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TWI666474B - 附保護膜之光學膜的製造方法 - Google Patents

附保護膜之光學膜的製造方法 Download PDF

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TWI666474B
TWI666474B TW104136287A TW104136287A TWI666474B TW I666474 B TWI666474 B TW I666474B TW 104136287 A TW104136287 A TW 104136287A TW 104136287 A TW104136287 A TW 104136287A TW I666474 B TWI666474 B TW I666474B
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film
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石川宙孝
加藤泰礼
坂田規光
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種附保護膜之光學膜的製造方法，其係包含在光學膜的表面貼合保護膜之步驟，且藉由貼合保護膜之步驟所得之附保護膜之光學膜係，於其寬度方向兩端部之保護膜對於光學膜的剝離力，相較於附保護膜之光學膜的其他部分為經提高者。該製造方法，較佳為在貼合保護膜之步驟之後進一步包含將寬度方向兩端部除去之步驟。

Description

附保護膜之光學膜的製造方法
本發明係有關於在光學膜表面積層保護膜而成之附保護膜之光學膜的製造方法，特別是有關於光學膜為偏光板之該製造方法。
用於液晶顯示裝置等畫像顯示裝置之光學膜有時係由複數膜所構成之積層膜。例如，屬於光學膜的一種之偏光板，一般而言，係有著在屬於光學膜之偏光片的單面或兩面貼合保護薄膜，進一步視需要積層偏光片以外之具有其他的光學機能之光學膜的構成。偏光板通常係藉由對從膜輥連續地捲出並運送之原料膜，積層同樣地從膜輥連續地捲出之其他的原料膜，而將所得之長條狀之積層膜(偏光板)捲取成輥狀，亦即輥對輥(roll to roll)方式所製造。
於輥對輥方式等的光學膜的製造方法中，當在捲取製造成長條物之偏光板等光學膜時，為了保護光學膜表面，於該捲取之前，一般係進行藉由以同樣地輥對輥方式於光學膜表面積層可剝離的保護膜(亦稱表面保護 薄膜)，而以附保護膜之光學膜之形態來進行捲取〔例如日本特開2008-275722號公報(專利文獻1)，日本特開2012-121269號公報(專利文獻2)〕。此保護膜係在光學膜製品的表面先做暫時性保護用的膜，例如在組裝畫像顯示裝置時(更具體而言，在將附保護膜之光學膜與畫像顯示元件貼合之後)被剝離除去。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2008-275722號公報
[專利文獻2]日本特開2012-121269號公報
如上所述，保護膜由於伴隨有將之從光學膜剝離除去之剝離步驟，故要求有用以防止在剝離時之靜電產生之抗靜電性能。此外，為了提高抗靜電性能並同時使剝離步驟變得容易，亦要求對光學膜之低密接性(保護膜對於光學膜的剝離力低)。但是，保護膜的低密接化卻會招致稱之為「浮起」的新問題。於本說明書中，所謂「浮起」，係指於附保護膜之光學膜製造時、或將經製造之附保護膜之光學膜予以捲取並以輥形態保管/搬運時，於其寬度方向端部，保護膜從光學膜表面部分地剝離，於該部分，保護膜會成為浮起的狀態。在附保護膜之光學膜中產生如此之「浮起」時，例如在後步驟中使附保護膜之光學膜通過夾 輥(nip roll)的時候，可能會招致侵入「浮起」的部分之空氣在夾輥間被夾擠壓縮，由於該壓縮空氣而於光學膜產生條狀的痕跡之品質不良。
在此，本發明之目的係提供一種附保護膜之光學膜的製造方法，其不僅可於附保護膜之光學膜的製造時(特別是在光學膜為偏光板的情況)抑制保護膜的「浮起」的問題，同時於保護膜的剝離步驟中，亦實現保護膜對於光學膜的低密接性，可較容易地將保護膜剝離除去。
本發明係提供以下所示之附保護膜之光學膜的製造方法。
[1]一種附保護膜之光學膜的製造方法，其係包含在光學膜的表面貼合保護膜之步驟，其中，藉由前述貼合保護膜之步驟所得之附保護膜之光學膜，於其寬度方向兩端部之前述保護膜對於前述光學膜的剝離力，相較於前述附保護膜之光學膜的其他部分為經提高者。
[2]如[1]所述之製造方法，其係在前述貼合保護膜之步驟之後，進一步包含將前述寬度方向兩端部除去之步驟。
[3]如[1]或[2]所述之製造方法，其係藉由進一步含有在前述貼合保護膜之步驟之前實施電暈處理之步驟，來提高前述剝離力。
[4]如[3]所述之製造方法，其中，前述電暈 處理係對前述光學膜實施。
[5]如[1]至[4]中任一者所述之製造方法，其中，於前述寬度方向兩端部，前述保護膜對於前述光學膜的剝離力係0.09N/25mm以上。
[6]如[1]或[2]所述之製造方法，其中，前述保護膜係包含貼合於前述表面之黏著劑層與支撐該黏著劑層之基材膜，藉由使用前述黏著劑層中之構成前述寬度方向兩端部之部分的黏著力相較於其他部分為經提高者，來提高前述剝離力。
[7]如[1]至[6]中任一者所述之製造方法，其中，前述光學膜係偏光板。
依據本發明，可提供附保護膜之光學膜的製造方法，不僅可於附保護膜之光學膜製造時或將經製造之附保護膜之光學膜予以捲取並以輥形態保管/搬運時抑制保護膜的「浮起」的問題，同時於保護膜的剝離步驟中，亦實現保護膜對於光學膜的低密接性，可較容易地將保護膜剝離除去。
亦即，依據本發明，由於光學膜與保護膜之密接性於寬度方向兩端部經提高，故在附保護膜之光學膜製造時，具體而言，在保護膜的貼合時、貼合後、附保護膜之光學膜的捲取時、及以輥狀態保管/搬運時，可抑制保護膜的「浮起」的問題，藉此亦可抑制上述之品質不良。此外，在直到實施保護膜的剝離步驟為止之期間，若從該 於寬度方向兩端部密接性經提高之附保護膜之光學膜將該寬度方向兩端部預先除去的話，於上述剝離步驟中可較容易地將保護膜剝離除去。本發明係對容易有因保護膜的「浮起」所致品質不良之偏光板特別有效。
1、1’‧‧‧附保護膜之偏光板
10、10’‧‧‧偏光板
20、20’‧‧‧保護膜
100‧‧‧偏光片
200‧‧‧第1保護薄膜
300‧‧‧第2保護薄膜
400‧‧‧黏著劑層
500‧‧‧隔離膜
A‧‧‧附保護膜之偏光板之寬度方向兩端部
第1圖(a)至(c)係顯示關於本發明之附保護膜之偏光板的製造方法之示意步驟圖。
第2圖係顯示偏光板的層構成之一例之示意剖面圖。
第3圖係用以說明浮起的評價方法之示意俯視圖。
以下，係列舉光學膜為偏光板之情況為例以更詳細地說明本發明，但本發明不限於此例，列舉光學膜為偏光板之情況為例而進行說明之以下的記載亦可適用於其他的光學膜。其他的光學膜可為單層膜或多層膜。
參照第1圖，本發明之附保護膜之偏光板的製造方法之特徵係：包含於偏光板10的表面貼合保護膜20之步驟〔第1圖(a)及(b)〕，於藉由該貼合保護膜20之步驟所得之附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部A，保護膜20對於偏光板10之剝離力，相較於附保護膜之偏光板1之其他部分為經提高者。藉由以提高於寬度方向兩端部A之上述剝離力的方式控制剝離力，貼合偏光板10與保護膜20，可抑制上述「浮起」的問題，進一步有效地抑制上述品質不良。該特徴係基於為了抑制「浮起」，不必然要提高 偏光板10與保護膜20之貼合界面全域之剝離力(密接性)，僅提高在寬度方向兩端部A之剝離力即可之想法及支持該想法之檢討結果。
此外，如此般，依據並非針對上述貼合界面之全域而是僅針對寬度方向兩端部A提高剝離力之附保護膜之偏光板1，可藉由經過所謂將寬度方向兩端部A除去之簡便步驟，而容易地得到已將寬度方向兩端部A除去之偏光板10’及保護膜20’所成之附保護膜之偏光板1’〔第1圖(c)〕。於該附保護膜之偏光板1’中，由於在保護膜20’之剝離步驟(例如，將附保護膜之偏光板1’與畫像顯示元件貼合後之剝離步驟)，可比較容易地將保護膜20’剝離除去，故可提高附保護膜之偏光板1’之抗靜電性能，同時可提升該剝離步驟之實施容易性。若將剝離力提高，並將要除去之寬度方向兩端部A設定在附保護膜之偏光板1之有效寬度範圍外的話，則不會減低附保護膜之偏光板1’之產率。
以下，顯示實施形態來詳細說明本發明之附保護膜之偏光板的製造方法。以下所示複數個實施形態，係於用以提高附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部A中之剝離力之具體的方法之處相異。
<第1實施形態>
本實施形態之附保護膜之偏光板的製造方法係依序包含下列步驟：為了使於偏光板10之表面貼合保護膜20而得之附保 護膜的偏光板1之寬度方向兩端部A，保護膜20對於偏光板10之剝離力，相較於附保護膜之偏光板1之其他部分為經提高者，而於貼合面實施表面活性化處理之步驟，以及於偏光板10之上述表面貼合保護膜20之步驟。
如上所述，較佳為，於上述貼合保護膜20之步驟之後，進一步包含將寬度方向兩端部A除去之步驟。
以下，就各步驟進行說明。
(1)實施表面活性化處理之步驟
〔偏光板〕
本步驟所使用之偏光板10的層構成，只要包含偏光片則無特別限制，但通常包含偏光片與積層貼合在其至少一面上之保護薄膜。亦可於偏光片之兩面積層貼合保護薄膜。保護薄膜通常係透過接著劑層而積層貼合在偏光片上。
偏光板10可具有偏光片及保護薄膜以外之層(或膜)。例如，一般之偏光板於市場流通上，多數為預先在偏光板外面積層有用以與畫像顯示元件(例如液晶單元)或其他的光學構件貼合之黏著劑層之附黏著劑層偏光板，然而於本發明所使用之偏光板10亦可包含如此之黏著劑層。包含黏著劑層時，通常係在黏著劑層外面積層有用以保護其表面(外面)之隔離膜(separator)。
此外，偏光板10所具有之保護薄膜，可為於其外面(與偏光片為相反側的面)具備如硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防汚層之表面處理層(塗布層) 者。進一步地偏光板10可包含除了偏光片以外之其他的具有光學機能之層或膜。其一例為相位差膜。
於第2圖顯示偏光板10的層構成之一例。第2圖所示之偏光板10包含：偏光片100；貼合於偏光片100之一面之第1保護薄膜200；貼合於偏光片100之另一面之第2保護薄膜300；積層於第2保護薄膜300之外面之黏著劑層400；積層於黏著劑層400之外面之隔離膜500。不僅具有偏光片100及保護薄膜(第1保護薄膜200、第2保護薄膜300)，還具有黏著劑層400及隔離膜500之層構成亦為本發明所使用之偏光板10之較佳層構成之一。
偏光片100係具有吸收具有平行光學軸的振動面之直線偏光並使具有垂直光學軸的振動面之直線偏光穿透之性質之光學膜，例如可為一軸延伸的經二色性色素吸附配向的聚乙烯醇系樹脂膜。二色性色素可使用碘、二色性有機染料。構成偏光片100的聚乙烯醇系樹脂，除了聚乙酸乙烯酯的皂化物之聚乙烯醇之外，亦可為乙酸乙烯酯及可與其共聚合的其他單體(例如乙稀和不飽和羧酸等)之共聚物之皂化物之乙烯醇系共聚物。偏光片100的厚度通常為5至40μm左右。
偏光片100可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂膜進行一軸延伸的步驟、將聚乙烯醇系樹脂膜使用二色性色素染色而使該二色性色素吸附的步驟、將吸附有二色性色素的聚乙烯醇系樹脂膜使用硼酸水溶液處理的步驟以及在經由硼酸水溶液的處理後進行水洗的步驟之方法而製 造。二色性色素的染色係可藉由將膜浸漬於含有二色性色素的水溶液中而進行，經由硼酸水溶液的處理係可藉由將膜浸漬於硼酸水溶液中而進行。
聚乙烯醇系樹脂膜的一軸延伸，可在二色性色素的染色前、與染色同時或染色後進行。一軸延伸在染色後進行時，該一軸延伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。而且，可在該等的複數階段進行一軸延伸。
第1及第2保護薄膜200、300可為具有透光性(較佳為光學上透明)之熱塑性樹脂膜。熱塑性樹脂之具體例可列舉，包含如鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)之聚烯烴系樹脂；聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等)；(甲基)丙烯酸系樹脂(甲基丙烯酸甲基系樹脂等)；纖維素系樹脂(如三乙酸纖維素、二乙酸纖維素之乙酸纖維素系樹脂等)；聚碳酸酯系樹脂；聚乙烯醇系樹脂；聚乙酸乙烯酯系樹脂；聚芳脂系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；及該等之混合物、共聚物。第1及第2保護薄膜200、300之厚度，例如為5至200μm左右，較佳為10至150μm，更佳為15至100μm。於本說明書中「(甲基)丙烯醯基」係意指選擇自丙烯醯基及甲基丙烯醯基之至少一者。
如第2圖所示之例，在於偏光片100之一面上具備第1保護薄膜200，另一面上具備第2保護薄膜300時，第1保護薄膜200與第2保護薄膜300可由同種之熱 塑性樹脂所構成，亦可由不同種之熱塑性樹脂所構成。
偏光片100、第1保護薄膜200及第2保護薄膜300可透過接著劑層來貼合。形成接著劑層之接著劑可使用水系接著劑(亦即，將接著劑成分溶解於水或分散在水中者)或是活性能量線硬化性接著劑。
水系接著劑之接著劑成分例如可為聚乙烯醇系樹脂或氨酯(urethane)樹脂。活性能量線硬化性接著劑，例如可為包含環氧系化合物或(甲基)丙烯酸系化合物等活性能量線硬化性化合物及聚合起始劑之硬化性組成物。活性能量線硬化性接著劑可為無溶劑型接著劑，亦可包含有機溶劑。若是使用無溶劑型之接著劑，則不需要用以除去溶劑之乾燥處理。使用活性能量線硬化性接著劑時，透過接著劑層貼合保護薄膜後，照射可見光線、紫外線、X射線、電子束等活性能量線，較佳為紫外線，以使接著劑層硬化。於是，於此情況，於偏光板10中之接著劑層係由活性能量線硬化性接著劑之硬化物所組成。
如第2圖所示之例，於偏光片100之一面上具備第1保護薄膜200，於另一面上具備第2保護薄膜300時，貼合第1保護薄膜200之第1接著劑層與貼合第2保護薄膜300之第2接著劑層，可由同種之接著劑所形成，亦可由不同種之接著劑所形成，但從製造效率的觀點來看，較佳為由同種之接著劑所形成。
黏著劑層400係可使用來用以在畫像顯示元件(例如液晶單元)或其他的光學構件貼合附保護膜之偏 光板，構成黏著劑層400之黏著劑，例如可列舉(甲基)丙烯酸系黏著劑、氨酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、聚醚系黏著劑、氟系黏著劑、橡膠系黏著劑等。其中，從透明性、黏著力、可靠度、重加工(rework)性等觀點來看，較佳係使用(甲基)丙烯酸系黏著劑。黏著劑層400的厚度通常為2至40μm。
隔離膜500係在保管/搬運、檢查附保護膜之偏光板時，以暫時保護黏著劑層400之目的而設。保護黏著劑層400之隔離膜500，例如，係在附保護膜之偏光板即將貼合於畫像顯示元件或其他的光學構件之前剝離除去。
隔離膜500通常由單面經實施離型處理之熱塑性樹脂膜所構成，該離型處理面係貼合於黏著劑層400。構成隔離膜500之熱塑性樹脂，例如可為如聚乙烯之聚乙烯系樹脂，如聚丙烯之聚丙烯系樹脂，如聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯之聚酯系樹脂等。
本步驟所使用之偏光板10之層構成不限於第2圖所示之例，例如亦可為如下列之層構成。
a)省略隔離膜500，或省略黏著劑層400及隔離膜500之構成，b)省略第1保護薄膜200及第2保護薄膜300中任一者之構成，c)使用作為第2保護薄膜300之如相位差膜之光學補 償膜之構成，d)除了第1保護薄膜200及第2保護薄膜300之外，尚具有如相位差膜之光學補償膜之構成。
上述b)之一例係省略第2保護薄膜300之構成，其合適之具體例為於偏光片100中之與第1保護薄膜200為相反側之面直接積層黏著劑層400，成為第1保護薄膜200/偏光片100/黏著劑層400/隔離膜500之層構成。
上述c)之合適之具體例係成為第1保護薄膜200/偏光片100/相位差膜(第2保護薄膜300)/黏著劑層400/隔離膜500之層構成者。上述d)之合適之具體例係成為第1保護薄膜200/偏光片100/第2保護薄膜300/相位差膜/黏著劑層400/隔離膜500之層構成者。此時，第2保護薄膜300與相位差膜例如可透過黏著劑層貼合。
相位差膜係具有一軸或二軸等之光學異向性之光學膜，例如可為熱塑性樹脂之延伸膜。熱塑性樹脂除了可為就第1及第2保護薄膜200、300而於上揭例示者以外，亦可使用聚二氟亞乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯共聚物、液晶聚酯、乙酸纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物之皂化物、聚氯乙烯等。延伸倍率通常係1.01至6倍左右。
〔保護膜〕
偏光板10所貼合之保護膜20係用以保護偏光板表面之暫時性貼合之膜，通常，例如，於畫像顯示元件或其他的光學構件貼合附保護膜之偏光板後，連同其所具有之黏著劑層一起剝離除去。
保護膜20可包含由熱塑性樹脂所構成之基材膜及設在其單面之黏著劑層。構成基材膜之熱塑性樹脂，例如可為如聚乙烯之聚乙烯系樹脂、如聚丙烯之聚丙烯系樹脂，如聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯之聚酯系樹脂等。就保護膜20所具有的黏著劑層而言，係引用關於前述之黏著劑層400之記載內容。保護膜20係透過該黏著劑層而與偏光板10之表面貼合。
〔表面活性化處理〕
在於偏光板10的表面貼合保護膜20之步驟之前所實施之表面活性化處理，可為電暈處理、電漿處理、紫外線照射處理、火焰(火炎)處理、皂化處理(例如於如氫氧化鈉或氫氧化鉀之鹼性水溶液之浸漬處理)等。其中，由於可較簡便地實施，且提高保護膜20對於偏光板10之剝離力(密接性)的效果亦為良好，故較佳係使用電暈處理、電漿處理，更佳係使用電暈處理。例如實施電暈處理時，電暈放電量變的愈大，則上述剝離力有變得愈大的傾向。電暈放電量通常為10W‧min/m2以上，要提高剝離力，有效抑制「浮起」的產生，較佳為15W‧min/m2以上。此外，電暈放電量的上限通常為80W‧min/m2以下。
表面活性化處理係僅對於偏光板10貼合保護膜20而得之附保護膜之偏光板1之欲被包含於寬度方向兩端部A中之貼合面部分進行。藉此，可得到寬度方向兩端部A之剝離力比附保護膜之偏光板1之其他部分更為提高之附保護膜之偏光板1。如此，於寬度方向兩端部A之 剝離力雖然比附保護膜之偏光板1之其他部分高，但由於該其他部分為未實施表面活性化處理的部分，所以換言之，可謂之於寬度方向兩端部A之剝離力，比未實施表面活性化處理之情況(部分)更為提高。
另外，由基材膜與設於其單面之黏著劑層所構成之保護膜20，於一實施形態中，黏著劑層的寬度比基材膜的寬度還小，且兩端部具有未形成黏著劑層之基材膜部分。於使用此般之保護膜20時，附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部A係指基材膜與偏光板透過黏著劑層而貼合之兩端部，不包含上述未形成黏著劑層之基材膜部分。該基材膜部分並未與偏光板貼合，本來就是不會產生「浮起」問題部分。
表面活性化處理較佳為至少對欲被包含於寬度方向兩端部A中之偏光板10側之貼合面部分實施。例如於使用電暈處理時，意外得知，即便對欲被包含於寬度方向兩端部A中之保護膜20側之貼合面部分實施電暈處理亦有無法確認剝離力增大的傾向。因此，實施有電暈處理之貼合面部分，較佳為至少包含欲被包含於寬度方向兩端部A中之偏光板10側之貼合面部分。
實施表面活性化處理之寬度方向兩端部A之寬度，只要可得到充份抑制「浮起」之密接性即無特別限制，每單個端部例如為1mm以上，較佳為5mm以上。該寬度的上限並無特別限制，雖然亦受到附保護膜之偏光板1的寬度的影響，但每單個端部，例如可為25mm以下， 較佳為15mm以下。
為了有效地抑制「浮起」，於寬度方向兩端部A之剝離力，較佳為設為0.09N/25mm以上，更佳為設為0.1N/25mm以上。剝離力未達0.09N/25mm時，於寬度方向兩端部A之密接性變得不充份，有無法有效地抑制「浮起」之疑慮。此外，於寬度方向兩端部A之剝離力，通常為0.20N/25mm以下。剝離力超過0.20N/25mm時，有不容易進行剝離步驟，生產效率減低之疑慮。剝離力的測定方法係依照後述之實施例項目之記載。
表面活性化處理係可對被連續地運送之原料膜(偏光板10及/或保護膜20)連續地實施。更具體而言，例如為電暈處理之情況，在被連續地運送之長條狀的偏光板10的運送路線上，可預先於偏光板10之寬度方向兩端部的位置設置電暈放電裝置，一邊連續地運送偏光板10，一邊對通過電暈放電裝置之偏光板10之寬度方向兩端部連續地進行電暈處理。
一般而言，以長條物狀態而得之附保護膜之偏光板，為了將其寬度方向長度調整為期望值，或者是為了將就製品而言在品質/外觀上難以使用的部分除去，而將寬度方向兩端部切割除去，更典型上，不僅在寬度方向上，於長度方向上亦為了調整至期望值而將之裁斷，作成為薄片體，與畫像顯示元件等貼合。於如此長條狀的附保護膜之偏光板，通常都存在有效寬度(實際上使用作為製品之寬度)，並且會除去有效寬度範圍外的寬度方向兩端部。 剝離力經提高的寬度方向兩端部A，較佳為設在該有效寬度範圍外的寬度方向兩端部內。藉此，於實施將寬度方向兩端部A除去之步驟時，縱然實施該步驟亦可防止附保護膜之偏光板1’之產率的減低。
(2)貼合保護膜20之步驟
保護膜20對偏光板10之貼合可採用以往公知之方法進行。例如，可在被連續地運送的長條狀的偏光板10之表面(例如，若為於寬度方向兩端部實施有電暈處理之偏光板，則在該實施有電暈處理之側之表面)上，配置同樣被連續地運送之長條狀的保護膜20，將該積層體通過貼合輥從上下加壓而連續地貼合保護膜20。可藉由本步驟得到第1圖(b)所示之附保護膜之偏光板1。所得長條狀的附保護膜之偏光板1可捲取成輥狀。
依據更提高寬度方向兩端部A之剝離力的本發明之方法，製造附保護膜之偏光板1時，具體而言，在保護膜20對偏光板10之貼合時、貼合後、附保護膜之偏光板1之捲取時、及以輥狀態保管/搬運時，可有效抑制保護膜20的「浮起」的問題。
(3)除去寬度方向兩端部A之步驟
於本步驟中，若將剝離力經提高之附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部A切割除去的話，可得到能較容易地將保護膜20’剝離除去之附保護膜之偏光板1’〔第1圖(c)〕。切割可使用剪切刀(shear cutter)等以往公知的裁斷(切斷)手段。如上所述，可在除去附保護膜之偏光板1之寬度 方向兩端部之同時亦裁斷長度方向，而得到具有期望尺寸之薄片體之附保護膜之偏光板1’。
在切割除去附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部時的切割寬度，只要切割除去的部分包含剝離力經提高之寬度方向兩端部A全體則無特別限制。通常係藉由此切割除去而製作具有有效寬度之附保護膜之偏光板1’。
<第2實施形態>
本實施形態之附保護膜之偏光板的製造方法係依序包括下列步驟：準備黏著劑層中之構成寬度方向兩端部A之部分之黏著力比其他部分經提高之保護膜20之步驟，以及於偏光板10之上述表面貼合保護膜20之步驟。
亦即，相對於上述第1實施形態係為了更提高附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部A之剝離力而實施表面活性化處理者，本實施形態則是為了更提高寬度方向兩端部A之剝離力，而使用在對應寬度方向兩端部A之部分之黏著劑層之黏著力經提高之保護膜20者。所屬技術領域中具有通常知識者可容易地理解到，藉由該方法，亦可得到僅寬度方向兩端部A之剝離力經提高之附保護膜之偏光板1，且可發揮與上述第1實施形態相同的作用效果。
貼合保護膜20之步驟，以及較佳為接續實施之除去寬度方向兩端部A之步驟係與上述第1實施形態相同，並引用上述第1實施形態中之記載。
本實施形態所使用之保護膜20與上述第1實施形態相同，可包含由熱塑性樹脂所成之基材膜及設在其單面之黏著劑層。本實施形態所使用之保護膜20之黏著劑層可藉由分別塗布黏著力彼此間相異之黏著劑組成物來形成，具體而言，可由設於對應附保護膜之偏光板1之寬度方向兩端部A的部分之由黏著力較高之黏著劑組成物所成之黏著劑層X，以及設在其他部分之由黏著力較低之黏著劑組成物所成之黏著劑層Y所構成。
提高黏著劑組成物之黏著力之方法，例如可列舉，提高黏著劑組成物中之樹脂成分(例如，若為(甲基)丙烯酸系黏著劑則為(甲基)丙烯酸聚合物)之分子量之方法，或在黏著劑組成物中添加增黏樹脂之方法等。
[實施例]
以下，顯示實施例及比較例以進一步具體說明本發明，但本發明不受限於該等例。於下列例子之中，附保護膜之偏光板中保護膜對於偏光板的剝離力，係依據下列方法測定。
(保護膜的剝離力)
於所得之長條狀的附保護膜之偏光板中，從包含經電暈處理之貼合界面之寬度方向端部切出尺寸25mm×150mm之試驗片。此時，試驗片係以其短邊方向與長條狀的附保護膜之偏光板的長度方向平行的方式切出。其次，從試驗片剝離隔離膜，使用試驗片所具有之黏著劑層而與玻璃基板貼合。其次，固定試驗片之偏光板側，同時使用島 津製作所股份有限公司製AGS-D型試驗機，於剝離角度180°，剝離速度300mm/min的條件下從偏光板剝離保護膜，測定剝離力(單位：N/25mm)。
<實施例1>
〔1〕偏光板的製作及表面活性化處理
從膜輥連續地捲出並運送長條狀的原料膜，進行具有第2圖所示之層構成之長條狀的偏光板10的連續製造。偏光板10之層構成係厚度60μm之第1保護薄膜200(TAC膜)/厚度25μm之偏光片100(吸附配向有碘之一軸延伸聚乙烯醇膜)/厚度50μm之第2保護薄膜300(環狀聚烯烴系樹脂所成之相位差膜)/厚度20μm之黏著劑層400((甲基)丙烯酸系黏著劑層)/厚度38μm之隔離膜500(單面經實施離型處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜)。第1保護薄膜200及第2保護薄膜300均係透過由活性能量線硬化性接著劑(包含為陽離子聚合性之環氧系化合物之硬化性化合物與光陽離子聚合起始劑之紫外線硬化性接著劑的ADEKA股份有限公司製的「KR-70T」)之硬化物所成之接著劑層而與偏光片100貼合。偏光板10之寬度係1330mm。偏光板10之有效寬度為1250mm，因此有效寬度範圍外之端部寬度，於每單個端部成為40mm。
接著將上述所得之偏光板10連續運送，同時使用2台電暈放電裝置，對第1保護薄膜200之外面的寬度方向兩端部進行電暈處理。經電暈處理之寬度方向端部的寬度與各別之兩端部，從偏光板10之有效寬度來看， 係在比該有效寬度更外側約15mm為止之範圍(比之更外側者係不存在保護膜20之黏著劑層，未貼合黏著劑層之區域)，電暈放電量係設為73W‧min/m2。
〔2〕保護膜對偏光板的貼合
從膜輥連續地捲出並運送長條狀的保護膜20((甲基)丙烯酸系黏著劑層與聚對苯二甲酸乙二酯膜所成，厚度53μm)，同時配置於上述〔1〕所得之電暈處理後之偏光板10之第1保護薄膜200之外面上，通過貼合輥並貼合保護膜20，連續製造長條狀的附保護膜之偏光板。
<實施例2至3>
除了將電暈放電量設為如表1所示以外，與實施例1相同地進行，得到附保護膜之偏光板。
<比較例1>
除了不對偏光板10而是對保護膜20之寬度方向兩端部進行電暈處理以外，與實施例1相同地進行，得到附保護膜之偏光板。另外，於表1中「Pf」係意味著保護膜。
<比較例2>
除了未實施電暈處理以外，與實施例1相同地進行，得到附保護膜之偏光板。
對實施例及比較例所得之附保護膜之偏光板，依據上述方法，測定保護膜的剝離力。結果表示於表1。此外，對實施例及比較例所得之附保護膜之偏光板，依照下列的順序評價浮起的有無，及有浮起時其大小。結果一併表示於表1。
(浮起的評價)
參考第3圖，從所得之附保護膜之偏光板，切出尺寸700mm×1330mm之試驗片。此時，試驗片係以其短邊方向與長條狀的附保護膜之偏光板的長度方向平行的方式切出。試驗片之長邊方向(1330mm)與偏光板10之寬度方向平行，與偏光板10之寬度同寬。另外，第3圖所述之「附保護膜之偏光板的一側端面」係指保護膜20所具有之黏著劑層之端面。以目視確認所得試驗片之浮起的有無的同時，針對有浮起者，將定義為從浮起的內側末端至有效端為止之距離之「浮起的侵入度L」作為指標來評價浮起大小。L愈小則評價為浮起愈大。
於實施例1至3中，於試驗片切出前之長條之附保護膜之偏光板及試驗片中均未辨認到浮起。另一方面，比較例1及2中，於試驗片切出前之長條之附保護膜之偏光板的兩端部辨認到幾乎與整個長度方向一樣的浮起，即便是於任意位置切出之上述試驗片中，比較例1及2均辨識出約20個的浮起。表1所示浮起的侵入度L係就這些約20個浮起的最大值。
以上，就附保護膜之光學膜而言，雖然列舉附保護膜之偏光板為例來說明，但亦可期待對偏光板以外之其他的光學膜的捲取時、及以輥狀態保管/搬運時，亦可抑制保護膜的「浮起」的問題，藉此抑制上述品質不良。其他的光學膜除了保護薄膜以外，可列舉相位差膜、增亮膜、防眩膜、光擴散膜、偏光片等具有光學機能之膜。

Claims (7)

  1. 一種附保護膜之光學膜的製造方法，其係包含在光學膜的表面貼合保護膜之步驟，其中，藉由前述貼合保護膜之步驟所得之附保護膜之光學膜，於其寬度方向兩端部之前述保護膜對於前述光學膜的剝離力，相較於前述附保護膜之光學膜的其他部分為經提高者。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其係在前述貼合保護膜之步驟之後，進一步包含將前述寬度方向兩端部除去之步驟。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之製造方法，其係藉由進一步含有在前述貼合保護膜之步驟之前實施電暈處理之步驟來提高前述剝離力。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之製造方法，其中，前述電暈處理係對前述光學膜實施。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之製造方法，其中，於前述寬度方向兩端部，前述保護膜對於前述光學膜的剝離力係0.09N/25mm以上。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之製造方法，其中，前述保護膜係包含貼合於前述表面之黏著劑層與支撐該黏著劑層之基材膜，藉由使用前述黏著劑層中之構成前述寬度方向兩端部之部分的黏著力相較於其他部分為經提高者，來提高前述剝離力。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之製造方法，其中，前述光學膜係偏光板。
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