KR101594339B1

KR101594339B1 - 광학 보상 필름, 위상차 필름 및 복합 편광판

Info

Publication number: KR101594339B1
Application number: KR1020070089867A
Authority: KR
Inventors: 토루 도이; 신지 시모사토; 나오토 오바라
Original assignee: 도소 가부시키가이샤
Priority date: 2006-09-05
Filing date: 2007-09-05
Publication date: 2016-02-16
Anticipated expiration: 2027-09-05
Also published as: US8545970B2; TW200821351A; US20080068545A1; EP1898252A1; EP1898252B1; TWI406899B; KR20080022062A

Abstract

본 발명은 액정디스플레이의 콘트라스트나 시각 특성의 보상 필름이나 반사 방지 필름으로서 유용한 광학특성이 우수한 위상차 필름 및 광학 보상 필름을 제공한다.

본 발명에 의하면, 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름 또는 층으로서, 필름 또는 층의 3차원 굴절률이 필름면내 또는 층면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 또는 층면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외 또는 층면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 nz>ny≥nx의 관계에 있고, 파장 450nm에서 측정한 위상차와 파장 550nm에서 측정한 위상차의 비(R450/R550)가 1.1 이하인 광학 보상 필름 또는 광학 보상층(필름(A)), 및 필름(A)과 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz의 관계에 있고, 필름의 두께를 d라고 했을 때 550nm의 파장에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50nm 이상인 필름(B)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름; 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 것을 특징으로 하는 위상차 필름; 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름 면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 필름(C)과, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz 또는 ny>nz≥nx의 관계에 있는 필름(D)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 위상차 필름.

광학 보상 필름, 위상차 필름

Description

광학 보상 필름, 위상차 필름 및 복합 편광판{OPTICAL COMPENSATION FILM, RETARDATION FILM AND COMPOSITE POLARIZER}

본 발명은 필름의 두께 방향의 굴절률이 크고, 필름면내 위상차가 크고, 파장 의존성이 작은 등의 광학특성이 우수한 액정디스플레이의 콘트라스트나 시각 특성의 개량에 유효한 광학 보상 필름 및 위상차 필름에 관한 것이다.

액정디스플레이는 멀티미디어 사회에 있어서의 가장 중요한 표시 디바이스로서, 휴대전화에서 컴퓨터용 모니터, 노트북, 텔레비젼까지 폭넓게 사용되고 있다. 액정디스플레이에는 표시특성 향상을 위해서 많은 광학 필름이 사용되고 있다. 특히 위상차 필름은 정면이나 비스듬하게 본 경우의 콘트라스트 향상, 색조의 보상 등 큰 역활을 담당하고 있다. 종래의 위상차 필름으로는 폴리카보네이트나 환상 폴리올레핀이 사용되고 있지만, 이들 고분자는 모두 양의 복굴절을 갖는 고분자이다. 여기에서, 복굴절의 양음은 하기에 나타낸 바와 같이 정의된다.

연신 등으로 분자 배향한 고분자 필름의 광학 이방성은 도 1에 나타내는 굴절률 타원체로 나타낼 수 있다. 여기에서, 필름을 연신했을 경우의 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면 외의 수직방향의 굴절률을 nz로 나타낸다. 또한 진상축이란 필름면내에 있어서의 굴절률이 낮은 축방향이다.

그리고, 음의 복굴절이란 연신방향이 진상축 방향이 되는 것이고, 양의 복굴절이란 연신방향과 수직방향이 진상축 방향이 되는 것이다.

즉, 음의 복굴절을 갖는 고분자의 1축 연신에서는 연신축방향의 굴절률이 작고(진상축: 연신방향), 양의 복굴절을 갖는 고분자의 1축 연신에서는 연신축방향과 직교하는 축방향의 굴절률이 작다(진상축: 연신방향과 직교방향).

또한, 필름면내 위상차(Re)는 진상축 방향과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률(ny)-필름면내의 진상축 방향의 굴절률(nx)에 필름 두께를 곱한 값으로서 표시된다.

다수의 고분자는 양의 복굴절을 갖는다. 음의 복굴절을 갖는 고분자로는 아크릴 수지나 폴리스티렌이 있지만, 아크릴 수지는 위상차 발현성이 작아서 광학 보상 필름으로서의 특성이 충분하지 않다. 폴리스티렌은 실온 영역에서의 광탄성 계수가 커서 약간의 응력으로 위상차가 변화되는 등 위상차의 안정성의 과제, 위상차의 파장 의존성이 크다고 하는 광학 특성상의 과제, 더욱이 내열성이 낮다고 하는 실용상의 과제가 있어 현재의 상태에서는 사용되지 않고 있다.

여기에서, 위상차의 파장 의존성이란, 위상차가 측정 파장에 의존해서 변화하는 것을 의미하고, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비 R450/R550로서 나타낼 수 있다. 일반적으로, 방향족 구조의 고분자에서는 이 R450/R550이 커지는 경향이 강하여, 저파장 영역에서의 콘트라스 트나 시야각 특성이 저하한다.

음의 복굴절을 나타내는 고분자의 연신필름은 필름의 두께 방향의 굴절률이 높아서, 종래에 없는 광학 보상 필름으로 되기 때문에, 예컨대 슈퍼 트위스티드 네마틱 액정(Super Twisted Nematic Liquid Crystal Display; STN-LCD)이나 수직배향형 액정(VA-LCD), 면내배향형 액정(IPS-LCD), 반사형 액정디스플레이, 반투과형 액정디스플레이 등의 디스플레이의 시각특성 보상용의 광학 보상 필름이나 편광판의 시각을 보상하기 위한 광학 보상 필름으로서 유용해서, 음의 복굴절을 갖는 광학 보상 필름에 대하여 시장의 요구가 강하다. 양의 복굴절을 갖는 고분자를 사용하여 필름의 두께 방향의 굴절률을 높인 필름의 제조방법이 제안되어 있다. 하나는 고분자 필름의 한면 또는 양면에 열수축성 필름을 접착하고, 그 적층체를 가열 연신처리하고, 고분자 필름의 필름두께 방향으로 수축력을 가하는 처리방법(예컨대, 특허문헌 1~3 참조)이다. 또한, 고분자 필름에 전장을 인가하면서 면내에 1축 연신하는 방법이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 4 참조). 또한, 음의 광학이방성을 갖는 미립자와 투명성 고분자로 이루어진 위상차 필름이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 5 참조). 액정성 고분자 필름을 도포하고, 호메오트로픽 배향시킨 광학 보상 필름 또는 광학 보상층이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 6 참조). 또한, 폴리비닐나프탈렌이나 폴리비닐비페닐 등의 방향족 폴리머를 도포한 광학보상막이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 7, 비특허문헌 1 참조).

또한, 폴리비닐카르바졸계 고분자를 사용한 광학 필름이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 8 참조).

푸마르산 디에스테르계 수지, 가교 푸마르산 디에스테르계 수지를 사용한 디스플레이용 플라스틱 기판, 광학 필름, 위상차 필름에 대해서 제안되어 있다(예컨대 특허문헌 9, 10 참조).

(특허문헌 1) 일본 특허 2818983호 공보

(특허문헌 2) 일본 특허공개 평05-297223호 공보

(특허문헌 3) 일본 특허공개 평05-323120호 공보

(특허문헌 4) 일본 특허공개 평06-088909호 공보

(특허문헌 5) 일본 특허공개 2005-156862호 고보

(특허문헌 6) 일본 특허공개 2002-333524호 공보

(특허문헌 7) 일본 특허공개2006-221116호 공보

(특허문헌 8) 일본 특허공개2001-91746호 공보

(특허문헌 9) 일본 특허공개2005-97544호 공보

(특허문헌 10) 일본 특허공개2006-249318호 공보

(비특허문헌 1) 일본 레올로지 학회지, Vol.22, No.2, pp.129~134(1994)

그러나, 특허문헌 1~4에서 제안된 방법은 제조공정이 매우 복잡해지기 때문에 생산성이 열화한다는 과제가 있다. 또한, 위상차의 균일성 등의 제어도 종래의 연신에 의한 제어와 비교하면 현저히 어렵게 된다. 또한, 베이스 필름으로서 폴리카보네이트를 사용한 경우에는 실온에서의 광탄성 정수가 크고, 약간의 응력에 의하여 위상차가 변화되는 등 위상차의 안정성에도 과제가 있다. 더욱이, 위상차의 파장 의존성이 큰 등의 과제를 안고 있다.

또한, 특허문헌 5에서 얻어진 위상차 필름은 음의 광학이방성을 갖는 미립자를 첨가함으로써 음의 복굴절을 갖는 위상차 필름이고, 제조방법의 간편화 및 경제성의 관점에서 미립자를 첨가할 필요가 없는 위상차 필름이 요구되고 있다. 특허문헌 6에 기재된 방법으로는 액정성 고분자를 균일하게 호메오트로픽 배향시키는 것이 어렵다는 과제가 있다. 또한, 특허문헌 7, 8에 기재된 방법으로는 얻어진 막이 찢어지기 쉽거나 위상차의 파장 분산성이 크다고 하는 과제가 있다.

특허문헌 9에서는 푸마르산 디에스테르계 수지를 사용한 디스플레이용 플라스틱 기판은 제안되어 있지만, 광학 보상 필름 및 위상차 필름에 관해서는 제안되어 있지 않다.

특허문헌 10에서는 푸마르산 디에스테르계 수지를 가교하여 연신함으로써 위상차 필름을 얻고 있지만, 위상차가 작아서 실질적으로 위상차 필름으로서 사용하는 데에는 문제가 있었다.

여기에서, 본 발명은 광학특성, 기계특성이 우수한 광학 보상 필름 또는 광학 보상층 및 위상차 필름을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

본 발명자들은 상기 과제를 감안하여 예의 검토한 결과, 특정한 수지로 이루어진 필름 또는 층의 3차원 굴절률이 특정한 관계를 만족하는 광학 보상 필름 및 위상차 필름이 상기 과제를 만족하는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명은 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름 또는 층으로서, 필름 또는 층의 3차원 굴절률이 필름면내 또는 층면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 또는 층면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외 또는 층면외의 수직방향의 굴절률(필름의 두께 방향의 굴절률이라고도 말함)을 nz라고 했을 경우에, nz>ny≥nx의 관계에 있고, 파장 450nm에서 측정한 위상차와 파장 550nm에서 측정한 위상차의 비(R450/R550)가 1.1 이하인 광학 보상 필름 또는 광학 보상층(필름(A)), 및 필름(A)과 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz의 관계에 있고, 필름의 두께를 d라고 했을 때 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50nm 이상인 필름(B)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름; 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 것을 특징으로 하는 위상차 필름; 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 필름(C)과, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz 또는 ny>nz≥nx의 관계에 있는 필름(D)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 위상차 필름에 관한 것이다.

본 발명에 의하면, 액정디스플레이의 콘트라스트나 시각 특성의 보상 필름이 나 반사방지필름으로서 유용한 광학특성이 우수한 광학 보상 필름 및 위상차 필름을 제공할 수 있다.

이하, 본 발명의 광학 보상 필름 및 위상차 필름에 대하여 상세하게 설명한다.

본 발명의 광학 보상 필름에 대하여 설명한다.

본 발명의 광학 보상 필름은 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름 또는 층으로서, 필름 또는 층의 3차원 굴절률이 필름면내 또는 층면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 또는 층면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외 또는 층면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 nz>ny≥nx의 관계, 특히 바람직한 것은 nz>ny≒nx의 관계에 있고, 파장 450nm에서 측정한 위상차와 파장 550nm에서 측정한 위상차의 비(R450/R550)가 1.1 이하인 광학 보상 필름 또는 광학 보상층이다. 여기에서, 필름면내 또는 층면내의 진상축 방향의 굴절률 nx란, 필름면내 또는 층면내에 있어서의 가장 굴절률이 낮은 축방향의 굴절률이다. 그리고, 이들 nx, ny 및 nz는, 예컨대 시료경사형 자동 복굴절계를 사용함으로써 구할 수 있다.

또한, 본 발명의 광학 보상 필름은 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 광학 보상 필름 또는 층이며, 상기 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층이란, 상기 푸마르산 에스테르계 수지를, 예컨대 기재에 접합시켰을 때의 푸마르산 에스테르계 수지 부분을 나타낸 것이다.

또한, 일반적으로 필름의 3차원 굴절률의 제어는 필름의 연신 등에 의하여 행해지기 때문에 제조공정이나 품질의 관리가 복잡해지거나 하지만, 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름은 미연신에서 필름 두께 방향의 굴절률이 높아진다는 특이한 거동을 나타낸다.

또한, 본 발명의 광학 보상 필름 또는 광학 보상층은 필름의 두께를 d라고 했을 때, 하기 식(1)으로 표시되는 필름면외 위상차(Rth)가 -30~-2000nm인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 -50~-1000nm이고, 더욱 바람직하게는 -100~-500nm이다.

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (1)

위상차의 파장 의존성은 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비 R450/R550로서 나타낼 수 있다. 본 발명의 광학 보상 필름 또는 광학 보상층에서는 상기 R450/R550은 1.1 이하이며, 1.08 이하가 더욱 바람직하고, 1.05 이하가 특히 바람직하다.

본 발명에서 사용하는 푸마르산 에스테르계 수지로는 푸마르산 에스테르의 중합체가 열거되고, 그 중에서도 일반식(a)으로 표시되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위가 50몰% 이상인 것이 바람직하고, 70몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 내열성 및 기계특성이 우수한 광학보상 필름 또는 광학 보상층으로 되기 때문에 푸마르산 디에스테르 잔기 단위가 80몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 90몰% 이상인 것이 특히 바람직하다.

(여기에서, R₁, R₂는 각각 독립적으로 탄소수 3~12개의 분기상 알킬기 또는 환상 알킬기를 나타낸다.)

여기에서, 푸마르산 디에스테르 잔기 단위의 에스테르 치환기인 R₁, R₂는 각각 독립적으로 탄소수 3~12개의 분기상 알킬기 또는 환상 알킬기이며, 불소, 염소등의 할로겐기; 에테르기; 에스테르기 또는 아미노기로 치환되어 있어도 좋고, 예컨대 이소프로필기, s-부틸기, t-부틸기, s-펜틸기, t-펜틸기, s-헥실기, t-헥실기, 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등이 열거되고, 특히 내열성, 기계특성이 우수한 광학 보상 필름 또는 광학 보상층으로 되기 때문에 이소프로필기, s-부틸기, t-부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등인 것이 바람직하고, 또한 내열성, 기계특성의 밸런스가 우수한 광학 보상 필름 또는 광학 보상층으로 되기 때문에 이소프로필기가 바람직하다.

일반식(a)으로 표시되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위로는 구체적으로는 푸마르산 디이소프로필 잔기, 푸마르산 디-s-부틸 잔기, 푸마르산 디-t-부틸 잔기, 푸마르산 디-s-펜틸 잔기, 푸마르산 디-t-펜틸 잔기, 푸마르산 디-s-헥실 잔기, 푸 마르산 디-t-헥실 잔기, 푸마르산 디시클로프로필 잔기, 푸마르산 디시클로펜틸 잔기, 푸마르산 디시클로헥실 잔기 등이 열거되고, 그 중에서도 푸마르산 디이소프로필 잔기, 푸마르산 디-s-부틸 잔기, 푸마르산 디-t-부틸 잔기, 푸마르산 디시클로펜틸 잔기, 푸마르산 디시클로헥실 잔기 등이 바람직하고, 특히 푸마르산 디이소프로필 잔기가 바람직하다.

본 발명에 사용하는 푸마르산 에스테르계 수지로서 바람직하게 사용되는, 일반식(a)으로 표시되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 50몰% 이상으로 이루어진 푸마르산 에스테르계 수지로는 일반식(a)으로 표시되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 50몰% 이상과 푸마르산 디에스테르류와 공중합 가능한 단량체로 이루어진 잔기 단위 50몰% 이하로 이루어진 수지이며, 푸마르산 디에스테르류와 공중합 가능한 단량체로 이루어진 잔기 단위로는, 예컨대 스티렌 잔기, α-메틸스티렌 잔기 등의 스티렌류 잔기; 아크릴산 잔기; 아크릴산 메틸 잔기, 아크릴산 에틸 잔기, 아크릴산 부틸 잔기, 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 아크릴산 테트라히드로푸르푸릴 잔기 등의 아크릴산 에스테르류 잔기; 메타크릴산 잔기; 메타크릴산 메틸 잔기, 메타크릴산 에틸 잔기, 메타크릴산 부틸 잔기, 메타크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산 테트라히드로푸르푸릴 잔기 등의 메타크릴산 에스테르류 잔기; 아세트산 비닐 잔기, 프로피온산 비닐 잔기 등의 비닐 에스테르류 잔기; 아크릴로니트릴 잔기; 메타크릴로니트릴 잔기, 에틸렌 잔기, 프로필렌 잔기 등의 올레핀류 잔기; 등의 1종 또는 2종 이상을 열거할 수 있고, 그 중에서도 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기, 메타크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기가 바람직하고, 특히 아 크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기가 바람직하다.

본 발명에서 사용하는 푸마르산 에스테르계 수지로는 겔투과 크로마토그래피(이하, GPC이라고 기재함)에 의해 측정한 용출곡선으로부터 얻어진 표준 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량(Mn)이 1×10³ 이상인 것이 바람직하고, 특히 기계특성이 우수하고 제막시의 성형 가공성이 우수한 광학 보상 필름 또는 광학 보상층으로 되기 때문에 2×10⁴ 이상 2×10⁵ 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 광학 보상 필름 또는 광학 보상층을 구성하는 푸마르산 에스테르계 수지의 제조방법으로는 상기 푸마르산 에스테르계 수지가 얻어지는 한에서 어느 방법에 의하여 제조해도 좋고, 예컨대 푸마르산 디에스테르류, 경우에 따라서는 푸마르산 디에스테르류와 공중합 가능한 단량체를 병용하여 라디칼 중합 또는 라디칼 공중합을 행함으로써 제조할 수 있다. 이 때의 푸마르산 디에스테르류로는, 예컨대 푸마르산 디이소프로필, 푸마르산 디-s-부틸, 푸마르산 디-t-부틸, 푸마르산 디-s-펜틸, 푸마르산 디-t-펜틸, 푸마르산 디-s-헥실, 푸마르산 디-t-헥실, 푸마르산 디시클로프로필, 푸마르산 디시클로펜틸, 푸마르산 디시클로헥실 등이 열거되고, 푸마르산 디에스테르와 공중합가능한 단량체로는, 예컨대 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌류; 아크릴산; 아크릴산 메틸, 아크릴산 에틸, 아크릴산 부틸, 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸, 아크릴산 테트라히드로푸르푸릴 등의 아크릴산 에스테르류; 메타크릴산; 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 부틸, 메타크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산 테트라히드로푸르푸릴 등의 메타크릴산 에스테 르류; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐 에스테르류; 아크릴로니트릴; 메타크릴로니트릴; 에틸렌, 프로필렌 등의 올레핀류; 등의 1종 또는 2종 이상을 열거할 수 있고, 그 중에서도 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸, 메타크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸이 바람직하고, 특히 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸이 바람직하다.

또한, 사용하는 라디칼 중합법으로는 공지의 중합방법으로 행하는 것이 가능하고, 예컨대 괴상중합법, 용액중합법, 현탁중합법, 침전중합법, 유화중합법 등의 모두가 채용가능하다.

라디칼 중합법을 행할 때의 중합개시제로는, 예컨대 벤조일 퍼옥사이드, 라우릴 퍼옥사이드, 옥타노일 퍼옥사이드, 아세틸 퍼옥사이드, 디-t-부틸 퍼옥사이드, t-부틸쿠밀 퍼옥사이드, 디쿠밀 퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시아세테이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-부티로니트릴), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 디메틸-2,2'-아조비스이소부틸레이트, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴) 등의 아조계 개시제가 열거된다.

그리고, 용액중합법, 현탁중합법, 침전중합법, 유화중합법에 있어서 사용가능한 용매로서 특별한 제한은 없고, 예컨대 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 용매; 메탄올, 에탄올, 프로필 알콜, 부틸 알콜 등의 알콜계 용매; 시클로헥산; 디옥산; 테트라히드로푸란(THF); 아세톤; 메틸에틸케톤; 디메틸포름아미드; 아세트산 이소프로필; 물 등이 열거되고, 이들의 혼합 용매도 열거된다.

또한, 라디칼 중합을 행할 때의 중합온도는 중합개시제의 분해온도에 따라 적당하게 설정할 수 있고, 일반적으로는 40~150℃의 범위에서 행하는 것이 바람직하다.

본 발명의 광학 보상 필름 또는 광학 보상층(필름(A))에, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz의 관계에 있고, 필름의 두께를 d라고 했을 때 하기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50nm 이상인 필름(B)으로 더 이루어진 광학 보상 필름(필름(E))이어도 좋다.

Re=(ny-nx) ×d (2)

또한, 상기 필름(B)은, 예컨대 양의 복굴절성을 갖는 폴리머를 1축 연신 등을 함으로써, 3차원 굴절률이 ny>nx≥nz의 관계에 있는 필름을 얻을 수 있다.

또한, 필름(B)의 폴리머로는 양의 복굴절성을 갖는 폴리머이면 특별한 제한은 없고, 그 중에서도 내열성이나 투명성 등의 점으로부터 바람직한 예로는 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 환상 폴리올레핀 수지, N-치환 말레이미드계 수지가 열거된다. 또한, 필름(B)의 필름면내 위상차(Re)는 50nm 이상이 바람직하고, 특히 바람직하게는 100nm 이상, 더욱 바람직하게는 120nm 이상이다.

또한, 필름(E)에 있어서는, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz, 필름의 두께를 d라고 했을 경우, 하기 식(3)으로 표시되는 배향 파라미터(Nz)가 -0.1~0.95이 바람직하고, 특히 STN-LCD, IPS-LCD, 반사형 LCD, 반투과형 LCD의 시야각 보상에는 Nz는 0.40~0.60이 바람직하고, 또한 0.45~0.55가 바람직하고, 편광판의 시야각 보상에는 Nz는 -0.10~0.10이 바람직하고, -0.05~0.05이 보다 바람직하고, 0~0.05가 더욱 바람직하다.

Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (3)

또한, 필름(E)에 있어서는, 상기 식(2)으로 표시되는 필름면내 위상차(Re)는 50~1000nm가 바람직하고, 특히 바람직하게는 100~500nm이고, 또한 1/4 파장판에서는 130~140nm가 바람직하고, 1/2 파장판에서는 270~280nm가 바람직하다.

본 발명의 광학 보상 필름에 있어서의 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 광학 보상 필름의 제조방법으로는 특별히 제한하지 않고, 예컨대 용액 캐스트법, 용융 캐스트법 등의 방법에 의하여 제조할 수 있다.

용액 캐스트법은 푸마르산 에스테르계 수지를 용매에 용해한 용액(이하, 도프라고 칭함)을 지지기판 상에 유연한 후, 가열 등에 의하여 용매를 제거하여 필름을 얻는 방법이다. 이 때 도프를 지지기판 상에 유연하는 방법으로는, 예컨대 T다이법, 닥터 블래이드법, 바코터법, 롤코터법, 립코터법 등이 사용된다. 특히, 공업적으로는 다이로부터 도프를 벨트형상 또는 드럼형상의 지지기판에 연속적으로 압출하는 방법이 가장 일반적이다. 사용되는 지지기판으로는, 예컨대 유리기판; 스테인레스나 페로타이프 등의 금속기판; 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 트리아세틸 셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스 수지 등의 플라스틱 기판 등이 있다. 이렇게 하여 얻어진 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름은 지지기판으로부터 박리해서 사용할 수도 있고, 또한 지지기판으로서 유리기판, 플라스틱 기판을 사용한 경 우에는 박리하지 않고 적층체로서 그대로 사용할 수도 있다. 용액 캐스트법에 있어서, 높은 투명성을 갖고, 또한 두께 정밀도, 표면평활성이 우수한 필름을 제막할 때에는 도프의 용액점도는 매우 중요한 인자이며, 700~30000cps가 바람직하고, 특히 1000~10000cps인 것이 바람직하다. 또한, 용융 캐스트법은 푸마르산 에스테르계 수지를 압출기 내에서 용융하고, T다이의 슬릿으로부터 필름형상으로 압출한 후, 롤이나 에어 등으로 냉각하면서 인취하는 성형법이다.

본 발명의 광학 보상 필름으로 바람직하게 사용되는 광학 보상 필름 또는 광학 보상층(필름(A))과 필름(B)으로 이루어진 광학 보상 필름의 제조방법으로는 특별히 제한하지 않고, 예컨대 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 미연신필름과 양의 복굴절성을 갖는 필름의 1축 연신필름을 접합하는 방법(이하, 제조방법 1이라고 함), 푸마르산 에스테르계 수지를 양의 복굴절성을 갖는 필름의 1축 연신필름에 도포하는 방법(이하, 제조방법 2라고 함) 등에 의하여 제조할 수 있다.

제조방법 1, 2에 있어서의 양의 복굴절을 갖는 필름은, 예컨대 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 환상 폴리올레핀 수지, N-치환 말레이미드계 수지 등으로 이루어진 필름이 열거된다. 이 양의 복굴절을 갖는 필름을 1축 연신에 의해, 예컨대 온도 150~200℃, 연신속도 10~30mm/min., 연신배율 30~70%의 조건에 의하여 연신하여, 양의 복굴절성을 갖는 필름의 1축 연신필름을 제조할 수 있다.

제조방법 1에서는 양의 복굴절성을 갖는 필름의 1축 연신필름을 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 미연신필름에 접합함으로써 광학 보상 필름을 제조할 수 있다. 이 때의 접합방법으로는 예컨대 롤 투 롤의 연속 프로세스로 제조가능하고, 공지의 접착제를 이용하여 접합할 수 있다.

제조방법 2에서는 양의 복굴절성을 갖는 필름의 1축 연신필름에 푸마르산 에스테르계 수지를 도포함으로써 광학 보상 필름을 제조할 수 있다. 그 결과, 양의 복굴절성을 갖는 필름의 1축 연신필름과 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층으로 이루어진 광학 보상 필름으로 된다. 이 때의 도포방법은 푸마르산 에스테르계 수지를 용매에 용해한 용액(도포용액)을 필름 상에 도포한 후, 가열 등에 의하여 용매를 제거하는 방법이다. 이 때의 도포방법으로는, 예컨대 닥터 블래이드법, 바코터법, 그라비어코터법, 슬롯다이코터법, 립코터법, 콤마코터법 등이 사용된다. 공업적으로는 박막도포는 그라비어코터법, 후막도포는 콤마코터법이 일반적이다. 용액도포에 있어서, 높은 투명성을 갖고, 또한 두께 정밀도, 표면평활성이 우수한 도포를 하기 위해서는 도포용액 점도는 매우 중요한 인자이며, 10~10000cps가 바람직하고, 10~5000cps인 것이 특히 바람직하다. 본 발명에서 사용하는 푸마르산 에스테르계 수지의 도포 두께(푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 두께)는 필름 두께 방향의 위상차에 의하여 결정되고, 건조후 1~200㎛이 바람직하고, 특히 바람직하게는 10~100㎛이다. 또한, 필름(B)의 표면을 미리 이접착 처리하는 것도 가능하다.

또한, 본 발명의 광학 보상 필름끼리 또는 다른 광학 보상 필름과 적층할 수도 있다.

본 발명의 광학 보상 필름의 열안정성을 높이기 위해서 산화방지제가 배합되어 있는 것이 바람직하다. 상기 산화방지제로는, 예컨대 힌더드 페놀계 산화방지 제, 인계 산화방지제, 그외 산화방지제가 열거되고, 이들 산화방지제는 각각 단독 또는 병용해서 사용해도 좋다. 그리고, 상승적으로 산화방지작용이 향상하기 때문에 힌더드 페놀계 산화방지제와 인계 산화방지제를 병용해서 사용하는 것이 바람직하고, 이 때에는 예컨대 힌더드 페놀계 산화방지제 100중량부에 대하여 인계 산화방지제를 100~500중량부로 혼합해서 사용하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 산화방지제의 첨가량으로는 본 발명의 광학 보상 필름을 구성하는 푸마르산 에스테르계 수지 100중량부에 대하여 0.01~10중량부가 바람직하고, 특히 0.5~1중량부가 바람직하다.

또한, 자외선 흡수제로서, 예컨대 벤조트리아졸, 벤조페논, 트리아진, 벤조에이트 등의 자외선 흡수제가 필요에 따라서 배합되어 있어도 좋다.

본 발명의 광학 보상 필름은 발명의 주지를 넘지 않는 범위에서, 그외 폴리머, 계면활성제, 고분자 전해질, 도전성 착체, 무기 필러, 안료, 염료, 대전방지제, 안티블록킹제, 윤활제 등이 배합된 것이어도 좋다.

본 발명의 광학 보상 필름은 편광판과 적층해서 원 또는 타원 편광판으로 하여 사용할 수도 있다. 또한, 액정표시소자의 시야각 개량 필름이나 색보상 필름 등의 광학 보상 필름으로서 유용하고, 원 편광판은 반사 방지필름으로서 사용하는 것도 가능하다. 또한, 액정디스플레이에 사용되는 휘도향상 필름의 시각특성을 개량하는 광학 보상 필름으로서도 사용할 수 있다.

본 발명의 위상차 필름에 대하여 설명한다.

본 발명의 위상차 필름에서 사용하는 푸마르산 에스테르계 수지로는 푸마르 산 에스테르의 중합체가 열거되고, 그 중에서도 상기 일반식(a)으로 표시되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 50몰% 이상으로 이루어진 푸마르산 에스테르계 수지가 바람직하다.

본 발명의 위상차 필름은 상기 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어지고, 미립자를 첨가할 필요가 없는 위상차 필름이다.

그리고, 본 발명의 위상차 필름은 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 것을 특징으로 하는 위상차 필름이며, 상기 nx<ny≤nz를 만족함으로써 STN-LCD, IPS-LCD, 반사형 LCD나 반투과형 LCD 등의 시야각 보상성능이 우수한 위상차 필름으로 된다.

또한, 본 발명의 위상차 필름이 보다 광학특성이 우수한 위상차 필름이 되기 때문에, 상기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50~2000nm인 것이 바람직하고, 50~1000nm인 것이 더욱 바람직하고, 100~500nm인 것이 특히 바람직하다.

필름면내 위상차(Re)에 관해서 더욱 상세하게는, 본 발명의 위상차 필름을 TN이나 VA, IPS 또는 OCB 모드의 액정디스플레이의 시각보상을 위한 위상차 필름으로서 사용할 때에는 필름면내 위상차(Re)는 50nm 이상이 바람직하고, 100nm 이상이 더욱 바람직하고, 135nm 이상이 특히 바람직하다.

또한, 위상차 필름과 편광판을 적층해서 일체화하여 이루어진 원편광필름으로서 사용할 때의 필름면내 위상차(Re)는 100~200nm가 바람직하다. 원편광필름은 반사형 액정디스플레이의 보상 필름 외에, 유기 EL디스플레이 등의 반사 방지필름, 휘도향상 필름 등으로도 유용하다.

또한, 본 발명의 위상차 필름을 1/2 파장 필름으로서 사용할 때의 필름면내 위상차(Re)로는 200~400nm가 바람직하고, STN모드의 액정디스플레이용, 휘도향상 필름의 시각보상용으로 사용할 때의 필름면내 위상차(Re)로는 50~1000nm가 바람직하다.

위상차의 파장 의존성은 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비 R450/R550로서 나타낼 수 있다. 본 발명의 위상차 필름에서는 상기 R450/R550은 1.1 이하가 바람직하고, 1.08 이하가 더욱 바람직하고, 1.05 이하가 특히 바람직하다.

또한, 위상차 필름의 두께는 10~400㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 20~150㎛이고, 특히 바람직하게는 30~100㎛의 범위다.

본 발명의 위상차 필름의 제조방법으로는 특별히 제한하지 않고, 예컨대 상기 광학 보상 필름일 때에 사용한 용액 캐스트법, 용융 캐스트법 등의 방법에 의하여 필름화하고, 상기 필름을 1축 또는 2축으로 연신함으로써 위상차를 제어하여 본 발명의 위상차 필름으로 하는 것이 가능하다. 1축 연신방법으로는, 예컨대 자유폭 1축 연신, 텐터에 의하여 연신하는 방법, 롤사이에서 연신하는 방법 등이 열거되고, 2축 연신방법으로는, 예컨대 텐터에 의하여 연신하는 방법, 튜브형상으로 부풀려서 연신하는 방법 등이 있다. 그 연신 조건으로는 두께 불균일이 발생하기 어렵고, 기계적 특성, 광학적 특성이 우수한 위상차 필름이 되기 때문에, 연신 온도는 80~250℃가 바람직하고, 특히 바람직하게는 120~220℃이고, 연신배율은 1.01~5배가 바람직하고, 특히 바람직하게는 1.01~2배이다.

본 발명의 위상차 필름은 필름 성형시 또는 위상차 필름 자체의 열안정성을 높이기 위해서 산화방지제가 배합되어 있는 것이 바람직하다. 상기 산화방지제로는, 예컨대 힌더드 페놀계 산화방지제, 인계 산화방지제, 그외 산화방지제가 열거되고, 이들 산화방지제는 각각 단독 또는 병용해서 사용해도 좋다. 그리고, 상승적으로 산화방지 작용이 향상하기 때문에 힌더드 페놀계 산화방지제와 인계 산화방지제를 병용해서 사용하는 것이 바람직하고, 이 때에는 예컨대 힌더드 페놀계 산화방지제 100중량부에 대하여 인계 산화방지제를 100~500중량부로 혼합해서 사용하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 산화방지제의 첨가량으로는 본 발명의 위상차 필름을 구성하는 푸마르산 에스테르계 수지 100중량부에 대하여 0.01~10중량부가 바람직하고, 특히 0.5~1중량부의 범위인 것이 바람직하다.

본 발명의 위상차 필름은 발명의 주지를 넘지 않는 범위에서, 그외 고분자, 계면활성제, 고분자 전해질, 도전성 착체, 무기 필러, 안료, 염료, 대전방지제, 안티블록킹제, 윤활제 등이 배합된 것이어도 좋다.

본 발명의 위상차 필름은 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 필름(C)과, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz 또는 ny>nz≥nx의 관계에 있는 필름(D)으로 이루어진 위상차 필름(필름 F)이어도 좋다.

필름 F에 사용하는 푸마르산 에스테르계 수지로는 푸마르산 에스테르의 중합체가 열거되고, 그 중에서도 상기 일반식(a)으로 표시되는 푸마르산 디에스테르 잔기 단위 50몰% 이상으로 이루어진 푸마르산 에스테르계 수지가 바람직하다.

필름 F에 사용하는 필름(C)은 필름 두께를 d라고 했을 때, 상기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50~2000nm인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100~600nm, 120~300nm인 것이 특히 바람직하다.

또한, 필름 F에 사용하는 필름(D)은 상기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50~2000nm인 것이 바람직하다.

이러한 필름(D)은, 예컨대 양의 복굴절성을 가지는 폴리머를 1축 연신하거나 또는 양의 복굴절성을 가지는 폴리머의 양면 또는 한면에 열수축 필름을 접합한 후에 1축 연신함으로써, 3차원 굴절률이 ny>nx≥nz 또는 ny>nz≥nx의 관계에 있는 필름을 얻을 수 있다. 상기 양의 복굴절성을 가지는 폴리머로는 양의 복굴절성을 갖는 폴리머이면 특별한 제한은 없고, 내열성이나 투명성 등의 점에서 바람직한 예로는 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리알릴레이트 수지, 폴리이미드 수지, 환상 폴리올레핀 수지, N-치환 말레이미드계 수지 등이 열거된다. 이들 중에서도, 특히 역파장 분산성을 갖는 위상차 필름이 얻어지기 때문에, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지 등의 파장분산이 큰 필름이 바람직하다.

필름 F는 필름(C)과 필름(D)으로 이루어진 위상차 필름이며, 필름(C)의 진상축과 필름(D)의 진상축이 이루는 각도는 목적으로 따라서 설정 가능하고, 그 중에서도 파장 분산성의 제어 및 생산성의 점에서 90도±20도 이하인 것이 바람직하고, 90도±5도 이하인 것이 더욱 바람직하고, 90도인 것이 특히 바람직하다.

필름(C)과 필름(D)으로 이루어진 위상차의 필름면내 위상차(Re)는 필름(C)과 필름(D)의 위상차의 차이가 되고, 1/4 파장의 위상차를 가지는 위상차 필름, 소위 1/4 파장판으로는 파장 550nm에서 측정한 필름(C)의 필름면내 위상차(Re)와 필름(D)의 필름면내 위상차(Re)의 차이가 100~160nm인 것이 바람직하고, 특히 130~150nm인 것이 바람직하다. 또한, 1/2 파장의 위상차를 가지는 위상차 필름, 소위 1/2 파장판으로는 파장 550nm에서 측정한 필름(C)의 필름면내 위상차(Re)와 필름(D)의 필름면내 위상차(Re)의 차이가 250~300nm인 것이 바람직하다.

필름 F의 파장 분산성은 필름(C)과 필름(D)의 위상차를 조정함으로써 제어가능하다. 1/4 파장판, 1/2 파장판으로서 사용하는 경우에는, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 1.0 이하가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.99 이하, 특히 바람직하게는 0.98 이하이다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.0 이상이 바람직하고, 특히 바람직하게는 1.01 이상이다.

필름 F에 사용하는 필름(C)의 제조방법으로는 특별히 제한하지 않고, 예컨대 상기 광학 보상 필름의 제조시에 사용한 용액 캐스트법, 용융 캐스트법 등의 방법 에 의하여 필름화하고, 상기 필름을 1축 또는 2축 이상으로 연신하는 방법에 의하여 위상차를 제어하여, 본 발명의 위상차 필름에 사용되는 필름(C)으로 하는 것이 가능하다.

또한, 필름 F에 사용하는 필름(D)의 제조방법으로는 특별히 제한하지 않고, 예컨대 상기 광학 보상 필름의 제조시에 사용한 용액 캐스트법, 용융 캐스트법 등 의 방법에 의하여 필름화하여 상기 필름을 1축 또는 2축 이상으로 연신하는 방법, 상기 필름의 한면 또는 양면에 열수축 필름을 접합한 후에 1축으로 연신하는 방법에 의하여 위상차를 제어하여, 본 발명의 위상차 필름에 사용되는 필름(D)으로 하는 것이 가능하다.

1축 연신방법으로는, 예컨대 자유폭 1축 연신, 텐터에 의하여 연신하는 방법, 롤사이에서 연신하는 방법 등이 열거되고, 2축 연신방법으로는, 예컨대 텐터에 의하여 연신하는 방법, 튜브형상으로 부풀려서 연신하는 방법 등이 있다. 또한, 열수축 필름을 접합한 후에 1축 연신하는 방법으로는, 예컨대 양의 복굴절성을 가진 폴리머의 양면 또는 한면에 열수축 필름을 그 필름 자체의 접착력이나 이박리성 접착제 등의 접착수단을 이용하여 접합한 후에 자유폭 1축 연신, 텐터에 의하여 연신하는 방법, 롤사이에서 연신하는 방법 등이 열거되고, 열수축 필름은 연신후에 박리한다. 연신조건으로는 두께 불균일이 발생하기 어렵고, 기계적 특성, 광학적 특성이 우수한 위상차 필름으로 되기 때문에, 연신 온도는 80~250℃가 바람직하고, 특히 바람직하게는 120~220℃이고, 연신배율은 1.01~5배가 바람직하고, 특히 바람직하게는 1.01~2배이다.

사용하는 열수축 필름으로는 특별히 제한하지 않고, 예컨대 2축 연신필름이나 1축 연신필름 등이 열거되고, 특히 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴 등의 2축 연신필름이나 1축 연신필름 등을 예시할 수 있다.

필름 F는, 예컨대 상기 필름(C) 및 필름(D)을 접합하여 제조할 수 있다. 접합방법에 대해서는 특별한 제한이 없고, 낱장으로의 접합도 가능하고, 특히 필름(C) 및 필름(D)의 롤 필름을 공지의 점접착제 등을 이용하여 접합하는 것이 바람직하다. 또한, 접합시에는 필름(C)의 진상축과 필름(D)의 진상축이 이루는 각도가 90도±20도인 것이 바람직하고, 롤 투 롤의 접합이 가능하기 때문에 90도±5도 이하인 것이 더욱 바람직하고, 90도인 것이 특히 바람직하다.

또한, 필름(C) 및 필름(D)의 미연신필름을 공압출 등으로 성형한 후에 연신함으로써 제조하는 것도 가능하다.

필름 F는 필름 성형시 또는 위상차 필름 자체의 열안정성을 높이기 위해서 산화방지제가 배합되어 있는 것이 바람직하다. 상기 산화방지제로는, 예컨대 힌더드 페놀계 산화방지제, 인계 산화방지제, 그외 산화방지제가 열거되고, 이들 산화방지제는 각각 단독 또는 병용해서 사용해도 좋다. 그리고, 상승적으로 산화방지작용이 향상되기 때문에 힌더드 페놀계 산화방지제와 인계 산화방지제를 병용해서 사용하는 것이 바람직하고, 이 때는 예컨대 힌더드 페놀계 산화방지제 100중량부에 대하여 인계 산화방지제를 100~500중량부로 혼합해서 사용하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 산화방지제의 첨가량으로는 본 발명의 위상차 필름을 구성하는 푸마르산 에스테르계 수지 100중량부에 대하여 0.01~10중량부가 바람직하고, 특히 0.5~1중량부의 범위인 것이 바람직하다.

또한, 자외선 흡수제로서, 예컨대 벤조트리아졸, 벤조페논, 트리아진, 벤조에이트 등의 자외선 흡수제를 필요에 따라서 배합해도 좋다.

필름 F는 발명의 주지를 넘지 않는 범위에서, 그외 고분자, 계면활성제, 고분자 전해질, 도전성 착체, 무기 필러, 안료, 염료, 대전방지제, 안티블록킹제, 윤활제 등이 배합된 것이어도 좋다.

또한, 필름 F끼리 또는 그외 위상차 필름과 적층할 수도 있다.

필름 F는 1/4 파장판과 편광판을 적층하여 일체화되어 이루어진 원편광필름, 반사형 액정디스플레이의 위상차 필름 외에, 유기 EL디스플레이나 터치패널 등의 반사 방지 필름, 휘도향상 필름 등에도 유용하다. 또한, 편광판과 적층함으로써, 복합 편광판으로 할 수도 있다.

실시예

이하에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의하여 하등 제한되는 것은 아니다. 또한, 미리 언급하지 않는 한 사용한 시약은 시판품을 사용하였다.

-푸마르산 디에스테르계 수지(푸마르산 디에스테르 공중합체)의 조성-

핵자기 공명 측정장치(JEOL, Ltd. 제품, 상품명 JNM-GX270)를 사용하여, 프로톤 핵자기 공명 분광(¹H-NMR) 스펙트럼 분석으로 구하였다.

-수평균 분자량의 측정-

컬럼(TOSOH Co., Ltd. 제품, 상품명 TSK-GEL GMH_HR-H)을 장착한 겔투과 크로마토그래피(GPC)(TOSOH Co., Ltd. 제품, 상품명 HLC-8020)를 사용하여, 컬럼 온도40℃, 유량 1.0㎖/분의 조건하에서 THF를 용제로 하여 표준 폴리스티렌 환산치로서 구하였다.

-유리전이온도(Tg)의 측정-

시차주사형 열량계(Seiko Instruments Inc. 제품, 상품명 DSC2000)를 사용하여 10℃/min.의 온도 상승속도에서 측정하였다.

-필름의 광선투과율 및 헤이즈의 측정-

제조한 필름의 광선투과율 및 헤이즈는 헤이즈미터(Nippon Denshoku Industry Co., Ltd. 제품, 상품명 NDH2000)를 사용하여, 광선투과율의 측정은 JIS K7361-1(1997년 판)에 헤이즈의 측정은 JIS K7136(2000년 판)에 각각 준거해서 측정하였다.

-굴절률의 측정-

아베 굴절률계(ATAGO CO., LTD, 제품)를 사용하여, JIS K7142(1981년 판)에 준거해서 측정을 행하였다.

-3차원 굴절률의 측정, 필름면외 위상차, 필름면내 위상차 및 배향 파라미터의 계산-

시료경사형 자동 복굴절계(OJI SCIENTIFIC INSTRUMENTS CO., LTD. 제품, 상 품명 KOBRA-WR)를 이용하여 앙각을 바꾸어서 3차원 굴절률을 측정하였다. 또한, 3차원 굴절률로부터 필름면외 위상차(Rth), 필름면내 위상차(Re) 및 배향 파라미터(Nz)를 계산하였다.

~복굴절성의 양음 판정~

고분자 소재의 편광 현미경 입문(아와야 유타카 저, 아구네 기술 센터 판, 제5장, pp.78~82,(2001))에 기재된 편광 현미경을 사용하여 복굴절성의 양음 판정을 행하였다.

~광탄성계수의 측정~

광유량계(HRS-100. Oak Manufacturing Co., Inc. 제품)를 사용하여 인장 속도 1%/s에서 측정하였다.

합성예 1(푸마르산 디에스테르 단독 중합체의 제조예)

30L 오토클레이브 중에, 부분 비누화 폴리비닐알콜 0.2중량%를 함유하는 증류수 18kg, 푸마르산 디이소프로필 3kg, 중합개시제로서 디메틸-2,2'-아조비스 이소부틸레이트 7g을 주입하고, 중합온도 50℃, 중합시간 24시간의 조건에서 현탁 라디칼 중합반응을 행하였다. 얻어진 입자를 여과후, 메탄올로 충분히 세정하고 80℃에서 건조하여 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체를 얻었다. 얻어진 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체의 수평균 분자량은 16만이었다.

합성예 2(푸마르산 디에스테르 공중합체의 합성)

교반기, 냉각관, 질소 도입관 및 온도계를 구비한 30L의 오토클레이브에, 히드록시프로필 메틸셀룰로오스(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제품, 상품명 Metolose 60SH-50) 48g, 증류수 15601g, 푸마르산 디이소프로필 8161g, 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 240g 및 중합개시제인 t-부틸퍼옥시피발레이트 45g을 넣고, 질소 버블링을 1시간 행한 후, 200rpm에서 교반하면서 49℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 현탁중합을 행하였다. 실온까지 냉각하고, 생성된 폴리머 입자를 함유하는 현탁액을 원심분리하였다. 얻어진 폴리머 입자를 증류수로 2회 및 메탄올로 2회 세정후, 80℃에서 감압 건조하였다(수율: 80%).

얻어진 폴리머 입자의 수평균 분자량은 142,000이었다. ¹H-NMR 측정에 의해, 폴리머 입자는 푸마르산 디이소프로필 잔기 단위/아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸잔기 단위=96/4(몰%)인 푸마르산 디이소프로필 공중합체인 것을 확인하였다.

합성예 3(푸마르산 디에스테르 공중합체의 합성)

75mL의 유리 앰플관에, 푸마르산 디이소프로필 69.89g, 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 0.91g 및 중합개시제인 t-부틸퍼옥시피발레이트 0.39g을 넣고, 질소치환을 행한 후, 감압하여 봉관하였다. 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 중합을 행하였다. 실온까지 냉각한 후, 생성된 폴리머를 테트라히드로푸란에 용해하였다. 얻어진 폴리머 용액을 과잉의 메탄올에 첨가함으로써 백색 분체의 폴리머를 얻었다. 얻어진 폴리머를 메탄올로 3회 세정후, 80℃에서 감압 건조하였다(수율: 84%).

얻어진 폴리머의 수평균 분자량은 171,000이었다. ¹H-NMR 측정에 의해, 폴리머는 푸마르산 디이소프로필 잔기 단위/아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 잔기 단위 =98/2(몰%)인 푸마르산 디이소프로필 공중합체인 것을 확인하였다.

합성예 4(푸마르산 디에스테르 공중합체의 합성)

75mL의 유리 앰플관에, 푸마르산 디이소프로필 68.09g, 아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸 3.06g 및 중합개시제인 t-부틸퍼옥시피발레이트 0.39g을 넣고, 질소치환을 행한 후, 감압하여 봉관하였다. 50℃에서 24시간 유지함으로써 라디칼 중합을 행하였다. 실온까지 냉각한 후, 생성된 폴리머를 테트라히드로푸란에 용해하였다. 얻어진 폴리머 용액을 과잉의 메탄올에 첨가함으로써 백색 분체의 폴리머를 얻었다. 얻어진 폴리머를 메탄올로 3회 세정후, 80℃에서 감압 건조하였다(수율: 70%).

얻어진 폴리머의 수평균 분자량은 179,000이었다. ¹H-NMR 측정에 의해, 폴리머는 푸마르산 디이소프로필 잔기 단위/아크릴산 3-에틸-3-옥세타닐메틸잔기 단위=94/6(몰%)인 푸마르산 디이소프로필 공중합체인 것을 확인하였다.

필름 제조예 1

합성예 1에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체를 THF용액에 용해하여 22% 용액으로 하고, 또한 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체 100중량부에 대하여 힌더드 페놀계 산화방지제로서 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 0.35중량부 및 인계 산화방지제로서 펜타에리스리톨-테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.15중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸 1중량부를 첨가한 후, T다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 40℃, 80℃ 및 120℃에서 각각 15분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 120㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 93%, 헤이즈 0.3%, 굴절률 1.470이었다.

필름 제조예 2

합성예 1에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체를 THF용액에 용해하여 22% 용액으로 하고, 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체 100중량부에 대하여 힌더드 페놀계 산화방지제로서 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 0.35중량부 및 인계 산화방지제로서 펜타에리스리톨-테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.15중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸 1중량부를 더 첨가한 후, T다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 40℃, 80℃ 및 120℃에서 각각 10분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 105㎛의 필름을 얻었다.

필름 제조예 3

합성예 1에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체를 THF용액에 용해하여 22% 용액으로 하고, 필름 제조예 1과 같이 T다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하여 폭 250mm, 두께 124㎛의 필름을 얻었다.

필름 제조예 4

폴리카보네이트 수지(Aldrich Company Ltd. 제품)을 염화 메틸렌 용액에 용 해하여 25% 용액으로 하고, 폴리카보네이트 수지 100중량부에 대하여 산화방지제로서 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 0.35중량부 및 펜타에리스리톨-테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.15중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸 1중량부를 더 첨가한 후, T다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 40℃, 80℃ 및 120℃에서 각각 15분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 100㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 91%, 헤이즈 0.6%, 굴절률 1.583이었다.

필름 제조예 5

환상 폴리올레핀 수지(에스테르기를 갖는 폴리노르보르넨, Aldrich Company Ltd. 제품)을 염화 메틸렌 용액에 용해하여 25% 용액으로 하고, 또한 환상 폴리올레핀 수지 100중량부에 대하여 산화방지제로서 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 0.35중량부 및 펜타에리스리톨-테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.15중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸 1중량부를 첨가한 후, T다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 40℃, 80℃ 및 120℃에서 각각 15분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 100㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 92%, 헤이즈 0.4%, 굴절률 1.510이었다.

필름 제조예 6

폴리카보네이트 수지(Aldrich Company Ltd. 제품)를 염화 메틸렌 용액에 용해하여 25% 용액으로 하고, 필름 제조예 2와 마찬가지로 하여 폭 250mm, 두께 85㎛ 의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 91%, 헤이즈 0.5%, 굴절률 1.583이었다.

실시예 1

합성예 1에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체를 THF용액에 용해하여 22% 용액으로 하고, 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체 100중량부에 대하여 힌더드 페놀계 산화방지제로서 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 0.35중량부 및 인계 산화방지제로서 펜타에리스리톨-테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.15중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸 1중량부를 더 첨가한 후, T다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 40℃, 80℃ 및 120℃에서 각각 15분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 21㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 93%, 헤이즈 0.3%, 광탄성계수 5×10^-12Pa^-1이고, 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.4689 , ny=1.4689, nz=1.4723(nz>ny=nx)이었다. 또한, 얻어진 필름면내 위상차(Re)는 0nm이고, 필름면외 위상차(Rth)는 -71nm이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.02이었다. 또한, 얻어진 필름의 인장 강도는 50MPa에서 인장신도는 12%로 충분히 실용적인 기계특성을 갖고 있었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 두께 방향의 굴절률이 크고, 파장 의존성이 작기 때문에, 광학 보상 필름에 적합한 것이었다.

실시예 2

실시예 1과 같은 방법으로 폭 250mm, 두께 30㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 93%, 헤이즈 0.4%이며, 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.4690. ny=1.4690. nz=1.4721(nz>ny=nx)이었다. 얻어진 필름면내 위상차(Re)는 0nm이고, 필름면외 위상차(Rth)는 -93nm이었다. 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)은 1.02이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 두께 방향의 굴절률이 크고, 파장 의존성이 작기 때문에 광학 보상 필름에 적합한 것이었다.

실시예 3

합성예 2에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 공중합체를 톨루엔:메틸에틸케톤 중량비 1:1의 용액에 용해하여 20% 용액으로 하고, T 다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 80℃ 및 120℃에서 각각 10분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 23㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 94%, 헤이즈 0.3%, 광탄성계수 5×10^-12Pa^-1이고, 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.4689, ny=1.4690. nz=1.4721(nz>ny≒nx)이었다. 또한, 얻어진 필름면내 위상차(Re)는 1nm이며, 필름면외 위상차(Rth)는 -87nm이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.02이었다. 또한, 얻어진 필름의 인장강도는 50MPa이고 인장신도는 11%로 충분히 실용적인 기계특성을 갖고 있었다.

실시예 4

합성예 3에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 공중합체를 톨루엔:메틸에틸케톤 중량비 1:1의 용액에 용해하여 20% 용액으로 하고, T 다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 80℃ 및 120℃에서 각각 10분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 31㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 94%, 헤이즈 0.3%, 광탄성계수 5×10^-12Pa^-1이고, 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.4686, ny=1.4687, nz=1.4727(nz>ny≒nx)이었다. 또한, 얻어진 필름면내 위상차(Re)는 1nm이고, 필름면외 위상차(Rth)는 -127nm이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.02이었다. 또한, 얻어진 필름의 인장강도는 50MPa이고, 인장신도는 11%로 충분히 실용적인 기계특성을 갖고 있었다.

실시예 5

합성예 4에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 공중합체를 톨루엔:메틸에틸케톤 중량비 1:1의 용액에 용해하여 20% 용액으로 하고, T 다이법에 의하여 용액 유연장치의 지지기판에 유연하고, 80℃ 및 120℃에서 각각 10분 건조한 후, 폭 250mm, 두께 27㎛의 필름을 얻었다.

얻어진 필름은 광선투과율 94%, 헤이즈 0.3%, 광탄성계수 5×10^-12Pa^-1이고, 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.4687, ny=1.4687, nz=1.4726(nz>ny=nx)이었다. 또한, 얻어진 필름면내 위상차(Re)는 1nm이고, 필름면외 위상차(Rth)는 -104nm이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.02이었다. 또한, 얻어진 필름의 인장 강도는 50MPa이고, 인장신도는 12%로 충분히 실용적인 기계특성을 갖고 있었다.

비교예 1

폴리카보네이트(Teijin Chemicals Ltd. 제품, 상품명 Panlite L1225) 25중량%, 염화 메틸렌을 75중량%로 한 염화 메틸렌 용액을 조정하고, 상기 염화 메틸렌 용액을 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 상에 유연하고, 용제를 휘발시켜서 고화, 박리시킴으로써 필름을 얻었다. 얻어진 박리후의 필름을 100℃에서 4시간, 110℃~130℃에 걸쳐서 10℃ 간격으로 각각 1시간 더 건조하고, 그 후에 진공건조기에서 120℃에서 4시간 더 건조해서 약 90㎛의 두께를 갖는 필름(이하, 필름(1)이라고 칭함)을 얻었다.

얻어진 필름(1)은 유리전이온도(Tg) 150℃이었다. 광선투과율 90.0%, 헤이즈 0.6%, 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5830. ny=1.5830. nz=1.5830이었다. 얻어진 필름면내 위상차(Re) 및 필름면외 위상차(Rth)는 0nm이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 두께 방향의 굴절률이 크지 않아서 광학 보상 필름에 적합한 것이 아니었다.

실시예 6

비교예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장 치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 +50% 연신하였다. 연신한 필름(필름 1(a)이라고 칭함)은 양의 복굴절성을 나타내었다. 얻어진 필름 1(a)의 3차원 굴절률은 nx=1.5826, ny=1.5842, nz=1.5822(ny>nx>nz)이며, 필름면내 위상차(Re)는 125nm이었다.

또한, 상기 필름 1(a) 상에 실시예 1에서 제조한 필름을 접합하고, 두께 97㎛의 필름을 얻었다. 상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5593, ny=1.5606, nz=1.5600이고, 필름면내 위상차(Re)는 126nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.5이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 광학 보상 필름에 적합한 것이었다.

실시예 7

비교예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 +33% 연신하였다. 연신한 필름(필름 1(b)이라고 칭함)은 양의 복굴절성을 나타내었다. 얻어진 필름 1(b)의 3차원 굴절률은 nx=1.5826, ny=1.5839, nz=1.5825(ny>nx>nz)이고, 필름면내 위상차(Re)는 113nm이었다.

또한, 상기 필름 1(b) 상에 실시예 2에서 제조한 필름을 접합하여 두께 113㎛의 필름을 얻었다. 상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5494, ny=1.5504, nz=1.5502이고, 필름면내 위상차(Re)는 113nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.20이었다.

도포용액 제조예 1

합성예 1에서 얻어진 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체를 톨루엔:메틸에틸케톤 중량비 1:1의 용액에 용해하여 10% 용액으로 하고, 또한 푸마르산 디이소프로필 단독 중합체 100중량부에 대하여 산화방지제로서 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 0.35중량부 및 펜타에리스리톨-테트라키스(3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트) 0.15중량부, 자외선 흡수제로서 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸 1중량부를 첨가하여 도포용액으로 하였다.

실시예 8

실시예 6에서 얻은 필름 1(a) 상에 상기 도포용액을 이용하여 닥터 블래이드법으로 건조후의 두께(푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 두께) 21㎛가 되도록 도포하여 필름을 얻었다(필름 두께: 96㎛). 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 3차원 굴절률은 nx=1.4689, ny=1.4689, nz=1.4723(nz>ny=nx)이었다.

상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5593, ny=1.5606, nz=1.5600이고, 필름면내 위상차(Re)는 125nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.5이었다.

실시예 9

실시예 7에서 얻은 필름 1(b) 상에 상기 도포용액을 이용하여 닥터 블래이드법으로 도포하여 건조 두께(푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 두께) 30㎛가 되도록 도포하여 필름을 얻었다(필름 두께: 112㎛). 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 3차원 굴절률은 nx=1.4690, ny=1.4690, nz=1.4721(nz>ny=nx)이었 다.

상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5494, ny=1.5504, nz=1.5502이고, 필름면내 위상차(Re)는 112nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.20이었다.

실시예 10

비교예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 165℃, 연신속도 20mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 +50% 연신하였다. 연신한 필름(필름 1(c)이라고 칭함)은 양의 복굴절성을 나타내었다. 얻어진 필름 1(c)의 3차원 굴절률은 nx=1.5820. ny=1.5851, nz=1.5819(ny>nx>nz)이고, 필름면내 위상차(Re)는 263nm이었다.

또한, 필름 1(c) 상에 상기 도포용액을 이용하여 닥터 블래이드법으로 도포하여 필름을 얻었다(필름 두께: 94㎛). 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 3차원 굴절률은 nx=1.4678, ny=1.4678, nz=1.4744(nz>ny=nx)이었다.

상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5089, ny=1.5117, nz=1.5094이며, 필름면내 위상차(Re)는 263nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.82이었다.

실시예 11

비교예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 160℃, 연신속도 20mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 +50% 연신하였다. 연신한 필름(필름 1(d)이라고 칭함)은 양의 복굴절성을 나타내었다. 얻어진 필름 1(d)의 두께는 83㎛이고, 3차원 굴절률은 nx=1.5813, ny=1.5865, nz=1.5812(ny>nx>nz)이고, 필름면내 위상차(Re)는 429nm이었다.

또한, 상기 필름 1(d) 상에 상기 도포용액을 이용하여 닥터 블래이드법으로 도포하여 필름을 얻었다(필름 두께: 113㎛). 푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 층의 두께는 30㎛이고, 3차원 굴절률은 nx=1.4690, ny=1.4690, nz=1.4721(nz>ny=nx)이었다.

상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5484, ny=1.5522, nz=1.5494이고, 필름면내 위상차(Re)는 429nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.74이었다.

실시예 12

비교예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)를 이용하여, 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 +60% 연신하였다. 연신한 필름(필름 1(e)이라고 칭함)은 양의 복굴절성을 나타내었다. 얻어진 필름 1(e)의 두께는 70㎛이고, 3차원 굴절률은 nx=1.5824, ny=1.5843, nz=1.5823(nz>ny>nx)이고, 필름면내 위상차(Re)는 133nm이었다.

또한, 상기 필름 1(e) 상에 상기 도포용액을 이용하여 닥터 블래이드법으로 도포하여 필름을 얻었다(필름 두께: 113㎛). 상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5493, ny=1.5503, nz=1.5504이고, 필름면내 위상차(Re) 131nm, 배향 파라미터(Nz)는 -0.10이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 광학보상 필름에 적합한 것이었다.

실시예 13

비교예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의해 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 행하여 +65% 연신하였다. 연신한 필름(필름 1(f)이라고 칭함)은 양의 복굴절성을 나타내었다. 얻어진 필름 1(f)의 3차원 굴절률은 nx=1.5825, ny=1.5843 nz=1.5821(ny>nx>nz)이고, 필름의 위상차(Re)는 137nm이었다.

또한, 상기 필름 1(f) 상에 실시예 3에서 제조한 필름을 접합하여 두께 99㎛의 필름을 얻었다. 상기 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5523, ny=1.5537, nz=1.5530이고, 필름면내 위상차(Re)는 137nm, 배향 파라미터(Nz)는 0.5이었다.

비교예 2

비교예 1에서 얻은 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)를 이용하여, 온도 165℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 +50% 연신하였다(필름 두께: 85㎛). 연신한 필름은 양의 복굴절성을 나타내고, 필름면내 위상차(Re)는 264nm이었다. 3차원 굴절률은 nx=1.5820, ny=1.5851, nz=1.5819이고, 배향 파라미터(Nz)는 1.02이었다.

비교예 3

질소분위기 하, 소형 분산기를 이용하여 염화 메틸렌 49.6g에 폴리(2-비닐나프탈렌)(Aldrich Company Ltd. 제품, 중량평균 분자량: 17.5만) 9.0g을 가하고, 2500rpm에서 1시간, 실온에서 용해하였다. 얻어진 폴리머 용액을 25㎛ 필터를 이용하여 여과하였다. 다음에, 이 폴리머 용액을 바코터법으로 두께 188㎛의 PET필름 상에 도포한 후, 질소기류 하에서 하룻밤 풍건하여 PET기판 상에 폴리(2-비닐나프탈렌)의 필름을 제조하였다.

이 폴리(2-비닐나프탈렌) 필름의 일부를 PET기판으로부터 박리하여, 막두께 및 광학특성을 측정하였다. 건조후의 막두께는 58㎛이었다. 또한, 박리시 필름이 약하여 일부 파손되었다.

얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.6557, ny=1.6558, nz=1.6578이었다. 필름면외 위상차(Rth)는 -120.2nm, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.12이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 nz>ny≥nx의 관계에 있지만, 파장 의존성이 크기 때문에 광학 보상 필름에 적합한 것은 아니었다.

비교예 4

소형 분산기를 이용하여, N-메틸-2-피롤리돈(NMP)에 폴리(9-비닐카바졸)(Aldrich Company Ltd. 제품, 중량평균 분자량: 약 110만) 13.2g을 가하고, 6000rpm에서 1시간, 실온에서 용해하였다. 얻어진 폴리머 용액을 25㎛ 필터를 이용하여 여과하였다. 다음에, 이 폴리머 용액을 바코터법으로 두께 188㎛의 PET필름 상에 도포한 후, 60℃에서 1시간, 100℃에서 15분 열풍건조함으로써 PET기판 상에 폴리(9-비닐카바졸) 필름을 제조하였다.

이 폴리(9-비닐카바졸) 필름 일부를 PET기판으로부터 박리하여, 막두께 및 광학특성을 측정하였다. 건조후의 막두께는 33㎛이었다. 또한 박리시, 필름이 약하여 일부 파손되었다.

얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.6819, ny=1.6820, nz=1.6926이었다. 필름면외 위상차(Rth)는 -350.0nm, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.14이었다.

실시예 14

필름 제조예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 140℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.125배 연신하였다. 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과, 연신축 방향의 굴절률이 작았기 때문에, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖는 것이었다.

3차원 굴절률 측정의 결과(nx=1.4681, ny=1.4692, nz=1.4727)로부터, 얻어진 필름은 nx<ny<nz와 필름의 두께 방향의 굴절률이 컸다. 또한, 필름면내 위상차 Re=(ny-nx)×d는 131nm으로 큰 것이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.02로 낮은 것이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖고, 두께 방향의 굴절률이 크고, 또한 필름면내 위상차가 크고, 파장 의존성이 작기 때문에 위상차 필름에 적합한 것이었다.

실시예 15

필름 제조예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 140℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.25배 연신하였다. 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과, 연신축 방향의 굴절률이 작았기 때문에, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖는 것이었다.

3차원 굴절률 측정의 결과(nx=1.4667, ny=1.4704, nz=1.4729)로부터, 얻어진 필름은 nx<ny<nz로 필름의 두께 방향의 굴절률이 컸다. 또한, 필름면내 위상차 Re=(ny-nx)×d는 418nm로 큰 것이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)는 1.02로 낮은 것이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖고, 두께 방향의 굴절률이 크고, 또한 면내 위상차가 크고, 파장 의존성이 작기 때문에 위상차 필름에 적합한 것이었다.

실시예 16

필름 제조예 1에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연 신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 140℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.375배 연신하였다. 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과, 연신축 방향의 굴절률이 작았기 때문에, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖는 것이었다.

3차원 굴절률 측정의 결과(nx=1.4653, ny=1.4714, nz=1.4733)로부터, 얻어진 필름은 nx<ny<nz로 필름의 두께 방향의 굴절률이 컸다. 또한, 필름면내 위상차 Re=(ny-nx)×d는 636nm으로 큰 것이었다. 또한, 위상차의 비(R450/R550)(파장 의존성)은 1.02로 낮은 것이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖고, 두께 방향의 굴절률이 크고, 또한 필름면내 위상차가 크고, 파장 의존성이 작기 때문에, 위상차 필름에 적합한 것이었다.

비교예 5

필름 제조예 4에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)를 이용하여, 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.10배 연신하였다. 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과, 연신축 방향과 직교하는 축 방향의 굴절률이 작았기 때문에, 얻어진 필름은 양의 복굴절을 갖는 것이었다.

3차원 굴절률 측정의 결과(nx=1.5844, ny=1.5823, nz=1.5823)로부터, 얻어진 필름은 nx>ny=nz로 필름의 두께 방향의 굴절률이 컸다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 STN-LCD나 IPS-LCD의 시야각 보상성능의 위 상차 필름에 적합한 것은 아니었다.

비교예 6

필름 제조예 5에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)를 이용하여, 온도 180℃, 연신속도 15mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 2.0배 연신하였다. 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과, 연신축 방향과 직교하는 축 방향의 굴절률이 작았기 때문에, 얻어진 필름은 양의 복굴절을 갖는 것이었다.

3차원 굴절률 측정의 결과(nx=1.5124, ny=1.5090. nz=1.5090)로부터, 얻어진 필름은 nx>ny=nz로 필름의 두께 방향의 굴절률이 크지 않았다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 STN-LCD나 IPS-LCD의 시야각 보상성능의 위상차 필름에 적합한 것은 아니었다.

실시예 17

필름 제조예 2에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 140℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.2배 연신하였다(이후, 필름 A-1이라고 칭함). 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과(nx=1.4673, ny=1.4702, nz=1.4725)(nx<ny<nz)로부터, 연신축 방향의 굴절률이 작아서, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖는 것이었다. 또한, 필름면내 위상차 Re=(ny-nx)×d는 283nm이었다.

필름 제조예 4에서 얻어진 폴리카보네이트 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.5배로 연신하였다(이후, 필름 B-1이라고 칭함). 얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5827, ny=1.5842, nz=1.5827(ny>nz=nx)으로, 양의 복굴절성을 나타내었다. 또한, 필름면내 위상차(Re)는 130nm이었다.

여기에서 제조한 필름 A-1의 진상축 및 필름 B-1의 진상축을 직교(각도 90도)시켜서 접합하였다. 적층 필름의 두께는 186㎛이고, 필름면내 위상차(Re)는 153nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.98이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.01이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 파장 분산성이 제어되어, 역파장 분산성을 갖기 때문에 위상차 필름으로 바람직하였다. 또한, 1/4 파장의 위상차를 가지는 위상차 필름, 소위 1/4 파장판으로서도 바람직하였다.

실시예 18

필름 제조예 3에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 160℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.25배 연신하였다(이후, 필름 A-2이라고 칭함). 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과(nx=1.4660, ny=1.4709, nz=1.4731)(nx<ny<nz)로부터, 연신축 방향의 굴절률이 작고, 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖는 것이었다. 또한, 필름면내 위상차 Re=(ny-nx)×d는 531nm 이었다.

필름 제조예 6에서 얻어진 폴리카보네이트 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 160℃, 연신속도 20mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.5배 연신하였다(이후, 필름 B-2이라고 칭함). 얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5811, ny=1.5863, nz=1.5819(ny>nz>nx)으로, 양의 복굴절성을 나타내었다. 또한, 필름면내 위상차(Re)는 395nm이었다.

여기에서 제조한 필름 A-2의 진상축 및 필름 B-2의 진상축을 직교(각도 90도)시켜서 접합하였다. 적층 필름의 두께는 185㎛이고, 필름면내 위상차(Re)는 136nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.91이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.07이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 파장 분산성이 제어되어, 역파장 분산성을 갖기 때문에 위상차 필름으로 바람직하였다. 또한, 1/4 파장의 위상차를 갖는 위상차 필름, 소위 1/4 파장판으로서도 바람직하였다.

실시예 19

필름 제조예 6에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 165℃, 연신속도 20mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.5배 연신하였다(이후, 필름 B-3이라고 칭함). 얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5820, ny=1.5849, nz=1.5819(ny>nx>nz)으로, 양의 복굴절성을 나타내었다. 또한, 필름면내 위상차(Re)는 261nm이었다.

실시예 18에서 제조한 필름 A-2의 진상축 및 여기에서 제조한 필름 B-3의 진상축을 직교(각도 90도)시켜서 접합하였다. 적층 필름의 두께는 199㎛이고, 필름면내 위상차(Re)는 270nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.97이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.03이었다.

이들 결과로부터, 얻어진 필름은 파장 분산성이 제어되어, 역파장 분산성을 갖기 때문에 위상차 필름으로 바람직하였다. 또한, 1/2 파장의 위상차를 갖는 위상차 필름, 소위 1/2 파장판으로서도 바람직하였다.

실시예 20

시판의 PES필름(Lonza 제품)을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 245℃, 연신속도 20mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.5배 연신하였다(이후, 필름 B-4이라고 칭함). 얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.6587, ny=1.6611, nz=1.6587(ny>nz=nx)으로, 양의 복굴절성을 나타내었다. 또한, 필름면내 위상차(Re)는 149nm이었다.

실시예 17에서 제조한 필름 A-1의 진상축 및 여기에서 제조한 필름 B-4의 진상축을 직교(각도 90도)시켜서 접합하였다. 적층 필름의 두께는 161㎛이고, 필름면내 위상차(Re)는 134nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.94이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.03이었다.

실시예 21

필름 제조예 3에서 얻어진 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 140℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.21배 연신하였다(이후, 필름 A-3이라고 칭함). 연신한 필름의 3차원 굴절률을 측정한 결과(nx=1.4671, ny=1.4702, nz=1.4725)(nx<ny<nz)로부터, 연신축 방향의 굴절률이 작아서 얻어진 필름은 음의 복굴절을 갖는 것이었다. 또한, 필름면내 위상차 Re=(ny-nx)×d는 312nm이었다.

필름 제조예 4에서 얻어진 폴리카보네이트 필름을 일편 50mm의 정방형으로 재단하고, 2축 연신장치(IMOTO MACHINERY Co., Ltd. 제품)에 의하여 온도 170℃, 연신속도 10mm/min.의 조건에서 자유폭 1축 연신을 실시하여 1.5배로 연신하였다(이후, 필름 B-5이라고 칭함). 얻어진 필름의 3차원 굴절률은 nx=1.5827, ny=1.5842, nz=1.5827(ny>nz=nx)으로, 양의 복굴절성을 나타내었다. 또한, 필름면내 위상차(Re)는 130nm이었다.

여기에서 제조한 필름 A-3의 진상축 및 필름 B-5의 진상축을 직교(각도 90°)시켜서 접합하였다. 적층 필름의 두께는 177㎛이고, 필름면내 위상차(Re)는 183nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.96이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.06이었다.

실시예 22

실시예 21에서 제조한 필름 A-3의 진상축 및 필름 B-5의 진상축을 80도가 되도록 접합하였다. 필름면내 위상차(Re)는 181nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.97 이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.03이었다.

실시예 23

실시예 21에서 제조한 필름 A-3의 진상축 및 필름 B-5의 진상축을 70도가 되도록 접합하였다. 필름면내 위상차(Re)는 181nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정 한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 0.98이었다. 또한, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 1.02이었다.

비교예 7

실시예 15에서 제조한 필름 B-1의 필름면내 위상차(Re)는 130nm이었다. 또한, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)는 1.08, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)는 0.96이었다.

필름(A)를 사용하지 않았기 때문에, 역파장 분산성이 열화한 것이었다.

본 발명을 특정한 형태를 이용하여 상세하게 설명했지만, 본 발명의 의도와 범위를 벗어나지 않고 다양한 변경 및 변형이 가능한 것은 당업자에 있어서 명확하다.

또한, 본 출원은 2006년 9월 5일자로 출원된 일본 특허출원(일본 특허출원 2006-239767), 2006년 10월 4일자로 출원된 일본 특허출원(일본 특허출원 2006-273046), 2006년 11월 22일자로 출원된 일본 특허출원(일본 특허출원 2006-316322), 및 2007년 7월 27일자로 출원된 일본 특허출원(일본 특허출원 2007-195756)에 기초하며, 그 전체가 인용에 의해 원용된다.

도 1은 연신에 의한 굴절률 타원체의 변화를 나타낸다.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명 ***

nx; 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 나타낸다.

ny; nx와 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 나타낸다.

nz; 필름면외의 수직방향의 굴절률을 나타낸다.

Claims

푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름은 음의 광학이방성을 갖는 미립자를 포함하지 않으며, 연신하지 않은 상기 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 nz>ny=nx의 관계에 있고, 파장 450nm에서 측정한 위상차와 파장 550nm에서 측정한 위상차의 비(R450/R550)가 1.1 이하인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
제 1 항에 있어서, 상기 필름의 두께를 d라고 했을 때, 하기 식(1)으로 표시되는 필름의 면외 위상차(Rth)가 -30~-2000nm인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (1)
제 1 항에 기재된 광학 보상 필름(필름(A))과, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz의 관계에 있고, 필름의 두께를 d라고 했을 때 하기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50nm 이상인 필름(B)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름 적층체.

Re=(ny-nx) ×d (2)
제 3 항에 있어서, 하기 식(3)으로 표시되는 배향 파라미터(Nz)가 -0.1~0.95의 범위내인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름 적층체.

Nz=(ny-nz)/(ny-nx) (3)
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 식(2)으로 표시되는 필름면내 위상차(Re)가 50~1000nm인 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름 적층체.
제 3 항 또는 제 4 항에 기재된 광학 보상 필름 적층체의 제조방법으로서:

푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 미연신필름과, 양의 복굴절률을 갖는 필름의 1축 연신필름을 접합하는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름 적층체의 제조방법.
제 3 항 또는 제 4 항에 기재된 광학 보상 필름 적층체의 제조방법으로서:

양의 복굴절률을 갖는 필름의 1축 연신필름에 푸마르산 에스테르계 수지를 도포하는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름 적층체의 제조방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 액정표시 소자에 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 액정표시소자에 사용되는 것을 특징으로 하는 광학 보상 필름 적층체.
푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름은 음의 광학이방성을 갖는 미립자를 포함하지 않으며, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz이고, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)가 1.1 이하인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
제 10 항에 있어서, 필름의 두께를 d라고 했을 때 하기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50~2000nm인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.

Re=(ny-nx) ×d (2)
삭제
푸마르산 에스테르계 수지로 이루어진 필름으로서, 상기 필름은 음의 광학이방성을 갖는 미립자를 포함하지 않으며, 상기 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우의 각각의 관계가 nx<ny≤nz인 필름(C)과, 필름의 3차원 굴절률이 필름면내의 진상축 방향의 굴절률을 nx, 이것과 직교하는 필름면내 방향의 굴절률을 ny, 필름면외의 수직방향의 굴절률을 nz라고 했을 경우에 ny>nx≥nz 또는 ny>nz≥nx의 관계에 있는 필름(D)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
제 13 항에 있어서, 필름(D)는 필름의 두께를 d라고 했을 때 하기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50~2000nm인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.

Re=(ny-nx) ×d (2)
제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 필름(C)는 필름의 두께를 d라고 했을 때 하기 식(2)으로 표시되는 파장 550nm에서 측정한 필름면내 위상차(Re)가 50~2000nm인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.

Re=(ny-nx) ×d (2)
제 13 항에 있어서, 필름(C)의 진상축과 필름(D)의 진상축이 이루는 각도가 90도±20도인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
제 13 항 또는 제 16 항에 있어서, 파장 550nm에서 측정한 필름(C)의 필름면내 위상차(Re)와 필름(D)의 필름면내 위상차(Re)의 차이가 100~160nm인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
제 13 항 또는 제 16항에 있어서, 파장 550nm에서 측정한 필름(C)의 필름면내 위상차(Re)와 필름(D)의 필름면내 위상차(Re)의 차이가 250~300nm인 것을 특징 으로 하는 위상차 필름.
제 13 항에 있어서, 파장 450nm에서 측정한 위상차(R450)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R450/R550)가 1.0 이하인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
제 13 항 또는 제 19 항에 있어서, 파장 650nm에서 측정한 위상차(R650)와 파장 550nm에서 측정한 위상차(R550)의 비(R650/R550)가 1 이상인 것을 특징으로 하는 위상차 필름.
제 10 항, 제 11 항, 제 13 항, 제 14 항, 제 16 항, 또는 제 19 항 중 어느 한 항에 기재된 위상차 필름이 편광판에 적층되어 이루어진 것을 특징으로 하는 복합 편광판.
삭제
제 15 항에 기재된 위상차 필름이 편광판에 적층되어 이루어진 것을 특징으로 하는 복합 편광판.
제 17 항에 기재된 위상차 필름이 편광판에 적층되어 이루어진 것을 특징으로 하는 복합 편광판.
제 18 항에 기재된 위상차 필름이 편광판에 적층되어 이루어진 것을 특징으로 하는 복합 편광판.
제 20 항에 기재된 위상차 필름이 편광판에 적층되어 이루어진 것을 특징으로 하는 복합 편광판.