TWD225034S - 基板處理裝置用遮蔽具 - Google Patents
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Abstract
【物品用途】;本設計的物品是基板處理裝置用遮蔽具,係設置在基板處理裝置的爐口部,用於遮蔽在處理室內產生的氣體或熱流動的遮蔽具。;【設計說明】;(無)
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US8028978B2 (en) * | 1996-07-15 | 2011-10-04 | Semitool, Inc. | Wafer handling system |
EP1006562A3 (en) * | 1998-12-01 | 2005-01-19 | Greene, Tweed Of Delaware, Inc. | Two-piece clamp ring for holding semiconductor wafer or other workpiece |
JP4506125B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2010-07-21 | 信越半導体株式会社 | 熱処理用縦型ボート及びその製造方法 |
US20090197424A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
USD616392S1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-05-25 | Tokyo Electron Limited | Heat radiation fin of heat insulating cylinder for manufacturing semiconductor wafers |
KR101760316B1 (ko) * | 2015-09-11 | 2017-07-21 | 주식회사 유진테크 | 기판처리장치 |
KR102072525B1 (ko) * | 2015-09-28 | 2020-02-03 | 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 | 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램 |
KR101731488B1 (ko) * | 2015-10-27 | 2017-05-02 | 주식회사 유진테크 | 기판처리장치 및 튜브 조립체 조립방법 |
WO2018020733A1 (ja) * | 2016-07-26 | 2018-02-01 | 株式会社日立国際電気 | 発熱体、基板処理装置、半導体装置の製造方法およびプログラム |
KR102259316B1 (ko) * | 2017-03-09 | 2021-06-01 | 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램 |
JP7023147B2 (ja) | 2018-03-13 | 2022-02-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 断熱構造体及び縦型熱処理装置 |
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CN113597663B (zh) * | 2019-03-18 | 2024-11-19 | 株式会社国际电气 | 半导体装置的制造方法、基板处理装置以及存储介质 |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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