TWI722798B

TWI722798B - 噴頭結構以及灑水裝置

Info

Publication number: TWI722798B
Application number: TW109105201A
Authority: TW
Inventors: 羅順南
Original assignee: 源美股份有限公司
Priority date: 2020-02-18
Filing date: 2020-02-18
Publication date: 2021-03-21
Also published as: TW202132002A

Abstract

一種噴頭結構，噴頭結構的腔室設置軸心連通出水口、以及調整元件，其中，噴頭結構提供直射水流或旋轉水流的出水口為同一個；以及，調整元件是可轉動地切換，以使軸心於腔室中旋轉或不旋轉。

Description

噴頭結構以及灑水裝置

本發明係關於一種噴頭結構以及灑水裝置，更精確的說，係關於一種整合以輸出直射水流或旋轉水流的噴頭結構以及灑水裝置。

習用的旋轉噴頭，例如US9931652，殼體(2)內部設置一錐狀腔室(3)以容納圓柱形的一軸心(12)，該軸心(12)的一端設有出水口(14)連接於噴水槍的出水端(6)，並且該軸心(25)的圓周面靠抵於錐狀腔室(3)的內壁，使得該軸心(12)呈現偏離錐狀腔室(3)長軸向的傾斜設置。藉此，當水流流入該腔室(3)時，側向水流將會驅動軸心(12)產生旋轉，使得通過軸心(12)而流出該出水端(6)的水流為360度的旋轉水流。

若要整合噴頭以提供旋轉水流與直線水流，如TW I611846，是透過在噴頭的二側產生側向迴旋流道(6c)，且側向水流的開口(6b)也分別設置於直線水流的開口的(6a)兩端。

本發明提供一種噴頭結構，噴頭結構的腔室設置軸心連通出水口、以及調整元件，其中，噴頭結構提供直射水流或旋轉水流的出水口為同一個；以及，調整元件是可轉動地切換，以使軸心於腔室中旋轉或不旋轉。

進一步地，腔室的入水口具有固定底座以及活動底座。調整元件略呈T狀，具有定位區域、以及止檔區域自定位區域的中間段突出，定位區域樞接於活動底座且抵靠固定底座，使止檔區域止檔或形成軸心的入水端的環型軌道。

進一步地，活動底座具有一定位穿孔，且定位穿孔的側壁凹陷形成樞接孔，調整元件的定位區域具有一軸心安裝於樞接孔，使止檔區域能於定位穿孔中擺動。調整元件的定位區域的相反二側外緣的至少一部分抵靠於固定底座以及活動底座，以切換止檔區域的擺動角度。此外，止檔區域相對於定位區域的軸心為不對稱設置，活動底座的轉軸與調整元件的軸心垂直。

因此，可以透過旋轉活動底座，使固定底座與活動底座之間的調整元件產生偏轉，而切換止檔區域的擺動角度。此時，調整元件的止檔區域可以與活動底座的一部分共同形成環型軌道的內緣，或者，調整元件的止檔區域突出於環型軌道之中，使軸心入水端無法在腔室內旋轉。由於噴頭結構可以從同一個出水口輸出直射水流或旋轉水流，噴頭結構的內部流道可以具有簡化的結構。

本發明再提供一種灑水裝置，其設有一噴水單元由一安裝座與一殼體組裝而成，安裝座與殼體共同定義一腔室。其中，噴水單元提供直射水流或旋轉水流的出水口為同一個；以及，調整元件設置於腔室內，是可轉動地切換形成直射水流或旋轉水流。

本發明再提供一種灑水裝置，其設有一噴水單元由一安裝座與一殼體組裝而成，安裝座與殼體共同定義一腔室。其中，調整元件相對於殼體以及安裝座間隔設置，以止檔或形成腔室內一軸心之入水端的一環型軌道。

以下說明是以灑水裝置的出水口為前方而進行描述，以符合本領域技術人員的通常理解。

請參閱圖1至圖4，繪示一灑水裝置的噴水單元100，該噴水單元100主要由調整座10與安裝座11前後對應組裝而成，調整座10與安裝座11分別具有一出水口101(如圖5所示)與一入水口102(如圖5所示)，入水口102連通一水源；此外，噴水單元100內部設有一噴頭結構，使得來自水源的水先流入入水口102，流經噴頭結構的腔室17，最後從出水口101噴出。

噴頭結構是由殼體15、軸心20、固定底座40、活動底座50與調整元件60所組成。其中，該殼體15概呈管狀，殼體15前端卡合於調整座10內壁，使得殼體15能夠與調整座10同步轉動，且殼體15的前方開口定位於出水口101，殼體15的後端接設於安裝座11，因此，殼體15可以受調整座10帶動而與安裝座11相對轉動。此外，安裝座11與殼體15共同定義一腔室17以容設軸心20、固定底座40與活動底座50。

固定底座40具有環型底座41、中心底座45與環型底座41間隔設置、複數個導流片43連接環型底座41與中心底座45。固定底座40還具有複數個齒部47自環型底座41朝向入水口102的方向凸出，以定位於安裝座11的定位件12(如圖5所示)，使固定底座40與安裝座11的入水口102間隔設置。環型底座41的外環壁凹設一弧形導槽並定義二操作區域421,422。固定底座40的中心底座45形成一圓形凹槽451。圓形凹槽451具有一中間平台465從槽底中心凸設；一低平台461與中間平台465的底部等高；一高平台462與中間平台465的頂部等高；以及二斜面463位於低平台461與高平台462之間，因此，低平台461、高平台462以及二斜面463形成環繞中間平台465週向的一連續面。

活動底座50具有環型底座51，環型底座51的外環壁具有徑向凹設一導槽52，使活動底座50定位於殼體15後方開口凸設的一定位件16，因此，活動底座50與殼體15能同步轉動，安裝時，殼體15後方開口還抵接固定底座40的一外環部分，使殼體15的定位件16匹配於固定底座40弧形導槽二操作區域421,422的其中一個，且使固定底座40以及活動底座50鄰近腔室17的入水口。活動底座50還具有中心底座55與環型底座51間隔設置；以及複數個導流片53沿著中心底座55的徑向延伸至環型底座51，且該等導流片53分別與中心底座55相切預定角度，因此，水流流經活動底座50時形成旋流。

活動底座50的中心底座55的軸心具有一凸柱54朝向出水口101，一定位結構57凸出朝向入水口102，以及一定位穿孔56相對於中心底座55的軸心是偏心設置且貫穿定位結構57。定位結構57具有一外環壁571符合固定底座40的中心底座45的圓形凹槽451的內環壁，一矩形槽體572從定位結構57的底部凹陷且沿著定位結構57徑向設置，以及二樞接槽575位於定位結構57的底部且相對於該矩形槽體572為間隔設置。於本實施態樣中，活動底座50的凸柱54與環型底座51之間定義一環型軌道，凸柱54的側壁凹陷形成定位穿孔56的一部份。定位穿孔56與矩形槽體572連通，使矩形槽體572的槽底形成不對稱且形成擋面573,574(如圖5所示)相互間隔，二樞接槽575形成的軸向與活動底座50的轉軸垂直。

軸心20為管狀，軸心20的出水端連通殼體15的前方開口，且出水端凸設複數個導引件28與殼體15的內環壁凹凸配合，軸心20的入水端的凸設一柱體25位於活動底座50的環型軌道，因此，軸心20相對於出水方向為偏心設置(即軸心20向後向外傾斜)。水源可以從安裝座11的入水口102流經固定底座40的導流片43，沿著活動底座50的導流片53形成旋流，使軸心20沿著環型軌道轉動且不產生自轉，水流再從軸心20的入水端進入，並從殼體15的前方開口噴出。

調整元件60略呈T狀，具有一定位區域62以及一止檔區域63自定位區域62的一側中間段突出，定位區域62遠離止檔區域63的另一側具有二側面651,652形成的V形外緣、以及二凸塊661,662從定位區域62的另一側的二端朝向圓形凹槽451突出。定位區域62還具有一定位軸61鄰近V形外緣的凸起位置，且止檔區域63相對於定位區域62的定位軸61為不對稱設置。調整元件60的止檔區域63穿設於定位穿孔56，使定位區域62位於矩形槽體572，定位軸61安裝於樞接槽575，V形外緣二側面651,652的其中一個接觸固定底座40的中間平台465，二凸塊661,662的其中一個接觸固定底座40的高平台462。由於定位穿孔56大於止檔區域63，因此，調整元件60能沿著定位軸61的擺動。

請一併參閱圖5及圖6，繪示殼體15透過活動底座50帶動調整元件60轉動與擺動，以形成直線水流或旋轉水流的狀態。於圖5繪示的狀態中，殼體15的定位件16卡止於弧形導槽的操作區域422，使調整元件60的凸塊661抵頂於中心底座45的高平台462。因此，止檔區域63位於定位穿孔56的外側，且止檔區域63同時位於環型軌道之中而限制軸心20的轉動，因此，出水口101提供直射水流。此時，調整元件60的定位區域62的側面652接觸固定底座40的中間平台465，定位區域62的凸塊662位於低平台461形成的間隔，與止檔區域63同側的定位區域62的一側面抵頂於活動底座50的定位結構57的擋面574，換言之，以定位軸61為中心的定位區域62的二端在相反二側分別抵靠於固定底座40與活動底座50，使調整元件60停止擺動。

當殼體15定位件16從弧形導槽的操作區域422切換至操作區域421時，調整元件60的凸塊661將沿著中心底座45的斜面463下滑至低平台461形成的間隔，調整元件60的凸塊662上升至高平台462，形成圖6繪示的狀態。因此，止檔區域63向定位穿孔56的內側擺動，使止檔區域63的內側面642進入凸柱54的凹陷側壁，且凸柱54的外表面與止檔區域63的外側面641共同形成環型軌道的內環面，使軸心20能於腔室17內轉動，於出水口101提供旋轉水流。此時，調整元件60的定位區域62的側面651接觸固定底座40的中間平台465，定位區域62的凸塊661位於低平台461形成的間隔，與止檔區域63同側的定位區域62的一側面抵頂於活動底座50的定位結構57的擋面573，使調整元件60停止擺動。

於本實施態樣中，調整元件60完全位於殼體15以及安裝座11的內部，透過固定底座40與活動底座50的相對轉動使調整元件60產生擺動，使調整元件60的止檔區域63止檔或形成軸心20入水端的環型軌道，因此，水源流經噴水單元100能透過同一個出水口101選擇地提供直射水流或旋轉水流，且噴頭結構的內部流道可以具有簡化的結構。

於本實施態樣中，軸心20的出水端的複數個導引件28定位於殼體15的複數個凹槽，使軸心20不產生自轉，以於出水口101產生線性旋轉水流。然而，軸心20的出水端也可以只抵靠出水口101，使軸心20旋轉，以於出水口101產生錐狀水流。

於本實施態樣中，調整元件60的止檔區域63具有外側面641與內側面642分別定位於定位穿孔56的內側與外側，定位區域62與止檔區域63同側的一側面分別定位於矩形槽體572的擋面573,574，定位區域62的V型外緣二側面651,652的其中一個定位固定底座40的中間平台465，定位區域62二端的凸塊661、662分別定位於中心底座45的高平台462，藉此停止調整元件60的擺動。然而，在其他實施態樣中，也可以從這四個位置當中選擇其中二個以抵銷調整元件60的旋轉力矩，使調整元件60的止檔區域63止檔或形成軸心20入水端的環型軌道，此外，高平台462與中間平台465也可以位於不同的高度。

於其他實施態樣中，活動底座50不設置凸柱54，定位穿孔56從活動底座50的中心底座55的軸心軸向延伸，調整元件60的定位區域62樞接於定位結構57，止檔區域63穿過定位穿孔56且可沿著定位穿孔56擺動，因此，止檔區域63本身形成環型軌道的內環面或位於環型軌道之中。

100:噴水單元 101:出水口 102:入水口 10:調整座 11:安裝座 15:殼體 12、16:定位件 17:腔室 20:軸心 25:柱體 28:導引件 40:固定底座 41:環型底座 421、422:操作區域 43:導流片 45:中心底座 451:圓形凹槽 461:低平台 462:高平台 463:斜面 465:中間平台 47:齒部 50:活動底座 51:環型底座 52:導槽 53:導流片 54:凸柱 55:中心底座 56:定位穿孔 57:定位結構 571:外環壁 572:矩形槽體 573、574:擋面 575:樞接槽 60:調整元件 61:定位軸 62:定位區域 63:止檔區域 641:外側面 642:內側面 651、652:側面 661、662:凸塊

圖1是灑水裝置的外觀圖。

圖2是噴水單元的外觀圖。

圖3是噴水單元的一元件爆炸圖。

圖4是噴水單元的另一元件爆炸圖。

圖5是灑水裝置輸出直線水流時的剖示圖。

圖6是灑水裝置輸出旋轉水流時的剖示圖。

Claims

一種噴頭結構，具有一調整元件(60)使該噴頭結構輸出一直射水流或一旋轉水流，其特徵在於，該噴頭結構的一腔室(17)具有一軸心(20)透過相同的一出水口(101)輸出該直射水流或該旋轉水流；以及該調整元件(60)具有一定位區域(62)、以及一止檔區域(63)自該定位區域(62)的中間段突出，該調整元件(60)位於該軸心(20)之入水端(25)的一環型軌道之中或者形成該環形軌道的內環面，以可轉動地切換形成該直射水流或該旋轉水流。
如請求項1所述之噴頭結構，其中該腔室(17)的一入水口(102)具有一固定底座(40)以及一活動底座(50)，該調整元件(60)的該定位區域(62)樞接於該活動底座(50)且抵靠該固定底座(40)，該止檔區域(63)位於該環形軌道之中或者形成該環型軌道的內環面。
如請求項2所述之噴頭結構，其中該定位區域(62)具有V形的一外緣(651、652)，該定位區域(62)的一定位軸(61)鄰近該外緣的凸起位置。
如請求項2所述之噴頭結構，其中該固定底座(40)具有一低平台(461)以及一高平台(462)形成連續面，該定位區域(62)的二端分別具有向外延伸的一凸塊(661、662)且其中一個該凸塊止檔於該高平台(462)。
如請求項2所述之噴頭結構，其中該活動底座(50)的一側凹陷且形成一擋面(561、562)，以定位該定位區域(62)的一側。
如請求項2項所述之噴頭結構，其中該活動底座(50)與該止檔區域(63)共同形成該環型軌道的內環面。
如請求項1所述之噴頭結構，其中該軸心(20)之入水端軸向延伸設有一柱體(25)。
如請求項2所述之噴頭結構，其中該固定底座(40)或/及該活動底座(50)具有至少一導流片(43、53)。
如請求項2所述之噴頭結構，其中該活動底座(50)的轉軸與該調整元件(60)的一定位軸(61)垂直。
一種灑水裝置，設有一噴水單元(100)由一安裝座(11)與一殼體(15)組裝而成，該安裝座(11)與該殼體(15)共同定義一腔室(17)，其特徵在於：該噴水單元(100)透過相同的一出水口(101)輸出一直射水流或一旋轉水流；以及一調整元件(60)設置於該腔室(17)內，具有一定位區域(62)、以及一止檔區域(63)自該定位區域(62)的中間段突出，該調整元件(60)位於該軸心(20)之入水端(25)的一環型軌道之中或者形成該環形軌道的內環面，以可轉動地切換形成該直射水流或該旋轉水流。
一種灑水裝置，設有一噴水單元(100)由一安裝座(11)與一殼體(15)組裝而成，該安裝座(11)與該殼體(15)共同定義一腔室(17)，其特徵在於：一調整元件(60)具有一定位區域(62)、以及一止檔區域(63)自該定位區域(62)的中間段突出，該調整元件(60)相對於該殼體(15)以及該安裝座(11)間隔設置，位於該腔室(17)內一軸心(20)之入水端(25)的一環型軌道之中或者形成該環形軌道的內環面。
如請求項12所述之灑水裝置，其中該調整元件(60)使該軸心(20)輸出一直射水流或一旋轉水流。
如請求項13所述之灑水裝置，其中該腔室(17)的一入水口(102)具有一固定底座(40)定位於該安裝座(11)以及一活動底座(50)定位於該殼體(15)，該調整元件(60)的該定位區域(62)樞接於該活動底座(50)且抵靠該固定底座(40)，該止檔區域(63)位於該環型軌道之中或者形成該環型軌道的內環面。
如請求項14所述之灑水裝置，其中該定位區域(62)的相反二側的至少一部分抵靠於該固定底座(40)以及該活動底座(50)。
如請求項14所述之灑水裝置，其中該活動底座(50)的轉軸與該調整元件(60)的一定位軸(61)垂直。
如請求項12所述之灑水裝置，其中該調整元件(60)是可轉動地切換，以位於該環型軌道之中或者形成該環型軌道的內環面。
如請求項12所述之灑水裝置，其中該噴水單元(100)透過相同的一出水口(101)輸出一直射水流或一旋轉水流。