JP2002122741A - 光学補償シート、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＬＣＤの視野角特性を簡便に改善できる光学
補償シートを提供し、且つ、それを用い簡単な構成で液
晶表示装置を提供することである。更に取り扱い性に優
れた光学補償シートを提供すると共に光学補償シートを
安定に、連続的に製造するための方法を提供することを
目的としている。 【解決手段】 支持体上に液晶性化合物の光軸と該光学
補償シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方
向に対して連続的または段階的に増加するように配向さ
せた層と該角度が連続的または段階的に減少するように
配向させた層を有し、且つ、該２層の液晶性化合物それ
ぞれの面内における配向方向が互いに８０〜１００度の
角度で交差するように配置した光学補償シートであっ
て、少なくとも一方の面の表層に微粒子を含有すること
を特徴とする光学補償シート。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学補償シート、
偏光板及び液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶表示装置の視野角拡大のため
に用いられる光学補償シートとしては、下記のような３
種の構成が試みられており、各々、有効な方法として提
案されている。 （１）負の１軸性を有する化合物であるディスコティッ
ク液晶性化合物を支持体上に担持させる方法。 （２）正の光学異方性を有するネマティック型高分子液
晶性化合物を深さ方向に液晶分子のプレチルト角が変化
するハイブリッド配向をさせたものを支持体上に担持さ
せる方法。 （３）正の光学異方性を有するネマティック型液晶性化
合物を支持体上に２層構成にして各々の層の配向方向を
略９０度とすることにより擬似的に負の１軸性類似の光
学特性を付与させる方法。

【０００３】上記記載の構成の各々は下記のような問題
点を有している。上記（１）に記載の方法では、ＴＮモ
ードの液晶パネルに適用する場合に斜め方向から見た場
合の画面が黄色く着色するというディスコティック液晶
性化合物特有の欠点が発現する。

【０００４】上記（２）に記載の方法では、液晶発現温
度が高く、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）のよう
な透明支持体上では液晶の配向を固定出来ず、必ず、一
度別の支持体上で配向を固定した後、ＴＡＣのような支
持体に転写する必要があり、工程が煩雑化し、且つ、極
めて生産性が低下してしまう。

【０００５】上記（３）に記載の方法の一例としては、
例えば、特開平８−１５６８１号には、棒状の正の１軸
性低分子液晶性化合物を用いた光学異方性層として、配
向能を有する配向性層を介して配向させた棒状の正の１
軸性低分子液晶性化合物からなる層を形成し、固定化し
て、この層のさらに上に再度配向能をもつ配向性層を介
して再び配向させた棒状の正の１軸性低分子液晶性化合
物からなる層を形成し固定化する４層構成の光学異方性
層が開示されている。この場合、２つの液晶層の平面内
に投影される配向方向を例えば９０度ずらして与えるこ
とにより擬似的に円盤状に近い特性を与えることが可能
となる。上記（３）に記載の方法は、ディスコティック
液晶性化合物の場合と異なり着色の問題がないので、発
色再現性が重視される液晶ＴＶ（テレビ）などの用途に
おいては極めて有利な特徴を有している。

【０００６】しかしながら、この方法は、ディスコティ
ック液晶性化合物において１層で達成していたものをあ
えて２層の液晶層で達成するものであり、いかにも効率
が悪い。

【０００７】しかしながら、これらの方法はいずれもよ
り根本的な、共通する問題点を有している。すなわち、
これらの方式によれば、光学補償能を得るためには必ず
液晶パネルの各々、両面に配置しなければならないと言
う点である。このことは、簡便とされる光学補償フィル
ムによる視野角改善の方式においても非常にコスト高と
なっていることを意味する。これらの方式では、一枚の
みをもちいるときには必ず左右の対称性がくずれて視野
角特性が非対称になる。

【０００８】また、配置する際に例えばラビング軸を４
５度回転させてずらしても、対称性は改善される場合が
あっても視野角特性は必ずしも改善しない。このよう
に、１枚の光学補償シートで２枚の場合と同等またはそ
れ以上に視野角特性を改善する方法は未だ存在しなかっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ＴＮ
−ＴＦＴなどのＴＮ型ＬＣＤの視野角特性、すなわち、
斜め方向から見た場合の画面の着色、明暗の反転現象を
簡便に改善できる光学補償シートを提供し、且つ、それ
を用いて簡単な構成で著しく視野角が改善される液晶表
示装置を提供することである。更に取り扱い性に優れた
光学補償シートを提供することを目的としている。更
に、このような光学補償シートを安定に、連続的に製造
するための方法を提供することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は下記の項目によ
って達成された。

【００１１】１．支持体上に重合性液晶性化合物を配向
させて形成された２つの層を有する光学補償シートにお
いて、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たと
きに、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償
シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に
対して連続的または段階的に増加するように配向させた
層であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に
減少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液
晶性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８
０〜１００度の角度で交差するように配置した光学補償
シートであって、少なくとも一方の面の表層に微粒子を
含有することを特徴とする光学補償シート。

【００１２】２．支持体上に重合性液晶性化合物を配向
させて形成された２つの層を有する光学補償シートにお
いて、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たと
きに、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償
シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に
対して連続的または段階的に増加するように配向させた
層であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に
減少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液
晶性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８
０〜１００度の角度で交差するように配置した光学補償
シートであって、該液晶性化合物を配向させて形成させ
た層を有する面と反対側の面にバックコート層を有する
ことを特徴とする光学補償シート。

【００１３】３．支持体上に重合性液晶性化合物を配向
させて形成された２つの層を有する光学補償シートにお
いて、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たと
きに、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償
シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に
対して連続的または段階的に増加するように配向させた
層であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に
減少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液
晶性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８
０〜１００度の角度で交差するように配置した長尺光学
補償シートであって、２０Ｈｚにおけるインピーダンス
の絶対値が４×１０⁵Ω以上であることを特徴とする光
学補償シート。

【００１４】４．支持体上に重合性液晶性化合物を配向
させて形成された２つの層を有する光学補償シートにお
いて、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たと
きに、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償
シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に
対して連続的または段階的に増加するように配向させた
層であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に
減少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液
晶性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８
０〜１００度の角度で交差するように配置した光学補償
シートであって、幅手両端部がエンボス加工されている
長尺ロール状であることを特徴とする光学補償シート。

【００１５】５．長尺の支持体上に重合性液晶性化合物
を配向させて形成された２つの層を有する光学補償シー
トにおいて、該光学補償シートの幅手両端部がエンボス
加工されており、２０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶
対値が４×１０⁵Ω以上であることを特徴とする光学補
償シート。

【００１６】６．重合性液晶性化合物が棒状の液晶性化
合物であることを特徴とする前記１〜５のいずれか１項
に記載の光学補償シート。

【００１７】７．支持体が総アシル基置換度２．３０〜
２．７５のセルロースエステルであることを特徴とする
前記１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。

【００１８】８．支持体の両面にそれぞれ重合性液晶性
化合物を配向させて形成された層を有することを特徴と
する前記１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シー
ト。

【００１９】９．微粒子を含有する表層を有する支持体
の、該表層を有する面と反対の面にそれぞれ配向層及び
重合性液晶性化合物を塗設し、配向させた重合性液晶性
化合物の層を２つ形成することを特徴とする光学補償シ
ートの製造方法。

【００２０】１０．前記９に記載の光学補償シートの製
造方法に用いるものであって、一方の面の表層に微粒子
を含有することを特徴とする樹脂フィルム支持体。

【００２１】１１．一方の面にバックコート層を有する
支持体の反対の面にそれぞれ配向層及び重合性液晶性化
合物の層を塗設し、配向させた重合性液晶性化合物の層
を２つ形成することを特徴とする前記９に記載の光学補
償シートの製造方法。

【００２２】１２．前記１１に記載の光学補償シートの
製造方法に用いるものであって、一方の面にバックコー
ト層を有することを特徴とする樹脂フィルム支持体。

【００２３】１３．幅手両端部がエンボス加工されてい
る長尺の支持体上にそれぞれ配向層及び重合性液晶性化
合物の層を塗設し、配向させた重合性液晶性化合物の層
を２つ形成することを特徴とする前記９又は１１に記載
の光学補償シートの製造方法。

【００２４】１４．前記１３に記載の光学補償シートの
製造方法に用いるものであって、幅手両端部がエンボス
加工された長尺状であることを特徴とする樹脂フィルム
支持体。

【００２５】１５．２０Ｈｚにおけるインピーダンスの
絶対値が４×１０⁵Ω以上である支持体上にそれぞれ配
向層及び重合性液晶性化合物の層を塗設し、配向させた
重合性液晶性化合物の層を２つ形成することを特徴とす
る前記９、１１、１３のいずれか１項に記載の光学補償
シートの製造方法。

【００２６】１６．前記１５に記載の光学補償シートの
製造方法に用いるものであって、２０Ｈｚにおけるイン
ピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上であることを特
徴とする樹脂フィルム支持体。

【００２７】１７．光学補償シートの一方の面から重合
性液晶性化合物を配向させて形成された２つの層を見た
ときに、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補
償シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向
に対して連続的または段階的に増加するように配向させ
た層であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的
に減少するように配向させた層であり、且つ、該２層の
液晶性化合物のそれぞれの面内における配向方向が互い
に８０〜１００度の角度で交差するように配置すること
を特徴とする前記９、１１、１３、１５のいずれか１項
に記載の光学補償シートの製造方法。

【００２８】１８．長尺の支持体の両面に対して、それ
ぞれ下記の工程（１）〜（３）を行うことによって、両
面に配置された液晶性化合物から形成された２層が、そ
の２層それぞれのシート面内における配向方向のなす角
度が互いに８０〜１００°となるように配向処理させる
ことを特徴とする前記９、１１、１３、１５、１７のい
ずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。 （１）長尺の該支持体上に直接または他の層を介して配
向層を連続的に塗布する。 （２）該配向層を該支持体の長尺方向に対して略４５度
の角度で斜め方向に配向処理を行う。 （３）該配向層上に液晶性化合物を連続的に塗布して、
液晶相を発現する温度条件で固定化する。

【００２９】１９．下記の工程（１）〜（４）を有し、
且つ、長尺の支持上に連続的な塗布を行うことを特徴と
する前記９、１１、１３、１５、１７のいずれか１項に
記載の光学補償シートの製造方法。 （１）長尺の該支持体上に直接または他の層を介して配
向層を連続的に塗布する。 （２）該配向層を該支持体の長尺方向に対して略４５度
の角度で斜め方向に配向処理を行う。 （３）該配向層上に液晶性化合物を連続的に塗布して、
液晶相を発現する温度条件で固定化する。 （４）長尺の該支持体同士を、該液晶性化合物含有層を
有する面同士または、該支持体面同士を直接あるいは粘
着性層または他の層を介して貼合する。

【００３０】２０．前記９、１１、１３、１５、１７〜
１９のいずれか１項に記載の方法により製造されたこと
を特徴とする光学補償シート。

【００３１】２１．前記１〜８のいずれか１項又は２０
に記載の光学補償シートを有することを特徴とする偏光
板。

【００３２】２２．前記１〜８のいずれか１項又は２０
に記載の光学補償シートあるいは前記２１に記載の偏光
板を有することを特徴とする液晶表示装置。

【００３３】２３．硬化樹脂層を有し、裏面に微粒子を
含有する表層を有する支持体に、硬化樹脂層の上に直接
又は他の層を介して、重合性液晶性化合物を配向させて
形成された層を１つ以上設けることを特徴とする光学補
償シートの製造方法。

【００３４】２４．硬化樹脂層を有し、裏面にバックコ
ート層を有する支持体に、硬化樹脂層の上に直接又は他
の層を介して、重合性液晶性化合物を配向させて形成さ
れた層を１つ以上設けることを特徴とする光学補償シー
トの製造方法。

【００３５】２５．硬化樹脂層を有し、２０Ｈｚにおけ
るインピーダンスが４×１０⁵Ω以上の長尺の支持体
に、硬化樹脂層の上に直接又は他の層を介して重合性液
晶性化合物を配向させて形成された層を１つ以上設ける
ことを特徴とする光学補償シートの製造方法。

【００３６】２６．硬化樹脂層を有し、幅手両端部がエ
ンボス加工されている長尺の支持体に、硬化樹脂層の上
に直接又は他の層を介して、重合性液晶性化合物を配向
させて形成された層を１つ以上設けることを特徴とする
光学補償シートの製造方法。

【００３７】以下、本発明を詳細に説明する。従来の光
学補償シートでは、液晶セルの両面に配置することによ
り始めて実用に耐える光学補償能が得られていた。しか
し、今回本発明者らは、前述の構成の光学異方性層を形
成した光学補償シートを作製することにより、驚くべき
ことにたった１枚のシートを液晶セルと偏光板の間に片
面側だけに配置するだけで、極めて優れた光学補償能が
得られることを見出した。

【００３８】本発明の光学補償シートは、斜め方向から
見た場合のコントラストが高くいわゆる視野角が広いだ
けではなく、斜め方向から見た場合の画面の着色もな
く、反転領域も非常に狭くなるなど優れた光学補償能を
示した。本発明の光学補償シートは、液晶セル１枚に対
して１枚しか使用しないことから、コストは半分とな
り、同じ面積の光学補償シートを用いて、従来よりも２
倍量の液晶セルに対して供給することが可能となる。

【００３９】また、偏光板は通常表面側（観察者側）と
液晶セルの背面側とでは表面加工状態が異なり、例えば
表面側ではＡＧ（アンチグレア）などの処理がなされた
特殊な偏光板が用いられている。この場合、表面側の偏
光板と裏面側の偏光板は異なる種類となるため、それぞ
れ光学補償シートを貼合したものを用意せざるを得ず、
さらには、表面加工済み偏光板との貼合過程で異常が発
生すると、その表面加工済みの偏光板を廃棄せざるを得
ないなど、コスト高にならざるをえなかった。しかし本
発明によれば、特段の表面加工をしない側の偏光板と貼
合することによりそのような付加機能を有する偏光板を
無駄にすることはなくなる。また、光学補償シートに用
いるトリアセチルセルロースや、例えばディスコティッ
ク液晶性化合物の波長分散特性に起因する黄色味の着色
は、本発明の光学補償シートを用いることにより枚数が
１枚減らせるため抑えることが可能になる。

【００４０】本発明は、１枚だけで補償可能な光学補償
シート、該光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示
装置の提供を可能にしたものであり、更に詳しくは、ね
じれネマティック（ＴＮ）型の液晶特有の視野角による
コントラストの変化、特にフルカラー表示ディスプレー
として用いられるアクティブマトリックス型ＴＮ型液晶
表示装置の表示の視野角依存性を改善したものである。
本発明によりこれらの光学補償シートも提供することが
出来ると共に優れた光学補償シートの製造方法を提供す
るものである。

【００４１】本発明に係る液晶性化合物の液晶層中にお
ける配向形態に関して説明する。本発明の光学補償シー
トは、複屈折性を有する材質を配向させた層が２層以上
積層されている。それらのうち任意の２層（第一の層と
第二の層）の配向方向は、面内においては互いに略直交
していることが特徴である。ここで、略直交とは干渉に
よる着色などがあまり問題にならない範囲で９０度から
一定の幅を有してもよいが、実質的には８０〜１００度
が好ましく、さらに好ましくは８５〜９５度の範囲であ
り、９０度が最も好ましい。さらに、その複屈折性を有
する材質の構成単位はその屈折率楕円体における屈折率
の最大値を示す方向が、第一の層とシート面とのなす角
がシートの一方の面（Ａ面）から他方の面（Ｂ面）に向
かって当該シートの厚さ方向に対して増加するように配
置され、第二の層とシート面とのなす角は同様にＡ面か
らＢ面に向かって厚さ方向に対して減少するように配置
されていることを特徴とする。

【００４２】ここで言う複屈折性を有する材質の構成単
位とは、光軸を有する単位と理解することができ、例え
ば複屈折性を有する液晶性化合物の分子のことをいう
が、必ずしも分子単位に限定されるものではなく、複数
分子の集合体が一定の光軸を有する場合はその集合体を
指すこともできる。また、シート面とのなす角度が増加
または減少するとは、当該各層が各々層全体としては光
軸を持たないことを意味しており、当該角度の増加また
は減少は、シートの厚さ方向に対して連続的に変化して
もよく断続的に変化してもよい。このようなシートの厚
さ方向に対する配向形態を以後ハイブリッド配向と呼ぶ
ことがある。

【００４３】本発明に有効な厚さ方向のハイブリッド配
向の形態は、２層の積層の場合で説明すると、前述のＡ
面側からＢ面側に向かって、シート面とのなす角が１層
目は増加し２層目では減少する場合もしくは１層目は減
少し２層目では増加する場合が好ましく、いずれの層に
おいても増加する場合や減少する場合であり、一定の角
度である場合には本発明の効果は生じない。このシート
面とのなす角は、０度から９０度の間で変化することが
できる。好ましくは５度から８５度でありこの角度の変
化の幅は広い方が一般的には好ましいが、これは液晶セ
ル側の設計の仕方によっても変化する。この角度の変化
の形状（ハイブリッド形態）は１層目と２層目でシート
断面を見た場合に、同様の形態をしていることが好まし
い。

【００４４】液晶性化合物は、配向を制御することによ
りこのような光学異方性層を具現化するために好適に用
いることが出来る。以下、本発明に係る液晶性化合物に
ついて説明する。

【００４５】本発明に係る液晶性化合物は、低分子液晶
性化合物でもよいし、高分子液晶性化合物でもよい。光
学的な特性としては、正の一軸性の棒状液晶性化合物、
二軸性の液晶性化合物が好ましく用いられる。また、負
の一軸性を示すものであってもよく、例えば代表的に
は、ディスコチック液晶性化合物を用いることもでき
る。二軸性の液晶性化合物については、棒状の分子形態
をとることができるが、ディスコティック化合物のよう
にやや広がりを持った円盤に近い形態のものもある。

【００４６】本発明に係る負の一軸性を示す液晶性化合
物とは典型的にはディスコチック液晶性化合物が挙げら
れ、例えば、液晶の化学：季刊 化学総説Ｎｏ．２２，
１９９４、日本化学会編（学会出版センター），６０〜
７２頁に記載されているような化合物であり、具体的に
は、前記総説の６２頁に記載のような分子構造１〜４６
を有する液晶性化合物である。また、特許公報第２５８
７３９８号、同第２６４００８３号、同第２６４１０８
６号、同第２６９２０３３号、同第２６９２０３５号、
同第２７６７３８２号、同第２７４７７８９号等に記載
されているような液晶性化合物もディスコチック液晶性
化合物である。

【００４７】本発明に係る正の一軸性の光学異方性を有
する（単に、正の一軸性を有するともいう）化合物や、
棒状液晶性化合物に近い光学的な特性を示す二軸性を有
する化合物は、棒状液晶性化合物の光学特性として扱う
ことができる。ここで、正の一軸性を有する（光学的に
一軸性である）とは、光学異方性を有する異方性素子に
おける三軸方向の屈折率の値ｎｘ、ｎｙ、ｎｚのうち２
つのみが等しい値を示し、その２つの屈折率が残る１つ
の軸の屈折率よりも小さいことを示し、二軸性を有する
とは、三軸方向の屈折率の値ｎｘ、ｎｙ、ｎｚのいずれ
もが異なる値を示す場合を表す。

【００４８】本発明に係る正の一軸性の棒状液晶性化合
物については、さらに詳しくは、誘電率異方性が正のも
のでも負のものであっても良いが、後に述べるシートの
厚み方向における傾斜制御の容易性からは、正の誘電率
異方性のものが好ましい。

【００４９】棒状液晶性化合物の誘電率異方性（Δε）
とは、分子の長軸が電界と平行に配向した状態の誘電率
（ε／／）と分子の短軸が電界と平行に配向した状態の
誘電率（ε⊥）との値の差、Δε（＝ε／／−ε⊥≠
０）で表される。誘電率異方性（Δε）は、液晶分子内
を通過する光の屈折率の異方性に影響を与え、両者の関
係は、Δε＝ｎ／／²−ｎ⊥²（ここで、ｎ／／は液晶分
子の配向ベクトルの方向に偏っている光に対する屈折
率、ｎ⊥は配向ベクトルに垂直な方向に偏っている光に
対する屈折率である。）となる。

【００５０】なお、このΔεの値は、通常のＴＮ液晶セ
ルなどを駆動させるために用いる液晶性化合物の場合は
正の値である。

【００５１】本発明に係る液晶性化合物の光学異方性
（具体的には、屈折率の異方性）は、低分子液晶性化合
物の場合には分子全体で規定され、高分子液晶性化合物
の場合は、大別して、主鎖型液晶、側鎖型液晶がある
が、いずれの場合においてもメソゲン基部分について低
分子液晶性化合物に準じて規定される。

【００５２】上記記載のメソゲン基（メソゲン単位）と
は、液晶性化合物中において液晶性をもたせるために必
須の部分を表し、通常メソゲン基（メソゲン単位）とは
剛直な部分のコア、柔軟な部分のスペーサー、末端に位
置する末端基からなるが、液晶性化合物に液晶相を発現
させる構造であれば必ずしも上記の３つのメソゲン基
（メソゲン単位）を全て有している必要はない。

【００５３】以下、正の一軸性棒状液晶性化合物の具体
例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

【００５４】

【化１】

【００５５】

【化２】

【００５６】

【化３】

【００５７】上記の具体例の他に、液晶の化学：季刊
化学総説Ｎｏ．２２，１９９４、日本化学会編（学会出
版センター），４２、４４頁に挙げられている化合物を
用いることが出来る。また、上記記載の正の一軸性を示
す棒状液晶性化合物は、ＴＮセルに使用する通常の棒状
ネマティック液晶などを好適に用いることが出来る。

【００５８】本発明に係る棒状の液晶性化合物として
は、ネマティック液晶相を発現するものが好ましく用い
られる。

【００５９】二軸性の液晶性化合物の具体例としては、
例えば、有機合成化学、第４９巻；第５号（１９９１）
の１２４〜１４３頁に記載の化合物、Ｄ．Ｗ．Ｂｒｕｃ
ｅらの研究報告〔ＡＮ ＥＵ−ＳＰＯＮＳＯＲＥＤ’Ｏ
ＸＦＯＲＤ ＷＯＲＫＳＨＯＰ ＯＮ ＢＩＡＸＩＡＬ
ＮＥＭＡＴＩＣＳ’（Ｓｔ Ｂｅｎｅｔ’ｓ Ｈａｌ
ｌ、Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆ Ｏｘｆｏｒｄ ２０
−２２ Ｄｅｃｅｍｂｅｒ、１９９６）、ｐ１５７−２
９３〕、Ｓ．ＣＨＡＮＤＲＡＳＥＫＨＡＲ等の研究報告
〔Ａ Ｔｈｅｒｍｏｔｒｏｐｉｃ Ｂｉａｘｉａｌ Ｎ
ｅｍａｔｉｃＬｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ；Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，１９８８，Ｖｏ
ｌ．１６５，ｐｐ．１２３−１３０〕、Ｄ．Ｄｅｍｕ
ｓ，Ｊ．Ｇｏｏｄｂｙ等著〔Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ
Ｌｉｑｕｉｄ ＣｒｙｓｔａｌｓＶｏｌ．２Ｂ：Ｌｏｗ
Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｗｅｉｇｈｔ Ｌｉｑｕｉｄ
Ｃｒｙｓｔａｌｓ II、ｐｐ９３３−９４３：ＷＩＬＥ
Ｙ−ＶＣＨ社刊〕等に記載の化合物を用いることが出来
る。

【００６０】本発明に係る液晶性高分子については、特
に制限はないが、正または負の固有複屈折値を有するも
のが好ましい。これらの詳細については、「ＬＩＱＵＩ
ＤＣＲＹＳＴＡＬＳ，１９８９，Ｖｏｌ．５，ＮＯ．
１，ｐｐ．１５９〜１７０」に記載されている。

【００６１】本発明に係る液晶性高分子は大きく分ける
と、前述の通りメソゲン基の組み込まれ型として、主鎖
型、側鎖型がある。また、サーモトロピックとライオト
ロピックにも分類できる。

【００６２】本発明に係る液晶性高分子としては、特に
制限はないが、ネマチック液晶を形成することが好まし
い。また、配向性の点で側鎖型が好ましく、配向固定の
点でサーモトロピックが好ましい。側鎖型液晶性高分子
で用いられる骨格は、ビニル型のポリマー、ポリシロキ
サン、ポリペプチド、ポリホスファゼン、ポリエチレン
イミン、セルロース等が好ましい。

【００６３】本発明では低分子の棒状の重合性液晶性化
合物を用いて光学補償フィルムを製造する際に特に有効
である。

【００６４】本発明に係る配向層（配向性層ともいう）
について説明する。配向性層は、一般に透明支持体上又
は下塗層上に設けられる。配向性層は、その上に設けら
れる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能す
る。そしてこの配向が、光学補償シートから傾いた配向
を与える。配向性層は、光学異方層に配向性を付与でき
るものであれば、どのような層でも良い。配向性層の好
ましい例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）
のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及
びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン
酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及び
ステアリン酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法
（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場ある
いは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げるこ
とができるが、特にこれらに限定されるものではない。
公知の光配向層を用いることも出来る。

【００６５】配向性層形成用の有機化合物としては、例
えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタク
リル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、
ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリル
アミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロ
スルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイ
ミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢
酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリ
エチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポ
リマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げるこ
とができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミ
ド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチ
ン、ポリビルアルコール及びアルキル基（炭素原子数６
以上が好ましい）を有するアルキル変性ポリビルアルコ
ールを挙げることができる。これらのポリマーの層を配
向処理することにより得られる配向性層は、液晶性化合
物を斜めに配向させることができる。

【００６６】中でも、アルキル変性のポリビニルアルコ
ールは特に好ましく、液晶性化合物を均一に配向させる
能力に優れている。これは配向性層表面のアルキル鎖と
液晶性化合物のアルキル鎖との強い相互作用のためと推
察される。また、アルキル基は、炭素原子数６〜１４が
好ましく、更に、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ₃）（ＣＮ）−ま
たは−Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）−ＣＳ−Ｓ−を介してポリビニルア
ルコールに結合していることが好ましい。上記アルキル
変性ポリビニルアルコールは、未端にアルキル基を有す
るものであり、けん化度８０％以上、重合度２００以上
が好ましい。また、上記側鎖にアルキル基を有するポリ
ビニルアルコールは、クラレ（株）製のＭＰ１０３、Ｍ
Ｐ２０３、Ｒ１１３０などの市販品を利用することがで
きる。

【００６７】また、ＬＣＤの配向性層として広く用いら
れているポリイミド膜（好ましくはフッ素原子含有ポリ
イミド）も有機配向性層として好ましい。これはポリア
ミック酸（例えば、日立化成（株）製のＬＱ／ＬＸシリ
ーズ、日産化学（株）製のＳＥシリーズ等）を支持体面
に塗布し、１００〜３００℃で０．５〜１時間焼成した
後、ラビングすることにより得られる。更に、本発明に
係る配向性層は、上記ポリマーに反応性基を導入するこ
とにより、あるいは上記ポリマーをイソシアネート化合
物及びエポキシ化合物などの架橋剤と共に使用して、こ
れらのポリマーを硬化させることにより得られる硬化膜
であることが好ましい。

【００６８】また、前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶
配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用
することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガー
ゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊
維などを用いて一定方向に擦ること（ラビング）により
配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長
さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用
いて数回程度ラビングを行うことにより実施され、これ
によりラビング操作を好適に行うことが出来る。

【００６９】本発明の光学補償シートの配向状態は様々
な液晶層の接触面（例えば、支持体または空気面）の表
面エネルギーや、混合する液晶性化合物の種類の組み合
せによって、そのような、いわゆるハイブリッド配向を
し、その傾斜度合いも変化するため、これらの因子によ
りコントロールできる。例えば、支持体側の前記棒状構
造単位の傾斜角は、前述のように、一般に本発明におい
て用いる液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択する
ことにより、またはラビング処理方法を選択することに
より調整することができる。また、表面側（空気側）の
液晶構造単位の傾斜角は、一般に本発明に用いる液晶性
化合物あるいはこれらとともに使用する他の化合物
（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマ
ー）を選択することにより調整することができる。更
に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整すること
ができる。

【００７０】上記記載の配向性層の中でも、本発明に係
る液晶性化合物をネマティックハイブリッド配向に形成
せしめるのに好適な配向性層としては、ラビングポリイ
ミド含有配向性層、ラビングポリエーテルスルフォン含
有配向性層、ラビングポリフェニレンサルファイド含有
配向性層、ラビングポリエチレンテレフタレート含有配
向性層、ラビングポリエチレンナフタレート含有配向性
層、ラビングポリアリレート含有配向性層、セルロース
系プラスチック含有配向性層を挙げることができる。

【００７１】上記の、液晶性化合物の層には他の化合物
を添加することが出来る。他の化合物としては、例え
ば、界面活性剤及び重合性モノマーがあげられ、本発明
に用いる液晶性化合物と相溶性を有し、前述の本発明に
係る液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、ある
いは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用す
ることができる。これらの中で、重合性モノマー（例、
ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタク
リロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物
は、本発明の液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量
％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて使用される。

【００７２】又、本発明の液晶性化合物層には樹脂を添
加することがもできる。上記樹脂としては、本発明の液
晶性化合物と相溶性を有し、本発明の液晶性化合物に傾
斜角の変化を与えられる限り、どのような樹脂でも使用
することができる。樹脂例としては、セルロースエステ
ルを挙げることができる。セルロースエステルの好まし
い例としては、セルロースアセテート、セルロースアセ
テートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース
及びセルロースアセテートブチレートを挙げることがで
きる。上記樹脂は、本発明の液晶性化合物の配向を阻害
しないように、本発明の液晶性化合物に対して一般に
０．１〜１０質量％（好ましくは０．１〜８質量％、特
に０．１〜５質量％）の量にて使用される。セルロース
アセテートブチレート（酢酸酪酸セルロース）のブチリ
ル化度は、３０％以上、特に３０〜８０％の範囲が好ま
しい。またアセチル化度は３０％以上、特に３０〜８０
％の範囲が好ましい。セルロースアセテートブチレート
の粘度（ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−７２に従う測定により
得られる値）は、０．０１〜２０秒の範囲が好ましい。

【００７３】ラビング方法には、所定形状のマスクを移
動させながらラビングするマスクラビングによる方法
（Ｋ．Ｔａｋａｔｏｒｉ ｅｔ．ａｌ．，”Ａ Ｃｏｍ
ｐｌｅｍｅｔａｒｙ Ｔ ＬＣＤ ｗｉｔｈ Ｗｉｄｅ
−Ｖｉｅｗｉｇ Ａｇｌｅ Ｇｒａｙｓｃａｌｅ”，Ｊ
ａｐａ Ｄｉｓｐｌａｙ’９２，ｐｐ５９１）、複数の
配向膜材料の塗布による方法（Ｔ．Ｋａｍａｄａ ｅ
ｔ．ａｌ．，”Ｗｉｄｅ−Ｖｉｅｗｉｇ Ａｇｌｅ Ｆ
ｕｌｌ−Ｃｏｌｏｒ ＴＦＴ ＬＣＤｓ”，Ｊａｐａ
Ｄｉｓｐｌａｙ’９２，ｐｐ８８６）等がある。マスク
ラビングによる方法と複数の配向膜材料を塗布する方法
は、工程及びプロセスが複雑である。

【００７４】また、これらの方法は、配向膜を形成した
ときの液晶の傾き角度（所謂プレティルト角）を変化さ
せ対称な２つのプレティルト角を形成するのみで、配向
方向が単一であるため、視野角の改善は、所定の方向に
限定される。

【００７５】ラビング法以外の液晶配向制御方法として
は、ＳｉＯ等の斜め蒸着膜を用いる斜方蒸着法（特開昭
５６−６６８２６号等）がある。無機斜方蒸着膜の蒸着
物質としては、ＳｉＯ₂を代表とし、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ₂
等の金属酸化物、あるいはＭｇＦ₂等のフッ化物、さら
にＡｕ、Ａｌ、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物
は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いる
ことができ、上記に限定されない。無機斜方蒸着膜は、
蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム（支
持体）を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを
移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜
を形成することができる。他の方法としては、フォトリ
ソグラフィ等の方法で配向膜表面にグレーティング状の
凹凸を形成するフォトリソ法（特開昭６０−６０６２４
号等）、基板上への累積の際に引上げ方向に高分子鎖を
配向させるＬＢ膜法（特開昭６２−１９５６２２号
等）、イオン等を斜め照射するイオン照射法（特開平３
−８３０１７号等）、液体を斜めから高速に噴射する高
速液体ジェット法（特開昭６３−９６６３１号）、氷片
を斜めから噴射するアイスブラスチング法（特開昭６３
−９６６３０号）、高分子表面にエキシマレーザなどを
照射して周期的な縞模様を形成するエキシマレーザ法
（特開平２−１９６２１９号等）、熱可塑性材料上を電
子線で走査して微細な凹凸を形成する電子線走査法（特
開平４−９７１３０号等）、塗布した配向膜溶液に遠心
力を作用させ高分子鎖を配向させる遠心法（特開昭６３
−２１３８１９号）、すでに配向処理された基材を圧着
することで配向能を転写するスタンプ法（特開平６−４
３４５７号等）、Ｙ．Ｔｏｋｏらによるカイラル剤を添
加することでツイストさせるランダム配向法（Ｊ．Ａｐ
ｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ａ７４（３）、ｐ２０７１（１９９
３））、長谷川らによるポリイミド膜を偏光紫外光で光
分解する光分解法（液晶討論会予稿集、ｐ２３２（記事
番号２Ｇ６０４）（１９９４））などが提案されてい
る。

【００７６】その他、液晶性化合物を配向させる手段と
しては、磁場又は電場が用いられるが、特に本発明のよ
うに液晶分子を斜めに配向させる手段としては、磁場が
好ましい。したがって、高分子マトリクスに液晶性化合
物を混合して高分子マトリクス中に液晶分子を分散さ
せ、これを支持シート上に塗布し、支持シート表面の法
線方向に対して角度をなして外部磁場を加えることによ
り、液晶分子をその方向に配向させることができる。こ
の場合、磁場強度は５００Ｇ以上であることが好ましい
が、液晶の固有粘度の低いものは５００Ｇ以下の磁場で
も配向し得る。

【００７７】本発明に係わる配向膜は、これらの任意の
組み合せが可能であり、特に限定されないが、これらの
配向膜と液晶性化合物の組み合わせを選択することによ
り、後述するようにシートの厚み方向についてシート面
に対し所定の角度（チルト角）を有する液晶性化合物層
を得ることが出来る。

【００７８】次に、本発明に係る液晶性化合物の配向の
固定化について説明する。本発明においては、光学補償
シートの液晶性化合物を配向させて形成した層（光学異
方性層ともいう）をより安定なものにするためには、液
晶性化合物を配向後固定化することが行われる。本発明
に係る液晶性化合物は、配向の固定のために、低分子液
晶同士、あるいは、高分子マトリクスと低分子液晶との
架橋のために、上記のような低分子液晶の末端に、不飽
和結合を有する置換基、活性水素を有する置換基等の反
応性置換基を有するものが好ましい。

【００７９】本発明に係る液晶性化合物の配向状態を固
定化するための方法として、通常知られる全ての方法を
採ることができる。通常、配向の固定は、配向と同時に
行われることが好ましい。例えば、本発明に係る低分子
または高分子の液晶性化合物を液晶相発現温度（例え
ば、室温以上、１００℃以下など、液晶の種類による）
の範囲に維持して液晶層を形成し、これを基板上で配向
させ、速やかに室温まで冷却することにより配向は固定
される。または、本発明に係る液晶性化合物及び他の化
合物を溶剤に溶解した溶液を配向性層上に塗布し、乾燥
し、次いでネマチック相形成温度まで加熱し、その後配
向状態（ネマチック相）を維持して固定化し、冷却する
ことにより得られる。あるいは、本発明に用いる液晶性
化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、
光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布
し、乾燥し、次いでネマチック相形成温度まで加熱した
のち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却し
て得られる。

【００８０】また、その他に配向を固定する方法として
は、不飽和結合を有する液晶性化合物を用いて配向させ
ると同時にあるいは配向させる前に予め、光重合開始剤
あるいは熱重合開始剤を添加して、光あるいは熱により
重合させ、液晶分子の配向を固定する方法、液晶性化合
物分子の末端に、不飽和結合を有する置換基、活性水素
を有する置換基、等の反応性の置換基を有する液晶性化
合物分子を用い、該反応性の置換基を有する液晶性化合
物と高分子マトリクスを熱、光又はｐＨ変化により反応
させて配向を固定化する方法、反応性の置換基を有する
液晶性化合物同士を個々の液晶ドメインの中で架橋する
ことにより配向を固定する方法等があげられるが、本発
明は上記記載の方法に限定されず、様々な公知技術を適
用することができる。

【００８１】上記記載の熱重合開始剤の例としては、ア
ゾ化合物、有機過酸化物、無機過酸化物、スルフィン酸
類等が挙げられ、また、光重合開始剤の例としては、ベ
ンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チ
オキサントン類等が挙げられる。

【００８２】本発明の光学補償シートに係る層構成につ
いて説明する。本発明に係る層構成としては、前述の配
向形態を満たす少なくとも２つの層を有していれば特に
限定されるものではないが、代表例としては以下のよう
な構成が挙げられる。説明のため、複屈折性を有する層
である光学異方性層は、配向された光学的に正の一軸性
である棒状液晶性化合物からなるものとし、分子の光軸
の向きがシート面となす角の変化を説明する場合にはシ
ートのＡ面からＢ面へ一定方向からみたとき「増加」す
るものと「減少」するものを各々、「増加」、「減少」
と記載する。その場合、シートの片側の面（Ａ面）か
ら、 （１） 支持体／「増加」する層／「減少」する層 （２） 支持体／「減少」する層／「増加」する層 （３） 「増加」する層／支持体／「減少」する層 （４） 「減少」する層／支持体／「増加」する層 （５） 支持体／「減少」する層／「増加」する層／支
持体 （６） 支持体／「増加」する層／「減少」する層／支
持体 等が考えられる。「増加」または「減少」する層は複数
あって差し支えない。また、当該「増加」または「減
少」する層は複数の層を組み合わせることにより複合効
果で成立するものであっても良い。

【００８３】（１）および（２）は、支持体上に通常の
プレチルト角（０度より大きく４０度以下）を与える配
向膜を介して液晶性化合物を配向させた層の上に、別の
支持体上で同様に形成させた第二の液晶性化合物を配向
させた層を、例えば粘着剤を介して転写することにより
達成される。また、（５）、（６）は、この方法で支持
体ごと貼り合わせたものである。

【００８４】例えば、この支持体ごと貼り合わせる方法
は、本発明の光学補償シートをさらに容易に作製するこ
とを可能にする。すなわち、支持体上に１層の光学異方
性層を形成した後、これをシート面内における配向方向
に対して略４５度の軸を中心に二つ折りして貼合するこ
とにより作製することができる。ここで略４５度とは、
４０〜５０度、好ましくは４２度から４８度程度の幅を
有してもよいが、要は光学異方性層を形成した支持体を
この角度で二つ折りし貼合する事により、貼り合わされ
た二つの光学異方層の面内の配向方向を直交させる（８
０〜１００度の角度で交差させる）ことができる。勿論
別々に作製した２つのシートを同様に貼り合わせて作製
することも出来る。

【００８５】また、（１）は、別の方法によっても達成
できる。例えば、支持体上に通常のプレチルト角を与え
る前出の配向膜を介して液晶性化合物を配向させた層の
上に、次にホメオトロピック配向を与える配向膜を介し
て液晶性化合物を配向させることにより達成される。

【００８６】（２）についても、同様に第一の液晶性化
合物を配向させた層と第二の層とを逆にすることにより
達成される。

【００８７】（３）（４）は、支持体の両面に同一の性
質の配向膜を介して液晶性化合物を配向させた層を形成
したものであり、各々、ホメオトロピック配向を与える
配向膜、通常のプレチルト角を与える配向膜同士を用い
た場合である。これは、典型的には、支持体の両面に液
晶性化合物を塗設し配向させることにより達成される
が、例えば他の方法として、支持体上に１層の光学異方
性層を形成した後、これをシート面内における配向方向
に対して４５度の軸を中心に支持体を内側にして二つ折
りして貼合することによっても作製することができる。
いずれの層構成をとる場合であっても、平面内における
各々の層のなす面内の配向方向の角度は略９０度であ
る。

【００８８】本発明の光学補償シートを液晶セルに貼合
して使用する場合の配置方法について説明する。

【００８９】配置方向としては、偏光板の透過軸に対し
て、一方の光学異方性層の配向方向に合わせて配置する
ことが好ましい。軸のずれは多少であれば大きくは影響
しないが、一定の効果を維持するためには±５度程度の
ずれに抑える必要があり、より好ましくは±１度以内と
することが望ましい。

【００９０】光学補償シートと液晶セルの配置の関係
は、液晶セルの手前側（観察者側）のラビング方向がパ
ネルの右上−左下方向に４５度の傾斜方向である場合
に、液晶セルの手前側に配置した光学補償シートの光学
異方性層の配向方向は、シート面の手前から順に、第一
の層が面内で右上から左下に向かってシート面とのなす
角が減少していき、第二の層が面内で左上から右下に向
かってシート面とのなす角が増加していくような配置方
法が典型的である。必ずしも、この配置のみに限定され
るものではないが多少の効果の違いが生じ得る。

【００９１】次に、本発明に係る光学異方性層と支持体
との間に配置できる接着層に関して説明する。

【００９２】転写又は貼合によって製造される本発明の
光学補償シートの構成においては、光学異方性層と支持
体のとの接着性を向上させるために、接着性層を設ける
ことが好ましい。たとえば、前述の（１）、（２）、
（５）、（６）等の構成の光学補償シートでは、貼りあ
わせる際に接着性層又は粘着性層が好ましく用いられ
る。また、これらの光学補償シートを液晶パネルに組み
込む際にも少なくとも一方の面に接着性層又は粘着性層
を有することが好ましい。本発明の光学補償シートの構
成においては、好ましくは支持体の一方の側に硬化樹脂
層を設け、その反対側に偏光膜（液晶層）と接着性を向
上させるための接着性層が設けられる。

【００９３】接着性層は１層であっても、２層以上であ
ってもよく、接着性層に易接着性を持たせるためには、
親水性高分子化合物が好ましく用いられる。親水性高分
子化合物としては、例えば−ＣＯＯＨ基含有高分子化合
物、好ましくは−ＣＯＯＨ基含有の酢酸ビニル−マレイ
ン酸共重合体、又は親水性セルロース誘導体、ポリビニ
ルアルコール誘導体、天然高分子化合物、親水性ポリエ
ステル誘導体、ポリビニル誘導体等が挙げられる。

【００９４】本発明の光学補償シートに係る支持体につ
いて説明する。本発明に係る支持体は、好ましくは透明
支持体であり、更に好ましくは、光透過率が８０％以上
より好ましくは光透過率が９２％以上の透明支持体であ
る。本発明に係る支持体は、透明な材料であれば特に限
定されるものではないが、光学的に実質的に等方性のも
のであればシート全体の光学異方性を液晶層でコントロ
ールしやすいため好ましい。又、必要に応じて２軸性支
持体を用いることが出来る。

【００９５】又、光透過率が良好であれば、固有屈折率
が大きい素材でも製膜時に特に正面から見たときに光学
的等方性を有するものが好ましく、例えば、ポリエステ
ルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフ
ィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィル
ム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロ
ースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースア
セテートフタレートフィルム、セルローストリアセテー
ト、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類
又はそれらの誘導体からなるフィルム、ポリ塩化ビニリ
デンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレ
ンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポ
リスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノ
ルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィル
ム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホ
ンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケ
トンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂
フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレー
トフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート
系フィルム等を挙げることができる。これらの素材は単
独であるいは適宜混合されて使用することもできる。中
でもゼオネックス（日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ
（日本合成ゴム（株）製）などの市販品を使用すること
ができる。更に、ポリカーボネート、ポリアリレート、
ポリスルフォン及びポリエーテルスルフォンなどの固有
複屈折率の大きい素材であっても、溶液流延、溶融押し
出し等の条件、更には縦、横方向に延伸条件等を適宜設
定することにより、得ることが出来る。ところで、ＴＮ
型液晶セルは黒表示の時に液晶層中間部の液晶分子が垂
直に配列するため正の１軸性を示すが、この部分の補償
を助けるために、支持体自身が法線方向に光軸を有する
負の１軸性を有するか、さらには面内の屈折率異方性が
異なる２軸性を有しかつ支持体面の法線方向の屈折率が
さらに小さい値であることがさらに有効である（ｎｘ≠
ｎｙ＞ｎｚ、ここでｎｘ；支持体平面内の一方向、ｎ
ｙ；支持体平面内のｎｘに直交する方向、ｎｚ；支持体
の厚み方向）。このような特性を得やすい材料として
は、セルロースエステルが好ましく用いられる。

【００９６】本発明の支持体は面内リターデーションＲ
₀が２０ｎｍ未満であることが好ましく、更に５ｎｍ未
満であることが特に好ましい。最も好ましくは０〜１ｎ
ｍである。リターデーションは自動複屈折率計ＫＯＢＲ
Ａ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、５
９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得
られた屈折率ｎｘ，ｎｙ，ｎｚから算出することができ
る。ここでｎｘは支持体面内の遅相軸方向の屈折率、ｎ
ｙは支持体面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚは膜厚方向
の屈折率、ｄは膜厚（ｎｍ）を意味する。

【００９７】Ｒ₀＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ Ｒ_t＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ 又、膜厚方向のレターデーション値Ｒ_tは０〜３００ｎ
ｍのものを用いることが好ましく、更に４０〜３００ｎ
ｍのものが好ましく、特に８０〜２００ｎｍの支持体が
好ましく用いられる。

【００９８】本発明の光学補償シートの支持体は、面内
の遅相軸方向とフィルムの長尺方向とのなす角度θ（ラ
ジアン）と面内のレターデーションＲ₀が下記の関係に
あるものが、得られた光学補償シート光学補償能に優れ
るため特に好ましく用いられる。

【００９９】 Ｐ≦１−ｓｉｎ²（２θ）・ｓｉｎ²（πＲ₀／λ） Ｐは０．９９９、λはＲ₀及びθを求めるための三次元
屈折率測定の際の光の波長５９０ｎｍを表す。好ましく
はＰが０．９９９９で上記関係を満たすことであり、よ
り好ましくは、Ｐが０．９９９９９で上記関係を満たす
ことである。

【０１００】又、セルロースエステルを有する支持体で
は、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、そ
の間に前記支持体をおき、一方の偏光板の側から光を当
てて、他方の偏光板の側から観察したときに、裏面の光
源の光が漏れてくる輝点が観察されることがある。

【０１０１】本発明の光学補償シートに用いられる支持
体は、粒径が０．０５ｍｍ以上である輝点の数が実質的
に存在しないことが好ましく、０．０１ｍｍ以上である
輝点の数が１００個／ｃｍ²以下である事が好ましい。
より好ましくは５０個／ｃｍ²以下であり、更に好まし
くは０〜１０個／ｃｍ²以下である。更に好ましくは粒
径が０．００１〜０．０１ｍｍである輝点の数が１００
個／ｃｍ²以下であり、より好ましくは０〜１０個／ｃ
ｍ²以下である。

【０１０２】本発明の光学補償シートの支持体には主に
セルロースエステルを含む支持体が好ましく、中でも炭
素数２〜４のアシル基を有するセルロースエステルが特
に好ましく、その総アシル基置換度が２．３０以上２．
８０以下のセルロースエステルが配向膜及び重合性液晶
性化合物を塗設する支持体として特に好ましい。セルロ
ースエステルとしてはセルロースアセテート、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピ
オネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチ
レート、セルロースアセテートプロピオネートが好まし
く用いられる。

【０１０３】特に本発明のように複数の重合性液晶性化
合物を塗設する支持体の場合、平均総アシル基置換度が
２．３０未満では配向層及び重合性液晶性化合物から形
成される層を塗設する際に配向を阻害したり、又、塗布
の際の溶媒の影響などにより機械強度が低下するため好
ましくなく、総アシル基置換度が２．９０を超えると、
視野角拡大のための効果が低下する傾向があるため好ま
しくない。より好ましくは２．８０以下であり、更に好
ましくは平均総アシル基置換度が２．４５以上２．７５
以下であることが好ましい。すなわち、これらはセルロ
ース中のグルコース残基の２位、３位もしくは６位にエ
ルテル化されていない未置換の水酸基を有するセルロー
スエステルであることが好ましく、特にセルロースアセ
テート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロ
ースアセテートブチレート、が挙げられる。これらは単
独であるいは適宜混合されて使用することができる。中
でも特に好ましくは平均アセチル置換度が２．０以下の
セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテー
トプロピオネートが好ましく用いられる。

【０１０４】本発明に係る支持体としてセルロースエス
テルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロ
ースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材
パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフなどを挙げ
ることが出来る。またそれらから得られたセルロースエ
ステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来
る。これらのセルロースエステルは、セルロース原料を
アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、
無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチ
レンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロ
トン性触媒を用いて反応させてえることができる。

【０１０５】アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ₃ＣＯＣ
ｌ、Ｃ₂Ｈ₅ＣＯＣｌ、Ｃ₃Ｈ₇ＣＯＣｌ）の場合には、触
媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行
われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載
の方法等を参考にして合成することが出来る。また、本
発明に係るセルロースエステルは各置換度に合わせて上
記アシル化剤量を調製混合して反応させたものであり、
セルロースエステルはこれらアシル基がセルロース分子
の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニ
ットが多数連結したものからなっており、グルコースユ
ニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシ
ル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例え
ば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの
３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際に
は２．６〜３．０）。

【０１０６】本発明に係るセルロースエステルとして
は、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、またはセルロースアセテートプ
ロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロ
ピオネート基あるいはブチレート基が結合したセルロー
スエステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレー
トを形成するブチリル基としては、直鎖状でも、分岐し
ていてもよい。

【０１０７】プロピオネート基を置換基として含むセル
ロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶
画像表示装置用のフィルムとして有用である。

【０１０８】アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−
Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することが出来る。

【０１０９】本発明に係るセルロースエステルの数平均
分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した
場合の機械的強度が強く、且つ、適度なドープ粘度とな
り好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，
０００である。

【０１１０】本発明に用いられるこれらセルロースエス
テルは後述するように一般的に流延法と呼ばれるセルロ
ースエステル溶解液（ドープ）を例えば、無限に移送す
る無端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラムの流延
用支持体（以降、単に支持体ということもある）上に加
圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する
方法で製造されるが、これらドープの調製に用いられる
有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、か
つ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレン
クロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ア
セトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、
１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、
２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３
−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフル
オロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘ
キサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，
１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノー
ル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパ
ノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダ
ゾリジノン等を挙げることが出来るが、メチレンクロラ
イド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢
酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒
（即ち、良溶媒）として挙げられる。

【０１１１】また、下記の製膜工程に示すように、溶媒
蒸発工程において支持体上に形成されたウェブ（ドープ
膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防
止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、
３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の
沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸
メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（５６．３
℃）、酢酸エチル（７６．８２℃）等である。

【０１１２】上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れる
メチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、
特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量
％以上含まれていることが好ましい。

【０１１３】上記有機溶媒の他に、０．１〜３０質量％
の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好
ましい。特に好ましくは１０〜３０質量％で前記アルコ
ールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のド
ープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコ
ールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化
し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを
容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらが割
合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステル
の溶解を促進する役割もある。

【０１１４】炭素原子数１〜４のアルコールとしては、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることが出来る。

【０１１５】これらのうちドープの安定性、沸点も比較
的低く、乾燥性も良く、且つ毒性の面からエタノールが
好ましい。好ましくはメチレンクロライド７０〜９０質
量％に対してエタノール１０〜３０質量％を含む溶媒を
用いることが好ましい。環境上の制約でハロゲンを含む
溶媒を避ける場合は、メチレンクロライドの代わりに酢
酸メチルを用いることもできる。

【０１１６】本発明の光学補償シートに用いられる支持
体には可塑剤を含有するのが好ましい。

【０１１７】本発明に係る可塑剤としては、リン酸エス
テル、カルボン酸エステルが好ましく用いられ、特に融
点が２５℃以下の可塑剤を含むことが好ましく、更に
は、例えば、セルロースエステルフィルムは融点が２５
℃未満の可塑剤と２５℃以上の可塑剤を併用して含有す
ることが好ましい。

【０１１８】可塑剤としては特に限定はないが、リン酸
エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート
（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）、ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチル
エチルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェー
ト、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフ
ェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリ
ブチルホスフェート等が挙げられる。

【０１１９】カルボン酸エステル系可塑剤としては、フ
タル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的なもの
である。フタル酸エステルの例としては、ジメチルフタ
レート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジ
ブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート
（ＤＯＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨ
Ｐ）、エチルフタリルエチルグリコレート等が用いられ
る。

【０１２０】クエン酸エステル系可塑剤としては、クエ
ン酸アセチルトリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびクエン酸
アセチルトリブチル（ＯＡＣＴＢ）が用いられる。

【０１２１】グリコール酸エステル系可塑剤としては、
トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグ
リコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチ
ルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチル
グリコレート等を単独あるいは併用するのが好ましい。

【０１２２】その他のカルボン酸エステルの例には、オ
レイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシ
ン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれ
る。

【０１２３】本発明においては、リン酸エステル系の可
塑剤と融点２５℃未満の可塑剤を併用することが寸法安
定性、耐水性に優れるため特に好ましい。

【０１２４】本発明に係る融点２５℃未満の可塑剤とし
ては、融点が２５℃未満であれば特に限定されず、上記
可塑剤の中から選ぶことができる。例えば、トリクレジ
ルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、ト
リブチルホスフェート、ジエチルフタレート、ジメチル
フタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、トリアセチ
ン、エチルフタリルエチルグリコレート等をあげること
ができる。これらの可塑剤を単独あるいは併用するのが
好ましい。

【０１２５】本発明において用いられる融点が２５℃未
満の可塑剤は、特に融点が−５〜２５℃であることが好
ましい。

【０１２６】本発明に係る融点が２５℃以上の可塑剤と
しては、例えば、ジエトキシエチルフタレート（融点３
４℃）、トリフェニルホスフェート（融点４８．５
℃）、ベンゾフェノン（融点４８℃）、樟脳（融点１５
２℃）、ｏ−クレジル−ｐ−トルエンスルホネート（５
２．５℃）、シクロヘキシル−ｐ−トルエンスルホンア
ミド（８６℃）、メチルベンゾイルベンゾエート（５２
℃）、エチルベンゾイルベンゾエート（融点５８℃）等
が挙げられる。

【０１２７】本発明中の融点とは、共立出版株式会社出
版の化学大事典に記載されている真の凝固点を融点とし
ている。

【０１２８】本発明においては、融点が２５℃以上の可
塑剤と融点が２５℃未満の可塑剤のセルロースエステル
フィルム中の合計の含有量としては、１〜２０質量％で
あることが好ましい。

【０１２９】これらの可塑剤の使用量は、更に好ましく
は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステ
ルに対して１〜１５質量％が好ましい。光学補償シート
用支持体としては、寸法安定性の観点から５〜１５質量
％が更に好ましく、特に好ましくは、７〜１２質量％で
ある。

【０１３０】全可塑剤のうち融点が２５℃未満の可塑剤
の占める割合は多い方が、セルロースエステルフィルム
においては柔軟性が良化し加工性に優れるため好まし
い。

【０１３１】融点が２５℃未満の可塑剤をセルロースエ
ステルに対して１質量％以上使用することにより、セル
ロースエステルフィルムの柔軟性が良化し加工性に優れ
るため好ましい。１４℃未満の可塑剤を使用すると加工
性がさらに良く好ましい。

【０１３２】加工性とはベースフィルムや液晶表示部材
をスリット加工や打ち抜き加工する際のことで、加工性
が悪いと切断面がノコギリ状になり切り屑が発生し、製
品に付着して欠陥となるため好ましくない。

【０１３３】本発明で用いられる支持体に係る紫外線吸
収剤について説明する。本発明の光学補償シートに用い
られる支持体としては、液晶等の劣化防止の観点から、
紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

【０１３４】紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。

【０１３５】本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤
の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル
系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレー
ト系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
又、特開平６−１４８４３０記載の高分子紫外線吸収剤
も好ましく用いられる。

【０１３６】ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として
は下記一般式〔１〕で示される化合物が好ましく用いら
れる。

【０１３７】

【化４】

【０１３８】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄及びＲ₅は同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ
基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しく
はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員
の複素環基を表し、Ｒ₄とＲ₅は閉環して５〜６員の炭素
環を形成してもよい。

【０１３９】また、上記記載のこれらの基は、任意の置
換基を有していて良い。以下に本発明に係る紫外線吸収
剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されな
い。

【０１４０】ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，
４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）
−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェノール） ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−
ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾト
リアゾール ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェ
ノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製） ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチル
ヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２
−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵ
ＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製） 上記の中で、融点が２０℃以下の紫外線吸収剤として
は、ＵＶ−８が融点が−５６℃であり、ＵＶ−９が常温
（２５℃）で黄色透明な粘稠液体である。

【０１４１】また本発明に係る紫外線吸収剤のひとつで
あるベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式
〔２〕で表される化合物が好ましく用いられる。

【０１４２】

【化５】

【０１４３】式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子または
アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェ
ニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及び
フェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原
子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロア
ルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル
基又は−ＣＯ（ＮＨ）_n-1−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル
基、アルケニル基又は置換基を有していてもよいフェニ
ル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

【０１４４】上記において、アルキル基としては、例え
ば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表
し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までの
アルコキシル基で、アルケニル基としては例えば、炭素
数１６までのアルケニル基で例えばアリル基、２−ブテ
ニル基などを表す。又、アルキル基、アルケニル基、フ
ェニル基への置換分としてはハロゲン原子、例えば、塩
素原子、臭素原子、フッ素原子など、ヒドロキシル基、
フェニル基、（このフェニル基にはアルキル基又はハロ
ゲン原子などを置換していてもよい）などが挙げられ
る。

【０１４５】以下に一般式〔２〕で表されるベンゾフェ
ノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定
されない。

【０１４６】ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５
−ベンゾイルフェニルメタン） 本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤
は、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優
れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノ
ン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ない
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用い
られる。

【０１４７】又、本発明の支持体に用いられる紫外線吸
収剤は特願平１１−２９５２０９号に記載されている分
配係数が９．２以上の紫外線吸収剤を含むことが、支持
体の面品質に優れ、配向層の配向阻害も少なく、塗布性
にも優れ好ましく、特に分配係数が１０．１以上の紫外
線吸収剤を用いることが好ましい。

【０１４８】本発明に係る紫外線吸収剤添加液の添加方
法としては、下記に記載の方法が挙げられる。

【０１４９】《添加方法Ａ》紫外線吸収剤添加液の調製
方法としては、メチルアルコール、エチルアルコール、
酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、ジオキソ
ランなどの有機溶剤あるいはこれらの混合溶媒に紫外線
吸収剤を溶解してから直接ドープ組成中に添加する。

【０１５０】《添加方法Ｂ》紫外線吸収剤添加液の調製
方法としては、メチルアルコール、エチルアルコール、
酢酸メチル、アセトン、メチレンクロライド、ジオキソ
ラン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどの
有機溶剤あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤と少
量のセルロースエステルを溶解してからインラインミキ
サーでドープに添加する。

【０１５１】本発明においては、添加方法Ｂの方が、紫
外線吸収剤の添加量を容易に調整できるため、生産性に
優れていて好ましい。

【０１５２】紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使
用条件などにより一様ではないが、通常はセルロースエ
ステルフィルム１ｍ²当り、０．１〜５．０ｇが好まし
く、０．２〜２．０ｇがさらに好ましく、０．５〜１．
０ｇが特に好ましい。

【０１５３】本発明の光学補償シートに用いられる支持
体には、滑り性付与などの目的のため微粒子を添加する
こともできる。係る微粒子としては、無機化合物の微粒
子または有機化合物の微粒子が挙げられる。

【０１５４】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭
酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケ
イ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミ
ニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が
好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や
酸化ジルコニウムであるが、セルロースエステル積層フ
ィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素が特に好ま
しく用いられる。

【０１５５】二酸化珪素の微粒子としては、例えば、ア
エロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、
２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ
６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使
用できる。

【０１５６】酸化ジルコニウムの微粒子としては、例え
ば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロ
ジル（株）製）等の市販品が使用できる。

【０１５７】有機化合物としては、例えば、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。

【０１５８】上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に
三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、ト
スパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１
４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン
（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

【０１５９】本発明に係る微粒子の１次平均粒子径とし
ては、ヘイズを低く抑えるという観点から、２０ｎｍ以
下が好ましく、更に好ましくは、１６〜５ｎｍであり、
特に好ましくは、１２〜５ｎｍである。

【０１６０】本発明に係る微粒子の１次平均粒子径の測
定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で
粒子を観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値
をもって、１次平均粒子径とした。

【０１６１】又、これらが凝集した２次粒子の粒径とし
ては０．１〜１０μｍである粒子を有することが好まし
く、０．２〜５μｍの粒子有することが好ましく平均粒
径として０．３〜２μｍの粒子を有することが好まし
い。

【０１６２】微粒子の、見掛比重としては、７０ｇ／リ
ットル以上が好ましく、更に好ましくは、９０〜２００
ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００
ｇ／リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分
散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化す
るため好ましく、また、固形分濃度の高いドープを調製
する際には、特に好ましく用いられる。

【０１６３】１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比
重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例え
ば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１
０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得る
ことができる。また例えばアエロジル２００Ｖ、アエロ
ジルＲ９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品
名で市販されており、それらを使用することができる。

【０１６４】本発明において、上記記載の見掛比重は二
酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時
の重さを測定し、下記式で算出した。

【０１６５】見掛比重（ｇ／リットル）＝二酸化珪素質
量（ｇ）÷二酸化珪素の容積（リットル） 本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、
例えば以下に示すような３種類が挙げられる。

【０１６６】《調製方法Ａ》溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。微粒子分散液をドープ液に加えて撹拌する。

【０１６７】《調製方法Ｂ》溶剤と微粒子を撹拌混合し
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌
溶解する。これに前記微粒子分散液を加えて撹拌する。
これを微粒子添加液とする。微粒子添加液をインライン
ミキサーでドープ液と十分混合する。

【０１６８】《調製方法Ｃ》溶剤に少量のセルロースエ
ステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分
散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。微粒子
添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合す
る。

【０１６９】調製方法Ａは二酸化珪素微粒子の分散性に
優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい
点で優れている。中でも、上記記載の調製方法Ｂは二酸
化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集し
にくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。

【０１７０】《分散方法》二酸化珪素微粒子を溶剤など
と混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０
質量％が好ましく、１０〜２５質量％がさらに好まし
く、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い
方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘ
イズ、凝集物が良化するため好ましい。

【０１７１】使用される溶剤は低級アルコール類として
は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒
としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

【０１７２】セルロースエステルに対する二酸化珪素微
粒子の添加量はセルロースエステル１００質量部に対し
て、二酸化珪素微粒子は０．０１〜０．３質量部が好ま
しく、０．０５〜０．２質量部がさらに好ましく、０．
０８〜０．１２質量部が最も好ましい。添加量は多い方
が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低
く、凝集物も少ない点が優れている。

【０１７３】分散機は通常の分散機が使用できる。分散
機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機
に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレ
ス分散機がヘイズが低く好ましい。

【０１７４】メディア分散機としてはボールミル、サン
ドミル、ダイノミルなどがあげられる。

【０１７５】メディアレス分散機としては超音波型、遠
心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散
装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合
した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断
や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧
分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μ
ｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８０７ＭＰ
ａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６
１３ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１
００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／
時間以上に達するものが好ましい。

【０１７６】上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏ
ｆｌｕｉｄｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧
ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいは
ナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴー
リン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等が挙げ
られる。

【０１７７】本発明の支持体の表面層（表面から１０μ
ｍ以内の領域）には微粒子を含有することが好ましい
が、その為に後述するように支持体が、少なくとも一方
の面の表面層に微粒子を有する積層構造を有するもので
あることが好ましい。

【０１７８】このように支持体に微粒子を添加すること
が出来るが、支持体表面の微粒子の凝集物による重合性
液晶層の欠陥が問題となることがあるため、より好まし
くは支持体には微粒子を添加せずに後述のバックコート
層に微粒子を添加する方法が望ましい。

【０１７９】上記記載のセルロースエステルと有機溶
媒、その他の添加物を用いて、次のように製膜を行う。

【０１８０】なお、本発明において、セルロースエステ
ル溶液のことをセルロースエステルドープまたは単にド
ープという。

【０１８１】本発明のセルロースエステルフィルムの製
造方法に用いられる製膜工程は、下記に示す溶解工程、
流延工程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾燥工程及び巻き
取り工程からなる。以下に各々の工程を説明する。

【０１８２】《溶解工程》セルロースエステルのフレー
クに、上記記載の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中
で該フレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する
工程である。原料の一部にセルロースエステルフィルム
の断裁屑を任意の割合で用いることができる。これらの
利用は廃材のリサイクルという点で望ましいというだけ
でなく、可塑剤等の添加物を含んでいるため、溶解性に
優れ、溶解時間短縮に寄与することができる。

【０１８３】ドープ中の固形分濃度は２１．０質量％以
上であることが好ましく、カールが少ないフィルムが得
られ、製造中のロール汚れを著しく低減できるが、更に
その効果を得るためには、固形分濃度としては２２．０
質量％以上が好ましく、更に好ましくは２３質量％以上
である。

【０１８４】ドープ中の固形分濃度の上限は特にない
が、あまり高すぎるとドープの粘度が高くなりすぎ、流
延時にシャークスキンなどが生じてフィルム平面性が劣
化する場合があるので、通常４０質量％が上限である。

【０１８５】ドープ粘度は１０〜５０Ｐａ・ｓの範囲に
調製されることが好ましい。溶解には、常圧で行う方
法、上記記載のような好ましい有機溶媒（即ち、良溶
媒）の沸点以下で行う方法、上記記載の良溶媒の沸点以
上で加圧して行う方法、冷却溶解法で行う方法、高圧で
行う方法等種々の溶解方法等がある。良溶媒の沸点以上
の温度で、かつ沸騰しない圧力をかけて溶解する方法と
しては、４０．４〜１２０℃で０．１１〜１．５０ＭＰ
ａに加圧することで沸騰を抑え、かつ、短時間に溶解す
ることができる。

【０１８６】本発明に係る溶解工程において用いられる
溶媒としては、単独でも併用でもよいが、良溶剤と貧溶
剤を混合して使用することが、生産効率の点で好まし
く、更に好ましくは、良溶剤と貧溶剤の混合比率は良溶
剤が７０〜９５質量％であり、貧溶剤が３０〜５質量％
である。

【０１８７】本発明に用いられる良溶剤、貧溶剤とは、
使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良
溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤
と定義している。そのため、セルロースエステルの結合
酢酸量によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばア
セトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステ
ルの結合酢酸量５５％では良溶剤になり、結合酢酸量６
０％では貧溶剤となる。

【０１８８】また、本発明に用いられる貧溶剤として
は、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノー
ル、シクロヘキサン等が好ましく用いられる。

【０１８９】冷却溶解方法としては、例えば特開平９−
９５５３８号、同９−９５５４４号、同９−９５５５７
号に記載の方法を使用することが出来る。また、特開平
１１−２１３７９号に記載の高圧溶解方法も好ましく使
用出来る。

【０１９０】溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポ
ンプで次工程に送ることが好ましく、また、その際、ド
ープ中に、可塑剤、酸化防止剤、染料、マット剤等も添
加されることがある。

【０１９１】これらの化合物は、前述のようにセルロー
スエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶
媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加
してもよい。また液晶画面表示装置用には耐熱耐湿性を
付与する可塑剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤、マット剤
などを添加することが好ましい。

【０１９２】例えば、セルロースエステル、可塑剤、良
溶媒、貧溶媒を添加混合してセルロースエステル溶液を
調製した後、別途調製した紫外線吸収剤及び分散された
マット剤、貧溶媒、良溶媒などからなる添加液をインラ
インで添加混合して得たドープを流延することができ、
この方法は連続製膜中に紫外線吸収剤量及びマット剤量
の添加量を調製することができるため特に好ましい。

【０１９３】添加剤として、酸化防止剤としては、ヒン
ダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリ
チル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレ
ングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，
６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、
２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，
５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）−イソシアヌレイト等が挙げられる。特に２，６
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレン
グリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好まし
い。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕
ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等
のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物
の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で１
ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが
更に好ましい。

【０１９４】また、この他、カオリン、タルク、ケイソ
ウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタ
ン、アルミナ等の無機微粒子、カルシウム、マグネシウ
ムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤を加えて
もよい。

【０１９５】更に帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤等も
加えることができる。調製されたドープは、濾過により
異物が除去されることが望ましい。特に、濾水時間が２
０秒以上、より好ましくは３０秒以上、特に好ましくは
４０〜２００秒の濾紙を用い、かつ１．６ＭＰａ以下好
ましくは１．２ＭＰａ以下、更に好ましくは１．０ＭＰ
ａ以下、特に好ましくは０．２ＭＰａ以下の濾過圧力で
濾過することが、製膜された支持体の輝点異物を少なく
できるため特に好ましい。ここでいう、濾水時間はＪＩ
Ｓ Ｐ３８０１ ７．５に準拠して測定するものであっ
て、ヘルツベルヒ濾過速度試験器を用い、１０ｃｍ²の
面積に蒸留水（１００ｍｌ，２０℃）が水柱１００ｍｍ
Ｈ₂Ｏの圧力によって濾過される時間で表されるもので
ある。又、濾過圧力とは濾過装置前後での差圧を意味す
る。濾材はセルロース繊維あるいはポリエチレン繊維も
しくはポリプロピレン繊維あるいはフッ素樹脂繊維、金
属繊維などからなるものが好ましく用いられる。又、同
様の素材からなる絶対濾過精度１〜１０μｍ程度のサー
フェイスタイブあるいはデプスタイプのカートリッジフ
ィルター等を用いることもできる。

【０１９６】《流延工程》ドープを加圧型定量ギヤポン
プを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、無限
に移送する無端の金属ベルトあるいは回転する金属ドラ
ムの流延用支持体（以降、単に支持体ということもあ
る）上に加圧ダイからドープを流延する工程である。流
延用支持体の表面は鏡面となっている。

【０１９７】その他の流延する方法は流延されたドープ
膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、あ
るいは逆回転するロールで調節するリバースロールコー
ターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を
調整でき、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加
圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、
何れも好ましく用いられる。製膜速度として、３０〜１
５０ｍ／分に調整することが好ましい。

【０１９８】製膜速度を上げるために加圧ダイを流延用
支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層して
もよい。

【０１９９】《溶媒蒸発工程》ウェブ（本発明において
は、流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドー
プ膜をウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し溶媒を
蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ
側から風を吹かせる方法及び／または支持体の裏面から
液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱
する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率が
好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。

【０２００】《剥離工程》支持体上で溶媒が蒸発したウ
ェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥
離されたウェブは次工程に送られる。

【０２０１】剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下
記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に支
持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェ
ブの一部が剥がれたりする。

【０２０２】支持体上の剥離位置における温度は、好ま
しくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは１１〜３０
℃である。また、剥離を容易にする観点から、該剥離位
置におけるウェブの残留溶媒量は２０〜１５０質量％が
好ましく、更に好ましくは４０〜１００質量％である。

【０２０３】本発明に係るウェブの残留溶媒量は下記式
で定義される。 残留溶媒量＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱
処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００％ 尚、残留溶媒量を測定する際の、加熱処理とは、１１５
℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

【０２０４】上記のように剥離時の残留溶媒量に調整す
るには、流延後の流延用支持体の表面温度を制御し、ウ
ェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流
延用支持体上の剥離位置における温度を上記記載の温度
範囲に設定することが好ましい。支持体温度を制御する
には、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例
えば、液体による裏面伝熱方法が好ましい。

【０２０５】輻射熱や熱風等による伝熱方法は支持体温
度のコントロールが難しく、好ましい方法とはいえない
が、ベルト（支持体）マシンにおいて、移送するベルト
が下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベルト温
度を調節することが出来る。

【０２０６】支持体の温度は、加熱手段を分割すること
によって、部分的に支持体温度を変えることが出来、流
延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度
とすることが出来る。

【０２０７】製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
出来る）として、残留溶媒が多くとも剥離出来るゲル流
延法（ゲルキャスティング）がある。

【０２０８】それは、ドープ中にセルロースエステルに
対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方
法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。

【０２０９】また、ドープ中に金属塩を加える方法もあ
る。支持体上でゲル化させ膜を強くすることによって、
剥離を早め製膜速度を上げることが出来る。

【０２１０】残留溶媒量がより多い時点で剥離する場
合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なった
り、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速
度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。

【０２１１】支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力
は、通常１９６〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われるが、セ
ルロースエステルの単位質量あたりの紫外線吸収剤の含
有量が多く、且つ、セルロースエステルフィルムを従来
よりも薄膜化する場合等、剥離の際にシワが入りやすい
ため、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍで剥離す
ることが好ましく、更に好ましくは、最低張力〜１３
７．２Ｎ／ｍで剥離することである。更に好ましくは最
低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離することである。剥離張力
が低いほど面内リターデーションＲ₀が低く保てるため
好ましい。

【０２１２】《乾燥工程》ウェブを千鳥状に配置したロ
ールに交互に通して搬送する乾燥装置及び／またはクリ
ップやピンでウェブの両端を保持して搬送するテンター
装置を用いて幅保持しながら、ウェブを乾燥する工程で
ある。

【０２１３】乾燥工程における搬送張力も可能な範囲で
低めに維持することがＲ₀が低く維持できるため好まし
く、１９０Ｎ／ｍ以下であることが好ましい。更に好ま
しくは１７０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく、更に好
ましくは１４０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく１００
〜１３０Ｎ／ｍであることが特に好ましい。特に、フィ
ルム中の残留溶媒量が少なくとも５質量％以下となるま
で上記搬送張力以下に維持することが効果的である。

【０２１４】乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせ
るのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブ
を当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来
上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥
は残留溶媒量が８質量％以下くらいから行うのがよい。

【０２１５】全体を通し、通常乾燥温度は４０〜２５０
℃で、７０〜１８０℃がより好ましい。使用する溶媒に
よって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使
用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥条件を適宜選べばよ
い。

【０２１６】流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程
では、溶媒の蒸発によってウェブは幅方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥すること
が、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上で好
ましい。

【０２１７】この観点から、例えば、特開昭６２−４６
６２５号に示されているような乾燥全工程あるいは一部
の工程を幅方向にクリップでウェブの幅両端を幅保持し
つつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる）が好ま
しい。

【０２１８】尚、この様に幅保持しながら乾燥すること
で得られるフィルムのカールが小さくできる効果が得ら
れることが分かった。このとき幅手方向の延伸倍率は×
１．０１〜×１．１５であることが好ましく、×１．０
３〜×１．１０であることが更に好ましい。

【０２１９】テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量
は、テンター開始時に、５０質量％以下、より好ましく
は３５質量％以下であることが好ましく、且つ、ウェブ
の残留溶媒量が１０質量％以下になるまでテンターをか
けながら乾燥を行う事が好ましく、更に好ましくは５質
量％以下であるまた、セルロースエステルフィルムの乾
燥工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に
乾燥し、残留溶媒量を３質量％以下にすることが好まし
い、更に好ましくは、０．５質量％以下であり、特に好
ましくは０．１質量％以下である。

【０２２０】フィルム乾燥工程では一般にロール懸垂方
式か、ピンテンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥
する方式が採られる。液晶表示部材用としては、ピンテ
ンター方式で幅を保持しながら乾燥させることが、寸法
安定性を向上させるために好ましい。特に支持体より剥
離した直後の残留溶剤量の多いところで幅保持を行うこ
とが、寸法安定性向上効果をより発揮するため特に好ま
しい。フィルムを乾燥させる手段は特に制限なく、一般
的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。
簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０
〜１５０℃の範囲で３〜５段階の温度に分けて、段々高
くしていくことが好ましく、８０〜１４０℃の範囲で行
うことが寸法安定性を良くするためさらに好ましい。

【０２２１】《巻き取り工程》ウェブ中の残留溶媒量が
２質量％以下となってからセルロースエステルフィルム
として巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％
以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得
ることが出来る。

【０２２２】巻き取り方法は、一般に使用されているも
のを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テー
パーテンション法、内部応力一定のプログラムテンショ
ンコントロール法等があり、それらを使いわければよ
い。

【０２２３】セルロースエステルフィルム支持体の膜厚
は、光学補償シートの構成あるいは仕様によって異なる
が、仕上がりフィルムとして、通常５〜５００μｍの範
囲にあり、更に２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特
に３０〜１５０μｍの範囲が好ましく用いられる。光学
補償シートの支持体としては特定のＲｔを有する支持体
が求められるが、Ｒｔはフィルム膜厚を変更することに
よって、所望のＲｔを有する支持体を得ることが出来
る。又、同じ膜厚であっても、使用するセルロースエス
テルの平均アシル基置換度を変更することによっても調
整することができ、流延から乾燥の条件を変更すること
によっても調整することができる。又、添加剤の種類や
量によっても調整することが出来る。

【０２２４】膜厚の調節には、所望の厚さになるよう
に、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリッ
ト間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等を
コントロールするのがよい。

【０２２５】また、膜厚を均一にする手段として、膜厚
検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情
報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好
ましい。溶液流延製膜法を通しての流延直後から乾燥ま
での工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とする
のもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス雰囲気
で行ってもよい。

【０２２６】ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒の爆発限界
の危険性は常に考慮されなければならないことは勿論の
ことである。

【０２２７】本発明の別の実施態様では、支持体の両端
部にエンボス加工を付与させた長尺ロールを提供する。
これにより、ロール状に巻かれた長尺フィルム上に、配
向膜を付与する際、あるいはさらに重合性液晶性化合物
を塗設する際に生じていたムラが著しく減少した。ムラ
の原因は完全に特定はされていないが、これはロール状
長尺フィルムの剥離帯電、搬送中の帯電によるものが一
因と考えられる。特に長尺ロールから配向膜の形成、重
合性液晶性化合物の塗設を巻き取り無しで連続的に行う
場合には更に効果が認められた。又、本発明の光学補償
シートでは硬化樹脂層（例えば重合性液晶から形成され
た光学異方性層）の上に別の重合性液晶から形成された
光学異方性層設けた構成を有するが、１つ目の硬化樹脂
層（配向層及び重合性液晶性化合物層）を設け、巻き取
ったロールに、２層目の配向層と重合性液晶層を設ける
場合、更に剥離帯電の影響が大きく問題であった。ある
いは１つの配向層及び重合性液晶性化合物層を設け、巻
き取ったロールフィルム同士を張り合わせるとき、もし
くは一方のロールフィルム上に重合性液晶性化合物層を
転写する際にも、しわや空気の抱き込み、異物を巻き込
む事による故障などが少なくなるなど、支持体の両端部
にエンボス加工を付与させることによって、その影響を
著しく軽減させることができたのである。

【０２２８】特に、支持体の片側に重合性液晶層を２層
以上設ける場合、あるいは両側に各々１層以上設ける場
合で著しい効果が認められた。

【０２２９】エンボス加工の幅は５〜４０ｍｍが好まし
く、より好ましくは７〜１５ｍｍである。フィルム端部
から０〜５０ｍｍの部分にエンボス加工が施されている
ことが好ましく、エンボスの形態は問わないが、一ヶ所
に加工するエンボスの条数は、一条でも二条でもそれ以
上であってもかまわない。両端部になされていることが
特に好ましい。

【０２３０】エンボス加工の高さは２〜８０μｍである
ことが好ましく、更に５〜５０μｍであることが好まし
く、７〜２５μｍであることが特に好ましい。エンボス
加工は高すぎると巻き乱れや、ロール端部の盛り上がり
など、フィルム端部にひずみを与えてしまうため好まし
くない。又、低すぎると配向の乱れを抑制する効果に乏
しくなる。樹脂フィルム厚みの１〜２５％の範囲で高さ
を調節することが好ましい。

【０２３１】エンボス加工の各条の突起として観察され
る部分のエンボス加工部全体に対する面積の割合が、１
５〜５０％程度が好ましく、これらの各条に含まれる突
起が不連続なものである場合にはその数は１ｃｍ²あた
り１０〜３０個程度であるのが好ましい。

【０２３２】エンボス加工は、通常、金属やゴムなどの
バックロール上でフィルムに刻印の刻まれたエンボスリ
ングを押し当てることで、加工できる。加工は常温でも
可能であるが、Ｔｇ＋２０℃以上、融点（Ｔｍ）＋３０
℃以下で加工するのが好ましい。

【０２３３】本発明の光学補償シートでは、更に好まし
くはロール状に巻かれた長尺フィルム（支持体）の表裏
面同士の動摩擦係数が０．４以下であることが好まし
い。そのため、長尺フィルム（支持体）に微粒子を添加
してフィルムの表裏面同士の動摩擦係数が０．４以下と
することができる。このため、支持体が、少なくとも一
方の面の表面層に微粒子を有する積層構造を有していて
もよい。微粒子の添加により、ヘイズが増加することが
あるが、本発明で用いられる支持体はヘイズが１％以下
であることが好ましく、更に０．５％以下であることが
好ましく、特に０．１％以下であることが好ましい。

【０２３４】更に好ましくは後述のバックコート層に微
粒子を添加することが望ましい。特に重合性液晶層とそ
の裏面間の動摩擦係数が０．４以下であることが好まし
く、更に好ましくは０．１以下であることが望ましい。

【０２３５】例えば、支持体の少なくとも一方の面の表
面に微粒子を含む層を設けることによって、長尺ロール
フィルムの支持体上に２層以上の配向層及び重合性液晶
性化合物層を設け、所望の配向を有する光学補償シート
を提供することができる。

【０２３６】即ち、微粒子を含む塗布組成物を支持体の
一方の面に塗設し、バックコート層とすることで、摩擦
係数を低減させることができる。好ましくはバックコー
ト層は重合性液晶層を設ける前に塗設されていることが
好ましい。

【０２３７】バックコート層は樹脂中に微粒子を混合分
散した塗布液を支持体の一方の面に塗設する事で得られ
る。

【０２３８】バックコート層に含ませる微粒子として
は、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙
げられる。

【０２３９】無機化合物としては、珪素を含む化合物、
二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジル
コニウム、炭酸カルシウム、酸化錫、酸化亜鉛、硫酸バ
リウム、硫酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリ
ン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケ
イ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カル
シウム等が好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無
機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースエス
テル積層フィルムの濁度を低減できるので、二酸化珪素
が特に好ましく用いられる。

【０２４０】また有機微粒子としては、ポリメタアクリ
ル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系
樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコ
ン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネ
ート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン
系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル
系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂
粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げる
ことができるが、特にこれらに限定されるものではな
い。

【０２４１】二酸化珪素の微粒子としては、例えば、ア
エロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、
２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ
６００（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使
用できる。

【０２４２】酸化ジルコニウムの微粒子としては、例え
ば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロ
ジル（株）製）等の市販品が使用できる。

【０２４３】有機化合物としては、例えば、シリコーン
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。

【０２４４】上記記載のシリコーン樹脂の中でも、特に
三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、ト
スパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１
４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン
（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。

【０２４５】バックコート層に含ませる本発明に係る微
粒子の１次平均粒子径としては、やはりヘイズを低く抑
えるという観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、更に好
ましくは、１６〜５ｎｍであり、特に好ましくは、１２
〜５ｎｍである。

【０２４６】これら微粒子の１次平均粒子径の測定は、
やはり透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）を
用い、粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その
平均値をもって、１次平均粒子径とする。

【０２４７】微粒子の、見掛比重としては、７０ｇ／リ
ットル以上が好ましく、更に好ましくは、９０〜２００
ｇ／リットルであり、特に好ましくは、１００〜２００
ｇ／リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分
散液を作ることが可能になる。

【０２４８】１次粒子の平均径が２０ｎｍ以下、見掛比
重が７０ｇ／リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例え
ば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを１
０００〜１２００℃にて空気中で燃焼させることで得る
ことができ、例えばアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ
９７２Ｖ（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市
販されており、それらを使用することができる。

【０２４９】見掛比重は前記式をもちい算出する事がで
きる。 《分散方法》二酸化珪素等の微粒子を溶剤などと混合し
て分散するときの微粒子の濃度は５〜３０質量％が好ま
しく、１０〜２５質量％がさらに好ましく、１５〜２０
質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に
対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が
良化するため好ましい。

【０２５０】使用される溶剤は低級アルコール類として
は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒
としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

【０２５１】バックコート層のバインダーに対する微粒
子の添加量は樹脂１００質量部に対して、微粒子は０．
０１〜０．３質量部が好ましく、０．０５〜０．２質量
部がさらに好ましく、０．０８〜０．１２質量部が最も
好ましい。添加量は多い方が、動摩擦係数に優れ、添加
量が少ない方がヘイズが低く、凝集物も少ない点が優れ
ている。

【０２５２】分散機は通常の分散機が使用でき、セルロ
ースエステルに対する二酸化珪素微粒子の分散のところ
で記載したメディア分散機またはメディアレス分散機が
あげられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス
分散機がヘイズが低く好ましい。具体的には、前述し
た、支持体に微粒子を分散、添加する際に用いられる分
散機が挙げられる。

【０２５３】バックコート層はブロッキング防止効果も
有するが、特に支持体の一方の面にのみに配向膜及び重
合性液晶層を設けた場合は、カールを防止する効果を持
たせることが望まれる。

【０２５４】具体的には、支持体上に配向層及び重合性
液晶層を設けると重合性液晶層を重合させるとその面を
内巻きとする強いカールが生じる。このカールは支持体
上にさらに配向層及び重合性液晶層を塗設する際の配向
乱れを起こす原因となり好ましくない。なお、本明細書
でいう重合性液晶層とは重合性液晶を配向させた後、重
合させて形成した層を意味する。

【０２５５】本発明の別の実施態様では配向層及び重合
性液晶層を有する少なくとも２つの支持体を接着あるい
は粘着させて一体化した光学補償シートを提供する。こ
のときに配向層及び重合性液晶層を有する支持体がカー
ルしていると張り合わせにくいため、カールがない又は
小さいことが望まれる。特に重合性液晶層が塗設された
側を内側にして、２枚のシートを張り合わせることが望
ましく、具体的には下記の層構成を有する一体化された
光学補償フィルムを得ることが出来る。

【０２５６】支持体１／配向層１／重合性液晶層１／
（接着層）／重合性液晶層２／配向層２／支持体２ 重合性液晶層１／配向層１／支持体１／（接着層）／支
持体２／配向層２／重合性液晶層２ このとき、重合性液晶層側を内巻きとしてカールすると
きに−（マイナス）、支持体側を内巻きとしてカールす
るときに＋（プラス）とすると支持体１／配向層１／重
合性液晶層１及び支持体２／配向層２／重合性液晶層２
は曲率半径（１／ｍ）で±３０内であることが好まし
く、更に好ましくは±２５内であることが好ましく、更
に好ましくは＋２５〜−１０であることが好ましく、更
に好ましくは＋２０〜−５であることが望ましく、更に
好ましくは＋１０〜０である。カールは小さいほど好ま
しいが、貼り合わせる場合は貼り合わせる面の反対側に
弱いカールを有していると空気の抱き込みが少なくなり
好ましい。すなわち、 バックコート層（ＢＣ層）／支持体／配向層１／重合性
液晶層１ バックコート層（ＢＣ層）／支持体／配向層２／重合性
液晶層２ の構成を有する２つのシートを張り合わせて２層の重合
性液晶層を有する光学補償シートを得ることが好まし
い。

【０２５７】例えば、下記構成の光学補償シートが好ま
しい例としてあげられる。下記構成の配向層１と配向層
２あるいは重合性液晶層１と重合性液晶層２は面内の配
向方向が８０〜１１０°でほぼ直交していることが好ま
しい。

【０２５８】ＢＣ層／支持体１／配向層１／重合性液晶
層１／（接着剤）／重合性液晶層２／配向層２／支持体
２／ＢＣ層 アンチカール機能の付与は、具体的には支持体として用
いる樹脂フィルム基材を溶解させる溶媒又は膨潤させる
溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用
いる溶媒としては、溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒
の混合物の他、さらに溶解させない溶媒を含む場合もあ
り、これらを樹脂フィルムのカール度合や樹脂の種類に
よって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて
行う。

【０２５９】バックコート層側へのカールを強めたい場
合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒又は膨潤させる
溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を
小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましく
は（溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒）：（溶解させ
ない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。このよう
な混合組成物に含まれる、樹脂フィルム基材を溶解又は
膨潤させる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケ
トン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢
酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、
エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロ
エタン、クロロホルムあるいはＮ−メチルピロリドン、
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどがある。
溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタ
ノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコ
ール、ｎ−ブタノールなどがあるが、溶媒としては特に
これらに限定されるものではない。

【０２６０】これらの塗布組成物をグラビアコーター、
ディップコーター、ワイヤーバーコーター、リバースコ
ーター、押し出しコーター等を用いて樹脂フィルムの表
面にウェット膜厚１〜１００μｍ塗布するのが好まし
く、特に５〜３０μｍであると良い。

【０２６１】バックコート層に用いられる樹脂として
は、例えば塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコー
ルの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル／酢酸ビニ
ル共重合体、塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体、塩
化ビニル／アクリロニトリル共重合体、エチレン／ビニ
ルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレ
ン／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合
体等のビニル系重合体あるいは共重合体、ニトロセルロ
ース、セルロースアセテートプロピオネート、ジアセチ
ルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースア
セテートフタレート、セルロースアセテートブチレート
樹脂等のセルロースエステル系樹脂、マレイン酸および
／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共
重合体、アクリロニトリル／スチレン共重合体、塩素化
ポリエチレン、アクリロニトリル／塩素化ポリエチレン
／スチレン共重合体、メチルメタクリレート／ブタジエ
ン／スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセ
タール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル
ポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポ
リカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチ
レン／ブタジエン樹脂、ブタジエン／アクリロニトリル
樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹
脂、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルメタクリレ
ートとポリメチルアクリレートの共重合体等を挙げるこ
とができるが、これらに限定されるものではない。特に
好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテー
トプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。

【０２６２】バックコート層は、樹脂フィルム基材の反
対側に光学的機能性層（配向層、重合性液晶層等）を塗
設する前に塗設されていることが望ましいが、重合性液
晶層塗設後に塗設する事もできる。

【０２６３】本発明の別の実施態様では、光学補償シー
トに用いられる長尺ロール状支持体は周波数２０Ｈｚに
おけるインピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上であ
ることが好ましく、好ましくは５×１０⁵〜５×１０²⁰
Ω、最も好ましくは８×１０⁵〜５×１０⁸Ωである。こ
れによって、ロール状の長尺支持体に連続的に配向膜及
び重合性液晶層を塗設する際の配向ムラを著しく軽減す
ることが出来る。特に１つの支持体に２層以上の重合性
液晶層を塗設する場合に著しい効果が認められる。又、
重合性液晶層が塗設された支持体どうしを接着して光学
補償シートを製造する場合には、接着の際に空気の抱き
込みによる欠陥の発生防止に効果がある。

【０２６４】一般には次の公知の一般式（Ａ）式に見ら
れるように材料の導電性が上がれば、抵抗の項を含むイ
ンピーダンスＺの絶対値が減少することは良く知られて
いる。

【０２６５】一般式（Ａ） ｜Ｚ｜＝〔Ｒ²＋（１／ωＣ）²〕^1/2 但し、 Ｚ：インピーダンス Ｒ：抵抗 Ｃ：静電容量 ω：２πｆ ｆ：周波数 本発明において、フィルム材料のインピーダンス測定に
関しては、電子部品の誘電率測定に用いる一般のインピ
ーダンス測定装置を用いることができるが、好ましくは
周波数１Ｈｚ以上の測定が可能なインピーダンス測定装
置と、フィルム測定用電極を組み合わせた装置である。
例えば、横河・ヒューレット・パッカード社製プレシジ
ョンＬＣＲメーターＨＰ４２８４ＡとＨＰ１６４５１Ｂ
の組み合わせである。他の装置を用いる場合には、電極
部分の補正を行う必要がある。

【０２６６】本発明に記載の効果を得る為には、フィル
ム材料のインピーダンスを正しく測定する必要があるの
で、補正不可能の装置を用いた場合には、好ましい結果
が得られない。この装置の組み合わせで更に２０Ｈｚに
おけるインピーダンスの絶対値を求める一例を詳細に記
すが、フィルム材料の正確な周波数２０Ｈｚのインピー
ダンスの絶対値が測定できるならば、本発明では測定方
法を制限しない。

【０２６７】平行な平面で構成される二電極とガード電
極を有するＨＰ１６４５１Ｂの接続されたプレシジョン
ＬＣＲメーターＨＰ４２８４Ａを用い、２３℃、２０％
ＲＨ雰囲気下で、空隙法によりフィルム材料のインピー
ダンスの絶対値を計測する。

【０２６８】空隙法の測定に関しては、ＨＰ１６４５１
Ｂの取り扱い説明書に記載された電極非接触法に従う。
サンプルの大きさについては、電極平面よりも大きけれ
ば特に制限は無いが、用いる主電極の直径が３．８ｃｍ
の場合には、大きさ６ｃｍ×６ｃｍから５ｃｍ×５ｃｍ
の正方形サンプルが好ましい。サンプルの直流電流を用
いて測定された表面比抵抗の大きさが表裏で等しけれ
ば、どちらの面を上方にしてもよいが、表裏で等しくな
ければ表面比抵抗の値が低い面を上方に向け、平行な平
面で構成される二電極間にサンプルを設置し交流電圧を
かけながら空隙法で計測する。

【０２６９】計測された好ましい範囲は、上記の面積が
１１．３ｃｍ²の電極を用いて測定した周波数２０Ｈｚ
におけるインピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上、
好ましくは５×１０⁵Ω以上５×１０²⁰⁸Ω以下、更に好
ましくは８×１０⁵Ω以上１×１０¹⁴⁷Ω以下である。

【０２７０】本発明に用いられる支持体は導電性を有す
る物質を支持体に添加するかあるいは導電性を有する物
質を塗設することで好ましいインピーダンスを有する支
持体を得ることができるが、特にこれらの方法に限定さ
れるものではない。導電性物質としては特に限定はされ
ないが、イオン導電性物質や導電性微粒子あるいはセル
ロースエステルと相溶性を有する帯電防止剤などを好ま
しく用いることができる。

【０２７１】ここでイオン導電性物質とは電気伝導性を
示し、電気を運ぶ担体であるイオンを含有する物質のこ
とであるが、例えば、イオン性高分子化合物を挙げるこ
とができる。

【０２７２】イオン性高分子化合物としては、特公昭４
９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２
８９３７号にみられるようなアニオン性高分子化合物；
特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特
公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５
７−１８１７６号、同５７−５６０５９号などにみられ
るような、主鎖中に解離基をもつアイオネン型ポリマ
ー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６
号、特公昭５３−４５２３１号、同５５−１４５７８３
号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同
５７−１１３４２号、同５７−１９７３５号、特公昭５
８−５６８５８号、特開昭６１−２７８５３号、同６２
−９３４６号にみられるような、側鎖中にカチオン性解
離基をもつカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げ
ることができる。

【０２７３】また、導電性微粒子の例としては導電性を
有する金属酸化物が挙げられる。金属酸化物の例として
は、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₂、Ｖ₂Ｏ₅等、或いは
これらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂
及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例としては、
例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の添加、ＴｉＯ₂
に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加、又ＳｎＯ₂に対して
は、Ｓｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等の添加が効果的であ
る。これら異種原子の添加量は０．０１ｍｏｌ％〜２５
ｍｏｌ％の範囲が好ましいが、０．１ｍｏｌ〜１５ｍｏ
ｌ％の範囲が特に好ましい。

【０２７４】また、これらの導電性を有する金属酸化物
粉体の体積抵抗率は１０⁷Ωｃｍ以下特に１０⁵Ωｃｍ以
下であって、１次粒子径が１０ｎｍ以上０．２μｍ以下
で、高次構造の長径が３０ｎｍ以上６μｍ以下である特
定の構造を有する微粒子をフィルム内の少なくとも一部
の領域に体積分率で０．０１％以上５０％以下含んでい
ることが好ましい。又、導電性粒子の形状は無定型であ
っても球形であってもよいが、特に扁平な粒子であるこ
とが、少ない添加量で効果的であり、更にヘイズ、透過
率等の光学特性にも優れるため好ましく用いられる。好
ましくは粒子の厚み：面内の長径との比が１：１．２〜
１：２０好ましくは１．５〜１０である粒子形状が好ま
しい。

【０２７５】導電性粒子としては、特に好ましくは、特
開平９−２０３８１０号に記載されているアイオネン導
電性ポリマーあるいは分子間架橋を有する第４級アンモ
ニウムカチオン導電性ポリマーなどを含有することが望
ましい。

【０２７６】架橋型カチオン性導電性ポリマーの特徴
は、得られる分散性粒状ポリマーにあり、粒子内のカチ
オン成分を高濃度、高密度に持たせることができるた
め、優れた導電性を有しているばかりでなく、低相対湿
度下においても導電性の劣化は見られず、粒子同志も分
散状態ではよく分散されているにもかかわらず、塗布後
造膜過程において粒子同志の接着性もよいため膜強度も
強く、また他の物質例えば支持体にも優れた接着性を有
し、耐薬品性に優れている。

【０２７７】架橋型のカチオン性導電性ポリマーである
分散性粒状ポリマーは一般に約０．０１μｍ〜０．３μ
ｍの粒子サイズ範囲にあり、好ましくは０．０５μｍ〜
０．１５μｍの範囲の粒子サイズが用いられる。ここで
用いている“分散性粒状性ポリマー”の語は、視覚的観
察によって透明またはわずかに濁った溶液に見えるが、
電子顕微鏡の下では粒状分散物として見えるポリマーで
ある。

【０２７８】本発明においては、微粒子とセルロースエ
ステルの比率は微粒子１質量部に対して、セルロースエ
ステルが０．１〜１質量部が好ましく、透過率、ヘイズ
の点で添加量が少ない方が好ましい。

【０２７９】イオン導電性物質や導電性微粒子もしくは
マット剤として用いる前記微粒子の添加は光学フィルム
の表層部（表面から１０μｍの部分）に含まれているこ
とが好ましく、共流延等の方法によってフィルムの表面
にイオン導電性物質や導電性微粒子及び／又はマット剤
を含有させることが好ましい。具体的には、イオン導電
性物質や導電性微粒子及び／又はマット剤等を含有する
ドープＡと実質的にこれらを含有しないドープＢを使用
し、ドープＢの少なくとも片側の面にドープＡがあるよ
うに流延されることが好ましい。

【０２８０】別の実施態様では、支持体の周波数２０Ｈ
ｚにおけるインピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上
とするために、支持体上にイオン導電性物質や導電性微
粒子を含有する層を設けることによって行うことが好ま
しい。これらの樹脂層として用いられる樹脂としては、
特に限定はされないが、例えばセルロースジアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、セルロースアセテートフタレート、又はセ
ルロースナイトレート等のセルロース誘導体、ポリ酢酸
ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレ
ンテレフタレート、又はコポリブチレン／テレ／イソフ
タレート等のポリエステル、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニ
ルブチラール、又はポリビニルベンザール等のポリビニ
ルアルコール誘導体、ノルボルネン化合物を含有するノ
ルボルネン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポ
リエチルメタクリレート、ポリプロピルチルメタクリレ
ート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレ
ート、ポリメチルメタクリレートとポリメチルアクリレ
ートの共重合体等のアクリル樹脂もしくはアクリル樹脂
とその他樹脂との共重合体、ポリビニルピロリドン、ビ
ニルピロリドンと酢酸ビニルの共重合体、ゼラチンなど
を用いることが出来る。この中でセルロース誘導体ある
いはアクリル樹脂が好ましく用いられる。アクリル樹脂
としては例えば、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ
（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、
Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０
００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社
製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５
３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７
５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８
２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８
８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１０
０、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ
−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１
２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ
−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン（株）製）の
アクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造し
た各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが好ましく用
いられる。

【０２８１】これらの塗布組成物として用いられる有機
溶媒としては、下記の溶媒を単独であるいは適宜混合し
たものが好ましく用いられる。水溶性樹脂をバインダと
して用いる場合は、水を含む溶媒を用いることもでき
る。

【０２８２】炭化水素類としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げら
れ、アルコール類としては、メタノール、エタノール、
ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコー
ル、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタ
ノール、ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、
シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類として
は、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸
メチル等が挙げられ、グリコールエーテル（Ｃ１−Ｃ
４）類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソル
ブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ
Ｅ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピ
レングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレン
グリコールモノブチルエーテル、又はプロピレングリコ
ールモノアルキル（アルキル基の炭素数が１〜４）エー
テルエステル類としては、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、その他の溶媒としてメチレン
クロライド、Ｎ−メチルピロリドンなどがあげられる。
特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜
混合した溶媒が好ましく用いられる。

【０２８３】これらの塗布組成物を塗布する方法は、ド
クターコート、エクストルージョンコート、スライドコ
ート、ロールコート、グラビアコート、ワイヤバーコー
ト、リバースコート、カーテンコート、押し出しコート
あるいは米国特許第２，６８１，２９４号明細書に記載
のホッパーを使用するエクストルージョンコート方法等
により０．１〜３０μｍの乾燥膜厚となるように塗布す
ることが好ましく、特に好ましくは通常０．１〜１μｍ
の乾燥膜厚となるように塗布される。

【０２８４】本発明の光学補償シートには、重合性化合
物を用いた硬化樹脂層として、クリアハードコート層を
設けることもでき、これらの層を有するシートに１層以
上の重合性液晶性化合物を配向させる場合も好ましく用
いられる。これは配向層の下引き層として、或いは、支
持体の保護及び／又は重合性液晶層の裏面のバックコー
ト層の保護を目的として、あるいはバックコート層の代
替として設けることができる。或いは配向膜の下引き層
として用いることも出来る。

【０２８５】硬化樹脂層としてのクリアハードコート層
には、活性線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が用いること
ができるが、特に活性線硬化樹脂であることが好まし
い。

【０２８６】活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のよ
うな活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂
を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては
紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なも
のとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照
射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂と
しては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹
脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫
外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型
ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポ
キシ樹脂等を挙げることが出来る。

【０２８７】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９
−１５１１１０号）。

【０２８８】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

【０２８９】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１
−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベン
ゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もし
くは２種以上を選択して使用することが出来る。

【０２９０】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。

【０２９１】これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に
使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても
使用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェ
ノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、
α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれ
らの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアク
リレート系の光反応剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、
トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増
感剤を用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒
成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応
開始剤又光増感剤は該組成物の２．５〜６質量％である
ことが特に好ましい。

【０２９２】樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二
重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニ
ル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来
る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとし
て、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−
シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシ
ルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリルエステル等を挙げることができる。

【０２９３】例えば、紫外線硬化樹脂としては、アデカ
オプトマーＫＲ・ＢＹシリーズＫＲ−４００、ＫＲ−
４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、
ＢＹ−３２０Ｂ（以上 旭電化工業株式会社製）、ある
いはコーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−Ｗ
Ｓ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１
０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１
０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−
１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（以上 広栄化学工業株式会社
製）、あるいはセイカビームＰＨＣ ２２１０（Ｓ）、
ＰＨＣ Ｘ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ ２２１３、ＤＰ−
１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１０
０、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５０
０、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（以上 大日精化工業株
式会社製）、あるいはＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３
９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ
２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（以上 ダイセ
ル・ユーシービー株式会社）、あるいはＲＣ−５０１
５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３
１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２
０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７
１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（以上大日本イン
キ化学工業株式会社製）、あるいはオーレックスＮｏ．
３４０クリヤ（中国塗料株式会社製）、あるいはサンラ
ッドＨ−６０１（三洋化成工業株式会社製）、あるいは
ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子株式会社
製）、あるいはＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン株
式会社製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３
０、Ｍ−８０６０（以上、東亞合成株式会社製）あるい
はこの他の市販のものから適宜選択して利用することも
できる。

【０２９４】活性線硬化樹脂層の塗布組成物は固形分濃
度は１０〜９５質量％であることが好ましく、塗布方法
により適当な濃度が選ばれる。

【０２９５】活性線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化
皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生す
る光源であればいずれでも使用出来る。例えば、低圧水
銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボ
ンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等
を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプに
よって異なるが、照射光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃ
ｍ²程度あればよく、好ましくは、５０〜２０００ｍＪ
／ｃｍ²である。近紫外線領域から可視光線領域にかけ
てはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによ
って使用出来る。

【０２９６】活性線硬化樹脂層を塗設する際の溶媒とし
て前述のバックコート層や導電性微粒子を含有する樹脂
層を塗設する溶媒、例えば、炭化水素類、アルコール
類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、そ
の他の溶媒の中から適宜選択し、あるいはこれらを混合
し利用できる。好ましくは、プロピレングリコールモノ
アルキル（アルキル基の炭素数が１〜４）エーテル又は
プロピレングリコールモノアルキル（アルキル基の炭素
数が１〜４）エーテルエステルを５質量％以上、さらに
好ましくは５〜８０質量％以上含有する溶媒が用いられ
る。

【０２９７】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押し出しコーター、エアードクターコーター等公知
の方法を用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚で
０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５
μｍである。塗布速度は好ましくは１０〜６０ｍ／ｍｉ
ｎで行われる。

【０２９８】紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された
後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は０．５秒
〜５分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率
とから３秒〜２分がより好ましい。

【０２９９】こうして得た硬化皮膜層に、ブロッキング
を防止するため、また対擦り傷性等を高めるために無機
あるいは有機の微粒子を加えることが好ましい。例え
ば、無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化
アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫
酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙
げることができ、また有機微粒子としては、ポリメタア
クリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレ
ン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シ
リコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカー
ボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラ
ミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエス
テル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系
樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙
げることができ、紫外線硬化性樹脂組成物に加えること
が出来る。これらの微粒子粉末の平均粒径としては、
０．００５μｍ〜１μｍが好ましく０．０１〜０．１μ
ｍであることが特に好ましい。

【０３００】紫外線硬化樹脂組成物と微粒子粉末との割
合は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜１０
質量部となるように配合することが望ましい。

【０３０１】本発明の好ましい例を以下に示す。下記重
合性液晶層の上にさらに別の配向膜、重合性液晶層を塗
設することができる。このとき、必要に応じて、下引き
層を設けることもできる。あるいは別の支持体に塗設さ
れた重合性液晶層を転写あるいは支持体ごと接着させる
こともできる。具体的には下記構成の光学補償シート２
枚を接着剤あるいは粘着剤を用いて張り合わせることが
出来る。

【０３０２】下引き層としては、ノニオン性ポリマーが
好ましく用いられ、例えば、ポリビニルアルコール、ポ
リ−Ｎ−ビニルピロリドン或いはゼラチン等が用いられ
る。例えば、特願２０００−１８６１６８号記載の溶出
ブロック層が該下引き層として好ましく用いられる。

【０３０３】以下に好ましい層構成の例を示す。（下引
き層）は好ましくは下引き層を有することを意味する。 １．バックコート層（微粒子含有）／支持体／（下引き
層）／配向層／重合性液晶層 ２．クリアハードコート層（紫外線硬化樹脂）／支持体
／（下引き層）／配向層／重合性液晶層 ３．クリアハードコート層（紫外線硬化樹脂）／導電層
／支持体／（下引き層）／配向層／重合性液晶層 ４．バックコート層（導電性微粒子含有）／支持体／
（下引き層）／配向層／重合性液晶層 ５．バックコート層（微粒子含有）／支持体／導電層／
（下引き層）／配向層／重合性液晶層 ６．バックコート層（微粒子含有）／導電性微粒子含有
支持体／（下引き層）／配向層／重合性液晶層 ７．バックコート層（微粒子含有）／支持体／導電性微
粒子含有下引き層／配向層／重合性液晶層 特に両面に配向膜を設ける場合は、少なくとも一方の面
にバックコート層を設けることが好ましく、これによっ
て、重合性液晶層同士のブロッキングを防止することが
できる。あるいは、重合性液晶層の上に粘着剤層を設
け、剥離可能な保護フィルムをその上に設けたものであ
ることが好ましい。各々の光学補償シートの裏表面でブ
ロッキングが起こらないように保護フィルムにも微粒子
が含まれているかあるいは微粒子含有層が設けられてい
ることが望まれる。 ８．バックコート層（微粒子含有）／重合性液晶層／配
向層／支持体（微粒子含有）／配向層／重合性液晶層 ９．保護フィルム／粘着層／重合性液晶層／配向層／支
持体（微粒子含有）／配向層／重合性液晶層 １０．保護フィルム／粘着層／重合性液晶層／配向層／
支持体（微粒子含有）／配向層／重合性液晶層／粘着層
／保護フィルム 支持体にセルロースエステルフィルムを用いる場合、各
塗布層塗設前にセルロースエステルフィルムがアルカリ
鹸化処理されていても、塗布後にアルカリ鹸化処理して
もよい。例えば、製膜後アルカリ鹸化処理した後、帯電
防止層及び／又は紫外線硬化樹脂層、バックコート層、
配向膜層、重合性液晶層を塗設することもできるし、バ
ックコート層、帯電防止層、紫外線硬化樹脂層を塗設し
た後、アルカリ鹸化処理し、さらに配向膜層、重合性液
晶層を塗設することもできる。

【０３０４】本発明で用いられるセルロースエステル支
持体は、単層のフィルムとして作製することが出来る
が、共流延法等の適用により、積層フィルムとして作製
することが好ましい。

【０３０５】以下に、共流延法による積層フィルムの製
造方法を示すが、本発明はこれらに限定されない。

【０３０６】共流延とは、異なったダイを通じて２層ま
たは３層構成にする逐次多層流延方法、２つまたは３つ
のスリットを有するダイ内で合流させ２層または３層構
成にする同時多層流延方法、逐次多層流延と同時多層流
延を組み合わせた多層流延方法のいずれであっても良
い。

【０３０７】流延時の膜厚は任意に設定可能であるが、
Ａ面側（流延の際に支持体に接していない面）のドープ
（Ａ面側スキン層を形成）とＢ面側（流延の際に支持体
に接している面）のドープ（Ｂ面側スキン層を形成）の
乾燥後の膜厚比は１対１００〜１００対１の範囲である
ことが好ましい。更に好ましくは１対２０〜２０対１で
あり、１対１とすることもできる。一方のドープを薄く
流延する場合は薄い方のウェット膜厚（ｈｗ）を０．５
〜１５０μｍ、乾燥膜厚で０．１〜３０μｍとなるよう
に流延することが好ましく、更に好ましくはウエット膜
厚（ｈｗ）２．５〜１２５μｍ、乾燥膜厚で０．５〜２
５μｍ、更に好ましくはウエット膜厚（ｈｗ）２５〜１
００μｍ、乾燥膜厚で５〜２０μｍとなるように流延す
ることが好ましい。

【０３０８】３種のドープを使用する場合は、Ａ面側の
ドープ（Ａ面側表層を形成）とＢ面側ドープ（Ｂ面側表
層を形成）、それに挟まれるフィルム内部を形成するた
めのドープの乾燥後の膜厚比も任意に設定することがで
きる。コア層とＡ面側表層もしくはＢ面側表層の乾燥後
の膜厚比は１対１００〜１００対１の範囲であることが
好ましく、更に好ましくは１対２０〜２０対１であり、
１対１とすることもできる。フィルム内部と表層との膜
厚比は１０００対１〜１対１０であることが好ましく、
１００対１〜１対１がより好ましく、更に好ましくは１
０対１〜２対１が好ましい。

【０３０９】又、表層の乾燥膜厚も任意に設定できる
が、０．５〜３０μｍであることが好ましく、５〜２０
μｍであることが更に好ましい。又、Ａ面側表層とＢ面
側表層の膜厚は同じであっても違っていても良い。例え
ばＡ面側表層１０μｍとし、Ｂ面側表層２０μｍとする
ことも可能である。

【０３１０】２種以上のドープを用いる場合、同時に支
持体上に流延してもよいし、別々に支持体上に流延して
もよい。別々に流延する場合は、支持体側のドープを先
に流延して支持体上である程度乾燥させた後で、その上
に重ねて流延することができる。又、３種以上のドープ
を使用する場合、同時流延（共流延ともいう）と逐次流
延を適宜組み合わせて流延し、積層構造のフィルムを作
製することもできる。

【０３１１】同時流延もしくは逐次流延によって製膜さ
れるこれらの方法は、乾燥されたフィルム上に塗布する
方法とは異なり、積層構造の各層の境界が不明確にな
り、断面の観察で積層構造が明確には分かれないことが
あるという特徴があり、各層間の密着性を向上させる効
果がある。

【０３１２】共流延などの方法で製造できる好ましい積
層構造の例としては、スキン層／コア層／スキン層の層
構成を有し、主な微粒子はコア層よりもスキン層に多く
含有し、紫外線吸収剤及び／又は可塑剤は主にコア層の
みにあるいはコア層により多く含有する構成であること
が、配向膜作製の際に、樹脂からのこれらの成分の溶出
による配向阻害の影響が軽減されるため好ましい。

【０３１３】本発明の光学補償シートの支持体として用
いられるフィルムの乾燥膜厚としては特に制限はないが
２０〜５００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍの
フィルムが用いられる。

【０３１４】又、本発明の光学補償シートの支持体とし
て用いられるセルロースエステルフィルムは、輝点異物
が少ないものが、好ましく用いられる。

【０３１５】輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置
し（クロスニコル）、この間にセルロースエステルフィ
ルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう
一方の面からセルロースエステルフィルムを観察したと
きに、光源の光がもれて見える点のことである。このと
き評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで
構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護に
ガラス板を使用したものが好ましく用いられる。輝点異
物はセルロースエステルに含まれる未酢化のセルロース
がその原因の１つと考えられ、輝点異物の少ないセルロ
ースエステルを用いることと、セルロースエステル溶解
したドープ液を濾過することによって除去し、低減する
ことができる。又、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面
積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれ
るセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異
物は少なくなる傾向がある。

【０３１６】前述したように、本発明の光学補償シート
に用いられる支持体は、粒径が０．０５ｍｍ以上である
輝点の数が実質的に存在しないことが好ましく、０．０
１ｍｍ以上である輝点の数が１００個／ｃｍ²以下であ
る事が好ましい。より好ましくは５０個／ｃｍ²以下で
あり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ²以下である。
更に好ましくは粒径が０．００１〜０．０１ｍｍである
輝点の数が１００個／ｃｍ²以下であり、より好ましく
は０〜１０個／ｃｍ²以下である。

【０３１７】輝点異物を濾過によって除去する場合、セ
ルロースエステルを単独で溶解させたものを濾過するよ
りも可塑剤を添加混合した組成物を濾過することが輝点
異物の除去効率が高く好ましい。濾材としては、ガラス
繊維、セルロース繊維、濾紙、ポリプロピレン繊維、四
フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知のも
のが好ましく用いられるが、セラミックス、金属等も好
ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下
のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものが更に
好ましく、１０μｍ以下のものが更に好ましく、５μｍ
以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組
み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェース
タイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デ
プスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用い
られる。

【０３１８】本発明の光学補償シートは偏光板保護フィ
ルムとして用いることも可能であり、本発明の光学補償
シートを一方の面の偏光板保護フィルムとして用いた偏
光板が好ましく用いられる。

【０３１９】偏光板は、一般的な方法で作製することが
できる。例えば、本発明の光学補償シートをアルカリ鹸
化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の
両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用
いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカリケン
化処理とは、このときの水系接着剤の濡れを良くし、接
着性を向上させるために、セルロースエステルフィルム
を高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。特に下記
の構成の光学補償シートの場合好ましく用いられる。 ＢＣ層／支持体１／配向層１／重合性液晶層１／（接着
剤）／重合性液晶層２／配向層２／支持体２／ＢＣ層 支持体１／配向層１／重合性液晶層１／（接着剤）／重
合性液晶層２／配向層２／支持体２ 偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の
偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代
表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルム
で、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を
染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
これらは、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸さ
せて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好まし
くはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられ
ている。該偏光膜の面上に偏光板用保護フィルムとして
セルロースエステルフィルム等の透明なプラスチックフ
ィルムが張り合わされて偏光板を形成することができ
る。

【０３２０】本発明の光学補償シートは一方の偏光板用
保護フィルムとして用いることも好ましい。次に、本発
明の光学補償シートを用いた液晶表示装置の一例を示
す。

【０３２１】図１は、本発明の光学補償シートを偏光板
用保護フィルムとして用いた液晶ディスプレイ（表示装
置）の構成について示したものである。

【０３２２】本発明の光学補償シートは図に於いてＳで
表されており、２つの光学異方性層（４６、４６ａ）が
模式的に重ねられて示されているが、実際はＥ１、Ｅ２
或いはＥ３のいずれかの位置が透明樹脂フィルム支持体
となる支持体上に２つの光学異方性層（４６、４６ａ）
が配置された一体の構造を有している。例えば支持体が
Ｅ１に位置するときには後述するＶタイプの光学補償シ
ートとなる。

【０３２３】４４は偏光子であり、光学補償シートがＶ
タイプの場合には、該偏光子を本発明の光学補償シート
の支持体の光学異方性層の裏面に貼合し光学補償シート
を偏光板用保護フィルムとして用いる。図に於いては、
支持体は省略されており、従って前述の通りＥ１、Ｅ２
或いはＥ３のいずれかの位置に入るが、本発明の光学補
償シートＳの光学異方性層４６及び光学異方性層４６ａ
を順次図のように配置する構成とする。図に於いて、５
１は偏光子の吸収軸を示し、本発明の光学補償シートの
光学異方性層上の５２、５３はそれぞれの光学異方性層
の面内の配向方向を示している。ちなみに６０、６０ａ
はそれぞれの光学異方性層を形成した液晶性化合物の配
向の様子（ハイブリッド配向）を示している。

【０３２４】これらの光学異方性層４６，４６ａを有す
る光学補償シートと別の偏光子４４ａ（或いは偏光板）
との間に、基板４７、４９及び該基板間に液晶４８の封
入された液晶セルを配置することで液晶ディスプレイ
（表示装置）が構成される。５４及び５４ａは液晶基板
のラビング方向であり、５１ａは偏光子４４ａの吸収軸
である。この様にして本発明の光学補償シートを配置し
た液晶ディスプレイ（表示装置）は優れた視野角特性
等、光学補償機能を有する。

【０３２５】

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明はこれのみに限定されるものではない。

【０３２６】〈樹脂フィルム１の作製〉 （ドープ組成物（イ）の調製）下記組成物を密閉容器に
投入し、加圧下で８０℃に保温し撹伴しながら完全に溶
解、混合してドープ組成物（イ）を得た。

【０３２７】 セルロースアセテートプロピオネート（以下ＣＡＰと略す） １００質量部 （アセチル置換度２．０、プロピオニル置換度０．８） トリフェニルフォスフェート ８質量部 エチルフタリルエチルグリコレート ３質量部 チヌビン３２６ ０．５質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１０９ ０．７質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１７１ ０．７質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） メチレンクロライド ２９８質量部 エタノール ７４質量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物（イ）を得
た。

【０３２８】次にこのドープ組成物（イ）を絶対濾過精
度１０μｍのカートリッジフィルターで濾過し、冷却し
て３０℃に保ちステンレスバンド上に幅１．５ｍで均一
に流延し、残留溶媒量５０質量％でステンレスバンド上
から剥離し、続いてテンターにより幅手方向に延伸倍率
１．０５倍に延伸しながら、残留溶媒量が１０質量％以
下となるまで乾燥させ、幅１．３ｍにスリッティグした
後、更に１２０℃に維持された乾燥ゾーンを多数のロー
ルで搬送させながら乾燥を終了させ膜厚８０μｍ、幅
１．３ｍ長さ１８００ｍの長尺フィルムを得た。ステン
レスバンドに接していたフィルム面をｂ面、もう一方の
面をａ面とし、ｂ面が内側となるようにロール状に巻い
た。これを樹脂フィルム１とする。

【０３２９】又、乾燥終了後、巻き取りの前に、フィル
ムの両端部にエンボスリングを押し当てることにより幅
１５ｍｍ高さ１０μｍの、１ｍｍ×１ｍｍの凸部が２５
個／ｃｍ²形成されるようにエンボス加工を連続的に施
した以外は同様にして、長さ１８００ｍの長尺フィルム
を得た。これをエンボス付き樹脂フィルム１とする。

【０３３０】〈樹脂フィルム２の作製〉 （ドープ組成物（ロ）の調製） （酸化珪素分散液Ａ）以下をディゾルバーで３０分間撹
拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散
後の液濁度は９３ｐｐｍであった。

【０３３１】 超微粒子シリカ １０質量部 （アエロジルＲ９７２Ｖ 日本アエロジル（株）製） エタノール ９０質量部 次に下記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に
保温し撹伴しながら完全に溶解、混合してドープ組成物
（ロ）を得た。

【０３３２】 セルロースアセテートプロピオネート １００質量部 （アセチル置換度２．０、プロピオニル置換度０．８） トリフェニルフォスフェート ４質量部 エチルフタリルエチルグリコレート ３質量部 チヌビン３２６ ０．５質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１０９ ０．７質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１７１ ０．７質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） メチレンクロライド ２６０質量部 エタノール ６５質量部 酸化珪素分散液Ａ ０．１質量部 次にこのドープ組成物（ロ）を絶対濾過精度１０μｍの
カートリッジフィルターで濾過し、冷却して３０℃に保
ちステンレスバンド上に幅１．５ｍで均一に流延し、残
留溶媒量４０質量％でステンレスバンド上から剥離し、
続いてテンターにより幅手方向に延伸倍率１．０５倍と
して、残留溶媒量が１０質量％以下となるまで乾燥さ
せ、幅１．３ｍにスリッティグした後、更に１２０℃に
維持された乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら
乾燥を終了させ膜厚５０μｍ、幅１．３ｍ長さ２５００
ｍの長尺フィルムを得た。

【０３３３】ステンレスバンドに接していたフィルム面
をｂ面、もう一方の面をａ面とし、ｂ面が内側となるよ
うにロール状に巻いた。これを樹脂フィルム２とする。
又、乾燥終了後、巻き取りの前に、フィルムの両端部に
幅１５ｍｍ高さ５μｍで１ｍｍ×１ｍｍの凸部が２５個
／ｃｍ²形成されるようにエンボス加工を連続的に施し
て、長さ２５００ｍの長尺フィルムを得た。これをエン
ボス付き樹脂フィルム２とする。

【０３３４】 〈樹脂フィルム３の作製〉 （ドープ組成物（ハ）） セルローストリアセテート（アセチル置換度 ２．６５） １００質量部 トリフェニルフォスフェート ８質量部 エチルフタリルエチルグリコレート ３質量部 チヌビン３２６ ０．５質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１０９ ０．７質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１７１ ０．７質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） 超微粒子シリカ ０．０１質量部 （アエロジル２００Ｖ 日本アエロジル（株）製） メチレンクロライド ３６０質量部 エタノール ３５質量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物（ハ）を得
た。

【０３３５】次にこのドープ組成物（ハ）を絶対濾過精
度５μｍのカートリッジフィルターで濾過し、冷却して
３０℃に保ちステンレスバンド上に幅１．５ｍで均一に
流延し、残留溶媒量５０質量％でステンレスバンド上か
ら剥離し、続いてテンターにより幅手方向に延伸倍率
１．０５倍として、残留溶媒量が１０質量％となるまで
乾燥させ、幅１．３ｍにスリッティグした後、更に１２
０℃に維持された乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させ
ながら乾燥を終了させ膜厚１００μｍ、幅１．３ｍ長さ
１６００ｍの長尺フィルムを得た。ステンレスバンドに
接していた面をｂ面、もう一方の面をａ面とし、ｂ面が
内側となるようにロール状に巻いた。これを樹脂フィル
ム３とする。又、乾燥終了後、巻き取りの前に、フィル
ムの両端部に幅１５ｍｍ高さ５μｍの、エンボス付き樹
脂フィルム２と同様なエンボス加工を連続的に施して、
長さ１６００ｍの長尺フィルムを得た。これをエンボス
付き樹脂フィルム３とする。

【０３３６】 〈樹脂フィルム４の作製〉 （ドープ組成物（ニ）） セルロースアセテートブチレート（以下ＣＡＢと略す） １００質量部 （アセチル置換度１．８、ブチリル基置換度０．７） トリフェニルフォスフェート ４質量部 エチルフタリルエチルグリコレート ３質量部 チヌビン３２６ ０．３質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１０９ ０．５質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） チヌビン１７１ ０．５質量部 （チバスペシャルティケミカルズ（株）社製） 超微粒子シリカ ０．０１質量部 （アエロジルＲ９７２Ｖ 日本アエロジル（株）製） 酢酸メチル ３６０質量部 エタノール ３５質量部 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物（ニ）を得
た。

【０３３７】次にこのドープ組成物（ニ）を絶対濾過精
度１０μｍのカートリッジフィルターで濾過し、冷却し
て３０℃に保ちステンレスバンド上に幅１．５ｍで均一
に流延し、残留溶媒量５０質量％でステンレスバンド上
から剥離し、続いてテンターにより幅手方向に延伸倍率
１．０５倍として、残留溶媒量が１０質量％となるまで
乾燥させ、幅１．３ｍにスリッティグした後、更に１２
０℃に維持された乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させ
ながら乾燥を終了させ膜厚１２０μｍ、幅１．３ｍ長さ
１５００ｍの長尺フィルムを得た。

【０３３８】ステンレスバンドに接していた面をｂ面、
もう一方の面をａ面とし、ｂ面が内側となるようにロー
ル状に巻いた。これを樹脂フィルム４とする。又、乾燥
終了後、巻き取りの前に、フィルムの両端部に幅１５ｍ
ｍ高さ５μｍの、エンボス付き樹脂フィルム２と同様な
エンボス加工を連続的に施して、長さ１５００ｍの長尺
フィルムを得た。これをエンボス付き樹脂フィルム４と
する。

【０３３９】下記の組成物を調製した。 塗布組成物（１）〈帯電防止層塗布組成物〉 ダイヤナール（ＢＲ−８８ 三菱レーヨン（株）製） ０．５質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部 メチルエチルケトン １５質量部 乳酸エチル ６質量部 メタノール ８質量部 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（平均粒径０．１５μｍ粒子） ０．５質量部

【０３４０】

【化６】

【０３４１】 塗布組成物（２）〈ハードコート層塗布組成物〉 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部 ジメトキシベンゾフェノン光反応開始剤 ４質量部 酢酸エチル ５０質量部 メチルエチルケトン ４５質量部 イソプロピルアルコール ５５質量部 超微粒子シリカ（アエロジルＲ９７２Ｖ） １質量部 （日本アエロジル（株）製） 塗布組成物（３）〈バックコート層塗布組成物〉 アセトン ３０質量部 酢酸エチル ４５質量部 イソプロピルアルコール １０質量部 ジアセチルセルロース ０．５質量部 超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル２００Ｖ） ０．１質量部 （日本アエロジル（株）製） 塗布組成物（４）〈バックコート層塗布組成物〉 アセトン ３０質量部 酢酸エチル ４５質量部 イソプロピルアルコール １０質量部 ジアセチルセルロース ０．５質量部 超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル２００Ｖ） ０．１質量部 （日本アエロジル（株）製） 導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（平均粒径０．１５μｍ粒子） ０．５質量部 〈本発明の樹脂フィルムＡの作製〉前述の方法で作製し
たエンボス付き樹脂フィルム１、エンボス付き樹脂フィ
ルム２、エンボス付き樹脂フィルム３、エンボス付き樹
脂フィルム４、樹脂フィルム１、樹脂フィルム２、樹脂
フィルム３、樹脂フィルム４の各々のセルロースエステ
ルフィルムの片面（ｂ面）に塗布組成物（１）をウェッ
ト膜厚１０μｍとなるように押し出しコートし、乾燥温
度８０℃にて乾燥させ巻き取った。これをエンボス付き
樹脂フィルム１Ａ、エンボス付き樹脂フィルム２Ａ、エ
ンボス付き樹脂フィルム３Ａ、エンボス付き樹脂フィル
ム４Ａ、樹脂フィルム１Ａ、樹脂フィルム２Ａ、樹脂フ
ィルム３Ａ、樹脂フィルム４Ａとする。（Ａはｂ面側に
帯電防止層という意味である。） 〈樹脂フィルムＢの作製〉前述の方法で作製したエンボ
ス付き樹脂フィルム１、エンボス付き樹脂フィルム２、
エンボス付き樹脂フィルム３、エンボス付き樹脂フィル
ム４、樹脂フィルム１、樹脂フィルム２、樹脂フィルム
３、樹脂フィルム４の各々のセルロースエステルフィル
ムの片面（ａ面）に塗布組成物（３）をウェット膜厚１
３μｍとなるように押し出しコートし、乾燥温度８０℃
にて乾燥させ巻き取った。これをエンボス付き樹脂フィ
ルム１Ｂ、エンボス付き樹脂フィルム２Ｂ、エンボス付
き樹脂フィルム３Ｂ、エンボス付き樹脂フィルム４Ｂ、
樹脂フィルム１Ｂ、樹脂フィルム２Ｂ、樹脂フィルム３
Ｂ、樹脂フィルム４Ｂとする。（Ｂはａ面側にバックコ
ート層という意味である。） 〈樹脂フィルムＢＡの作製〉前述の方法で作製したエン
ボス付き樹脂フィルム１、エンボス付き樹脂フィルム
２、エンボス付き樹脂フィルム３、エンボス付き樹脂フ
ィルム４、樹脂フィルム１、樹脂フィルム２、樹脂フィ
ルム３、樹脂フィルム４の各々のセルロースエステルフ
ィルムの片面（ａ面）に塗布組成物（４）をウェット膜
厚１３μｍとなるように押し出しコートし、乾燥温度８
０℃にて乾燥させ巻き取った。これをエンボス付き樹脂
フィルム１ＢＡ、エンボス付き樹脂フィルム２ＢＡ、エ
ンボス付き樹脂フィルム３ＢＡ、エンボス付き樹脂フィ
ルム４ＢＡ、樹脂フィルム１ＢＡ、樹脂フィルム２Ｂ
Ａ、樹脂フィルム３ＢＡ、樹脂フィルム４ＢＡとする。
（ＢＡはａ面側に帯電防止性バックコート層付きという
意味である。） 〈樹脂フィルムのＡＢ作製〉前述の方法で作製したエン
ボス付き樹脂フィルム１Ｂ、エンボス付き樹脂フィルム
２Ｂ、エンボス付き樹脂フィルム３Ｂ、エンボス付き樹
脂フィルム４Ｂ、樹脂フィルム１Ｂ、樹脂フィルム２
Ｂ、樹脂フィルム３Ｂ、樹脂フィルム４Ｂの各々のセル
ロースエステルフィルムの片面（ｂ面）に塗布組成物
（１）をウェット膜厚で１０μｍとなるように押し出し
コートし、次いで８０℃に設定された乾燥部で乾燥して
乾燥膜厚で０．２μｍの樹脂層を設けた。これをエンボ
ス付き樹脂フィルム１ＡＢ、エンボス付き樹脂フィルム
２ＡＢ、エンボス付き樹脂フィルム３ＡＢ、エンボス付
き樹脂フィルム４ＡＢ、樹脂フィルム１ＡＢ、樹脂フィ
ルム２ＡＢ、樹脂フィルム３ＡＢ、樹脂フィルム４ＡＢ
とする。（ＡＢはａ面側にバックコート層、ｂ面側に帯
電防止層付きという意味である。） 〈樹脂フィルムＣＡの作製〉前述の方法で作製したエン
ボス付き樹脂フィルム１、エンボス付き樹脂フィルム
２、エンボス付き樹脂フィルム３、エンボス付き樹脂フ
ィルム４、樹脂フィルム１、樹脂フィルム２、樹脂フィ
ルム３、樹脂フィルム４の各々のセルロースエステルフ
ィルムの片面（ａ面）に塗布組成物（１）をウェット膜
厚で１０μｍとなるように押し出しコートし、次いで８
０℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で０．２μ
ｍの樹脂層を設けた。更にこの上に塗布組成物（２）を
ウェット膜厚で１３μｍとなるように押し出しコート
し、次いで８０℃に設定された乾燥部で乾燥した後、１
２０ｍＪ／ｃｍ²で紫外線照射し、乾燥膜厚で３μｍの
樹脂層を設けた。これをエンボス付き樹脂フィルム１Ｃ
Ａ、エンボス付き樹脂フィルム２ＣＡ、エンボス付き樹
脂フィルム３ＣＡ、エンボス付き樹脂フィルム４ＣＡ、
樹脂フィルム１ＣＡ、樹脂フィルム２ＣＡ、樹脂フィル
ム３ＣＡ、樹脂フィルム４ＣＡとする。（ＣＡはａ面側
に帯電防止層、さらにその上にクリアハードコート層付
きという意味である。） 以上作製した樹脂フィルム支持体を下表にまとめた。

【０３４２】

【表１】

【０３４３】

【表２】

【０３４４】《配向膜の作製》以下の光学補償シートの
作製においては、以下の方法で、異なった配向を与える
配向膜を支持体上に塗設して作製した。

【０３４５】（配向膜Ａ−１の作製）樹脂フィルム支持
体にゼラチン薄膜（乾燥膜厚０．１μｍ）をワイヤーバ
ーにより連続的に塗設し、さらにその上に１ｋｇの直鎖
アルキル変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３；クラ
レ（株）製）をメタノール／水＝１／４混合比を有する
溶媒１００ｌに溶解した溶液をワイヤーバー＃３により
連続的に塗布した。これらを８０℃に維持された乾燥ゾ
ーンにて乾燥させた後、ラビング処理を行い、配向膜Ａ
−１を作製する。

【０３４６】（配向膜Ａ−２の作製）樹脂フィルム支持
体にゼラチン薄膜（乾燥膜厚０．１μｍ）をワイヤーバ
ーにより連続的に塗設し、１ｋｇの下記構造のアルキル
変性ポリビニルアルコールＰ−２をメタノール／水＝
１：４混合比を有する溶媒１００ｌに溶解した溶液をワ
イヤーバー＃３により連続的に塗布した。これを６５℃
に維持された乾燥ゾーンにて乾燥させた後、ラビング処
理を行い、配向膜Ａ−２を作製する。

【０３４７】

【化７】

【０３４８】尚、ラビング処理の方向については、配向
膜を塗布した支持体を配向膜面側から見て直線上にラビ
ングした方向をＹ軸の＋方向とみなし、それに直交する
Ｘ軸を同様に支持体面内に設定し、基準配置とした。以
後、シート面の面内方向の特定については、特に断らな
い限り、ラビング方向を基準として同様に行った。

【０３４９】《液晶性化合物の配向特性の評価方法》本
発明の光学補償シートに係る配向膜の特性と液晶性化合
物の組み合わせによって得られる液晶性化合物の配向特
性は以下の手順で決定した。

【０３５０】上記で作製した各配向膜（３種類）と下記
に示す溶液ＬＣ−１、ＬＣ−２を用いて各配向膜の特性
を検討した。溶液ＬＣ−１、ＬＣ−２の液晶性化合物の
液晶性に関しては、いずれもエナンチオトロピックなネ
マティック層を発現する。

【０３５１】 （溶液ＬＣ−１の組成） ＭＥＫ（メチルエチルケトン） ８９．５部 化合物１ ２部 化合物２ ４部 化合物３ ３部 イルガキュアー３６９（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製） １．５部

【０３５２】

【化８】

【０３５３】

【化９】

【０３５４】

【化１０】

【０３５５】 （溶液ＬＣ−２の組成） ＭＥＫ ８９．５部 化合物１ ３部 化合物２ ３部 化合物３ ５部 イルガキュアー３６９（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製） １．５部 検討方法としては、配向膜を塗布したスライドグラスを
用いて各々、配向処理を行い、溶液ＬＣ−１、ＬＣ−２
を配向膜上に塗布後溶剤を乾燥させ、配向膜がアンチパ
ラレルになるよう合わせた。さらに、ホットステージを
用い、液晶温度範囲でオルソスコープ像、コノスコープ
像の観察を行い、さらに自動複屈折計を用いてアンチパ
ラレル処理を行った際の平均チルト角を測定した。さら
に、各々の配向膜に溶液ＬＣ−１、ＬＣ−２を塗布、乾
燥、熱処理を行い、液晶性化合物の片面のみに配向膜を
配置し、もう片面は空気界面となるような試料を作製
し、これを同様の観察、測定を行い平均チルト角を測定
した。更に、クリスタルローテーション法を用いて、配
向膜界面、空気界面のプレチルト角の測定を行った。結
果を表３に示す。

【０３５６】

【表３】

【０３５７】表３から、配向膜Ａ−１、Ａ−２のプレチ
ルト角は、各々５０°以下８０°以上であることが示さ
れた。

【０３５８】《光学補償シートの作製》 （光学補償シートＶの作製）以下にＶタイプの光学補償
シートの作製方法を示す。Ｖタイプとは、支持体の片面
（ｂ面）側に支持体／配向膜Ａ−１／液晶配向層(ＬＣ
−１)／配向膜Ａ−２／液晶配向層(ＬＣ−２)の構成を
有する光学補償シートである。

【０３５９】長尺ロールの樹脂フィルム支持体１上に上
記記載の配向膜Ａ−１を形成した。上表の長尺の樹脂フ
ィルム支持体１のｂ面にゼラチン薄膜（乾燥膜厚０．１
μｍ）をワイヤーバーにより連続的に塗設し、さらにそ
の上に１ｋｇの直鎖アルキル変性ポリビニルアルコール
（ＭＰ２０３；クラレ（株）製）をメタノール／水＝
１：４混合比を有する溶媒１００ｌに溶解した溶液をワ
イヤーバー＃３により連続的に塗布した。これらを８０
℃に維持された乾燥ゾーンにて乾燥させた後、長尺方向
に対して４５°の角度でラビング処理を行い、配向膜Ａ
−１を作製した。続けて、この配向膜上に、上記の溶液
ＬＣ−１をワイヤーバー＃５を用いて連続的に塗設し
た。更に、これを５５℃に維持された乾燥ゾーン内にて
無風状態で３０秒乾燥、次いで７５℃の乾燥ゾーンにて
３０秒熱処理を行い、９８ｋＰａで６０秒間窒素パージ
した後、酸素濃度０．１％条件下で４５０ｍＪ／ｃｍ²
の紫外線により硬化させた膜を作製した。こうして１層
の液晶配向層を有する長尺ロール状シートを得た。

【０３６０】次に、この長尺ロール状シートの液晶配向
層の上に、上記の配向膜Ａ−２の作製に用いた前記アル
キル変性ポリビニルアルコールＰ−２とメタノール／水
１：４からなる溶液をワイヤーバー＃３により連続的に
塗布した。これを６５℃に維持された乾燥ゾーン内にて
乾燥させた後、ラビング処理を行い、配向膜を形成し
た。ラビングは、１層目の配向膜のラビング方向（Ｙ軸
の＋方向）を基準としてＸ軸の＋の方向に向けて行っ
た。そして、この配向膜上に下記成分の前出の溶液ＬＣ
−２をワイヤバー＃５を用いて連続的に塗設した。これ
を５５℃に維持された乾燥ゾーン内にて無風状態で３０
秒乾燥、次いで７５℃に維持された乾燥ゾーン内にて３
０秒熱処理を行い、９８ｋＰａで６０秒間窒素パージし
た後、酸素濃度０．１％条件下で４５０ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線により膜を硬化させ、透明支持体の片面に、２層
の液晶性化合物含有層を有する光学補償シート１Ｖを得
た。

【０３６１】長尺の支持体１を長尺の支持体２〜４８に
変更した以外は同様にして、透明支持体の片面に、２層
の液晶配向層を有する光学補償シート２Ｖ〜４８Ｖを得
た。（各々の支持体を用いて作製したＶタイプの光学補
償シートは、各々の支持体番号にＶを付与して表記し
た。）又、液晶配向層は特に断らない限り重合性液晶性
化合物を用いて配向させた後、重合させて形成させた層
を意味する。

【０３６２】図２は、このＶタイプの光学補償シートの
構成を示す概略図である。図３の（ａ）はこのタイプの
光学補償シートをシート正面（２層の液晶配向層を有す
る側）からみたときの概略図であり、この図では液晶配
向層のみを表示している。１は光学補償シートを指し、
２２は支持体からみて手前側にある配向した液晶層の光
学軸を示し、３３はその内側にある配向した液晶層の光
学軸をしめす。これらは面内で９０度の角度で交差して
いる。（ｂ）はその光学補償シートの一辺５に平行な状
態における断面図を表す。同じく２２、３３によりそれ
ぞれの液晶層中の配向した液晶性化合物の光軸が層中の
膜厚方向で連続的に変化する様子を示す。

【０３６３】（光学補償シートＵ及びＴの作製）以下に
Ｕタイプ及びＴタイプの光学補償シートの作製方法を示
す。Ｕタイプ、Ｔタイプとは、支持体の片面に配向膜及
び液晶配向層を有する光学補償シートであり、その２枚
を貼り合わせて作製した光学補償シートである。具体的
には (Ｔタイプ) 支持体／配向膜Ａ−２／液晶配向層(ＬＣ
−２)／接着剤層／液晶配向層(ＬＣ−２)／配向膜Ａ−
２／支持体 の構成を有する光学補償シートである。Ｔタイプの光学
補償シートの構成の概略を図４に示す。

【０３６４】（Ｕタイプ）液晶配向層(ＬＣ−２)／配向
膜Ａ−２／支持体／接着剤層／支持体／配向膜Ａ−２／
液晶配向層(ＬＣ−２) の構成を有する光学補償シートである。

【０３６５】Ｕタイプの光学補償シートの構成の概略を
図５に示す。前述の長尺の樹脂フィルム支持体２のｂ面
にゼラチン薄膜（乾燥膜厚０．１μｍ）をワイヤーバー
により連続的に塗設し、配向膜Ａ−２で使用したアルキ
ル変性ポリビニルアルコールＰ−２の１ｋｇをメタノー
ル／水＝１：４混合比を有する溶媒１００ｌに溶解した
溶液をワイヤーバー＃３により連続的に塗布した。これ
を６５℃に維持された乾燥ゾーンにて乾燥させた後、長
尺方向に対して４５°の角度でラビング処理を行い、配
向膜Ａ−２を作製した。そして、この配向膜上に前述の
溶液ＬＣ−２をワイヤバー＃５を用いて連続的に塗設し
た。これを５５℃に維持された乾燥ゾーン内にて無風状
態で３０秒乾燥、次いで７５℃に維持された乾燥ゾーン
内にて３０秒熱処理を行い、９８ｋＰａで６０秒間窒素
パージした後、酸素濃度０．１％条件下で４５０ｍＪ／
ｃｍ²の紫外線により膜を硬化させ、液晶配向層を形成
した。これを２ロール作製し、一方の長尺ロールの液晶
配向層面にＳＫダイン２０９２（総研化学社製）の接着
剤を連続的に塗設し、各々の液晶配向層面を連続的に貼
り合わせて、２層の液晶配向層を有する光学補償シート
２Ｔを得た。２層の液晶配向層は面内の配向方向が直交
するように貼り合わされた。

【０３６６】長尺の樹脂フィルム支持体２を６、１０、
１４、１８、２２、２６、３０、３４、３８、４２、４
６に変更した以外は同様にして、透明支持体の片面（ｂ
面）に、２層の液晶配向層を有する光学補償シート６
Ｔ、１０Ｔ、１４Ｔ、１８Ｔ、２２Ｔ、２６Ｔ、３０
Ｔ、３４Ｔ、３８Ｔ、４２Ｔ、４６Ｔをそれぞれ作製し
た。（各々の支持体を用いて作製したＴタイプの光学補
償シートは、各々の支持体番号にＴを付与して表記し
た。） 図６の（ａ）はＴタイプの光学補償シートをシート正面
からみたときの概略図であり、液晶配向層のみを表示し
ている。２は光学補償シートをさし、２２は一方の支持
体からみて手前側にある液晶層の光学軸を示し、３３は
その向こう側にある液晶層の光学軸をしめす。これらは
９０度の角度で交差している。（ｂ）はその光学補償シ
ートの一辺５に平行な状態における断面図を表し、同じ
く２２、３３によりそれぞれの液晶配向層中の配向した
液晶性化合物の光軸が層中の膜厚方向で連続的に変化す
る様子を示す。

【０３６７】前述の長尺の樹脂フィルム２のｂ面にゼラ
チン薄膜（乾燥膜厚０．１μｍ）をワイヤーバーにより
連続的に塗設し、配向膜Ａ−２で使用したアルキル変性
ポリビニルアルコールＰ−２を１ｋｇメタノール／水＝
１：４混合比を有する溶媒１００ｌに溶解した溶液をワ
イヤーバー＃３により連続的に塗布した。これを６５℃
に維持された乾燥ゾーンにて乾燥させた後、長尺方向に
対して４５°の角度でラビング処理を行い、配向膜Ａ−
２を作製した。そして、この配向膜上に前述の溶液ＬＣ
−２をワイヤバー＃５を用いて連続的に塗設した。これ
を５５℃に維持された乾燥ゾーン内にて無風状態で３０
秒乾燥、次いで７５℃に維持された乾燥ゾーン内にて３
０秒熱処理を行い、９８ｋＰａで６０秒間窒素パージし
た後、酸素濃度０．１％条件下で４５０ｍＪ／ｃｍ²の
紫外線により膜を硬化させ、液晶配向層を形成した。こ
れを２ロール作製し、２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム
水溶液で４５℃で６０秒、鹸化処理した後、支持体面に
２質量％のポリビニルアルコールを塗設して２つの長尺
ロールを連続的に貼合し、２層の液晶配向層を有する光
学補償シートＵを得た。２層の液晶配向層は面内の配向
方向が直交するように貼り合わされた。

【０３６８】長尺の樹脂フィルム支持体２を６、１０、
１４、１８、２６、３０、３４、３８、４２に変更した
以外は同様にして、透明支持体の片面に、２層の液晶配
向層を有する光学補償シート６Ｕ、１０Ｕ、１４Ｕ、１
８Ｕ、２６Ｕ、３０Ｕ、３４Ｕ、３８Ｕ、４２Ｕをそれ
ぞれ作製した。（各々の支持体を用いて作製したＵタイ
プの光学補償シートは、各々の支持体番号にＵを付与し
て表記した。）図７の（ａ）はこのタイプの光学補償シ
ートをシート正面からみたときの概略図であり、３が光
学補償シートを、２２は手前側にある配向した液晶層の
光学軸を示し、３３はその向こう側（この場合光学補償
シートの支持体を挟んで反対側にある）の配向した液晶
層の光学軸をしめす。これらは面内配向方向が９０度の
角度で交差している。（ｂ）はその光学補償シートの一
辺５に平行な状態における断面図を表し、同じく２２、
３３によりそれぞれの液晶層中における配向した液晶性
化合物の光軸が層中の膜厚方向で連続的に変化する様子
を示す。

【０３６９】（光学補償シートＸの作製）以下にＸタイ
プの光学補償シートの作製方法を示す。Ｘタイプとは、
支持体の両面に配向膜及び液晶配向層を有する光学補償
シートであり、具体的には、 液晶配向層(ＬＣ−１)／配向膜Ａ−１／支持体／配向膜
Ａ−１／液晶配向層(ＬＣ−１) の構成を有する光学補償シートである。このタイプの光
学補償シートの構成の概略を図８に示す。

【０３７０】前述の長尺の樹脂フィルム支持体１のｂ面
にゼラチン薄膜（乾燥膜厚０．１μｍ）をワイヤーバー
により連続的に塗設し、配向膜Ａ−１で用いたアルキル
変性ポリビニルアルコール（ＭＰ２０３；クラレ（株）
製）１ｋｇをメタノール／水＝１：４混合比を有する溶
媒１００ｌに溶解した溶液をワイヤーバー＃３により連
続的に塗布した。これを６５℃に維持された乾燥ゾーン
にて乾燥させた後、長尺方向に対して４５°の角度でラ
ビング処理を行い、配向膜Ａ−１を作製した。そして、
この配向膜上に前述の溶液ＬＣ−１をワイヤーバー＃５
を用いて連続的に塗設した。これを５５℃に維持された
乾燥ゾーン内にて無風状態で３０秒乾燥、次いで７５℃
に維持された乾燥ゾーン内にて３０秒熱処理を行い、９
８ｋＰａで６０秒間窒素パージした後、酸素濃度０．１
％条件下で４５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線により膜を硬化
させ、液晶配向層を形成した。支持体のａ面についても
同様に配向膜Ａ−１及び液晶配向層を形成した。これを
光学補償シート１Ｘとした。長尺の支持体１を２〜２
０、２５〜４４に変更した以外は同様にして、透明支持
体上の片面にそれぞれ１層ずつ液晶配向層を有する光学
補償シート２Ｘ〜２０Ｘ、２５Ｘ〜４４Ｘを得た。（各
々の支持体を用いて作製したＸタイプの光学補償シート
は、各々の支持体番号にＸを付与して表記した。）図９
の（ａ）はこのＸタイプの光学補償シート４をシート正
面からみたときの概略図であり、液晶配向層のみを表示
している。２２は一方の面からみて手前側にある液晶配
向層の光学軸を示し、３３はその向こう側にある液晶配
向層の光学軸をしめす。（ｂ）前記と同じくその光学補
償シートの一辺５に平行な状態における断面図を表す。
同じく２２、３３によりそれぞれ、の液晶層中の配向し
た液晶性化合物の光軸が層中の膜厚方向で連続的に変化
する様子を示す。

【０３７１】《液晶配向層の評価方法》液晶配向層のむ
らを確認するため、クロスニコルに配置した２枚の偏光
板の間に支持体上に少なくとも１層の液晶配向層を有す
る製造途中の光学補償シートあるいは完成した光学補償
シートを配置して、ライトボックスにより下側より光を
照射して液晶配向層のむらを観察し、下記の基準で評価
した。◎及び○は実用上支障ないレベルであり、Ｘは収
率が著しく低下し、実用上困難なレベルである。

【０３７２】 ◎ 長尺シートに配向むらは認められない。 ○ 長尺シートの一部にわずかに配向むらが認められ
る。

【０３７３】 △ 長尺シートの一部に配向むらが認められる。 × 長尺シートの広い範囲に配向むらが認められる。

【０３７４】評価結果を以下に示す。

【０３７５】

【表４】

【０３７６】

【表５】

【０３７７】《視野角評価方法》上記で作製した、光学
補償シートについて視野角測定を行った。具体的には、
光学補償シートの一方の軸と偏光板の透過軸とが一致す
るように貼合し、ＮＥＣ製１５インチディスプレイＭｕ
ｌｔｉＳｙｎｃ ＬＣＤ１５２５Ｊのあらかじめ使用さ
れていた光学補償フィルムを剥がし、液晶セルと表面側
の偏光板の間に作製した光学補償シートを挿入して張り
付け、これを用いてＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−ｃｏｎｔｒａ
ｓｔにより視野角を測定した。視野角は、液晶パネルの
白表示と黒表示時のコントラスト比が１０以上を示すパ
ネル面に対する法線方向からの傾き角の範囲で評価し
た。

【０３７８】その結果、本発明の光学補償シートはいず
れも視野角が拡大し、画面を横方向から観察した際の画
面の着色もなく、明暗の反転現象も改善されていること
が確認された。これに対して、比較の光学補償シート１
Ｖ〜４Ｖ、２Ｕ、２Ｔ、１Ｘ〜４Ｘは画面を横方向から
観察した際に画面の一部に着色が認められ、明暗の反転
現象が認められる部分があった。

【０３７９】〈偏光板としての評価〉先の実施例で作製
した光学補償シート１Ｖを一方の面の偏光板用保護フィ
ルムとし、他方の偏光板用保護フィルムを実施例１で作
製した樹脂フィルム１ＣＡを用いて、下記の方法に従っ
て偏光板を作製した。

【０３８０】厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフ
ィルムをヨウ素１部、ヨウ化カリウム２部、ホウ酸４部
を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し偏光膜を得
た。

【０３８１】下記１．〜５．の工程で、偏光膜と偏光板
用保護フィルムとをはり合わせて偏光板を作製した。

【０３８２】〈偏光板の作製方法〉 １．長手方向３０ｃｍ、幅手方向１８ｃｍに切り取った
保護フィルム２枚（光学補償シート１Ｖと樹脂フィルム
１ＣＡを各一枚）をそれぞれ２ｍｏｌ／ｌの水酸化ナト
リウム溶液に５０℃で２分間浸漬し、さらに水洗、乾燥
させた。

【０３８３】２．偏光板用保護フィルム試料と同サイズ
の上記偏光膜を固形分濃度２％のポリビニルアルコール
接着剤槽中に１〜２秒間浸漬する。

【０３８４】３．上記２．の偏光膜に付着した過剰の接
着剤を軽く取り除き、鹸化処理した光学補償シート１Ｖ
のａ面上にのせて、さらに鹸化処理した樹脂フィルム１
ＣＡのｂ面と接着剤とが接する様に積層し配置した。

【０３８５】４．ハンドローラで上記３．で積層された
偏光膜と保護フィルムとの積層物に圧力をかけ密着させ
た後、積層物の端部から過剰の接着剤及び気泡を取り除
きはり合わせた。ハンドローラに約２０〜３０Ｎ／ｃｍ
²の応力をかけて、ローラスピードは約２ｍ／ｍｉｎと
した。

【０３８６】５．８０℃の乾燥器中に４．で得た試料を
２分間放置した。光学補償シート１Ｖを２Ｖ〜２０Ｖ、
２５Ｖ〜４４Ｖ、６Ｔ、１０Ｔ、１４Ｔ、１８Ｔ、２６
Ｔ、３０Ｔ、３４Ｔ、３８Ｔ、４２Ｔに替えた以外は同
様にしてそれぞれ偏光板を作製した。

【０３８７】このようにして作製した偏光板について、
目視による故障を確認したところ、本発明の光学補償シ
ートを使用した偏光板は故障は認められず、液晶ディス
プレイなどの画像表示装置用の偏光板として優れた光学
補償機能を有することが確認された。

【０３８８】

【発明の効果】本発明により、視野角特性、すなわち、
斜め方向から見た場合の画面の着色、明暗の反転現象を
一枚のみで簡便に改善できる長尺の光学補償シートを提
供し、且つ、それらを用いて著しく視野角が改善される
液晶表示装置を提供することが出来た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学補償シートを使用した液晶ディス
プレイ（表示装置）の構成の一形態を示す図である。

【図２】本発明のＶタイプの光学補償シートの構成を示
す概略図である。

【図３】本発明のＶタイプの光学補償シートの正面図及
び断面図である。

【図４】本発明のＴタイプの光学補償シートの構成を示
す概略図である。

【図５】本発明のＵタイプの光学補償シートの構成を示
す概略図である。

【図６】本発明のＴタイプの光学補償シートの正面図及
び断面図である。

【図７】本発明のＵタイプの光学補償シートの正面図及
び断面図である。

【図８】本発明のＸタイプの光学補償シートの構成を示
す概略図である。

【図９】本発明のＸタイプの光学補償シートの正面図及
び断面図である。

【符号の説明】

１、２、３、４ 光学補償シート ２２ 観察者側から見て、手前に位置する液晶性化合物
の配向方向 ３３ 観察者から見て奥に位置する液晶性化合物の配向
方向 ５ 光学補償シートの一辺 Ｓ 光学補償シート ４４、４４ａ 偏光子 ４６、４６ａ 光学異方性層 ４７、４９ 基板 ４８ 液晶 ５１、５１ａ 偏光子の吸収軸 ５２、５３ 光学異方性層の配向方向 ５４、５４ａ 基板のラビング方向 ６０、６０ａ 光学異方性層を形成した液晶性化合物の
配向の様子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保 伸夫 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 滝山 信行 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 川上 壮太 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA42 BB00 BB03 BB49 BC01 BC04 BC05 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FC14 FD09 FD10 GA13 HA06 HA07 LA12 LA19

Claims (26)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に重合性液晶性化合物を配向さ
   せて形成された２つの層を有する光学補償シートにおい
   て、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たとき
   に、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償シ
   ート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に対
   して連続的または段階的に増加するように配向させた層
   であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に減
   少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液晶
   性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８０
   〜１００度の角度で交差するように配置した光学補償シ
   ートであって、少なくとも一方の面の表層に微粒子を含
   有することを特徴とする光学補償シート。
2. 【請求項２】 支持体上に重合性液晶性化合物を配向さ
   せて形成された２つの層を有する光学補償シートにおい
   て、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たとき
   に、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償シ
   ート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に対
   して連続的または段階的に増加するように配向させた層
   であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に減
   少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液晶
   性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８０
   〜１００度の角度で交差するように配置した光学補償シ
   ートであって、該液晶性化合物を配向させて形成させた
   層を有する面と反対側の面にバックコート層を有するこ
   とを特徴とする光学補償シート。
3. 【請求項３】 支持体上に重合性液晶性化合物を配向さ
   せて形成された２つの層を有する光学補償シートにおい
   て、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たとき
   に、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償シ
   ート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に対
   して連続的または段階的に増加するように配向させた層
   であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に減
   少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液晶
   性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８０
   〜１００度の角度で交差するように配置した長尺光学補
   償シートであって、２０Ｈｚにおけるインピーダンスの
   絶対値が４×１０⁵Ω以上であることを特徴とする光学
   補償シート。
4. 【請求項４】 支持体上に重合性液晶性化合物を配向さ
   せて形成された２つの層を有する光学補償シートにおい
   て、該光学補償シートの一方の面から該２層を見たとき
   に、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償シ
   ート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に対
   して連続的または段階的に増加するように配向させた層
   であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に減
   少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液晶
   性化合物それぞれの面内における配向方向が互いに８０
   〜１００度の角度で交差するように配置した光学補償シ
   ートであって、幅手両端部がエンボス加工されている長
   尺ロール状であることを特徴とする光学補償シート。
5. 【請求項５】 長尺の支持体上に重合性液晶性化合物を
   配向させて形成された２つの層を有する光学補償シート
   において、該光学補償シートの幅手両端部がエンボス加
   工されており、２０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶対
   値が４×１０ ⁵Ω以上であることを特徴とする光学補償
   シート。
6. 【請求項６】 重合性液晶性化合物が棒状の液晶性化合
   物であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項
   に記載の光学補償シート。
7. 【請求項７】 支持体が総アシル基置換度２．３０〜
   ２．７５のセルロースエステルであることを特徴とする
   請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
8. 【請求項８】 支持体の両面にそれぞれ重合性液晶性化
   合物を配向させて形成された層を有することを特徴とす
   る請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シー
   ト。
9. 【請求項９】 微粒子を含有する表層を有する支持体
   の、該表層を有する面と反対の面にそれぞれ配向層及び
   重合性液晶性化合物を塗設し、配向させた重合性液晶性
   化合物の層を２つ形成することを特徴とする光学補償シ
   ートの製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載の光学補償シートの製
    造方法に用いるものであって、一方の面の表層に微粒子
    を含有することを特徴とする樹脂フィルム支持体。
11. 【請求項１１】 一方の面にバックコート層を有する支
    持体の反対の面にそれぞれ配向層及び重合性液晶性化合
    物の層を塗設し、配向させた重合性液晶性化合物の層を
    ２つ形成することを特徴とする請求項９に記載の光学補
    償シートの製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の光学補償シートの
    製造方法に用いるものであって、一方の面にバックコー
    ト層を有することを特徴とする樹脂フィルム支持体。
13. 【請求項１３】 幅手両端部がエンボス加工されている
    長尺の支持体上にそれぞれ配向層及び重合性液晶性化合
    物の層を塗設し、配向させた重合性液晶性化合物の層を
    ２つ形成することを特徴とする請求項９又は１１に記載
    の光学補償シートの製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項１３に記載の光学補償シートの
    製造方法に用いるものであって、幅手両端部がエンボス
    加工された長尺状であることを特徴とする樹脂フィルム
    支持体。
15. 【請求項１５】 ２０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶
    対値が４×１０⁵Ω以上である支持体上にそれぞれ配向
    層及び重合性液晶性化合物の層を塗設し、配向させた重
    合性液晶性化合物の層を２つ形成することを特徴とする
    請求項９、１１、１３のいずれか１項に記載の光学補償
    シートの製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１５に記載の光学補償シートの
    製造方法に用いるものであって、２０Ｈｚにおけるイン
    ピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上であることを特
    徴とする樹脂フィルム支持体。
17. 【請求項１７】 光学補償シートの一方の面から重合性
    液晶性化合物を配向させて形成された２つの層を見たと
    きに、一方の層は、該液晶性化合物の光軸と該光学補償
    シート面とのなす角度が該光学補償シートの厚さ方向に
    対して連続的または段階的に増加するように配向させた
    層であり、他方の層は、該角度が連続的または段階的に
    減少するように配向させた層であり、且つ、該２層の液
    晶性化合物のそれぞれの面内における配向方向が互いに
    ８０〜１００度の角度で交差するように配置することを
    特徴とする請求項９、１１、１３、１５のいずれか１項
    に記載の光学補償シートの製造方法。
18. 【請求項１８】 長尺の支持体の両面に対して、それぞ
    れ下記の工程（１）〜（３）を行うことによって、両面
    に配置された液晶性化合物から形成された２層が、その
    ２層それぞれのシート面内における配向方向のなす角度
    が互いに８０〜１００°となるように配向処理させるこ
    とを特徴とする請求項９、１１、１３、１５、１７のい
    ずれか１項に記載の光学補償シートの製造方法。 （１）長尺の該支持体上に直接または他の層を介して配
    向層を連続的に塗布する。 （２）該配向層を該支持体の長尺方向に対して略４５度
    の角度で斜め方向に配向処理を行う。 （３）該配向層上に液晶性化合物を連続的に塗布して、
    液晶相を発現する温度条件で固定化する。
19. 【請求項１９】 下記の工程（１）〜（４）を有し、且
    つ、長尺の支持上に連続的な塗布を行うことを特徴とす
    る請求項９、１１、１３、１５、１７のいずれか１項に
    記載の光学補償シートの製造方法。 （１）長尺の該支持体上に直接または他の層を介して配
    向層を連続的に塗布する。 （２）該配向層を該支持体の長尺方向に対して略４５度
    の角度で斜め方向に配向処理を行う。 （３）該配向層上に液晶性化合物を連続的に塗布して、
    液晶相を発現する温度条件で固定化する。 （４）長尺の該支持体同士を、該液晶性化合物含有層を
    有する面同士または、該支持体面同士を直接あるいは粘
    着性層または他の層を介して貼合する。
20. 【請求項２０】 請求項９、１１、１３、１５、１７〜
    １９のいずれか１項に記載の方法により製造されたこと
    を特徴とする光学補償シート。
21. 【請求項２１】 請求項１〜８のいずれか１項又は２０
    に記載の光学補償シートを有することを特徴とする偏光
    板。
22. 【請求項２２】 請求項１〜８のいずれか１項又は２０
    に記載の光学補償シートあるいは請求項２１に記載の偏
    光板を有することを特徴とする液晶表示装置。
23. 【請求項２３】 硬化樹脂層を有し、裏面に微粒子を含
    有する表層を有する支持体に、硬化樹脂層の上に直接又
    は他の層を介して、重合性液晶性化合物を配向させて形
    成された層を１つ以上設けることを特徴とする光学補償
    シートの製造方法。
24. 【請求項２４】 硬化樹脂層を有し、裏面にバックコー
    ト層を有する支持体に、硬化樹脂層の上に直接又は他の
    層を介して、重合性液晶性化合物を配向させて形成され
    た層を１つ以上設けることを特徴とする光学補償シート
    の製造方法。
25. 【請求項２５】 硬化樹脂層を有し、２０Ｈｚにおける
    インピーダンスが４×１０⁵Ω以上の長尺の支持体に、
    硬化樹脂層の上に直接又は他の層を介して重合性液晶性
    化合物を配向させて形成された層を１つ以上設けること
    を特徴とする光学補償シートの製造方法。
26. 【請求項２６】 硬化樹脂層を有し、幅手両端部がエン
    ボス加工されている長尺の支持体に、硬化樹脂層の上に
    直接又は他の層を介して、重合性液晶性化合物を配向さ
    せて形成された層を１つ以上設けることを特徴とする光
    学補償シートの製造方法。