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WO2021260775A1 - 切削工具 - Google Patents

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Publication number
WO2021260775A1
WO2021260775A1 PCT/JP2020/024453 JP2020024453W WO2021260775A1 WO 2021260775 A1 WO2021260775 A1 WO 2021260775A1 JP 2020024453 W JP2020024453 W JP 2020024453W WO 2021260775 A1 WO2021260775 A1 WO 2021260775A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
oxide film
straight line
cutting tool
line portion
flank
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/024453
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
直樹 渡部
真志 原田
高志 原田
暁 久木野
Original Assignee
住友電工ハードメタル株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友電工ハードメタル株式会社 filed Critical 住友電工ハードメタル株式会社
Priority to PCT/JP2020/024453 priority Critical patent/WO2021260775A1/ja
Priority to EP21829122.7A priority patent/EP4169644A4/en
Priority to CN202180044244.8A priority patent/CN115803133A/zh
Priority to PCT/JP2021/023201 priority patent/WO2021261396A1/ja
Priority to JP2021577639A priority patent/JP7144018B2/ja
Priority to US18/011,167 priority patent/US20230241691A1/en
Publication of WO2021260775A1 publication Critical patent/WO2021260775A1/ja

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    • B23C2228/49—Sintered

Definitions

  • This disclosure relates to cutting tools.
  • Patent Document 1 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-159380 (Patent Document 1) describes an end mill in which a plurality of lines (recesses) are formed on a rake face.
  • the cutting tool according to the present disclosure includes a rake surface, a flank surface, a base material, and a first oxide film.
  • the flank is connected to the rake face.
  • the base material has a first surface facing the rake surface.
  • the first oxide film has a second surface in contact with the first surface and a third surface on the opposite side of the second surface.
  • the ridgeline between the rake face and the flank surface constitutes the cutting edge.
  • the third surface constitutes at least a part of the rake surface.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of a cutting tool according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the cutting tool according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line III-III of FIG.
  • FIG. 4 is an enlarged schematic view of region IV of FIG.
  • FIG. 5 is an enlarged schematic view of the region V of FIG.
  • FIG. 6 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool according to the second embodiment.
  • FIG. 7 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool according to the third embodiment.
  • FIG. 8 is a schematic first cross-sectional view showing the configuration of the cutting tool according to the fourth embodiment.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of a cutting tool according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the cutting tool according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken
  • FIG. 9 is a schematic second sectional view showing the configuration of the cutting tool according to the fourth embodiment.
  • FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the angle formed by the two adjacent straight lines and the position in the first chip discharge groove.
  • FIG. 11 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool according to the fourth embodiment.
  • FIG. 12 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool according to the fifth embodiment.
  • FIG. 13 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool according to the sixth embodiment.
  • FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing a state in which cutting is performed using the cutting tool according to the fourth embodiment.
  • the cutting tool 100 includes a rake surface 4, a flank surface 3, a base material 81, and a first oxide film 91.
  • the flank 3 is connected to the rake face 4.
  • the base material 81 has a first surface 10 facing the rake surface 4.
  • the first oxide film 91 has a second surface 56 in contact with the first surface 10 and a third surface 55 on the opposite side of the second surface 56.
  • the ridgeline between the rake face 4 and the flank surface 3 constitutes the cutting edge 72.
  • the third surface 55 constitutes at least a part of the rake surface 4.
  • the first oxide film 91 may further include a fourth surface 71 connecting the second surface 56 and the third surface 55.
  • the fourth surface 71 may form at least a part of the flank surface 3.
  • the ridgeline between the third surface 55 and the fourth surface 71 may constitute the cutting edge 72.
  • the first oxide film 91 may contain at least one of aluminum, titanium, chromium, zirconium, cobalt and tungsten.
  • the cutting tool 100 according to (1) above may further include a second oxide film 92 that constitutes at least a part of the flank surface 3.
  • the thickness of the second oxide film 92 may be smaller than the thickness of the first oxide film 91.
  • the first oxide film 91 may be connected to the second oxide film 92.
  • the first oxide film 91 may be separated from the second oxide film 92.
  • the first oxide film 91 may contain at least one of aluminum, titanium, chromium, zirconium, cobalt and tungsten. ..
  • the second oxide film 92 may contain at least one of aluminum, titanium, chromium, zirconium, cobalt and tungsten. ..
  • the base material 81 may contain cubic boron nitride.
  • the cutting tool may be a multi-blade rotary cutting tool.
  • FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of the cutting tool 100 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic side view showing the configuration of the cutting tool 100 according to the first embodiment.
  • the cutting tool 100 according to the present embodiment is, for example, an end mill, which is composed of a blade portion 90, a joint portion 8, and a shank portion 7.
  • the blade portion 90 has a first rake face 4, a first flank 3, a second rake face 15, a second flank 30, an outer peripheral cutting blade 72, a bottom cutting blade 21, and a front end 58. is doing.
  • the shank portion 7 has a rear end 59.
  • the blade portion 90 is fixed to the shank portion 7 by the joint portion 8.
  • the joint portion 8 is a brazing material.
  • the joint portion 8 is located between the blade portion 90 and the shank portion 7.
  • the cutting tool 100 is configured to be rotatable around the axis A. From another point of view, the axis A is the axis of rotation of the cutting tool 100.
  • the material constituting the blade portion 90 includes, for example, a cubic boron nitride (cBN) sintered body.
  • the shank portion 7 contains, for example, a cemented carbide.
  • the cemented carbide is, for example, a tungsten carbide (WC) -based cemented carbide, a cemented carbide containing Co in addition to WC, a cemented carbide to which carbonitrides such as Cr, Ti, Ta, and Nb are added in addition to WC. Is.
  • the front end 58 of the cutting tool 100 is a portion facing the work material.
  • the rear end 59 of the cutting tool 100 is a portion facing the tool that rotates the cutting tool 100.
  • the shank portion 7 is a portion attached to a tool for rotating the cutting tool 100.
  • the direction along the axis A is the axial direction.
  • the direction perpendicular to the axial direction is the radial direction.
  • the direction from the front end 58 to the rear end 59 is referred to as an axial rearward.
  • the direction from the rear end 59 to the front end 58 is referred to as an axial front.
  • the first flank surface 3 is connected to the first rake surface 4.
  • the ridgeline between the first rake surface 4 and the first flank surface 3 constitutes the outer peripheral cutting edge 72.
  • the second flank surface 30 is connected to the second rake surface 15.
  • the ridgeline between the second rake surface 15 and the second flank surface 30 constitutes the bottom cutting blade 21.
  • the first rake face 4 is connected to the second rake face 15.
  • the first rake face 4 is located rearward in the axial direction with respect to the second rake face 15.
  • the first flank 3 is connected to the second flank 30.
  • the first flank 3 is located rearward in the axial direction with respect to the second flank 30.
  • a first chip discharge groove 1 and a second chip discharge groove 2 are formed in the blade portion 90 of the cutting tool 100.
  • the first chip discharge groove 1 is composed of a first rake surface 4 and a first chip discharge surface 50.
  • the second chip discharge groove 2 is composed of a second rake surface 15 and a second chip discharge surface 45.
  • the second chip discharge surface 45 is connected to the first chip discharge surface 50.
  • the first chip discharge groove 1 is spirally provided around the axis A.
  • the second chip discharge groove 2 is connected to the first chip discharge groove 1. In the direction along the axis A, the length of the first chip discharge groove 1 is longer than the length of the second chip discharge groove 2.
  • the cutting tool 100 is, for example, a multi-blade rotary cutting tool.
  • the number of outer peripheral cutting blades 72 is, for example, 2 or more.
  • the lower limit of the number of outer peripheral cutting blades 72 is not particularly limited, but may be, for example, 4 or more, or 8 or more.
  • the upper limit of the number of outer peripheral cutting blades 72 is not particularly limited, but may be, for example, 20 or less, or 16 or less.
  • the number of outer peripheral cutting blades 72 is 5.
  • the number of bottom cutting blades 21 may be the same as the number of outer peripheral cutting blades 72.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line III-III of FIG.
  • the cross section shown in FIG. 3 is a cross section perpendicular to the axis.
  • a plurality of first chip discharge grooves 1 are arranged in the circumferential direction (rotational direction R).
  • a plurality of first flanks 3 are arranged in the circumferential direction.
  • a plurality of outer peripheral cutting blades 72 are arranged in the circumferential direction. That is, assuming that the combination of the first flank 3, the first chip discharge groove 1, and the outer peripheral cutting edge 72 is one cutting component, a plurality of cutting components are arranged in the circumferential direction.
  • the first chip discharge groove 1 is located forward in the rotation direction with respect to the first flank surface 3.
  • the first rake face 4 is located forward in the rotational direction with respect to the outer peripheral cutting edge 72.
  • the first chip discharge surface 50 is located forward in the rotation direction with respect to the first rake surface 4.
  • first flank 3 and the first chip discharge groove 1 are alternately located.
  • One end of the first flank 3 constitutes the outer peripheral cutting edge 72.
  • the other end of the first flank 3 constitutes the tail portion 6.
  • the first flank 3 is connected to the first rake face 4 on the outer peripheral cutting edge 72.
  • the first flank 3 is connected to the first chip discharge surface 50 in the tail portion 6.
  • first length L1 is longer than the length from the axis A to the tail portion 6 (second length L2).
  • FIG. 4 is an enlarged schematic view of region IV of FIG.
  • the blade portion 90 of the cutting tool 100 in a cross section perpendicular to the axis A, has a base material 81 and an oxide layer 80.
  • the oxide layer 80 has, for example, a first oxide film 91 and a second oxide film 92.
  • the base material 81 has a first surface 10.
  • the first surface 10 faces the rake surface 4.
  • the first oxide film 91 has a second surface 56 and a third surface 55.
  • the second surface 56 is in contact with the first surface 10.
  • the third surface 55 is on the opposite side of the second surface 56.
  • the third surface 55 constitutes at least a part of the rake surface 4. In other words, the entire surface of the third surface 55 may be the rake surface 4, or a part of the third surface 55 may be the rake surface 4.
  • the base material 81 has a fifth surface 31.
  • the fifth surface 31 is connected to the first surface 10.
  • the fifth surface 31 faces the escape surface 3.
  • the boundary between the first surface 10 and the fifth surface 31 is the first ridge line 20.
  • the second oxide film 92 constitutes at least a part of the flank 3.
  • the second oxide film 92 has a sixth surface 57 in contact with the fifth surface 31 and a seventh surface 93 on the opposite side of the sixth surface 57.
  • the seventh surface 93 constitutes at least a part of the escape surface 3. In other words, the entire surface of the seventh surface 93 may be the flank 3, or a part of the seventh surface 93 may be the flank 3.
  • the first oxide film 91 may be connected to the second oxide film 92.
  • the first oxide film 91 may be formed integrally with the second oxide film 92.
  • the thickness of the second oxide film 92 may be smaller than the thickness of the first oxide film 91.
  • the thickness of the first oxide film 91 (hereinafter, also referred to as the first thickness) is, for example, 5 ⁇ m or less.
  • the first thickness is the thickness of the first oxide film 91 in the direction perpendicular to the tangent line of the first rake face 4.
  • the first thickness may be, for example, 1 ⁇ m or less, or 0.1 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the first thickness is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 ⁇ m or more.
  • the thickness of the second oxide film 92 (hereinafter, also referred to as the second thickness) is, for example, 5 ⁇ m or less.
  • the second thickness is the thickness of the second oxide film 92 in the direction perpendicular to the tangent line of the first flank surface 3.
  • the second thickness may be, for example, 1 ⁇ m or less, or 0.1 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the second thickness is not particularly limited, but may be, for example, 0.01 ⁇ m or more.
  • the measurement sample is cut in a cross section perpendicular to the axis.
  • the measurement sample is embedded in the resin, and CP (Cross section polish) processing is performed on the cross section.
  • the composition of each of the first oxide film 91 and the second oxide film 92 can be specified, for example, by using an energy dispersive X-ray analyzer (EDX) attached to a scanning electron microscope (SEM).
  • EDX energy dispersive X-ray analyzer
  • SEM scanning electron microscope
  • JSM-7800F manufactured by JEOL Ltd.
  • the EDX for example, an OctaneElect EDS system can be used.
  • the measurement magnification can be, for example, 5000 times.
  • the thickness of the first oxide film 91 is 0.1 ⁇ D1 from the outer peripheral cutting edge 72 toward the tail portion 6.
  • the thickness of the second oxide film 92 is 0.5 ⁇ D2 from the outer peripheral cutting edge 72 toward the tail portion 6. It is the thickness of the second oxide film 92 at a position separated by a length (in other words, the center position of the first flank 3).
  • FIG. 5 is an enlarged schematic view of the region V of FIG.
  • the base material 81 has an eighth surface 40.
  • the eighth surface 40 faces the first chip discharge surface 50.
  • the eighth surface 40 is connected to each of the first surface 10 and the fifth surface 31. In the circumferential direction, the eighth surface 40 is located between the first surface 10 and the fifth surface 31.
  • the boundary between the eighth surface 40 and the fifth surface 31 constitutes the second ridge line 5.
  • the first oxide film 91 may be in contact with the eighth surface 40.
  • the first oxide film 91 may be in contact with the second ridge line 5.
  • the second oxide film 92 may be in contact with the second ridge line 5.
  • the first oxide film 91 may be continuously provided from the first ridge line 20 to the second ridge line 5 in the first chip discharge groove 1.
  • the second oxide film 92 may be continuously provided from the first ridge line 20 to the second ridge line 5 on the first flank surface 3.
  • the base material 81 may contain, for example, cubic boron nitride (cBN). Specifically, the base material 81 may be composed of a cBN sintered body. The base material 81 may have, for example, cBN particles and a binder. The binder may contain at least one of aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), zirconium (Zr), cobalt (Co) and tungsten (W). The base material 81 may contain diamond. The base material 81 may be single crystal diamond or polycrystalline diamond.
  • the first oxide film 91 may contain at least one of aluminum, titanium, chromium, zirconium, cobalt and tungsten.
  • the first oxide film 91 may be, for example, a coating film.
  • the coating film may be formed by, for example, a CVD (Chemical Vapor Deposition) method or a PVD (Physical Vapor Deposition) method.
  • the first oxide film 91 may be formed by irradiating the surface of the base material 81 with a laser to oxidize a part of the elements constituting the base material 81.
  • the first oxide film 91 may be an oxide of a part of the elements constituting the base material 81.
  • the first oxide film 91 may be an oxide of an element constituting a binder contained in the base material 81.
  • the first oxide film 91 may contain, for example, Al 2 O 3 , TiO 2 , CoO, W 2 O 3 , and the like.
  • the second oxide film 92 may contain at least one of aluminum, titanium, chromium, zirconium, cobalt and tungsten.
  • the second oxide film 92 may be, for example, a coating film.
  • the coating film may be formed by, for example, a CVD method or a PVD method.
  • the second oxide film 92 may be formed by irradiating the surface of the base material 81 with a laser to oxidize a part of the elements constituting the base material 81.
  • the second oxide film 92 may be an oxide of a part of the elements constituting the base material 81.
  • the second oxide film 92 may be an oxide of an element constituting the binder contained in the base material 81.
  • the second oxide film 92 may contain, for example, Al 2 O 3 , TiO 2 , CoO, W 2 O 3 , and the like.
  • the cutting tool 100 according to the second embodiment is different from the cutting tool 100 according to the first embodiment in the configuration not having the second oxide film 92, and the cutting tool 100 according to the first embodiment is different from the cutting tool 100 according to the first embodiment. It is the same as 100.
  • a configuration different from that of the cutting tool 100 according to the first embodiment will be mainly described.
  • FIG. 6 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool 100 according to the second embodiment.
  • the region shown in FIG. 6 corresponds to region IV in FIG.
  • the first oxide film 91 may include a fourth surface 71 connecting the second surface 56 and the third surface 55.
  • the fourth surface 71 of the first oxide film 91 is provided along the fifth surface 31 of the base material 81.
  • the ridgeline between the third surface 55 and the fourth surface 71 constitutes the outer peripheral cutting edge 72.
  • No oxide film is provided on the fifth surface 31.
  • the fifth surface 31 of the base material 81 is exposed from the first oxide film 91.
  • the fourth surface 71 constitutes at least a part of the first flank surface 3.
  • the first flank 3 may include a fourth surface 71 and a fifth surface 31.
  • the cutting tool 100 according to the third embodiment is different from the cutting tool 100 according to the first embodiment in the configuration in which the first oxide film 91 is separated from the second oxide film 92, and in other configurations, the cutting tool 100 is the first. This is the same as the cutting tool 100 according to the embodiment.
  • a configuration different from that of the cutting tool 100 according to the first embodiment will be mainly described.
  • FIG. 7 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool 100 according to the third embodiment.
  • the region shown in FIG. 7 corresponds to region IV in FIG.
  • the first oxide film 91 may be separated from the second oxide film 92.
  • a part of the first surface 10 is exposed from the first oxide film 91.
  • the first surface 10 has a first region 18 in contact with the first oxide film 91 and a second region 17 connected to the first region 18 and separated from the first oxide film 91.
  • the third surface 55 and the second region 17 form a rake surface 4.
  • the fifth surface 31 is exposed from the second oxide film 92.
  • the fifth surface 31 has a third region 33 in contact with the second oxide film 92 and a fourth region 34 connected to the third region 33 and separated from the second oxide film 92.
  • the seventh surface 93 and the fourth region 34 form a flank 3.
  • the ridgeline between the second region 17 and the fourth region 34 constitutes the outer peripheral cutting edge 72.
  • the second oxide film 92 may have a portion whose thickness increases as the distance from the outer peripheral cutting edge 72 increases.
  • the cutting tool 100 according to the fourth embodiment is different from the cutting tool 100 according to the first embodiment in that the first surface 10 of the base material 81 is composed of a plurality of straight portions, and in other configurations, the first embodiment is used. This is the same as the cutting tool 100 according to the above.
  • a configuration different from that of the cutting tool 100 according to the first embodiment will be mainly described.
  • FIG. 8 is a schematic first cross-sectional view showing the configuration of the cutting tool 100 according to the fourth embodiment.
  • the region shown in FIG. 8 corresponds to region IV in FIG. In FIG. 8, only the base material 81 is shown, and the oxide film is not shown.
  • the first surface 10 is composed of a plurality of straight lines.
  • the plurality of straight line portions include, for example, a first straight line portion 11, a second straight line portion 12, a third straight line portion 13, and a fourth straight line portion 14.
  • the first straight line portion 11 is connected to the first flank surface 3.
  • the first straight line portion 11 is inclined with respect to the fifth surface 31.
  • the boundary between the first straight line portion 11 and the fifth surface 31 is the first ridge line 20.
  • the second straight line portion 12 is inclined with respect to the first straight line portion 11.
  • the second straight line portion 12 is connected to the first straight line portion 11.
  • the second straight line portion 12 is located on the side opposite to the fifth surface 31 with respect to the first straight line portion 11. From another point of view, the first straight line portion 11 is located between the second straight line portion 12 and the fifth surface 31.
  • the third straight line portion 13 is inclined with respect to the second straight line portion 12.
  • the third straight line portion 13 is connected to the second straight line portion 12.
  • the third straight line portion 13 is located on the side opposite to the first straight line portion 11 with respect to the second straight line portion 12.
  • the second straight line portion 12 is located between the third straight line portion 13 and the first straight line portion 11.
  • the fourth straight line portion 14 is inclined with respect to the third straight line portion 13.
  • the fourth straight line portion 14 is connected to the third straight line portion 13.
  • the fourth straight line portion 14 is located on the opposite side of the second straight line portion 12 with respect to the third straight line portion 13. From another point of view, the third straight line portion 13 is located between the fourth straight line portion 14 and the second straight line portion 12.
  • the angle formed by two adjacent straight portions among the plurality of straight portions may become smaller as the distance from the fifth surface 31 increases.
  • the first angle ⁇ 1 formed by the first straight line portion 11 and the second straight line portion 12 is from the second angle ⁇ 2 formed by the second straight line portion 12 and the third straight line portion 13. May be large.
  • the second angle ⁇ 2 formed by the second straight line portion 12 and the third straight line portion 13 may be larger than the third angle ⁇ 3 formed by the third straight line portion 13 and the fourth straight line portion 14. ..
  • the first angle ⁇ 1 is, for example, 140 ° or more and less than 180 °.
  • the lower limit of the first angle ⁇ 1 is not particularly limited, but may be, for example, 150 ° or more, or 160 ° or more.
  • the upper limit of the first angle ⁇ 1 is not particularly limited, but may be, for example, 178 ° or less, or 175 ° or less.
  • a first linear portion 11 a boundary between the second straight portion 12 is a first position X 1.
  • the boundary between the second straight line portion 12 and the third straight line portion 13 is the second position X 2 .
  • a third straight portion 13 boundary between the fourth straight portion 14 is a third position X 3.
  • the length of the first straight line portion 11 (straight line distance between the outer peripheral cutting edge 72 and the first position X 1 ) is the length of the second straight line portion 12 (straight line distance between the first position X 1 and the second position X 2). ) May be larger.
  • the length of the second straight line portion 12 (the straight line distance between the first position X 1 and the second position X 2 ) is the length of the third straight line portion 13 (the straight line between the second position X 2 and the third position X 3). It may be larger than the distance).
  • the distance between the outer peripheral cutting edge 72 and the first position X 1 (first distance a1) is the same as the distance between the first position X 1 and the second position X 2 (second distance a2). May be good.
  • the distance between the first position X 1 and the second position X 2 (second distance a2) is the same as the distance between the second position X 2 and the third position X 3 (third distance a3). You may.
  • FIG. 9 is a schematic second sectional view showing the configuration of the cutting tool 100 according to the fourth embodiment.
  • the region shown in FIG. 9 corresponds to the region V in FIG. In FIG. 9, only the base material 81 is shown, and the oxide film is not shown.
  • the eighth surface 40 may be composed of, for example, a plurality of straight lines.
  • the eighth surface 40 has, for example, a fifth straight line portion 41, a sixth straight line portion 42, a seventh straight line portion 43, and an eighth straight line portion 44.
  • the fifth straight line portion 41 is inclined with respect to the fifth surface 31.
  • the fifth straight line portion 41 is connected to the second ridge line 5.
  • the sixth straight line portion 42 is inclined with respect to the fifth straight line portion 41.
  • the sixth straight line portion 42 is connected to the fifth straight line portion 41.
  • the sixth straight line portion 42 is located on the side opposite to the second ridge line 5 with respect to the fifth straight line portion 41. From another point of view, the fifth straight line portion 41 is located between the sixth straight line portion 42 and the second ridge line 5.
  • the 7th straight line portion 43 is inclined with respect to the 6th straight line portion 42.
  • the seventh straight line portion 43 is connected to the sixth straight line portion 42.
  • the seventh straight line portion 43 is located on the opposite side of the sixth straight line portion 42 from the fifth straight line portion 41.
  • the sixth straight line portion 42 is located between the seventh straight line portion 43 and the fifth straight line portion 41.
  • the eighth straight line portion 44 is inclined with respect to the seventh straight line portion 43.
  • the eighth straight line portion 44 is connected to the seventh straight line portion 43.
  • the eighth straight line portion 44 is located on the opposite side of the seventh straight line portion 43 from the sixth straight line portion 42. From another point of view, the seventh straight line portion 43 is located between the eighth straight line portion 44 and the sixth straight line portion 42.
  • the fourth angle ⁇ n-1 formed by the fifth straight line portion 41 and the sixth straight line portion 42 is larger than the fifth angle ⁇ n-2 formed by the sixth straight line portion 42 and the seventh straight line portion 43. It may be large.
  • the fifth angle ⁇ n-2 formed by the sixth straight line portion 42 and the seventh straight line portion 43 is larger than the sixth angle ⁇ n-3 formed by the seventh straight line portion 43 and the eighth straight line portion 44. It may be large.
  • the boundary between the fifth straight line portion 41 and the sixth straight line portion 42 is the fourth position X n-1 .
  • the boundary between the sixth straight line portion 42 and the seventh straight line portion 43 is the fifth position X n-2 .
  • the boundary between the 7th straight line portion 43 and the 8th straight line portion 44 is the 6th position Xn-3 .
  • the length of the fifth straight line portion 41 (the straight line distance between the second ridge line 5 and the fourth position X n-1 ) is the length of the sixth straight line portion 42 (the fourth position X n-1 and the fifth position X n-1). It may be larger than the linear distance from -2).
  • the length of the sixth straight line portion 42 ( straight line distance between the fourth position X n-1 and the fifth position X n-2 ) is the length of the seventh straight line portion 43 (fifth position X n-2 and the sixth position). It may be larger than the linear distance from the position X n-3).
  • the distance between the second ridge line 5 and the fourth position X n-1 (fourth distance b1) is the distance between the fourth position X n-1 and the fifth position X n-2 (fifth distance b2). ) May be the same.
  • the distance between the 4th position X n-1 and the 5th position X n-2 (fifth distance b2) is the distance between the 5th position X n-2 and the 6th position X n-3 (the first). It may be the same as 6 distance b3).
  • FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the angle formed by two adjacent straight lines and the position in the circumferential direction.
  • the angle formed by the two adjacent straight lines may monotonically decrease from the first ridge line 20 to the eighth surface 40.
  • the first surface 10 may be composed of, for example, five or more straight lines.
  • the eighth surface 40 may monotonically decrease from the second ridge line 5 toward the first surface 10.
  • the eighth surface 40 may be composed of, for example, five or more straight lines.
  • the surface of the base material 81 facing the first chip discharge groove 1 may be composed of a plurality of straight lines.
  • the lower limit of the number of straight lines is not particularly limited, but may be, for example, 10 or more, or 20 or more.
  • the upper limit of the number of straight portions is not particularly limited, but may be, for example, 50 or less, or 40 or less.
  • B) is, for example, 8 ° or more.
  • the lower limit of the angle difference B is not particularly limited, but may be, for example, 10 ° or more, or 12 ° or more.
  • the upper limit of the angle difference B is not particularly limited, but may be, for example, 30 ° or less.
  • FIG. 11 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool 100 according to the fourth embodiment.
  • the region shown in FIG. 11 corresponds to region IV in FIG.
  • the cutting tool 100 has a base material 81, a first oxide film 91, and a second oxide film 92. ..
  • the first surface 10 faces the rake surface 4.
  • the first oxide film 91 has a second surface 56 and a third surface 55.
  • the second surface 56 is in contact with the first surface 10.
  • the third surface 55 is on the opposite side of the second surface 56.
  • the third surface 55 is a rake surface 4.
  • the base material 81 has a fifth surface 31.
  • the fifth surface 31 is connected to the first surface 10.
  • the fifth surface 31 faces the escape surface 3.
  • the second oxide film 92 constitutes the flank 3.
  • the second oxide film 92 has a sixth surface 57 in contact with the fifth surface 31 and a seventh surface 93 on the opposite side of the sixth surface 57.
  • the seventh surface 93 is the escape surface 3.
  • the rake face 4 may be composed of a plurality of straight lines.
  • the rake face 4 may have a ninth straight line portion 51, a tenth straight line portion 52, an eleventh straight line portion 53, and a twelfth straight line portion 54.
  • the ninth straight line portion 51 faces the first straight line portion 11.
  • the tenth straight line portion 52 faces the second straight line portion 12.
  • the eleventh straight line portion 53 faces the third straight line portion 13.
  • the twelfth straight line portion 54 faces the fourth straight line portion 14.
  • the ninth straight line portion 51 is connected to the first flank surface 3.
  • the ninth straight line portion 51 is inclined with respect to the first flank surface 3.
  • the boundary between the ninth straight line portion 51 and the first flank 3 is the outer peripheral cutting edge 72.
  • the tenth straight line portion 52 is inclined with respect to the ninth straight line portion 51.
  • the tenth straight line portion 52 is connected to the ninth straight line portion 51.
  • the tenth straight line portion 52 is located on the side opposite to the first flank 3 with respect to the ninth straight line portion 51. From another point of view, the ninth straight line portion 51 is located between the tenth straight line portion 52 and the first flank surface 3.
  • the 11th straight line portion 53 is inclined with respect to the 10th straight line portion 52.
  • the eleventh straight line portion 53 is connected to the tenth straight line portion 52.
  • the eleventh straight line portion 53 is located on the opposite side of the tenth straight line portion 52 from the ninth straight line portion 51. From another point of view, the tenth straight line portion 52 is located between the eleventh straight line portion 53 and the ninth straight line portion 51.
  • the twelfth straight line portion 54 is inclined with respect to the eleventh straight line portion 53.
  • the twelfth straight line portion 54 is connected to the eleventh straight line portion 53.
  • the twelfth straight line portion 54 is located on the opposite side of the tenth straight line portion 52 with respect to the eleventh straight line portion 53. From another point of view, the eleventh straight line portion 53 is located between the twelfth straight line portion 54 and the tenth straight line portion 52.
  • the cutting tool 100 according to the fifth embodiment is different from the cutting tool 100 according to the fourth embodiment in the configuration not having the second oxide film 92, and the cutting tool 100 according to the fourth embodiment is different from the cutting tool 100 according to the fourth embodiment. It is the same as 100.
  • a configuration different from that of the cutting tool 100 according to the fourth embodiment will be mainly described.
  • FIG. 12 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool 100 according to the fifth embodiment.
  • the region shown in FIG. 12 corresponds to region IV in FIG.
  • the first oxide film 91 may further include a fourth surface 71 connecting the second surface 56 and the third surface 55.
  • the fourth surface 71 of the first oxide film 91 is provided along the fifth surface 31 of the base material 81.
  • the ridgeline between the third surface 55 and the fourth surface 71 constitutes the outer peripheral cutting edge 72.
  • No oxide film is provided on the fifth surface 31.
  • the fifth surface 31 of the base material 81 is exposed from the first oxide film 91.
  • the fourth surface 71 constitutes at least a part of the first flank surface 3.
  • the first flank 3 may include a fourth surface 71 and a fifth surface 31.
  • the cutting tool 100 according to the sixth embodiment is different from the cutting tool 100 according to the fourth embodiment in the configuration in which the first oxide film 91 is separated from the second oxide film 92, and in the other configurations, the fourth This is the same as the cutting tool 100 according to the embodiment.
  • a configuration different from that of the cutting tool 100 according to the fourth embodiment will be mainly described.
  • FIG. 13 is a partial cross-sectional schematic diagram showing the configuration of the cutting tool 100 according to the sixth embodiment.
  • the region shown in FIG. 13 corresponds to region IV in FIG.
  • the first oxide film 91 may be separated from the second oxide film 92.
  • a part of the first surface 10 is exposed from the first oxide film 91.
  • the first surface 10 has a first region 18 in contact with the first oxide film 91 and a second region 17 connected to the first region 18 and separated from the first oxide film 91.
  • the third surface 55 and the second region 17 form a rake surface 4.
  • the second region 17 may be a part of the first straight line portion 11.
  • the fifth surface 31 is exposed from the second oxide film 92.
  • the fifth surface 31 has a third region 33 in contact with the second oxide film 92 and a fourth region 34 connected to the third region 33 and separated from the second oxide film 92.
  • the second oxide film 92 has a sixth surface 57 in contact with the fifth surface 31 and a seventh surface 93 on the opposite side of the sixth surface 57.
  • the seventh surface 93 and the fourth region 34 form a flank 3.
  • the ridgeline between the second region 17 and the fourth region 34 constitutes the outer peripheral cutting edge 72.
  • the second oxide film 92 may have a portion whose thickness increases as the distance from the outer peripheral cutting edge 72 increases.
  • the cutting tool 100 is, for example, a rotary cutting tool, and more specifically, a multi-blade rotary cutting tool.
  • the cutting tool 100 is, for example, an end mill, but is not limited to the end mill.
  • the cutting tool 100 may be, for example, a reamer, a drill, or a tap.
  • the cutting tool 100 may be, for example, a turning tool.
  • the cutting tool 100 may be a throw-away insert.
  • FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing a state in which cutting is performed using the cutting tool 100 according to the fourth embodiment.
  • the chips 61 of the work material 60 cut by the cutting edge 72 of the cutting tool 100 are discharged while being in contact with the rake face 4.
  • the chip 61 may be welded to the rake surface 4.
  • the cutting edge 72 may be broken due to the welding of the chips 61.
  • the cutting tool 100 has a first oxide film 91.
  • the first oxide film 91 has a second surface 56 in contact with the first surface 10 and a third surface 55 on the opposite side of the second surface 56.
  • the third surface 55 constitutes at least a part of the rake surface 4. That is, at least a part of the rake face 4 is composed of the first oxide film 91.
  • the first surface 10 of the base material 81 may be composed of a plurality of straight lines in a cross section perpendicular to the axis A.
  • the first surface 10 includes the first straight line portion 11 and the second straight line portion 12 that is inclined with respect to the first straight line portion 11 and is connected to the first straight line portion 11.
  • a third straight line portion 13 that is inclined with respect to the second straight line portion 12 and is connected to the second straight line portion 12 may be provided.
  • the chips 61 move on the rake face 4
  • the chips 61 are curled with a certain curvature.
  • a gap 9 is formed between the curled chip 61, the boundary between the ninth straight line portion 51 facing the first straight line portion 11, and the tenth straight line portion 52 facing the second straight line portion 12.
  • a gap 9 is formed between the curled chip 61, the boundary between the tenth straight line portion 52 facing the second straight line portion 12, and the eleventh straight line portion 53 facing the third straight line portion 13. Will be done.
  • the coolant is drawn into the gap 9 by the capillary phenomenon. This allows the coolant to be effectively transported and retained near the cutting point. As a result, the frictional force between the chips 61 and the rake face 4 can be reduced. Therefore, it is possible to prevent the cutting edge 72 from breaking.
  • the cutting tools 100 of the samples 1 to 9 were prepared.
  • the cutting tool 100 of the samples 1 to 8 is an end mill according to an embodiment.
  • the cutting tool 100 of the sample 9 is an end mill according to a comparative example.
  • the base material 81 is brazed to the tip of the shank portion made of cemented carbide.
  • the base material 81 is made of a cBN sintered body.
  • an oxide film is formed on the base material 81.
  • no oxide film is formed on the base material 81.
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 8 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 and the second oxide film 92 were coated on the substrate 81 using PVD (see FIG. 11).
  • Each of the first oxide film 91 and the second oxide film 92 has a laminated structure of Al 2 O 3 and TiO 2.
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 8 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 and the second oxide film 92 were coated on the substrate 81 using PVD (see FIG. 11).
  • Each of the first oxide film 91 and the second oxide film 92 has a laminated structure of Al 2 O 3 and TiO 2. After coating the second oxide film 92, the first flank surface 3 was surface-treated to reduce the thickness of the second oxide film 92.
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 1 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 and the second oxide film 92 were coated on the base material 81 using PVD.
  • Each of the first oxide film 91 and the second oxide film 92 has a laminated structure of Al 2 O 3 and TiO 2.
  • the first flank surface 3 was surface-treated to reduce the thickness of the second oxide film 92 (see FIG. 11).
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 0 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 was coated on the substrate 81 using PVD.
  • the first oxide film 91 has a laminated structure of Al 2 O 3 and TiO 2.
  • the second oxide film 92 was removed by surface-treating the first flank 3 after coating the second oxide film 92.
  • the first flank 3 is made of a base material 81 (see FIG. 12).
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 2 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 1 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 and the second oxide film 92 were formed by surface-treating the base material 81 with a laser to oxidize the elements contained in the base material 81 (see FIG. 11).
  • Each of the first oxide film 91 and the second oxide film 92 contains Al 2 O 3 and TiO 2.
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 2 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 0.5 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 and the second oxide film 92 were formed by surface-treating the base material 81 with a laser to oxidize the elements contained in the base material 81 (see FIG. 11).
  • Each of the first oxide film 91 and the second oxide film 92 contains Al 2 O 3 , TiO 2 and CoO.
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 2 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 0 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 was formed by surface-treating the base material 81 with a laser to oxidize the elements contained in the base material 81 (see FIG. 12).
  • the first oxide film 91 contains Al 2 O 3 and TiO 2 and CoO.
  • the thickness of the first oxide film 91 constituting the first rake face 4 was set to 2 ⁇ m.
  • the thickness of the second oxide film 92 constituting the first flank 3 was set to 0 ⁇ m.
  • the first oxide film 91 was formed by surface-treating the base material 81 with a laser to oxidize the elements contained in the base material 81 (see FIG. 12).
  • the first oxide film 91 contains TiO 2 , CoO, and W 2 O 3 .
  • the work material 60 was machined using the cutting tools 100 of the samples 1 to 9 (see FIG. 14).
  • the work material 60 was Ti-6Al-4V.
  • the cutting speed (Vc) was set to 500 mm / min.
  • the feed amount (f) was 0.015 mm / blade.
  • the depth of cut (Ae) in the lateral direction was 0.05 mm.
  • the depth of cut (Ap) in the axial direction was 0.5 mm.
  • the coolant was a 20-fold diluted emulsion.
  • Table 1 shows the tool life when the work material 60 is machined using the cutting tools 100 of the samples 1 to 9.
  • the tool life is the time from the start of machining to the loss of the cutting edge 72.
  • the tool life when the work material 60 was machined using the cutting tools 100 of the samples 1 to 8 was 18 minutes or more and 38 minutes or less.
  • the tool life was 9 minutes. From the above results, it was demonstrated that the chipping of the cutting edge 72 can be suppressed by forming the rake face 4 with the first oxide film 91 in the cross section perpendicular to the axis A.

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Abstract

本開示に係る切削工具は、すくい面と、逃げ面と、基材と、第１酸化膜とを有している。逃げ面は、すくい面に連なっている。基材は、すくい面に対向する第１面を有している。第１酸化膜は、第１面に接する第２面と、第２面の反対側にある第３面とを有している。すくい面と逃げ面との稜線は、切刃を構成している。第３面は、すくい面の少なくとも一部を構成している。

Description

切削工具
　本開示は、切削工具に関する。
　特開２０１７－１５９３８０号公報（特許文献１）には、すくい面に複数の筋目（凹部）が形成されたエンドミルが記載されている。
特開２０１７－１５９３８０号公報
　本開示に係る切削工具は、すくい面と、逃げ面と、基材と、第１酸化膜とを備えている。逃げ面は、すくい面に連なっている。基材は、すくい面に対向する第１面を有している。第１酸化膜は、第１面に接する第２面と、第２面の反対側にある第３面とを有している。すくい面と逃げ面との稜線は、切刃を構成している。第３面は、すくい面の少なくとも一部を構成している。
図１は、第１実施形態に係る切削工具の構成を示す斜視模式図である。 図２は、第１実施形態に係る切削工具の構成を示す側面模式図である。 図３は、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿って見た断面模式図である。 図４は、図３の領域ＩＶの拡大模式図である。 図５は、図３の領域Ｖの拡大模式図である。 図６は、第２実施形態に係る切削工具の構成を示す一部断面模式図である。 図７は、第３実施形態に係る切削工具の構成を示す一部断面模式図である。 図８は、第４実施形態に係る切削工具の構成を示す第１断面模式図である。 図９は、第４実施形態に係る切削工具の構成を示す第２断面模式図である。 図１０は、隣り合う２つの直線部により形成される角度と、第１切屑排出溝内の位置との関係を示す図である。 図１１は、第４実施形態に係る切削工具の構成を示す一部断面模式図である。 図１２は、第５実施形態に係る切削工具の構成を示す一部断面模式図である。 図１３は、第６実施形態に係る切削工具の構成を示す一部断面模式図である。 図１４は、第４実施形態に係る切削工具を用いて切削加工を行っている状態を示す断面模式図である。
　[本開示が解決しようとする課題]
　回転切削工具を用いて被削材を切削する場合には、クーラントに遠心力が作用するため、切削点近傍へクーラントを効果的に輸送しつつ、切削点近傍でクーラントを保持することが困難である。特開２０１７－１５９３８０号公報に記載のエンドミルにおいては、すくい面に設けられた凹部の谷の部分にクーラントが保持されることで、潤滑性を向上している。しかしながら、当該エンドミルにおいては、大きな切削抵抗が切刃にかかった場合に、凹部に応力が集中し、切刃が折損する場合があった。
　[本開示の効果]
　本開示によれば、切刃が折損することを抑制可能な切削工具を提供することができる。
　［本開示の実施形態の概要］
　まず、本開示の実施形態の概要について説明する。
　（１）本開示に係る切削工具１００は、すくい面４と、逃げ面３と、基材８１と、第１酸化膜９１とを備えている。逃げ面３は、すくい面４に連なっている。基材８１は、すくい面４に対向する第１面１０を有している。第１酸化膜９１は、第１面１０に接する第２面５６と、第２面５６の反対側にある第３面５５とを有している。すくい面４と逃げ面３との稜線は、切刃７２を構成している。第３面５５は、すくい面４の少なくとも一部を構成している。
　（２）上記（１）に係る切削工具１００においては、第１酸化膜９１は、第２面５６と第３面５５とを繋ぐ第４面７１をさらに含んでいてもよい。第４面７１は、逃げ面３の少なくとも一部を構成していてもよい。第３面５５と第４面７１との稜線は、切刃７２を構成していてもよい。
　（３）上記（１）または（２）に係る切削工具１００においては、第１酸化膜９１は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含んでいてもよい。
　（４）上記（１）に係る切削工具１００においては、逃げ面３の少なくとも一部を構成する第２酸化膜９２をさらに備えていてもよい。第２酸化膜９２の厚みは、第１酸化膜９１の厚みよりも小さくてもよい。
　（５）上記（４）に係る切削工具１００においては、第１酸化膜９１は、第２酸化膜９２に連なっていてもよい。
　（６）上記（４）に係る切削工具１００においては、第１酸化膜９１は、第２酸化膜９２から離間していてもよい。
　（７）上記（４）から（６）のいずれかに係る切削工具１００においては、第１酸化膜９１は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含んでいてもよい。
　（８）上記（４）から（７）のいずれかに係る切削工具１００においては、第２酸化膜９２は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含んでいてもよい。
　（９）上記（１）から（８）のいずれかに係る切削工具１００においては、基材８１は、立方晶窒化硼素を含んでいてもよい。
　（１０）上記（１）から（９）のいずれかに係る切削工具１００においては、切削工具は、多刃回転切削工具であってもよい。
　［本開示の実施形態の詳細］
　以下、図面に基づいて本開示の実施形態（以降、本実施形態とも称する）の詳細について説明する。なお、以下の図面において同一または相当する部分には同一の参照番号を付し、その説明は繰返さない。
　（第１実施形態）
　図１は、第１実施形態に係る切削工具１００の構成を示す斜視模式図である。図２は、第１実施形態に係る切削工具１００の構成を示す側面模式図である。図１および図２に示されるように、本実施形態に係る切削工具１００は、たとえばエンドミルであって、刃部９０と、接合部８と、シャンク部７とから構成されている。刃部９０は、第１すくい面４と、第１逃げ面３と、第２すくい面１５と、第２逃げ面３０と、外周切刃７２と、底切刃２１と、前端５８とを有している。シャンク部７は、後端５９を有している。刃部９０は、接合部８によってシャンク部７に固定されている。接合部８は、ロウ材である。接合部８は、刃部９０とシャンク部７との間に位置している。
　切削工具１００は、軸線Ａの周りを回転可能に構成されている。別の観点から言えば、軸線Ａは、切削工具１００の回転軸である。刃部９０を構成する材料は、たとえば立方晶窒化硼素（ｃＢＮ）焼結体を含んでいる。シャンク部７は、たとえば超硬合金を含んでいる。超硬合金は、たとえば炭化タングステン（ＷＣ）基超硬合金、ＷＣの他にＣｏを含む超硬合金、ＷＣの他にＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ等の炭窒化物を添加した超硬合金等である。
　切削工具１００の前端５８は、被削材に対向する部分である。切削工具１００の後端５９は、切削工具１００を回転させる工具に対向する部分である。シャンク部７は、切削工具１００を回転させる工具に取り付けられる部分である。軸線Ａに沿った方向は、軸方向である。軸方向に対して垂直な方向が径方向である。本明細書においては、前端５８から後端５９に向かう方向を軸方向の後方と称する。反対に、後端５９から前端５８に向かう方向を軸方向の前方と称する。
　図１および図２に示されるように、第１逃げ面３は、第１すくい面４に連なる。第１すくい面４と第１逃げ面３との稜線は、外周切刃７２を構成する。第２逃げ面３０は、第２すくい面１５に連なる。第２すくい面１５と第２逃げ面３０との稜線は、底切刃２１を構成する。第１すくい面４は、第２すくい面１５に連なっている。第１すくい面４は、第２すくい面１５に対して、軸方向の後方に位置している。第１逃げ面３は、第２逃げ面３０に連なっている。第１逃げ面３は、第２逃げ面３０に対して、軸方向の後方に位置している。
　切削工具１００の刃部９０には、第１切屑排出溝１と、第２切屑排出溝２とが形成されている。第１切屑排出溝１は、第１すくい面４と、第１切屑排出面５０とにより構成されている。第２切屑排出溝２は、第２すくい面１５と、第２切屑排出面４５とにより構成されている。第２切屑排出面４５は、第１切屑排出面５０に連なっている。第１切屑排出溝１は、軸線Ａの周りに螺旋状に設けられている。第２切屑排出溝２は、第１切屑排出溝１に連なっている。軸線Ａに沿った方向において、第１切屑排出溝１の長さは、第２切屑排出溝２の長さよりも長い。
　本実施形態に係る切削工具１００は、たとえば多刃回転切削工具である。具体的には、外周切刃７２の数は、たとえば２以上である。外周切刃７２の数の下限は、特に限定されないが、たとえば４本以上であってもよいし、８本以上であってもよい。外周切刃７２の数の上限は、特に限定されないが、たとえば２０本以下であってもよいし、１６本以下であってもよい。図１に示す切削工具１００においては、外周切刃７２の数は５である。底切刃２１の数は、外周切刃７２の数と同じであってもよい。
　図３は、図２のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿って見た断面模式図である。図３に示される断面は、軸線に対して垂直な断面である。図３に示されるように、複数の第１切屑排出溝１が、周方向（回転方向Ｒ）に配置されている。同様に、複数の第１逃げ面３が、周方向に配置されている。同様に、複数の外周切刃７２が、周方向に配置されている。つまり、第１逃げ面３と第１切屑排出溝１と外周切刃７２との組合せを１つの切削構成要素とすると、複数の切削構成要素が、周方向に配置されている。当該切削構成要素において、第１切屑排出溝１は、第１逃げ面３に対して、回転方向前方に位置している。当該切削構成要素において、第１すくい面４は、外周切刃７２に対して、回転方向前方に位置している。当該切削構成要素において、第１切屑排出面５０は、第１すくい面４に対して、回転方向前方に位置している。
　図３に示されるように、回転方向Ｒにおいて、第１逃げ面３と第１切屑排出溝１とが交互に位置している。第１逃げ面３の一端は、外周切刃７２を構成する。第１逃げ面３の他端は、テール部６を構成する。第１逃げ面３は、外周切刃７２において、第１すくい面４に連なっている。第１逃げ面３は、テール部６において、第１切屑排出面５０に連なっている。径方向において、軸線Ａから外周切刃７２までの長さ（第１長さＬ１）は、軸線Ａからテール部６までの長さ（第２長さＬ２）よりも長い。
　図４は、図３の領域ＩＶの拡大模式図である。図４に示されるように、軸線Ａに垂直な断面において、第１実施形態に係る切削工具１００の刃部９０は、基材８１と、酸化物層８０とを有している。酸化物層８０は、たとえば、第１酸化膜９１と、第２酸化膜９２とを有している。基材８１は、第１面１０を有している。第１面１０は、すくい面４に対向している。第１酸化膜９１は、第２面５６と、第３面５５とを有している。第２面５６は、第１面１０に接している。第３面５５は、第２面５６の反対側にある。第３面５５は、すくい面４の少なくとも一部を構成している。言い換えれば、第３面５５の全面がすくい面４であってもよいし、第３面５５の一部がすくい面４であってもよい。
　基材８１は、第５面３１を有している。第５面３１は、第１面１０に連なっている。第５面３１は、逃げ面３に対向している。第１面１０と第５面３１との境界は、第１稜線２０である。第２酸化膜９２は、逃げ面３の少なくとも一部を構成している。第２酸化膜９２は、第５面３１に接する第６面５７と、第６面５７と反対側の第７面９３とを有している。第７面９３は、逃げ面３の少なくとも一部を構成している。言い換えれば、第７面９３の全面が逃げ面３であってもよいし、第７面９３の一部が逃げ面３であってもよい。
　図４に示されるように、第１酸化膜９１は、第２酸化膜９２に連なっていてもよい。第１酸化膜９１は、第２酸化膜９２と一体として形成されていてもよい。第２酸化膜９２の厚みは、第１酸化膜９１の厚みよりも小さくてもよい。
　第１酸化膜９１の厚み（以降、第１厚みとも称する）は、たとえば５μｍ以下である。第１厚みは、第１すくい面４の接線に対して垂直な方向における第１酸化膜９１の厚みである。第１厚みは、たとえば１μｍ以下であってもよいし、０．１μｍ以下であってもよい。第１厚みの下限は、特に限定されないが、たとえば０．０１μｍ以上であってもよい。
　第２酸化膜９２の厚み（以降、第２厚みとも称する）は、たとえば５μｍ以下である。第２厚みは、第１逃げ面３の接線に対して垂直な方向における第２酸化膜９２の厚みである。第２厚みは、たとえば１μｍ以下であってもよいし、０．１μｍ以下であってもよい。第２厚みの下限は、特に限定されないが、たとえば０．０１μｍ以上であってもよい。
　（酸化膜の観察方法）
　次に、第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の観察方法について説明する。まず、測定試料が軸線に垂直な断面で切断される。測定試料が樹脂に埋め込まれ、当該断面に対してＣＰ（Cross　section　polish）加工が行われる。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の各々の組成は、たとえば走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）付帯のエネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＸ）を用いて特定することができる。ＳＥＭとしては、たとえば日本電子社製の「ＪＳＭ－７８００Ｆ」を使用することができる。ＥＤＸとしては、たとえばＯｃｔａｎｅＥｌｅｃｔ（オクタンエレクト）ＥＤＳシステムを使用することができる。測定倍率は、たとえば５０００倍とすることができる。
　第１切屑排出溝１において外周切刃７２からテール部６までの沿面距離をＤ１とした場合、第１酸化膜９１の厚みは、外周切刃７２からテール部６に向かって０．１×Ｄ１の長さ離れた位置における第１酸化膜９１の厚みと、外周切刃７２からテール部６に向かって０．５×Ｄ１の長さ離れた位置における第１酸化膜９１の厚みと、外周切刃７２からテール部６に向かって０．９×Ｄ１の長さ離れた位置における第１酸化膜９１の厚みとの平均値とする。第１逃げ面３において外周切刃７２からテール部６までの沿面距離をＤ２とした場合、第２酸化膜９２の厚みは、外周切刃７２からテール部６に向かって０．５×Ｄ２の長さ離れた位置（言い換えれば、第１逃げ面３の中心位置）における第２酸化膜９２の厚みとする。
　図５は、図３の領域Ｖの拡大模式図である。図５に示されるように、基材８１は、第８面４０を有している。第８面４０は、第１切屑排出面５０に対向している。第８面４０は、第１面１０および第５面３１の各々に連なっている。周方向において、第８面４０は、第１面１０および第５面３１の間に位置している。第８面４０と第５面３１との境界は、第２稜線５を構成する。第１酸化膜９１は、第８面４０に接していてもよい。第１酸化膜９１は、第２稜線５に接してもよい。第２酸化膜９２は、第２稜線５に接していてもよい。第１酸化膜９１は、第１切屑排出溝１において、第１稜線２０から第２稜線５まで連続的に設けられていてもよい。第２酸化膜９２は、第１逃げ面３において、第１稜線２０から第２稜線５まで連続的に設けられていてもよい。
　基材８１は、たとえば立方晶窒化硼素（ｃＢＮ）を含んでいてもよい。具体的には、基材８１は、ｃＢＮ焼結体により構成されていてもよい。基材８１は、たとえばｃＢＮ粒子と、結合材とを有していてもよい。結合材は、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、コバルト（Ｃｏ）およびタングステン（Ｗ）の少なくともいずれかを含んでいてもよい。基材８１は、ダイヤモンドを含んでいてもよい。基材８１は、単結晶ダイヤモンドであってもよいし、多結晶ダイヤモンドであってもよい。
　第１酸化膜９１は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含んでいてもよい。第１酸化膜９１は、たとえばコーティング膜であってもよい。コーティング膜は、たとえばＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法またはＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により形成されてもよい。
　第１酸化膜９１は、基材８１の表面に対してレーザーを照射することで、基材８１を構成する元素の一部を酸化して形成されてもよい。第１酸化膜９１は、基材８１を構成する元素の一部の酸化物であってもよい。具体的には、第１酸化膜９１は、基材８１に含まれる結合材を構成する元素の酸化物であってもよい。第１酸化膜９１は、たとえばＡｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＣｏＯ、Ｗ２Ｏ３などを含んでいてもよい。
　第２酸化膜９２は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含んでいてもよい。第２酸化膜９２は、たとえばコーティング膜であってもよい。コーティング膜は、たとえばＣＶＤ法またはＰＶＤ法により形成されてもよい。
　第２酸化膜９２は、基材８１の表面に対してレーザーを照射することで、基材８１を構成する元素の一部を酸化して形成されてもよい。第２酸化膜９２は、基材８１を構成する元素の一部の酸化物であってもよい。具体的には、第２酸化膜９２は、基材８１に含まれる結合材を構成する元素の酸化物であってもよい。第２酸化膜９２は、たとえばＡｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＣｏＯ、Ｗ２Ｏ３などを含んでいてもよい。
　（第２実施形態）
　次に、第２実施形態に係る切削工具１００の構成について説明する。第２実施形態に係る切削工具１００は、第２酸化膜９２を有していない構成において、第１実施形態に係る切削工具１００と異なり、その他の構成においては、第１実施形態に係る切削工具１００と同様である。以下、主に、第１実施形態に係る切削工具１００と異なる構成について説明する。
　図６は、第２実施形態に係る切削工具１００の構成を示す一部断面模式図である。図６に示される領域は、図３の領域ＩＶに対応している。図６に示されるように、第１酸化膜９１は、第２面５６と第３面５５とを繋ぐ第４面７１を含んでいてもよい。第１酸化膜９１の第４面７１は、基材８１の第５面３１に沿って設けられている。第３面５５と第４面７１との稜線は、外周切刃７２を構成している。第５面３１上には、酸化膜が設けられていない。別の観点から言えば、基材８１の第５面３１は、第１酸化膜９１から露出している。第４面７１は、第１逃げ面３の少なくとも一部を構成している。第１逃げ面３は、第４面７１および第５面３１を含んでいてもよい。
　（第３実施形態）
　次に、第３実施形態に係る切削工具１００の構成について説明する。第３実施形態に係る切削工具１００は、第１酸化膜９１は第２酸化膜９２から離間している構成において、第１実施形態に係る切削工具１００と異なり、その他の構成においては、第１実施形態に係る切削工具１００と同様である。以下、主に、第１実施形態に係る切削工具１００と異なる構成について説明する。
　図７は、第３実施形態に係る切削工具１００の構成を示す一部断面模式図である。図７に示される領域は、図３の領域ＩＶに対応している。図７に示されるように、第１酸化膜９１は、第２酸化膜９２から離間していてもよい。第１面１０の一部は、第１酸化膜９１から露出している。第１面１０は、第１酸化膜９１に接する第１領域１８と、第１領域１８に連なりかつ第１酸化膜９１から離間している第２領域１７とを有している。第３面５５と第２領域１７は、すくい面４を構成する。
　第５面３１の一部は、第２酸化膜９２から露出している。第５面３１は、第２酸化膜９２に接する第３領域３３と、第３領域３３に連なりかつ第２酸化膜９２から離間している第４領域３４とを有している。第７面９３と第４領域３４は、逃げ面３を構成する。第２領域１７と第４領域３４との稜線は、外周切刃７２を構成する。第２酸化膜９２は、外周切刃７２から離れるにつれて厚みが大きくなる部分を有していてもよい。
　（第４実施形態）
　次に、第４実施形態に係る切削工具１００の構成について説明する。第４実施形態に係る切削工具１００は、基材８１の第１面１０が複数の直線部により構成において、第１実施形態に係る切削工具１００と異なり、その他の構成においては、第１実施形態に係る切削工具１００と同様である。以下、主に、第１実施形態に係る切削工具１００と異なる構成について説明する。
　図８は、第４実施形態に係る切削工具１００の構成を示す第１断面模式図である。図８に示される領域は、図３の領域ＩＶに対応している。図８においては、基材８１のみが示されており、酸化膜は示されていない。
　図８に示されるように、軸線Ａに垂直な断面において、第１面１０は、複数の直線部によって構成されている。複数の直線部は、たとえば、第１直線部１１と、第２直線部１２と、第３直線部１３と、第４直線部１４とを有している。第１直線部１１は、第１逃げ面３に連なっている。第１直線部１１は、第５面３１に対して傾斜している。第１直線部１１と、第５面３１との境界は、第１稜線２０である。第２直線部１２は、第１直線部１１に対して傾斜している。第２直線部１２は、第１直線部１１に連なっている。第２直線部１２は、第１直線部１１に対して、第５面３１と反対側に位置している。別の観点から言えば、第１直線部１１は、第２直線部１２と第５面３１との間に位置している。
　第３直線部１３は、第２直線部１２に対して傾斜している。第３直線部１３は、第２直線部１２に連なっている。第３直線部１３は、第２直線部１２に対して、第１直線部１１と反対側に位置している。別の観点から言えば、第２直線部１２は、第３直線部１３と第１直線部１１との間に位置している。第４直線部１４は、第３直線部１３に対して傾斜している。第４直線部１４は、第３直線部１３に連なっている。第４直線部１４は、第３直線部１３に対して、第２直線部１２と反対側に位置している。別の観点から言えば、第３直線部１３は、第４直線部１４と第２直線部１２との間に位置している。
　複数の直線部の内、隣り合う２つの直線部によって形成される角度は、第５面３１から離れるにつれて小さくなっていてもよい。具体的には、第１直線部１１と第２直線部１２とにより形成される第１角度θ１は、第２直線部１２と第３直線部１３とにより形成される第２角度θ２よりも大きくてもよい。第２直線部１２と第３直線部１３とにより形成される第２角度θ２は、第３直線部１３と第４直線部１４とにより形成される第３角度θ３よりも大きくてもよい。第１角度θ１は、たとえば１４０°以上１８０°未満である。第１角度θ１の下限は、特に限定されないが、たとえば１５０°以上であってもよいし、１６０°以上であってもよい。第１角度θ１の上限は、特に限定されないが、たとえば１７８°以下であってもよいし、１７５°以下であってもよい。
　第１直線部１１と第２直線部１２との境界は、第１位置Ｘ１である。第２直線部１２と第３直線部１３との境界は、第２位置Ｘ２である。第３直線部１３と第４直線部１４との境界は、第３位置Ｘ３である。第１直線部１１の長さ（外周切刃７２と第１位置Ｘ１との直線距離）は、第２直線部１２の長さ（第１位置Ｘ１と第２位置Ｘ２との直線距離）よりも大きくてもよい。第２直線部１２の長さ（第１位置Ｘ１と第２位置Ｘ２との直線距離）は、第３直線部１３の長さ（第２位置Ｘ２と第３位置Ｘ３との直線距離）よりも大きくてもよい。
　回転方向において、外周切刃７２と第１位置Ｘ１との距離（第１距離ａ１）は、第１位置Ｘ１と第２位置Ｘ２との距離（第２距離ａ２）と同じであってもよい。径方向において、第１位置Ｘ１と第２位置Ｘ２との距離（第２距離ａ２）は、第２位置Ｘ２と第３位置Ｘ３との距離（第３距離ａ３）と同じであってもよい。
　図９は、第４実施形態に係る切削工具１００の構成を示す第２断面模式図である。図９に示される領域は、図３の領域Ｖに対応している。図９においては、基材８１のみが示されており、酸化膜は示されていない。
　図９に示されるように、軸線Ａに垂直な断面において、第８面４０は、たとえば複数の直線部によって構成されていてもよい。第８面４０は、たとえば、第５直線部４１と、第６直線部４２と、第７直線部４３と、第８直線部４４とを有している。第５直線部４１は、第５面３１に対して傾斜している。第５直線部４１は、第２稜線５に連なっている。第６直線部４２は、第５直線部４１に対して傾斜している。第６直線部４２は、第５直線部４１に連なっている。第６直線部４２は、第５直線部４１に対して、第２稜線５と反対側に位置している。別の観点から言えば、第５直線部４１は、第６直線部４２と第２稜線５との間に位置している。
　第７直線部４３は、第６直線部４２に対して傾斜している。第７直線部４３は、第６直線部４２に連なっている。第７直線部４３は、第６直線部４２に対して、第５直線部４１と反対側に位置している。別の観点から言えば、第６直線部４２は、第７直線部４３と第５直線部４１との間に位置している。第８直線部４４は、第７直線部４３に対して傾斜している。第８直線部４４は、第７直線部４３に連なっている。第８直線部４４は、第７直線部４３に対して、第６直線部４２と反対側に位置している。別の観点から言えば、第７直線部４３は、第８直線部４４と第６直線部４２との間に位置している。
　第５直線部４１と第６直線部４２とにより形成される第４角度θｎ－１は、第６直線部４２と第７直線部４３とにより形成される第５角度θｎ－２よりも大きくてもよい。第６直線部４２と第７直線部４３とにより形成される第５角度θｎ－２は、第７直線部４３と第８直線部４４とにより形成される第６角度θｎ－３よりも大きくてもよい。
　第５直線部４１と第６直線部４２との境界は、第４位置Ｘｎ－１である。第６直線部４２と第７直線部４３との境界は、第５位置Ｘｎ－２である。第７直線部４３と第８直線部４４との境界は、第６位置Ｘｎ－３である。第５直線部４１の長さ（第２稜線５と第４位置Ｘｎ－１との直線距離）は、第６直線部４２の長さ（第４位置Ｘｎ－１と第５位置Ｘｎ－２との直線距離）よりも大きくてもよい。第６直線部４２の長さ（第４位置Ｘｎ－１と第５位置Ｘｎ－２との直線距離）は、第７直線部４３の長さ（第５位置Ｘｎ－２と第６位置Ｘｎ－３との直線距離）よりも大きくてもよい。
　回転方向において、第２稜線５と第４位置Ｘｎ－１との距離（第４距離ｂ１）は、第４位置Ｘｎ－１と第５位置Ｘｎ－２との距離（第５距離ｂ２）と同じであってもよい。径方向において、第４位置Ｘｎ－１と第５位置Ｘｎ－２との距離（第５距離ｂ２）は、第５位置Ｘｎ－２と第６位置Ｘｎ－３との距離（第６距離ｂ３）と同じであってもよい。
　図１０は、隣り合う２つの直線部により形成される角度と、周方向の位置との関係を示す図である。図１０に示されるように、第１面１０においては、第１稜線２０から第８面４０に向かうにつれて、隣り合う２つの直線部により形成される角度は単調に減少してもよい。軸線Ａに垂直な断面において、第１面１０は、たとえば５以上の直線部によって構成されていてもよい。同様に、第８面４０においては、第２稜線５から第１面１０に向かうにつれて、隣り合う２つの直線部により形成される角度は単調に減少してもよい。軸線Ａに垂直な断面において、第８面４０は、たとえば５以上の直線部によって構成されていてもよい。軸線Ａに垂直な断面において、第１切屑排出溝１に対向する基材８１の表面は、複数の直線部によって構成されていてもよい。
　直線部の数の下限は、特に限定されないが、たとえば１０以上であってもよいし、２０以上であってもよい。直線部の数の上限は、特に限定されないが、たとえば５０以下であってもよいし、４０以下であってもよい。
　図１０に示されるように、第１面１０において、隣り合う２つの直線部によって形成される角度の最大値と、隣り合う２つの直線部によって形成される角度の最小値との差（角度差Ｂ）は、たとえば８°以上である。角度差Ｂの下限は、特に限定されないが、たとえば１０°以上であってもよいし、１２°以上であってもよい。角度差Ｂの上限は、特に限定されないが、たとえば３０°以下であってもよい。
　図１１は、第４実施形態に係る切削工具１００の構成を示す一部断面模式図である。図１１に示される領域は、図３の領域ＩＶに対応している。
　図１１に示されるように、軸線Ａに垂直な断面において、第４実施形態に係る切削工具１００は、基材８１と、第１酸化膜９１と、第２酸化膜９２とを有している。第１面１０は、すくい面４に対向している。第１酸化膜９１は、第２面５６と、第３面５５とを有している。第２面５６は、第１面１０に接している。第３面５５は、第２面５６の反対側にある。第３面５５は、すくい面４である。
　基材８１は、第５面３１を有している。第５面３１は、第１面１０に連なっている。第５面３１は、逃げ面３に対向している。第２酸化膜９２は、逃げ面３を構成している。第２酸化膜９２は、第５面３１に接する第６面５７と、第６面５７と反対側の第７面９３とを有している。第７面９３は、逃げ面３である。
　図１１に示されるように、軸線Ａに垂直な断面において、すくい面４は、複数の直線部により構成されていてもよい。すくい面４は、第９直線部５１と、第１０直線部５２と、第１１直線部５３と、第１２直線部５４とを有していてもよい。第９直線部５１は、第１直線部１１に対向している。第１０直線部５２は、第２直線部１２に対向している。第１１直線部５３は、第３直線部１３に対向している。第１２直線部５４は、第４直線部１４に対向している。
　第９直線部５１は、第１逃げ面３に連なっている。第９直線部５１は、第１逃げ面３に対して傾斜している。第９直線部５１と、第１逃げ面３との境界は、外周切刃７２である。第１０直線部５２は、第９直線部５１に対して傾斜している。第１０直線部５２は、第９直線部５１に連なっている。第１０直線部５２は、第９直線部５１に対して、第１逃げ面３と反対側に位置している。別の観点から言えば、第９直線部５１は、第１０直線部５２と第１逃げ面３との間に位置している。
　第１１直線部５３は、第１０直線部５２に対して傾斜している。第１１直線部５３は、第１０直線部５２に連なっている。第１１直線部５３は、第１０直線部５２に対して、第９直線部５１と反対側に位置している。別の観点から言えば、第１０直線部５２は、第１１直線部５３と第９直線部５１との間に位置している。第１２直線部５４は、第１１直線部５３に対して傾斜している。第１２直線部５４は、第１１直線部５３に連なっている。第１２直線部５４は、第１１直線部５３に対して、第１０直線部５２と反対側に位置している。別の観点から言えば、第１１直線部５３は、第１２直線部５４と第１０直線部５２との間に位置している。
　（第５実施形態）
　次に、第５実施形態に係る切削工具１００の構成について説明する。第５実施形態に係る切削工具１００は、第２酸化膜９２を有していない構成において、第４実施形態に係る切削工具１００と異なり、その他の構成においては、第４実施形態に係る切削工具１００と同様である。以下、主に、第４実施形態に係る切削工具１００と異なる構成について説明する。
　図１２は、第５実施形態に係る切削工具１００の構成を示す一部断面模式図である。図１２に示される領域は、図３の領域ＩＶに対応している。図１２に示されるように、第１酸化膜９１は、第２面５６と第３面５５とを繋ぐ第４面７１をさらに含んでいてもよい。第１酸化膜９１の第４面７１は、基材８１の第５面３１に沿って設けられている。第３面５５と第４面７１との稜線は、外周切刃７２を構成している。第５面３１上には、酸化膜が設けられていない。別の観点から言えば、基材８１の第５面３１は、第１酸化膜９１から露出している。第４面７１は、第１逃げ面３の少なくとも一部を構成している。第１逃げ面３は、第４面７１および第５面３１を含んでいてもよい。
　（第６実施形態）
　次に、第６実施形態に係る切削工具１００の構成について説明する。第６実施形態に係る切削工具１００は、第１酸化膜９１は第２酸化膜９２から離間している構成において、第４実施形態に係る切削工具１００と異なり、その他の構成においては、第４実施形態に係る切削工具１００と同様である。以下、主に、第４実施形態に係る切削工具１００と異なる構成について説明する。
　図１３は、第６実施形態に係る切削工具１００の構成を示す一部断面模式図である。図１３に示される領域は、図３の領域ＩＶに対応している。図１３に示されるように、第１酸化膜９１は、第２酸化膜９２から離間していてもよい。第１面１０の一部は、第１酸化膜９１から露出している。第１面１０は、第１酸化膜９１に接する第１領域１８と、第１領域１８に連なりかつ第１酸化膜９１から離間している第２領域１７とを有している。第３面５５と第２領域１７は、すくい面４を構成する。第２領域１７は、第１直線部１１の一部であってもよい。
　第５面３１の一部は、第２酸化膜９２から露出している。第５面３１は、第２酸化膜９２に接する第３領域３３と、第３領域３３に連なりかつ第２酸化膜９２から離間している第４領域３４とを有している。第２酸化膜９２は、第５面３１に接する第６面５７と、第６面５７と反対側の第７面９３とを有している。第７面９３と第４領域３４は、逃げ面３を構成する。第２領域１７と第４領域３４との稜線は、外周切刃７２を構成する。第２酸化膜９２は、外周切刃７２から離れるにつれて厚みが大きくなる部分を有していてもよい。
　上記実施形態において、切削工具１００は、たとえば回転切削工具であり、より特定的には、多刃回転切削工具である。切削工具１００は、たとえばエンドミルであるが、エンドミルに限定されない。切削工具１００は、たとえばリーマであってもよいし、ドリルであってもよいし、タップであってもよい。切削工具１００は、たとえば旋削工具であってもよい。切削工具１００は、スローアウェイチップであってもよい。
　次に、本実施形態に係る切削工具１００の作用効果について説明する。
　図１４は、第４実施形態に係る切削工具１００を用いて切削加工を行っている状態を示す断面模式図である。図１４に示されるように、切削工具１００の切刃７２で切削された被削材６０の切屑６１は、すくい面４に接触しながら排出される。切屑６１とすくい面４との摩擦力が高い場合には、切屑６１がすくい面４に溶着することがある。切屑６１の溶着に起因して、切刃７２が折損することがある。
　本開示に係る切削工具１００によれば、第１酸化膜９１を有している。第１酸化膜９１は、第１面１０に接する第２面５６と、第２面５６の反対側にある第３面５５とを有している。第３面５５は、すくい面４の少なくとも一部を構成している。つまり、すくい面４の少なくとも一部は、第１酸化膜９１により構成されている。これにより、すくい面４の潤滑性を向上することができる。結果として、切屑６１がすくい面４に溶着することを抑制することができる。従って、切刃７２が折損することを抑制することができる。
　また本開示に係る切削工具１００によれば、軸線Ａに垂直な断面において、基材８１の第１面１０は、複数の直線部によって構成されていてもよい。具体的には、軸線Ａに垂直な断面において、第１面１０は、第１直線部１１と、第１直線部１１に対して傾斜しかつ第１直線部１１に連なる第２直線部１２と、第２直線部１２に対して傾斜しかつ第２直線部１２に連なる第３直線部１３とを有していてもよい。切屑６１がすくい面４上を移動する際、切屑６１は、ある曲率でカールしている。そのため、カールしている切屑６１と、第１直線部１１に対向する第９直線部５１と、第２直線部１２に対向する第１０直線部５２との境界との間に隙間９が形成される。同様に、カールしている切屑６１と、第２直線部１２に対向する第１０直線部５２と、第３直線部１３に対向する第１１直線部５３との境界との間に隙間９が形成される。被削材６０を切削する際、クーラントは毛細管現象により上記隙間９に引き込まれる。これにより、クーラントを切削点近傍に効果的に輸送しかつ保持することができる。結果として、切屑６１とすくい面４との摩擦力を低減することができる。従って、切刃７２が折損することを抑制することができる。
　（サンプル準備）
　まず、サンプル１～９の切削工具１００が準備された。サンプル１～８の切削工具１００は、実施例に係るエンドミルである。サンプル９の切削工具１００は、比較例に係るエンドミルである。超硬合金製のシャンク部の先端に基材８１がロウ付けされている。基材８１は、ｃＢＮ焼結体により構成されている。サンプル１～８の切削工具１００においては、基材８１に酸化膜が形成されている。サンプル９の切削工具１００においては、基材８１に酸化膜が形成されていない。
　サンプル１の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、５μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、８μｍとした。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２は、ＰＶＤを用いて基材８１上にコーティングされた（図１１参照）。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の各々は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２との積層構造とした。
　サンプル２の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、５μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、８μｍとした。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２は、ＰＶＤを用いて基材８１上にコーティングされた（図１１参照）。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の各々は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２との積層構造とした。第２酸化膜９２をコーティング後に第１逃げ面３に対して表面処理をすることで、第２酸化膜９２の厚みを薄くした。
　サンプル３の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、５μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、１μｍとした。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２は、ＰＶＤを用いて基材８１上にコーティングされた。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の各々は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２との積層構造とした。第２酸化膜９２をコーティング後に第１逃げ面３に対して表面処理をすることで、第２酸化膜９２の厚みを薄くした（図１１参照）。
　サンプル４の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、５μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、０μｍとした。第１酸化膜９１は、ＰＶＤを用いて基材８１上にコーティングされた。第１酸化膜９１は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２との積層構造とした。第２酸化膜９２をコーティング後に第１逃げ面３に対して表面処理をすることで、第２酸化膜９２を除去した。第１逃げ面３は、基材８１により構成されている（図１２参照）。
　サンプル５の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、２μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、１μｍとした。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２は、レーザーを用いて基材８１を表面処理することで、基材８１に含まれている元素を酸化することにより形成した（図１１参照）。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の各々は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２とを含んでいる。
　サンプル６の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、２μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、０．５μｍとした。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２は、レーザーを用いて基材８１を表面処理することで、基材８１に含まれている元素を酸化することにより形成した（図１１参照）。第１酸化膜９１および第２酸化膜９２の各々は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２とＣｏＯとを含んでいる。
　サンプル７の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、２μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、０μｍとした。第１酸化膜９１は、レーザーを用いて基材８１を表面処理することで、基材８１に含まれている元素を酸化することにより形成した（図１２参照）。第１酸化膜９１は、Ａｌ２Ｏ３とＴｉＯ２とＣｏＯとを含んでいる。
　サンプル８の切削工具１００においては、第１すくい面４を構成する第１酸化膜９１の厚みは、２μｍとした。第１逃げ面３を構成する第２酸化膜９２の厚みは、０μｍとした。第１酸化膜９１は、レーザーを用いて基材８１を表面処理することで、基材８１に含まれている元素を酸化することにより形成した（図１２参照）。第１酸化膜９１は、ＴｉＯ２とＣｏＯとＷ２Ｏ３とを含んでいる。
　（評価方法）
　次に、サンプル１～９の切削工具１００を用いて被削材６０を加工した（図１４参照）。被削材６０は、Ｔｉ－６Ａｌ－４Ｖとした。切削速度（Ｖｃ）は、５００ｍｍ／分とした。送り量（ｆ）は、０．０１５ｍｍ／刃とした。横方向の切込み量（Ａｅ）は、０．０５ｍｍとした。軸方向の切込み量（Ａｐ）は、０．５ｍｍとした。クーラントは、２０倍希釈のエマルジョンとした。
　（評価結果）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１は、サンプル１～９の切削工具１００を用いて被削材６０を加工した場合における工具寿命を示している。工具寿命は、加工を開始した時点から切刃７２が欠損するまでの時間である。表１に示されるように、サンプル１～８の切削工具１００を用いて被削材６０を加工した場合における工具寿命は、１８分以上３８分以下であった。一方、サンプル９の切削工具１００を用いて被削材６０を加工した場合における工具寿命は、９分であった。以上の結果より、軸線Ａに垂直な断面において、すくい面４を第１酸化膜９１で構成することにより、切刃７２の欠損を抑制可能であることが実証された。
　今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
　１　第１切屑排出溝、２　第２切屑排出溝、３　逃げ面（第１逃げ面）、４　すくい面（第１すくい面）、５　第２稜線、６　テール部、７　シャンク部、８　接合部、９　隙間、１０　第１面、１１　第１直線部、１２　第２直線部、１３　第３直線部、１４　第４直線部、１５　第２すくい面、１７　第２領域、１８　第１領域、２０　第１稜線、２１　底切刃、３０　第２逃げ面、３１　第５面、３３　第３領域、３４　第４領域、４０　第８面、４１　第５直線部、４２　第６直線部、４３　第７直線部、４４　第８直線部、４５　第２切屑排出面、５０　第１切屑排出面、５１　第９直線部、５２　第１０直線部、５３　第１１直線部、５４　第１２直線部、５５　第３面、５６　第２面、５７　第６面、５８　前端、５９　後端、６０　被削材、６１　切屑、７１　第４面、７２　切刃（外周切刃）、８０　酸化物層、８１　基材、９０　刃部、９１　第１酸化膜、９２　第２酸化膜、９３　第７面、１００　切削工具、Ａ　軸線、Ｂ　角度差、Ｌ１　第１長さ、Ｌ２　第２長さ、Ｒ　回転方向、Ｘ１　第１位置、Ｘ２　第２位置、Ｘ３　第３位置、Ｘｎ－１　第４位置、Ｘｎ－２　第５位置、Ｘｎ－３　第６位置、ａ１　第１距離、ａ２　第２距離、ａ３　第３距離、ｂ１　第４距離、ｂ２　第５距離、ｂ３　第６距離、θ１　第１角度、θ２　第２角度、θ３　第３角度、θｎ－１　第４角度、θｎ－２　第５角度、θｎ－３　第６角度。

Claims (10)

  1. 　すくい面と、
    　前記すくい面に連なる逃げ面と、
    　前記すくい面に対向する第１面を有する基材と、
    　前記第１面に接する第２面と、前記第２面の反対側にある第３面とを有する第１酸化膜とを備え、
    　前記すくい面と前記逃げ面との稜線は、切刃を構成し、
    　前記第３面は、前記すくい面の少なくとも一部を構成する、切削工具。
  2. 　前記第１酸化膜は、前記第２面と前記第３面とを繋ぐ第４面をさらに含み、
    　前記第４面は、前記逃げ面の少なくとも一部を構成し、
    　前記第３面と前記第４面との稜線は、前記切刃を構成する、請求項１に記載の切削工具。
  3. 　前記第１酸化膜は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含む、請求項１または請求項２に記載の切削工具。
  4. 　前記逃げ面の少なくとも一部を構成する第２酸化膜をさらに備え、
    　前記第２酸化膜の厚みは、前記第１酸化膜の厚みよりも小さい、請求項１に記載の切削工具。
  5. 　前記第１酸化膜は、前記第２酸化膜に連なっている、請求項４に記載の切削工具。
  6. 　前記第１酸化膜は、前記第２酸化膜から離間している、請求項４に記載の切削工具。
  7. 　前記第１酸化膜は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含む、請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の切削工具。
  8. 　前記第２酸化膜は、アルミニウム、チタン、クロム、ジルコニウム、コバルトおよびタングステンの少なくともいずれかを含む、請求項４から請求項７のいずれか１項に記載の切削工具。
  9. 　前記基材は、立方晶窒化硼素を含む、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の切削工具。
  10. 　前記切削工具は、多刃回転切削工具である、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の切削工具。
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