[go: up one dir, main page]

KR102223121B1 - 장척 위상차 필름의 제조 방법 - Google Patents

장척 위상차 필름의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102223121B1
KR102223121B1 KR1020140100947A KR20140100947A KR102223121B1 KR 102223121 B1 KR102223121 B1 KR 102223121B1 KR 1020140100947 A KR1020140100947 A KR 1020140100947A KR 20140100947 A KR20140100947 A KR 20140100947A KR 102223121 B1 KR102223121 B1 KR 102223121B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
long
film
group
liquid crystal
retardation film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
KR1020140100947A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150018424A (ko
Inventor
미츠타카 사세
노부유키 하타나카
다다히로 고바야시
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=52448437&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR102223121(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20150018424A publication Critical patent/KR20150018424A/ko
Priority to KR1020210025827A priority Critical patent/KR102359336B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102223121B1 publication Critical patent/KR102223121B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
    • B29D11/00788—Producing optical films
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00634—Production of filters
    • B29D11/00644—Production of filters polarizing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0073—Optical laminates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/14—Esters having no free carboxylic acid groups, e.g. dialkyl maleates or fumarates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3441—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having nitrogen as hetero atom
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/32—Holograms used as optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133504—Diffusing, scattering, diffracting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C2793/00—Shaping techniques involving a cutting or machining operation
    • B29C2793/0027—Cutting off
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
    • B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
    • B32B2037/243—Coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B2038/0052—Other operations not otherwise provided for
    • B32B2038/0076—Curing, vulcanising, cross-linking
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2305/00—Condition, form or state of the layers or laminate
    • B32B2305/55—Liquid crystals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2305/00—Condition, form or state of the layers or laminate
    • B32B2305/72—Cured, e.g. vulcanised, cross-linked
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00—Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/08—Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation
    • B32B2310/0806—Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2398/00—Unspecified macromolecular compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/0008—Electrical discharge treatment, e.g. corona, plasma treatment; wave energy or particle radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00—Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/16—Drying; Softening; Cleaning
    • B32B38/164—Drying
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은, 장척 위상차 필름의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향으로 광축을 갖는 장척 위상차 필름의 제조 방법을 제공하는 것이다. (1) 내지 (6)의 공정을 이 순서대로 갖는 장척 위상차 필름의 제조 방법이 제공된다.
(1) 장척 기재에 광 배향막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 기판 상에 제1 도포막을 형성하는 공정
(2) 상기 제1 도포막을 건조함으로써 제1 건조 피막을 형성하는 공정
(3) 상기 제1 건조 피막에, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향의 편광을 조사함으로써, 배향 규제력의 방향이 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 광 배향막을 형성하는 공정
(4) 상기 장척 광 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 경화막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 광 배향막 상에 제2 도포막을 형성하는 공정
(5) 상기 제2 도포막을 건조함으로써 제2 건조 피막을 형성하는 공정
(6) 상기 제2 건조 피막을 경화함으로써 장척 위상차막을 형성하는 공정

Description

장척 위상차 필름의 제조 방법{PROCESS FOR PRODUCING LONG RETARDATION FILM}
본 발명은 장척 위상차 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
종래, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치에는 그의 광학 보상을 목적으로 위상차 필름 등의 광학 필름이 사용되고 있다. 이와 같은 광학 필름에는, 필름의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향으로 광축을 갖는 위상차 필름이 사용되는 경우가 있었다.
일본 특허 공개 제2003-240955호
필름의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향으로 광축을 갖는 위상차 필름의 공업적인 제조는, 번잡한 가공 기술을 필요로 하는 것으로, 새로운 제조 방법이 요구되고 있었다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] (1) 내지 (6)의 공정을 이 순서대로 갖는 장척 위상차 필름의 제조 방법:
(1) 장척 기재에 광 배향막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정
(2) 상기 제1 도포막을 건조함으로써 제1 건조 피막을 형성하는 공정
(3) 상기 제1 건조 피막에, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향의 편광을 조사함으로써, 배향 규제력의 방향이 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 광 배향막을 형성하는 공정
(4) 상기 장척 광 배향막의 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 경화막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 광 배향막 상에 제2 도포막을 형성하는 공정
(5) 상기 제2 도포막을 건조함으로써 제2 건조 피막을 형성하는 공정
(6) 상기 제2 건조 피막을 경화함으로써 장척 위상차막을 형성하는 공정.
[2] 공정 (6) 후에 공정 (7)을 더 갖는, [1]에 기재된 장척 위상차 필름의 제조 방법:
(7) 장척 위상차막, 또는 장척 광 배향막 및 장척 위상차막을, 점접착제를 개재하여 장척 피전사 기재에 전사하고, 장척 피전사 기재, 점접착제층 및 장척 위상차막을 포함하는 장척 위상차 필름, 또는 장척 피전사 기재, 점접착제층, 장척 위상차막 및 장척 광 배향막을 포함하는 장척 위상차 필름을 얻는 공정.
[3] 중합성 액정 화합물이 하기 식 (A)로 표시되는 화합물인, [1] 또는 [2]에 기재된 장척 위상차 필름의 제조 방법.
Figure 112014074333919-pat00001
[식 중, X1은 산소 원자, 황 원자 또는 NR1-을 나타낸다. R1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
Y1은 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 12의 1가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 12의 1가의 방향족 복소환식기를 나타낸다.
Q3 및 Q4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 20의 1가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3 내지 20의 1가의 지환식 탄화수소기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 20의 1가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2를 나타내거나, 또는 Q3과 Q4가 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 방향환 또는 방향족 복소환을 형성한다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
D1 및 D2는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7-, -NR4-CR5R6- 또는 -CO-NR4-를 나타낸다.
R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 NH-로 치환될 수도 있고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환될 수도 있다.
L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기를 갖는다.]
[4] 장척 기재, 장척 광 배향막 및 장척 위상차막을 이 순서대로 갖는 장척 위상차 필름으로서,
상기 장척 광 배향막의 배향 규제력의 방향이 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬하고,
상기 장척 위상차막의 두께가 3㎛ 이하이고,
상기 장척 위상차막의 광축의 방향이, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 위상차 필름.
[5] 하기 식 (1), (2) 및 (3)을 만족하는 파장 분산 특성을 갖는 [4]에 기재된 장척 위상차 필름.
Re(450)/Re(550)≤1.00 (1)
1.00≤Re(650)/Re(550) (2)
100<Re(550)<160 (3)
(식 중, Re(λ)는 파장 λnm의 광에 대한 면내 위상차값을 나타냄)
[6] (1) 내지 (6) 및 (8)의 공정을 이 순서대로 갖는 장척 원편광판의 제조 방법:
(1) 장척 기재에 광 배향막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 기판 상에 제1 도포막을 형성하는 공정
(2) 상기 제1 도포막을 건조함으로써 제1 건조 피막을 형성하는 공정
(3) 상기 제1 건조 피막에, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향의 편광을 조사함으로써, 배향 규제력의 방향이 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 광 배향막을 형성하는 공정
(4) 상기 장척 광 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 경화막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 광 배향막 상에 제2 도포막을 형성하는 공정
(5) 상기 제2 도포막을 건조함으로써 제2 건조 피막을 형성하는 공정
(6) 상기 제2 건조 피막을 경화함으로써 장척 위상차막을 형성하는 공정
(8) 장척 위상차막에 장척 편광 필름을 접합하는 공정.
[7] 공정 (8) 후에 공정 (9)를 더 갖는, [6]에 기재된 장척 원편광판의 제조 방법:
(9) 장척 기재, 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리하는 공정.
[8] 공정 (8) 또는 공정 (9) 후에 공정 (10)을 더 갖는, [6] 또는 [7]에 기재된 장척 원편광판의 제조 방법:
(10) 장척 원편광판을 시트상으로 절단하는 공정.
[9] [4] 또는 [5]에 기재된 장척 위상차 필름과 장척 편광 필름이 적층되어 있는 장척 원편광판.
본 발명에 따르면, 장척 위상차 필름의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향으로 광축을 갖는 장척 위상차 필름을 제조할 수 있다.
도 1은 장척 위상차 필름의 연속적 제조 방법(롤 투 롤(Roll to Roll) 형식)의 주요부를 나타내는 모식도이다.
도 2는 광 배향막의 배향 규제력의 방향(D2)과, 장척 기재의 장척 방향(D1)의 관계를 나타내는 모식도이다.
도 3은 장척 원편광판의 연속적 제조 방법의 주요부를 도시하는 모식도이다.
도 4는 장척 원편광판으로부터, 권취 전에 연속적으로 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리하는 제조 방법의 주요부를 도시하는 모식도이다.
도 5는 장척 원편광판으로부터, 권취 후에 연속적으로 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리하는 제조 방법의 주요부를 도시하는 모식도이다.
<장척 기재>
본 발명에서의 장척 기재는 편광 소자를 포함하지 않는 것이다. 또한 바람직하게는, 본 발명에서의 장척 기재는 편광성을 갖지 않는다. 장척 기재로서는, 플라스틱 기재를 들 수 있다. 플라스틱 기재를 구성하는 플라스틱으로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 중합체 등의 폴리올레핀; 환상 올레핀계 수지; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카르보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌술피드 및 폴리페닐렌옥시드 등의 플라스틱을 들 수 있다. 바람직하게는, 셀룰로오스에스테르, 환상 올레핀계 수지, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리메타크릴산에스테르이다.
셀룰로오스에스테르는, 셀룰로오스에 포함되는 수산기의 적어도 일부가 에스테르화된 것이며, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 또한, 셀룰로오스에스테르 기재도 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 시판되고 있는 셀룰로오스에스테르 기재로서는, 예를 들어 "후지탁(등록 상표) 필름"(후지사진필름(주)); "KC8UX2M", "KC8UY" 및 "KC4UY"(코니카 미놀타 옵토(주)) 등을 들 수 있다.
환상 올레핀계 수지란, 예를 들어 노르보르넨이나 다환 노르보르넨계 단량체 등의 환상 올레핀의 중합체 또는 공중합체(환상 올레핀계 수지)로 구성되는 것이며, 당해 환상 올레핀계 수지는 부분적으로 개환부를 포함하고 있어도 된다. 또한, 개환부를 포함하는 환상 올레핀계 수지를 수소 첨가한 것일 수도 있다. 또한, 당해 환상 올레핀계 수지는, 투명성을 현저하게 손상시키지 않는 점이나, 현저하게 흡습성을 증대시키지 않는 점에서, 예를 들어 환상 올레핀과, 쇄상 올레핀이나 비닐화 방향족 화합물(스티렌 등)과의 공중합체이어도 된다. 또한, 상기 환상 올레핀계 수지는 그의 분자 내에 극성기가 도입되어 있어도 된다.
환상 올레핀계 수지가, 환상 올레핀과, 쇄상 올레핀이나 비닐기를 갖는 방향족 화합물과의 공중합체인 경우, 환상 올레핀에서 유래되는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여 통상 50몰％ 이하, 바람직하게는 15 내지 50몰％의 범위이다. 쇄상 올레핀으로서는, 에틸렌 및 프로필렌을 들 수 있고, 비닐기를 갖는 방향족 화합물로서는, 스티렌, α-메틸스티렌 및 알킬 치환 스티렌을 들 수 있다. 환상 올레핀계 수지가, 환상 올레핀과, 쇄상 올레핀과, 비닐기를 갖는 방향족 화합물과의 3원 공중합체인 경우, 쇄상 올레핀에서 유래되는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여 통상 5 내지 80몰％이며, 비닐기를 갖는 방향족 화합물에서 유래하는 구조 단위의 함유 비율은, 공중합체의 전체 구조 단위에 대하여 통상 5 내지 80몰％이다. 이러한 3원 공중합체는, 그의 제조에 있어서 고가인 환상 올레핀의 사용량을 비교적 적게 할 수 있다는 이점이 있다.
환상 올레핀계 수지는, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 시판되고 있는 환상 올레핀계 수지로서는, "토파스(Topas)"(등록 상표)[티코나(Ticona)사(독일)], "아톤"(등록 상표)[JSR(주)], "제오노아(ZEONOR)"(등록 상표)[닛본 제온(주)], "제오넥스(ZEONEX)"(등록 상표)[닛본 제온(주)] 및 "아펠"(등록 상표)[미쯔이 가가꾸(주)제]을 들 수 있다. 이러한 환상 올레핀계 수지를, 예를 들어 용제 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여 기재로 할 수 있다. 또한, 시판되고 있는 환상 올레핀계 수지 기재를 사용할 수도 있다. 시판되고 있는 환상 올레핀계 수지 기재로서는, "에스시나"(등록 상표)[세끼스이 가가꾸 고교(주)], "SCA40"(등록 상표)[세끼스이 가가꾸 고교(주)], "제오노아 필름"(등록 상표)[옵테스(주)] 및 "아톤 필름"(등록 상표)[JSR(주)]을 들 수 있다.
장척 기재의 두께는, 실용적인 취급을 할 수 있을 정도의 중량인 점에서는, 얇은 것이 바람직하지만, 너무 얇으면 강도가 저하되어 가공성이 떨어지는 경향이 있다. 장척 기재의 두께는 통상 5 내지 300㎛이며, 바람직하게는 20 내지 200㎛이다.
장척 기재의 장척 방향의 길이는 통상 10 내지 3000m이며, 바람직하게는 100 내지 2000m이다. 장척 기재의 짧은 방향의 길이는 통상 0.1 내지 5m이며, 바람직하게는 0.2 내지 2m이다.
<광 배향막 형성용 조성물>
광 배향막 형성용 조성물은, 광반응성 기를 갖는 중합체 또는 단량체, 및 용제를 함유한다.
광반응성 기란, 광을 조사함으로써 액정 배향능을 발생하는 기를 말한다. 구체적으로는, 광을 조사함으로써 발생하는 분자의 배향 유기 또는 이성화 반응, 2량화 반응, 광가교 반응, 또는 광분해 반응과 같은, 액정 배향능의 기원이 되는 광반응을 발생하는 것이다. 당해 광반응성 기 중에서도, 2량화 반응 또는 광가교 반응을 일으키는 것이 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 이상과 같은 반응을 발생할 수 있는 광반응성 기로서는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 것이 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합(C=C 결합), 탄소-질소 이중 결합(C=N 결합), 질소-질소 이중 결합(N=N 결합), 및 탄소-산소 이중 결합(C=O 결합)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 특히 바람직하다.
C=C 결합을 갖는 광반응성 기로서는 예를 들어, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기 등을 들 수 있다. C=N 결합을 갖는 광반응성 기로서는, 방향족 시프염기 및 방향족 히드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N=N 결합을 갖는 광반응성 기로서는, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소환 아조기, 비스아조기 및 포르마잔기 등이나, 아족시벤젠을 기본 구조로 하는 것을 들 수 있다. C=O 결합을 갖는 광반응성 기로서는, 벤조페논기, 쿠마린기, 안트라퀴논기 및 말레이미드기 등을 들 수 있다. 이 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 알릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 히드록실기, 술폰산기 및 할로겐화알킬기 등의 치환기를 가져도 된다.
그 중에서도, 광 이량화 반응에 관여하는 광반응성 기가 바람직하며, 광 배향에 필요한 편광 조사량이 비교적 적으며, 열 안정성이나 경시 안정성이 우수한 광 배향막이 얻어지기 쉽다는 점에서, 신나모일기 및 칼콘기가 바람직하다. 광반응성 기를 갖는 중합체로서는, 당해 중합체 측쇄의 말단부가 신남산 구조로 되는 신나모일기를 갖는 것이 특히 바람직하다.
광 배향막 형성용 조성물의 용제로서는, 광반응성 기를 갖는 중합체 및 단량체를 용해하는 것이 바람직하다. 상기 용제로서는, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 또는 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, 감마 부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 또는 락트산에틸 등의 에스테르계 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤 또는 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제; 펜탄, 헥산 또는 헵탄 등의 비염소계 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔 또는 크실렌 등의 비염소계 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴계 용제; 테트라히드로푸란 또는 디메톡시에탄 등의 에테르계 용제; 클로로포름 또는 클로로벤젠 등의 염소계 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
광 배향막 형성용 조성물에 대한, 광반응성 기를 갖는 중합체 또는 단량체의 함유량은, 당해 광반응성 기를 갖는 중합체 또는 단량체의 종류나 제조하고자 하는 광 배향막의 두께에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 적어도 0.2질량％ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 0.3 내지 10질량％의 범위가 특히 바람직하다. 또한, 광 배향막의 특성이 현저하게 손상되지 않는 범위에서, 폴리비닐알코올이나 폴리이미드 등의 고분자 재료나 광증감제가 포함되어 있어도 된다.
<제1 도포막>
상기 광 배향막 형성용 조성물을 장척 기재에 도포함으로써 제1 도포막이 형성된다.
광 배향막 형성용 조성물을 장척 기재에 연속적으로 도포하는 방법으로서는, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 어플리케이터법 및 플렉소법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법 및 플렉소법이다.
<제1 건조 피막>
제1 도포막을 건조함으로써 제1 건조 피막이 형성된다. 본원 명세서에서는, 제1 도포막이 함유하는 용제의 함유량이 50질량％ 이하가 된 것을 제1 건조 피막이라고 한다.
제1 도포막을 건조하는 방법으로서는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조법 및 감압 건조법 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 통풍 건조법과 가열 건조법을 조합한 방법이다. 건조 온도로서는, 10 내지 250℃가 바람직하고, 25 내지 200℃가 더욱 바람직하다. 건조 시간으로서는, 10초간 내지 60분간이 바람직하고, 30초간 내지 30분간이 보다 바람직하다. 건조함으로써 제1 도포막에 포함되는 용제가 제거된다.
제1 건조 피막에서의 용제의 함유량은 바람직하게는 30질량％ 이하이고, 보다 바람직하게는 10질량％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 5질량％ 이하이고, 특히 바람직하게는 1질량％ 이하이다.
<장척 광 배향막>
제1 건조 피막에, 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향의 편광을 조사함으로써, 배향 규제력의 방향이 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 광 배향막이 얻어진다.
편광은, 제1 건조 피막에 직접 조사해도 되고, 장척 기재를 투과시켜서 조사해도 된다. 장척 기재가 편광을 흡수하는 재료로 구성되어 있는 경우에는, 편광은 제1 건조 피막에 직접 조사하는 것이 바람직하다.
편광은, 제1 건조 피막의 장척 방향 및 짧은 방향에 대하여 수직인 방향에서 조사되는 것이 바람직하다.
편광의 파장은, 광반응성 기를 갖는 중합체 또는 단량체의 광반응성 기가, 빛 에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역의 것이 바람직하다. 구체적으로는, 파장 250 내지 400nm의 범위의 자외선이 바람직하다.
편광의 광원으로서는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있고, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 바람직하다. 이 램프는, 파장 313nm의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다.
편광은, 예를 들어 상기 광원으로부터의 광을, 편광자를 통과시킴으로써 얻어진다. 상기 편광자의 편광각을 조정함으로써 편광의 편광축 방향을 임의로 조정할 수 있다. 상기 편광자로서는, 편광 필터나 글랜 톰슨, 글랜 테일러 등의 편광 프리즘이나 와이어 그리드 타입의 편광자를 들 수 있다. 편광은, 실질적으로 평행광이면 바람직하다.
배향 규제력은 편광의 편광축의 방향에 대하여 직교 방향 또는 평행 방향으로 작용하므로, 편광각을 조정함으로써 배향 규제력의 방향을 임의로 조정할 수 있다. 상기 편광의 편광축의 방향과 장척 기재의 장척 방향이 이루는 각도는, 바람직하게는 5° 내지 85°이며, 보다 바람직하게는 20° 내지 70°이며, 보다 바람직하게는 30° 내지 60°이며, 특히 바람직하게는 45°이다. 바람직하게는, 편광의 편광축의 방향과 장척 기재의 두께 방향은 직교한다. 또한, 편광을 조사할 때에 마스킹을 행하면, 얻어지는 배향 규제력의 방향으로, 복수의 서로 다른 영역(패턴)을 형성할 수도 있다. 바람직하게는, 장척 광 배향막은 균일한 배향 패턴을 갖는다.
이렇게 하여, 장척 광 배향막의 배향 규제력의 방향이 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한, 장척 기재와 장척 광 배향막이 적층된 장척 배향 필름이 얻어진다. 바람직하게는, 장척 광 배향막의 배향 규제력의 방향과 장척 기재의 두께 방향은 직교한다.
배향 규제력의 방향과 장척 기재의 장척 방향이 이루는 각도는, 바람직하게는 5° 내지 85°이며, 보다 바람직하게는 20° 내지 70°이며, 보다 바람직하게는 30° 내지 60°이며, 특히 바람직하게는 45°이다.
장척 광 배향막은, 액정 경화막 형성용 조성물의 도포 시에, 액정 경화막 형성용 조성물에 용해하지 않는 용제 내성을 갖는 것이 바람직하고, 건조나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에서의 내열성을 갖는 것이 바람직하고, 또한 장척 배향 필름 반송시의 마찰 등에 의한 박리 등이 발생하지 않으면 바람직하다.
상기 장척 광 배향막의 막 두께는 통상 10nm 내지 10000nm이며, 바람직하게는 10nm 내지 1000nm이며, 보다 바람직하게는 500nm 이하이고, 또한 보다 바람직하게는 10nm 이상이다. 상기 범위로 하면, 배향 규제력이 충분히 발현된다.
배향 규제력을 갖는 장척 광 배향막이 장척 기재 상에 형성된, 장척 배향 필름은, 액정 재료의 배향을 일으키는 배향 필름으로서 사용할 수 있다. 따라서, 장척 기재와, 장척 광 배향막이 적층된 장척 배향 필름으로서, 상기 광 배향막의 배향 규제력의 방향이 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 배향 필름은, 광축의 방향이 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 위상차 필름의 제조에 유용하며, 상기 장척 위상차 필름을 연속적으로 제조하기 위해 이용할 수 있다.
<액정 경화막 형성용 조성물>
본 발명에서의 액정 경화막 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물 및 용제를 함유한다.
중합성 액정 화합물이란, 중합성기를 가지며, 액정성을 갖는 화합물이다. 중합성기란, 중합 반응에 관여하는 기를 의미하고, 광중합성기인 것이 바람직하다. 여기서, 광중합성기란, 후술하는 광중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 중합성기로서는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐 옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이나 리오트로픽 액정이어도 되고, 또한 서모트로픽 액정에서의 네마틱 액정이나 스메틱 액정이어도 된다.
중합성 액정 화합물로서는, 제조의 용이함이라는 관점에서 서모트로픽성의 네마틱 액정이 바람직하다.
액정 경화막 형성용 조성물이 포함하는, 바람직한 중합성 액정 화합물로서는, 하기 식 (A)로 표시되는 화합물(이하, 화합물 (A)라고도 함)을 들 수 있다.
Figure 112014074333919-pat00002
[식 (A) 중,
X1은 산소 원자, 황 원자 또는 NR1-을 나타낸다. R1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
Y1은 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 12의 1가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 12의 1가의 방향족 복소환식기를 나타낸다.
Q3 및 Q4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 20의 1가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3 내지 20의 1가의 지환식 탄화수소기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 20의 1가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2를 나타내거나, 또는 Q3과 Q4가 서로 결합하여, 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 방향환 또는 방향족 복소환을 형성한다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
D1 및 D2는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7- 또는 NR4-CR5R6- 또는 CO-NR4-를 나타낸다.
R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 NH-로 치환될 수도 있고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환될 수도 있다.
L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기를 갖는다.]
화합물 (A)에서의 L1은 식 (A1)로 표시되는 기이면 바람직하고, 또한 L2는 식 (A2)로 표시되는 기이면 바람직하다.
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)l-E2- (A2)
[식 (A1) 및 식 (A2) 중,
B1, B2, E1 및 E2는 각각 독립적으로 -CR4R5-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-O-, -CS-O-, -O-CS-O-, -CO-NR1-, -O-CH2-, -S-CH2- 또는 단결합을 나타낸다.
A1 및 A2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 2가의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 18의 2가의 방향족 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 NH-로 치환될 수도 있고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환될 수도 있다.
k 및 l은 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수를 나타낸다.
F1 및 F2는 탄소수 1 내지 12의 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.
P1은 중합성기를 나타낸다.
P2는 수소 원자 또는 중합성기를 나타낸다.
R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타냄]
바람직한 화합물 (A)로서는, 일본 특허 공표 제2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물의 구체예로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다.
액정 경화막 형성용 조성물이 상기 화합물 (A)를 함유하는 경우, 화합물 (A)와는 상이한 중합성 액정 화합물을 더 함유해도 된다.
화합물 (A)와는 상이한 중합성 액정 화합물로서는, 식 (6)으로 표시되는 기를 갖는 화합물(이하, 「화합물 (6)」이라고도 함)을 들 수 있다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13- (6)
(식 (6) 중, P11은 중합성기를 나타낸다.
A11은 2가의 지환식 탄화수소기 또는 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 상기 2가의 지환식 탄화수소기 및 2가의 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환될 수도 있다. 상기 탄소수 1 내지 6의 알킬기 및 상기 탄소수 1 내지 6의 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환될 수도 있다.
B11은 -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS- 또는 단결합을 나타낸다. R16은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
B12 및 B13은 각각 독립적으로 -C≡C-, -CH=CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR16-, -NR16-C(=O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- 또는 단결합을 나타낸다.
E11은 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기를 나타내고, 상기 알킬렌기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1 내지 5의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 5의 알콕시기로 치환될 수도 있다. 상기 알킬기 및 알콕시기에 포함되는 수소 원자는 할로겐 원자로 치환될 수도 있고, 상기 알킬렌기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환될 수도 있다.)
P11로서는, 위상차판을 경화하기 위해서, 예를 들어 광중합을 이용하기도 하기 때문에, 광중합시키는데 적합한, 라디칼 중합성기 또는 양이온 중합성기가 바람직하고, 특히 취급이 용이할 뿐 아니라 제조도 용이한 점에서, 다음의 식 (P-1) 내지 (P-5)로 표시되는 기가 바람직하다.
Figure 112014074333919-pat00003
[식 (P-1) 내지 (P-5) 중, R17 내지 R21은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. *는 B11과의 결합손을 나타냄]
P11은, 식 (P-4) 내지 식 (P-10)으로 표시되는 기인 것이 바람직하고, 비닐기, p-(2-페닐에테닐)페닐기, 옥시라닐기, 옥세타닐기, 이소시아네이트기 및 이소티오시아네이트기 등을 들 수 있다.
Figure 112014074333919-pat00004
특히 바람직하게는, P11-B11-은 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기이다.
A11의 방향족 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 예를 들어 3 내지 18이며, 5 내지 12인 것이 바람직하고, 5 또는 6인 것이 특히 바람직하다. A11로서는, 1,4-시클로헥실렌기 또는 1,4-페닐렌기가 바람직하다.
E11로서는, 2개 이상으로 분기되어 있지 않은 탄소수 1 내지 12의 알킬렌기가 바람직하다. 상기 알킬렌기에 포함되는 -CH2-는 -O-로 치환될 수도 있다.
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 헵틸렌기, 옥틸렌기, 노닐렌기, 데실렌기, 운데실렌기, 도데실렌기, -CH2-CH2-O-CH2-CH2, -CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 및 CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- 등을 들 수 있다.
화합물 (6)으로서는, 예를 들어 식 (I), 식 (II), 식 (III), 식 (IV), 식 (V) 또는 식 (VI)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)
(식 중, A12 내지 A14는 A11과 동의이며, B14 내지 B16은 B12와 동의이며, B17은 B11과 동의이며, E12는 E11과 동의이다.
F11은 수소 원자, 탄소수 1 내지 13의 알킬기, 탄소수 1 내지 13의 알콕시기, 니트릴기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 히드록시기, 히드록시메틸기, 포르밀기, 술포기, 카르복시기, 탄소수 1 내지 10의 알코올로 에스테르화된 카르복시기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. 상기 알킬기 및 알콕시기에 포함되는 -CH2-는 -O-으로 치환될 수도 있다.)
화합물 (6)의 구체예로서는, 예를 들어 하기 식으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다. 단, 식 중 k1 및 k2는 2 내지 12의 정수를 나타낸다. 이 액정 화합물이라면, 합성이 용이하이고, 시판되고 있는 등, 입수가 용이한 점에서 바람직하다.
Figure 112014074333919-pat00005
Figure 112014074333919-pat00006
Figure 112014074333919-pat00007
Figure 112014074333919-pat00008
Figure 112014074333919-pat00009
Figure 112014074333919-pat00010
Figure 112014074333919-pat00011
Figure 112014074333919-pat00012
화합물 (A)와는 상이한 중합성 액정 화합물의 구체예로서는, 액정 편람(액정 편람 편집 위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 3장 분자 구조와 액정성의, 3.2 논키랄 막대 형상 액정 분자, 3.3 키랄 막대 형상 액정 분자에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물로서, 화합물 (A)와 화합물 (A)와는 상이한 중합성 액정 화합물을 함유하는 경우, 화합물 (A)와는 상이한 중합성 액정 화합물의 함유량은, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 90질량부 이하이면 바람직하다.
액정 경화막 형성용 조성물에서의 중합성 액정 화합물의 함유 비율은, 액정 경화막 형성용 조성물의 고형분 100질량부에 대하여 통상 70 내지 99.5질량부이며, 바람직하게는 80 내지 99질량부이며, 보다 바람직하게는 80 내지 94질량부이며, 더욱 바람직하게는 80 내지 90질량부이다. 중합성 액정 화합물의 함유 비율이 상기 범위 내이면, 배향성이 높아지는 경향이 있다. 여기서, 고형분이란, 액정 경화막 형성용 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다.
용제로서는, 중합성 액정 화합물을 완전히 용해할 수 있는 것이 바람직하고, 또한 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성인 용제인 것이 바람직하다.
용제로서는, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤 또는 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 및 락트산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-헵타논 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산 및 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용제; 및 N-메틸-2-피롤리돈 등의 락탐계 용매 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 사용해도 되고, 조합해도 된다.
용제의 함유량은, 액정 경화막 형성용 조성물의 총량에 대하여 50 내지 98질량％가 바람직하다. 환언하면, 액정 경화막 형성용 조성물에서의 고형분은 2 내지 50질량％가 바람직하다. 상기 고형분이 50질량％ 이하이면, 액정 경화막 형성용 조성물의 점도가 낮아지므로, 액정 경화막의 두께가 대략 균일해짐으로써, 당해 액정 경화막에 불균일이 발생하기 어려워지는 경향이 있다. 또한, 이와 같은 고형분은, 제조하고자 하는 액정 경화막의 두께를 고려하여 정할 수 있다.
액정 경화막 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물 및 용제 이외의 성분으로서, 중합 개시제, 증감제, 중합 금지제, 레벨링제 및 중합성 비액정 화합물을 포함해도 된다.
(중합 개시제)
액정 경화막 형성용 조성물은 통상 중합 개시제를 함유한다. 중합 개시제는, 중합성 액정 화합물 등의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이다. 중합 개시제로서는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼을 발생하는 광중합 개시제가 바람직하다.
중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 알킬페논 화합물, 아실포스핀옥시드 화합물, 트리아진 화합물, 요오도늄염 및 술포늄염 등을 들 수 있다.
벤조인 화합물로서는, 예를 들어 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 및 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.
벤조페논 화합물로서는, 예를 들어 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 및 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.
알킬페논 화합물로서는, 예를 들어 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1,2-디페닐-2,2-디메톡시에탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(2-히드록시에톡시)페닐〕프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(1-메틸비닐)페닐〕프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다.
아실포스핀옥시드 화합물로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다.
트리아진 화합물로서는, 예를 들어 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 및 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
중합 개시제에는 시판하는 것을 사용할 수 있다. 시판하고 있는 중합 개시제로서는, "이르가큐어(Irgacure)(등록 상표) 907", "이르가큐어(등록 상표) 184", "이르가큐어(등록 상표) 651", "이르가큐어(등록 상표) 819", "이르가큐어(등록 상표) 250", "이르가큐어(등록 상표) 369"(시바 재팬(주)); "세이크올(등록 상표) BZ", "세이크올(등록 상표) Z", "세이크올(등록 상표) BEE"(세꼬 가가꾸(주)); "가야큐어(kayacure)(등록 상표) BP100"(닛본 가야꾸(주)); "가야큐어(등록 상표) UVI-6992"(다우사 제조); "아데카 옵토머 SP-152", "아데카 옵토머 SP-170"((주)아데카(ADEKA)); "TAZ-A", "TAZ-PP"(니혼 시이벨 헤그너사); 및 "TAZ-104"(산와 케미컬 사) 등을 들 수 있다.
액정 경화막 형성용 조성물 중의 중합 개시제 함유량은, 중합성 액정 화합물의 종류 및 그의 양에 따라서 적절히 조절할 수 있지만, 통상 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여 0.1 내지 30질량부이다. 바람직하게는 0.5 내지 10질량부이며, 보다 바람직하게는 0.5 내지 8질량부이다. 중합 개시제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러뜨리지 않기 때문에 바람직하다.
(증감제)
액정 경화막 형성용 조성물은 증감제를 더 함유해도 된다. 증감제로서는, 광증감제가 바람직하다. 상기 증감제로서는, 예를 들어 크산톤 및 티오크산톤 등의 크산톤 화합물(예를 들어, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤 등); 안트라센 및 알콕시기 함유 안트라센(예를 들어, 디부톡시안트라센 등) 등의 안트라센 화합물; 페노티아진 및 루브렌 등을 들 수 있다.
액정 경화막 형성용 조성물이 증감제를 함유하는 경우, 액정 경화막 형성용 조성물에 함유되는 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 보다 촉진할 수 있다. 이와 같은 증감제의 사용량은, 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여 0.1 내지 30질량부가 바람직하고, 0.5 내지 10질량부가 보다 바람직하고, 0.5 내지 8질량부가 더욱 바람직하다.
(중합 금지제)
액정 경화막 형성용 조성물은 중합 금지제를 더 함유해도 된다. 중합 금지제에 함유함으로써, 중합성 액정 화합물의 중합 반응의 진행 정도를 컨트롤해서 중합 반응을 안정적으로 진행시킬 수 있다.
상기 중합 금지제로서는, 예를 들어 히드로퀴논, 알콕시기 함유 히드로퀴논, 알콕시기 함유 카테콜(예를 들어, 부틸카테콜 등), 피로갈롤, 2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리디닐옥시 라디칼 등의 라디칼 보충제; 티오페놀류; β-나프틸아민류 및 β-나프톨류 등을 들 수 있다.
액정 경화막 형성용 조성물에 중합 금지제를 함유시키는 경우, 그 함유량은 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여 0.1 내지 30질량부가 바람직하고, 0.5 내지 10질량부가 보다 바람직하고, 0.5 내지 8질량부가 더욱 바람직하다. 중합 금지제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 흐트러뜨리지 않고 중합시킬 수 있기 때문에 바람직하다.
(레벨링제)
액정 경화막 형성용 조성물에는 레벨링제를 함유시켜도 된다. 레벨링제란, 액정 경화막 형성용 조성물의 유동성을 조정하여, 액정 경화막 형성용 조성물을 도포하여 얻어지는 막을 보다 평탄하게 하는 기능을 갖는 것이며, 예를 들어 계면 활성제를 들 수 있다. 바람직한 레벨링제로서는, 폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제 및 불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제를 들 수 있다.
폴리아크릴레이트 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로서는, "BYK-350", "BYK-352", "BYK-353", "BYK-354", "BYK-355", "BYK-358N", "BYK-361N", "BYK-380", "BYK-381" 및 "BYK-392"[BYK Chemie사] 등을 들 수 있다.
불소 원자 함유 화합물을 주성분으로 하는 레벨링제로서는, "메가팩(등록 상표) R-08", 메가팩"R-30", 메가팩"R-90", 메가팩"F-410", 메가팩"F-411", 메가팩"F-443", 메가팩"F-445", 메가팩"F-470", 메가팩"F-471", 메가팩"F-477", 메가팩"F-479", 메가팩"F-482"및 메가팩"F-483"[DIC(주)]; "서플론(등록 상표) S-381", 서플론"S-382", 서플론"S-383", 서플론"S-393", 서플론"SC-101", 서플론"SC-105", 서플론"KH-40" 및 "SA-100"[AGC 세이미케미칼(주)]; "E1830", "E5844"[(주)다이킨 파인케미컬 겐꾸쇼]; "에프톱 EF301", 에프톱"EF303", 에프톱"EF351" 및 에프톱"EF352"[미쯔비시 머티리얼 덴시 가세이(주)] 등을 들 수 있다.
액정 경화막 형성용 조성물에 레벨링제를 함유시키는 경우, 그 함유량은, 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여 0.01질량부 이상 5질량부 이하가 바람직하고, 0.05질량부 이상 3질량부 이하가 더욱 바람직하다. 레벨링제의 함유량이 상기한 범위 내이면, 중합성 액정 화합물을 수평 배향시키는 것이 용이하며, 얻어지는 본 액정 경화막이 보다 평활하게 되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 중합성 액정 화합물에 대한 레벨링제의 함유량이 상기한 범위를 초과하면, 얻어지는 본 액정 경화막에 불균일이 발생하기 쉬운 경향이 있어 바람직하지 않다. 또한, 액정 경화막 형성용 조성물은 레벨링제를 2종류 이상 함유하고 있어도 된다.
(중합성 비액정 화합물)
액정 경화막 형성용 조성물은 중합성 비액정 화합물을 함유해도 된다. 중합성 비액정 화합물을 함유함으로써, 중합 반응성 부위의 가교 밀도를 높여, 광학 이방성층의 강도를 향상시킬 수 있다.
중합성 비액정 화합물은, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기로 이루어지는 군 중 적어도 1개 이상의 중합성기를 갖는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 2개 이상 10개 이하의 중합성기를 갖는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 3개 이상 8개 이하의 중합성기를 갖는 것이 바람직하다.
액정 경화막 형성용 조성물이 중합성 비액정 화합물을 함유하는 경우, 그 함유량은, 중합성 액정 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1질량부 내지 30질량부이며, 바람직하게는 0.5질량부 내지 10질량부이다.
액정 경화막 형성용 조성물의 점도는 10mPa·s 이하가 바람직하고, 0.1 내지 7mPa·s가 보다 바람직하다.
상기 점도가 상기 범위 내이면 제2 도포막의 막 두께에 불균일이 발생하기 어려워진다.
<제2 도포막>
액정 경화막 형성용 조성물을 장척 광 배향막 상에 도포함으로써 제2 도포막이 형성된다.
액정 경화막 형성용 조성물을 장척 광 배향막에 연속적으로 도포하는 방법으로서는, 광 배향막 형성용 조성물의 도포 방법과 마찬가지의 방법을 들 수 있다.
<제2 건조 피막>
제2 도포막을 건조함으로써 제2 건조 피막이 형성된다. 본원 명세서에서는, 제2 도포막에서의 용제의 함유량이 50질량％ 이하가 된 것을 제2 건조 피막이라고 한다. 상기 용제의 함유량은 바람직하게는 30질량％ 이하이고, 보다 바람직하게는 10질량％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 5질량％ 이하이고, 특히 바람직하게는 1질량％ 이하이다.
제2 도포막을 건조하는 방법, 건조 온도 및 건조 시간으로서는, 제1 도포막과 마찬가지의 것을 들 수 있다.
건조 후의 제2 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물이 액정상을 형성하지 않은 경우, 상기 중합성 액정 화합물이 액정상을 나타내는 온도까지 제2 건조 피막을 가열함으로써 액정상을 형성할 수 있다. 제2 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물을 용액 상태로 전이하는 온도 이상으로 가열하고, 계속해서 상기 중합성 액정 화합물이 액정상을 나타내는 온도까지 냉각함으로써, 액정상을 형성해도 된다.
또한, 상기 건조와, 상기 액정상을 형성하기 위한 가열은, 동일한 가열 공정에 의해 행해도 된다.
<장척 위상차막>
제2 건조 피막을 경화함으로써 장척 위상차막이 형성된다.
위상차막이란, 흡수, 반사, 회절, 산란, 굴절, 복굴절 등 광학적인 기능을 갖는 것이며, 특히 직선 편광을 원편광이나 타원 편광으로 변환하거나, 반대로 원편광 또는 타원 편광을 직선 편광으로 변환하기 위하여 사용된다.
경화한다는 것은, 즉 제2 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합하는 것이며, 중합하는 방법으로서는, 가열하는 방법 및 광 조사하는 방법을 들 수 있고, 바람직하게는 광 조사하는 방법이다.
광은, 제2 건조 피막에 직접 조사해도 되고, 장척 기재를 투과시켜서 조사해도 된다. 장척 기재가 광을 흡수하는 재료로 구성되어 있는 경우에는, 광은 제2 건조 피막에 직접 조사하는 것이 바람직하다.
경화는, 중합성 액정 화합물에 액정상을 형성시킨 상태에서 행하는 것이 바람직하고, 액정상을 나타내는 온도에서 광 조사함으로써 경화해도 된다.
광 조사에서의 광으로서는, 가시광, 자외광 및 레이저광을 들 수 있다. 취급하기 쉬운 점에서 자외광이 바람직하다. 광은, 제2 건조 피막에 직접 조사해도 되고, 장척 기재를 투과시켜서 조사해도 된다.
상기 광 조사의 광원으로서는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있고, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈 할라이드 램프가 바람직하다. 이 램프는, 파장 313nm의 자외선의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다.
장척 위상차막의 두께는, 통상 3㎛ 이하이고, 0.5㎛ 이상 3㎛ 이하의 범위가 바람직하고, 1㎛ 이상 3㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 장척 위상차막의 두께는, 간섭 막 두께 측정기나 레이저 현미경 또는 촉침식 막 두께 측정기로 측정할 수 있다.
이렇게 하여, 장척 기재, 장척 광 배향막 및 장척 위상차막을 이 순서대로 갖는 장척 위상차 필름으로서, 상기 장척 광 배향막의 배향 규제력의 방향이 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬하여, 상기 장척 위상차막의 광축의 방향이 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬하며 상기 광 배향 규제력의 방향에 평행한 장척 위상차 필름이 얻어진다.
장척 위상차막의 광축의 방향은, 장척 기재의 장척 방향에 대하여 바람직하게는 5° 내지 85°이며, 보다 바람직하게는 20° 내지 70°이며, 보다 바람직하게는 30° 내지 60°이며, 특히 바람직하게는 45°이다.
상기 장척 위상차 필름은, 바람직하게는 하기 식 (1), (2) 및 식 (3)을 만족하는 파장 분산 특성을 갖는다. 상기 화합물 (A)를 포함하는 액정 경화막 형성용 조성물로부터 액정 경화막을 형성함으로써, 상기 파장 분산 특성을 갖는 장척 위상차 필름을 얻을 수 있다.
Re(450)/Re(550)≤1.00 (1)
1.00≤Re(650)/Re(550) (2)
100<Re(550)<160 (3)
(식 중, Re(λ)는 파장 λnm의 광에 대한 면내 위상차값을 나타냄)
장척 위상차 필름의 파장 분산 특성은, 액정 경화막 형성용 조성물이 함유하는 화합물 (A)의 함유량에 의해 결정할 수 있다.
구체적으로는, 화합물 (A)의 함유량이 서로 다른 조성물을 2 내지 5종류 정도 제조하고, 각각의 조성물에 대해서, 동일한 막 두께의 위상차막을 제조하여, 얻어진 위상차막의 위상차값을 구하고, 그 결과로부터, 화합물 (A)의 함유량과 위상차막의 위상차값의 상관을 구하여, 얻어진 상관 관계로부터, 원하는 위상차값을 부여하기 위해 필요한 화합물 (A)의 함유량을 결정하면 된다.
얻어진 장척 위상차 필름에 포함되는 장척 위상차막을, 점접착제를 개재하여 장척 피전사 기재에 전사하여, 장척 피전사 기재, 점접착제층 및 장척 위상차막을 포함하는 장척 위상차 필름을 얻을 수 있다.
얻어진 장척 위상차 필름에 포함되는 장척 광 배향막 및 장척 위상차막을, 점접착제를 개재하여 장척 피전사 기재에 전사하여, 장척 피전사 기재, 점접착제층, 장척 위상차막 및 장척 광 배향막을 포함하는 장척 위상차 필름을 얻을 수 있다.
점접착제로서는, 공지된 것을 사용할 수 있고, 전사는 공지된 방법으로 행할 수 있다. 장척 피전사 기재로서는, 장척 기재와 동일한 것을 들 수 있다.
본 발명의 장척 위상차 필름에, 일반적인 장척 편광 필름을 일체 라미네이트(접합)함으로써, 장척 원편광판을 제조할 수 있다.
장척 위상차막의 광축의 방향을, 장척 기재의 장척 방향에 대하여 45°로 함으로써, 본 발명의 장척 위상차 필름과, 장척 편광 필름을 일체 라미네이트하여 얻어지는 장척 원편광판의 생산성이 향상된다.
장척 기재, 장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판으로부터 장척 기재를 박리함으로써, 장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판이 얻어진다.
장척 기재, 장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판으로부터, 장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리함으로써, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판이 얻어진다.
얻어진 장척 원편광판의 어느 한쪽의 면에는 점착제층을 형성해도 된다.
얻어진 장척 위상차 필름을 시트상으로 절단함으로써 위상차 필름이 얻어진다. 또한, 장척 원편광판을 시트상으로 절단함으로써 원편광판이 얻어진다.
시트상이란, 필름의 장척 변과 짧은 변의 밸런스가 현저하게 상이한 것을 제외한 것이며, 본원 명세서에서는, 장척 변의 길이가 짧은 변의 길이의 5배 이하이면 시트상이라고 한다.
절단은 임의의 방법으로 행할 수 있다.
<장척 위상차 필름의 연속적 제조 방법>
본 발명의 장척 위상차 필름은, 롤 투 롤 형식에 의해 연속적으로 제조하는 것이 바람직하다. 도 1을 참조하여, 장척 위상차 필름을, 롤 투 롤 형식에 의해 연속적으로 제조하는 방법의 주요부를 설명한다.
장척 기재가 제1 권취 코어(210A)에 권취되어 있는 제1 롤(210)은, 예를 들어 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다. 이러한 롤의 형태로 시장으로부터 입수할 수 있는 장척 기재로서는, 이미 예시한 장척 기재 중에서도, 셀룰로오스에스테르, 환상 올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리메타크릴산에스테르를 포함하는 필름 등을 들 수 있다.
계속해서, 상기 제1 롤(210)로부터 장척 기재를 권출한다. 장척 기재를 권출하는 방법은 상기 제1 롤(210)의 권취 코어(210A)에 적당한 회전 수단을 설치하고, 당해 회전 수단에 의해 제1 롤(210)을 회전시킴으로써 행하여진다. 또한, 제1 롤(210)로부터 장척 기재를 반송하는 방향으로 적당한 보조 롤(300)을 설치하고, 당해 보조 롤(300)의 회전 수단으로 장척 기재를 권출하는 형식이어도 된다. 또한, 제1 권취 코어(210A) 및 보조 롤(300) 모두 회전 수단을 설치함으로써, 장척 기재에 적당한 장력을 부여하면서 장척 기재를 권출하는 형식이어도 된다.
상기 제1 롤(210)로부터 권출된 장척 기재는, 도포 장치(211A)를 통과할 때에, 그의 표면 상에 도포 장치(211A)에 의해 광 배향막 형성용 조성물이 도포된다. 이렇게 연속적으로 광 배향막 형성용 조성물을 도포하기 위한 도포 장치(211A)로서는, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법, 플렉소법이 바람직하다.
도포 장치(211A)를 통과하여 제1 도포막이 형성된 장척 기재는, 건조로(212A)에 반송되어, 건조로(212A)에 의해 제1 도포막이 건조되어 제1 건조 피막이 형성된다. 건조로(212A)에는, 예를 들어 통풍 건조법과 가열 건조법을 조합한 열풍식 건조로가 사용된다. 건조로(212A)의 설정 온도는, 상기 광 배향막 형성용 조성물에 포함되는 용제의 종류 등에 따라서 정해진다. 또한 건조로(212A)는, 서로 다른 설정 온도의 복수의 구역을 포함해도 되고, 서로 다른 설정 온도의 복수의 건조로를 직렬로 설치한 것이어도 된다.
얻어진 상기 제1 건조 피막에, 편광 조사 장치(213A)에 의해 편광을 조사함으로써 장척 광 배향막이 얻어진다. 그때, 장척 기재의 장척 방향(D1)에 대하여 광 배향막의 배향 규제력의 방향(D2)이 비스듬하도록 편광을 조사한다. 도 2는, 편광 조사 후에 형성된 광 배향막의 배향 규제력의 방향(D2)과, 장척 기재의 장척 방향(D1)의 관계가 45°인 경우를 모식적으로 나타낸 도이다. 즉, 도 2는 편광 조사 장치(213A) 통과 후의 장척 광 배향막의 표면을, 장척 기재의 장척 방향(D1)과, 장척 광 배향막의 배향 규제력의 방향(D2)을 보았을 때, 그것들이 이루는 각도가 45°를 나타내는 것을 나타낸다.
계속해서, 장척 광 배향막이 형성된 장척 기재는, 도포 장치(211B)를 통과한다. 도포 장치(211B)에 의해, 상기 장척 광 배향막 상에 액정 경화막 형성용 조성물이 도포되어 제2 도포막이 형성된다. 그 후, 건조로(212B)를 통과함으로써, 제2 건조 피막이 형성된다. 건조로(212B)는, 건조로(212A)와 마찬가지로, 서로 다른 설정 온도의 복수의 구역을 포함하는 것이어도 되고, 서로 다른 설정 온도의 복수의 건조로를 직렬로 설치한 것이어도 된다.
상기 건조로(212B)를 통과함으로써, 액정 경화막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물이 액정상을 형성한다. 제2 건조 피막에 포함되는 중합성 액정 화합물이 액정상을 형성한 상태에서, 편광 조사 장치(213B)에 의해 광을 조사함으로써, 상기 중합성 액정 화합물은 액정상을 유지한 채 중합하여, 위상차막이 형성된다.
이렇게 하여 얻어진 장척 위상차 필름은, 제2 권취 코어(220A)에 권취되어, 제2 롤(220)의 형태가 얻어진다. 또한, 권취할 때에는, 적당한 스페이서를 사용한 공(供) 권취를 행해도 된다.
이와 같이, 장척 기재가, 제1 롤(210)로부터, 도포 장치(211A), 건조로(212A), 편광 UV 조사 장치(213A), 도포 장치(211B), 건조로(212B) 및 광 조사 장치(213B)의 순서대로 통과함으로써, 롤 투 롤 형식에 의해 연속적으로 장척 위상차 필름을 제조할 수 있다.
또한, 도 1에 도시하는 제조 방법에서는, 장척 기재부터 장척 위상차 필름까지를 연속적으로 제조하는 방법을 나타냈지만, 예를 들어 장척 기재를, 제1 롤(210)로부터, 도포 장치(211A), 건조로(212A), 및 편광 조사 장치(213A)의 순서대로 통과시켜, 이것을 권취 코어에 권취함으로써, 롤 형상의 장척 배향 필름을 연속적 제조하여, 얻어진 롤 형상의 장척 배향 필름을 권출하여, 도포 장치(211B), 건조로(212B) 및 광조사 장치(213B)의 순서대로 통과시켜 장척 위상차 필름을 제조해도 된다.
제2 롤(220)의 형태로, 장척 위상차 필름을 제조한 경우에는, 상기 제2 롤(220)로부터 장척 위상차 필름을 권출하여, 소정의 치수로 재단하고 나서, 재단된 위상차 필름에 편광 필름을 접합함으로써 원편광판을 제조해도 되지만, 장척 편광 필름이 권취 코어에 권취되어 있는 제3 롤을 준비함으로써, 장척 원편광판을 연속적으로 제조할 수도 있다.
장척 원편광판을 연속적으로 제조하는 방법에 대해서, 도 3을 참조하여 설명한다. 이와 같은 제조 방법은,
제2 롤(220)로부터 연속적으로 본 발명의 장척 위상차 필름을 권출함과 함께, 장척 편광 필름이 권취되어 있는 제3 롤(230)로부터 연속적으로 장척 편광 필름을 권출하는 공정과,
상기 장척 위상차 필름과, 상기 장척 편광 필름을 연속적으로 접합하여 장척 원편광판을 얻는 공정과,
얻어진 장척 원편광판을 제4 권취 코어(240A)에 권취하여, 제4 롤(240)을 얻는 공정을 포함한다. 이 방법은 소위 롤 투 롤 접합이다.
장척 위상차 필름과 장척 편광 필름은 적당한 접착제를 사용하여 접합할 수 있다.
얻어진 장척 원편광판을 제4 권취 코어에 권취하기 전 또는 후에, 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리해도 된다.
장척 기재를 박리함으로써, 장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판이 얻어진다.
장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리함으로써, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판이 얻어진다.
도 4는, 얻어진 장척 원편광판을 제4 권취 코어(240A)에 권취하기 전에, 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 연속적으로 박리하는 방법을 설명하는 도면이다.
이와 같은 제조 방법은,
제2 롤(220)로부터 연속적으로 본 발명의 장척 위상차 필름을 권출함과 함께, 장척 편광 필름이 권취되어 있는 제3 롤(230)로부터 연속적으로 장척 편광 필름을 권출하는 공정과,
상기 장척 위상차 필름과, 상기 장척 편광 필름을 연속적으로 접합하여 장척 원편광판을 얻는 공정과,
얻어진 장척 원편광판의 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을, 가이드 롤(270)에 있어서 박리하여, 장척 기재와, 장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판으로 분리하거나, 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막과, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판으로 분리하는 공정과,
장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판, 또는 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판을 제5 권취 코어(250A)에 권취하여 제5 롤(250)을 얻고,
다른 쪽에서 박리한 장척 기재, 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 제6 권취 코어(260A)에 권취하여 제6 롤(260)을 얻는 공정을 포함한다.
도 5는, 얻어진 장척 원편광판을 제4 권취 코어(240A)에 권취한 후에, 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을, 연속적으로 박리하는 방법을 설명하는 도면이다.
이와 같은 제조 방법은,
제4 롤(240)로부터 연속적으로 본 발명의 장척 원편광판을 권출하는 공정과,
장척 원편광판의 장척 기재 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을, 가이드 롤(270)에 있어서 박리하여, 장척 기재와, 장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판으로 분리하거나, 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막과, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판으로 분리하는 공정과,
장척 광 배향막, 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판, 또는 장척 위상차막 및 장척 편광 필름을 포함하는 장척 원편광판을 제5 권취 코어(250A)에 권취하여 제5 롤(250)을 얻고,
다른 쪽에서 박리한 장척 기재, 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 제6 권취 코어(260A)에 권취하여 제6 롤(260)을 얻는 공정을 포함한다.
본 발명의 장척 위상차 필름은, 필요에 따라 재단하여, 다양한 표시 장치에 사용할 수 있다. 표시 장치란, 표시 소자를 갖는 장치이며, 발광원으로서 발광 소자 또는 발광 장치를 포함한다. 표시 장치로서는, 예를 들어 액정 표시 장치, 유기 전계 발광(EL) 표시 장치, 무기 전계 발광(EL) 표시 장치, 전자 방출 표시 장치(예를 들어 전기장 방출 표시 장치(FED), 표면 전계 방출 표시 장치(SED)), 전자 페이퍼(전자 잉크나 전기 영동 소자를 사용한 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 투사형 표시 장치(예를 들어 그레이팅 라이트 밸브(GLV) 표시 장치, 디지털 마이크로미러 디바이스(DMD)를 갖는 표시 장치) 및 압전 세라믹 디스플레이 등을 들 수 있다. 액정 표시 장치는, 투과형 액정 표시 장치, 반투과형 액정 표시 장치, 반사형 액정 표시 장치, 직시형 액정 표시 장치 및 투사형 액정 표시 장치 등의 모두를 포함한다. 이 표시 장치는, 2차원 화상을 표시하는 표시 장치이어도 되고, 3차원 화상을 표시하는 입체 표시 장치이어도 된다.
또한, 장척 원편광판은, 필요에 따라 재단하여, 특히 유기 전계 발광(EL) 표시 장치 또는 무기 전계 발광(EL) 표시 장치의 표시 장치에 유효하게 사용할 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 실시예 중의 「％」 및 「부」는 특기하지 않는 한 질량％ 및 질량부이다.
실시예 1
[광 배향막 형성용 조성물의 제조]
하기 성분을 혼합하여, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 얻었다.
광 배향성 재료(5부):
Figure 112014074333919-pat00013
용제(95부): 시클로펜타논
[액정 경화막 형성용 조성물의 제조]
다음의 성분을 혼합하여, 80℃에서 1시간 교반함으로써, 액정 경화막 형성용 조성물을 얻었다.
중합성 액정 화합물; 화합물 (A11-1) 100부
Figure 112014074333919-pat00014
중합성 액정 화합물; 화합물 (x-1) 33부
Figure 112014074333919-pat00015
중합 개시제; 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(이르가큐어(등록 상표) 369; 바스프(BASF) 재팬사 제조) 8부
레벨링제; 폴리아크릴레이트 화합물(BYK-361N; BYK-Chemie사 제조) 0.1부
기타 첨가제; 라로머(LALOMER) LR9000(바스프 재팬사 제조) 6.7부
용제; 시클로펜타논 546부
용제; N-메틸피롤리돈 364부
[장척 위상차 필름의 제조]
시클로올레핀 중합체 필름 롤(ZF-14, 닛본 제온 가부시끼가이샤 제조)의 표면을, 플라즈마 처리 장치(세끼스이 가가꾸 고교사 제조)를 사용하여 강도 1.5J/cm2, 첨가 산소 농도 0.25％의 조건에서 1회 처리하였다.
계속해서 광 배향막 형성용 조성물을 다이 코팅법에 의해 상기 필름 표면에 도포해서 제1 도포막을 얻었다. 얻어진 제1 도포막을 100℃에서 2분간 건조시킨 후, 실온까지 냉각하여 제1 건조 피막을 얻었다. 그 후, 편광 자외선을 배향 규제력의 방향이 상기 필름의 반송 방향에 대하여 45°의 각도를 이루도록 100mJ(313nm 기준) 조사하여, 상기 필름 상에 장척 광 배향막을 형성하였다. 편광 자외선은, 제1 건조 피막의 장척 방향 및 짧은 방향에 대하여 수직인 방향에서, 제1 건조 피막에 조사하였다.
상기 장척 광 배향막 상에, 액정 경화막 형성용 조성물을, 제2 도포막의 막 두께가 17㎛가 되도록 다이 코팅법으로 도포해서 제2 도포막을 얻었다. 제2 도포막을 120℃에서 2분간 가열 건조하여, 실온까지 냉각함으로써, 제2 건조 피막을 얻었다. 자외선 조사 장치를 사용하여, 노광량 1000mJ/cm2(365nm 기준)의 자외선을 제2 건조 피막에 조사함으로써, 위상차막이 형성된 장척 위상차 필름 (1)을 얻었다.
[막 두께 측정]
장척 위상차 필름 (1)로부터, 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 레이저 현미경(LEXT3000, 올림푸스사 제조)을 사용해서 막 두께를 측정하였다. 그 결과, 장척 배향막의 막 두께는 50nm, 장척 위상차막의 막 두께는 2.1㎛이었다.
[헤이즈의 측정]
장척 위상차 필름 (1)로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 헤이즈 미터(HZ-2; 스가 시껭끼(주) 제조)를 사용해서 헤이즈값을 측정하였다. 그 결과, 헤이즈값은 0.2％이었다.
[위상차값의 측정]
장척 위상차 필름 (1)로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 파장 587.7nm에서의 정면 위상차값을, 복굴절 측정 장치(KOBRA-WR, 오지 게이소꾸 기끼사 제조)를 사용해서 측정한 결과, 148nm이었다. 또한, 장척 기재에 사용한 시클로올레핀 중합체 필름에는, 복굴절성이 없기 때문에, 상기 기재를 포함하는 형태에서 측정한 결과는, 상기 기재 상에 형성된 위상차막의 정면 위상차값을 나타낸다.
[파장 분산 특성의 측정]
장척 위상차 필름 (1)로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 파장 450.9nm, 498.6nm, 549.4nm, 587.7nm, 627.8nm 및 751.3nm에서의 정면 위상차값, 복굴절 측정 장치(KOBRA-WR, 오지 게이소꾸 기끼사 제조)를 사용해서 측정한 결과, 각각 130nm, 142nm, 147nm, 148nm, 149nm 및 151nm이었다. 셀마이어 피팅에 의해, 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 정면 위상차값을 산출하면, 129nm, 141nm, 144nm이었다. 이것으로부터 Re(450)/Re(550)=0.91≤1 Re(650)/Re(550)=1.02≥1이 성립하는 것을 확인하였다.
[장척 편광 필름과의 일체 라미네이트]
장척 위상차 필름 (1)의 액정 경화막측과, 요오드-PVA 편광판 롤(SRW842A; 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 제조, 흡수축은 롤의 반송 방향과 일치)을 점착제를 개재하여 일체 라미네이트하여, 장척 원편광판 (1)을 제작하였다.
[반사율의 측정]
장척 원편광판 (1)의 유용성을 확인하기 위해서, 장척 원편광판 (1)로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 원편광판을 얻었다. 상기 원편광판의 반사율을 이하와 같이 하여 측정하였다. 제작한 원편광판의 장척 위상차 필름 (1)에서 유래하는 측과 반사판(경면 알루미늄판)을 점착제를 사용하여 접합하여 측정 샘플을 제작하였다.
분광 광도계(시마즈 세이사꾸쇼 가부시끼가이샤 제조 UV-3150)를 사용하여, 파장 400에서부터 700nm의 범위의 광을 2nm 스텝으로 측정 샘플에 대하여 법선 방향 12°로부터 입사하여, 반사한 광의 반사율을 측정하였다. 원편광판을 접합하지 않고 반사판만을 배치하여 측정했을 때의 반사율을 100％로 해서 비교한 결과, 400에서부터 700nm의 범위의 광은 어느 파장에서도 1 내지 10％ 정도로, 가시광 전역에 걸쳐서 충분한 반사 방지 특성이 얻어졌다.
실시예 2
[장척 위상차 필름의 제조]
폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 롤(다이어포일 T140E25, 미쯔비시 주시 가부시끼가이샤 제조)의 표면에, 광 배향막 형성용 조성물을 다이 코팅법에 의해 도포해서 제1 도포막을 얻었다. 얻어진 제1 도포막을 100℃에서 2분간 건조시킨 후, 실온까지 냉각하여 제1 건조 피막을 얻었다. 그 후, 편광 자외선을 배향 규제력의 방향이 상기 필름의 반송 방향에 대하여 45°의 각도를 이루도록 100mJ(313nm 기준) 조사하여, 상기 필름 상에 장척 광 배향막을 형성하였다. 편광 자외선은, 제1 건조 피막의 장척 방향 및 짧은 방향에 대하여 수직인 방향에서, 제1 건조 피막에 조사하였다.
상기 장척 광 배향막 상에, 액정 경화막 형성용 조성물을, 제2 도포막의 막 두께가 17㎛가 되도록 다이 코팅법으로 도포해서 제2 도포막을 얻었다. 제2 도포막을 120℃에서 2분간 가열 건조하고, 실온까지 냉각함으로써, 제2 건조 피막을 얻었다. 자외선 조사 장치를 사용하여, 노광량 1000mJ/cm2(365nm 기준)의 자외선을 제2 건조 피막에 조사함으로써, 위상차막이 형성된 장척 위상차 필름 (2)를 얻었다.
[기재 필름의 박리]
장척 위상차 필름 (2)의 위상차막 표면에, 코로나 처리를 실시하고, 점착제 층을 개재하여 시클로올레핀 중합체 필름 롤을 적층하였다. 이어서, 도 4에서 나타낸 주요부를 갖는 라인을 사용하여, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 및 제1 건조 피막을 박리하여, 위상차막, 점착제층 및 시클로올레핀 중합체 필름을 포함하는 장척 위상차 필름 (3)을 얻었다.
[막 두께 측정]
장척 위상차 필름 (3)으로부터, 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 레이저 현미경(LEXT3000, 올림푸스사 제조)을 사용해서 막 두께를 측정하였다. 그 결과, 장척 위상차막의 막 두께는 2.2㎛이었다.
[헤이즈의 측정]
장척 위상차 필름 (3)으로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 헤이즈 미터(HZ-2; 스가 시껭끼(주) 제조)를 사용해서 헤이즈값을 측정하였다. 그 결과, 헤이즈값은 0.4％이었다.
[위상차값의 측정]
장척 위상차 필름 (3)으로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 파장 587.7nm에서의 정면 위상차값을, 복굴절 측정 장치(KOBRA-WR, 오지 게이소꾸 기끼사 제조)를 사용해서 측정한 결과, 143nm이었다. 또한, 장척 기재에 사용한 시클로올레핀 중합체 필름에는, 복굴절성이 없기 때문에, 상기 기재를 포함하는 형태에서 측정한 결과는, 상기 기재 상에 형성된 위상차막의 정면 위상차값을 나타낸다.
[파장 분산 특성의 측정]
장척 위상차 필름 (3)으로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어, 파장 450.9nm, 498.6nm, 549.4nm, 587.7nm, 627.8nm 및 751.3nm에서의 정면 위상차값, 복굴절 측정 장치(KOBRA-WR, 오지 게이소꾸 기끼사 제조)를 사용해서 측정한 결과, 각각 125nm, 137nm, 142nm, 143nm, 144nm 및 146nm이었다. 셀마이어 피팅에 의해, 파장 450nm, 550nm, 650nm에서의 정면 위상차값을 산출하면, 124nm, 136nm, 139nm이었다. 이것으로부터 Re(450)/Re(550)=0.91≤1 Re(650)/Re(550)=1.02≥1이 성립하는 것을 확인하였다.
[장척 편광 필름과의 일체 라미네이트]
장척 위상차 필름 (3)의 위상차막측과, 요오드-PVA 편광판 롤(SRW842A; 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 제조, 흡수축은 롤의 반송 방향과 일치)을 점착제를 개재하여 일체 라미네이트하여, 장척 원편광판 (3)을 제작하였다.
[반사율의 측정]
장척 원편광판 (3)의 유용성을 확인하기 위해서, 장척 원편광판 (3)으로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어 원편광판을 얻었다. 상기 원편광판의 반사율을 이하와 같이 하여 측정하였다. 제작한 원편광판의 장척 위상차 필름 (3)에서 유래하는 측과 반사판(경면 알루미늄판)을 점착제를 사용해서 접합하여 측정 샘플을 제작하였다.
분광 광도계(시마즈 세이사꾸쇼 가부시끼가이샤 제조 UV-3150)를 사용하여, 파장 400에서부터 700nm의 범위의 광을 2nm 스텝으로 측정 샘플에 대하여 법선 방향 12°로부터 입사하여, 반사한 광의 반사율을 측정하였다. 원편광판을 접합하지 않고 반사판만을 배치하여 측정했을 때의 반사율을 100％로 해서 비교한 결과, 400에서부터 700nm의 범위의 광은 어느 파장에서도 1 내지 10％ 정도로, 가시광 전역에 걸쳐서 충분한 반사 방지 특성이 얻어졌다.
실시예 3
[장척 원편광판 (4)의 제작]
실시예 2에서 얻어진 장척 위상차 필름 (2)의 위상차막 표면에, 코로나 처리를 실시하고, 요오드-PVA 편광판 롤(SRW842A; 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 제조, 흡수축은 롤의 반송 방향과 일치)을 점착제를 개재하여 일체 라미네이트하였다. 이어서, 도 5에서 나타낸 주요부를 갖는 라인을 사용하여, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 및 제1 건조 피막을 박리하여, 위상차막, 점착제층 및 편광판을 포함하는 장척 원편광판 (4)를 얻었다.
[반사율의 측정]
장척 원편광판 (4)의 유용성을 확인하기 위해서, 장척 원편광판 (4)로부터 임의의 개소의 필름편(4cm×4cm)을 잘라내어 원편광판을 얻었다. 상기 원편광판의 반사율을 이하와 같이 하여 측정하였다. 제작한 원편광판의 장척 위상차 필름 (2)에서 유래하는 측과 반사판(경면 알루미늄판)을 점착제를 사용해서 접합하여 측정 샘플을 제작하였다.
분광 광도계(시마즈 세이사꾸쇼 가부시끼가이샤 제조 UV-3150)를 사용하여, 파장 400에서부터 700nm의 범위의 광을 2nm 스텝으로 측정 샘플에 대하여 법선 방향 12°로부터 입사하여, 반사한 광의 반사율을 측정하였다. 원편광판을 접합하지 않고 반사판만을 배치하여 측정했을 때의 반사율을 100％로 해서 비교한 결과, 400에서부터 700nm의 범위의 광은 어느 파장에서도 1 내지 10％ 정도로, 가시광 전역에 걸쳐서 충분한 반사 방지 특성이 얻어졌다.
본 발명은 장척 위상차 필름의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향으로 광축을 갖는 장척 위상차 필름을 제조하는데 유용하다.
210 : 제1 롤 210A : 권취 코어
220 : 제2 롤 220A : 권취 코어
211A, 211B : 도포 장치 212A, 212B : 건조로
213A : 편광 UV 조사 장치 213B : 편광 조사 장치
300 : 보조 롤 230 : 제3 롤
230A : 권취 코어 240 : 제4 롤
240A : 권취 코어 250 : 제5 롤
250A : 권취 코어 260 : 제6 롤
260A : 권취 코어

Claims (9)

  1. (1) 내지 (6)의 공정을 이 순서대로 갖는, 하기 식 (1'), (2) 및 (3)을 만족하는 파장 분산 특성을 갖는 장척 위상차 필름의 제조 방법:
    Re(450)/Re(550)≤0.91 (1')
    1.00≤Re(650)/Re(550) (2)
    100<Re(550)<160 (3)
    (식 중, Re(λ)는 파장 λnm의 광에 대한 면내 위상차값을 나타냄)
    (1) 장척 기재에 광 배향막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정
    (2) 상기 제1 도포막을 건조함으로써 제1 건조 피막을 형성하는 공정
    (3) 상기 제1 건조 피막에, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향의 편광을, 편광의 편광축의 방향과 장척 기재의 두께 방향이 직교하도록 조사함으로써, 배향 규제력의 방향이 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 광 배향막을 형성하는 공정
    (4) 상기 장척 광 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 경화막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 광 배향막 상에 제2 도포막을 형성하는 공정
    (5) 상기 제2 도포막을 건조함으로써 제2 건조 피막을 형성하는 공정
    (6) 상기 제2 건조 피막을 경화함으로써 장척 위상차막을 형성하는 공정.
  2. 제1항에 있어서, 공정 (6) 후에 공정 (7)을 더 갖는, 장척 위상차 필름의 제조 방법:
    (7) 장척 위상차막, 또는 장척 광 배향막 및 장척 위상차막을, 점접착제를 개재하여 장척 피전사 기재에 전사하여, 장척 피전사 기재, 점접착제층 및 장척 위상차막을 포함하는 장척 위상차 필름, 또는 장척 피전사 기재, 점접착제층, 장척 위상차막 및 장척 광 배향막을 포함하는 장척 위상차 필름을 얻는 공정.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 중합성 액정 화합물이 하기 식 (A)로 표시되는 화합물인, 장척 위상차 필름의 제조 방법.
    Figure 112014074333919-pat00016

    [식 중, X1은 산소 원자, 황 원자 또는 NR1-을 나타낸다. R1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
    Y1은 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 12의 1가의 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 3 내지 12의 1가의 방향족 복소환식기를 나타낸다.
    Q3 및 Q4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 1 내지 20의 1가의 지방족 탄화수소기, 탄소수 3 내지 20의 1가의 지환식 탄화수소기, 치환기를 가질 수도 있는 탄소수 6 내지 20의 1가의 방향족 탄화수소기, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, -NR2R3 또는 -SR2를 나타내거나, 또는 Q3과 Q4가 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 방향환 또는 방향족 복소환을 형성한다. R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
    D1 및 D2는 각각 독립적으로 단결합, -C(=O)-O-, -C(=S)-O-, -CR4R5-, -CR4R5-CR6R7-, -O-CR4R5-, -CR4R5-O-CR6R7-, -CO-O-CR4R5-, -O-CO-CR4R5-, -CR4R5-O-CO-CR6R7-, -CR4R5-CO-O-CR6R7-, -NR4-CR5R6- 또는 -CO-NR4-를 나타낸다.
    R4, R5, R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타낸다.
    G1 및 G2는 각각 독립적으로 탄소수 5 내지 8의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틸렌기는 산소 원자, 황 원자 또는 NH-로 치환될 수도 있고, 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 메틴기는 제3급 질소 원자로 치환될 수도 있다.
    L1 및 L2는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 하나는 중합성기를 갖는다.]
  4. 장척 기재, 장척 광 배향막 및 장척 위상차막을 이 순서대로 갖는, 제1항의 장척 위상차 필름의 제조 방법에 의해 제조된 장척 위상차 필름으로서,
    상기 장척 광 배향막의 배향 규제력의 방향이 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬하고,
    상기 장척 위상차막의 두께가 3㎛ 이하이고,
    상기 장척 위상차막의 광축의 방향이, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 위상차 필름.
  5. 삭제
  6. (1) 내지 (6) 및 (8)의 공정을 이 순서대로 갖는, 하기 식 (1'), (2) 및 (3)을 만족하는 파장 분산 특성을 갖는 장척 원편광판의 제조 방법:
    Re(450)/Re(550)≤0,91 (1')
    1.00≤Re(650)/Re(550) (2)
    100<Re(550)<160 (3)
    (식 중, Re(λ)는 파장 λnm의 광에 대한 면내 위상차값을 나타냄)
    (1) 장척 기재에 광 배향막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 기재 상에 제1 도포막을 형성하는 공정
    (2) 상기 제1 도포막을 건조함으로써 제1 건조 피막을 형성하는 공정
    (3) 상기 제1 건조 피막에, 상기 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 방향의 편광을, 편광의 편광축의 방향과 장척 기재의 두께 방향이 직교하도록 조사함으로써, 배향 규제력의 방향이 장척 기재의 장척 방향에 대하여 비스듬한 장척 광 배향막을 형성하는 공정
    (4) 상기 장척 광 배향막 상에, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정 경화막 형성용 조성물을 연속적으로 도포하여, 상기 장척 광 배향막 상에 제2 도포막을 형성하는 공정
    (5) 상기 제2 도포막을 건조함으로써 제2 건조 피막을 형성하는 공정
    (6) 상기 제2 건조 피막을 경화함으로써 장척 위상차막을 형성하는 공정
    (8) 장척 위상차막에 장척 편광 필름을 접합하는 공정.
  7. 제6항에 있어서, 공정 (8) 후에 공정 (9)를 더 갖는, 장척 원편광판의 제조 방법:
    (9) 장척 기재, 또는 장척 기재 및 장척 광 배향막을 박리하는 공정.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 공정 (8) 또는 공정 (9) 후에 공정 (10)을 더 갖는, 장척 원편광판의 제조 방법:
    (10) 장척 원편광판을 시트상으로 절단하는 공정
  9. 제4항에 기재된 장척 위상차 필름과 장척 편광 필름이 적층되어 있는 장척 원편광판.
KR1020140100947A 2013-08-09 2014-08-06 장척 위상차 필름의 제조 방법 Active KR102223121B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210025827A KR102359336B1 (ko) 2013-08-09 2021-02-25 장척 위상차 필름의 제조 방법

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2013-165939 2013-08-09
JP2013165939 2013-08-09

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210025827A Division KR102359336B1 (ko) 2013-08-09 2021-02-25 장척 위상차 필름의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150018424A KR20150018424A (ko) 2015-02-23
KR102223121B1 true KR102223121B1 (ko) 2021-03-05

Family

ID=52448437

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140100947A Active KR102223121B1 (ko) 2013-08-09 2014-08-06 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR1020210025827A Active KR102359336B1 (ko) 2013-08-09 2021-02-25 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR1020220013571A Active KR102504171B1 (ko) 2013-08-09 2022-01-28 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR1020230023526A Active KR102706930B1 (ko) 2013-08-09 2023-02-22 장척 위상차 필름의 제조 방법

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210025827A Active KR102359336B1 (ko) 2013-08-09 2021-02-25 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR1020220013571A Active KR102504171B1 (ko) 2013-08-09 2022-01-28 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR1020230023526A Active KR102706930B1 (ko) 2013-08-09 2023-02-22 장척 위상차 필름의 제조 방법

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9482802B2 (ko)
JP (6) JP6716190B2 (ko)
KR (4) KR102223121B1 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9952370B2 (en) * 2013-10-30 2018-04-24 Zeon Corporation Long stretched film and production method therefor
KR20150093591A (ko) * 2014-02-07 2015-08-18 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 장척 편광 필름의 제조 방법
US10598836B2 (en) 2015-07-24 2020-03-24 Sumitomo Chemical Company, Limited Laminated body, circularly polarizing plate including laminated body, display device including laminated body
US10670787B2 (en) 2015-07-24 2020-06-02 Sumitomo Chemical Company, Limited Liquid crystal cured film, optical film including the liquid crystal cured film, and display device
JP7044468B2 (ja) * 2016-02-05 2022-03-30 三菱ケミカル株式会社 光学積層体および該光学積層体を用いた画像表示装置
JP2017197602A (ja) * 2016-04-25 2017-11-02 住友化学株式会社 液晶組成物及びその製造方法、並びに該液晶組成物から構成される位相差フィルム
JP7423337B2 (ja) 2020-02-06 2024-01-29 住友化学株式会社 長尺液晶硬化層積層フィルム
JP7183312B2 (ja) * 2021-01-15 2022-12-05 住友化学株式会社 液晶組成物及びその製造方法、並びに該液晶組成物から構成される位相差フィルム

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002014233A (ja) * 2000-04-28 2002-01-18 Konica Corp 光学補償シート、楕円偏光板及び液晶表示装置
JP2012021068A (ja) * 2010-07-13 2012-02-02 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム

Family Cites Families (72)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5083482A (ko) 1973-11-26 1975-07-05
JPH02113920A (ja) 1988-10-25 1990-04-26 Mitsubishi Kasei Corp 延伸フィルム又はシートの製造方法
JPH0634976A (ja) 1992-07-21 1994-02-10 Toshiba Corp 液晶表示素子
JPH0730637A (ja) 1993-07-09 1995-01-31 Fujitsu General Ltd 自動応答式電話装置
DE4342280A1 (de) 1993-12-11 1995-06-14 Basf Ag Polymerisierbare chirale Verbindungen und deren Verwendung
JPH07258170A (ja) 1994-03-22 1995-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 新規なトリフエニレン誘導体
JPH07309807A (ja) 1994-05-17 1995-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 新規なトリフエニレン誘導体
JPH08231470A (ja) 1994-12-28 1996-09-10 Fuji Photo Film Co Ltd 新規化合物および円盤状化合物からなる薄膜
US5730903A (en) 1994-12-28 1998-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Compound and thin film composed of the discotic compound
US6107427A (en) * 1995-09-15 2000-08-22 Rolic Ag Cross-linkable, photoactive polymer materials
DE19781752T1 (de) 1996-07-01 1999-09-02 Merck Patent Gmbh Chirale Dotierstoffe
JPH1090521A (ja) 1996-07-24 1998-04-10 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光軸回転積層位相差板およびこれを用いた投射型液晶表示装置
JPH1068816A (ja) 1996-08-29 1998-03-10 Sharp Corp 位相差板及び円偏光板
JP2000009912A (ja) 1998-06-25 2000-01-14 Nitto Denko Corp 延伸フィルムの製造方法及び位相差板
JP2000206331A (ja) 1999-01-14 2000-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および楕円偏光板
US6400433B1 (en) 1998-11-06 2002-06-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Circularly polarizing plate comprising linearly polarizing membrane and quarter wave plate
JP2001004837A (ja) 1999-06-22 2001-01-12 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および円偏光板
JP2001021720A (ja) 1999-07-12 2001-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板および円偏光板
JP2002207125A (ja) * 2000-04-03 2002-07-26 Konica Corp 光学補償シート及び液晶表示装置
CN1209638C (zh) * 2000-05-15 2005-07-06 富士胶片株式会社 光学补偿片、偏振板和液晶显示器
JP2001337222A (ja) 2000-05-25 2001-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板
JP4802409B2 (ja) * 2000-07-21 2011-10-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 光学補償フィルム、それを用いた偏光板及び液晶表示装置
JP2002122741A (ja) * 2000-08-01 2002-04-26 Konica Corp 光学補償シート、偏光板及び液晶表示装置
TW555837B (en) 2001-07-02 2003-10-01 Merck Patent Gmbh Chiral compounds
JP2003240955A (ja) 2002-02-21 2003-08-27 Konica Corp 光学フィルム、偏光板、光学フィルムロ−ル、光学フィルムを用いた表示装置、光学フィルムの製造方法
JP2003248117A (ja) 2002-02-26 2003-09-05 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板、円偏光板および液晶表示素子のそれぞれの製造方法
EP1507886B1 (de) 2002-05-24 2015-09-30 KHS Corpoplast GmbH Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von werkstücken
JP2005037440A (ja) * 2003-07-15 2005-02-10 Konica Minolta Opto Inc 光学補償フィルム、偏光板及び液晶表示装置
EP1682930B1 (en) 2003-11-06 2011-01-19 Sumitomo Chemical Company, Limited Dichroic guest-host polarizer comprising an oriented polymer film
US7688403B2 (en) * 2003-11-20 2010-03-30 Sharp Kabushiki Kaisha Circularly polarizing plate, vertically alignment type of liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
TW200527081A (en) 2003-11-26 2005-08-16 Nissan Chemical Ind Ltd Liquid crystal alignment treating agent for vertical alignment and liquid crystal display
JP4502119B2 (ja) 2004-06-24 2010-07-14 Ｊｓｒ株式会社 反射電極を有する垂直液晶表示素子
JP3874200B2 (ja) * 2004-11-22 2007-01-31 日東電工株式会社 光学補償層付偏光板、液晶パネル、液晶表示装置および光学補償層付偏光板の製造方法
JP4985906B2 (ja) 2005-08-05 2012-07-25 Ｊｓｒ株式会社 垂直液晶配向剤および垂直液晶表示素子
JP2007155970A (ja) * 2005-12-02 2007-06-21 Sumitomo Chemical Co Ltd 楕円偏光板及びその製造方法
JP4929709B2 (ja) 2005-12-20 2012-05-09 旭硝子株式会社 カイラル剤、液晶組成物、高分子液晶、回折素子、及び光情報記録再生装置
JP2007171595A (ja) * 2005-12-22 2007-07-05 Dainippon Printing Co Ltd 長尺円偏光フィルム、および、これを用いた液晶表示装置
JP2007176870A (ja) 2005-12-28 2007-07-12 Nippon Zeon Co Ltd キラル剤
KR100782646B1 (ko) 2006-02-13 2007-12-06 엘지전자 주식회사 미디어 플레이어의 리소스 설정방법
JP4961795B2 (ja) 2006-03-30 2012-06-27 Ｄｉｃ株式会社 重合性キラル化合物
JP5103774B2 (ja) 2006-03-30 2012-12-19 Ｄｉｃ株式会社 重合性キラル化合物
JP2007322778A (ja) * 2006-06-01 2007-12-13 Nippon Oil Corp 楕円偏光板、楕円偏光板の製造方法および液晶表示装置
JP4905082B2 (ja) 2006-11-22 2012-03-28 東ソー株式会社 位相差フィルム
EP1898252B1 (en) 2006-09-05 2014-04-30 Tosoh Corporation Optical compensation film stack and stretched retardation film
CN101641322B (zh) 2007-03-23 2013-05-08 日产化学工业株式会社 二胺化合物、聚酰胺酸、聚酰亚胺及液晶定向处理剂
TW200904950A (en) * 2007-04-23 2009-02-01 Lg Chemical Ltd A retardation film, a method for preparing retardation film and polarizer comprising the retardation film
JP5076810B2 (ja) * 2007-10-31 2012-11-21 Ｄｉｃ株式会社 光配向膜用組成物、光配向膜、及び光学異方体
JP2009139812A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Konica Minolta Opto Inc ロール状の位相差フィルム、ロール状の位相差フィルムの製造方法および円偏光板
JP5463666B2 (ja) 2007-12-28 2014-04-09 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5451176B2 (ja) 2008-05-20 2014-03-26 住友化学株式会社 光学フィルム、偏光板、表示装置及び光学フィルムの製造方法
JP5649779B2 (ja) * 2008-11-28 2015-01-07 住友化学株式会社 液晶性組成物及び光学フィルム
JP5899607B2 (ja) 2009-03-16 2016-04-06 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
KR101677764B1 (ko) 2009-04-21 2016-11-18 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 화합물
JP2011006360A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP4645772B1 (ja) 2009-10-09 2011-03-09 ソニー株式会社 位相差素子用配向膜およびその製造方法、位相差素子およびその製造方法、表示装置
JP2011150314A (ja) * 2009-12-22 2011-08-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合位相差板及びその製造方法
KR20110095732A (ko) * 2010-02-19 2011-08-25 동우 화인켐 주식회사 패턴화 리타더의 제조방법
JP5707811B2 (ja) 2010-09-24 2015-04-30 コニカミノルタ株式会社 長尺状λ／４板、円偏光板、偏光板、ＯＬＥＤ表示装置、及び立体画像表示装置
US9151869B2 (en) * 2011-01-25 2015-10-06 Lg Chem, Ltd. Liquid crystal film
JP5795969B2 (ja) * 2011-03-04 2015-10-14 大日本印刷株式会社 パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置
JP5932234B2 (ja) * 2011-04-05 2016-06-08 日東電工株式会社 偏光素子およびその製造方法
JP5803311B2 (ja) * 2011-06-16 2015-11-04 大日本印刷株式会社 パターン位相差フィルムの製造方法、それに用いるマスク、およびそれを用いたパターン位相差フィルム
KR101933220B1 (ko) * 2011-07-07 2018-12-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광 소자, 원편광판 및 이들의 제조 방법
JP6056758B2 (ja) 2011-09-13 2017-01-11 コニカミノルタ株式会社 有機ｅｌ表示装置
JP2013071956A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム
TWI564598B (zh) * 2011-10-12 2017-01-01 Sumitomo Chemical Co A polarizing film, a circularly polarizing plate, and the like
TWI437332B (zh) * 2011-10-27 2014-05-11 Far Eastern New Century Corp A method for preparing composite phase difference plate
JP6081098B2 (ja) * 2011-10-27 2017-02-15 日東電工株式会社 長尺状積層偏光板の製造方法及び長尺状積層偏光板
JP5923941B2 (ja) * 2011-11-18 2016-05-25 住友化学株式会社 偏光膜、円偏光板及びそれらを用いた有機ｅｌ画像表示装置
JP2012238031A (ja) * 2012-08-31 2012-12-06 Seiko Epson Corp 電気光学装置、電気光学装置の駆動方法、電子機器
WO2014068893A1 (ja) 2012-10-29 2014-05-08 コニカミノルタ株式会社 位相差フィルム、円偏光板、及び画像表示装置
KR102329698B1 (ko) * 2013-08-09 2021-11-23 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 장척 원편광판의 제조 방법 및 장척 원편광판

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002014233A (ja) * 2000-04-28 2002-01-18 Konica Corp 光学補償シート、楕円偏光板及び液晶表示装置
JP2012021068A (ja) * 2010-07-13 2012-02-02 Sumitomo Chemical Co Ltd 組成物及び光学フィルム

Also Published As

Publication number Publication date
KR20220024237A (ko) 2022-03-03
JP2024010149A (ja) 2024-01-23
KR20210025559A (ko) 2021-03-09
KR102706930B1 (ko) 2024-09-20
JP2019204100A (ja) 2019-11-28
KR20150018424A (ko) 2015-02-23
JP2022017468A (ja) 2022-01-25
JP2019204101A (ja) 2019-11-28
KR102504171B1 (ko) 2023-03-02
JP2015057647A (ja) 2015-03-26
US9482802B2 (en) 2016-11-01
JP7654750B2 (ja) 2025-04-01
JP7175854B2 (ja) 2022-11-21
US20150043072A1 (en) 2015-02-12
KR102359336B1 (ko) 2022-02-08
KR20230034250A (ko) 2023-03-09
JP7379443B2 (ja) 2023-11-14
JP6716190B2 (ja) 2020-07-01
JP7016333B2 (ja) 2022-02-04
JP2019082703A (ja) 2019-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102652966B1 (ko) 장척 편광 필름의 제조 방법
KR102458585B1 (ko) 원편광판 및 표시 장치
KR102504171B1 (ko) 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR102329698B1 (ko) 장척 원편광판의 제조 방법 및 장척 원편광판
KR102092967B1 (ko) 원편광판 및 그 제조 방법
KR102426386B1 (ko) 패턴 편광 필름 및 그의 제조 방법
US20160146995A1 (en) Optical film
JP2019194685A (ja) 偏光板
KR20160052353A (ko) 광학 이방성 필름 및 광학 이방성 필름의 제조 방법
WO2019208299A1 (ja) 偏光板
KR20190128123A (ko) 기재 및 광학 필름
KR20210148141A (ko) 편광 필름의 제조 방법 및 편광 필름

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20140806

PG1501 Laying open of application
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20190704

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20140806

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20200513

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20201218

A107 Divisional application of patent
PA0107 Divisional application

Comment text: Divisional Application of Patent

Patent event date: 20210225

Patent event code: PA01071R01D

PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20210225

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20210226

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20240215

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20250210

Start annual number: 5

End annual number: 5