KR101109172B1

KR101109172B1 - 광학적층체

Info

Publication number: KR101109172B1
Application number: KR1020050091632A
Authority: KR
Inventors: 히데타케 미야자키; 도모유키 마에카와; 겐 후루이
Original assignee: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2004-09-30
Filing date: 2005-09-29
Publication date: 2012-03-05
Anticipated expiration: 2025-09-29
Also published as: US20060134428A1; US7585560B2; TW200632359A; KR20060051876A; TWI367346B

Abstract

본 발명은 광원의 이미지 반사 방지, 간섭 줄무늬 방지 등의 광학 특성을 발휘한 광학적층체를 개시한다. 본 발명은 광투과성 기재와 이 광투과성 기재상에 방현층을 구비하여 이루어지는 광학적층체로서, 상기 방현층이 상기 광투과성 기재상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이며, 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제와 수지가 상기 광투과성 기재에 침투하고, 상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연 일체가 되어 침투층이 형성되어 이루어지는 것이다.

광학적층체, 광투과성 기재, 방현제, 침투성 용제

Description

광학적층체{OPTICAL LAMINATE}

도 1은 본 발명의 광학적층체의 단면도를 나타낸다.

도 2는 본 발명의 바람직한 광학적층체의 단면도를 나타낸다.

본 발명은 광학적층체, 특히 반사방지 적층체에 관한 것이다.

액정 디스플레이(LCD) 또는 음극관 표시 장치(CRT) 등의 화상 표시 장치에 있어서의 화상 표시면은, 형광등 등의 외부 광원으로부터 조사된 광선에 의한 반사를 적게 하고, 그 시인성을 높일 것이 요구된다. 이에 반해 투명한 물체의 표면을 굴절률이 낮은 투명 피막으로 피복함으로써 반사율을 저하시킨 광학적층체(예를 들면 반사 방지 적층체)를 구비하여 이루어짐으로써 화상 표시 장치의 표시면의 반사를 저감시키고 시인성을 향상시키고 있다. 반사방지 적층체의 일예로써는 광투과형 기재의 표면에 방현층과 굴절률층이 적층되어 형성되어 이루어지는 것을 들 수 있다.

종래 광학적층체에 있어서는 각 층의 첨가제(도전성 입자, 방현제)의 물성 및 그 첨가량 등에 대해서 적당한 것을 선택함으로써 원하는 광학 특성을 발견해왔다. 예를 들면 일본국 특허공개 2003-75605호 공보에서는 방현층에 사용되는 투명수지의 굴절률, 입자경, 입자의 배합 등에 대해서 적절한 값을 선택하고, 방현성 적층체의 광학 특성을 향상시키는 것이 제안되고 있다.

그러나 본 발명자들이 확인한 바에 의하면, 광학적층체의 각 층의 상관관계에 착안하여, 각 층간을 조정함으로서 광학적층체 자체의 광학 특성을 향상시켜서 고정세 사양의 광학적층체가 개발됐다는 보고는 없다.

본 발명자들은 본 발명에 있어서 광투과성 기재와 방현층의 계면에 착안하여, 이 방현층용 조성물 중에 첨가된 침투성 용제와 수지가 광투과성 기재를 침투하여 침투층을 형성함으로써 뛰어난 광학 특성을 부여할 수 있다는 사실을 발견하였다.

따라서, 본 발명은 이러한 발견 하에 이루어진 것이다. 따라서, 따른 광학적층체는, 광투과성 기재와 이 광투과성 기재상에 방현층을 구비하여 이루어지는 것으로,

상기 방현층이 상기 광투과성 기재상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되 어 이루어지는 것이며,

상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제와 수지가 상기 광투과성 기재에 침투하여 상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체가 되어 침투층이 형성되어 이루어진 것이다.

또한 본 발명의 바람직한 다른 형태에 의한 광학적층체는 광투과성 기재와 이 광투과성 기재상에 대전 방지층과 방현층을 이들의 순서로 구비하여 이루어지는 것으로,

상기 방현층이 상기 대전 방지층 상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이며, 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제와 수지가 상기 광투과성 기재에 침투하여 상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체가 되서 침투층이 형성되어 이루어지는 것이다.

본 발명의 바람직한 다른 형태에 의한 광학적층체는 광투과성 기재와 이 광투과성 기재상에 하드코팅층과 방현층을 이들의 순서로 구비하여 이루어진 광학적층체로서,

상기 방현층이 상기 하드코팅층 상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이며, 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제와 수지가 상기 광투과성 기재에 침투하여 상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체가 되어 침투층이 형성되어 이루어지는 것이다.

본 발명에 따른 광학적층체에 의하면 침투층이 형성되기 때문에 디스플레이표시화면으로의 형광등 등의 광원의 이미지 반사와, 면 반사를 방지하는 등의 광학 특성을 발휘할 수 있다. 또한 방현층의 가장 바깥쪽 표면에 형성되는 요철형상에 있어서 수지 성분이 방현제에 대량으로 부착하지 않고, 원하는 요철형상이 형성되기 때문에 바람직하다.

본 발명에 있어서 "면 반사 광" 이란 디스플레이 내부로부터 투과광이 디스플레이 표면에서 관찰자의 눈에 도달할 때, 요철형상에 기인하여 생기는 반짝거리는 시인성을 저해하는 반쩍이는 빛을 말한다.

1. 광학적층체

본 발명에 의한 광학적층체에 대해서 도 1을 이용하여 설명한다. 도 1은 광학적층체(1)의 개략도이다. 광학적층체(1)(반사방지 적층체)는 광투과성 기재(2)의 상부면에 방현층(7)과 저굴절률층(9)이 형성되어 이루어진다. 방현층용 조성물이 광투과성 기재(2) 상에 도포되어 부착되면, 방현층용 조성물에 포함되는 침투성 용제와 수지가 광투과성 기재(2)의 가장 바깥 표면으로부터 침투하고, 방현층용 조성물 중에 포함되는 수지와 광투과성 기재가 혼연일체된 침투층(3)이 형성되어 이루어진다. 이 침투층(3)이 형성됨으로서 본 발명에 의한 광학적층체는 뛰어난 광학 특성을 발휘할 수 있다. 침투층(3)은 알기 쉽도록 도 1에서는 방현층(7)과 광투과성 기재(2) 사이에 존재하도록 그려져 있지만, 본 발명에 있어서는 이들 3층은 실질적으로 계면이 존재하지 않도록 형성되어 이루어지는 것이며, 그러한 적층체가 바람직하다.

본 발명에 따른 바람직한 광학적층체에 대해서 도 2를 이용해서 설명한다. 도 2는 광학적층체(10)(반사방지 적층체)의 개략도를 나타내는 것이다. 이 광학적층체(10)는 도 1에 도시한 광학적층체(1)에 있어서의 광투과성 기재(2)와 방현층(7) 사이에 대전 방지층(5) 또는 하드코팅층(5)을 적층한 것이다. 방현층용 조성물이 대전 방지층(5) 또는 하드코팅층(5) 상에 도포되어 부착되면, 방현층용 조성물에 포함되는 침투성 용제와 수지가 대전 방지층(5) 또는 하드코팅층(5)을 통과해서 광투과성 기재(2)의 가장 바깥 표면으로부터 침투하고, 방현층용 조성물 중에 포함되는 수지와 광투과성 기재가 혼연일체가 된 침투층(3)이 형성된다. 침투층(3)은 알기 쉽도록 도 2에서는 대전 방지층(5) 또는 하드코팅층(5)과 광투과성 기재(2)의 사이에 존재하도록 그려져 있지만, 본 발명에 있어서는 이들 3층은 실질적으로 계면이 존재하지 않도록 형성되어 이루어지는 것이며 이러한 적층체가 바람직하다.

또한 본 발명의 더 바람직한 형태에 의하면, 도 2에 나타난 광학적층체(10)에 있어서 대전 방지층(5) 또는 하드코팅층(5)이 광투과성 기재(2) 상에 대전 방지층용 조성물 또는 하드코팅층용 조성물을 부여해서 형성되어 이루어지는 것이며, 여기에서 방현층(7)이 대전 방지층(5) 또는 하드코팅층(5) 상에 방현층용 조성물을 부여해서 형성되어 이루어지는 것이며, 대전 방지층용 조성물 또는 하드코팅층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제와 수지와, 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제와 수지가 광투과성 기재(2)에 침투하고, 대전 방지층용 조성물 또는 하드코팅층용 조성물 중에 포함되는 수지와 방현층용 조성물 중에 포함되는 수지와 광투과성 기재가 혼연일체가 된 침투층(3)이 형성되어 이루어지는 광학적층체가 제안된다.

본 발명에 있어서 광학적층체는 그 최종 제품 광학적층체 중의 침투층(3)에 침투성 용제는 잔존하지 않는 것이 바람직하다.

1) 침투층

침투층의 존재는 광투과성 기재와 방현층(또한 대전 방지층, 하드코팅층) 등의 각 층과의 계면을 실질적으로 없애서, 간섭 줄무늬를 방지하여 뛰어난 광학 특성을 부여할 수 있다. 또한 방현층의 수지 성분을 조정할 수 있고, 그 결과 방현층의 가장 바깥 표면의 요철형상을 원하는 형상으로 형성하는 것이 가능하게 된다.

본 발명에 있어서 침투층의 두께는 0.1㎛ 이상 1.5㎛이하이며, 바람직하게는 하한이 0.3㎛ 이하이며 하한이 0.9㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 하한이 0.5㎛이며 하한이 0.7㎛ 이상이다. 침투층의 두께는 후기하는 침투성 용제의 첨가량에 따라 적절히 조정되어도 된다.

2) 방현 층

방현층은 침투성 용제와 수지와 방현제에 의해 형성되어도 된다. 방현층의 막 두께는 0.1～100㎛, 바람직하게는 0.8～20㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 막두께가 이 범위에 있는 것에 의해 방현층으로서의 기능을 충분히 발휘할 수 있다.

침투성 용제

본 발명에 있어서는 침투성 용제는 침투성, 팽윤성, 침투 용해성 등의 어느 하나의 작용을 포함하는 용제를 의미한다.

침투성 용제의 구체예로서는, 아세톤, 케톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 니트로메탄, 1,4-디옥산, 디옥소란, N-메틸피롤리돈, 아세트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산부틸, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 트리클로로에틸렌, 에틸렌클로라이드, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, N,N-디메틸포름아미드, 및 클로로포름 등을 들을 수 있고, 바람직하게는 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 아세트산에틸, 아세트산메틸, 디클로로메탄 및 클로로포름 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다.

수지

수지의 구체예로서는 열가소성 수지, 열경화성 수지, 또는 전리 방사선 경화성 수지 또는 전리 방사선 경화성 화합물(유기 반응성 규소 화합물을 포함한다)을 사용할 수 있다. 수지로서는 열가소성 수지도 사용할 수 있지만, 열경화성 수지를 사용하는 것이 더 바람직하고, 더 바람직하게는 전리 방사선 경화성 수지 또는 전리 방사선 경화성 화합물을 포함하는 전리 방사선 경화성 조성물이다.

전리 방사선 경화성 조성물로서는 분자중에 중합성 불포화 결합 또는 에폭시기를 갖는 프리폴리머, 올리고머, 및/또는 모노머를 적절히 혼합한 것이다. 여기에서 전리 방사선이란 전자파 또는 하전 입자선 중 분자를 중합 또는 가교할 수 있는 에너지 양자를 갖는 것을 가리키고, 보통은 자외선 또는 전자선을 이용한다.

전리 방사선 경화성 조성물 중 프리폴리머, 올리고머의 예로서는 불포화 디카르본산과 다가 알코올의 축합물 등의 불포화 폴리에스테르류, 폴리에스테르메타크릴레이트, 폴리에테르메타크릴레이트, 폴리올메타크릴레이트, 멜라민메타크릴레이트 등의 메타크릴레이트류; 폴리에스테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 폴리올아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트 등의 아크릴레이트; 양이온 중합형 에폭시 화합물을 들 수 있다.

전리 방사선 경화성 조성물 중의 모노머의 예로서는 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 모노머; 아크릴산메틸, 아크릴산-2-에틸헥실, 아크릴산메톡시에틸, 아크릴산부톡시에틸, 아크릴산부틸, 아크릴산메톡시부틸, 아크릴산페놀 등의 아크릴산에스테르류; 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산프로필, 메타크릴산 메톡시에틸, 메타크릴산에톡시메틸, 메타크릴산페닐, 메타크릴산라우릴 등의 메타크릴산에스테르류; 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디메틸 아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디벤질아미노)메틸, 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)프로필 등의 불포화 치환의 치환 아미노알코올 에스테르류; 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 불포화 카르본산아미드; 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥사논디올디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트 등의 화합물; 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트 등의 다작용성 화합물; 및/또는 분자중에 2개 이상의 티올기를 갖 는 폴리티올 화합물, 예를 들면 트리메티롤프로판트리티오글리콜레이트, 트리메티롤프로판트리티오프로필레이트, 펜타에리스리톨테트라티오글리콜레이트 등을 들 수 있다.

보통 전리 방사선 경화성 조성물 중의 모노머로서는 이상의 화합물을 필요에 따라서 1종 또는 2종 이상을 혼합해서 이용하는데, 전리 방사선 경화성 조성물에 보통의 도포 적성을 제공하기 위해서, 상기의 프리폴리머 또는 올리고머를 5중량% 이상, 상기 모노머 및/또는 폴리티올 화합물을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

전리 방사선 경화성 조성물을 도포해서 경화시켰을 때의 플렉시빌리티가 요구될 때에는 모노머 양을 줄이거나 작용기의 수가 1 또는 2인 아크릴레이트 모노머를 사용하면 된다. 전리 방사선 경화성 조성물을 도포하고 경화시켰을 때의 내마모성, 내열성, 내용제성이 요구될 때에는 작용기의 수가 3 이상인 아크릴레이트 모너머를 사용하는 등, 전리 방사선 경화성 조성물의 설계가 가능하다. 여기에서 작용기가 1인 것으로서 2-히드록시아크릴레이트, 2-헥실아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트를 들 수 있다. 작용기가 2인 것으로서 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥사논디올디아크릴레이트를 들 수 있다. 작용기가 3 이상인 것으로서 트리메티롤프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등을 들 수 있다.

전리 방사선 경화성 조성물을 도포하고 경화시켰을 때의 플렉시빌리티나 표면 경도 등의 물성을 조정하기 위해, 전리 방사선 경화성 조성물에 전리 방사선 조 사로는 경화되지 않는 수지를 첨가할 수도 있다. 구체적인 수지의 예로서는 다음의 것이 있다. 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리비닐부틸알 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리아세트산비닐 등의 열가소성 수지이다. 그 중에서도 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리비닐부틸알 수지 등의 첨가가 플렉시빌리티의 향상이라는 점에서 바람직하다.

전리 방사선 경화성 조성물의 도포 후의 경화가 자외선 조사에 의해 행해질 때에는 광중합 개시제나 광중합 촉진제를 첨가한다. 광중합 개시제로서는 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우에는 아세톤페논류, 벤조페논류, 티옥산톤(Thioxanthone)류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합해서 이용한다. 또한 양이온 중합성 작용기를 갖는 수지계의 경우에는 광중합 개시제로서 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오드늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인술폰산 에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 이용한다. 광중합 개시제의 첨가량은 전리 방사선 경화성 조성물 100중량부에 대해서 0.1~10중량부이다.

전리 방사선 경화성 조성물에는 다음과 같은 유기 반응성 규소 화합물을 병용해도 된다.

유기 규소 화합물의 1은 일반식 R_mSi(OR')_n으로 나타낼 수 있는 것으로, R 및 R'는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타내고, R의 첨자 m과 OR'의 첨자 n은 각각이 m+n=4의 관계를 만족하는 정수이다.

구체적으로는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-iso-프로폭시실 란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 테트라펜타에톡시실란, 테트라펜타-iso-프로폭시실란, 테트라펜타-n-프로폭시실란, 테트라펜타-n-부톡시실란, 테트라펜타-sec-부톡시실란, 테트라펜타-tert-부톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸프로폭시실란, 디메틸부톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 헥실트리메톡시실란 등을 들 수 있다.

전리 방사선 경화성 조성물에 병용할 수 있는 유기 규소 화합물은 실란커플링제이다. 구체적으로는 γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필메톡시실란?염산염, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 아미노실란, 메틸메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, 헥사메틸디실라잔, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 옥타데실디메틸[3-(트리메톡시릴)프로필]암모늄클로라이드, 메틸트리클로로실란, 디메틸디클로로실란 등을 들 수 있다.

방현제

방현제는 무기계 유기계중 어느 것이어도 되고, 그 형상은 어느 것이어도 되고, 예를 들면 미립자를 들 수 있다. 미립자 중에서도 수지 비드를 바람직하게 들 수 있다. 미립자는 그 굴절률이 1.40～1.60의 값을 갖는 것이 바람직하다. 전리 방사선 경화형 수지, 특히 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트계 수지의 굴절률은 통상 1.45～1.55의 값을 나타내는 것에 의해 미립자의 굴절률을 전리 방사선 경화형 수지의 굴절률에 근사하는 것을 사용함으로써 광학적층체의 투명성을 유지하면서 방현성을 부여하는 것이 가능하게 되기 때문이다.

전리 방사선 경화형 수지의 굴절률에 가까운 굴절률을 갖는 수지 비드의 구체예(괄호안에는 굴절률을 나타낸다)로서는 폴리메틸메타아크릴레이트 비드(1.49), 폴리카보네이트에스테르 비드(1.58), 폴리스티렌 비드(1.60), 폴리아크릴스티렌 비드(1.57), 폴리염화비닐 비드(1.54) 등을 들 수 있다. 이들의 수지 비드의 입경은 1～8㎛의 것이 적당하게 이용된다. 수지 비드의 첨가량은 전리 방사선 경화형 수지 100중량부에 대해 2～20중량부, 바람직하게는 16중량부 정도이다.

방현층용 조성물을 조정할 때에 침강 방지제를 첨가하는 것이 바람직하다. 침강 방지제를 첨가함으로써 수지 비드의 침전을 억제하고, 용매내에 균일하게 분산시킬 수 있기 때문이다. 침강 방지제의 구체예로서는 입경이 0.5㎛ 이하, 바림직하게는 0.1~0.25㎛ 정도의 실리카 비드를 들 수 있다. 침강방지제로서의 실리카 비드의 첨가량은 전리 방사선 경화형 수지 100중량부에 대해서 0.1중량부 미만 정도가 바람직하다. 이 첨가량에 의해 수지 비드의 침강을 유효하게 방지할 수 있고, 또한 도포막의 투명성을 충분히 유지할 수 있기 때문이다.

3) 광투과성 기재

광투과성 기재는 평활성, 내열성을 구비하고, 기계적 강도에 뛰어난 것이 바람직하다. 광투과성 기재를 형성하는 재료의 구체적 예로서는 셀룰로오스트리아세트산, 폴리에스테르, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에스테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜틴, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리메타크릴산메틸, 폴리카보네이트, 또는 폴리우레탄 등의 열가소성 수지를 들 수 있고, 바람직하게는 셀룰로오스트리아세트산 등을 들 수 있다.

본 발명에 있어서는 이들 열가소성 수지를 박막의 유연성이 풍부한 필림체로써 사용하는 것이 바람직하지만, 경화성이 요구되는 사용 형태에 따라 이들 열가소성수지가 판형상체인 것도 사용할 수 있다.

광투과성 기재의 두께는 20㎛ 이상 300㎛ 이하, 바람직하게는 상한이 20㎛ 이하이며, 하한이 30㎛ 이상이다.

4) 기타 층

본 발명에 의한 광학적층체는 광투과성 기재와 방현층에 의해 기본적으로는 구성되어 이루어지지만, 광학 특성을 향상시킬 목적으로 하기와 같은 층을 적층시키는 것이 바람직하다.

대전 방지층

대전 방지층은 광투과성 기재와 방현층의 사이에 바람직하게는 적층된다. 대전 방지층용 조성물은 대전 방지제(도전제)와, 수지를 포함해서 이루어지는 것이다.

침투성 용제

본 발명의 바람직한 형태에 따르면 대전 방지층용 조성물 침투성 용제를 포함해서 이루어지는 것이 바람직하다. 침투성 용제는 방현층용 조성물의 항에서 설명한 바와 같은 것이어도 된다. 대전 방지층용 조성물과 방현층용 조성물에 의해 침투층을 형성할 경우 대전 방지층용 조성물에 포함되는 침투성 용제와 방현층용 조성물에 포함되는 침투성 용제의 첨가량을 적의 조정하는 것이 바람직하다.

대전 방지제( 도전제 )

대전 방지제의 구체예로서는 제4급 암모늄염, 필리디늄염, 제1~제3 아미노기 등의 양이온성 기를 갖는 각종 양이온성 화합물, 술폰산 염기, 황산에스테르염기, 인산에스테르염기, 포스폰산염기 등의 음이온성 기를 갖는 음이온성 화합물, 아미노산계, 아미노황산에스테르계 등의 양성(兩性) 화합물, 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 화합물, 주석 및 티타늄의 알콕시드와 같은 유기 금속 화합물 및 그들의 아세틸아세트네이트염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있으며, 추가로 상기에 열거한 화합물을 고분자량화한 화합물을 들 수 있다. 또한 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기, 또는 금속 킬레이트부를 갖고, 아울 러 전리 방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머, 혹은 전리 방사선에 의해 중합 가능한 작용기를 갖는 커플링제와 같은 유기 금속 화합물 등의 중합성 화합물 또한 대전 방지제로서 사용할 수 있다.

또한 대전 방지제의 구체예로서 도전성 초미립자를 들 수 있다. 도전성미립자의 구체예로서는 금속 산화물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 그러한 금속 산화물로서는 ZnO(굴절률 1.90, 이하 괄호 내의 수치는 굴절률을 나타낸다.), CeO₂(1.95), Sb₂O₂(1.71), SnO₂(1.997), ITO로 약칭되는 경우가 많은 산화 인듐 주석(1.95), In₂O₃(2.00), Al₂O₃(1.63), 안티몬이 도핑된 산화 주석(약칭; ATO, 2.0), 알루미늄이 도핑된 산화 아연(약칭: AZO, 2.0) 등을 들 수 있다. 미립자란 1 마이크론 이하의 이른바 서브 마이크론 크기의 것을 가리키고, 바람직하게는 평균 입경이 0.1nm~0.1㎛의 것이다.

3) 수지

수지는 방현층용 조성물의 항에서 설명한 바와 같은 것이어도 된다.

하드코팅층

하드코팅층은 광투과성 기재와 방현층의 사이에 바람직하게는 적층된다. 하드코팅층용 조성물은 수지를 포함하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 에서는 하드코팅층용 조성물은 도전제를 더 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 "하드코팅층"이란 JIS5600-5-4(1999)에서 규정되는 연필 경도 시험에서 "H"이상의 경도를 나타내는 것을 말한다. 하드코팅층의 막 두께(경화시)는 0.1~100㎛, 바람직하게는 0.8~20㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다.

침투성 용제

본 발명의 바람직한 형태에 의하면 하드코팅층용 조성물은 침투성 용제를 포함해서 이루어지는 것이어도 된다. 침투성 용제는 방현층용 조성물의 항에서 설명한 바와 같은 것이어도 된다. 하드코팅층용 조성물과 방현층용 조성물에 의해 침투층을 형성하는 경우, 하드코팅층용 조성물에 포함되는 침투성 용제와 방현층용 조성물에 포함되는 침투성 용제의 첨가량을 적당히 조정하는 것이 바람직하다.

수지

수지로서는 투명성인 것이 바람직하고, 그 구체예로서는 자외선 또는 전자선에 의해 경화하는 수지인 전리 방사선 경화형수지, 전리 방사선 경화형 수지와 용제건조형 수지의 혼합물, 또는 열경화형 수지의 3종류를 들 수 있고, 바람직하게는 전리 방사선 경화형 수지를 들 수 있다,

전리 방사선 경화형 수지의 구체예로서는 아크릴레이트계의 작용기를 갖는 것, 예를 들면 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다작용 화합물의 (메타)알릴레이트 등 의 올리고머 또는 프레폴리머, 반응성 희석제를 들 수 있고, 이들의 구체예로서는 에틸(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등의 단작용 모노머 및 다작용 모노머, 예를 들면 폴리메티롤프로판트리(메타)알킬레이트, 헥사논디올(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,6-헥사논디올디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 이소시아눌산 변성 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.

전리 방사선 경화형 수지를 자외선 경화형 수지로서 사용하는 경우에는 광 중합 개시제를 이용하는 것이 바람직하다. 광 중합 개시제의 구체예로서는 아세트페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 테트라메틸티우람모노설파이드, 티옥시산톤류를 들 수 있다. 또한 광 증감제를 혼합해서 이용하는 것이 바람직하며, 그 구체예로서는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.

전리 방사선 경화형 수지에 혼합하여 사용되는 용제 건조형 수지로서는 주로 열가소성 수지를 들 수 있다. 열가소성 수지는 일반적으로 예시되는 것이 이용된다. 용제 건조형 수지의 첨가에 의해 도포면의 도포막 결함을 효과적으로 방지할 수 있다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면 투명 기재의 재료가 TAC 등의 셀룰로오스계 수지인 경우, 열가소성 수지의 바람직한 구체예로서 셀룰로오스계 수지, 예를 들면 니트로셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이 트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등을 들 수 있다.

열경화성 수지의 구체예로서는 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라닌 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민-요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지를 이용하는 경우, 필요에 따라서 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조정제 등을 추가로 첨가해서 사용할 수 있다.

임의 성분

중합 개시제

하드코팅층을 형성할 때 광중합 개시제를 이용할 수 있고, 그 구체예로서는 1-하이드록시-시클로헥실-페닐-케톤을 들 수 있다. 이 화합물은 시장 입수가능하며, 예를 들면 상품 이르가큐어184(chiba special chemicals company)를 들 수 있다.

대전 방지제 및/또는 방현제

하드코팅층은, 대전 방지제 및/또는 방현제를 포함해서 이루어지는 것이 바람직하다. 대전 방지제는 대전 방지층용 조성물의 항에서 또한 방현제는 방현제층용 조성물의 항에서 설명한 것과 같은 것이어도 된다.

저굴절률층

본 발명에 있어서는 저굴절률층을 적층시켜서 이루어지는 것이 바람직하고, 구체적으로는 방현성 층상에 형성되는 것이 바람직하다. 저굴절률층은 실리카, 또는 불화 마그네슘을 함유하는 수지, 저굴절률 수지인 불소계 수지, 실리카, 또는 불화 마그네슘을 함유하는 불소계 수지로 구성되고, 굴절률이 1.46 이하이며 30nm~1㎛ 정도의 박막, 또는 실리카, 또는 불화 마그네슘의 화학 증착법 또는 물리 증착법에 의한 박막으로 구성할 수 있다. 불소 수지 이외의 수지에 대해서는 대전 방지층을 구성하는 데 이용하는 수지와 같다.

저굴절률층은 더 바람직하게는 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체로 구성할 수 있다. 이 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체는 구체적으로는 불화 비닐리덴이 30~90%, 헥사플루오로프로필렌이 5~50%(이후도 포함시켜 백분율은 어느 것이나 질량 기준)를 함유하는 모노머 조성물을 원료로 한 공중합에 의해 얻어지는 것이므로, 불소함유 비율이 60~70%인 불소함유 공중합체 100부와, 에틸렌성 불포화 기를 갖는 중합성 화합물 80~150부로 이루어지는 수지 조성물이며, 이 수지 조성물을 이용해서 막 두께 200nm이하의 박막으로서 아울러 내찰상성이 부여된 굴절률 1.60 미만(바람직하게는 1.46 이하)의 저굴절률층을 형성한다.

저굴절률층을 구성하는 상기의 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체는 모노머 조성물에 있어서의 각 성분의 비율이 불화비닐리덴이 30~90%, 바람직하게는 40~80%, 특히 바람직하게는 40~70%이며, 또한 헥사플루오로프로필렌이 5~50%, 바람직하게는 10~50%, 특히 바람직하게는 15~45%이다. 이 모노머 조성물은 추가로 테트 라플로오로에틸렌을 0~40%, 바람직하게는 0~35%, 특히 바람직하게는 10~30% 함유하는 것이어도 된다.

상기의 모노머 조성물은 상기의 실리콘 함유 불화비닐리덴 공중합체의 사용 목적 및 효과가 손상되지 않는 범위에서, 다른 공중합체 성분이 예를 들면 20% 이하, 바람직하게는 10% 이하의 범위로 함유된 것이어도 되고, 이와 같은 다른 공중합 성분의 구체예로서 플루오로에틸렌, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 1,2-디클로로-1,2-디플루오로에틸렌, 2-브로모-3,3,3-트리플루오로에틸렌, 3-브로모-3,3-디플루오로프로필렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌, 1,1,2-트리클로로-3,3,3-트리플루오로프로필렌, α-트리플루오로메타크릴산 등의 불소 원자를 갖는 중합성 모노머를 예시할 수 있다.

이상과 같은 모노머 조성물로부터 얻어지는 불소함유 공중합체는 그 불소함유 비율이 60~70%인 것이 필요하며, 바람직한 불소함유 비율은 62~70%, 특히 바람직하게는 64~68%이다. 불소함유 비율이 이와 같은 특정한 범위인 것에 의해 불소함유 중합체는 용제에 대해서 양호한 용해성을 가지며, 아울러 이와 같은 불소함유 중합체를 성분으로서 함유함으로써 다양한 기재에 대해서 뛰어난 밀착성을 가지며, 높은 투명성과 낮은 굴절률을 가짐과 함께 충분히 뛰어난 기계적 강도를 갖는 박막을 형성하기 때문에, 박막이 형성된 표면의 내상성(耐傷性) 등의 기계적 특성을 충분히 높은 것으로 할 수 있어 매우 적합하다.

이 불소함유 공중합체는 그 분자량이 폴리스티렌 환산수 평균 입자량에서 5,000~200,000, 특히 10,000~100,000인 것이 바람직하다. 이와 같은 크기의 분자량 을 갖는 불소함유 공중합체를 이용함으로써 얻어지는 불소계 수지 조성물의 점도가 적당한 크기로 되고, 따라서 확실하게 작당한 도포성을 갖는 불소계 수지 조성물로 할 수 있다. 불소함유 공중합체는 그 자체의 굴절률이 1.45 이하, 특히 1,42 이하, 더 바람직하게 1.40 이하인 것이 바람직하다. 굴절률이 1.45를 넘는 불소함유 공중합체를 이용한 경우에는, 얻어지는 불소계 도료에 의해 형성되는 박막이 반사 방지 효과가 작은 것으로 되는 경우가 있다.

이 외에 저굴절률층은 SiO₂로 이루어지는 박막으로 구성할 수도 있고, 증착법, 스퍼터링법, 또는 플라즈마 CVD법 등에 의해, 또는 SiO₂ 졸을 포함하는 졸액으로부터 SiO₂ 겔막을 형성하는 방법에 의해 형성된 것이어도 된다. 또한 저굴절률층은 SiO₂ 이외에도 MgF₂ 박막이나 기타 소재로도 구성할 수 있지만, 하층에 대한 밀착성이 높다는 점에서 SiO₂ 박막을 사용하는 것이 바람직하다. 상기의 수법 중 플라즈마 CVD법에 의할 때에는, 유기 실록산을 원료 가스로 하고 다른 무기질 증착원이 존재하지 않는 조건에서 수행하는 것이 바람직하다. 또한 피증착체를 가능한 한 저온도로 유지해 수행하는 것이 바람직하다.

고굴절률층 / 중굴절률층

본 발명의 바람직한 형태에 따르면 다른 굴절률층(고굴절률층과 중굴절률층)이 반사 방지성을 보다 향상시키기 위해 설치되어도 되고, 바람직하게는 방현층과 저굴절률층의 사이에 설치되어 이루어지는 것이 좋다. 이들의 굴절률층의 굴절률은 1.46～2.00의 범위내에서 설치되어도 된다. 또한 본 발명에 있어서는 중굴절률층은 그 굴절률이 1.46～1,80의 범위내인 것을 의미하고, 고굴절률층은 그 굴절률이 1.65～2.00의 범위내인 것을 의미한다.

이들 굴절률층은 전리 방사선 경화수지와 입자경 100㎚이하이며, 소정의 굴절률을 갖는 초미립자에 의해 형성되어도 된다. 이러한 미립자의 구체예(괄호안에는 굴절률을 나타냄)로서는 산화아연(1.90), 티타늄(2.3～2.7), 세리아(1.95), 주석이 도핑된 신화인듐(1.95), 안티몬이 도핑된 산화주석(1.80), 이트륨(1.87), 지르코니아(2.0)를 들 수 있다.

초미립자의 굴절률은 전리 방사선 경화형 수지보다도 높은 것이 바람직하다. 굴절률층의 굴절률은 초미립자의 함유율에 따라 일반적으로 정해지는 것이기 때문에 초미립자의 첨가량이 많을 수록 굴절률층의 굴절률은 높아진다. 따라서 전리 방사선 경화형 수지와 초미립자의 첨가 비율을 조정함으로서 굴절률을 1.46～1.80의 범위의, 고굴절률층 또는 중굴절률층을 형성하는 것이 가능하다.

초미립자가 도전성을 갖는 것이라면 이러한 초미립자를 이용해서 형성된 다른 굴절률층(고굴절률층 또는 중굴절률층)은 대전 방지성을 겸한 것으로 된다.

고굴절률층 또는 중굴절률층은 화학증착법(CVD), 물리증착법(PVD) 등의 증착법에 따라 형성한 산화티탄 또는 산화지르코늄과 같은 굴절률이 높은 무기산화물의 증착막으로 해서 혹은 산화티탄과 같은 굴절률이 높은 무기산화물 미립자를 분산시킨 도포막으로 할 수 있다.

오염 방지층

본 발명의 바람직한 형태에 의하면, 저굴절률층의 가장 바깥 표면의 오염 방지를 목적으로 해서 오염 방지층을 두어도 되고, 바람직하게는 저굴절률층이 형성된 광투과성 기재의 한쪽 면과 반대면측에 오염 방지층이 마련되어 이루어지는 것이 바람직하다. 오염 방지층은 반사 방지 적층체에 대해서 오염 방지성과 내찰상성의 추가 개선을 도모하는 것이 가능해진다.

오염 방지층 용제의 구체예로서는 분자 중에 불소 원자를 갖는 전리 방사선 경화형 수지 조성물로의 상용성(相溶性)이 낮고, 저굴절률층 중에 첨가하는 것이 곤란하게 되는 불소계 화합물 및/또는 규소계 화합물, 분자 중에 불소계 원자를 갖는 전리 방사선 경화형 수지 조성물 및 미립자에 대해서 상용성을 갖는 불소계 화합물 및/또는 규소계 화합물을 들 수 있다.

2. 광학적층체 의 제조방법

각 층용 조성물의 조정

방현층, 저굴절률층등을 형성하는 각 층용조성물은 일반적인 조제법에 따라서 앞에서 설명한 성분을 혼합하여 분산 처리함으로써 조정되어도 된다. 혼합 분산에는 페인트 쉐이커 또는 비드밀 등으로 적절하게 분산 처리하는 것이 가능하게 된다.

도포공정

광투과성 기재 표면, 대전 방지층의 표면에 대한 각 액체 조성물의 도포법의 구체예로서는 딥코팅법, 에어나이프코팅법, 커텐코팅법, 롤코팅법, 와이어 바 코팅법, 그리비어코팅법, 엑스트루젼(extrusion) 코팅법, 마이크로 그라비어 코팅법, 엑스트루젼법, 스핀 코팅법, 스프레이법, 슬라이드 코팅법, 바 코팅법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 비드 코팅법 등의 각종 방법을 이용할 수 있다.

경화

각 층을 구성하는 수지를 경화하는 방법은 주지된 바와 같은 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면 전자선 경화형 수지인 경우 코크로프튼-월턴형, 반대글래프형, 공진변압형, 절연코어 변압기형, 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기에서 방출되는 50～100KeV, 바람직하게는 100～300KeV의 에너지를 갖는 전자선 등이 사용되고, 자외선 경화일 경우에는 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압수은등, 카본아크, 키세논아크, 메탈하라이드램프 등의 광선에서 발하는 자외선 등을 이용할 수 있다.

3. 광학적층체 의 용도

본 발명에 따른 광학적층체는 바람직하게는 반사 방지 적층체로서 이용된다. 또한 본 발명에 따른 광학적층체는 편광판, 투과형 표시 장치의 표시 가장 바깥 표 면용적층체로써 이용된다. 특히 텔레비전, 컴퓨터, 워드 프로세서 등의 디스플레이 표시에 사용된다. 그 중에서도 CRT, 액정 패널 등의 디스플레이의 표면에 이용된다.

편광판

편광판은 편광막을 양면에서 끼우는 2장의 보호 적층체에 의해 주로 구성된다. 본 발명의 반사방지 적층체는 편광막을 양면에서 끼우는 2장의 보호적층체 중 적어도 1장으로 이용되는 것이 바람직하다. 본 발명의 광학적층체가 보호적층체를 겸함으로서 편광판의 제조비용을 저감할 수 있다. 또한 본 발명의 광학적층체를 가장 바깥 표면층으로 사용함으로서 외광의 광원의 이미지 반사 방지 등이 방지되고, 내찰상성, 방어성 등도 뛰어난 편광판으로 할 수 있다. 편광막은 공지의 편광막, 편광막의 흡수축이 길이방향에 평행도 수직도 아닌 장척의 편광막에서 잘려진 편광막을 이용해도 된다.

<실시예>

본 발명의 내용을 하기의 같은 실시예에 의해 상세히 설명하나, 본 발명의 내용은 실시예의 내용에 한정하여 해석되는 것이 아니다. 또한 수치는 특별히 정의하지 않는 한 질량(kg)을 나타낸다.

광투과성 기재

셀룰로오스트리아세테이트필름(상품명: T80UZ FUJI사진 필림제)을 준비했다.

방현층용 조성물 의 조정

방현층용 조성물을 하기의 표 1의 조성에 따라 혼합해서 조제했다.

표 1

대전 방지층 용 조성물의 조정

대전 방지층용 조성물 1～3을 하기 표 2의 조성에 따라 혼합해서 제조하였다.

표 2

실시예 1

셀룰로오스트리아세테이트필름(두께 80㎛)의 한쪽면에 대전 방지층용 조성물1을 미야버를 이용하여 도포하고, 온도 50℃의 열오븐 안에서 1분 동안 유지한 후 자외선을 적산 광량이 35mj-35mj로 되도록 조사하여 도막을 경화시켜서 도공량 1.0g/㎠(건조시)의 대전 방지층을 형성시켰다. 이어서, 형성된 대전 방지층 상에 방현층용 조성물을 미야버를 이용하여 도포하고, 온도 50℃의 열오븐 안에서 1분 동안 유지한 후 자외선을 적산 광량이 12mj-35mj로 되도록 조사하여 도막을 경화시켜서 도공량 7.0g/㎠(건조시)의 방현층을 형성시켜 광학적층체(대전 방지 방현 적층체)를 제조하였다.

비교예 1

대전 방지층용 조성물 1을 대전 방지층용 조성물 2로 바꾼 것 의외에는 실시예 1과 같이 해서 광학적층체를 제조하였다.

비교예 2

대전 방지층용 조성물 1을 대전 방지층용 조성물 3으로 바꾼 것 의외에는 실시예 1과 같이 해서 광학적층체를 제조하였다.

비교예 3

대전 방지층용 조성물 1을 형성하지 않은 것 의외에는 실시예 1과 같이 해서 광학적층체를 제조하였다.

평가시험

상기예에서 얻어진 광학적층체에 대해서 하기와 같은 평가시험을 수행하여 평가한 결과를 하기의 표 3에 나타냈다.

평가 1 : 전광선 투과률

전광선 투과률(%)은 헤이즈 미터(무라카미 섹체 기술 연구소제, 제품번호;HR-100)를 이용해서 측정했다.

평가 2: 헤이즈값

헤이즈값(%)은 헤이즈 미터(무라카미 색채 기술 연구소제, 제품번호; HR-100)를 이용해서 측정했다.

평가 3: 60도 광택도

광택도 측정기(무라카미 색채 기술 연구소제, 제품번호; GM-26D)를 이용해서 측정했다.

평가 4: 표면 저항값

표면 저항값(Ω/□)은 표면 저항률 측정기(미츠비시카가꾸제, 제품번호; Hiresta HCT-HT450)로 측정했다.

평가 5: 광원의 이미지 반사 평가

광학적층체를 크로스니콜 편광판을 붙여서 형광등을 반사시켜서, 눈으로 관찰을 하고 하기의 기준으로 판단했다.

평가기준

평가◎: 형광등의 광원의 이미지 반사는 거의 보이지 않았다.

평가○: 형광등의 광원의 이미지 반사가 약간 보였으나 광학 특성에 문제 없다.

평가△: 형광등의 광원의 이미지 반사가 보이고 광학적층체 제품으로서는 문제는 없다.

평가 6: 면 반사관의 평가

바크라이트 상에 컬러 필터를 놓고 광학적층체의 뒤면에 유리를 붙이고 컬러필터 상에 놓고 눈으로 관찰하여 하기의 기준으로 판단했다.

평가기준

평가◎: 면 반사광은 거의 안 보였다.

평가○: 면 반사관이 약간 보였으나 광학 특성에 문제없다.

평가△: 형광등의 광원의 이미지 반사가 약간 보이고, 광학적층체 제품으로서의 문제는 없다.

평가 7 :표면 거칠기 측정

표면 거칠기 측정기 SE-3400(고이다 연구소)을 이용하여 JIS B0601-1944의 측정기준에 따라서 광학적층체의 가장 바깥 표면(5㎛²의 평면영역)에 대해서 표면거 칠기(Sm)와 산술평균거칠기를 측정했다.

표 3

본 발명에 따른 광학적층체는 바람직하게는 반사 방지 적층체로서 이용된다. 또한 본 발명에 따른 광학적층체는 편광판, 투과형 표시 장치의 표시 가장 바깥 표면용적층체로써 이용된다. 특히 텔레비전, 컴퓨터, 워드 프로세서 등의 디스플레이 표시에 사용된다. 그 중에서도 CRT, 액정 패널 등의 디스플레이의 표면에 이용된다.

Claims

광투과성 기재와, 해당 광투과성 기재상에 방현층을 구비하여 이루어지는 광학적층체로서,

상기 방현층이 상기 광투과성 기재상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이고,

상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제의 일부와 수지의 일부가 상기 광투과성 기재에 침투하고, 상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체로 되어 상기 방현층과 상기 광투과성 기재의 사이에 침투층이 형성되어 이루어지는 광학적층체.
광투과성 기재와 해당 광투과성 기재상에 대전 방지층과 방현층을 이들의 순서로 구비하여 이루어지는 광학적층체로서,

상기 방현층이 상기 대전 방지층 상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이고,

상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제의 일부와 수지의 일부가 상기 대전 방지층을 통과하여 상기 광투과성 기재에 침투하고, 상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체로 되어 상기 대전 방지층과 상기 광투과성 기재의 사이에 침투층이 형성되어 이루어지는 광학적층체.
제 2항에 있어서,

상기 대전 방지층이 상기 광투과성 기재상에 대전 방지층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것으로서,

상기 대전 방지층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제 및 수지와, 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제 및 수지가 상기 광투과성 기재에 침투하고,

상기 대전 방지층용 조성물 중에 포함되는 수지와 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체로 되어 침투층이 형성되어 이루어지는

광학적층체.
광투과성 기재와 해당 광투과성 기재상에 하드코팅층과 방현층을 이들의 순서로 구비하여 이루어지는 광학적층체로서,

상기 방현층이 상기 하드코팅층 상에 방현층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이고,

상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제의 일부와 수지의 일부가 상기 하드코팅층을 통과하여 상기 광투과성 기재에 침투하고,

상기 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체로 되어 상기 하드코팅층과 상기 광투과성 기재의 사이에 침투층이 형성되어 이루어지는 광학적층체.
제 4항에 있어서,

상기 하드코팅층이 상기 광투과성 기재 상에 하드코팅층용 조성물을 부여하여 형성되어 이루어지는 것이고,

상기 하드코팅층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제 및 수지와 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 침투성 용제 및 수지가 상기 광투과성 기재에 침투하며,

상기 하드코팅층용 조성물 중에 포함되는 수지와 상기 방현층용 조성물 중에 포함되는 수지와 상기 광투과성 기재가 혼연일체로 되어 침투층이 형성되어 이루어지는

광학적층체.
제 5항에 있어서,

상기 하드코팅층이 도전제 및 방현제 중 어느 하나 이상을 포함하여 이루어지는

광학적층체.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 침투층의 두께가 0.1㎛ 이상 1.5㎛ 이하인

광학적층체.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 침투성 용제가, 아세톤, 케톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 니트로메탄, 1,4-디옥산, 디옥솔란, N-메틸피롤리돈, 아세트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산부틸, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 트리클로로에틸렌, 에틸렌클로라이드, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, N,N-디메틸포름아미드, 및 클로로포름으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인

광학적층체.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 광투과성 기재가 셀룰로오스트리아세테이트인

광학적층체.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,

반사 방지 적층체로서 이용되는

광학적층체.
편광 소자와 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 따른 광학적층체를 구비하는

편광판.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,

화상 표시 장치에 이용되는

광학적층체.