KR101263967B1 - 광학 적층체 - Google Patents

Abstract

본 발명은 광 투과성 기재와 하드 코트층의 계면을 해소함으로써, 계면 반사와 간섭 줄무늬의 발생을 유효하게 방지한 광학 적층체를 개시한다. 본 발명은 광 투과성 기재와, 상기 광 투과성 기재 위에, 광학 조정층과, 하드 코트층을 이들의 순서대로 구비하여 이루어지는 광학 적층체로서, 상기 광학 조정층이, 상기 광 투과성 기재의 성분과 상기 하드 코트층의 성분을 포함하여 이루어지는 것이다.

Description

광학 적층체{OPTICAL LAMINATED BODY}

<관련 출원>

본 출원은 일본국 특허 출원 제2005-75380호를 기초로 하는 파리 조약의 우선권을 동반하는 것이다. 따라서, 본 출원은 이들 특허 출원의 출원 내용 모두를 포함하는 것이다.

본 발명은 계면 반사와 간섭 줄무늬를 방지한 광학 적층체에 관한 것이다.

음극관 표시 장치(CRT), 플라즈마 디스플레이(PDP), 전계 발광 디스플레이(ELD) 또는 액정 디스플레이(LCD)와 같은 화상 표시 장치에 있어서, 외광의 반사 또는 상의 리플렉션에 의한 콘트라스트의 저하, 시인성(視認性)의 저하를 방지하는 것이 요구된다. 이 때문에, 빛의 산란 원리 또는 광학 간섭의 원리를 이용하여 상의 리플렉션 또는 반사율을 저감할 목적으로 화상 표시 장치의 최표면(最表面)에 반사 방지 적층체가 형성되는 것이 일반적이다.

광학 간섭의 원리를 이용하여 상의 리플렉션 또는 반사율을 저감하는 경우, 광 투과성 기재 상에, 고굴절율을 갖는 층과, 그 층보다도 굴절율이 작은 층을 적층하는 것이 일반적이었다. 그러나, 이러한 굴절율의 차가 큰 층을 적층시킨 광학 적층체에 있어서는, 서로 중합된 층의 계면에 있어서, 계면 반사 및 간섭 줄무늬가 생기는 것이 종종 보여졌다. 특히, 화면 표시 장치의 화상 표시면에 있어서 흑색을 재현했을 때에, 간섭 줄무늬가 현저하게 발생하여, 그 결과, 화상의 시인성이 저하하고, 또한 화상 표시면의 화상의 미관을 손상시킨다는 지적이 행해지고 있다. 특히, 광 투과성 재기의 굴절율과 하드 코트층의 굴절율이 상이하는 경우, 간섭 줄무늬의 발생이 생기기 쉽다고 말해지고 있다.

이에 비해, 일본 특허 공개 제2003-131007호 공보에 따르면, 간섭 줄무늬의 발생을 억제하기 위해, 기재와 하드 코트층과의 계면 근방의 굴절율이 연속적으로 변화하는 것을 특징으로 한 광학 필름이 제안되고 있다.

그러나, 본 발명자 등이 확인한 바, 광투과형 기재와 하드 코트층의 계면 상태를 실질적으로 해소했다고 하는 광학 적층체는 아직 제안되고 있지 않다.

본 발명자들은, 본 발명 시에 있어서, 광 투과성 기재와 하드 코트층 사이에 광학 조정층을 개재시킴으로써, 광 투과성 기재와 하드 코트층의 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것으로 한 광학 적층체를 얻을 수 있다는 지견을 얻었다. 따라서 본 발명은 광 투과성 기재와 하드 코트층의 계면을 실질적으로 해소함으로서, 계면 반사와 간섭 줄무늬의 발생을 유효하게 방지하고, 시인성과, 기계적 강도를 향상시킨 광학 적층체의 제공을 목적으로 하는 것이다.

따라서, 본 발명에 의한 광학 적층체는,

광 투과성 기재와, 상기 광 투과성 기재 위에, 광학 조정층과, 하드 코트층을 이들의 순서대로 구비하여 이루어지는 것으로,

상기 광학 조정층이 상기 광 투과성 기재의 성분과 상기 하드 코트층의 성분을 포함하여 이루어지는 것이다.

도 1은 본 발명에 의한 광학 적층체의 단면의 레이저현미경 사진.

도 2는 비교예에 의한 광학 적층체의 단면의 레이저현미경 사진.

광학 적층체

1. 광학 조정층

광학 조정층은 광학 적층체에 원하는 광학 특성을 부여하기 위해서 이용되는 것으로, 광학 적층체의 광학 특성, 특히, 전광선 투과율, 반사율, 헤이즈 값 등을 원하는 값으로 조정하는 것을 말한다. 본 발명에 있어서는, 광학 조정층은 바람직하게는 광 투과성 기재와 하드 코트층의 계면을 없애는 것으로 하여 이용된다.

본 발명에 있어서는, 광학 조정층의 주요 기능은 광 투과성 기재와 하드 코트층의 계면을 없애는 것으로, 이 중에는, 계면이 실질적으로 존재하지 않는 것도 포함된다. 여기서, 「계면이(실질적으로) 존재하지 않는다」란, 두개의 층면이 중합되어 있지만 실제로 계면이 존재하지 않는 것 및 굴절율로부터 보아 양자의 면에 계면이 존재하지 않는 이라고 판단되는 경우도 포함하는 것을 말한다. 「계면이(실질적으로)존재하지 않는」이라는 구체적인 기준으로서는, 예컨대, 광학 적층체의 단면을, 레이저현미경에 의해 관찰하여, 간섭 줄무늬가 육안으로 확인되는 적층체 단면에는 계면이 존재하고, 간섭 줄무늬가 육안으로 확인되지 않는 적층체 단면에 는 계면이 존재하지 않는 것을 측정함으로써 행할 수 있다. 레이저현미경은 굴절율에 차이가 있는 것을 비파괴적으로 단면 관찰할 수 있는 것으로부터, 굴절율에 큰 차이가 없는 소재끼리에 있어서 계면이 존재하지 않는다는 측정 결과가 생긴다. 이러한 점에서, 굴절율로부터 보더라도 기재와 하드 코트층의 사이에 계면이 존재하지않는다고 판단할 수 있다.

광학 조정층은 광 투과성 기재의 성분과 하드 코트층의 성분을 포함하여 이루어짐으로써 형성되어진다. 따라서, 이들의 성분은 후기하는 광 투과성 기재, 하드 코트층과 동일하면 좋다. 본 발명에 있어서는, 광학 조정층을 구성하는 광 투과성 기재의 성분과 하드 코트층의 성분의 배합비는 광학 적층체에 원하는 광학 특성을 부여하도록 조정되어서 좋지만, 바람직하게 30:70이며, 더욱 바람직하게는 50:50으로 되는 것이 바람직하다.

광학 조정층을 형성하는 데 사용되는 용제는 광 투과성 기재의 성분과 하드 코트층의 성분을 용해 및/또는 습윤할 수 있는 용제(본 발명에 있어서는, 「침투성 용제」라고 하는 경우가 있음)가 바람직하다. 이러한 용제의 구체적인 예로서는 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 이소부틸알코올, 메틸글리콜, 메틸글리콜아세테이트, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올 등의 케톤류; 포름산메틸, 초산메틸, 초산에틸, 젖산에틸, 초산부틸 등의 에스테르류; 니트로메탄, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 함질소 화합물; 디이소프로필에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 디옥솔란 등의 에테르류; 염화 메틸렌, 클로로포름, 토 리클로로에탄, 테트라크로르에탄 등의 할로겐화탄화수소; 디메틸설폭시드, 탄산프로필렌 등의 그 외의 것; 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다. 더욱 바람직한 용제로는 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있다.

본 발명의 바람직한 침투성 용제의 구체적인 예로서는 케톤류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤, 디아세톤알코올, 에스테르류; 포름산메틸, 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸, 젖산에틸, 함질소 화합물; 니트로메탄, 아세토니트릴, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, 글리콜류; 메틸글리콜, 메틸글리콜아세테이트, 에테르류; 테트라히드로푸란, 1, 4-디옥산, 디옥솔란, 디이소프로필에테르, 할로겐화탄화수소; 염화 메틸렌, 클로로포름, 테트라클로로에탄, 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 셀로솔브아세테이트, 기타, 디메틸설폭시드, 탄산프로필렌을 들 수 있고, 또는 이들의 혼합물을 들 수 있으며, 바람직하게는 에스테르류, 케톤류; 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있다. 그 외에, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 이소부틸알코올 등의 알코올류; 톨루엔, 크실렌, 스티렌 등의 방향족탄화수소류; 또한 상기 용제와 혼합하여 이용할 수 있다.

광학 조정층은 대전 방지제를 포함하여 이루어지는 것이면 좋다. 대전 방지제의 구체적인 예로서는 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1∼제3 아미노기 등의 양이온성기를 갖는 각종 양이온성 화합물, 술폰산염기, 황산에스테르염기, 인산에스테르염기, 포스폰산염기 등의 음이온성기를 갖는 음이온성 화합물, 아미노산계, 아미노황산에스테르계 등의 양성 화합물, 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글 리콜계 등의 비이온성 화합물, 주석 및 티탄의 알콕시드와 같은 유기금속 화합물 및 이들의 아세틸아세토네이트염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있고, 또한 상기에 열기한 화합물을 고분자량화한 화합물을 들 수 있다.

또한, 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기, 또는 금속 킬레이트부를 가지고, 또한, 전리방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머, 혹은 관능기를 갖는 커플링제와 같은 유기금속 화합물 등의 중합성 화합물도 또한 대전 방지제로서 사용할 수 있다. 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌 등의 유기계 도전성 폴리머도 사용할 수 있다. 또한, 대전 방지제의 구체예로서, 도전성 초미립자도 들 수 있다. 도전성 미립자의 구체적인 예로서는 금속 산화물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 금속 산화물의 구체적인 예로서는 ZnO(굴절율 1.90, 이하, 괄호 내의 수치는 굴절율을 나타냄), CeO₂(1.95), Sb₂0₂(1.71), SnO₂(1.997), ITO로 줄여 불리는 경우가 많은 산화인듐주석(1.95), In₂O₃(2.00), Al₂O₃(1.63), 안티몬 도핑 산화주석(약칭; ATO, 2.0), 알루미늄도핑 산화 아연(약칭; AZO, 2.0) 등을 들 수 있다. 도전성 미립자란, 1마이크론 이하의, 소위 서브 미크론의 크기를 말하고, 바람직하게는, 평균 입자 직경이 0.1㎚∼0.1 ㎛를 말한다.

2. 광 투과성 기재

광 투과성 기재는 평활성, 내열성을 구비하고, 기계적 강도과 우수한 것이 바람직하다. 광 투과성 기재를 형성하는 재료의 구체적인 예로서는 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프타레이트), 셀룰로오스트리아세테이트, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스아세테이트부틸레이트, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리메타크릴산메틸, 폴리카보네이트, 또는 폴리우레탄 등의 열가소성수지를 들 수 있고, 바람직하게는 폴리에스테르(폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프타레이트), 셀룰로오스트리아세테이트를 들 수 있다. 그 외의 예로서, 지환 구조를 갖는 비정질올레핀폴리머(Cyclo-0lefin-Polymer:COP) 필름도 있고, 이것은, 노르보넨계 중합체, 단환의 환상올레핀계 중합체, 환상공역디엔계 중합체, 비닐지환식탄화수소계 중합체수지 등이 이용되는 기재이다. 이들은, 시판품으로서 입수 가능하고, 예컨대, 니혼 제온(주) 제조의 제오넥스나 제오노아(노르보넨계 수지), 스미토모베이클라이트(주) 제조 스미라이트 FS-1700, JSR(주) 제조 아톤(변성 노르보넨계 수지), 미쓰이가가쿠(주) 제조 아펠(환상 올레핀 공중합체), Ticona사 제조의 Topas(환상 올레핀 공중합체), 히타치가세이(주) 제조 오프트렛츠 OZ-1000 시리즈(지환식 아크릴 수지) 등을 들 수 있다. 또한, 트리아세틸셀룰로오스의 대체 기재로서 아사히가세이케미컬(주) 제조의 FV 시리즈(저복굴절율, 저광탄성율 필름)도 바람직하다.

광 투과성 기재의 두께는 20 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 상한이 200 ㎛ 이하이며, 하한이 30 ㎛ 이상이다. 광 투과성 기재가 판형체인 경우에는 이들의 두께를 넘는 두께이더라도 좋다. 또한, 광 투과성 기재는 그 위에 광학 특성층을 형성하기에 있어서, 접착성 향상을 위해, 코로나 방전 처리, 산화처리 등의 물리적인 처리 외에, 앵커제 혹은 프라이머라고 불리는 도료의 도포를 미리 행하여도 좋 다.

3. 하드 코트층

「하드 코트층」이란, JIS 5600-5-4(1999)로 규정되는 연필 경도 시험으로「H」 이상의 경도를 도시하는 것을 말한다. 하드 코트층의 막 두께(경화 시간)는 1 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 하한이 2.5 ㎛ 이상이며 상한이 12 ㎛ 이하이다. 본 발명에 의한 하드 코트층은 수지와 그 외의 임의 성분에 의해 형성되어 도 좋다.

수지

본 발명에서는, 모노머, 올리고머, 프리 폴리머 등의 경화성 수지 전구체를 특별한 기재가 없는 한, 총칭하여 「수지」라고 한다. 수지로서는, 투명성의 것이 바람직하고, 그 구체적인 예로서는 자외선 또는 전자선에 의해 경화하는 수지인 전리방사선 경화형수지, 전리방사선 경화형수지와 용제 건조형 수지(도공 시에 고형분을 조정하기 위해 첨가한 용제를 건조시킬 뿐이고, 피막이 되는 것과 같은 수지)와의 혼합물, 또는 열경화형수지의 세종류를 들 수 있고, 바람직하게는 전리방사선 경화형수지를 들 수 있다.

전리방사선 경화형수지의 구체적인 예로서는 아크릴레이트계의 관능기를 갖는 것, 예컨대 비교적 저분자량의 폴리에스테르수지, 폴리에테르수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄수지, 알키드수지, 스피로아세탈수지, 폴리부타디엔수지, 폴리티올 폴리엔수지, 다가알코올 등의 다관능 화합물의(메트)아크릴레이트 등의 올리고머 또는 프리폴리머, 반응성 희석제를 들 수 있고, 이들의 구체적인 예로서 는 에틸(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리든 등의 단관능 모노머 및 다관능 모노머, 예컨대, 폴리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 헥산디올(메트)아크릴레이트, 강프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 이소시아누르산변성 트리아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들 아크릴레이트는 분자 골격의 일부를 변성하고 있는 것이라도 좋고, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 카프로락톤, 이소시아누르산, 알킬, 환상알킬, 방향족, 비스페놀 등에 의한 변성이 이루어질 수 있었던 것도 사용할 수 있다.

전리방사선 경화형수지를 자외선 경화형수지로서 사용하는 경우에는, 광중합 개시제를 이용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 구체적인 예로서는 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러-벤조일벤조에이트, α-아미록심에스테르, 티오크산톤류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합하여 이용하는 것이 바람직하고, 그 구체적인 예로서는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.

또한, 전리방사선 경화형수지를 자외선 경화형수지로서 사용하는 경우에는, 광중합 개시제 또는 광중합 촉진제를 첨가할 수 있다. 광중합 개시제로서는, 라디칼중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우는, 아세토페논류, 벤조페논류, 티오크산 톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 이용한다. 또한, 양이온 중합성 관능기를 갖는 수지계의 경우는, 광중합 개시제로서, 방향족 디아조늄염, 방향족술포니움염, 방향족요오드늄염, 메탈로센 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 이용한다. 광중합 개시제의 첨가량은 전리방사선 경화성 조성물 100 중량부에 대해, 0.1∼10 중량부이다.

전리방사선 경화형수지에 혼합하여 사용되는 용제 건조형 수지로서는, 주로 열가소성수지를 들 수 있다. 열가소성수지는 일반적으로 예시되는 것이 이용된다. 용제 건조형 수지의 첨가에 의해, 도포면의 도포막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 용제 건조형 수지의 구체적인 예로서는 예컨대, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 초산비닐계 수지, 비닐에테르계 수지, 할로겐함유수지, 지환식올레핀계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다. 수지로서는, 통상, 비결정성이며, 또한 유기 용매(특히 복수의 폴리머나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통용매)에 가용인 수지가 사용된다. 특히, 성형성 또는 제조막성, 투명성이나 내후성이 높은 수지, 예컨대, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다. 본 발명이 바람직한 형태에 따르면, 투명 기재의 재료가 TAC 등의 셀룰로오스계 수지의 경우, 열가소성수지가 바람직한 구체예로서, 셀룰로오스계 수지, 예컨대 니트로셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 에틸히드록시에틸셀룰로오스 등을 들 수 있다.

열경화성수지의 구체적인 예로서는 페놀 레진, 요소수지, 디어릴프탈레이트수지, 멜라민수지, 구아나민수지, 불포화 폴리에스테르수지, 폴리우레탄수지, 에폭시 수지, 아미노알키드수지, 멜라민-요소공축합 수지, 규소수지, 폴리실록산수지 등을 들 수 있다. 열경화성수지를 이용하는 경우, 필요에 따라서, 가교제, 중합 개시제 등의 경화제, 중합 촉진제, 용제, 점도 조정제 등을 더 첨가하여 사용할 수 있다.

중합 개시제

하드 코트층을 형성할 때에, 광중합 개시제를 이용할 수 있고, 그 구체적인 예로서는 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤을 들 수 있다. 이 화합물은 시장 입수 가능하고, 예컨대 상품명 일가큐어184(시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)를 들 수 있다.

임의의 성분

본 발명에 있어서는, 하드 코트층 중에, 대전 방지제를 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서는, 방현제를 첨가하더라도 좋다.

대전 방지제( 도전제 )

대전 방지제의 구체적인 예로서는 제4급 암모늄염, 피리디늄염, 제1∼제3 아미노기 등의 양이온성기를 갖는 각종의 양이온성 화합물, 술폰산염기, 황산에스테르염기, 인산에스테르염기, 포스폰산염기 등의 음이온성기를 갖는 음이온성 화합물, 아미노산계, 아미노황산에스테르계 등의 양성 화합물, 아미노알코올계, 글리세린계, 폴리에틸렌글리콜계 등의 비이온성 화합물, 주석 및 티탄의 알콕시드와 같은 유기 금속 화합물 및 이들의 아세틸아세토네이트염과 같은 금속 킬레이트 화합물 등을 들 수 있고, 또한 상기에 열기한 화합물을 고분자량화한 화합물을 들 수 있다. 또한, 제3급 아미노기, 제4급 암모늄기, 또는 금속 킬레이트부를 가지고, 또한, 전리방사선에 의해 중합 가능한 모노머 또는 올리고머, 혹은 관능기를 갖는 커플링제와 같은 유기금속 화합물 등의 중합성 화합물도 또한 대전 방지제로서 사용할 수 있다. 또한, 대전 방지제로서, 도전성 폴리머를 들 수 있고, 그 구체적인 예로서는 지방족 공역계의 폴리아세틸렌, 방향족 공역계의 폴리(파라페닐렌), 복소환식 공역계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 함헤테로 원자 공역계의 폴리아닐린, 혼합형 공역계의 폴리(페닐렌비닐렌)을 들 수 있고, 이들 이외에, 분자 중에 복수의 공역쇄를 갖는 공역계인 복쇄형 공역계, 전술의 공역 고분자쇄를 포화 고분자에 그라프트 또는 블록 공중한 고분자인 도전성 복합체 등을 들 수 있다.

또한, 도전성 초미립자를 들 수 있고, 그 구체적인 예로서는 금속 산화물로 이루어지는 것을 들 수 있다. 그와 같은 금속 산화물로서는, ZnO(굴절율 1.90, 이하, 괄호 내의 수치는 굴절율을 나타냄), CeO₂(1.95), Sb₂O₂(1.71), SnO₂(1.997), ITO로 줄여 불리는 경우가 많은 산화인듐주석(1.95), In₂O₃(2.00), Al₂O₃(1.63), 안티몬 도핑 산화 주석(약칭; ATO, 2.0), 알루미늄 도핑 산화 아연(약칭; AZO, 2.0) 등을 들 수 있다. 미립자란, 1마이크론 이하의, 소위 서브 미크론의 크기의 것을 가리키고, 바람직하게는, 평균 입자 직경이 0.1 ㎚∼0.1 ㎛가 것이다.

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 하드 코트층에 포함되는 수지와 대전 방 지제와의 첨가비가 5 이상 25 이하이고, 바람직하게는 상한이 20 이하이며 하한이 5 이상이다. 첨가량을 상기 수치 범위에 조정함으로써, 양호한 대전 방지 성능과, 광학 성능을 얻을 수 있으므로 바람직하다.

방현제

방현제로서는 미립자를 들 수 있고, 그 형상은 실제 구형, 타원형 등이면 좋고, 바람직하게는 실제 구형의 것을 들 수 있다. 또한, 미립자는 무기계, 유기계의 것을 들 수 있다. 미립자는, 방현성을 발휘하는 것이고, 바람직하게는 투명성의 것이 좋다. 미립자의 구체적인 예로서는 무기계이면 실리카비드, 유기계이면 플라스틱비드를 들 수 있다. 플라스틱비드의 구체적인 예로서는 스티렌비드(굴절율 1.60), 멜라민비드(굴절율 1.57), 아크릴비드(굴절율 1.49), 아크릴-스티렌비드(굴절율 1.54), 폴리카보네이트비드, 폴리에틸렌비드 등을 들 수 있다. 미립자의 첨가량은 투명수지 조성물 100 중량부에 대해, 2∼30 중량부, 바람직하게는 10∼25 중량부 정도이다.

방현제를 하드 코트층용 조성물에 첨가하는 경우, 침강 방지제를 첨가하는 것이 바람직하다. 침강 방지제를 첨가함으로써, 수지비드의 침전을 억제하여, 용매 내에 균일하게 분산시킬 수 있기 때문이다. 침강 방지제의 구체적인 예로서는 입자 직경이 0.5 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.1∼0.25 ㎛ 정도의 실리카비드를 들 수 있다.

용제

하드 코트층은 상기 성분에 용제를 더 혼합한 하드 코트층용 조성물을 조제하여 도공함으로써 형성할 수 있다. 용제의 구체적인 예로서는 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 디아세톤알코올 등의 케톤류; 초산메틸, 초산에틸, 초산부틸 등의 에스테르류; 할로겐화탄화수소; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족탄화수소; 또는 이들의 혼합물을 들 수 있고, 바람직하게는, 케톤류, 에스테르류를 들 수 있다.

본 발명의 바람직한 용매는, 하드 코트용 조성물 중의 폴리머 및 경화성수지전구체의 종류 및 용해성에 따라 선택하여 사용할 수 있고, 적어도 고형분(복수의 폴리머 및 경화성수지전구체, 반응 개시제, 기타 첨가제)을 균일하게 용해할 수 있는 용매인 것이 바람직하다. 그와 같은 용매로서는, 예컨대, 케톤류(아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등), 에테르류(디옥산, 테트라히드로푸란 등), 지방족탄화수소류(헥산 등), 지환식탄화수소류(시클로헥산 등), 방향족탄화수소류(톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화탄소류(디클로로메탄, 디클로로에탄 등), 에스테르류(초산메틸, 초산에틸, 초산부틸 등), 물, 알코올류(에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 시클로 헥산올 등), 셀로솔브류(메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브아세테이트류, 설폭시드류(디메틸설폭시드 등), 아미드류(디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등) 등을 예시할 수 있고, 이들의 혼합 용매이더라도 좋고, 바람직하게는, 케톤류, 에스테르류를 들 수 있다.

하드 코트층의 형성

하드 코트층은, 상기한 수지와 용제와 임의 성분을 혼합하여 얻은 조성물을 광 투과성 기재에 도포함으로써 형성되면 좋다. 본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 상기 액체 조성물에, 불소계 또는 실리콘계 등의 레벨링제를 첨가하는 것이 바 람직하다. 레벨링제를 첨가한 액체 조성물은 도공면(塗工面)을 양호하게 하여, 방오성, 내찰상성의 효과를 부여하는 것을 가능하게 한다. 또한, 불소계 또는 실리콘계인 어떤 방오제 등을 첨가하더라도 좋다.

조성물을 도포하는 방법으로서는, 롤코트법, 메이어 바코트법, 그라비아코트법 등의 도포 방법을 들 수 있다. 액체 조성물의 도포 후에, 건조와 자외선 경화를 행한다. 자외선원의 구체적인 예로서는 초고압수은 등, 고압수은 등, 저압수은 등, 카본아크 등, 블랙라이트형광 등, 메탈 할라이드 램프 등의 광원을 들 수 있다. 자외선의 파장으로서는, 190∼380 ㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다. 전자선원의 구체적인 예로서는 콕크로프트-월턴(Cockcroft-Walton)형, 반데그라프트형, 공진변압기형, 절연코어변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론(Dynamitron)형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다.

4. 그 외의 층

본 발명에 있어서는, 광학 적층체의 최표면(最表面), 최이면(最裏面), 또는 각 층 사이에, 대전 방지층, 저굴절율층, 그 외의 층 또는 이들의 이종 이상의 층을 형성하여 이루어지는 광학 적층체가 바람직하다.

1) 저굴절율층

저굴절율층은 실리카, 혹은 불화 마그네슘을 함유하는 수지, 저굴절율수지인 불소계 수지, 실리카, 혹은 불화 마그네슘을 함유하는 불소계 수지로 구성되고, 굴절율이 1.46 이하의, 역시 30 ㎚∼1 ㎛ 정도의 박막, 또는, 실리카, 혹은 불화 마그네슘의 화학 증착법 혹은 물리 증착법에 의한 박막으로 구성할 수 있다. 불소수 지 이외의 수지에 대해서는, 대전 방지층을 구성하는 데 이용하는 수지와 동일하면 좋다. 저굴절율층은 바람직하게는 광학 적층체의 최표면에 형성되어 되는 것이 바람직하다.

저굴절율층은 더욱 바람직하게는, 실리콘함유불화비닐리덴 공중합체로 구성할 수 있다. 이 실리콘함유불화비닐리덴 공중합체는, 구체적으로는, 불화비닐리덴이 30∼90％, 헥사플루오로프로필렌이 5∼50％(이후도 포함시켜, 백분률은 어느 것이나 질량 기준)을 함유하는 모노머 조성물을 원료로 한 공중합에 의해 얻어지는 것으로, 불소 함유 비율이 60∼70％인 불소 함유 공중합체 100부와, 에틸렌성 불포화기를 갖는 중합성 화합물 80∼150부로 이루어지는 수지 조성물이고, 이 수지 조성물을 이용하여, 막 두께 200 ㎚ 이하의 박막으로서, 또한 내찰상성이 부여된 굴절율 1.60 미만(바람직하게는 1.46 이하)의 저굴절율층을 형성한다.

저굴절율층을 구성하는 상기 실리콘함유불화비닐리덴 공중합체는 모노머 조성물에 있어서의 각 성분의 비율이 불화비닐리덴이 30∼90％, 바람직하게는 40∼80％, 특히 바람직하게는 40∼70％이며, 또한 헥사플루오로프로필렌이 5∼50％, 바람직하게는 10∼50％, 특히 바람직하게는 15∼45％이다. 이 모노머 조성물은 또한 테트라플루오로에틸렌을 0∼40％, 바람직하게는 0∼35％, 특히 바람직하게는 10∼30％ 함유하는 것이면 좋다.

상기 모노머 조성물은, 상기 실리콘함유불화비닐리덴 공중합체의 사용 목적 및 효과가 손상되지 않는 범위에서, 다른 공중합체 성분이, 예컨대, 20％ 이하, 바람직하게는 10％ 이하의 범위에서 함유된 것이면 좋고, 이러한, 다른 공중합 성분 의 구체예로서, 플루오로에틸렌, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌, 1, 2-디클로로-1,2-디플루오로에틸렌, 2-브로모-3,3,3-트리플루오로에틸렌, 3-브로모-3,3-디플루오로프로필렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌, 1,1,2-트리클로로-3,3,3-트리플루오로프로필렌, α-트리플루오로메타크릴산 등의 불소 원자를 갖는 중합성 모노머를 예시할 수 있다.

이상과 같은 모노머 조성물로부터 얻어지는 불소 함유 공중합체는 그 불소 함유 비율이 60∼70％인 것이 필요하고, 바람직한 불소 함유 비율은 62∼70％, 특히 바람직하게는 64∼68％이다. 불소 함유 비율이, 이러한 특정 범위에 있음으로서, 불소 함유 중합체는, 용제에 대해 양호한 용해성을 가지고, 또한, 이러한 불소함유 중합체를 성분으로서 함유함으로써, 여러 가지의 기재에 대해 우수한 밀착성을 가지고, 높은 투명성과 낮은 굴절율을 갖는 동시에 충분히 우수한 기계적 강도를 갖는 박막을 형성하므로, 박막이 형성된 표면의 내상성 등의 기계적 특성을 충분히 높은 것으로 할 수 있고, 매우 적합하다.

이 불소 함유 공중합체는 그 분자량이 폴리스티렌환산 수평균 분자량으로 5,000∼200,000, 특히 10,000∼100,000인 것이 바람직하다. 이러한 크기의 분자량을 갖는 불소 함유 공중합체를 이용함으로서, 얻어지는 불소계 수지 조성물의 점도가 적합한 크기가 되고, 따라서, 확실하게 적합한 도포성을 갖는 불소계 수지 조성물로 할 수 있다. 불소 함유 공중합체는 그 자체의 굴절율이 1.45 이하, 특히 1.42 이하, 더욱 1.40 이하인 것이 바람직하다. 굴절율이 1.45를 넘는 불소 함유 공중합체를 이용한 경우에는, 얻어지는 불소계 도료에 의해 형성되는 박막이 반사 방지 효과가 작은 것으로 이루어지는 경우가 있다.

함불소모노머 단위의 구체적인 예로서는 예컨대 플루오로올레핀류(예컨대 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 파플루오로-2, 2-디메틸-1, 3-디옥솔 등), (메트)아크릴산의 부분 또는 완전 불소화알킬에스테르 유도체류[예컨대 비스코트 6FM(오사카유기화학제조)나 M-2020(다이킨 제조) 등], 완전 또는 부분 불소화비닐에테르류 등을 들 수 있지만, 바람직하게는 파플루오로올레핀류이며, 굴절율, 용해성, 투명성, 입수성 등의 관점에서 특히 바람직하게는 헥사플루오로프로필렌이다.

경화 반응성 부여를 위한 구성 단위로서는 글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르와 같이 분자 내에 미리 자기경화성 관능기를 갖는 모노머의 중합에 의해 얻어지는 구성 단위, 카르복실기나 히드록시기, 아미노기, 술포기 등을 갖는 모노머[예컨대(메트)아크릴산, 메틸올(메트)아크릴레이트, 히드록시알킬(메트)아크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 히드록시에틸비닐에테르, 히드록시부틸비닐에테르, 말레산, 크로톤산 등]의 중합에 의해 얻어지는 구성 단위, 이들의 구성 단위에 고분자 반응에 의해 (메트)아크릴로일기 등의 경화 반응성기를 도입한 구성 단위(예컨대 히드록시기에 대해 아크릴산염화물을 작용시키는 등의 수법으로 도입할 수 있음)를 들 수 있다.

또한, 상기 함불소모노머 단위, 경화 반응성 부여를 위한 구성 단위 이외에 용제에의 용해성, 피막의 투명성 등의 관점에서 적절하게 불소 원자를 함유하지 않는 모노머를 공중합하는 것도 가능하다. 병용 가능한 모노머 단위에는 특별히 한정 은 없고, 예컨대 올레핀류(에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 염화비닐, 염화 비닐리덴 등), 아크릴산에스테르류(아크릴산메틸, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산2-에틸헥실), 메타크릴산에스테르류(메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산부틸, 에틸렌 글리콜디메타크릴레이트 등), 스티렌 유도체(스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌 등), 비닐에테르류(메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르 등), 비닐에스테르류(초산비닐, 프로피온산비닐, 계피산비닐 등), 아크릴아미드류(N-tert 부틸아크릴아미드, N-시클로헥실아크릴아미드 등), 메타크릴아미드류, 아크릴로니트릴 유도체 등을 들 수 있다.

상기 폴리머에는, 일본 특허 공개 평 제8-92323호, 일본 특허 공개 평 제10-25388호, 일본 특허 공개 평 제10-147739호, 일본 특허 공개 평 제12-17028호 공보에 개시된 내용과 같이 적절하게, 경화제를 병용하더라도 좋다. 특히, 폴리머의 경화 반응성기가 수산기, 카르복실기와 같은 단독으로 경화 반응성을 갖지 않는 기의 경우에는, 경화제를 병용하는 것이 필수이다. 경화제로서는, 예컨대, 폴리이소시아네이트계, 아미노플라스틱스트라이크, 다염기산 또는 그 무수물 등을 들 수 있다. 한편, 경화 반응성기가 자기경화 반응성의 기인 경우에는, 특히 경화제를 첨가하지 않더라도 좋지만, 다관능(메트)아크릴레이트 화합물, 다관능에폭시 화합물 등의 경화제를 적절하게 병용할 수도 있다.

저굴절율제에 특히 유용한 함불소 공중합체는, 파플루오로올레핀과 비닐에테르류 또는 비닐에스테르류의 랜덤 공중합체이다. 특히 단독으로 가교 반응 가능한 기[(메트)아크릴로일기 등의 라디칼반응성기, 에폭시기, 옥세타닐기 등의 개환중합 성기 등]를 갖고 있는 것이 바람직하다. 이들의 가교 반응성기 함유 중합 단위는 폴리머의 전중합 단위의 5몰％ 이상 70몰％ 이하를 점유하고 있는 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 30몰％ 이상 60몰％ 이하의 경우이다.

또한, 본 발명의 저굴절율제에 있어서, 함불소 폴리머에는, 방오성을 부여할 목적으로 폴리실록산 구조가 도입되어 있는 것이 바람직하다. 폴리실록산 구조의 도입 방법에 제한은 없지만, 예컨대 일본 특허 공개 평 제11-189621호, 일본 특허 공개 평 제11-228631호, 일본 특허 공개 제2000-313709호에 기재되어 있는 바와 같이, 실리콘 거시적 아조 개시제를 이용하여 폴리실록산 블록 공중합 성분을 도입하는 방법이나, 일본 특허 공개 평 제2-251555호, 일본 특허 공개 평 제2-308806호에 기재되어 있는 바와 같이 실리콘매크로머를 이용하여 폴리실록산그라프트 공중합 성분을 도입하는 방법이 바람직하다. 이들의 경우, 폴리실록산 성분은 폴리머 중의 0.5 질량％ 이상 10 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 1 질량％ 이상 5 질량％ 이하인 경우이다.

이 외에, 저굴절율층은 SiO₂로 이루어지는 박막으로 구성할 수도 있고, 증착법, 스퍼터링법, 혹은 플라즈마 CVD 법 등에 의해, 또는 SiO₂ 졸을 포함하는 졸액으로부터 SiO₂ 겔막을 형성하는 방법에 의해 형성된 것이라도 좋다. 또한, 저굴절율층은, Si0₂이외에도, MgF₂의 박막이나, 그 외의 소재라도 구성할 수 있지만, 하층에 대한 밀착성이 높은 점에서, SiO₂ 박막을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 수법 중, 플라즈마 CVD 법에 의한 때에는, 유기실록산을 원료 가스로 하여, 다른 무기질의 증착원이 존재하지 않는 조건으로 행하는 것이 바람직하고, 또한, 피증착체를 될 수 있는 한 저온도로 유지하여 행하는 것이 바람직하다.

바람직한 저굴절율층

본 발명의 바람직한 저굴절율층은 저굴절율층용 조성물을 조제하여 도포막하는 방법이 바람직하게는 들 수 있다. 저굴절율층용 조성물은 미립자와, 수지와, 임의 성분에 의해 형성되면 좋다. 저굴절율층은 단층 또는 복수층만이라도 좋다.

미립자

미립자는 무기물, 유기물의 어느 하나이더라도 좋고, 예컨대, 금속, 금속 산화물, 플라스틱으로 이루어지는 것을 들 수 있고, 바람직하게는 산화규소(실리카)미립자를 들 수 있다. 실리카 미립자는 결착제(바인더)의 굴절율 상승을 억제하면서, 원하는 굴절율을 부여하는 것을 가능하게 한다. 실리카 미립자는 결정성, 졸형, 겔형의 상태 등을 묻지 않는다. 또한, 실리카 미립자는 시판품을 사용할 수 있고, 예컨대, 아엘로질(데구사사 제조), 콜로이달실리카(닛산화학공업제) 등이 바람직하게 사용할 수 있다.

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 「공극을 갖는 미립자」를 이용하는 것이 바람직하다. 「공극을 갖는 미립자」는 저굴절율층의 층강도를 유지하면서, 그 굴절율을 내리는 것을 가능하게 한다. 본 발명에 있어서, 「공극을 갖는 미립자」란, 미립자의 내부에 기체가 충전된 구조 및/또는 기체를 포함하는 다공질 구조체를 형성하여, 미립자 본래의 굴절율에 비해 미립자 중의 기체의 점유율에 반비례하 여 굴절율이 저하하는 미립자를 의미한다. 또한, 본 발명에 있어서는, 미립자의 형태, 구조, 응집 상태, 도포막 내부에서의 미립자의 분산 상태에 의해, 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노다공성 구조의 형성이 가능한 미립자도 포함된다.

공극을 갖는 무기계의 미립자의 구체적인 예로서는 일본 특허 공개 제2001-233611호 공보에 개시되어 있는 기술을 이용하여 조제한 실리카 미립자가 바람직하게는 들 수 있다. 공극을 갖는 실리카 미립자는 제조가 용이하고 그 자신의 경도가 높으므로, 바인더와 혼합하여 저굴절율층을 형성했을 때, 그 층강도가 향상되고, 또한, 굴절율을 1.20∼1.45 정도의 범위 내로 조제하는 것을 가능하게 한다. 특히, 공극을 갖는 유기계의 미립자의 구체적인 예로서는 일본 특허 공개 제2002-80503호 공보로 개시되어 있는 기술을 이용하여 조제한 중공 형상 폴리머 미립자가 바람직하게 들 수 있다.

도포막의 내부 및/또는 표면의 적어도 일부에 나노다공성 구조의 형성이 가능한 미립자로서는 앞의 실리카 미립자에 더하여 비표면적을 크게 하는 것을 목적으로 하여 제조되며, 충전용의 컬럼 및 표면의 다공질부에 각종 화학 물질을 흡착시키는 제방재(除放材), 촉매 고정용으로 사용되는 다공질 미립자 또는 단열재나 저유전재에 내장하는 것을 목적으로 하는 중공 미립자의 분산체나 응집체를 들 수 있다. 그와 같은 구체적인 것으로서는, 시판되는 제품으로서 니혼 실리카고교 가부시키가이샤 제조의 상품명 Nipsil이나 Nipgel 중에서 다공질 실리카 미립자의 집합체, 닛산가가쿠고교(주) 제조의 실리카 미립자가 사슬형으로 연결된 구조를 갖는 콜로이달 실리카 UP 시리즈(상품명)로부터, 본 발명의 바람직한 입자 직경 범위 내 의 것을 이용하는 것이 가능하다.

미립자의 평균 입자 직경은 5 ㎚ 이상 300 ㎚ 이하이며, 바람직하게는 하한이 8 ㎚ 이상이고 상한이 100 ㎚ 이하이며, 더욱 바람직하게는 하한이 10 ㎚ 이상이고 상한이 80 ㎚ 이하이다. 미립자의 평균 입자 직경이 이 범위 내에 있는 것에 의해, 저굴절율층에 우수한 투명성을 부여하는 것이 가능해진다.

미립자의 소수화

본 발명의 바람직한 형태에 따르면, 미립자는 소수화된 것이 바람직하다. 소수화되는 미립자는 그 자체, 소수성, 비소수성, 이들의 양성의 어느 한쪽이더라도 좋다. 또한, 소수화는 미립자의 전체표면 또는 내부 구조까지 더 행하여도 좋다. 미립자를 소수화하는 처리 방법으로서는, 1) 저분자 유기 화합물에 의한 소수화 처리, 2) 고분자 화합물에 의한 표면 피복 소수화 처리, 3) 커플링제에 의한 소수화 처리, 4) 소수성 폴리머를 그라프트하는 것에 의한 소수화 방법을 들 수 있다.

수지

수지는 1분자 중에 3개 이상의 전리방사선으로 경화하는 관능기를 갖는 모노머가 포함된다. 본 발명에서 사용하는 모노머는, 전리방사선에 의해 경화하는 관능기(이하, 「전리방사선 경화성기」라고 적절하게 부름)를 가지고, 또한, 열에 의해 경화하는 관능기(이하, 「열경화성기」라고 적절하게 부름)를 갖는다. 이 때문에, 이 모노머를 함유하는 조성물(도공액)을 피도공체의 표면에 도포하여, 건조한 후, 전리방사선을 조사하고, 또는 전리방사선의 조사와 가열을 행함으로서, 도포막 내의 가교 결합 등의 화학 결합을 용이하게 형성하고, 도포막을 효율적으로 경화시킬 수 있다.

이 모노머가 갖는 「전리방사선 경화성기」는 전리방사선의 조사에 의해 중합 또는 가교 등의 대분자량화 반응을 진행시켜 도포막을 경화시킬 수 있는 관능기이며, 예컨대, 광라디칼 중합, 광양이온 중합, 광음이온 중합과 같은 중합 반응, 혹은, 광이량화를 지나서 진행하는 부가 중합 또는 축중합 등의 반응 형식에 의해 반응이 진행하는 것을 들 수 있다. 그중에서도, 특히, 아크릴기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 불포화결합기는 자외선, 전자선과 같은 전리방사선의 조사에 의해 직접적으로, 또는 개시제의 작용을 받아 간접적으로 광라디칼 중합 반응을 생기는 것으로, 광경화의 공정을 포함하는 취급이 비교적 용이한 것으로 하여 바람직하다.

모노머 성분 중에 포함되어 있더라도 좋은 「열경화성기」는 가열에 의해 동일한 관능기 또는 다른 관능기와의 사이에서 중합 또는 가교 등의 대분자량화 반응을 진행시켜 경화시킬 수 있는 관능기이고, 그와 같은 기의 구체적인 예로서는 알콕시기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기, 수소 결합 형성기 등을 들 수 있다. 이들의 관능기의 중에서도 수소 결합 형성기는 미립자가 무기 초미립자인 경우, 미립자 표면에 존재하는 수산기와의 친화성에도 우수하고, 상기 무기 초미립자 및 그 집합체의 바인더 중에서의 분산성을 향상시키므로 바람직하다. 수소 결합 형성기 중, 특히 수산기가 바인더 성분에의 도입이 용이하고, 코팅 조성물의 보존 안정성이나 열경화에 의해 무기계의 공극을 갖는 미립자 표면에 존재하는 수산기와의 공유 결합을 형성하여, 상기 공극을 갖는 미립자가 가교제로서 작용하고여, 도포막 강도의 한층 더한 향상을 도모할 수 있으므로 특히 바람직하다. 여기서, 도포막의 굴절율을 충분히 낮게 하기 위해서는, 모노머 성분의 굴절율이 1.65 이하인 것이 바람직하다.

본 발명에 의한 반사 방지 적층체의 저굴절율층의 형성에 이용되는 코팅 조성물의 결착제로서는, 1분자 중에 2개 이상의 전리방사선 경화성기를 갖는 모노머성분을 들 수 있고, 이것은 도포막의 가교 밀도를 향상시켜, 막강도 또는 경도를 향상시키므로 바람직하다.

도포막의 굴절율을 낮추어, 발수성을 갖게 하기 위해서는, 분자 중에 불소 원자를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서는, 불소 원자를 포함하고, 또한 수평균 분자량이 2만 이상의 전리방사선으로 경화하는 폴리머와, 1분자 중에 2개 이상의 전리방사선으로 경화하는 관능기를 갖는 불소 원자 함유 및/또는 비함유의 모노머와의 조합을 바람직하게는 이용할 수 있다. 이 편성에 의한 조성물은 저굴절율 조성물에 성막성(피막형 성능)으로 낮은 굴절율을 부여하기 위한 결착제인 전리방사선 경화형의 불소 원자를 함유하는 모노머 및/또는 폴리머를 포함하여 이루어지는 것이다.

분자 중에 불소 원자 함유 및/또는 비함유의, 모노머 및/또는 올리고머는 도포막의 가교 밀도를 높이는 효과가 있고, 분자량이 작으므로 유동성이 높은 성분이며, 코팅 조성물의 도공 적성을 향상시키는 효과가 있다. 불소 원자 함유 폴리머는 분자량이 충분히 크므로, 불소 원자 함유 및/또는 비함유의, 모노머 및/또는 올리고머와 비해 성막성이 높다. 이 불소 원자 함유 폴리머에, 상기 불소 원자 함유 및/또는 비함유의, 모노머 및/또는 올리고머와의 조합에 의해, 유동성이 향상되어 도 공액으로서의 적성이 개선되고, 가교 밀도도 높아지므로 도포막의 경도 또는 강도를 향상시킬 수 있다.

불소 원자 함유 모노머의 구체적인 예로서는 플루오로올레핀류(예컨대 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 파플루오로부타디엔, 파플루오로-2, 2-디메틸-1, 3-디옥솔 등을 들 수 있음), 아크릴 또는 메타크릴산의 부분 및 완전 불소화알킬, 알케닐, 아릴에스테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐에테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐에스테르류, 완전 또는 부분 불소화비닐케톤류 등을 들 수 있다.

불소원자비함유 모노머의 구체적인 예로서는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 에틸렌 글리콜디아크릴레이트, 펜타에리스리톨디아크릴레이트모노스테아레이트 등의 디아크릴레이트; 메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트; 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트 유도체, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 등의 다관능(메트)아크릴레이트; 또는, 이들의 라디칼중합성모노머가 중합한 올리고머를 들 수 있다. 이들의 불소비함유모노머 및/또는 올리고머는 2종 이상을 조합시켜 이용하더라도 좋다.

임의의 성분

저굴절율층은, 소수화처리된 미립자와, 결착제를 포함하여 이루어지는 것이지만, 또한 필요에 따라, 불소계 화합물 및/또는 규소 화합물, 분자 중에 불소 원자를 포함하는 전리방사선 경화형수지 조성물 이외의 결착제 등을 포함하여 이루어지는 것이라도 좋다. 또한, 저굴절율층 형성용 도공액에는, 용제, 중합개시제, 경 화제, 가교제, 자외선 차단제, 자외선 흡수제, 표면 조정제(레벨링제), 또는 그 외의 성분이 포함되더라도 좋다.

2) 대전 방지층

대전 방지층은 대전 방지제와, 용제와, 수지를 포함하여 이루어지는 대전 방지층용 조성물에 의해 형성되어 이루어진다. 대전 방지제와 용제란 하드 코트층에 있어서 설명한 것과 동일하므로 좋다. 대전 방지층의 두께는 10 ㎚ 이상 1 ㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다. 또한, 대전 방지층을 형성하는 수지와 대전 방지제와의 첨가비는 300 이상 500 이하가 바람직하다. 이 첨가비의 범위 내로 함으로써, 대전 방지층 자체에 10⁷ Ω/□ 이하의 양호한 대전 방지 성능을 부여할 수 있고, 또한, 대전 방지층을 형성할 때의 도공 적성을 양호하게 하는 것을 가능하게 한다.

수지

수지의 구체적인 예로서는 열가소성수지, 열경화성수지, 혹은 전리방사선 경화성수지 혹은 전리방사선 경화성 화합물(유기반응성규소 화합물을 포함함)을 사용할 수 있다. 수지로서는, 열가소성의 수지도 사용할 수 있지만, 열경화성수지를 사용하는 것이 더욱 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 전리방사선 경화성수지 또는 전리방사선 경화성 화합물을 포함하는 전리방사선 경화성 조성물이다.

전리방사선 경화성 조성물로서는, 분자 중에 중합성 불포화 결합 또는, 에폭시기를 갖는 프리폴리머, 올리고머 및/또는 모노머를 적절히 혼합한 것이다. 여기서, 전리방사선이란, 전자파 또는 하전 입자선 중 분자를 중합 또는 가교할 수 있 는 에너지 양자를 갖는 것을 가리키고, 통상은 자외선 또는 전자선을 이용한다.

전리방사선 경화성 조성물 중의 프리폴리머, 올리고머의 예로서는, 불포화디카르복실산과 다가알코올의 축합물 등의 불포화폴리에스테르류, 폴리에스테르메타크릴레이트, 폴리에테르메타크릴레이트, 폴리올메타크릴레이트, 멜라민메타크릴레이트 등의 메타크릴레이트류, 폴리에스테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 폴리올아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트 등의 아크릴레이트, 양이온 중합형 에폭시 화합물을 들 수 있다.

전리방사선 경화성 조성물 중의 모노머의 예로서는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계모노머, 아크릴산메틸, 아크릴산-2-에틸헥실, 아크릴산메톡시에틸, 아크릴산부톡시에틸, 아크릴산부틸, 아크릴산메톡시부틸, 아크릴산페닐 등의 아크릴산에스테르류, 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산프로필, 메타크릴산메톡시에틸, 메타크릴에톡시메틸, 메타크릴산페닐, 메타크릴산라우릴 등의 메타크릴산에스테르류, 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디메틸아미노)에틸, 아크릴산-2-(N,N-디벤질아미노)메틸, 아크릴산-2-(N,N-디에틸아미노)프로필 등의 불포화치환의 치환아미노알코올에스테르류, 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 불포화카르복실산아미드, 에틸렌 글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트 등의 화합물, 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트 등의 다관능성 화합물 및/또는 분자 중에 2개 이상의 티올기를 갖는 폴리 티올 화합물, 예컨대 트리메틸올프로판트리티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리티오프로피레이트, 펜타에리스리톨테트라티오글리콜레이트 등을 들 수 있다.

전리방사선 경화성 조성물 중의 모노머는, 1종 혹은 2종 이상을 혼합하여 이용하면 좋지만, 전리방사선 경화성 조성물에 통상의 도포 적성을 부여하기 위해서, 상기 프리폴리머 또는 올리고머를 5 중량％ 이상, 상기 모노머 및/또는 폴리티올 화합물을 95 중량％ 이하로서 혼합하는 것이 바람직하다.

전리방사선 경화성 조성물을 도포하여, 경화시켰을 때의 유연성이 요구되는 경우, 모노머량을 감하거나, 관능기의 수가 1 또는 2의 (메트)아크릴레이트모노머를 사용하면 좋다. 전리방사선 경화성 조성물을 도포하여, 경화시켰을 때의 내마모성, 내열성, 내용제성이 요구되는 경우, 관능기의 수가 3가지 이상의 (메트)아크릴레이트모노머를 사용하는 등, 전리방사선 경화성 조성물의 설계가 가능하다. 여기서, 관능기가 1인 것으로서, 2-히드록시아크릴레이트, 2-헥실아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트를 들 수 있다. 관능기가 2인 것으로서, 에틸렌 글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트를 들 수 있다. 관능기가 3 이상인 것으로서, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 등을 들 수 있다. 상기 아크릴레이트모노머는 전부 메타아크릴레이트모노머이더라도 좋다.

전리방사선 경화성 조성물을 도포하여, 경화시켰을 때의 유연성이나 표면 경도 등의 물성을 조정하기 위해, 전리방사선 경화성 조성물에, 전리방사선 조사로서는 경화하지 않는 폴리머수지를 첨가할 수도 있다. 폴리머수지의 예로서는, 폴리우 레탄수지, 셀룰로오스수지, 폴리비닐브티랄수지, 폴리에스테르수지, 아크릴 수지, 폴리염화비닐수지, 폴리초산 비닐 등의 열가소성수지를 들 수 있고, 바람직하게는, 폴리우레탄수지, 셀룰로오스수지, 폴리비닐브티랄수지 등을 들 수 있다.

전리방사선 경화성 조성물의 도포 후의 경화가 자외선 조사에 의해 행해질 때는, 광중합 개시제나 광중합 촉진제를 첨가한다. 광중합 개시제로서는, 라디칼중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우는 아세토페논류, 벤조페논류, 티오크산톤류, 벤조인, 벤조인 메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 이용한다. 또한, 양이온 중합성 관능기를 갖는 수지계의 경우는, 방향족디아조늄염, 방향족술포니움염, 방향족요오드늄염, 메탈로셀 화합물, 벤조인술폰산에스테르 등을 단독 또는 혼합물로서 이용한다. 광중합 개시제의 첨가량은 전리방사선 경화성 조성물 100 중량부에 대해, 0.1∼10 중량부이다.

전리방사선 경화성 조성물에는, 다음과 같은 유기반응성규소 화합물을 병용하더라도 좋다.

유기규소 화합물 1은 일반식 R_mSi(OR')_n 으로 나타낼 수 있는 것으로, R 및 R'은 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타내며, R의 첨자 m과 OR'의 첨자 n이란, 각각이 m+n = 4의 관계를 만족하는 정수이다.

구체적으로는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-iso-프로폭시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 테트라펜타에톡시실란, 테트라펜타-iso-프로폭시실란, 테트라펜 타-n-프로폭시실란, 테트라펜타-n-부톡시실란, 테트라펜타-sec-부톡시실란, 테트라펜타-tert-부톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸프로폭시실란, 디메틸부톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 헥실트리메톡시실란 등을 들 수 있다.

전리방사선 경화성 조성물에 병용할 수 있는 유기규소 화합물은 실란커플링제이다. 구체적으로는, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴록시프로필메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필메톡시실란·염산염, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 아미노실란, 메틸메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, 헥사메틸디실라잔, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 옥타데실디메틸[3-(트리메톡시실릴)프로필]암모늄클로라이드, 메틸트리클로로실란, 디메틸디클로로실란 등을 들 수 있다.

대전 방지층의 형성

대전 방지층으로서 도포막을 형성하기 위해서는, 대전 방지제와, 수지와, 용제를 혼합한 조성물을, 롤코트법, 메이어 바코트법, 그라비아코트법, 다이코트법 등의 도포 방법에 의해 도포한다. 다음으로, 이 액체 조성물의 도포 후에, 건조와 자외선 경화를 행한다. 전리방사선 경화형 수지 조성물의 경화 방법으로는, 전자선 또는 자외선의 조사에 의해 경화한다. 전자선 경화의 경우에는, 100 KeV∼300 KeV 의 에너지를 갖는 전자선 등을 사용한다. 자외선 경화의 경우에는, 초고압 수은 등, 고압 수은 등, 저압 수은 등, 카본아크, 크세논아크, 메탈 할라이드 램프 등의 광선으로부터 발하는 자외선 등을 사용한다.

본 발명에 있어서는, 굴절율층, 그 외의 층도, 상기 수법에 의해 형성되면 좋다.

4) 그 외의 층

본 발명에 있어서는, 점착층, 이형층, 오염 방지층 등의 그 외의 층을 형성시키더라도 좋다.

광학 적층체의 용도

본 발명에 의한 광학 적층체는 하드 코트 적층체로서, 바람직하게는 반사 방지 적층체로서 이용된다. 또한, 본 발명에 의한 광학 적층체는 투과형 화상 표시 장치에 이용된다. 특히, 텔레비젼, 컴퓨터, 워드 프로세서 등의 디스플레이 표시에 사용된다. 특히, CRT, PDP, LED, 액정 패널 등의 디스플레이의 표면에 이용된다.

편광판

편광판은 편광막을 양면에서 끼운 2장의 보호 적층체에 의해 주로 구성된다. 본 발명의 반사 방지적층체는, 편광막을 양면에서 끼운 2장의 보호적층체 중 적어도 1장에 이용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 광학 적층체가 보호적층체를 겸함으로써 편광판의 제조 비용을 저감할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 적층체를 최표층에 사용함으로써, 외광의 리플렉션 등이 방지되어, 내찰상성, 방오성 등도 우수한 편광판으로 할 수 있다. 편광막은 공지의 편광막, 편광막의 흡수축이 길이 방 향에 평행하지도 수직이지도 않은 길이의 편광막으로부터 취출된 편광막을 이용하더라도 좋다.

실시예

본 발명의 내용을 하기의 여러 가지예에 의해 설명하지만, 본 발명의 내용은 이들 여러 가지예에 한정하고 해석되는 것이 아니다.

광학 적층체를 구성하는 각 층용의 조성물을 하기 조성에 따라 혼합 여과하여 조제했다.

광학 조정층용 조성물의 조제

광학 조정층용 조성물 1

변성 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 25 중량부

(KAYARAD DPCA 30 니혼 카세이샤 제조)

이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트 25 중량부

(M315 동아합성사 제조)

디아세틸셀룰로오스 (L-50 다이셀 가가쿠고교사 제조)

아세톤과 시클로헥사논(3:7) 용액 250 중량부

광개시제: 일가큐어184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

광학 조정층용 조성물 2

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 50 중량부

(상품명 PET30: 니혼 카야쿠사 제조)

ATO 초미립자(상품명 SN-100P: 이시하라테크노사 제조) 10 중량부

분산제: SOLSEPERSE 3000(상품명: 아비시아사 제조) 50 중량부

디 아세틸셀룰로오스(L-50 다이셀 가가쿠고교사 제조) 20 중량부

아세톤과 시클로헥사논(5:5)용액 250 중량부

광개시제: 일가큐어184 4 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

광학 조정층용 조성물 3

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 25 중량부

(DPHA 니혼 카야쿠사 제조)

이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트 25 중량부

(M315 동아합성사 제조)

디아세틸셀룰로오스(L-50다이셀 가가쿠고교사 제조)

아세톤과 시클로헥사논(3:7)용액 250 중량부

광개시제: 일가큐어184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

광학 조정층용 조성물 4

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 25 중량부

(PET30 니혼 카야쿠사 제조)

이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트 25 중량부

(M215 동아합성사 제조)

디아세틸셀룰로오스(L-50 다이셀 가가쿠고교사 제조)

아세톤과 시클로헥사논(3:7)용액 250 중량부

광개시제: 일가큐어184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

광학 조정층용 조성물 5

변성 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 25 중량부

(KAYARAD DPCA30 니혼 카야쿠사 제조)

이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트 25 중량부

(M315 동아합성사 제조)

디아세틸셀룰로오스(L-50 다이셀 가가쿠고교사 제조)

톨루엔 250 중량부

광개시제: 일가큐어 184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

하드 코트층용 조성물의 조제

하드 코트층용 조성물 1

변성 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 50 중량부

이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트 50 중량부

광개시제: 일가큐어-184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

톨루엔 100 중량부

하드 코트층용 조성물 2

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 PET30 100 중량부

(상품명: 니혼 카야쿠사 제조)

ATO 초미립자: SN-100P(상품명: 이시하라테크노사 제조) 10 중량부

분산제: SOLSEPERSE 3000(상품명: 아비시아사 제조) 4 중량부

광개시제: 일가큐어-184 4 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

이소프로필알코올 100 중량부

하드 코트층용 조성물 3

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 100 중량부

광개시제: 일가큐어-184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

톨루엔 100 중량부

하드 코트층용 조성물 4

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 100 중량부

광개시제: 일가큐어-184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

톨루엔 100 중량부

하드 코트층용 조성물 5

우레탄아크릴레이트 50 중량부

(UV170OB 일본합성사 제조)

폴리에스테르아크릴레이트 50 중량부

(M9050 동아합성사 제조)

톨루엔 100 중량부

광개시제: 일가큐어184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조사 제조)

하드 코트층용 조성물 6

펜타에리스리톨트리아크릴레이트 50 중량부

(PET30 니혼 카야쿠사 제조)

이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트 50 중량부

(M215 동아합성사 제조)

메틸에틸케톤 100 중량부

광개시제: 일가큐어184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

하드 코트층용 조성물 7

이소시아누르산 EO 변성 디아크릴레이트 100 중량부

(M215 동아합성사 제조)

톨루엔 100 중량부

광개시제: 일가큐어184 3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

굴절율층용 조성물의 조제

저굴절율층용 조성물 1

불소원자함유바인더수지 13 중량부

(상품명: 오프툴 AR100, 다이킨공업사 제조)

광경화성수지: PET30(상품명: 니혼 카야쿠사 제조) 2 중량부

광중합 개시제: 일가큐어907 0.3 중량부

(상품명: 시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

메틸이소부틸케톤 85.3 중량부

저굴절율층용 조성물 2

표면처리실리카졸(공극을 갖는 미립자) 14.3 중량부

(20％ 메틸이소부틸케톤용액 사용)

펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.95 중량부

일가큐어907(시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조) 0.1 중량부

폴리에테르변성 실리콘오일 TSF4460 0.15 중량부

(상품명, GE 도시바실리콘사 제조)

메틸이소부틸케톤과 프로필렌 글리콜모노에틸에테르

(7:3의 비율로 혼합) 83.5 중량부

고굴절율층용 조성물

평균 입자 직경 40 ㎚의 ITO 초미립자 85 중량부

트리메틸올프로판트리아크릴레이트 15 중량부

부탄올 900 중량부

일가큐어907(시바 스페셜리티 케미컬즈사 제조) 1 중량부

광학 적층체의 조제

실시예 1

트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름(두께 80 ㎛)을 준비하여, 이 필름의 표면에 광학 조정층용 조성물 1을 바코팅하여, 건조에 의해 용제를 제거한 후, 자외선 조사 장치[퓨전 UV 시스템재팬(주), 광원 H 벌브]를 이용하여, 조사 선량 72 mJ/㎠로 자외선 조사를 행하고, 조성물을 경화시켜, 3 ㎛의 광학 조정층을 형성시켰다. 다음으로, 광학 조정층의 표면에 하드 코트층용 조성물 1을 바코팅하여, 건조에 의해 용제를 제거한 후, 자외선 조사 장치[퓨전 UV 시스템재팬(주), 광원 H 벌브]를 이용하여, 조사 선량 108 mJ/㎠로 자외선 조사를 행하고, 조성물을 경화시키고, 5 ㎛의 하드 코트층을 형성시킨, 광학 적층체를 조제했다.

실시예 2

실시예 1로 조제한 광학 적층체에 있어서의 하드 코트층의 위에, 고굴절율층용 조성물(굴절율 1.64)을 바코팅하여, 용제를 건조시킨 후에 100 mJ/㎠으로 UV 조사하여, 막 두께 80 ㎚의 고굴절율층을 형성했다. 그 후, 이 고굴절율층 상에 저굴절율층용 조성물 1을 바코팅하여, 건조에 의해 용제분을 제거한 후, 자외선 조사 장치[퓨전 UV 시스템재팬(주), 광원 H 벌브]를 이용하여, 조사 선량 192 mJ/㎠로 자외선 조사를 행하여 경화시켜, 광학 적층체를 얻었다. 막 두께는 반사율의 극소치가 파장 550 ㎚ 부근이 되도록 조제했다.

실시예 3

실시예 1에 있어서, 두께가 40 ㎛의 TAC를 사용하여, 광학 조정층용 조성물 1을 광학 조정층용 조성물 2로, 하드 코트 조성물용 조성물 1을 하드 코트 조성물용 조성물 2로 변경한 이외는 동일하게 하여 광학 적층체를 조제했다. 그 후, 광학 적층체의 하드 코트층의 위에 저굴절율층용 조성물 2을 바코팅하여, 건조에 의해 용제분을 제거한 후, 자외선 조사 장치[퓨전 UV 시스템 재팬(주), 광원 H 벌브)를 이용하여, 조사 선량 192 mJ/㎠로 자외선 조사를 행하여 경화시켜, 광학 적층체를 얻었다. 막 두께는 반사율의 극소치가 파장 550 ㎚ 부근이 되도록 조제했다.

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삭제

실시예 4

실시예 1에 있어서, 광학 조정층용 조성물 1을 광학 조정층용 조성물 4로, 하드 코트층용 조성물 1을 하드 코트층용 조성물 6으로 변경한 이외는 동일하게 하여 광학 적층체를 조제했다.

비교예 1

트리아세테이트셀룰로오스(TAC) 필름(두께 80 ㎛)을 준비하여, 이 필름의 표면에 하드 코트층용 조성물 3을 바코팅하여, 건조에 의해 용제를 제거한 후, 자외선 조사 장치[퓨전 UV 시스템 재팬(주), 광원 H 벌브]를 이용하여, 조사 선량 108 mJ/㎡로 자외선 조사를 행하여 경화시키고, 5 ㎛의 하드 코트층을 형성시켜, 광학 적층체를 조제했다.

비교예 2

비교예 1에 있어서, 하드 코트층용 조성물 3을 하드 코트층용 조성물 4로 변경한 이외는 동일하게 하여 광학 적층체를 조제했다.

비교예 3

비교예 1에 있어서, 하드 코트층용 조성물 3을 하드 코트층용 조성물 7로 변경한 이외는 동일하게 하여 광학 적층체를 조제했다.

비교예 4

실시예 1에 있어서, 광학 조정층용 조성물 1을 광학 조정층용 조성물 5로 변경한 이외는 동일하게 하여 광학 적층체를 조제했다.

평가 시험

실시예 및 비교예의 광학 적층체에 대해 하기의 평가시험을 행하여 평가하고, 그 결과를 하기표 1에 기재했다.

평가 1: 간섭 줄무늬 유무 시험

광학 적층체의 하드 코트층과 반대면에, 이면 반사를 막기 위해 흑색 테이프를 붙이고, 하드 코트층 또는, 하드 코트층의 위에 적층한 저굴절율층의 면에서 광학 적층체를 육안으로 확인하여 관찰하여, 하기 평가 기준으로써 평가했다.

평가 기준

평가 ◎: 간섭 줄무늬의 발생은 없었다.

평가 ×: 간섭 줄무늬의 발생이 있었다.

평가 2: 계면 유무 시험

공초점레이저현미경(Leica TCS-NT: 라이카사 제조: 배율「500∼1000배」)로써, 광학 적층체의 단면을 투과 관찰하고, 계면의 유무를 판단하여 하기의 평가 기준으로 판단했다. 구체적으로는, 하레이션이 없는 선명한 화상을 얻기 위해, 공초점(共焦点) 레이저현미경에, 습식의 대물 렌즈를 사용하고, 또한, 광학 적층체의 위에 굴절율1.518의 오일을 약 2 ml 올려 관찰하고 판단했다. 오일의 사용은, 대물 렌즈와 광학 적층체 사이의 공기층을 소실시키기 위해 이용했다. 각 실시예, 비교예의 광학 적층체에 있어서, 광 투과성 기재에 광학 조정층 및 하드 코트층을 적층한 시점에서 본 시험을 실시했다.

평가기준

평가 ◎: 계면이 관찰되지 않았다(주 1).

평가 ×: 계면이 관찰되었다(주 2).

주 1 및 주 2

주 1: 본 발명에 의한 실시예의 전부는 도 1에 도시한 바와 같이, 오일면(상층)/하드 코트층(하층)의 계면만이 관찰되고, 하드 코트층과 광 투과성 기재의 계면은 관찰되지 않았다.

주 2: 비교예의 전부는 도 2에 도시한 바와 같이, 오일면(상층)/하드 코트층(중층)/광 투과성 기재(하층)과의 각각의 층의 경계로 계면이 관찰되었다.

평가 3: 내찰상성 평가 시험

광학 적층체의 최표면을, #0000번의 스틸 울을 이용하여, 소정의 마찰 하중(200∼1600 g의 범위 내에서 200 g마다 변화시킴)으로 10 왕복 마찰하여, 그 후의 도포막의 박리의 유무를 육안으로 확인하여 하기의 기준으로써 평가했다.

평가 기준

평가 ◎: 도포막의 박리가 전혀 없었다.

평가 ×: 도포막이 박리가 있었다.

표 1

	평가 1	평가 2	평가 3	(가중g)
실시예 1	◎	◎	◎	1600
실시예 2	◎	◎	◎	1000
실시예 3	◎	◎	◎	1000
실시예 4	◎	◎	◎	1000
비교예 1	×	×	◎	1000
비교예 2	×	×	◎	1000
비교예 3	×	×	×	200
비교예 4	×	×	◎	1000

Claims (6)

1. 광 투과성 기재와, 상기 광 투과성 기재 위에, 광학 조정층과, 하드 코트층을 이들의 순서대로 구비하여 이루어지는 광학 적층체로서,

   상기 광투과성 기재가, 트리아세틸셀룰로오스 기재이며,

   상기 광학 조정층이, 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴레이트 및 침투성 용제로서의 케톤류를 함유하는 광학 조정층용 조성물의 경화물이며,

   상기 하드 코트층이, (메트)아크릴레이트를 함유하는 하드 코트층용 조성물의 경화물이며,

   상기 광학 조정층용 조성물에 함유되는 (메트)아크릴레이트와, 상기 하드 코트층용 조성물에 함유되는 (메트)아크릴레이트가 동일한 화합물이며,

   상기 광학 조정층용 조성물에 있어서, 셀룰로오스계 수지와 (메트)아크릴레이트의 배합비가, 20:50~50:50이며,

   상기 광학 조정층용 조성물에 있어서, 셀룰로오스계 수지가 디아세틸셀룰로오스이며,

   상기 광학 조정층용 조성물에 있어서, (메트)아크릴레이트가 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 변성 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 이소시아누르산 EO 변성 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 또는 이들의 혼합물인 것인 광학 적층체.
2. 제1항에 있어서, 상기 광학 조정층이 상기 광 투과성 기재와 상기 하드 코트층의 계면을 없애는 것인 광학 적층체.
3. 제1항에 있어서, 상기 하드 코트층이 대전 방지제를 포함하여 이루어지는 광학 적층체.
4. 제1항에 있어서, 상기 광학 적층체의 최표면(最表面), 최이면(最裏面), 또는 각 층 사이에 대전 방지층 또는 저굴절율층을 더 포함하여 이루어지는 광학 적층체.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 방지 적층체로서 이용되는 광학 적층체.
6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 화상 표시 장치에 이용되는 광학 적층체.

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