SA111330056B1 - عملية لإنتاج حمض الأسيتيك - Google Patents
عملية لإنتاج حمض الأسيتيك Download PDFInfo
- Publication number
- SA111330056B1 SA111330056B1 SA111330056A SA111330056A SA111330056B1 SA 111330056 B1 SA111330056 B1 SA 111330056B1 SA 111330056 A SA111330056 A SA 111330056A SA 111330056 A SA111330056 A SA 111330056A SA 111330056 B1 SA111330056 B1 SA 111330056B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- iodide
- acetic acid
- concentration
- component
- catalyst
- Prior art date
Links
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 554
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 52
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 156
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 155
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 145
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 128
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 91
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 71
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 69
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 67
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 51
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 36
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- 238000005810 carbonylation reaction Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000006315 carbonylation Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 121
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 118
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 36
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 32
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 31
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 23
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 15
- 238000004064 recycling Methods 0.000 claims description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims description 6
- OMCWXFSQPKBREP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;hydroiodide Chemical compound I.CC(O)=O OMCWXFSQPKBREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BXEIMFCHLWQKTG-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;methanol Chemical compound OC.[O+]#[C-] BXEIMFCHLWQKTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 230000004224 protection Effects 0.000 claims 4
- BVVDNKYNKHCCQS-UHFFFAOYSA-L [C+2]=O.[I-].[I-] Chemical compound [C+2]=O.[I-].[I-] BVVDNKYNKHCCQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N benzyl N-[2-hydroxy-4-(3-oxomorpholin-4-yl)phenyl]carbamate Chemical compound OC1=C(NC(=O)OCC2=CC=CC=C2)C=CC(=C1)N1CCOCC1=O FFBHFFJDDLITSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007701 flash-distillation Methods 0.000 abstract description 37
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 abstract description 4
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 159
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 159
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 62
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 37
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 37
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 21
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 21
- -1 lithium iodide methyl acetate Chemical compound 0.000 description 21
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 18
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 15
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 14
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 12
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 9
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 9
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 9
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 8
- 150000001351 alkyl iodides Chemical class 0.000 description 7
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 5
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 5
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ICJVSPOCMLQAJM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;iodomethane Chemical compound IC.CC(O)=O ICJVSPOCMLQAJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCHPKWUIAASXPV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methanol Chemical compound OC.CC(O)=O ZCHPKWUIAASXPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229940006461 iodide ion Drugs 0.000 description 3
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 3
- ANOOTOPTCJRUPK-UHFFFAOYSA-N 1-iodohexane Chemical compound CCCCCCI ANOOTOPTCJRUPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100289894 Caenorhabditis elegans lys-7 gene Proteins 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001137251 Corvidae Species 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBSXBDMCNVYBCE-UHFFFAOYSA-M I.[Li]I Chemical compound I.[Li]I SBSXBDMCNVYBCE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 241000047703 Nonion Species 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICWYLDBGAYSGDZ-UHFFFAOYSA-N acetic acid methyl acetate Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.COC(C)=O ICWYLDBGAYSGDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000015107 ale Nutrition 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001639 beryllium iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- JUCWKFHIHJQTFR-UHFFFAOYSA-L beryllium iodide Chemical compound [Be+2].[I-].[I-] JUCWKFHIHJQTFR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- BVJUXXYBIMHHDW-UHFFFAOYSA-N iodane Chemical compound I.I BVJUXXYBIMHHDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- WQOZKLQJQBPOLC-UHFFFAOYSA-M lithium;acetic acid;iodide Chemical compound [Li+].[I-].CC(O)=O WQOZKLQJQBPOLC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- COTNUBDHGSIOTA-UHFFFAOYSA-N meoh methanol Chemical compound OC.OC COTNUBDHGSIOTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001511 metal iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- QZJVWTNHFOMVHX-UHFFFAOYSA-N methanol;methyl acetate Chemical compound OC.COC(C)=O QZJVWTNHFOMVHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- CYNZTGLNKBWNHM-SCGCMHLBSA-N (4r,4ar,7as,12bs)-9-methoxy-3-methyl-2,4,4a,7,7a,13-hexahydro-1h-4,12-methanobenzofuro[3,2-e]isoquinoline Chemical compound C([C@H]1[C@H](N(CC[C@@]112)C)C3)=CC[C@@H]1OC1=C2C3=CC=C1OC CYNZTGLNKBWNHM-SCGCMHLBSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-BJUDXGSMSA-N (6Li)Lithium Chemical compound [6Li] WHXSMMKQMYFTQS-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- SKIDNYUZJPMKFC-UHFFFAOYSA-N 1-iododecane Chemical compound CCCCCCCCCCI SKIDNYUZJPMKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000478814 Acidops Species 0.000 description 1
- 241000252073 Anguilliformes Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000252067 Megalops atlanticus Species 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHLXUCKAWSRWKE-UHFFFAOYSA-N [I-].[I-].[PH4+].[PH4+] Chemical compound [I-].[I-].[PH4+].[PH4+] DHLXUCKAWSRWKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXKIFUWANBZSKF-UHFFFAOYSA-N [I].CC(O)=O Chemical compound [I].CC(O)=O ZXKIFUWANBZSKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZUPOJJVIYVMIT-UHFFFAOYSA-N [Mo].[Ni].[Cr].[Fe] Chemical compound [Mo].[Ni].[Cr].[Fe] VZUPOJJVIYVMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXMJDVWESETMK-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Chemical compound CC=O.CC=O NBXMJDVWESETMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- RQCGTBGGQFKJRB-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde;propanoic acid Chemical compound CC=O.CCC(O)=O RQCGTBGGQFKJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEVUBVBEQNVEP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;methyl acetate Chemical compound CC(O)=O.COC(C)=O REEVUBVBEQNVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVMNFQHJOOYCAP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;propanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCC(O)=O AVMNFQHJOOYCAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- LPVNUKXUQMFECB-UHFFFAOYSA-K aluminum triiodoborane triiodide Chemical compound B(I)(I)I.[I-].[Al+3].[I-].[I-] LPVNUKXUQMFECB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNSIWZRTNZEWMS-UHFFFAOYSA-N cobalt titanium Chemical compound [Ti].[Co] NNSIWZRTNZEWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- VFGVNLNBQPXBKA-UHFFFAOYSA-N diazanium;dibromide Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Br-].[Br-] VFGVNLNBQPXBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INRKLLIHBGHMNT-UHFFFAOYSA-N diiodoboron Chemical compound I[B]I INRKLLIHBGHMNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYAAFQUAQACSRX-UHFFFAOYSA-L dilithium;diiodide Chemical compound [Li+].[Li+].[I-].[I-] CYAAFQUAQACSRX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229910052571 earthenware Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKLKFPOECCSOO-UHFFFAOYSA-N hydrochloride;hydroiodide Chemical compound Cl.I AJKLKFPOECCSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L magnesium iodide Chemical compound [Mg+2].[I-].[I-] BLQJIBCZHWBKSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001641 magnesium iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003863 metallic catalyst Substances 0.000 description 1
- LNWRFVPSTNYFGQ-UHFFFAOYSA-N methoxymethane;methyl acetate Chemical compound COC.COC(C)=O LNWRFVPSTNYFGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- PVWOIHVRPOBWPI-UHFFFAOYSA-N n-propyl iodide Chemical compound CCCI PVWOIHVRPOBWPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSMAIBOZUPTNBR-UHFFFAOYSA-N phosphanium;iodide Chemical compound [PH4+].[I-] LSMAIBOZUPTNBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000006041 probiotic Substances 0.000 description 1
- 235000018291 probiotics Nutrition 0.000 description 1
- GLCSNYFRXVGJJF-UHFFFAOYSA-N propanoyl iodide Chemical compound CCC(I)=O GLCSNYFRXVGJJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- KXAHUXSHRWNTOD-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triiodide Chemical compound [Rh+3].[I-].[I-].[I-] KXAHUXSHRWNTOD-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- BHZOKUMUHVTPBX-UHFFFAOYSA-M sodium acetic acid acetate Chemical compound [Na+].CC(O)=O.CC([O-])=O BHZOKUMUHVTPBX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
- C07C51/44—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation by distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/10—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide
- C07C51/12—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide on an oxygen-containing group in organic compounds, e.g. alcohols
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/46—Ruthenium, rhodium, osmium or iridium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/46—Ruthenium, rhodium, osmium or iridium
- B01J23/464—Rhodium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/128—Halogens; Compounds thereof with iron group metals or platinum group metals
- B01J27/13—Platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/10—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/43—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation
- C07C51/44—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation by distillation
- C07C51/46—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change of the physical state, e.g. crystallisation by distillation by azeotropic distillation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/42—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C51/50—Use of additives, e.g. for stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C53/00—Saturated compounds having only one carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or hydrogen
- C07C53/08—Acetic acid
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
الملخص: يتعلق الاختراع الراهن بعملية لإنتاج حمض الأسيتيك acetic acid مع تثبيط إنتاج أو التركيز المتزايد من يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في مبخـِّر ومضي flash evaporator. وتتضمن عملية إنتاج حمض الأسيتيك acetic acid سلسلة من الخطوات: خطوة تفاعل للسماح بتفاعل الميثانول methanol باستمرار مع أول أكسيد الكربون carbon monoxide بوجود نظام حفاز catalyst system يشتمل على حفاز فلزي metal catalyst, يوديد أيوني ionic iodide, ويوديد المثيل methyl iodide في مفاعل كربنلة carbonylation, خطوة تقطير ومضي flash distillation لتغذية جهاز إيماض flasher باستمرار بخليط تفاعل من المفاعل وتبخير مكون متطاير يحتوي على الأقل على منتج حمض الأسيتيك acetic acid, أسيتات المثيل methyl acetate, ويوديد المثيل methyl iodide بواسطة التقطير الومضي لفصل المكون المتطاير وخليط حفاز سائل يحتوي على الأقل على الحفاز الفلزي واليوديد الأيوني ionic iodide, وخطوة جمع حمض الأسيتيك acetic acid لفصل تيار يحتوي على حمض الأسيتيك acetic acid من المكون المتطاير لجمع حمض الأسيتيك acetic acid؛ حيث يتم في خطوة التقطير الومضي, إجراء التقطير الومضي في ظرف يتمثل في وجود أسيتات المثيل methyl acetate في خليط الحفاز السائل بتركيز لا يقل عن 0.6٪ وزناً.
Description
Y
عملية لإنتاج حمض الأسيتيك
Process for producing acetic acid الوصف الكامل خلفية الاختراع المجال التقني مع تثبيط فعّال لزيادة acetic acid يتعلق الاختراع الراهن بعملية لإنتاج حمض الأسيتيك (جهاز إيماض flash evaporator في مبخر ومضي hydrogen iodide تركيز يوديد الهيدروجين لتفطير خليط تفاعل من المفاعل. (flasher © ل dl) الخلفية عن»86. من بينهاء عملية acid تعرف عمليات إنتاج صناعية عديدة لحمض الأسيتيك بالتفاعل مع أول أكسيد methanol صناعية من الدرجة الأولى تتضمن السماح باستمرار للميثانول «(rhodium (مثلاً حفاز الروديوم metal catalyst باستخدام حفاز فلزي carbon monoxide الكربون ويوديد المثيل ¢(lithium 100106 (على سبييل المثال؛ يوديد الليثيوم fonic iodide يوديد أيوني ٠ وعلاوة على ذلك»؛ تم في acetic acid بوجود ماء للحصول على حمض الأسيتيك methyl iodide الآونة الأخيرة البحث في تطوير ظروف التفاعل والحفازات؛ وتم تطوير عملية صناعية لإنتاج للحفاز stabilizer بإنتاجية عالية الكفاءة عن طريق إضافة مثبّت acetic acid حمض الأسيتيك والتفاعل في ظروف تتمثل في المحتوى القليل من الماء مقارنة مع (iodide salt ملح اليوديد Ji) الظروف التقليدية. ve وذلك بالسماح للميثانول acetic acid للعملية؛ يتم عادة إنتاج حمض الأسيتيك Lass تعريض خليط التفاعل الناتج الذي ccarbon monoxide بالتفاعل مع أول أكسيد الكربون methanol flash (التقطير الومضي distillation إلى التقطير acetic acid يحتوي على حمض الأسيتيك في جهاز إيماض (مبخر ومضي)؛ تعريض مكون تم تبخيرهٍ بواسطة التقطير إلى (distillation ويحتوي .86606 acid تقطير إضافي؛ وفصل )488 إضافية) مكون يحتوي على حمض الأسيتيك Ye من Wye 5 amethyl iodide يوديد المثيل cacetic acid خليط التفاعل على منتج حمض الأسيتيك في المبخر الومضي استجابة إلى hydrogen iodide المركبات . إن زيادة تركيز يوديد الهيدروجين a) تغير الضغطء وتغير درجة (RUS) ظروف التقطير (على سبيل المثالء تغير التركيب v للمبخر الومضي. أي أنه؛ نظراً لأن التقطير الومضي يكون في corrosion JST قد يعجّل حدوث عادة في المبخر hydrogen iodide صورة تقطير مفردٍ مستمر؛ لا يتم تكثيف يوديد الهيدروجين بالإضافة إلى يوديد الهيدروجين al Tals الومضي (أو يصعب ملاحظة تأثير التكثيف). ومن جديد hydrogen iodide الموجود في خليط التفاعل؛ يتم إنتاج يوديد هيدروجين hydrogen iodide عن طريق hydrogen iodide في المبخر الومضي (على سبيل المثال؛ يتم إنتاج يوديد الهيدروجين 0 نتيجة تقليل تركيز أسيتات acetic acid مع حمض الأسيتيك methyl iodide يوديد المتيل Jel مع حمض lithium 100106 أو يتم إنتاجه عن طريق تفاعل يوديد الليثيوم methyl acetate المثيل تعريض مكون يحتوي على dies (lithium 100108 نتيجة زيادة يوديد الليثيوم acetic acid الأسيتيك لفصل حمض الأسيثيك distillation column إلى عمود تقطير hydrogen iodide يوديد الهيدروجين bottom سفلي ea (مادة متبقية سائلة أو residue عند إعادة تدوير المادة المتبقية of aceticacid 1 وبالإضافة إلى ذلك ll بعد فصل المكون المبخر إلى المفاعل؛ قد يتأثر نظام التفاعل (fraction قد يحدث التأكل للأداة (الأدوات) المحيطة بصورةٍ أسرع. وبناء على ذلك؛ يفضل تجنب زيادة تركيز : في المبخر الومضي. وعلى الرغم من أن تقنية تثبيط تكثيف hydrogen iodide يوديد الهيدروجين «plate column في عمود صفائحي Sie في عمود تقطير hydrogen iodide يوديد الهيدروجين
Sm معروفة؛ إلا أن التقنية التي ركزت على نحو وثيق على packed column عمود محشو ٠ في تقطير ومضي لخليط التفاعل غير معروفة. hydrogen iodide الهيدروجين CYTE على سبيل المثال» يكشف طلب براءة الاختراع الياباني المكشوف عنه رقم عن عملية لتقطير )١ وثيقة البراءة رقم ٠٠016-17607345 (براءة الاختراع اليابانية رقم هر |ّ وماء» حيث تتضمن العملية تقطير الخليط hydrogen 100106 خليط يحتوي على يوديد الهيدروجين الذي يحتوي على محتوى من الماء لا يزيد عن 75 وزناً في نظام تقطير لمنع تكثيف يوديد ٠٠ وفيما يتعلق بالخليط المستخدم في العملية؛ تكشف ٠ في نظام التقطير hydrogen iodide الهيدروجين الوثيقة عن إمكانية تطبيق العملية على خليط تفاعل (أو تركيب تفاعل سائل) أو على مكون خفيف low يتم فصله من خليط التفاعل بواسطة تقطير أول ويكون غنياً بمكون منخفض درجة الغليان 1و1لة؛ حمض iodide يوديد الألكيل calcohol (على سبيل المثال» ماء؛ كحول boiling point منهاء إستر كربوكسيلات acid anhydride أو أنهيدريد لحمض carboxylic acid الكربوكسيليك Yo وفي الأمثلة المذكورة في هذه الوثيقةء - (hydrogen iodide ويوديد الهيدروجين carboxylate ester يتم فحص محلول عملية (خاصة؛ مكون متطاير مفصول بالتقطير الومضي لخليط التفاعل) يخلو للكشف عن تأثير تركيز الماء (lithium iodide يوديد الليثيوم Sid) ionic iodide من يوديد أيوني
على تكثيف يوديد الهيدروجين hydrogen iodide وكما وصف أعلاه؛ تهدف وثيقة براءة الاختراع ١ إلى تكثيف يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في عملية التقطير؛ ولم يتم فحص انخفاض يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في المبخر الومضي. ا ويكشف طلب براءة الاختراع الياباني المكشوف عنه رقم 1-4448 (براءة الاختراع oe اليابانية رقم هر 40944 -1؛ وثيقة براءة الاختراع رقم (Y عن عملية إنتاج حمض الأسيتيك acetic 40 عن طريق السماح للميثانول methanol بالتفاعل مع Jf أكسيد الكربون carbon monoxide بوجود حفاز الروديوم rhodium catalyst ويوديد المثيل iodide 60:1؛ حيث تتضمن العملية خطوة تكثيف مستمر للتفاعل عند تركيز للماء لا يزيد عن 7٠١ وزناً في محلول Joli سحب withdrawing مستمر لمحلول التفاعل لإدخاله إلى خطوة التبخير حيث يكون الضغط أقل من 0٠ ضغط ظرف التفاعل» وفصل مكون التبخير vaporizing component ومكون غير التبخير يحتوي على روديوم rhodium وفي هذه shill 0 يتم إدخال الهيدروجين hydrogen ويتم إجراء التبخير في ظرف لا يقل فيه الضغط partial pressure ial) للهيدروجين hydrogen على الأقل عن ٠١ ضغط جوي؛ و/أو (ب) يعالج مكون غير التبخير الذي يحتوي على الروديوم 0000:0070 المفصولء على الأقل مع هيدروجين hydrogen ضغطه الجزئي لا يقل عن )+ ضغط جوي وأول أكسيد Ve كربون carbon monoxide ضغطه الجزثي لا يقل عن ١:١ ضغط جوي ثم يعاد إلى المفاعل sale تدويره. وتكشف الوثيقة في الأمثلة عن تعريض محلول التفاعل إلى تقطير ومضي عند درجة حرارة سائل سفلي bottom liquid تتراوح من ١٠١ إلى 8٠م لتبخير نصف الحجم؛ ليتم الحصول على محلول مكثّف يحتوي على 70,0 وزناً من يوديد emethyl iodide Jill و 7 وزناً من أسيتات المثيل emethyl acetate وغيرها. ومن ناحية أخرى؛ لم يؤؤخذ يوديد الهيدروجين hydrogen iodide Ye في عين الاعتبار في التقطير الومضي. وثائق dal) ذات الصلة Gili براءات الاختراع وثيقة براءة الاختراع رقم :١ براءة الاختراع اليابانية رقم A 45 001-13650316 (عناصر الحماية؛ الفقرة رقم YY] +[ والأمثلة). Ye وثقة براءة الاختراع رقم oY براءة الاختراع اليابانية رقم هر 448 + 6-4 (عناصر الحماية والفقرة رقم 0 الوصف العام للاختراع المشاكل التي ينبغي إيجاد حل لها بواسطة الاختراع
يهدف الاختراع الراهن بناء على ذلك إلى تزويد عملية لإنتاج حمض الأستيتك acetic acid مع تثبيط (أو منع) بشكل Jad زيادة تركيز يوديد الهيدروجين iodide 13700860 في المبخر الومضي. ويهدف الاختراع الراهن أيضاً إلى تزويد عملية لإنتاج حمض الأسيتيك cacetic acid حيث تمنع العملية تأكل المبخر الومضي. وسائل حل المشاكل جوهرياً؛ يعتمد تركيب (تشكيلة) محلول الاختراع (أو خليط التفاعل) نظرياً على درجة حرارة التفاعل؛ الضغط في التقطير الومضي؛ وغيرها في ظرف أديباتي condition 80180800. وبالاعتماد على المعلومات من نظرية التوازن cequilibrium theory قام مخترعو الاختراع الراهن بفخص Ye طريقة لتثبيط زيادة تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في مبخر ومضي في خطوة تقطير ومضي لخليط التفاعل الناتج بواسطة تفاعل كربئلة للميتانول methanol باستخدام نظام حفاز يحتوي على حفاز فلزي؛ يوديد أيوني onic iodide (على سبيل المثال يوديد فلز قلوي alkali metal «(iodide ويوديد مثيل methyl iodide ومن ناحية أخرى» يمكن تثبيت درجة الحرارة؛ chill والتركيب اعتباطياً؛ وتعمل التوليفة منها على تغيير بأشكال عدة ظروف التقطير الومضي. وعلاوة Ye على ذلك؛ هناك تفاعلات مختلفة تتضمنها عملية إنتاج يوديد الهيدروجين hydrogen iodide المبخر الومضي؛ وتكون هذه التفاعلات معقدة. وبناء على ذلك؛ من الصعب في الواقع تثبيط بشكل ثابت إنتاج يوديد الهيدروجين hydrogen iodide وزيادة تركيز يوديد الهيدروجين chydrogen iodide مع المحافظة على إنتاج حمض الأسيتيك acetic acid بفاعلية؛ بالاعتماد على نظرية توازن بسيطة. وقام مخترعو الاختراع الراهن بدراسات مكتفة لتحقيق الأهداف السابق ذكرها ووجدوا أخيراً ٠ أن الزيادة في تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في المبخر الومضي يتم تثبيظها بإجراء : التقطير مع ضبط تركيب مكون محدد في مكون سائل متبقٍ (خليط حفاز سائل) يتم فصله من مكون متطاير في تقطير ومضي؛ حيث يعمل تثبيط زيادة تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen 06 على منع تآكل المبخر الومضي ويقلل أيضاً التأثيرات السلبية (على سبيل المثال؛ التآكل) الناتجة من يوديد الهيدروجين hydrogen iodide على العملية كاملة حيث يتم تغذية المكون ve المتطاير أو خليط الحفاز السائل من المبخر الومضي [على سبيل المثال؛ عمود تقطير لتعريض مكون متطاير إلى تقطير إضافي؛ أو مرافق ثانوية incidental facilities (أو معدات) خاصة به (على سبيل المثال؛ مبادل حراري heat exchanger مثل مضخة تدوير ccirculating pump مكثف «condenser مرجل إعادة الغليان ¢(reboiler مرافق ثانوية (أو معدات) لإعادة تدوير خليط حفاز
: سائل إلى المفاعل Jo) سبيل (JU مبادل حراري ومضخة تدوير)؛ وخطوط تغذية feed lines لعمود التقطير والمرافق الثانوية]. وقد أنجز الاختراع الراهن بالاعتماد على النتائج أعلاه. أي أن العملية وفقاً للاختراع الراهن تشمل عملية إنتاج حمض الأسيتيك cacetic acid تتضمن خطوة تفاعل تتيح تفاعل الميثانول methanol باستمرار مع أول أكسيد الكربون carbon monoxide © بوجود نظام حفاز يشتمل على حفاز فلزي Je) سبيل المثال حفاز روديرم «(rhodium يوديد أيوني iodide عنده: (على سبيل المثال يوديد فلز قلوي Jie alkali metal iodide يوديد اللينيوم «(lithium iodide ويوديد المثيل methyl iodide في مفاعل كربئلة ccarbonylation خطوة تقطير ومضي flash distillation لتغذية جهاز إيماض باستمرار بخليط تفاعل من المفاعل وفصل مكون متطاير يحتوي على الأقل على منتج حمض الأسيتيك cacetic acid أسيتات المثيل methyl cacetate ٠ ويوديد المثيل methyl iodide عن طريق التقطير الومضي لفصل المكون المتطاير وخليط حفاز سائل يحتوي على الأقل على الحفاز الفلزي واليوديد الأيوني ionic iodide وخطوة جمع حمض الأسيتيك acetic acid لفصل تيار يحتوي على حمض الأسيتيك acetic acid من المكون المتطاير لجمع حمض الأسيتيك Cus facetic acid يتم في خطوة التقطير الومضي؛ إجراء التفقطير الومضي في ظرف يتمثل في وجود أسيتات المثيل methyl acetate في خليط الحفاز Jill بتركيز ve لا يقل عن 7,1 ونناً. وقد لا يقل تركيز أسيتات المثيل methyl acetate في خليط الحفاز السائل عن Uys ZY dass) | لا يقل عن 71,5 وزناً). وبالإضافة إلى ذلك؛ قد لا يزيد تركيز الماء في خليط الحفاز السائل عن 796 وزناً. وقد لا يقل تركيز الحفاز الفلزي في خليط الحفاز السائل عن 080 جزء في المليون على أساس الوزن. وعلاوة على ذلك؛ قد لا يقل تركيز حمض الأسيتيك acetic acid في Yo خليط الحفاز السائل عن 740 وزناً. ووفقاً للاختراع الراهن؛ يمكن تثبيط الزيادة في تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في جهاز إيماض مع ضمان الإنتاج (أو معدل التفاعل) بكفاءة عالية لحمض الأسيتيك .acetic acid وبشكل تمثيلي؛ وفيما يتعلق بتركيز كل مركب في خليط الحفاز السائل؛ قد لا يزيد تركيز اليوديد الأيوني 100:06 ionic عن ٠ 75 ونزناً؛ وقد لا يزيد تركيز يوديد methyl iodide Jill عن diy 75 Yo وقد يتراوح تركيز حمض الأسيتيك acetic acid من حوالي go إلى 40 وزناً؛ وقد لا يزيد تركيز الماء عن 7٠١ وزناً. وتحديداً؛ Lady يتعلق بتركيز كل مكون في خليط الحفاز السائل؛ قد لا يزيد تركيز اليوديد الأيوني iodide عنصههة عن (Lys 7 4 ٠ وقد يتراوح تركيز يوديد المثيل methyl 6ه من حوالي ٠.0٠ إلى 74 وزناً؛ وقد يتراوح تركيز حمض الأسيتيك acetic acid من حوالي ys Zo إلى ٠, من حوالي methyl acetate وقد يتراوح تركيز أسيتات المثيل digg Zao إلى ٠ إلى 74 ونناً. ٠,8 وقد يتراوح تركيز الماء من حوالي
Ce وقد يتم إجراء التقطير الومضي في خطوة التقطير الومضي عند ضغط مطلق يتراوح إلى 20 ميغاباسكال مع الحفاظ على درجة حرارة خليط الحفاز السائل (درجة حرارة التقطير +) : AV إلى ٠٠١ الومضي) عند درجة حرارة تتراوح من حوالي © يمكن ضبط تركيز كل مكون في المبخر الومضي عن ecb وفي العملية وفقاً للاختراع طريق إضافة كل مكون/مكونات لإنتاج كل مكون. فعلى سبيل المثال؛ يمكن ضبط تركيز أسيتات يضبط بحيث لا يقل عن (JU في خليط الحفاز السائل (على سبيل methyl acetate المثيل و/أو مكون ينتج أسيتات methyl acetate وزناً) عن طريق إضافة أو خلط أسيتات المثيل 7 إلى خليط التفاعل و/أو المبخر الومضي. methyl acetate المثيل ٠ hydrogen iodide ووفقاً للاختراع الراهن؛ يمكن تثبيط تكثيف أو إنتاج يوديد الهيدروجين ye أو methyl acetate في المبخر الومضي عن طريق ضبط (أو التحكم) تركيز أسيتات المثيل وبالتالي يمكن بعد ذلك تثبيط تآكل المبخر الومضي. إنتاج أو التركيز المتزايد من يوديد Dade وبالتالي» يتضمن الاختراع الراهن أيضاً طريقة في جهاز الإيماض [في جزء بالطور السائل في جهاز إيماض (في hydrogen fodide الهيدروجين ٠٠ لتثبيط تآكل جهاز الإيماض) J) بالطور غازي في جهاز إيماض] ein خليط حفاز سائل) و/أو في حيث تتضمن عملية الإنتاج خطوة تفاعل تتيح cacetic acid في عملية إنتاج حمض الأسيتيك بوجود نظام حفاز carbon monoxide باستمرار مع أول أكسيد الكربون methanol تفاعل الميثاتول في مفاعل methyl iodide عنصم ويوديد المثيل iodide يشتمل على حفاز فلزي» يوديد أيوني . كربئلة؛ خطوة تقطير ومضي لتغذية جهاز إيماض (مبخر ومضي) باستمرار بخليط تفاعل من Yo أسيتات cacetic acid المفاعل وفصل مكون متطاير يحتوي على الأقل على منتج حمض الأسيتيك ويوديد المثيل 61371100106 عن طريق التقطير الومضي لفصل المكون cmethyl acetate المثيل onic iodide المتطاير وخليط حفاز سائل يحتوي على الأقل على الحفاز الفلزي واليوديد الأيوتي acetic acid لفصل تيار يحتوي على حمض الأسيتيك acetic acid وخطوة جمع حمض الأسيتيك 06ه86؛ حيث يتم في خطوة التقطير الومضي؛ acid المكون المتطاير لجمع حمض الأسيتيك ge Yo في خليط الحفاز methyl acetate إجراء التقطير الومضي في ظرف يتمثل في وجود أسيتات المثيل السائل بتركيز لا يقل عن 70,0 ونناً.
A
خليط hydrogen iodide وبهذه الطريقة؛ قد يتم الحفاظ على تركيز يوديد الهيدروجين ونناً. 7١ الحفاز السائل على سبيل المثال عند تركيز لا يزيد عن ووفقاً لعملية أو طريقة الاختراع الراهن؛ قد تشتمل مادة جهاز الإيماض على خليط معدني ويحقق الاختراع (nickel-based alloy (على سبيل المثال؛ خليط معدني أساسه التيكل alloy الراهن عملية تثبيط التآكل؛ ويفضل حتى استخدام جهاز الإيماض المصنوع من مادة آكالة نسبياً © مماثلة. وفي الوصف الراهن؛ لا تزيد النسبة/النسب الكلية للمادة/المواد التي تخرج من نظام الخليط 7٠٠١ وزناً؛ وتبلغ نسب جميع المكونات إجمالاً 7٠٠١ نفسه (مثل خليط الحفاز السائل) عن وزناة. | تأثيرات الاختراع ٠ مع تثبيط (أو منع) acetic acid لعملية الاختراع الراهن؛ يمكن إنتاج حمض الأسيتيك as, في المبخر الومضي. وعلاوة على ذلك؛ hydrogen jodide فعال للزيادة في تركيز يوديد الهيدروجين وفقاً للاختراع الراهن؛ يمكن تثبيط تاكل المبخر الومضي. ولذلك»؛ يمكن إجراء التقطير الومضي بفعالية دون الحاجة إلى تشكيل المبخر الومضي باستخدام مادة عالية الجودة ذات مقاومة ضد يمكن صنع مبخر ومضي [بالإضافة إلى ذلك؛ عمود cab التآكل مرتفعة. ولذلك وفقاً للاختراع ٠ تقطير أول وثاني؛ أو مرافق ثانوية (أو معدات) خاصة به (على سبيل المثال؛ مكثف)] من مادة رخيصة الثمن أو ذات نوعية منخفضة؛ وبالتالي يمكن تقليل تكلفة عملية إنتاج حمض الأسيتيك
Jad بشكل acetic acid شرح مختصر. للرسومات وفقاً acetic acid يمثل مخطط يوضح عملية إنتاج (أو جهاز إنتاج) حمض الأسيتيك : ١ الشكل ٠ لأحد تجسيدات الاختراع الراهن. وصف التجسيدات فيما يلي من هذا البيان» سيتم شرح الاختراع الراهن بالتفصيل بالرجوع للرسم. حيث يمثل مخططاً (مخطط انسيابي؛ رسم تخطيطي للعملية؛ أو رسم موجر تخطيطي للوحدة ١ الشكل Yo وفقاً لأحد تجسيدات acetic acid الصناعية) لشرح عملية إنتاج (أو جهاز إنتاج) حمض الأسيتيك الاختراع الراهن.
.
ويبين التجسيد وفقاً للشكل ١ عملية مستمرة (أو جهاز) لإنتاج حمض الأسيتيك acetic (CH;COOH) من وسط تفاعل سائل (أو خليط تفاعل) ناتج عن تفاعل كربئلة مستمر للميثانول (MeOH) methanol مع أول أكسيد الكربون (CO) carbon monoxide بوجود نظام حفاز يشتمل على حفاز روديوم rhodium كحفاز فلزي وحفاز إسهامي [يوديد الليثيوم lithium iodide في صورة © يوديد أيوني onic iodide (أو ملح يوديد (iodide salt ويوديد مثيل [methyl iodide وكذلك حمض
الأسيتيك cacetic acid أسيتات المثيل «methyl acetate ومقدار ضئيل من الماء. وتتضمن العملية (أو جهاز الإنتاج) مفاعل (نظام تفاعل) ١ لإجراء تفاعل الكربئلة المذكور أعلاه للميثانول ¢methanol جهاز إيماض أو مبخر JA) ومضي) ¥ لفصل المكون المتطاير أو تيار حمض أسيتيك acetic acid (جزء منخفض درجة الغليان) يحتوي على الأقل على منتج حمض ٠ الأسيتيك acetic acid أسيتات المثيل cmethyl acetate ويوديد المثيل emethyl iodide وخليط حفاز سائل (مكون قليل التطاير low-volatile أو ojo مرتفع درجة الغليان) يحتوي غالباً على مكون حفاز (مكون مرتفع درجة الغليان) (على سبيل المثال؛ حفاز روديوم rhodium ويوديد الليثيوم (lithium iodide من وسط تفاعل Jil (أو خليط تفاعل أو محلول تفاعل) يتم إدخاله من المفاعل ١ عبر خط تغذية VE ويحتوي على حمض أسيتيك acetic acid ناتج من التفاعل؛ عمود تقطير Vo أول (عمود مجزئ (splitter column ¥ لفصل أو إزالة قسم على الأقل من gia منخفض درجة الغليان يحتوي على مكون منخفض درجة الغليان (على سبيل المثال؛ يوديد المثتيل «methyl iodide أسيتات methyl acetate Jill وأسيتالدهيد (acetaldehyde عن المكون المتطاير الذي تم إدخاله من جهاز الإيماض “ عبر خط تغذية ١١ كمنتج علوي 40 من أعلى العمود الخاص به وسحب تيار يحتوي على حمض الأسيتيك acetic acid (تيار حمض الأسيتيك (acetic acid كتيار Ye جانبي side stream عن طريق الاقتطاع الجانبي cut 5108؛ عمود تقطير ثانٍ 4 لإزالة قسم على الأقل من جزء منخفض درجة الغليان يحتوي على مكون منخفض درجة غليان كمنتج علوي من أعلى العمود الخاص به عن تيار حمض الأسيتيك acetic acid الداخل من عمود التقطير الأول ؟ عبر خط تغذية YY عن طريق اقتطاع جانبي» فصل جزءٍ على الأقل من مكون منخفض درجة الغليان (شوائب مرتفعة درجة الغليان) (تحتوي على سبيل المثال على ماء وحمض البروبيونيك (propionic acid Yo من أسفل العمود؛ والحصول على تيار حمض الأسيتيك acetic acid عبر خط
تغذية YA كتيار جانبي عن طريق اقتطاع جانبي. ض
وعلاوة على ذلك؛ يتم تزويد هذه العملية بمكثف أو مبادل حراري لتكثيف مكون يتم تغذيته عبر كل خط. وتحديداً؛ يتم تجهيز المفاعل ١ بمكثف ٠ لتكثيف مكون قابل للتكثقيف على شكل
١ خط إعادة تدوير ؛١١ discharge line (بخار) يتم تصريفه عبر خط تصريف offgas غاز متسرب إلى المفاعل ١؛ وخط ٠ لإعادة تدوير مكون سائل يتم تكثيفه بواسطة المكثتف VY recycle line 0 عن مكون غير مكثف في المكثف Ble لتصريف مكون غازي؛ والذي يكون ١١ تصريف لتبريد خليط حفاز سائل ١ وعلاوة على ذلك؛ يتم تجهيز جهاز الإيماض ؟ بمبادل حراري عبر ١ سفلي) مفصول بواسطة جهاز الإيماض ؟ ويتم تصريفه من أسفل جهاز الإيماض ein (أو © لإعادة تدوير خليط الحفاز السائل المبرد بواسطة المبادل ١9 خط تصريف 8١؛ خط إعادة تدوير الحراري 6 إلى المفاعل ١؛ مبادل حراري 7 لتكثيف مكون قابل للتكثيف في قسم من المكون المتطاير (أو طور المتطاير) الذي يتم تصريفه في صورة منتج علوي من جهاز الإيماض ؟ وإدخاله لتصريف مكون غازي؛ والذي يعتبر مكون غير قابل ١١ خط تصريف Vo عبر خط تغذية لإعادة تدوير مكون سائل (أو مسال) يحتوي ١7 وخط إعادة تدوير oY للتكثيف في المبادل الحراري ٠ .١ المكثف بواسطة المبادل الحراري 7 إلى المفاعل acetic acid على حمض الأسيتيك لتكثيف مكون قابل للتكثيف في A وعلاوة على ذلك؛ يتم تجهيز عمود التقطير ؟ بمكثف منخفض درجة الغليان أو منتج علوي يتم تصريفه عبر خط تصريف 0 ؟؛ خط إعادة تدوير gall
TY إلى المفاعل ١؛ خط إعادة تدوير A لإعادة تدوير مكون سائل يتم تكثيفه بواسطة المكثف YY قسم من المكون السائل المكثف بواسطة المكثف + إلى عمود (refluxing الإعادة تدوير (أو ترجيع ١ لتصريف مكون غازي؛ وهو مكون غير قابل للتكثيف في 7١ التقطير الأول ؛ خط تصريف لتصريف جزء مرتفع درجة الغليان في عمود التقطير الأول © وإعادة تدوير TE وخط $A المكثف وبالمناسبة؛ يتم استخدام المكون السائل المعاد تدويره إلى .١ الجزء مرتفع درجة الغليان إلى المفاعل .٠“ عمود التقطير الأول © لترجيعه إلى عمود التقطير الأول وعلاوة على ذلك؛ يتم تجهيز عمود التقطير الثاني ؛ بمكثتف 4 لتكثيف مكون قابل للتكثيف Ye في جزء منخفض درجة الغليان أو منتج علوي يتم تصريفه عبر خط تصريف © ؟؛ خط إعادة تدوير لإعادة تدوير (أو ترجيع) مكون سائل أو جزء متخفض درجة غليان يتم تكثيفه بواسطة المكثف YY إلى عمود التقطير الثاني ؛؛ خط تصريف (خط إعادة تدوير) 776 لفصل جزءٍ أو كل المكون 4 وإعادة تدوير YY السائل أو الجزء منخفض درجة الغليان المكثف بواسطة المكثف 4 من الخط لتغذية غاز مفصول في المكثف 9 إلى جهاز YA المكون أو الجزء المفصول إلى المفاعل ١؛ وخط Yo
AY عبر خط ٠١ scrubber غسل لاستعادة ٠١ أيضاً جهاز غسل أو نظام غسل ١ وتتضمن هذه العملية المبينة في الشكل المكونات الغازية (أو المكونات غير المكثفة) أو غيرها التي تم تصريفها من المكثف 0< المبادل
١١
الحراري 7اء والمكتف A وترك المكونات و/أو إعادة تدوير المكونات إلى نظام التفاعل (على سبيل (JU المفاعل .)١ وبالمناسبة؛ لم يتم في الشكل ١ توضيح خط إعادة تدوير المكون الغازي أو
المكونات الأخرى من نظام الغسل ٠١ إلى نظام التفاعل (على سبيل المثال؛ المفاعل .)١
وفيما يلي أدناه؛ سيتم شرح العملية المبينة في الشكل ١ بتفصيل أكثر. وقد يتم تغذية الميشاتول methanol بوصفه مكوناً سائلاً وأول أكسيد الكربون carbon monoxide بوصفه مادة متفاعلة غازية باستمرار إلى المفاعل ١ بمعدل محدد مسبقاًء وقد يتم باستمرار تغذية خليط حفاز (خليط حفاز سائل) يحتوي على نظام حفاز كربئنة carbonylation catalyst system إنظام la يشتمل على مكون حفاز رئيسي Ao) سبيل المثال؛ حفاز روديوم (rhodium وحفاز إسهامي (على سبيل المثال؛ يوديد الليثيوم 0106م lithium ويوديد المثيل methyl [(fodide ٠ وماء إلى المفاعل .١ وعلاوة على ذلك يمكن Lad تغذية جزء/أجزاء (على سبيل المثال؛ على شكل سائل) يحتوي/تحتوي على جزء/أجزاء منخفضة درجة الغليان و/أو جزء/أجزاء مرتفعة درجة الغليان من الخطوة/الخطوات التالية (على سبيل المثال؛ جهاز الإيماض oY عمود التقطير الأول والثاني ¥ و 4؛ المبادل الحراري 7؛ ونظام الغسل )٠١ إلى المفاعل .١ ومن ثم؛ داخل المفاعل ٠ يكون نظام تفاعل في الطور السائل الذي يحتوي على المادة المتفاعلة والمكون مرتقع ٠ درجة الغليان مثل مكون الحفاز الفلزي (مثل حفاز الروديوم (rhodium واليوديد الأيوني onic Jia) iodide يوديد الليقيوم (lithium iodide في Ala توازن مع نظام بخاري vapor-phase shall يشتمل على أول أكسيد الكربون ccarbon monoxide منتجات جانبية ناتجة من التفاعل (الهيدروجين ¢hydrogen الميثان «methane ثاني أكسيد الكربون «(carbon dioxide ومكون منخفض درجة الغليان متبخر (مثل يوديد المثيل methyl iodide وحمض الأسيتيك (ies acetic acid وأسيتات ٠ المثيل «(methyl acetate ويستمر تفاعل كربئلة الميثانول methanol مع التقليب بواسطة أداة تقليب stirrer أو وسائل أخرى .
وقد يتم الحفاظ على الضغط الداخلي للمفاعل ١ (على سبيل المثال؛ ضغط التفاعل؛ الضغط الجزئي partial pressure لأول أكسيد الكربون «carbon monoxide والضغط all للهيدروجين chydrogen الضغط (Fall للميثان cmethane والضغط الجزي للنتروجين (nitrogen Yo عند ضغط ثابت عن طريق سحب البخار من أعلى العمود وإدخالٌ البخار المسحوب إلى CEE ©. ويتم تبريد البخار المسحوب بواسطة CES 0 للحصول على مكون سائل (يحتوي على حمض الأسيتيك cacetic acid أسيتات cmethyl acetate Jill يوديد المثيل 100106 cmethyl الأسيتالد هايد cacetaldehyde الماء؛ وغيرها من المركبات) ومكون غازي (يحتوي على أول أكسيد الكربون
VY
تدوير المكون السائل الناتج إلى sale) وغيرها). ويتم chydrogen الهيدروجين carbon monoxide ٠١ نظام الغسل (waste gas المفاعل ١؛ ويتم تصريف المكون الغازي الناتج (الغاز المبدد إذا لزم الأمر. وعلى وجه الخصوص؛» يكون نظام التفاعل عبارة عن ١ وإعادة تدويرهِ إلى المفاعل من ei يرافقه تولد للحرارة؛ ويمكن إزالة exothermic reaction system نظام تفاعل طاردٍ للحرارة كمية الحرارة المتولدة في المفاعل عن طريق تبريد جزء من حرارة التفاعل المنقولة من محلول ٠ 0 CES التفاعل للحصول على البخار باستخدام من أجل زيادة فعالية ١ إلى المفاعل hydrogen وإذا لزم الأمر؛ قد يتم تغذية الهيدروجين أن نظام التفاعل هو نظام تفاعل طارد للحرارة يرافقه تولّد للحرارة؛ قد Lay الحفاز. وعلاوة على ذلك»؛ (jacket غلاف خارجي (JO) بوحدة لإزالة الحرارة أو وحدة تبريد (على سبيل ١ يتم تجهيز المفاعل بمبادل ١ للتحكم بدرجة حرارة التفاعل. وبالمناسبة؛ كما وصف لاحقاً؛ يتم تجهيز العملية وفقاً للشكل ٠ من مكون متطاير من المبخر الومضي ؟. وبالتالي؛ حتى لو كان da لإزالة الحرارة من ١ حراري المفاعل غير مجهز بوحدة لإزالة الحرارة أو التبريد» إلا أنه يمكن إزالة الحرارة. crude reaction وقد تشتمل المكونات الموجودة في خليط التفاعل (محلول تفاعل خام hydrogen يوديد الهيدروجين cacetic acid على حمض الأسيتيك ١ المتولد في المفاعل (solution مكون منخفض درجة الغليان أو شائبة منخفضة درجة الغليان لها درجة غليان أقل منها dodide ٠ بوصفه حفاز إسهامي» أسيتات methyl iodide (مثل يوديد المثيل acetic acid لحمض الأسيتيك «methanol مع الميثاتنول acetic acid لحمض الأسيتيك Jel كمنتج methyl acetate Jill 2- 7-إثيل كروتونالدهيد ccrotonaldehyde كروتونالدهيد cacetaldehyde والأسيتالدهايد يوديد الهيكسيل يوديد Jie) higher iodide يوديد مرتفع الوزن الجزيثي cethylerotonaldehyde كمنتجات جانبية)؛ ومكون مرتفع درجة الغليان أو (decyl 100108 أو يوديد الديسيل hexyl iodide 0 ٠ [مكون حفاز acetic acid شائبة مرتفعة درجة الغليان لها درجة غليان أعلى منها لحمض الأسيتيك حمض البروبيونيك of ales] كحفاز lithium iodide يوديد الليثيوم cthodium فلزي (حفاز الروديوم والماء]. propionic acid ومن أجل فصل المكون مرتفع درجة الغليان بشكل أساسي (مثل مكون الحفاز الفلزي) من ١ خليط التفاعل؛ يتم سحب خليط التفاعل (أو جزءِ من خليط التفاعل) بشكل مستمر من المفاعل Yo يتم تبخير مكون ١ ؟. وفي جهاز الإيماض (Gand) وإدخاله أو تغذيته إلى جهاز الإيماض بوصفه acetic acid متطاير أو جزء منخفض درجة الغليان (يحتوي غالباً على حمض الأسيتيك «methyl iodide Jill يوديد cmethyl acetate كمذيب للتفاعل؛ أسيتات المثيل Lad منتجاً ويعمل woo وغيرها) عن طريق التقطير الومضي لفصل خليط حفاز chydrogen iodide ماء؛ يوديد الهيدروجين سائل أو جزء مرتفع درجة الغليان (يشتمل بشكل رئيسي على مكون حفاز فلزي مثل حفاز الروديوم وغيرها من المركبات) من خليط التفاعل. وبالمناسبة؛ في dlithium iodide يوديد الليثيوم (rhodium خليط الحفاز السائل؛ يتواجد أيضاً مكون الحفاز الفلزي بالإضافة إلى المكونات المتبقية بدون تبخير methyl Jil) الماء وأسيتات cmethyl iodide يوديد المثقيل cacetic acid (مثل حمض الأسيتيك © (acetate إجراء التقطير الومضي بحيث يمكن الحفاظ على الأقل على oY وداخل جهاز الإيماض في خليط الحفاز السائل عند تركيز محدد مسبقاً (على سبيل المثال methyl acetate أسيتات المثيل لاايقل عن 720.6 وزناً). ويحول التقطير الومضي في هذا الظرف دون زيادة تركيز يوديد وبالتالي؛ يتم منع تآكل flash evaporator في المبخر الومضي hydrogen iodide الهيدروجين - ٠ المبخر الومضي بشكل ملحوظ. وبالمناسبة؛ يمكن على سبيل المتال ضبط تركيز أسيتات المثيل في خليط التفاعل والسماح بتفاعل methanol عن طريق زيادة تركيز الميثانول methyl acetate بشكل مسيطرء وغير ذلك . وإذا لزم الأمرء acetic acid مع حمض الأسيتيك methanol الميثانول methyl acetate عن طريق تغذية أسيتات المقيل methyl acetate يمكن ضبط تركيز أسيتات المثيل وثنائي methanol (على سبيل المثال؛ ميثانول methyl acetate Jill مكون لإنتاج أسيتات Sis ve
Fo ووفقاً لتجسيد الشكل؛ يتم تزويد خط .١ إلى المبخر الومضي (dimethyl ether مثيل إيثر methyl acetate وإذا لزم الأمر؛ يمكن أيضاً ضبط تركيز أسيتات المثيل .١6 والذي يلتحق بالخط و/أو مكون ينتج أسيتات methyl acetate (fall في المبخر الومضي عن طريق خلط أسيتات .١ مع خليط التفاعل من المفاعل ٠١ عبر الخط methyl acetate المثيل ويتم تصريف خليط الحفاز السائل باستمرار من أسفل العمود. ويمكن إعادة تدوير خليط , ووفقاً للتجسيد المبين في الشكل؛ يتم إزالة .١ الحفاز السائل الذي يتم تصريفه مباشرة إلى المفاعل .١ حرارة (تبريد) خليط الحفاز السائل المصرف في المبادل الحراري + ثم يعاد تدويرهِ إلى المفاعل ومن ناحية أخرى؛ يتم سحب المكون المتطاير أو الجزء منخفض درجة الغليان (تيار حمض العمود أو الجزءٍ العلوي من جهاز الإيماض ؟ وتغذيته أو إدخاله Jef من (acetic acid الأسيتيك SAY ويتم إدخال جزءِ من المكون المتطاير إلى المبادل الحراري oF عمود التقطير الأول JY Yo تكثيفه. وينتج المكون المتطاير المبرد بواسطة المبادل الحراري 7 مكوناً سائلاً (يحتوي على حمض methyl أسيتات المثيل cmethyl iodide يوديد المثتيل cmethanol عناهعة»الميثانول acid الأسيتيك وغيرها من acetaldehyde أسيتالدهيد propionic acid الماء؛ حمض البروبيونيك cacetate
Vi هيدروجين ccarbon monoxide المركبات) ومكون غازي (يحتوي على أول أكسيد الكربون ويتم تغذية .١ وغيرها من المركبات). ويعاد تدوير المكون السائل الناتج إلى المفاعل chydrogen وإذا لزم الأمرء يتم الحصول ٠١ إلى نظام الغسل (waste gas المكون الغازي الناتج (الغاز المبدد دون تنقية المكون الغازي أو بتتقيته بواسطة طريقة carbon monoxide على أول أكسيد الكربون .١ وإعادة تدويره إلى المفاعل » (pressure swing adsorption (عملية امتزاز مترجحة الضغط 258 © ea ويتم سحب الجزءِ منخفض درجة الغليان من جهاز الإيماض إلى المبادل الحراري؛ ويتم تبريد slg من حرارة التفاعل المنقولة من محلول التفاعل إلى البخار الومضي بواسطة المبادل الحراري. (أو تقليل) حجم downsized على ذلك»؛ يمكن إزالة الحرارة بفعالية. وبالتالي؛ نظراً لإمكانية تخفيض عمود التقطير التالي أو المكثف حتى بالنسبة للوحدة الصناعية كبيرة الحجم؛ فإنه يمكن إنتاج حمض بنقاوة عالية ومعدل إنتاج مرتفع باستخدام معدات موفرةٍ للطاقة والموارد. acetic acid الأسيتيك ٠ وعلاوة على ذلك» يمكن إزالة الحرارة دون تركيب وحدة تبريد دوّارة خارجية في المفاعل؛ الأمر الذي وتحسين فعالية التفاعل أو خفض كلفة carbon monoxide يؤدي إلى منع فقدان أول أكسيد الكربون المعدات. وبالمناسبة؛ عن طريق جعل (الحفاظ على) درجة الحرارة الداخلية و/أو الضغط الداخلي لجهاز الإيماض ؟ بحيث تكون أقل من تلك الخاصة بالمفاعل ١؛ يمكن تثبيط تكون المزيد من ٠ المنتجات الجانبية أو تردي الفعالية الحفزية. يتم عادة فصل الجزءِ منخفض درجة الغليان (أو المنتج oF وفي عمود التقطير الأول «methyl iodide العلوي) الذي يحتوي على المكون منخفض درجة الغليان (بما في ذلك يوديد المثيل ماء وغيرها من cacetaldehyde أسيتالدهيد cmethyl acetate أسيتات المثيل cmethanol الميثانول ويتم فصل جزء مرتفع oh المركبات) من أعلى العمود أو الجزء العلوي منه وتغذيته إلى المكثف » propionic الماء؛ وحمض البروبيونيك Jie) درجة الغليان يحتوي على المكون مرتفع درجة الغليان من أسفل العمود أو الجزءِ (lithium iodide ويوديد الليثيوم entrained catalyst Glee lia cacid ويحتوي .١ وإعادة تدويره إلى المفاعل 3 © bottom line السفلي منه خلال خط منتجات سفلية الجزء مرتفع درجة الغليان (الجزء مرتفع درجة الغليان الأول) على مكون مرتفع درجة الغليان» وغيرها cacetic acid بالإضافة إلى مكون منخفض درجة الغليان يبقى دون تبخرء حمض الأسيتيك - مرتفع درجة الغليان الذي يتم تصريفه عبر الخط shall من المركبات. ويمكن إعادة تدوير قسم من إذا لزم الأمر. ويتم سحب تيار جانبي (تيار حمض (VE عبر الخط ١ إلى جهاز الإيماض YE والذي يحتوي بشكل (crude acetic acid أو تيار حمض الأسيتيك الخام acetic acid الأسيتيك
Vo من عمود التقطير الأول باقتطاع جانبي كما يتم تغذيته acetic acid أساسي على حمض الأسيتيك . 4 أو إدخاله إلى عمود التقطير الثاني a أو dof ويشتمل الجزء منخفض درجة الغليان (جزء منتج علوي أو جزء منتج علوي منخفض درجة الغليان أول) المسحوب من أعلى عمود التقطير الأول “ أو الجزء العلوي منه على من المركبات؛ ويتم تغذيته إلى المكثقف 8. ويمكن تكثيف الجزء ops acetic acid حمض الأسيتيك © : من eda لتبريد A منخفض درجة الغليان المسحوب من عمود التقطير الأول “ بواسطة المكثف حرارة التفاعل المنقولة من محلول التفاعل إلى الجزء منخفض درجة الغليان من خلال البخار يتم oh GIS وبالتالي يمكن إزالة جزء من حرارة التفاعل. وفي oA الومضي» بواسطة المكثف تكثيف الجزءِ منخفض درجة الغليان لفصل مكون غازي يشتمل بشكل رئيسي على أول أكسيد وغيرها من المركبات؛ ومكون سائل يشتمل على hydrogen هيدروجين carbon monoxide الكربون Ve cacetic acid حمض الأسيتيك methyl acetate 1ر6 أسيتات المقيل iodide يوديد المقيل
A وغيرها من المركبات. ويتم تغذية المكون الغازي المفصول في المكثف acetaldehyde أسيتالد هيد وإذا لزم الأمر؛ يتم إعادة تدويره إلى نظام التفاعل (على سبيل المثال» ٠١ إلى نظام الغسل (غير موضح). ويمكن إعادة تدوير المكون السائل المفصول في المكثف 8 إلى عمود )١ المفاعل التقطير الأول 7 عبر الخط 7؟أ. وبالمناسبة؛ يمكن أن يكون المكون السائل عبارة عن نظام محلول ve منتظم أو محلول مفصول (على سبيل المثال» محلول ثنائي الطور). على سبيل المثال؛ بالنسبة للمكون السائل الذي يحتوي على مقدار محدد مسبقاً من الماء؛ يمكن فصل المكون السائل إلى طورين؛ طور مائي (طبقة مائية أو طور ماء) وطور زيتي (طبقة عضوية أو طور عضوي)؛ حيث وغيرها من cacetaldehyde أسيتالدهيد cacetic acid يحتوي الطور المائي على حمض الأسيتيك وغيرهِ من المركبات. وعلاوة methyl 100108 المركبات؛ ويحتوي الطور الزيتي على يوديد المثيل ٠ و/أو عمود التقطير الأول ؛ ويمكن ١ على ذلك؛ يمكن إعادة تدوير الطور الزيتي إلى المفاعل .7 و/أو عمود التقطير الأول ١ إعادة تدوير الطور المائي (طور الماء) إلى المفاعل الذي يتم الحصول عليه بواسطة الاقتطاع الجانبي acetic acid وفي تيار حمض الأسيتيك من عمود التقطير الأول * ويتم تغذيته إلى عمود التفطير الثاني ©؛ يتم أيضاً فصل مكون منخفض في عمود التقطير acetic acid درجة الغليان (على سبيل المثال ماء) يبقى في تيار حمض الأسيتيك Yo الذي له نقاوة عالية (تيار حمض أسيتيك acetic acid الثاني 4؛ ويتم سحب تيار حمض الأسيتيك منخفض درجة oda يتم تغذية of منقى) كتيار جانبي. وفي عمود التقطير الثاني acetic acid الغليان يشتمل على المكون منخفض درجة الغليان من أعلى العمود أو الجزء العلوي منه إلى
المكثف 4؛ ويتم تقطير تيار جانبي (تيار حمض الأسيتيك (acetic acid غني بحمض الأسيتيك acetic acid بالاقتطاع الجانبي. وعند الحاجة؛ يمكن إعادة تدوير الجزء متخفض درجة الغليان gyn) منتج علوي أو جزء منتج علوي ثانٍ أو gia منخفض درجة الغليان (ob الذي يتم تصريفه من أعلى العمود أو الجزءٍ العلوي منه إلى عمود التقطير الثاني © و/أو نظام التفاعل .١ ويمكن فصل الماء © بصفته مكون درجة غليانه منخفضة في عمود التقطير الثاني 4؛ أو يمكن فصله بشكل أساسي في عمود التقطير الأول ؟ وفصله بشكل إضافي في عمود التقطير الثاني ؛ للتنقية. وبالمناسبة؛ يمكن تصريف جزء مرتفع درجة الغليان (جزء مرتفع درحة الغليان (Ol مثلاً مكون درجة غليانه مرتفعة (على سبيل المثال حمض البروبيونيك (propionic acid من أسفل العمود أو الجزءِ السفلي منه؛ وإذا
لزم الأمرء يمكن إعادة تدويره إلى المفاعل ١ أو إزالته من النظام (غير موضح).
١ ويحتوي الجزء منخفض درجة الغليان المسحوب من أعلى عمود التقطير الثاني ؛ أو الجزء العلوي منه على يوديد المثيل «methyl iodide أسيتات المثئيل cola «methyl acetate أسيتالدهيد cacetaldehyde وغيرها من المركبات؛ ويتم تكثيفه بواسطة المكثف 4. ثم يتم إعادة تدوير الجزء منخفض درجة الغليان المكثف في المكثف ؟ إلى المفاعل ١ عبر الخط 76 أو إعادة تدويره إلى عمود التقطير الثاني ؛ عبر الخط YY وعلاوة على ذلك؛ يمكن تغذية الغاز المفصول في المكثف
١ ٠ إلى جهاز الغسل ٠١ عبر الخط .١7 وعلاوة على ذلك؛ بالنسبة للمكون السائل المشتمل على مقدار محدد مسبقاً من الماء؛ وبنفس الكيفية التي تتم في عمود التقطير الأول يمكن فصل المكون السائل إلى طور مائي وطور زيتي ويمكن إعادة تدوير هذين الطورين. ويتم تكثيف shall منخفض درجة الغليان المسحوب من عمود التقطير الثاني ؛ بواسطة المكثف 4 لتبريد جزء من حرارة التفاعل المنقولة من محلول التفاعل إلى shall منخفض درجة الغليان من خلال بخار الوميض باستخدام
A المكثف Ye.
| (خطوة التفاعل) في خطوة Jeli (نظام تفاعل الكربئلة)» يتم كربتلة الميثانول emethanol مع أول أكسيد الكربون carbon monoxide بوجود نظام حفاز. وبالمناسبة؛ يمكن تغذية الميثانول methanol الجديد إلى نظام التفاعل بشكل مباشر أو غير مباشر؛ أو يمكن إعادة تدوير الميثانول methanol و/أو
Yo مشتقاته المسحوب من خطوات التقطير السابقة وتغذيته إلى نظام التفاعل.
وقد يشتمل نظام الحفاز عادة على حفاز فلزي؛ حفاز إسهامي؛ وعامل مسرّوع accelerator وتشمل الأمثلة على الحفاز الفلزي؛ حفاز فلز انتقالي ctransition metal تحديداً حفاز فلز يحتوي على فلز المجموعة A من الجدول الدوري لتوزيع العناصر (على سبيل المثال حفاز
لاا كوبالت ccobalt حفاز روديوم ahodium وحفاز إريديوم (iridium وقد يكون الحفاز عبارة عن فلز كمادة بسيطة أو قد يستخدم على شكل أكسيد (بما في ذلك أكسيد الفلز المعقد)؛ هيدروكسيد hydroxide هاليد Jie) halide كلوريد 0010:106؛ بروميد cbromide ويوديد «(iodide كربوكسيلات carboxylate (مثل أسيتات (acetate ؛ ملح لحمض غير عضوي inorganic acid (مثل كبريتات sulfate © نترات enitrate وفوسفات (phosphate متراكب»؛ وغيرها من المركبات. ويمكن استخدام هذه الحفازات الفلزية بمفردها أو في توليفة. ومن الحفازات الفلزية المفضلة حفاز الروديوم rhodium وحفاز الإريديوم dyad) iridium حفاز الروديوم (rhodium وعلاوة على ذلك؛ يفضل استخدام الحفاز الفلزي في صورة قابلة للذويان في محلول التفاعل. وبالمناسبة؛ نظراً لأن الروديوم rhodium يتواجد بثبكل اعتيادي في صورةٍ متراكب في ٠ - محلول التفاعل؛ لا يكون شكل حفاز الروديوم thodium محدوداً بصفة خاصة بشكل محدد طالما أن الحفاز يمكن أن يتغيّر لصورة متراكب في خليط التفاعل؛ ويمكن استخدامه في عدة أشكال. وبهذه الصفة يفضل حفاز الروديوم crhodium متراكب يوديد الروديوم rhodium iodide (مثل «Rhls [00(4)يلط]؛ و [و0(1©)ط2])؛ متراكب كربونيل الروديوم crhodium carbonyl أو ما أشبه على وجه الخصوص. وعلاوة على ذلك؛ يمكن تثبيت الحفاز في محلول التفاعل بإضافة ملح Ve الهاليد Si) halide ملح اليوديد (iodide و/أو الماء. ويتراوح تركيز الحفاز الفلزي؛ على سبيل JU من حوالي ٠١ إلى oven جزءِ في المليون (على أساس الوزن ويطبق هذا على جميع التراكيز التالية)؛ ويفضل من حوالي ٠٠١ إلى ee £0 جزءٍ في المليون؛ والأفضل من حوالي 7٠050 إلى 700٠0 جزء في المليون؛ وتحديداً من حوالي *٠٠ إلى ٠٠٠١ جزء في المليون (على سبيل المثال من حوالي dove 15086 جزءِ في Ye المليون) على أساس الطور السائل ككل في المفاعل. ولأن الحفاز الإسهامي أو العامل المسرّع موجود في نظام الحفاز؛ يستخدم يوديد أيوني ionic iodide (ملح اليوديد ©10010). ويضاف ملح اليوديد iodide من أجل استقرار حفاز الروديوم rhodium وتثبيط التفاعلات الجانبية؛ تحديداً؛ في محتوى قليل من الماء. ولا يكون ملح اليوديد 56 محدوداً؛ على (asad day بشكل معين طالما أن ملح اليوديد 100106 ينتج أيون يوديد jodide Yo في محلول التفاعل. وقد يتضمن ملح اليوديد cdodide على سبيل المثال؛ halide ad فلز [على سبيل المثال» يوديد fodide فلز» مثلاً يوديد fodide فلز قلوي (مثل؛ يوديد الليقيرم lithium iodide يوديد الصوديوم sodium iodide يوديد البوتاسيوم potassium iodide يوديد الروبيديوم rubidium iodide ويوديد السيزيوم (cesium iodide ¢ يوديد فلز قلوي ترابي alkaline earth metal
\A ويوديد magnesium iodide يوديد المغنيسيوم beryllium iodide يوديد البريليوم Jie) iodide من الجدول الدوري 3B فلز ينتمي للمجموعة jodide أو يوديد o(caleium iodide الكالسيوم halide مسستمتصتطلة] هاليد iodide ويوديد الألومنيوم boron iodide للعناصر (مثل يوديد البورون ليوديد 100108 (يوديد phosphonium ملح فوسفونيوم Sia عضوي iodide عضوي [مثل؛ يوديد tributylphosphine بيوتيل فوسفين DN (مثل ملح مع (phosphonium iodide الفوسفونيوم © (يوديد iodide ليوديد ammonium أو ملح أمونيوم ¢(triphenylphosphine وثلاثي فنيل فوسفين cpyridine مركب بيريدين ctertiary amine (SOU (مثل ملح لأمين (ammonium iodide لأمونيوم bromide بروميد «(iodide أو ما أشبه مع يوديد imide مركب إيميد imidazole مركب إيميدازول jodide وبالمناسبة؛ يعمل يوديد [iodide مقابل لليوديد chloride وكلوريد iodide مقابل لليوديد
Jie) أيضاً كمثبت لحفاز الكربئلة (lithium iodide سبيل المثال يوديد الليثيوم Jo) الفلز القلوي ٠ ويمكن استخدام أملاح اليوديد 100106 هذه بمفردها أو في (rhodium catalyst حفاز الروديوم توليفة. ومن ضمن أملاح اليوديد 100106 هذه؛ يفضل يوديد 100106 الفلز القلوي (مثل يوديد الليثيوم (lithium 6 من حوالي Se الأيوني في المفاعل (محلول تفاعل سائل)؛ iodide ويتراوح تركيز اليوديد وزناً في 77١8 إلى 175 وزناً؛ ويفضل من حوالي 1 إلى 777 وزناً؛ والأفضل من حوالي “ إلى ١ ve في المفاعل. (Jad) الطور السائل ككل (أو خليط التفاعل (مثل يوديد alkyl iodide ولأن العامل المسرّع موجود في نظام الحفاز» يستخدم يوديد ألكيل أو cethyl iodide يوديد الإثيل emethyl iodide يوديد المثيل Jie برح alkyl iodide Cis ألكيل وبالتالي؛ قد يحتوي methyl iodide وبالأخص يوديد المثيل «(propyl iodide يوديد البروبيل
SUA ونظراً لأن التفاعل يتم تعزيزه methyl iodide Jia) العامل المسرّع على الأقل على يوديد ٠ المرتفعة من العامل المسرع؛ يمكن الاختيار بشكل ملائم التركيز المفيد اقتصادياً؛ بالأخذ بعين الاعتبار استعادة العامل المسرّع» حجم الوحدة الصناعية لخطوة تدوير العامل المسرّع المستعاد إلى المفاعل؛ مقدار الطاقة اللازمة للاستعادة أو التدوير» وغير ذلك من الأمور. ويتراوح تركيز يوديد نظام التفاعل» على سبيل (methyl jodide (وبالتحديد يوديد المثيل alkyl iodide الألكيل ١ وزناً والأفضل من حوالي 77٠ إلى 7726 وزناًء ويفضل من حوالي © إلى ١ المثال» من حوالي Yo في الطور السائل ككل في (Ls 715 إلى ١١ وزناً (على سبيل المثال من حوالي 7٠76 إلى المفاعل.
ويكون التفاعل تفاعلاً متواصلأًء وقد يحتوي محلول التفاعل sale على أسيتات مثيل .methyl acetate وقد تتراوح نسبة أسيتات المثيل methyl acetate من حوالي ١ إلى Lys Ne ويفضل من حوالي 9 إلى Ly 77١8 والأفضل من حوالي ٠, إلى 7٠١ وزناً (مثلاً؛ من حوالي إلى 77 (ls في محلول التفاعل بأكمله.
° ويمكن استخدام أول أكسيد الكربون carbon monoxide المراد تغذيته إلى نظام التفاعل كغاز نقي أو يمكن استخدامه كغاز مخفف مع غاز غير فعال (مثل النتروجين nitrogen الهيليوم chelium وثاني أكسيد الكربون (carbon dioxide وعلاوة على ذلك؛ يمكن إعادة تدوير مكون أو مكونات الغاز المنصرفة المشتملة على أول أكسيد الكريون carbon monoxide الناتجة من الخطوة (الخطوات) المتتالية إلى نظام التفاعل. وقد يتراوح الضغط الجزئي لأول أكسيد الكربون carbon vo ؛ إلى Moa ضغط جوي ويفضل من Ve من حوالي ؟ إلى lie في المفاعل» monoxide ٠ ضغط جوي. (أو تكوينه) بتفاعل إزاحة بين أول hydrogen وفي تفاعل الكربئلة؛ يتم تشكيل الهيدروجين إلى نظام التفاعل. hydrogen تغذية الهيدروجين (Says والماء. carbon monoxide أكسيد الكربون كمادة carbon monoxide كغاز مخلط مع أول أكسيد الكربون hydrogen ويمكن تغذية الهيدروجين إلى نظام التفاعل عن hydrogen خام إلى نظام التفاعل. وعلاوة على ذلك؛ يمكن تغذية الهيدروجين ٠ أول أكسيد chydrogen قي ذلك الهيدروجين La طريق إعادة تدوير المكون أو المكونات الغازية وغيرها من المركبات) المنصرفة من خطوة (خطوات) التقطير «carbon monoxide الكربون المتتابعة (عمود التقطير)؛ إذا لزم ذلك بعد تنقية المكون أو المكونات الغازية بتشكل ملائم. وقد في نظام التفاعل؛ على سبيل المثال» من حوالي #,؛ hydrogen يتراوح الضغط الجزئي للهيدروجين كيلوباسكال والأفضل من حوالي © إلى vor إلى ١ كيلوباسكال؛ ويفضل من حوالي ٠00 إلى - ٠ كيلوباسكال) كضغط مطلق. ٠٠ إلى ٠١ كيلوباسكال (مثلاً من ٠ all أو الضغط carbon monoxide لأول أكسيد الكربون ial) ويمكن تعديل الضغط عن طريق تعديل بشكل ملائم مقدار (JU) في نظام التفاعل؛ على سبيل hydrogen للهيدروجين | المغذى و/أو معاد التدوير إلى hydrogen والهيدروجين carbon monoxide أول أكسيد الكربون المغذاة إلى نظام التفاعل» درجة حرارة (methanol نظام التفاعل؛ مقدار المواد الخام (مثل الميثانول Yo التفاعل» ضغط التفاعل وغيرها من الأمور. إلى ١5١ قد تتراوح درجة الحرارة» على سبيل المثال» من حوالي dling Jeli وفي إلى ١٠لم. وعلاوة VAY إلى ١77"م» والأفضل من حوالي 6١ ثم ويفضل من حوالي
Y. إلى ١١ على ذلك؛ قد يتراوح ضغط التفاعل (ضغط المفاعل الكلي)؛ على سبيل المثال؛ من حوالي ضغط جوي. ٠ ويمكن إجراء التفاعل بوجود أو عدم وجود مذيب. ولا يكون مذيب التفاعل محدّداً بنوع معين طالما أن التفاعلية أو فعالية الفصل أو التنقية لا تقل؛ ويمكن استخدام مجموعة منوعة من بصفته منتج acetic acid المذيبات. وفي الحالات الاعتيادية؛ يمكن عملياً استخدام حمض الأسيتيك ٠ كمذيب. وتركيز الماء في نظام التفاعل غير محدّد بتركيز محدد؛ وقد يكون التركيز منخفضاً. وقد لا إلى ١0٠ يزيد تركيز الماء في نظام التفاعل مثلاً عن 715 وزناً (على سبيل المثال؛ من حوالي (Lis 77 إلى ١.١ (على سبيل المثال» من حوالي Wis 7٠١0 ويفضل أن لا يزيد عن (Lys 7 إلى 719 وزناً (على سبيل ١ وقد يتراوح عادة من حوالي Lys 70 إلى ١.١ والأفضل من حوالي ٠ وزناً) في الطور السائل الكلي لنظام التفاعل. وتقل ذوبانية أول 7٠١ المثال» من حوالي ؟ إلى في المحلول المغذى إلى جهاز الإيماض عن طريق إجراء 08:500 monoxide أكسيد الكربون (يوديد الليثيوم 100106 salt التفاعل مع الحفاظ على تركيز محدد لكل مكون [وبالتحديد ملح اليوديد carbon والماء] في نظام التفاعل؛ كما يمكن تقليل فقدان أول أكسيد الكربون (lithium iodide .monoxide Vo مصحوباً بإنتاج إستر acetic acid وفي تفاعل الكربئلة السابق» يكون إنتاج حمض الأسيتيك methyl (أسيتات المثئيل methanol الناتج مع الميثانول acetic acid لحمض الأسيتيك ester بالإضافة إلى الأسيتالدهيد cesterification reaction الماء الناتج بواسطة تفاعل الأسترة ¢(acetate وغيرها من المركبات. propionic acid حمض البروبيونيك acetaldehyde عن طريق إزالة aldehydes وفي نظام التفاعل؛ يتم تثبيط أو منع تكوّن مركبات الألدهيد Ye عمود التقطير)؛ أو Jie) في تيار إعادة التدوير من الخطوة (الخطوات) المتتالية aldehyde الألدهيد alkyl عن طريق تعديل ظروف التفاعل؛ مثلاً بتخفيض نسبة الحفاز الإسهامي مثل يوديد الألكيل وعلاوة على ذلك؛ يمكن تثبيط أو منع تكوّن hydrogen و/أو الضغط الجزئي للهيدروجين fodide في نظام التفاعل عن طريق تعديل تركيز الماء. hydrogen الهيدروجين وقد يتراوح معدل الإنتاج الحيزي الزمني (معدل الإنتاج أو التشكيل) لحمض الأسيتيك Yo or Adel مول/لتر o Moa المستهدف في نظام التفاعل؛ مثلاً من acetic acid مول/لتر.ساعة؛ والأفضل من حوالي 6٠0 مول/لتر.ساعة إلى A مول/لتر.ساعة؛ ويفضل من حوالي مول/لتر.ساعة. Yo مول/لتر.ساعة إلى ٠
ومن المفضل تبريد المكون البخاري المسحوب من الجزء العلوي للمفاعل لغرض التحكم أو وسيلة أخرى heat exchanger مبادل حراري condenser بواسطة مكثف oye بضغط المفاعل أو لإزالة جزء من حرارة التفاعل. ومن المفضل أن يُفصل المكون البخاري المبردٍ إلى مكون سائل methyl يوديد المثيل «methyl acetate أسيتات المثيل cacetic acid (يحتوي على حمض الأسيتيك ماء وغيره) ومكون غازي (يحتوي على أول أكسيد الكربون cacetaldehyde أسيتالدهيد dodide ٠ وغيره)؛ ويمكن إعادة تدوير المكون السائل إلى hydrogen الهيدروجين ccarbon monoxide scrubber system المفاعل وإدخال المكون الغازي إلى نظام الغسل methanol وعلاوة على ذلك؛ قد يحتوي نظام التفاعل (أو مزيج التفاعل) أيضاً على ميثانول في نظام التفاعل methanol ويمكن أن لا يزيد تركيز الميثانول ٠ غير متفاعل) methanol (ميثانول | ويفضل أن لا يزيد عن 7000 وزناً (مثلاً (Wy 7 0,8 (مثلاً من حوالي صفر إلى Tgp 7١ مثلاً عن ٠ والأفضل أن لا يزيد عن 70.7 وزناً (مثلاً من حوالي صفر إلى (Ws 70.7 من حوالي صفر إلى وبالمناسبة؛ فإن تركيز أسيثات ٠ (Ls To) وعادة لا يزيد عن حد الكشف (أقل من (Ls Lox الموجود في النظام. وبالتالي methanol يعتمد أيضاً على تركيز الميثانول methyl acetate (ial المراد تغذيته إلى نظام التفاعل بالاقتران مع تركيز أسيتات methanol يمكن تعديل مقدار الميثانول المذكور لاحقاً في جهاز الإيماض. methyl acetate المثيل ٠ . (خطوة التقطير الومضي أو خطوة الفصل الحفزي) يتم في خطوة التقطير الومضي (بجهاز الإيماض) فصل مكون منخفض التطايرية أو مزيج حفاز سائل (جزء مرتفع درجة الغليان) يحتوي على الأقل على مكون حفاز مرتفع درجة الغليان من مزيج التفاعل (ionic iodide وملح يوديد أيوني rhodium (مكون حفاز فلزي؛ مثلاً حفاز روديوم المزود من خطوة التفاعل أو المفاعل إلى جهاز الإيماض )530 ومضي أو عمود تقطير ومضي) Yo في صورة مكون سائل ويتم فصل مكون متطاير أو طور متطاير (جزء منخفض درجة الغليان) في صورة مكون بخاري. 80600 acid يحتوي على حمض الأسيتيك ويمكن فصل مزيج التفاعل في خطوة التبخير الومضي إلى مكوّن بُخاري (أو تيار متبخز) تيار سائل) بتسخين أو بدون تسخين. فعلى سبيل المثال؛ يمكن في عملية إيماض Sl) ومكون سائل فصل مزيج التفاعل إلى مكون بخاري ومكون سائل بدون تسخين (ومع adiabatic flash أدياباتي Yo فصل مزيج thermostatic flash استخدام ضغط مخفّض)؛ ويمكن في عملية الإيماض الترموستاتي التفاعل إلى مكون بخاري ومكون سائل مع التسخين (وباستخدام ضغط مخفّضش). ويمكن فصل مزيج التفاعل إلى مكون بخاري ومكون سائل بالدمج بين ظروف الإيماض هذه.
YY
وقد تتراوح درجة حرارة التفاعل في عملية التقطير الومضي على سبيل المثال من حوالي تم 46 AY ويفضل من حوالي (YO إلى "م (مثلاً من حوالي ١١٠”م إلى م٠ (مثلاً من حوالي YY والأفضل من حوالي 2100 إلى (YF (مثلاً من حوالي ١5٠7م إلى ثم إلى ١٠٠"م. وعلاوة على ذلك؛ قد ١7١ الخصوص من حوالي ang إلى ١٠7"م) وعلى م٠ تتراوح درجة حرارة مزيج الحفاز السائل في عملية التقطير الومضي (أو درجة حرارة المحلول السفلي © 2h (مثلاً من حوالي Yee A لعمود التقطير الومضي) على سبيل المثال من حوالي (VT إلى ١83٠”م) ويفضل من حوالي ١٠٠ثم إلى ١7١ثم (مثلاً من حوالي ١٠١٠م إلى والأفضل من حوالي ١7٠2م إلى ١6٠”م. فضلاً عن ذلك؛ قد يتراوح الضغط المطلق في عملية ١ إلى ٠.06 من حوالي (JE سبيل Je) ميغاباسكال ١ إلى ١.07 التقطير الومضي من حولي إلى *,؛ ٠.١ ميغاباسكال والأفضل من حولي ١,7 إلى ١.07 ميغاباسكال) ويفضل من حولي ٠ إلى 0.4 ميغاباسكال). ويتم إنتاج يوديد ١,15 ميغاباسكال (على سبيل المثال؛ من حوالي للازدياد) تحت hydrogen iodide بسهولة (أو يميل تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen الهيدروجين تلك الظروف من درجة الحرارة المرتفعة نسبياً (والضغط المرتفع). إلا أنه وفقاً للاختراع الحالي يمكن أو ازدياد تركيزه في المبخر الومضي على hydrogen iodide أن يتم تفادي إنتاج يوديد الهيدروجين نحو فعال حتى في مثل هذه الظروف. Vo ويمكن عادة إجراء عملية فصل (تقطير ومضي) لمكون الحفاز الفلزي باستخدام عمود تقطير Shae) ومضي). وعلاوة على ذلك؛ يمكن فصل مكون الحفاز الفلزي بواسطة عملية تقطير ومضي بالاشتراك مع طريقة لجمع الرذاذ أو طريقة لجمع المواد الصلبة مستخدمة بشكل واسع في التطبيقات الصناعية. أ ولا تكون المادة التي يأصنع منها (أو يشكل منها) جهاز الإيماض محددة بصفة خاصة على مادة محددة وقد تكون عبارة عن مادة فلزية؛ sale خزفية؛ sale زجاجية أو غير ذلك. وواقعياً؛ يتم استخدام جهاز إيماض مصنوع من مادة فلزية. وبصفة محددة؛ يمكن أيضاً وفقاً للاختراع الحالي HA) SB Lay الومضي بصورة كبيرة تظراً لأنه يمكن الحدّ من تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide داخل المبخر الومضي بصورة كبيرة وغير ذلك. وبالتالي؛ كمبخّر ومضي في Yo الاختراع الحالي؛ لا يمكن استخدام مبخر ومضي مصنوع من مادة باهظة ذات مقاومة JST مرتفعة فقط Jia) الزركونيوم (zirconium بل أيضاً مبخر ومضي مصنوع من مادة غير مكلفة نسبياً مقاومتها للتآكل ليست كبيرة chan على سبيل المثال؛ مادة فلزية بصفتها مادة بسيطة (مثل التيتانيوم titanium أو الألومنيوم (aluminum وسبيكة [مثل سبيكة أساسها فلز انتقالي مثل سبيكة أساسها
YY stainless steel فولاذ لا يصداً Sie كمكون رئيسي ؛» iron (أو سبيكة تحتوي على حديد iron حديد molybdenum مولييدتوم nickel تيكل «chromium يحتوي على كروم faa (بما في ذلك فولاذ لا كمكون رئيسي) مثلاً nickel (أو سبيكة تحتوي على نيكل nickel وغيرها))؛ سبيكة أساسها نيكل سبيكة أساسها كوبلت ¢((INCONEL وبالاسم التجاري HASTELLOY سبيكة بالاسم التجاري وسبيكة titanium كمكون رئيسي)؛ أو سبيكة تيتانيوم cobalt (أو سبيكة تحتوي على كوبلت cobalt © [aluminum ألومنيوم وقد تتضمن خطوة فصل مزيج الحفاز السائل خطوةٍ واحدة أو عدة خطوات متوالفة. ويمكن عادة إعادة تدوير مزيج الحفاز الساثل أو مكون الحفاز مرتفع درجة الغليان (مكون الحفاز الفلزي) الذي تم فصله بواسطة تلك الخطوة أو الخطوات إلى نظام التفاعل؛ كما هو مبين في التجسيد الموضّح في الشكل. علاوة على ذلك»؛ يمكن تبريد مزيج الحفاز السائل (أو إزالة الحرارة عنه) ٠ بواسطة المبادل الحراري وإعادة تدويره إلى المفاعل كما هو مبين في المثال الموضح في الشكل. التبريد من فعالية إزالة الحرارة للنظام بأكمله. (Fung ويمكن أن ويحتوي مزيج الحفاز السائل الذي تم فصله (أو المكون منخفض التطايرية أو الجزء مرتفع ionic iodide اليوديد الأيوني «(rhodium حفاز روديوم Sti) درجة الغليان) على الحفاز الفلزي بالإضافة إلى (lithium 100106 يوديد ليثيوم Jie alkali metal iodide قلوي HB (مثلاً يوديد Vo «methyl iodide يوديد المقيل acetic acid حمض الأسيتيك Fie) المكونات المتبقية بدون تبخير .(hydrogen iodide ويوديد الهيدروجين methyl acetate الماء؛ أسيتات المثيل المبخر الومضي)؛ قد تتراوح النسبة (النسبة الوزنية) Jl) وفي عملية التقطير الومضي للمكون المتطاير المراد فصله إلى مزيج الحفاز السائل (أو المكون منخفض التطايرية) من حوالي إلى 80/7١ والأفضل من حوالي 0/4٠ إلى 50/86 ويفضل من حوالي 85/15 إلى 90/٠0 ٠٠
Mo /¥ 0 على methyl acetate ووفقاً للاختراع الحالي؛ يتم تعديل (أو ضبط) تركيز أسيتات المثيل الأقل بين المكونات الموجودة في مزيج الحفاز السائل. ويتيح تعديل التركيز منع إنتاج أو زيادة تركيز يوديد الهيدروجين 6 1070:0860 في المبخر الومضي بشكل فعال تحت مدى واسع من ظروف التقطير الومضي. وتساهم عدة عوامل في سبب منع ازدياد تركيز يوديد الهيدروجين Yo ويتضمن أحد هذه methyl acetate (Jill عن طريق تعديل تركيز أسيتات hydrogen iodide وفقاً لتفاعل الاتزان التالي. hydrogen iodide العوامل استهلاك يوديد الهيدروجين
CH;l + CH;COOH هه CH3COOCH; + Hi
AR
في مزيج الحفاز السائل من مدى لا methyl acetate ويمكن اختيار تركيز أسيتات المثيل
Se) أن لا يقل عن 0,7 وزناً Mie وزناً) ويمكن 77٠ إلى ١.1 (مثلاً؛ من Gy 7 ١,1 يقل عن إلى ١,8 من حوالي S من حوالي ١,؛ إلى 715 وزناً) ويفضل أن لا يقل عن 70,8 وزناً
St) وزناً Zo و ٠,7 والأفضل أن يكون بين حوالي 0,9 و 75 وزناً وعادة بين حوالي GAR إلى 77 وزناً والأفضل من حوالي 0,4 إلى ١,8 من حوالي ,؛ إلى 77 وزناً ويفضل من حوالي 0 في مزيج الحفاز methyl acetate وعلاوة على ذلك؛ قد يكون تركيز أسيتات المثيل . (Ls JARS ويفضل أن (Gas 7٠١ إلى ٠١7 وزناً )5 يتراوح من حوالي 7١ السائل مرتفعاً بحيث لا يقل عن 71,5 والأفضل أن لا يقل عن (Ls 78 إلى ٠١4 يتراوح من حوالي Sl) Ws 71,3 لا يقل عن يتراوح SE) إلى 27 وزناً) وبصفة محددة» لا يقل عن 77 وزناً ٠١7 وزناً (مثلاً؛ يتراوح من حوالي إلى 70 ونناً). ٠,7 Jaa ٠ في جهاز الإيماض مرتفعاً methyl acetate Jill وبالمناسبة؛ عندما يكون تركيز أسيتات أو زيادة تركيزه في حين يتم عرقلة hydrogen iodide fall بصورة مفرطة؛ يمكن منع إنتاج يوديد الخطوات التالية بسبب الفصل المخفّض للطور العضوي والطور المائي أو غيرها. ولذلك» يكون هنالك حالات معينة لا يمكن إجراء العملية فيها بشكل مستقر. ويمكن أن يُختار تركيز الماء في مزيج الحفاز السائل على سبيل المثال من مدى لا يزيد Vo وزناً (مثلاً؛ من ٠١ إلى 717 وزناً)؛ ويمكن مثلاً أن لا يزيد عن ١ عن 715 وزناً (مثلً من ونناً) ZA إلى ١48 ويفضل أن لا يزيد عن 728 وزناً (مثلاً من حوالي (Lys 7٠١ إلى vio حوالي وزناً)؛ وبصفة محددة لا يزيد عن Te إلى ١.8 من حوالي Sie) Uys 78 والأفضل أن لا يزيد عن (Las ZY إلى ٠.8 من حوالي Sta) وزناً 7 في مزيج الحفاز acetic acid وعلاوة على ذلك يمكن أن لا يقل تركيز حمض الأسيتيك Ye يقل عن 146 وزناً of إلى 790 وزناً) ويفضل To وزناً (مثلاً من حوالي 7 ٠ عن Me السائل إلى ٠٠ وزناً (مثلاً من حوالي 75 ٠ وزناً) والأفضل أن لا يقل عن 74٠ (مثلاً من حوالي £0 إلى إلى 790 ونناً. ٠١ وعادة يتراوح من حوالي (3s 8 في مزيج الحفاز السائل من methyl iodide ويمكن أيضاً أن يختار تركيز يوديد المثيل وزناً (مثلاً من حوالي 0.001 إلى 78 وزناً)؛ ويمكن مثلاً أن لا يزيد عن 7٠0 مدى لا يزيد عن YO إلى 77 وزناً) ويفضل أن لا يزيد عن 70 وزناً (مثلاً من حوالي ٠.005 وزناً (مثلاً من حوالي 2 إلى 74 وزناً) والأفضل أن لا يزيد عن 77 وزناً (مثلاً؛ من حوالي 0.05 إلى 7%,0 وزناً)؛ 0.0٠
وتحديداً لا يزيد عن 7 وزناً (مثلاً من حوالي ٠,١ إلى 71,8 (Lys وقد يتراوح عادة من حوالي »,١ إلى 77 وزناً (مثلاً من حوالي ١,9 إلى 77,5 وزناً؛ ويفضل من حوالي ٠,5 إلى TESTA ويمكن أيضاً أن لا يزيد تركيز اليوديد الأيوني jodide 10010 في مزيج الحفاز السائل Sie عن 7680 وزناً (مثلاً من حوالي ١ إلى 7506 وزناً)؛ ويفضل أن لا يزيد 75٠ وزناً (مثلاً من حوالي ٠ * إلى 745 وزثاً) والأفضل أن لا يزيد 74٠6 وزناً (مثلاً من حوالي AY 777 وزناً)؛ وتحديداً لا يزيد عن 777 وزناً (مثلاً من حوالي © إلى 770 (Lys وقد يتراوح عادة من حوالي © إلى 7706 وزناً (مثلاً من حوالي 8 إلى (Ls 77١0 . وتشترك أيضاً عدة عوامل في سبب منع زيادة تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide عند تعديل تركيز اليوديد ١ لأيوني jonic iodide وتتضمن أحد هذه العوامل استهلاك يوديد الهيدروجين 100106 hydrogen عن طريق تفاعل الاتزان التالي. MI + 01:00017 <> CH;COOM + HI ٠ A الصيغة؛ يمثل 14 شق من يوديد أيوني ionic iodide (أو de gana كاتيونية؛ Nie فلز قلوي مثل الليقيرم مسنطنا)]. وبالمناسبة؛ يفضل لمنع التآكل أن يكون مقدار المكون Jie) يوديد المثيل methyl iodide أو يوديد الليثيوم (lithium iodide الذي ينتج يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في تفاعل الاتزان Ja ١٠٠ وبالمناسبة؛ يمكن أن لا يقل تركيز الحفاز الفلزي metal catalyst في مزيج الحفاز السائل مثلاً عن ٠٠١ جزءِ في المليون Dia) من حوالي ١٠١ إلى ٠٠٠٠١ جزء في المليون)؛ ويفضل أن لا يقل عن ٠٠١ جزء في المليون Si) من حوالي ©008٠ (Yor جزء في المليون) والأفضل أن لا يقل عن Yor جزءٍ في المليون (مثلاًء من حوالي ٠ ©؟ إلى 0060 جزءٍ في المليون) على أساس الوزن. وعلاوة على ذلك؛ يمكن أن لا يزيد تركيز الميثانول methanol في مزيج الحفاز السائل عن Tay ١ (مثلاً من حوالي صفر إلى 20,8 وزناً) ويفضل أن لا يزيد عن 70,5 وزناً (مثلاً من حوالي صفر إلى 70,7 وزناً) والأفضل أن لا يزيد عن 70,3 وزناً (مثلاً من حوالي صفر إلى 7 وزناً). وكما وصف لاحقاً؛ كلما af تركيز الميثانول 602001 فإن تركيز أسيتات المثيل methyl acetate Yo في مزيج الحفاز السائل يزداد بسهولة وفعالية. . ولا يكون تعديل تراكيز المكونات في مزيج الحفاز Jl (سواء بالزيادة أو التخفيض) محدداً بشكل خاص؛ ويمكن تعديل التراكيز بواسطة ظرف التقطير الومضي وكمية محلول العملية المراد sale) 05% من خطوة (خطوات) التفاعل اللاحقة وغيرها. ولتعديل تركيز كل مكون يمكن إذا ْ
اقتضى الأمر إضافة مكون لزيادة أو تقليل تركيز كل مكون [على سبيل المثال الاستر ester (مثلاً أستر الأسيتات «(acetate ester الكحول alcohol والإيثر [ether إلى مزيج التفاعل و/أو المبخر الومضي. ويمكن أن يكون هذا المكون Ble عن مكون (مكون قاعدي) متفاعل مع يوديد الهيدروجين hydrogen iodide ° فعلى سبيل المثال؛ يمكن زيادة تركيز أسيتات المثيل methyl acetate في مزيج الحفاز السائل بشكل فعال عن طريق زيادة تركيز الميثانول methanol في مزيج التفاعل (أو مزيج الحفاز (JL أي أنه كما هو ممثل بالصيغة التالية؛ يسمح للميثانول methanol بالتفاعل مع حمض الأسيتيك z wy acetic acid أسيتات المثيل methyl acetate (تفاعل الاتزان). وهكذا يحدث تفاعل الانتاج لأسيتات المثيل methyl acetate بسهولة عند زيادة تركيز الميثانول .methanol ونتيجة ٠ لذلك؛ يمكن زيادة تركيز أسيتات المثيل methyl acetate في مزيج الحفاز السائل. CH;COOCH; + HO ج CH;0H + CH3COOH وفي gad) الذي يتم فيه ضمان فعالية الإنتاج لحمض الأسيتيك acetic acid بشكل «lS يمكن زيادة تركيز الميثانول methanol عن طريق زيادة تركيز الميثانول methanol المراد تزويده في التفاعل أو عن طريق تقليل معدل التفاعل لتثبيط استهلاك الميثانول -methanol ويمكن تعديل معدل ٠ التفاعل عن طريق الاختيار الملاثم لدرجة pha التفاعل؛ تركيز الحفاز (مثلاً تركيز يوديد المثيل methyl iodide وتركيز الحفاز الفلزي)؛ تركيز أول أكسيد الكربون (أو الضغط الجزئي لأول أكسيد الكربون) وغيرها. ويمكن تعديل تركيز الميثانول methanol عن طريق إضافة الميثانول methanol مباشرةٍ كما سيوصف Jaa وبالمناسبة»؛ Lay أن تركيز أسيتات المقيل methyl acetate أو الميثانول methanol في YY محلول التفاعل يكون أعلى؛ يمكن زيادة مقدار إنتاج حمض الأستيك acetic acid وتقليل تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في lea الإيماض بسهولة. ومع ذلك؛ يكون هنالك بعض الحالات حيث يكون التفاعل غير مستقر ويصعب التحكم بدرجة الحرارة أو الضغط. وبناءً عليه؛ يفضل خفض تركيز أسيثات المقيل methyl acetate أو الميثانول methanol كمصدر لأسيتات المثيل methyl acetate في محلول التفاعل وتعديل تركيز أسيتات المثيل methyl acetate في جهاز Yo الإيماض (أو مزيج الحفاز السائل) إلى التركيز المذكور أعلاه. وعلاوة على ذلك؛ يمكن تعديل تركيز أسيتات المثيل methyl acetate في مزيج الحفاز السائل عن طريق إضافة أسيتات methyl acetate Jil و/أو مكون يستخدم لانتاج أسيتات المثيل methyl acetate (مثل الميثانول methanol وثنائي Jie ايثر «عطاه 410601). وبالمناسبة وكما
ف وصف wel يسمح للميثانول methanol بالتفاعل مع حمض الأسيتيك acetic acid لإنتاج أسيتات المثيل methyl acetate ويسمح لثنائي مثيل ايثر dimethyl ether بالتفاعل مع يوديد الهيدروجين hydrogen iodide وغيرها لإنتاج الميثانول methanol الذي يسمح له بالتفاعل مع حمض الأسيتيك z wy acetic acid أسيتات المثيل methyl acetate وحسب الضرورة؛ يمكن إضافة أو خلط مكون ٠ لزيادة أو تقليل تركيز كل مكون على شكل مزيج يحتوي على المذيب. وعند إضافة المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى مزيج التفاعل» لا يكون موضع (أو توقيت) الإضافة محدداً بشكل خاص طالما أن المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز يتم إضافته قبل تزويد مزيج التفاعل إلى المبخر الومضي. ويمكن تزويد المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى المفاعل. ومن حيث فعالية العملية؛ يمكن تزويد المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى مزيج التفاعل ٠ بعد تصريف مزيج التفاعل من المفاعل وقبل تزويد مزيج التفاعل إلى المبخر الومضي (فعلى سبيل JU كما هو مبين في الشكل؛ يمكن تزويد المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى خط تغذية المبخر الومضي بحيث يتم تصريف مزيج التفاعل من المفاعل. ض وعلاوة على ذلك؛ عند إضافة المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى المبخر الومضي (أو عند خلط المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز مع مزيج التفاعل في المبحخر الومضي)؛ فإن الموقع ٠ (أعلى مستوى) المخصص للإضافة لا يكون محدداً بشكل خاص. ويمكن إضافة المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى كل من الجزء ذي الطور السائل أو الجزء غازي الطور في المبخر الومضي أو كليهما. ويمكن إضافة المكون الذي يزيد أو يقلل التركيز إلى محلول العملية المراد إعادة تدويره من الخطوة (الخطوات) اللاحقة إلى المبخر الومضي. ويحتوي المكون المتطاير (تيار حمض الأسيتيك (acetic acid المفصول في جهاز ٠ الإيماض على حمض الأسيتيك acetic acid الناتج؛ بالإضافة إلى يوديد methyl 160:06 Jill استر لحمض الأسيتيك z2Ull acetic acid مع ميثاتول methanol (مثل أسيتات المثيل methyl ola o(acetate مقدار صغير جداً من المنتج الثانوي (المنتجات الثانوية) SE) الاسيتالدهيد acetaldehyde وحمض البروبيونيك (propionic acid وغيرها. ويمكن تقطير المكون المتطاير في عمود التقطير الأول وعمود التقطير الثاني لإنتاج حمض الأسيتيك acetic acid المنقى. Yo ووفقاً للاختراع الحالي؛ يمكن تثبيط إنتاج أو زيادة تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen fodide في جهاز الإيماض. وهكذا يمكن مثلاً ضبط تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide في المكون المتطاير بحيث لا يزيد عن 7١ وزناً Sg) حوالي صفر أو حد الكشف إلى 0.8 7 ونناً)؛ ويفضل أن لا يزيد عن 0.6 7 وزناً (مثلاًء من حوالي 0.00٠ إلى Zee وزناً)؛ والأفضل أن لا يزيد
YA
(مثلاً من Wis 7 ١ إلى 7ر70 وزناً) وتحديداً لا يزيد عن ٠0٠ من حوالي Si) Uys 7 0,“ عن ضبط تركيز يوديد الهيدروجين Mie إلى 70.04 وزناً). وعلاوة على ذلك؛ يمكن ١.07 حوالي وزناً (مثلاً من حوالي صفر 7١ في مزيج الحفاز السائل إلى مقدار لا يزيد عن hydrogen iodide إلى 0.00٠ من حوالي Sa) أو حد الكشف إلى 0,8 7 وزناً) ويفضل أن لا يزيد عن 70,6 وزناً إلى 70.7 وزناً) وتحديداً ١00٠ وزناً)؛ والأفضل أن لا يزيد عن ,0 7 وزناً (مثلاً من حوالي 20,0 ٠ إلى 70.04 ونناً). ٠.07 لا يزيد عن 70.1 وزناً (مثلاً من حوالي مباشرة أو قياسه (أو حسابه) hydrogen iodide ويمكن قياس تركيز يوديد الهيدروجين الذي يحصل عليه jodide بشكل غير مباشر. فعلى سبيل المثال؛ يمكن طرح تركيز أيون اليوديد من ملح اليوديد ©0010 [على سبيل المثال؛ يوديد 00:06 يحصل عليه من الحفاز الإسهامي مثل (zn أو Mo «Cr «Ni Fe فلز متآكل (مثل jodide يوديد Sie) metal ]شد ويوديد مثيل 16نم ٠ )1( iodide من التركيز الكلي لأيونات اليوديد [(acetic acid ناتج في عملية إنتاج حمض الأسيتيك hydrogen iodide لتحديد (أو حساب) تركيز يوديد الهيدروجين (acetic acid من المكون المتطاير الذي تم فصله (تيار حمض الأسيتيك 23a ويمكن إدخال في مكثف أو مبادل حراري من أجل التبريد أو إزالة الحرارة» كما في التجسيد الموضح في الشكل. ونظراً لأنه يمكن تخفيف حرارة التفاعل المنتقلة من محلول التفاعل إلى البخار الومضي بشكل جزئي Ve acetic acid يمكن تحسين كفاءة إزالة الحرارة ويمكن إنتاج حمض الأسيتيك hall A) Gob عن | بنقاوة عالية بدون تركيب وحدة تبريد دورانية خارجية في المفاعل. وعلاوة على ذلك؛ يمكن إعادة كما في التجسيد الموضح في الشكل. ومن celal تدوير المكون المتطاير الذي تم تبريده إلى نظام ناحية أخرىء يمكن إدخال المكون الغازي الموجود في المكون المتطاير الذي تم تبريده إلى نظام الغسل. Ye (acetic acid (خطوة جمع حمض الأسيتيك لخطوة التقطير) جمع حمض الأسيتيك acetic acid يتم في خطوة جمع حمض الأسيتيك من المكون المتطاير. ولا acetic acid على حمض الأسيتيك ging بواسطة فصل تيار acetic acid تكون طريقة الفصل محددة بصفة خاصة بطريقة معينة. وعادة؛ يتم تغذية المكون المتطاير الذي تم فصله إلى عمود التقطير (عمود التجزئة)؛ ويتم فصله إلى جزء منخفض درجة الغليان (جزء منتجات Yo حمض 00600571 100106 Jill علوية) يحتوي على مكون متخفض درجة الغليان (مثل يوديد والأسيتالدهيد 0106م الناتج بشكل methyl acetate أسيتات المثيل cacetic acid الأسيتيك بواسطة (acetic acid حمض الأسيتيك Jl) acetic acid ثانوي) وتيار يحتوي على حمض أسيتيك
Yq بالضرورة على تلك الموضحة في acetic acid التقطير. ولا تقتصر خطوة جمع حمض الأسيتيك التجسيد المبين في الشكل؛ وقد تكون خطوة تجرى فيها معالجة لإزالة المكون منخفض درجة الغليان خطوة تستخدم عمود التقطير الموصوف في نشرة Sie) الماء في عمود تقطير مفرد AY ومعالجة معالجة لإزالة المكون منخفض درجة Led أو خطوة تجرى (VIVE + براءة الاختراع اليابانية رقم إضافية في عمود تقطير ثانٍ. AT الغليان ومعالجة لإزالة الماء في عمود تقطير أول تليها خطوة © فإنه تشتمل الخطوة المفضلة للاستخدام على gal وإذا تم الأخذ بعين الاعتبار كفاءة التنقية وأمور خطوة تقطير تجرى فيها معالجة لإزالة المكون منخفض درجة الغليان بصورة رئيسية في عمود التقطير الأول وتجرى فيها معالجة لإزالة الماء بصورة رئيسية في عمود التقطير الثاني. (عمود التقطير الأول) (الجزء منخفض درجة الغليان) acetic acid من تيار حمض الأسيتيك sda يتم إدخال Ve acetic acid المزّد من جهاز الإيماض إلى المبادل الحراري؛ ويتم تغذية تيار حمض الأسيتيك منخفض gia المتبقي (المتخلف) إلى عمود التقطير الأول. وفي عمود التقطير الأول؛ يتم فصل منتجات علوية أول) يحتوي على جزءٍ gia درجة الغليان (أو جزء أول منخفض درجة الغليان أو أسيتات مثيل cmethyl iodide يوديد مثيل edie) على الأقل من مكون منخفض درجة الغليان وجزء مرتفع درجة الغليان (أو جزء سفلي) يحتوي (acetaldehyde وأسيتالدهيد cmethyl acetate Vo propionic acid حمض البروبيونيك (Jie) على جزء على الأقل من مكون مرتفع درجة الغليان acetic ويتم سحب تيار يحتوي على حمض الأسيتيك acetic acid والماء) من تيار حمض الأسيتيك على الأقل. وفي التجسيد الموضح في الشكل ٠؛ يتم سحب التيار الذي يحتوي على حمض 8 كتيار جانبي بواسطة اقتطاع جانبي. ويمكن سحب التيار المحتوي على acetic acid الأسيتيك من أسفل العمود. acetic acid حمض الأسيتيك Yo المزوّد إلى عمود التقطير acetic acid وكما صف أعلاه؛ لا يكون تيار حمض الأسيتيك الذي يتم الحصول عليه عن طريق إزالة مكون حفاز acetic acid الأول بتيار حمض الأسيتيك acetic acid من خليط التفاعل لنظام التفاعل. وقد يحتوي تيار حمض الأسيتيك rhodium الروديوم مكون منخفض درجة الغليان» مكون مرتفع درجة cacetic acid على الأقل على حمض الأسيتيك الغليان؛ ومركبات أخرى؛ أو ببساطة قد يكون عبارة عن خليط من هذه المكونات. Yo عمود JU استخدام عمود تقطير تفليدي على سبيل Mie وكعمود تقطير أول؛ يمكن عمود صفائحي أو عمود محثنُوٌ. وقد تشتمل المادة التي يتكون منها (أو يتشكل منها) Jia تقطير عمود التقطير الأول على نفس المادة التي يتشكل منها جهاز الإيماض. ووفقاً للاختراع الحالي؛
يمكن تثبيط إنتاج أو ارتفاع تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen iodide خطوة التقطير الومضي. وبالتالي ¢ يمكن كعمود تقطير أول استخدام عمود تقطير مصنوع من نفس المادة غير المكلفة نسبياً (مثلاً؛ سبيكة) التي يتشكل منها المبخّر الومضي. ويمكن اختيار درجة حرارة وضغط التقطير في عمود التقطير الأول على نحو ملام اعتماداً © على ظروف مثل نوع عمود التقطير أو المادة الرئيسية (المستهدفة) التي ينبغي إزالتها والتي تُختار من المكون منخفض درجة الغليان والمكون مرتفع درجة الغليان. فعلى سبيل المثال» قد يتراوح الضغط الداخلي في العمود الصفائحي (وعادة الضغط عند الجزء العلوي للعمود) من حوالي ٠,١٠ إلى ١ ميغاباسكال ويفضل من حوالي ١.0٠ إلى ١,7 ميغاباسكال والأفضل من حوالي 509 إلى 0+ ميغاباسكال بدلالة ضغط المقياس. ١ وعلاوة على ذلك؛ يمكن تعديل درجة الحرارة الداخلية في عمود التقطير الأول (وعادة درجة الحرارة عند الجزء العلوي للعمود) عن طريق تعديل الضغط الداخلي للعمود؛ وقد تتراوح؛ على سبيل المثال» من حوالي ٠١ إلى PVA ويفضل من حوالي ٠ © إلى cao والأفضل من حوالي ٠٠١ إلى VE وعلاوة على ذلك؛ لا يكون العدد النتظري للصفائح في العمود الصفائحي محدّداً بصفة No خاصة بعدد ٠ Mae وء يتراوح بالاعتماد على نوع المكوّن الذي ينبغي فصله؛ من حوالي © إلى rv ويفضل من حوالي 7 إلى Fo والأفضل من حوالي 8 إلى .٠١ كما قد يتراوح العدد النظري للصفائح من حوالي ٠١ إلى Ar ويفضل من حوالي ١١ إلى ٠١ والأفضل من حوالي ١5 إلى 40 لفصل الأسيتالدهيد acetaldehyde بنسبة عالية (أو بدقة عالية). وفي عمود التقطير الأول » يمكن اختيار نسبة الرجيع reflux ratio بحيث تتراوح؛ على سبيل XS المثال؛ من حوالي ١,5 إلى Free ويفضل من حوالي 8 إلى ٠٠٠١ اعتماداً على العدد النظري المذكور أعلاه للصفائح؛ أو يمكن تقليلها عن طريق زيادة العدد النظري للصفائح. وبالمناسبة؛ يمكن إجراء التقطير في عمود التقطير الأول بدون ترجيع. ونظراً لأن الجزء منخفض درجة الغليان الذي تم فصله من عمود التقطير الأول يحتوي على مكون مفيد (مثل « يوديد المثيل 1001106 methyl وأسيتات المثيل «(methyl acetate فإته يمكن sale) vo تدوير ذلك الجزء مباشرةٍ إلى نظام التفاعل (أو المفاعل) و/أو عمود التقطير الأول؛ أو يمكن تسبيله بواسطة إزالة جزء من حرارة التفاعل في نظام التفاعل Sie) المفاعل) باستخدام مكثف؛ مبادل حراري أو وسيلة أخرى ومن تم يثعاد تدويرهِ إلى المفاعل و/أو عمود التقطير الأول. فعلى سبيل JU ليس من الضروري أن يعاد تدوير الجزء منخفض درجة الغليان الذي تم سحبه من عمود
التقطير الأول إلى عمود التقطير الأول بعد تكثيفه بواسطة المكثف كما في التجسيد الموضّح في الشكل .١ ويمكن إعادة تدوير الجزء منخفض درجة الغليان الذي تم سحبه مباشرة؛ أو ببساطة يتم تبريده لإزالة مكون الغاز المتسرّب Jf Jha) أكسيد الكربون carbon monoxide والهيدروجين (hydrogen ومن ثم يعاد تدوير المكون BL المتبقي (المتخلف). وعلاوة على ذلك» فإن ٠ الأسيتالدهيد cacetaldehyde من بين المكوّنات متخفضة درجة الغليان في shall منخفض درجة الغليان» andy نوعية حمض الأسيتيك acetic acid كمنتج نهائي. وبالتالي؛ ald إذا اقتضى الأمر» بعد إزالة الأسيتالدهيد acetaldehyde (على سبيل المثال؛ بعد إزالة الأسيتالدهيد acetaldehyde عن طريق تعريض الجزءٍ الذي يحتوي على الشوائب منخفضة درجة الغليان لخطوة فصل الأسيتالدهيد acetaldehyde المذكورة لاحقاً (عمود فصل الأسيتالدهيد ¢((acetaldehyde يمكن إعادة تدوير ٠ المكوّن (المكوّنات) المتبقي إلى نظام التفاعل و/أو عمود التقطير الأول. وبالمناسبة؛ يمكن إدخال مكون الغاز المتسرّب إلى نظام الغسل. ويحتوي الجزءٍ مرتفع درجة الغليان (الجزء السفلي أو الجزء الأول مرتفع درجة الغليان) الذي تم فصله في عمود التقطير الأول على ماء؛ حمض أسيتيك cacetic acid حفاز rhodium ass; معلق؛ يوديد ليقيوم dithium iodide بالإضافة إلى حمض الأسيتيك acetic acid المتبقي بدون ve تبخيرء الشوائب منخفضة درجة الغليان وغيرها. وبالتالي؛ يمكن إذا لزم الأمر sale) تدوير الجزء مرتفع درجة الغليان إلى نظام التفاعل (المفاعل) و/أو جهاز الإيماض. وبالمناسبة؛ يمكن قبل sale) التدوير A) حمض البروبيوتيك propionic acid الذي يقسد نوعية حمض الأسيتيك acetic acid كمنتج نهائي. (عمود التقطير الثاني) Ye في عمود التقطير الثاني» يتم إزالة يوديد الهيدروجين hydrogen iodide مكون منخفض درجة الغليان ومكون مرتفع درجة الغليان؛ الذي يبقى كل منها بدون فصل؛ في عمود التقطير الأول بدقة عالية أيضاً. وكعمود تقطير ثان؛ يمكن استخدام عمود تقطير تقليدي؛ على سبيل المثال؛ عمود صفائحي؛ عمود Shine وأعمدة أخرى. وقد تشتمل المادة التي يتكون منها (أو يتشكل منها) عمود التقطير الثاني على نفس المادة التي يتشكل منها عمود التقطير الأول. وعلاوة على ذلك؛ يمكن Ye اختيار درجة الحرارة الداخلية للعمود؛ الضغط الداخلي للعمود؛ العدد النظري للصفائح ونسبة الرجيع في عمود التقطير الثاني اعتماداً على نوع عمود التقطير؛ على سبيل المثال؛ يمكن اختيارها من نفس المدى (أو مدى مشابه) لعمود التقطير الأول أعلاه.
YY
منتجات gia ونظراً لأن الجزء منخفض درجة الغليان (جزءٍ ثانٍ منخفض درجة الغليان أو علوية ثانٍ) الذي تم فصله من عمود التقطير الثاني يحتوي على مكون مفيد مثل يوديد المثيل فإته يمكن إعادة تدوير ذلك الجزءٍ مباشرة إلى cmethyl acetate أو أسيتات المثيل methyl iodide من حرارة التفاعل eda A) المفاعل) و/أو عمود التقطير الثاني. ومن أجل Sa) نظام التفاعل منخفض درجة الغليان الذي تم سحبه من عمود التقطير الأول shall بنفس الطريقة المستخدمة © يمكن تسييل الجزء منخفض درجة الغليان باستخدام مكثف؛ مبادل حراري أو وسيلة أخرى ومن ثم الجزء منخفض درجة الغليان يحتوي أحياناً على oF إعادة تدويره. وعلاوة على ذلك؛ نظراً يمكن على سبيل المثال إعادة تدوير الجزء منخفض درجة الغليان بعد cacetaldehyde أسيتالدهيد المذكور لاحقاً إذا acetaldehyde بواسطة عمود فصل الأسيتالدهيد acetaldehyde إزالة الأسيتالدهيد لزم الأمر. وبالمناسبة؛ يمكن إدخال مكون الغاز المتسرب إلى نظام الغسل. Ys وعلاوة على ذلك» يمكن تصريف الجزء مرتفع درجة الغليان (الجزء مرتفع درجة الغليان الثاني) من الجزءِ السفلي أو الأدنى للعمود. ونظراً لأن الجزء مرتفع درجة الغليان الذي تم فصله من ومركبات أخرى؛ فإنه يمكن propionic acid عمود التقطير الثاني يحتوي على حمض بروبيونيك نظراً لأن الجزء مرتفع cells طرح الجزء مرتفع درجة الغليان مباشرة (أو إزالته جانباً). وعلاوة على فإنه يمكن إذا لزم Laff acetic acid درجة الغليان يحتوي في بعض الأحيان على حمض الأسيتيك ve الأمر إعادة تدوير الجزء مرتفع درجة الغليان الذي تم إزالة و/أو استعادة حمض البروبيونيك المفاعل). Sie) منه إلى نظام التفاعل propionic acid المنقى بواسطة acetic acid وفي عمود التقطير الثاني يتم سحب تيار حمض الأسيتيك وقد يكون موقع المنفذ الجانبي للتيار عادة عند .١ الاقتطاع الجانبي المبين في التجسيد وفقاً للشكل من الجزء acetic acid جزء أوسط أو سفلي لعمود التقطير؛ أو يمكن سحب تيار حمض الأسيتيك ٠ : من منفذ acetic acid السفلي للعمود. وبالمناسبة؛ يمكن عن طريق سحب تيار حمض الأسيتيك مرتفع ial التيار الجانبي الموجود عند موقع علوي بالنسبة إلى المنفذ السفلي المستخدم لسحب درجة الغليان» فصل التيار الجانبي والجزء مرتفع درجة الغليان بشكل فعال. (iodide (خطوة إزالة اليوديد المنقى المستعاد إلى عمود لإنتاج منتج acetic acid وعادة يتم إدخال حمض الأسيتيك Yo ويشكن أن يتم .86600 acid ويتم الحصول عليه كمنتج حمض أسيتيك acetic acid حمض الأسيتيك المنتقى قبل أو بعد إدخاله إلى عمود إنتاج منتج حمض acetic acid تعريض حمض الأسيتيك
YY
(على سبيل المثال» iodide لإزالة اليوديد iodide أيضاً لخطوة إزالة اليوديد acetic acid الأسيتيك انوللدى.© مثل يوديد هكسيل أو يوديد ديسيل). iodide يوديد ألكيل-و:© مع مزيل acetic acid يمكن ملامسة تيار حمض الأسيتيك codide وفي خطوة إزالة اليوديد ا «zeolite زيوليت Sie) iodide (عامل أو مادة مزيلة) له قابلية لإزالة أو امتزاز اليوديد 0: ومن أجل إزالة اليوديد . (ion exchange resin 20078160؛ وراتتج تبادل أيوني carbon كربون منشط © الذي يتم الحصول عليه بشكل متواصل (في acetic acid بفعالية من تيار حمض الأسيتيك 0568 من المفيد استخدام راتنج تبادل أيوني له قابلية لإزالة أو (continuous system نظام متواصل براتنج تبادل أيوني في داخله. 0530 iodide اليوديد AY وبخاصة عمود dodide امتزاز اليوديد راتنج sale) راتنج تبادل أيوني sale ويكون راتنج التبادل الأيوني الذي ينبغي استخدامه على الأقل من الموقع الفعال on أو تبادل Dla) حيث يتم (cation exchange resin تبادل كاتيوني V+ مجموعة (sulfone مجموعة سلفون Jie acidic group (يكون عادة مثلاً مجموعة حمضية أو مجموعة فوسفون phenolic hydroxyl مجموعة هيدروكسيل فنولية carboxyl كربوكسيل مع فلز. وقد يشمل الفلزء على سبيل المثال» عنصر واحد على الأقل ياختار من (phosphone (ن0). وقد cupper ونحاس «(Hg) mercury زثبق (Ag) silver المجموعة المكرّنة من فضة من راتنج تبادل كاتيوني حمضي قوي (substrate يختار راتنج التبادل الكاتيوني كقاعدة (ركيزة ٠ weak راتنج تبادل كاتيوني حمضي ضعيف (معتدل) strong acidic cation exchange resin ويتضمن النوع المفضل راتتج تبادل كاتيوني حمضي قوي؛ (mild) acidic cation exchange resin وما شابه ذلك. cmacroreticular على سبيل المثال؛ راتنج تبادل أيوني من نوع كبير المسام وقد تتراوح نسبة الموقع الفعال المتبادل مع الفلز (أو الذي تم إحلاله بالفلز) في راتنج مول؛ ويفضل من حوالي 15 إلى ZA إلى ٠١ التبادل الأيوني؛ على سبيل المثال» من حوالي مول» والأفضل من حوالي © إلى 770 مول. 5 الناتج من عمود التقطير acetic acid ويُحقاق على الأقل تلامس تيار حمض الأسيتيك خلال acetic acid الثاني مع راتنج التبادل الأيوني (ويفضل عن طريق تمرير تيار حمض الأسيتيك وأثناء تلامسه مع (أو مرورهِ خلال) راتنج التبادل iodide راتنج التبادل الأيوني) إزالة اليوديد ٠ (أو رفعها) acetic acid لأيوني » يمكن إذا لزم الأمر زيادة درجة حرارة تيار حمض الأسيتيك ١ 8 تدريجياً منع تدفق أو انبثاق الفلز من راتنج التبادل الأيوني hall تدريجياً. ويضمن رفع درجة فضلاً عن إزالة اليوديد 100106 بفعالية.
Ye عمود محشو يحتوي بداخله على حشوة من jodide وقد تتضمن أمثلة عمود إزالة اليوديد راتنج التبادل الأيوني على الأقل متبادل مع فلزء عمود 3335 بطبقة من راتنج تبادل أيوني (على وما شابه (guard bed وقاية Aah) (particulate resin سبيل المثال؛ طبقة تشتمل على راتنج دقائقي اليوديد 160106 براتنج التبادل الأيوني المتبادل مع الفلزء بالإضافة A) ذلك. ويمكن أن 353 عمود anion إلى راتنج تبادل أيوني آخر (على سبيل المثال» راتنج تبادل كاتيوني» راتنج تبادل أنيوني © داخله. وحتى لو انبثق الفلز (nonion exchange resin وراتنج تبادل غير أيوني exchange resin من راتنج التبادل الأيوني المتبادل مع الفلزء فإن وضع راتنج التبادل الكاتيوني عند الجانب اللاحق وضع راتنج التبادل الكاتيوني عن طريق ial) لراتنج التبادل الأيوني المتبادل مع الفلز (على سبيل يتيح التقاط الفلز المنبثق (resin bed الحشو؛ أو وضع راتنج التبادل الكاتيوني كطبقة راتنجية .carboxylic acid بواسطة راتتج التبادل الكاتيوني وإزالته من تيار حمض الكربركسيليك Ve ١8 على سبيل المثال» من حوالي ciodide ويمكن أن تتراوح درجة حرارة عمود إزالة اليوديد .مث٠١ إلى Ee إلى ١7م والأفضل من حوالي ٠١ إلى ١٠٠”م؛ ويفضل من حوالي
Joma خلاله بمعدل acetic acid ولا يتحدّد المعدّل الذي يشرّر به تيار حمض الأسيتيك ويمكن أن يتراوح؛ على سبيل المثال؛ في عمود إزالة اليوديد 10106 الذي يستخدم طبقة وقاية؛ على «(bed volume per hour (BV/h)) الطبقة/إساعة aaa من Vo ؟ إلى Moa سبيل المثال؛ من Vo من حجم ٠١ من حجم الطبقة/ساعة؛ والأفضل من حوالي 6 إلى ١١ ويفضل من حوالي © إلى الطبقة/ساعة. acetic acid وفي خطوة إزإلة اليوديد 100108» يمكن أن يتم ملامسة تيار حمض الأسيتيك على الأقل مع راتنج التبادل الأيوني المتبادل مع الفلز. فعلى سبيل المثال؛ قد يشمل عمود إزالة اليوديد 100106 عمود مزوَّد براتنج التبادل الأيوني المتبادل مع الفلز وعمود 253 براتنج تبادل أيوني . ٠ عمود راتتج تبادل أنيوني وعمود راتنج iodide اليوديد A آخر. فعلى سبيل المثال؛ قد يشمل عمود تبادل أيوني متبادل مع الفلز على الجانب اللاحق لعمود راتنج التبادل الأنيوني أو قد يشمل عمود تبادل كاتيوني على الجانب اللاحق لعمود راتنج ith راتنج تبادل أيوني متبادل مع الفلز وعمود التبادل الأيوني المتبادل مع الفلز. ويمكن الرجوع إلى تفاصيل المثال السابق في نشرة طلب براءة وغيرها. ٠/٠671 46 الاختراع الدولية رقم Yo (acetaldehyde (خطوة فصل الأسيتالدهيد الناتج قي التفاعل acetaldehyde عندما يُعاد تدوير الجزءٍ الذي يحتوي على الأسيتالدهيد حمض البروبيونيك Jie ويتم تدويره إلى نظام التفاعل؛ فإن مقدار المنتج الثانوي (المنتجات الثانوية)
Yo alkyl iodide أو يوديد الألكيل unsaturated aldehyde الألدهيد غير المشبع cpropionic acid الموجود في المحلول المراد إعادة تدويره. acetaldehyde يزداد. وبالتالي » يفضل إزالة الأسيتالدهيد حمض Aly لأنه من غير الضروري فصل acetaldehyde وبصفة محدّدة؛ يفضّل إزالة الأسيتالدهيد دون المستوى المعياري في acetic acid وهذا يجعل حمض الأسيتيك propionic acid البروبيوتيك sale) تغذية محلول acetaldehyde عمود التقطير الثاني. وقد تتضمن طريقة فصل الأسيتالدهيد © لفصل جزء acetaldehyde تدوير (محلول ينبغي إعادة تدويرة) إلى عمود فصل الأسيتالدهيد وجزء مرتفع درجة الغليان يحتوي acetaldehyde منخفض درجة الغليان يحتوي على الأسيتالدهيد ماء ومركبات أخرى ومن ثم فصل methyl acetate أسيتات مثيل cmethyl iodide على يوديد مثيل مع مكون الغاز aldehyde من الجزء العلوي لعمود فصل الألدهيد acetaldehyde الأسيتالدهيد وعلاوة على ذلكء (hydrogen والهيدروجين carbon monoxide المتسرب (مثل أول أكسيد الكربون ٠ يمكن إزالة مكون الغاز المتسرب مسبقاً باستخدام مكثف أو وحدة تبريد؛ قبل فصل الأسيتالدهيد بما أن الجزء مرتفع درجة الغليان الناتج بواسطة إزالة الأسيتالدهيد eels فضلاً عن acetaldehyde «els methyl iodide Jie منخفض درجة الغليان يحتوي على يوديد gia بصفته acetaldehyde وما شابه ذلك؛ فإنه يمكن إعادة تدوير acetic acid حمض أسيتيك amethyl acetate أسيتات مثيل
Co الجزءٍ مرتفع درجة الغليان إلى نظام التفاعل. Ve ويمكن على سبيل المثال استخدام عمود تقطير تقليدي مثل عمود صفائحي؛ عمود محشوء عمود تقطير ومضي وغير ذلك كعمود لفصل الألدهيد aldehyde : ويمكن اختيار درجة الحرارة (درجة الحرارة عند الجزء العلوي للعمود) والضغط (الضغط عند الجزء العلوي للعمود) في عمود فصل الأسيتالدهيد acetaldehyde اعتماداً على نوع عمود التفطير Yo غغير ذلك؛ ولا تتحدّد بشكل خاص بقيمة معينة طالما أنه يمكن فصل الأسيتالد هيد acetaldehyde ض على الأقل كجزء منخفض درجة الغليان من محلول sale] التدوير [مثل الجزء أو shad) منخفضة درجة الغليان الناتجة في عمود التقطير الأول و/أو [AL باستخدام الفرق بين درجة غليان الأسيتالدهيد acetaldehyde والمكوّنات الأخرى (ولا سيما يوديد المثيل (methyl iodide فعلى سبيل المثال؛ يتراوح الضغط في العمود الصفائحي من حوالي ١501 إلى ١ ميغاباسكال ويفضل من Ye حوالي ١.0٠ إلى oY ميغاباسكال والأفضل من حوالي 0.06 إلى 0,+ ميغاباسكال بدلالة ضغط المقياس. وتتراوح درجة الحرارة الداخلية للعمود؛ على سبيل المثال؛ من حوالي ٠١ إلى Yor ويفضل من حوالي ٠١ إلى SIV والأفضل من حوالي 60 إلى ٠7١ "م. وقد يتراوح العدد النظري i والأفضل من ١٠١ (AA ويفضل من حوالي ١5١ للصفائح؛ على سبيل المثال؛ من حوالي © إلى .٠٠١ إلى ٠١ حوالي يمكن اختيار نسبة الرجيع بحيث تتراوح من cacetaldehyde وفي عمود فصل الأسيتالدهيد (على ٠١ إلى ٠٠ والأفضل من حوالي Ave إلى ٠١ ويفضل من حوالي ©٠٠٠١ إلى ١ حوالي إلى £40( اعتماداً على العدد النظري المذكور أعلاه للصفائح. 7١ سبيل المثال؛ من حوالي © الأمثلة يقصد بالأمثلة التالية وصف هذا الاختراع بتفصيل أوفى ولا ينبغي تفسيرها مطلقاً على أنها محددة لنطاق الاختراع. الموصوفة في الشكل ١؛ لوحظ acetic acid عندما تم تطبيق عملية إنتاج حمض الأسيتيك وبصفة محددة؛ .0160:71 acetate التغير في حالة التآكل لجهاز الإيماض في وجود أسيتات المثيل ٠ حمض 0006071 acetate الماء؛ أسيتات المثيل emethyl iodide تم تغذية كل من يوديد المثيل ١ إلى المفاعل rhodium حفاز روديوم dithium iodide 26606؛ يوديد الليثيوم acid الأستيتك للحصول على محاليل تفاعل carbon monoxide أكسيد الكربون Jf وترك الميثانول ليتفاعل مع ١ بتراكيب مختلفة. وتم تعريض كل من محاليل التفاعل الناتجة لتقطير ومضي في جهاز الإيماض وتم تغذية البخار الناتج (المكون المتطاير) (2 Ev ميغاباسكال» درجة الحرارة: +, Y (الضغط: ٠ خام. وأعيد تدوير acetic acid حمض أسيتيك pas إلى عمود التقطير الأول ¥ وأخضع للتقطير الخام إلى نظام التفاعل. وبلغ تركيز حفاز الروديوم acetic acid مكونات غير حمض الأسيتيك جزءٍ في المليون ٠7٠١ في مزيج الحفاز السائل (الجزءٍ السفلي من جهاز الإيماض) rhodium .١ وأعيد تدوير الجزء السفلي لجهاز الإيماض إلى المفاعل وأضيفت عينات اختبار مأخوذة من مواد مختلفة إلى مزيج الحفاز السائل لجهاز الإيماض Yo ساعة في حالة تركت ٠٠١ لمدة acetic acid وأجريت عملية إنتاج متواصلة لحمض الأسيتيك of ساعة؛ ٠٠١ فيها عينات الاختبار في جهاز الإيماض. وبعد إكتمال عملية الإنتاج المتواصلة لمدة تم فحص كل عينة اختبار لاختبار التأكل. والأمثلة من Y و ١ على أساس المعايير التالية في مثالي المقارنة ISHED وتم تقييم اختبار 4 إلى * وتم تقييمه بناءًٌ على مقدار التآكل الملاحظ في أمثلة المقارنة من © إلى © والأمثلة من ١ YO
AS
عينة اختبار غير متآكلة نهائياً. AT
AKT, اختبار بالكاد تكون dae :'8"
'"©": عينة اختبار متأكلة بشكل طفيف. '0": عينة اختبار Ala بشكل كبير. ويظهر تركيب مزيج الحفاز السائل ونتائج اختبار التأكل في الجدولين ١ و ؟. وفي الجدولين ١ و 7؛ يقصد ب "7 وزناً" نسبة مئوية بالوزن؛ lars "مم" حمض الأسيتيتك cacetic acid ٠ ويمثل "MA" أسيتات المثيل cmethyl acetate ويمثل "MeOH" ميثانول cmethanol ويمثل "0/61" يوديد المثيل methyl iodide ويمثل "Zr" زركونيوم "HB?" Jays ezirconium سبيكة أساسها نيكل HASTELLOY 82( nickel المصنّع بواسطة شركة أودا كوكي كو.؛ ليمتد)؛ ويمثل "HC" سبيكة أساسها نيكل HASTELLOY ©( nickel المصنّع بواسطة شركة أودا كوكي كوء؛ ليمتد)؛ ويقصد بالوحدة " ملم/سنة 7ا/”" معدل تآكل عينة الاختبار سنوياً (السماكة المتناقصة (ملم) لعينة ٠ الاختبار سنوياً). وتم طرح تركيز أيون اليوديد 100146 الذي يتم الحصول عليه من ملح اليوديد 08 من التركيز الكلي لأيونات اليوديد 08ن4ه: (1) لحساب تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen -(HI) iodide [الجدول ]١
YA
١ الجدول مزيج الحفاز السائل اختبار التأكل
Lil H,O Mel HI MeOH MA Ac
HC HB2 Zr op 3 وز ارو tar Gd i
Gs
D B A Vo 7 ١ oY ١ أقل من ١,١ Ve) مثال مقارنة
D B A Vo 7 ¥ “i ١ أقل من ١,١ 78,4 Y مثال مقارنة
C A A yo ل ١ ١ أقل من ١,١ أقل من 40 Vor ١ مثال C A A Vo لا 7 ١ أقل من ٠,١ أقل من 4 VELA ١ مثال B A A yo ل ١ ١ أقل من oY أقل من 1,40 vey مثال ؟
Ya
Y الجدول مزيج الحفاز السائل اختبار التأكل
HC HB2 Zr Lil HO Mel HI MeOH MA Ac /سنة ale /سنة de ملم /سنة By 7 Ly 7 yd وثناً وزناً 7 Gt yt مثال أقل من 07 1 ا YN لا 1 ١ أقل من ١,١ 4 قد Yi) lie مثال أقل من
UY GY 10,0 Yu 84 oY ١ أقل من ١,١ vie
NY مقارنة؛ مثال ٍّ أقل من 1١ ١ ١8 846 8,6 .لا 0 أقل من )+ ا
A مقارنةه أقل من : oA NY VEY 0 GA) أقل من ١ أقل من G4 AYE مثال ا أقل من : ١ م 6 ب 1 1١ أقل من OY ,ركلا أن أقل من o مثال م
وكما يتضح من الجدولين؛ تم تثبيط إنتاج يوديد الهيدروجين (HI) hydrogen iodide وزيادة تركيزه وتثبيط تأكل عينات الاختبار عن طريق تعديل تركيب مزيج الحفاز السائل في جهاز الإيماض بحيث يشتمل على مكونات محددة ويكون له نسب محددة. قابلية التطبيق الصناعي تعتبر عملية الإنتاج وفقاً للاختراع الحالي مفيدة جداً كعملية لإنتاج حمض الأسيتيك acetic acid وفي نفس الوقت تعمل على تثبيط إنتاج أو زيادة تركيز يوديد الهيدروجين hydrogen 106 في المبخر الومضي المستخدم لتقطير مزيج التفاعل الناتج من المفاعل. وصف الأرقام المرجعية ١ مفاعل Yoo جهاز إيماض (مبخز) 7 عمود تقطير أول ¢ عمود تقطير ob مك AY 4 مكثف أو مبادل حراري ٠١ نظام غسل
Claims (1)
- ١ عناصر الحماية-١ ١ عملية لإنتاج حمض الأسيتيك cacetic acid تتضمن:Y خطوة تفاعل للسماح بشكل مستمر بتفاعل الميثانول methanol مع أول أكسيد الكربون carbon monoxide v بوجود نظام حفاز يشتمل على حفاز فلزي؛ يوديد أيوني <ionic iodide ¢ ويوديد المثيل methyl iodide في مفاعل كربئلة «carbonylationخطوة تبخير ومضي flash evaporation لتغذية جهاز إيماض flasher بشكل مستمر 1 بخليط تفاعل من المفاعل وتبخير مكون متطاير volatile يحتوي على الأقل على منتج y حمض الأسيتيك acetic acid أسيتات المثيل cmethyl acetate ويوديد المثيل methyl pally iodide A الومضي لفصل المكون المتطاير وخليط حفاز سائل يحتوي على الأقل 9 على الحفاز الفلزي واليوديد الأيوني ionic iodideVe خطوة إعادة تدوير لإعادة تدوير خليط الحفاز السائل إلى المفاعل؛ و١١ خطوة جمع حمض الأسيتيك acetic acid حيث تشتمل على: تقطير وفصل المكون VY المتطاير إلى جزءء منخفض درجة الغليان lower boiling point fraction بصفته منتج علوي 7 أول efirst overhead تيار جانبي side stream يحتوي على حمض الأسيتيك acetic acid Vi وجزء مرتفع درجة الغليان ¢higher boiling point fraction وتقطير وفصل التيار الجانبي Vo إلى مكون منخفض درجة الغليان بصفته منتج علوي ثانٍ esecond overhead وتيار حمض 8 أسيتيك acetic acid بصفته تيار جانبي أو تيار سفلي لفصل تيار يحتوي على حمض 7 الأسيتيك acetic acid من المكون المتطاير لجمع حمض الأسيتيك cacetic acid VA حيث يشتمل الحفاز الفلزي على حفاز الروديوم thodium و ' في خطوة التبخير الومضي؛ يتم إجراء التبخير الومضي عند درجة حرارة تتراوح من ٠ 0 إلى ”م تحت ضغط مطلق يتراوح من ١.07 إلى ١ ميغاباسكال مع المحافظة7١ : على تركيز أسيتات المثيل methyl acetate بحيث يتراوح من ١7 إلى 5 Ly, وتركيزYY الماء الذي لا يزيد عن Uys ZA في خليط الحفاز السائل.١ "- عملية وفقاً لعنصر الحماية ١؛ حيث لا يقل تركيز أسيتات المثيل methyl acetate في خليط 0 الحفاز السائل عن Ly ZY٠١ *- العملية وفقاً لأي من عنصري الحماية ١ أو oF حيث لا يقل تركيز أسيتات المثيل methyl acetate 7 في خليط الحفاز Bl عن 71,9 وزناً. ٠١ - ¢— العملية وفقاً لأي من عناصر الحماية من ١ إلى oF حيث يتراوح تركيز الماء في خليط ¥ الحفاز السائل من ١,8 إلى 48 وزناً. ١ #- العملية وفقاً لأي من عناصر الحماية من ١ إلى of حيث يشتمل اليوديد الأيوني onic Y 56 على يوديد فلز قلوي 100106 alkali metal ولا يقل تركيز الحفاز الفلزي في خليط v الحفاز السائل عن 0٠0 جزءٍ في المليون على أساس الوزن. ١ +- العملية وفقاً لأي من عناصر الحماية من ١ إلى ©؛ حيث لا يقل تركيز حمض الأسيتيك acetic acid Y في خليط الحفاز السائل عن 7560 Lys ٠ #- العملية وفقاً لأي من عنصر الحماية ١ وعناصر الحماية من ؛ إلى ؛ حيث في خليط Y الحفاز الساثل؛ لا يزيد تركيز اليوديد الأيوني ionic iodide عن Lys 79 ٠ ولا يزيد تركيز y يوديد المثيل methyl iodide عن £0 وزناً؛ ويتراوح تركيز حمض الأسيتيك acetic acid من £0 إلى 790 Lys ويتراوح تركيز أسيتات المثيل methyl acetate من ١.7 إلى 77 وزناًء ٠ ويتاوح تركيز الماء من Tigh oh ١ + العملية وفقاً لأي من عنصر الحماية ١ وعناصر الحماية من ؛ إلى oF حيث في خليط Y الحفاز السائل؛ لا يزيد تركيز اليوديد الأيوني 100106 ionic عن 40 7 Lys ويتراوح تركيز يوديد المثيل iodide ره« من 0.0٠ إلى 4 7 وزناً؛ ويتراوح تركيز حمض الأسيتيك acetic acid £ من ٠ إلى Lis Iho ويتراوح تركيز أسيتات المثيل methyl acetate من 2 1 إلى 77 وزناًء ويتراوح تركيز الماء من ١.8 إلى 4 7 وزناً. ١ 4- العملية وفقاً لأي من عناصر الحماية من ١ إلى oA حيث يتم إجراء التبخير الومضي flash evaporation 7 في خطوة التبخير الومضي عند ضغط مطلق يتراوح من ١١ إلى no 1 ميغاباسكال مع الحفاظ على درجة حرارة خليط الحفاز السائل عند درجة حرارة تتراوح من tyثم. ٠7٠١ إلى ٠ إلى 9؛ حيث يمكن ضبط تركيز أسيتات ١ العملية وفقاً لأي من عناصر الحماية من -٠١ ١ methyl في خليط الحفاز السائل عن طريق إضافة أسيتات المثيل methyl acetate المثيل Y إلى خليط التفاعل و/أو جهاز methyl acetate و/أو مكون ينتج أسيتات المثيل acetate ¥ flasher الإيماض ¢ أو التركيز المتزايد من يوديد hydrogen iodide طريقة لتثبيط إنتاج يوديد الهيدروجين -١١ ١ في عملية إنتاج حمض الأسيتيك flasher في جهاز إيماض hydrogen iodide الهيدروجين ١ حيث تتضمن عملية الإنتاج: cacetic acid ¥ مع أول أكسيد الكربون methanol خطوة تفاعل للسماح بشكل مستمر بتفاعل الميثانول 1 عتصمن iodide بوجود نظام حفاز يشتمل على حفاز فلزي؛ يوديد أيوني carbon monoxide ° «carbonylation في مفاعل كربئلة methyl iodide ويوديد المثتيل 1 بشكل مستمر flasher لتغذية جهاز إيماض flash evaporation خطوة تبخير ومضي y يحتوي على الأقل على منتج volatile وتبخير مكون متطاير Je lid) بخليط تفاعل من A methyl iodide (fil) ويوديد emethyl acetate أسيتات مثيل cacetic acid حمض أسيتيك q بالتبخير الومضي لفصل المكون المتطاير وخليط حفاز سائل يحتوي على الأقل على الحفاز ١ ionic 100106 الفلزي واليوديد الأيوني ١ خطوة إعادة تدوير لإعادة تدوير خليط الحفاز الساثل إلى المفاعل؛ و VY حيث تشتمل على: تقطير وفصل المكون acetic acid خطوة جمع حمض الأسيتيك "7 بصفته منتج علوي Jower boiling point fraction منخفض درجة الغليان ea المتطاير إلى \¢ acetic acid يحتوي على حمض الأسيتيك side stream ع5:8» تيار جانبي overhead أول Vo وتقطير وفصل التيار الجانبي ¢higher boiling point fraction وجزء مرتفع درجة الغليان Vi وتيار حمض csecond overhead إلى مكون منخفض درجة الغليان بصفته منتج علوي ثانٍ \Y بصفته تيار جانبي أو تيار سفلي لفصل تيار يحتوي على حمض acetic acid أسيتيك VA «acetic acid من المكون المتطاير لجمع حمض الأسيتيك acetic acid الأسيتيك 4 حيث يشتمل الحفاز الفلزي على حفاز الروديوم 1100000 و 1 إلى ٠٠١ في التبخير الومضي؛ يتم إجراء التبخير الومضي عند درجة حرارة تتراوح منً YY ٠م تحت ضغط مطلق يتراوح من ١.07 إلى ١ ميغاباسكال مع المحافظة على تركيز YY أسيتات methyl acetate Jill بحيث يتراوح من ١.7 إلى وزتاً وتركيز الماء الذي لا Ye يزيد عن 78 وزناً في خليط الحفاز السائل. VY العملية وفقاً لأي من عناصر الحماية من ١ إلى )0 حيث تشتمل sale جهاز الإيماض flasher Y على سبيكة أساسها تيكل .nickel-based alloy
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010279798 | 2010-12-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA111330056B1 true SA111330056B1 (ar) | 2015-06-02 |
Family
ID=46244526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA111330056A SA111330056B1 (ar) | 2010-12-15 | 2011-12-14 | عملية لإنتاج حمض الأسيتيك |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | USRE50062E1 (ar) |
| EP (1) | EP2653460B2 (ar) |
| JP (2) | JP6166043B2 (ar) |
| KR (1) | KR101851035B1 (ar) |
| CN (1) | CN103370300B (ar) |
| BR (1) | BR112013014804B1 (ar) |
| ES (1) | ES2651953T3 (ar) |
| MX (1) | MX340955B (ar) |
| MY (1) | MY161203A (ar) |
| SA (1) | SA111330056B1 (ar) |
| SG (1) | SG190940A1 (ar) |
| TW (1) | TWI526426B (ar) |
| WO (1) | WO2012081417A1 (ar) |
Families Citing this family (38)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9162958B2 (en) * | 2010-12-15 | 2015-10-20 | Daicel Corporation | Process for producing acetic acid |
| EP2653460B2 (en) | 2010-12-15 | 2022-07-20 | Daicel Corporation | Acetic acid production method |
| MY170257A (en) | 2012-12-21 | 2019-07-13 | Daicel Corp | Process for producing acetic acid |
| AR094541A1 (es) * | 2013-01-25 | 2015-08-12 | Daicel Corp | Procedimiento para producir ácido carboxílico |
| RS59574B1 (sr) | 2014-10-02 | 2019-12-31 | Celanese Int Corp | Proces za proizvodnju sirćetne kiseline |
| US9540304B2 (en) | 2014-11-14 | 2017-01-10 | Celanese International Corporation | Processes for producing an acetic acid product having low butyl acetate content |
| RS59197B1 (sr) | 2014-11-14 | 2019-10-31 | Celanese Int Corp | Proces za proizvodnju sirćetne kiseline uvođenjem litijumskog jedinjenja |
| US9340481B1 (en) | 2014-11-14 | 2016-05-17 | Celanese International Corporation | Process for flashing a reaction medium comprising lithium acetate |
| US9302975B1 (en) | 2015-07-01 | 2016-04-05 | Celanese International Corporation | Process for flashing a reaction medium |
| CN115636745A (zh) | 2014-11-14 | 2023-01-24 | 国际人造丝公司 | 通过去除铁改进乙酸产率的方法 |
| US9458077B2 (en) | 2014-11-14 | 2016-10-04 | Celanese International Corporation | Reducing hydrogen iodide content in carbonylation processes |
| US9233907B1 (en) | 2014-11-14 | 2016-01-12 | Celanese International Corporation | Reducing hydrogen iodide content in carbonylation processes |
| US9260369B1 (en) | 2014-11-14 | 2016-02-16 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid product having low butyl acetate content |
| CN107108432A (zh) * | 2014-11-14 | 2017-08-29 | 国际人造丝公司 | 闪蒸包含乙酸锂的反应介质的方法 |
| WO2016076967A1 (en) | 2014-11-14 | 2016-05-19 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid with decanter control |
| CN107001222B (zh) | 2014-11-14 | 2021-05-11 | 国际人造丝公司 | 用于从具有低乙基碘含量的反应介质生产乙酸的方法 |
| US9561994B2 (en) | 2015-01-30 | 2017-02-07 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid |
| MX2017009867A (es) | 2015-01-30 | 2017-11-15 | Celanese Int Corp | Procedimientos para producir acido acetico. |
| JP6034477B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-11-30 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | 酢酸の製造方法 |
| US9487464B2 (en) | 2015-01-30 | 2016-11-08 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid |
| JP6034478B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-11-30 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | 酢酸の製造方法 |
| RS59401B1 (sr) | 2015-01-30 | 2019-11-29 | Celanese Int Corp | Postupci proizvodnje sirćetne kiseline |
| US9540302B2 (en) | 2015-04-01 | 2017-01-10 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid |
| US9512056B2 (en) | 2015-02-04 | 2016-12-06 | Celanese International Corporation | Process to control HI concentration in residuum stream |
| US9505696B2 (en) | 2015-02-04 | 2016-11-29 | Celanese International Corporation | Process to control HI concentration in residuum stream |
| US10413840B2 (en) | 2015-02-04 | 2019-09-17 | Celanese International Coporation | Process to control HI concentration in residuum stream |
| US9540303B2 (en) | 2015-04-01 | 2017-01-10 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid |
| US9382186B1 (en) | 2015-07-01 | 2016-07-05 | Celanese International Corporation | Process for producing acetic acid |
| US9302974B1 (en) | 2015-07-01 | 2016-04-05 | Celanese International Corporation | Process for producing acetic acid |
| US9382183B1 (en) | 2015-07-01 | 2016-07-05 | Celanese International Corporation | Process for flashing a reaction medium |
| CN108137462A (zh) * | 2015-09-30 | 2018-06-08 | 株式会社大赛璐 | 乙酸的制造方法及制造装置 |
| US9416088B1 (en) | 2015-10-02 | 2016-08-16 | Celanese International Corporation | Process to produce acetic acid with recycle of water |
| US9908835B2 (en) | 2015-11-13 | 2018-03-06 | Celanese International Corporation | Processes for purifying acetic and hydrating anhydride |
| US9957216B2 (en) | 2015-11-13 | 2018-05-01 | Celanese International Corporation | Processes for producing acetic acid |
| KR102257566B1 (ko) * | 2017-03-08 | 2021-05-31 | 주식회사 다이셀 | 아세트산의 제조 방법 |
| US10550058B2 (en) | 2017-03-08 | 2020-02-04 | Daicel Corporation | Method for producing acetic acid |
| JP7440229B2 (ja) * | 2019-09-05 | 2024-02-28 | ケロッグ ブラウン アンド ルート エルエルシー | 酢酸製造方法 |
| CN114644550B (zh) * | 2020-12-21 | 2024-03-12 | 大连理工江苏研究院有限公司 | 一种甲醇羰基化制备乙酸的反应系统及工艺 |
Family Cites Families (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3769329A (en) | 1970-03-12 | 1973-10-30 | Monsanto Co | Production of carboxylic acids and esters |
| US4029553A (en) * | 1975-07-28 | 1977-06-14 | Monsanto Company | Purification of acetic acid streams by distillation |
| FR2421168A1 (fr) | 1978-03-28 | 1979-10-26 | Propylox Sa | Procede pour la fabrication de peracides carboxyliques |
| US5144068A (en) | 1984-05-03 | 1992-09-01 | Hoechst Celanese Corporation | Methanol carbonylation process |
| US4894477A (en) | 1986-10-14 | 1990-01-16 | Hoechst Celanese Corporation | Process for regenerating a carbonylation catalyst solution to remove corrosion metals and carbonylation of methanol to acetic acid |
| GB9211671D0 (en) | 1992-06-02 | 1992-07-15 | Bp Chem Int Ltd | Process |
| JP3213392B2 (ja) | 1992-07-28 | 2001-10-02 | ダイセル化学工業株式会社 | 酢酸の製造法 |
| GB9306409D0 (en) | 1993-03-26 | 1993-05-19 | Bp Chem Int Ltd | Process |
| JP3377555B2 (ja) | 1993-05-31 | 2003-02-17 | ダイセル化学工業株式会社 | カルボニル化反応生成物に含有されるヨウ素化合物の除去方法 |
| US5352415A (en) | 1993-09-29 | 1994-10-04 | Hoechst Celanese Corporation | Control system for acetic acid manufacturing process |
| US5374774A (en) | 1994-03-11 | 1994-12-20 | Hoechst Celanese Corporation | Control system for an acetic acid manufacturing process |
| JP3058577B2 (ja) | 1994-12-29 | 2000-07-04 | 千代田化工建設株式会社 | カルボニル化反応方法及び反応器 |
| GB9503385D0 (en) * | 1995-02-21 | 1995-04-12 | Bp Chem Int Ltd | Process |
| JP3883221B2 (ja) | 1995-08-03 | 2007-02-21 | ダイセル化学工業株式会社 | アセトアルデヒドの分離除去方法 |
| IN192600B (ar) | 1996-10-18 | 2004-05-08 | Hoechst Celanese Corp | |
| GB9626324D0 (en) | 1996-12-19 | 1997-02-05 | Bp Chem Int Ltd | Process |
| US6066762A (en) | 1996-12-30 | 2000-05-23 | Chiyoda Corporation | Process for the production of carbonyl compound |
| US6211405B1 (en) | 1998-10-23 | 2001-04-03 | Celanese International Corporation | Addition of iridium to the rhodium/inorganic iodide catalyst system |
| US6303813B1 (en) | 1999-08-31 | 2001-10-16 | Celanese International Corporation | Rhodium/inorganic iodide catalyst system for methanol carbonylation process with improved impurity profile |
| JP3896742B2 (ja) | 1999-11-26 | 2007-03-22 | 三菱化学株式会社 | アルコール類の製造方法 |
| US6657078B2 (en) | 2001-02-07 | 2003-12-02 | Celanese International Corporation | Low energy carbonylation process |
| JP5069827B2 (ja) | 2001-02-28 | 2012-11-07 | 株式会社ダイセル | 反応制御方法および制御装置 |
| JP4489487B2 (ja) * | 2004-04-02 | 2010-06-23 | ダイセル化学工業株式会社 | ヨウ化水素の分離方法 |
| JP4732743B2 (ja) | 2004-12-06 | 2011-07-27 | ダイセル化学工業株式会社 | 蒸留方法 |
| KR101300960B1 (ko) * | 2005-07-14 | 2013-08-27 | 가부시끼가이샤 다이셀 | 카르복실산의 제조 방법 |
| US7820855B2 (en) * | 2008-04-29 | 2010-10-26 | Celanese International Corporation | Method and apparatus for carbonylating methanol with acetic acid enriched flash stream |
| US7790920B2 (en) | 2008-09-11 | 2010-09-07 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Preparation of acetic acid |
| US20100113827A1 (en) | 2008-11-03 | 2010-05-06 | Wei Wang | Removing iodobenzene compounds from acetic acid |
| WO2011146446A1 (en) | 2010-05-18 | 2011-11-24 | Celanese International Corporation | Process for purifying acetic acid streams by removing permanganate reducing compounds |
| WO2012014393A1 (en) | 2010-07-26 | 2012-02-02 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Process for producing acetic acid |
| EP2653460B2 (en) | 2010-12-15 | 2022-07-20 | Daicel Corporation | Acetic acid production method |
| US9162958B2 (en) | 2010-12-15 | 2015-10-20 | Daicel Corporation | Process for producing acetic acid |
| US8629298B2 (en) | 2011-02-28 | 2014-01-14 | Lyondell Chemical Technology, L.P. | Acetic acid production process |
| TWI547477B (zh) | 2012-03-14 | 2016-09-01 | 大賽璐股份有限公司 | 醋酸之製造方法 |
| US8859810B2 (en) | 2012-08-21 | 2014-10-14 | Celanese International Corporation | Process for recovering permanganate reducing compounds from an acetic acid production process |
| CN107001222B (zh) | 2014-11-14 | 2021-05-11 | 国际人造丝公司 | 用于从具有低乙基碘含量的反应介质生产乙酸的方法 |
-
2011
- 2011-12-01 EP EP11848297.5A patent/EP2653460B2/en active Active
- 2011-12-01 US US16/712,371 patent/USRE50062E1/en active Active
- 2011-12-01 ES ES11848297.5T patent/ES2651953T3/es active Active
- 2011-12-01 US US13/994,275 patent/US9073843B2/en not_active Ceased
- 2011-12-01 WO PCT/JP2011/077845 patent/WO2012081417A1/ja active Application Filing
- 2011-12-01 MX MX2013006883A patent/MX340955B/es active IP Right Grant
- 2011-12-01 JP JP2012548727A patent/JP6166043B2/ja active Active
- 2011-12-01 SG SG2013042023A patent/SG190940A1/en unknown
- 2011-12-01 BR BR112013014804A patent/BR112013014804B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-12-01 CN CN201180067613.1A patent/CN103370300B/zh not_active Ceased
- 2011-12-01 MY MYPI2013002224A patent/MY161203A/en unknown
- 2011-12-01 KR KR1020137018309A patent/KR101851035B1/ko active IP Right Grant
- 2011-12-14 SA SA111330056A patent/SA111330056B1/ar unknown
- 2011-12-14 TW TW100146093A patent/TWI526426B/zh active
-
2017
- 2017-04-28 JP JP2017090240A patent/JP2017128609A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR112013014804A2 (pt) | 2016-09-27 |
| EP2653460B1 (en) | 2017-11-22 |
| JP2017128609A (ja) | 2017-07-27 |
| MY161203A (en) | 2017-04-14 |
| CN103370300B (zh) | 2016-07-06 |
| CN103370300A (zh) | 2013-10-23 |
| MX2013006883A (es) | 2013-07-05 |
| SG190940A1 (en) | 2013-07-31 |
| KR101851035B1 (ko) | 2018-04-20 |
| EP2653460A1 (en) | 2013-10-23 |
| BR112013014804B1 (pt) | 2019-08-13 |
| WO2012081417A4 (ja) | 2012-08-16 |
| KR20140032369A (ko) | 2014-03-14 |
| MX340955B (es) | 2016-07-29 |
| WO2012081417A1 (ja) | 2012-06-21 |
| TWI526426B (zh) | 2016-03-21 |
| TW201231448A (en) | 2012-08-01 |
| EP2653460B2 (en) | 2022-07-20 |
| JPWO2012081417A1 (ja) | 2014-05-22 |
| US20130261334A1 (en) | 2013-10-03 |
| USRE50062E1 (en) | 2024-07-30 |
| ES2651953T3 (es) | 2018-01-30 |
| JP6166043B2 (ja) | 2017-07-19 |
| EP2653460A4 (en) | 2016-05-25 |
| US9073843B2 (en) | 2015-07-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SA111330056B1 (ar) | عملية لإنتاج حمض الأسيتيك | |
| US9115071B2 (en) | Process for producing acetic acid | |
| CN103038207B (zh) | 生产乙酸的方法 | |
| SG190942A1 (en) | Process for producing acetic acid | |
| SA517390641B1 (ar) | عملية لتعريض وسط تفاعل لوميض | |
| JP7169353B2 (ja) | 酢酸の製造方法 | |
| TWI714775B (zh) | 醋酸之製造方法 | |
| TWI778256B (zh) | 醋酸之製造方法 | |
| SA517381515B1 (ar) | عمليات لتحسين ناتج حمض الأسيتيك عن طريق إزالة الحديد | |
| ES2817406T3 (es) | Método para la producción de ácido acético |