TWD213081S - 半導體製造裝置用反應管（一） - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計物品如表示使用狀態的參考剖面圖所示，係在半導體製造之成膜過程中設置在成膜裝置內，會使製品晶圓與氣體反應的管。具體而言，在本設計物品內積層有製品晶圓的狀態下使氣體流入，以在製品晶圓的表面成膜，但此時，必須使本設計物品內的上下部分之氣體濃度成為均勻。形成在平面部左右中央位置的寬度細之縱長橢圓形狀的孔、及在正面部左右中央位置處配置在上下方向之多個大小孔，皆為用以將流入之氣體排出的氣體通道，而具有使本設計物品內部整體氣體濃度均勻的功能。;【設計說明】
Description
本設計物品如表示使用狀態的參考剖面圖所示，係在半導體製造之成膜過程中設置在成膜裝置內，會使製品晶圓與氣體反應的管。具體而言，在本設計物品內積層有製品晶圓的狀態下使氣體流入，以在製品晶圓的表面成膜，但此時，必須使本設計物品內的上下部分之氣體濃度成為均勻。形成在平面部左右中央位置的寬度細之縱長橢圓形狀的孔、及在正面部左右中央位置處配置在上下方向之多個大小孔，皆為用以將流入之氣體排出的氣體通道，而具有使本設計物品內部整體氣體濃度均勻的功能。
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- 2020-12-04 TW TW109306837F patent/TWD213081S/zh unknown
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