TWD231014S - 基板處理裝置用爐之部分 - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計的物品是基板處理裝置用爐，為一種使用在對於基板進行熱處理的基板處理裝置的爐。;【設計說明】;本物品，係在本體的正面側及背面側形成有開縫，用來避開設於所收容的處理容器上的氣體供給部和氣體排出部。;圖式中所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
Description
本設計的物品是基板處理裝置用爐，為一種使用在對於基板進行熱處理的基板處理裝置的爐。
本物品，係在本體的正面側及背面側形成有開縫，用來避開設於所收容的處理容器上的氣體供給部和氣體排出部。
圖式中所揭露之虛線部分，為本案不主張設計之部分。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-005265 | 2022-01-17 | ||
| JP2022005265F JP1731671S (zh) | 2022-03-15 | 2022-03-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TWD231014S true TWD231014S (zh) | 2024-05-01 |
Family
ID=84322296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW111303580F TWD231014S (zh) | 2022-03-15 | 2022-07-20 | 基板處理裝置用爐之部分 |
Country Status (2)
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|---|---|
| JP (1) | JP1731671S (zh) |
| TW (1) | TWD231014S (zh) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWD213081S (zh) | 2020-06-15 | 2021-08-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 半導體製造裝置用反應管（一） |
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2022
- 2022-03-15 JP JP2022005265F patent/JP1731671S/ja active Active
- 2022-07-20 TW TW111303580F patent/TWD231014S/zh unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWD213081S (zh) | 2020-06-15 | 2021-08-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 半導體製造裝置用反應管（一） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP1731671S (zh) | 2022-12-08 |
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