范围内的光学厚度，更优选地介于50nm至70nm范围内的光学厚度。
条款59：条款11至58中任一项的阳光控制涂层30，其中，第四相位调整层86具有介于15nm至50nm范围内的几何厚度，优选地介于20nm至40nm范围内的几何厚度，更优选地介于25nm至35nm范围内的几何厚度。
条款60：条款11至59中任一项的阳光控制涂层30，其中，第四相位调整层86包括第一膜88和第二膜90。
条款61：条款60的阳光控制涂层30，其中，第一膜88包含金属氧化物或掺杂金属氧化物，优选地氧化锌或掺杂氧化锌，更优选地掺杂锡的氧化锌。
条款62：条款60或61的阳光控制涂层30，其中，第二膜90包含金属合金的氧化物，优选地锡酸锌。
条款63：条款60至62中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜88具有介于4nm至40nm范围内的光学厚度，优选地介于10nm至30nm范围内的光学厚度，更优选地介于14nm至22nm范围内的光学厚度。
条款64：条款60至63中任一项的阳光控制涂层30，其中，第一膜88具有介于2nm至20nm范围内的几何厚度，优选地介于5nm至15nm范围内的几何厚度，更优选地介于7nm至11nm范围内的几何厚度。
条款65：条款60至64中任一项的阳光控制涂层30，其中，第二膜90具有介于10nm至80nm范围内的光学厚度，优选地介于20nm至60nm范围内的光学厚度，更优选地介于30nm至50nm范围内的光学厚度。
条款66：条款60至65中任一项的太阳能控制涂层30，其中，第二膜90具有介于5nm至40nm范围内的几何厚度，优选地介于10nm至30nm范围内的几何厚度，更优选地介于15nm至25nm范围内的几何厚度。
条款67：条款11至66中任一项的阳光控制涂层30，其中，可选的保护层92包含钛的氧化物，例如二氧化钛。
条款68：条款11至67中任一项的阳光控制涂层30，其中，保护层92具有介于1nm至30nm范围内的光学厚度，优选地介于2nm至20nm范围内的光学厚度，更优选地介于4nm至14nm范围内的光学厚度。
条款69：条款11至68中任一项的阳光控制涂层30，其中，保护层92具有介于0.5nm至15nm范围内的几何厚度，优选地介于1nm至10nm范围内的几何厚度，更优选地介于2nm至7nm范围内的几何厚度。
条款70：条款1至69中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU SHGC不大于0.3，优选不大于0.27，更优选不大于0.25。
条款71：条款1至70中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU SHGC介于0.21至0.25范围内，优选地介于0.22至0.235的范围内。
条款72：条款1至71中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU可见光透射率介于40％至65％的范围内，优选地介于50％至55％的范围内，更优选地介于51％至54.5％的范围内。
条款73：条款1至72中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU可见光外反射率介于10％至15％范围内，优选地介于12％至13.5％的范围内。
条款74：条款1至73中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU可见光内反射率介于16％至22％范围内，优选地介于18％至20％的范围内。
条款75：条款1至74中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU LSG比率介于1.6至2.5的范围内，优选地介于2.1至2.4的范围内，更优选地介于2.2至2.37的范围内，
条款76：条款1至75中的任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU透射L*介于74至80的范围内，优选地介于75至79的范围内，更优选地介于76.5至78.5的范围内。
条款77：条款1至76中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU透射a*介于﹣6至3的范围内，优选地介于﹣5.5至﹣4的范围内，更优选地介于﹣5.2至﹣4.25的范围内。
条款78：条款1至77中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU透射b*介于0至6之间的范围内，优选地介于1至5之间的范围内，更优选地介于2.8至4.8之间的范围内。
条款79：条款1至78中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU外反射L*介于30至50之间的范围内，优选地介于35至49之间的范围内，更优选地介于41.9至43.2之间的范围内。
条款80：条款1至79中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU外反射a*介于﹣4至0之间的范围内，优选地介于﹣3至﹣1之间的范围内，更优选地介于﹣2.7至﹣1.8的范围内。
条款81：条款1至80中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU外反射b*介于﹣7至0之间的范围内，优选地介于﹣6至﹣1之间的范围内，更优选地介于﹣5.6至﹣4.1的范围内。
条款82：条款1至81中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU内反射L*介于35至55之间的范围内，优选地介于40至52之间的范围内，更优选地介于48至52之间的范围内。
条款83：条款1至82中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU内反射a*介于﹣8至0的范围内，优选地介于﹣6.2至﹣1之间的范围内，更优选地介于﹣5.9至﹣4.5的范围内。
条款84：条款1至83中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU内反射b*介于﹣5至0之间的范围内，优选地介于﹣4到﹣1之间的范围内，更优选地介于﹣3.5至﹣2的范围内的范围内。
条款85：条款1至84中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的片电阻小于10欧姆每平方(Ω/□)，优选小于2Ω/□，更优选小于1Ω/□。
条款86：条款1至85中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30具有范围介于0.02至0.04之间，优选地介于0.023至0.037之间的发射率。
条款87：条款1至86中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU冬季U因子介于0.9至3瓦每平方米开尔文(W/m2-K)之间的范围内，优选地介于1至2.5W/m2-K的范围内，更优选地介于1.5至1.7W/m2-K的范围内。
条款88：条款1至87中任一项的阳光控制涂层30，其中，阳光控制涂层30提供的3mm基准IGU夏季U因子介于1.4至1.6W/m2-K之间的范围内，优选地介于1.52至1.57W/m2-K的范围内。
条款89：包括条款1至88中任一项的阳光控制涂层30的隔热玻璃单元(IGU)100。
条款90：层压单元130，其包含条款1至88中任一项的阳光控制涂层30。
条款91：涂层制品10，其包含基材和条款1至88中任一项的阳光控制涂层30。
本领域技术人员将易于理解的是，可以在不背离在前述描述中公开的理念的前提下对本发明进行修改。因此，在此详细描述的具体实施例仅仅是说明性而非限制本发明的范围，本发明的范围由所附权利要求及其任何和所有等同物的全部范围给出。

Claims (13)

1.一种阳光控制涂层30，包括：
多个相位调整层40、50、62、86；和
多个金属功能层46、58、70，
其中，至少一个金属功能层46、58、70包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜和(ii)至少一个吸收膜，所述至少一个吸收膜包括铜。
2.根据权利要求1所述的阳光控制涂层30，包括：
第一金属功能层46，所述第一金属功能层46包括红外反射膜；
第二金属功能层58，所述第二金属功能层58包括红外反射膜57；和
第三金属功能层70，其包括所述金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括(i)至少一个红外反射膜73和(ii)至少一个吸收膜71，所述至少一个吸收膜包括铜。
3.根据权利要求2所述的阳光控制涂层30，其中，所述第一金属功能层46包括连续金属膜，优选地银。
4.根据权利要求2或3所述的阳光控制涂层30，其中，所述第二金属功能层58的所述红外反射膜57包括连续金属膜，优选地银。
5.根据权利要求2至4中的任意一项所述的阳光控制涂层30，其中，所述第二金属功能层58包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括(i)红外反射膜57和(ii)至少一个吸收膜59，所述至少一个吸收膜优选地包括镍和铬的合金。
6.根据权利要求5所述的阳光控制涂层，其中，所述第二金属功能层58的所述吸收膜59位于所述第二金属功能层58的所述红外反射膜57上方。
7.根据权利要求2至6中的任意一项所述的阳光控制涂层30，其中，所述第三金属功能层70的所述至少一个红外反射膜73包括连续金属膜，优选地银。
8.根据权利要求2至7中的任意一项所述的阳光控制涂层30，其中，所述第三金属功能层70的所述至少一个红外反射膜73位于所述第三金属功能层70的所述至少一个吸收膜71上方。
9.根据权利要求2至8中的任意一项所述的阳光控制涂层30，其包括：
第一相位调整层40，所述第一相位调整层的光学厚度介于40nm至100nm范围内，其中，所述第一金属功能层46位于所述第一相位调整层40上方；
第二相位调整层50，其具有介于80nm至200nm范围内的光学厚度，其中，所述第二金属功能层58位于所述第二相位调整层50上方；
第三相位调整层62，其具有介于90nm至200nm范围内的光学厚度，其中，所述第三金属功能层70位于所述第三相位调整层62上方；
第四相位调整层86，其具有介于30nm至100nm范围内的光学厚度，位于所述第三金属功能层70上方；和
保护层92，所述保护层具有介于1nm至30nm范围内的光学厚度并且位于所述第四相位调整层86上方。
10.根据权利要求1所述的阳光控制涂层30，包括：
第一相位调整层40，其具有介于40nm至100nm范围内的光学厚度，优选地介于50nm至90nm范围内的光学厚度；
第一金属功能层46，其位于所述第一相位调整层40上方，其中，所述第一金属功能层46包括连续金属膜，优选地银；
位于所述第一金属功能层46上方的第一底漆层48；
位于所述第一底漆层48上方的第二相位调整层50，其中，所述第二相位调整层50具有介于80nm至200nm范围内的光学厚度，优选地介于100nm至160nm范围内的光学厚度；
位于所述第二相位调整层50上方的第二金属功能层58，其中，所述第二金属功能层58包括金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括：(i)红外反射膜57；和(ii)至少一个吸收膜59，其包含镍和铬的合金；
位于所述第二金属功能层58上方的第二底漆层60；
位于所述第二底漆层60上方的第三相位调整层62，其中，所述第三相位调整层62具有介于90nm至200nm范围内的光学厚度，优选地介于120nm至180nm范围内的光学厚度；
位于所述第三相位调整层62上方的第三金属功能层70，其中，所述第三金属功能层70包括所述金属功能多膜层，所述金属功能多膜层包括：(i)至少一个红外反射膜73；和(ii)至少一个吸收膜71，其包含铜；
位于所述第三金属功能层70上方的第三底漆层72；
位于所述第三底漆层72上方的第四相位调整层86，其中，所述第四相位调整层86具有介于30nm至100nm范围内的光学厚度，优选地具有介于40nm至80nm范围内的光学厚度；和
位于所述第四相位调整层86上方的保护层92，其中，所述保护层92的光学厚度介于1nm至30nm范围内，优选地介于2nm至20nm范围内。
11.根据权利要求1至10中的任意一项所述的阳光控制涂层30，其中，所述阳光控制涂层30提供了介于0.2至0.3范围内，优选地介于0.2至0.25范围内的3mm基准IGU SHGC。
12.根据权利要求1至11中的任意一项所述的阳光控制涂层30，其中，所述阳光控制涂层30提供了介于1.6至2.5范围内，优选地介于2.1至2.4范围内的3mm基准IGU LSG比率。
13.一种隔热玻璃单元(IGU)100，其包括根据权利要求1至12中的任意一项所述的涂层30。
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