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KR100589314B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시장치 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시장치 Download PDF

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KR100589314B1
KR100589314B1 KR1020030084472A KR20030084472A KR100589314B1 KR 100589314 B1 KR100589314 B1 KR 100589314B1 KR 1020030084472 A KR1020030084472 A KR 1020030084472A KR 20030084472 A KR20030084472 A KR 20030084472A KR 100589314 B1 KR100589314 B1 KR 100589314B1
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시 장치에 관한 것이다. 특히, 플라즈마 디스플레이 패널의 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조가 표시되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에서 제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서, 어드레스 기간 동안, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 주사 전극과 상기 어드레스 전극에 각각 스캔 전압과 어드레스 전압을 인가한다. 상기 주사 전극에 스캔 전압을 인가한 후, 상기 주사 전극을 플로팅시킨다.
이와 같이 하면, 최소 가중치를 나타내는 최소 단위광이 저감되어 저계조 표현력을 향상시킬 수 있다.
플라즈마 디스플레이 패널, 최소 단위광, 저계조, 서브필드

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시 장치{DRIVING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY DEVICE}
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 사시도이다.
도 2는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 배열도이다.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제5 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 제6 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; PDP)에 관한 것으로 특히 저계조 표현력을 극대화시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시 장치에 관한 것이다.
최근 평면 디스플레이 장치 중에서 PDP는 다른 디스플레이 장치에 비해 휘도 및 발광 효율이 높고 시야각이 넓다는 장점으로 인하여 평면 디스플레이 장치로서 각광을 받고 있다.
플라즈마 디스플레이 패널은 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 평면 표시 장치로서, 그 크기에 따라 수십에서 수백 만개 이상의 화소가 매트릭스 형태로 배열되어 있다. 먼저 도 1 및 도 2를 참조하여 플라즈마 디스플레이 패널의 구조에 대하여 설명한다.
도 1은 플라즈마 디스플레이 패널의 일부 사시도이며, 도 2는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 배열도를 나타낸다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 서로 마주보며 떨어져 있는 두 개의 유리 기판(1, 6)을 포함한다. 유리 기판(1) 위에는 주사 전극(4) 과 유지 전극(5)이 쌍을 이루어 평행하게 형성되어 있으며, 주사 전극(4)과 유지 전극(5)은 유전체층(2) 및 보호막(3)으로 덮여 있다. 유리 기판(6) 위에는 복수의 어드레스 전극(8)이 형성되어 있으며, 어드레스 전극(8)은 절연체층(7)으로 덮여 있다. 어드레스 전극(8) 사이에 있는 절연체층(7) 위에는 어드레스 전극(8)과 격벽(9)이 형성되어 있다. 또한 절연체층(7)의 표면 및 격벽(9)의 양측면에 형광체(10)가 형성되어 있다. 유리 기판(1, 6)은 주사 전극(4)과 어드레스 전극(8) 및 유지 전극(5)과 어드레스 전극(8)이 직교하도록 방전 공간(11)을 사이에 두고 대향하여 배치되어 있다. 어드레스전극(8)과, 쌍을 이루는 주사 전극(4)과 유지 전극(5)과의 교차부에 있는 방전 공간(11)이 방전 셀(12)을 형성한다.
그리고 도 2에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널의 전극은 n×m의 매트릭스 구조를 가지고 있다. 복수의 어드레스 전극(A1-Am)이 세로 방향으로 배열되어 있고 가로 방향으로 복수의 주사 전극(Y1-Yn) 및 유지 전극(X1 -Xn)이 쌍으로 배열되어 있다.
일반적으로 각 서브필드는 리셋 기간(reset period), 어드레스 기간(address period), 유지 기간(sustain period)으로 이루어진다. 리셋 기간은 이전의 유지방전으로 형성된 벽 전하를 소거하고 다음의 어드레스 방전을 안정적으로 수행하기 위해 벽 전하를 셋업(setup) 하는 역할을 한다. 어드레스 기간은 패널에서 켜지는 셀과 켜지지 않는 셀을 선택하여 켜지는 셀(어드레싱된 셀)에 벽 전하를 쌓아두는 동작을 수행하는 기간이다. 유지 기간은 어드레싱된 셀에 실제로 화상을 표시하기 위한 유지방전을 수행하는 기간이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널에서는 1 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조를 표현한다.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
플라즈마 디스플레이 패널에서는 최소 계조(단위광)를 표현하는 서브필드에서 최소한의 방전이 일어나야만 저계조 표현력을 증가시킬 수 있다.
도 3에 나타낸 바와 같이 플라즈마 디스플레이 패널에서 최소 계조를 표현하는 가중치 1의 서브필드의 광은 리셋 기간에서 발생되는 광과 어드레스 기간에서 선택된 셀에서 발생되는 광 및 유지기간에서 1회의 유지방전시에 발생되는 광의 합으로서 표현된다.
가중치 1의 서브필드에서의 리셋 기간은 상승 램프 기간과 하강 램프 기간으로 이루어진다. 여기서, 리셋 기간에서의 리셋 방전은 그 세기가 미약하여 리셋 방전에 의해 발생되는 광은 거의 무시된다. 따라서, 계조 1을 표시하는 가중치 1의 서브필드는 어드레스 광과 유지 광으로 표현될 수 있다.
현재 고효율의 플라즈마 디스플레이 패널을 구현하기 위해 방전 가스 중 제논(Xe)의 비율을 향상시켜 발광 효율 및 휘도를 증가시키고 있다. 이와 같이 고압 가스 및 제논의 비율을 증가시켜 플라즈마 디스플레이 패널을 구동시에는 유지 방전에 의해 발생하는 단위광의 크기가 증가하여 저계조 표현이 매우 심각한 문제로 대두되고 있는 실정이다.
이러한 상황에서 가중치 1의 서브필드에서 발생되는 1회의 어드레스 방전(어드레스 광)과 하나의 유지방전 펄스 인가에 따른 1회의 유지 방전(유지(서스테인) 광)에 의해서 상당량의 발광이 발생하고, 하나의 유지방전 펄스의 발광량을 감소시켜도 어드레스 방전에 의한 발광량 자체도 상당한 휘도를 발생시키기 때문에 플라즈마 디스플레이 패널에서 저계조를 효율적으로 구현하기 위해서는 어드레스 광 자체를 약화시킬 필요가 있다.
따라서, 상기와 같은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형에서 저계조를 표현하기에는 한계가 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 최소 계조를 표현하는 서브필드에서 최소 단위광을 저감시켜 저계조 표현력을 극대화킬 수 있도록 어드레스 방전을 약화시키는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 표시 장치를 제공하고자 하는 데 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 한 특징에 따르면, 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널의 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조가 표시되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법이 제공된다. 이 구동방법은 제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서, 어드레스 기간 동 안, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 주사 전극과 상기 어드레스 전극에 각각 스캔 전압과 어드레스 전압을 인가하는 단계; 그리고 상기 주사 전극에 스캔 전압을 인가한 후, 상기 주사 전극을 플로팅시키는 단계를 포함한다. 이 때, 상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압과 동일할 수 있으며, 상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압보다 높을 수도 있다.
그리고 상기 제1 군의 서브필드의 리셋 기간동안, 상기 주사 전극의 전압을 제1 전압에서 제2 전압까지 점차적으로 하강하는 전압파형을 인가하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 제2 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 최종 전압과 동일할 수 있다.
또한, 상기 제1 군의 서브필드의 리셋 기간동안, 상기 주사 전극의 전압을 제1 전압에서 제3 전압까지 점차적으로 하강하는 전압파형을 인가하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 제3 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 최종 전압보다 낮을 수 있다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널의 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조가 표시되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법이 제공된다. 이 구동 방법은 제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서, 리셋 기간 동안, 상기 주사 전극에 제1 전압에서 최종 전압까지 하강하는 전압파형을 인가하는 단계; 어드레스 기간 동안, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 주사 전극과 상기 어드레스 전극에 각각 스캔 전압과 어드레스 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 이 때, 상기 제1 군의 서브필드에서 상기 최종 전압과 상기 스캔 전압의 차가 상기 제2 군의 서브필드에서 최종 전압과 스캔 전압의 차보다 크다.
또한, 상기 제1 군의 서브필드의 최종 전압이 상기 제2 군의 서브필드의 최종 전압보다 낮을 수 있고, 상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압이 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압보다 높을 수도 있다.
본 발명의 다른 특징에 따르면 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극 사이에 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널, 그리고 상기 플라즈마 디스플레이 패널에서 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간 동안 각 서브필드별로 상기 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 구동 전압을 인가하는 구동 회로를 포함하는 플라즈마 표시 장치가 제공된다. 이 구동 회로는, 제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서, 상기 어드레스 기간 동안, 상기 제1 군의 방전이 상기 제2 군의 방전보다 약하게 한다.
그리고 이 구동회로는, 상기 유지 기간 동안, 상기 주사 전극에 제2 전압을 가지는 하나의 유지방전 펄스를 인가할 수 있다.
또한, 상기 주사 전극에 상기 제2 전압이 인가된 상태에서 상기 주사 전극의 전압을 제3 전압으로 완만하게 상승시키고, 상기 주사 전극에 인가되는 상승 전압은 상기 제1 서브필드 다음 서브필드의 리셋 기간에 포함될 수 있다.
또한, 상기 주사 전극에 상기 제2 전압이 인가된 상태에서 상기 주사 전극의 전압을 제4 전압으로 완만하게 하강시키고, 상기 주사 전극에 인가되는 하강 전압은 상기 제1 서브필드 다음 서브필드의 리셋 기간에 포함될 수 있다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
우선, 아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적이 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단된 경우 그 상세한 설명은 생략하였다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 도면이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 플라즈마 패널(100), 제어부(200), 어드레스 구동부(300), 유지전극 구동부(400) 및 주사전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 패널(100)은 열 방향으로 배열되어 있는 다수의 어드레스 전극(A1~Am), 행 방향으로 배열되어 있는 다수의 유지전극(X1~Xn) 및 주사 전극(Y1~Yn)을 포함한다.
제어부(200)는 외부로부터 영상신호를 수신하여 어드레스구동 제어 신호, 유지전극(X)구동 제어신호 및 주사전극(Y)구동 제어신호를 출력한다.
어드레스 구동부(300)는 제어부(200)로부터 어드레스구동 제어신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 어드레스 전극에 인가한다.
유지전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 유지전극(X)구동 제어신호를 수신하여 유지(X) 전극에 구동 전압을 인가한다.
주사전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 주사전극(Y)구동 제어신호를 수신하여 주사(Y)전극에 구동 전압을 인가한다.
그러면, 플라즈마 패널(100)에는 데이터가 표시된다.
여기서, 제어부(200)의 주사전극 구동신호 및 유지전극 구동신호 및 어드레스전극 구동신호의 생성에 관하여 도 5 내지 도 7을 참조하여 상세하게 설명한다.
본 발명의 제1 내지 제6 실시예에서는 플라즈마 디스플레이 패널의 저계조 표현을 극대화 시킬 수 있는 구동 방법을 개시한다.
플라즈마 디스플레이 패널의 저계조는 가중치 1 서브필드에서 리셋 광과 어드레스 광 및 유지 광의 합으로 표현된다. 그러나, 리셋 기간에서의 리셋 방전에 의한 리셋광은 그 세기가 미약하여 거의 무시되므로 실질적으로 저계조는 가중치 1 서브필드에서 어드레스 광 및 유지 광으로 표현된다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 5에 나타낸 바와 같이 본 발명의 제1 실시예에 따른 구동 파형에서 저계조를 표현하는 가중치 1 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 포함한다.
그리고 플라즈마 디스플레이 패널에는 각 기간에서 주사 전극(Y) 및 유지 전극(X)에 구동 전압을 인가하는 주사/유지 구동회로(도시하지 않음)와 어드레스 전극(A)에 구동 전압을 인가하는 어드레스 구동회로(도시하지 않음)가 연결된다. 이러한 구동 회로와 플라즈마 디스플레이 패널이 연결되어 하나의 플라즈마 표시 장치를 이룬다.
가중치 1의 서브필드의 리셋 기간은 상승램프기간 및 하강램프기간을 포함한다. 상승램프기간에서는 주사 전극(Y)에 Vs 전압에서 Vset 전압까지 완만하게 상승하는 램프 전압이 인가된다. 그러면 이 램프 전압이 상승하는 동안 주사 전극(Y)으로부터 어드레스 전극(A) 및 유지 전극(X)으로 리셋 방전이 일어난다. 이 방전에 의해 주사 전극(Y), 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에 벽 전하가 형성된다.
여기서, 벽 전하란 각 전극에 가깝게 방전 셀의 벽(예를 들어, 유전체층)에 형성되어 전극에 축적되는 전하를 말한다. 이러한 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 벽 전하가 전극에 "형성됨", "축적됨" 또는 "쌓임"과 같이 설명된다. 또한 벽 전압은 벽 전하에 의해서 방전 셀의 벽에 형성되는 전위차를 말한다.
그리고 하강램프기간에서는 유지 전극(X)을 Ve 전압으로 유지한 상태에서 Vs 전압에서 -Vnf_L 전압까지 하강하는 램프 전압이 인가된다. -Vnf_L 전압은 가중치 2의 서브필드(다른 서브필드)의 하강램프기간에 인가되는 최종 전압(-Vnf)보다 낮은 전압이다.
이렇게 하면, 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 방전이 억제되면서 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이의 미약한 방전이 일어난다. 상승램프기간의 리셋 방전에 의해 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에 벽 전하가 형성되어 있으므로, 이 미약한 방전에 의해서 벽 전하들이 소거된다. 이 때, 각 서브필드의 하강램프기간에 인가되는 전압은 기울기는 동일하고 가중치 1 서브필드의 리셋 기간에서 하강램프기간의 최종전압(-Vnf_L)이 다른 서브필드의 리셋 기간에서 하강램프기간의 최종전압(-Vnf)보다 더 낮은 전압이므로, 더 많은 벽 전하들을 소거시킬 수 있게 된다.
이어서, 어드레스 기간에서는 먼저 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)을 각각 Vn 전압과 Ve 전압을 유지한 상태에서 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A)에 스캔 펄스 및 어드레스 펄스가 인가된다.
구체적으로 설명하면, 먼저 첫 번째 행의 주사 전극(Y)에 음의 전압인 -Vsc 전압을 인가하는 동시에 첫 번째 행 중 표시하고자 하는 방전 셀에 위치하는 어드 레스 전극(A)에 양의 전압인 Va 전압을 인가한다. 도 5에서는 -Vsc 전압을 가중치 2 서브필드(다른 서브필드)의 리셋 기간에서의 최종전압(-Vnf)과 동일한 레벨로 하였다.
그러면, Va 전압이 인가된 어드레스 전극(A)과 -Vsc 전압이 인가된 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 방전 셀에서는 즉, 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A)에 인가된 전압의 차이가 (Va + Vsc) 전압인 방전셀에서는 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이 및 유지 전극(X)과 주사 전극(Y) 사이에서 어드레스 방전이 일어난다.
다음, 두 번째 행의 주사 전극(Y)에 -Vsc 전압을 인가하면서 두 번째 행 중 표시하고자 하는 방전 셀에 위치하는 어드레스 전극(A)에 Va 전압을 인가한다. 그러면 Va 전압이 인가된 어드레스 전극(A)과 -Vsc 전압이 인가된 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 방전 셀에서는 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이 및 유지 전극(X)과 주사 전극(Y) 사이에서 어드레스 방전이 일어난다. 마찬가지로 나머지 행의 주사 전극(Y)에 대해서는 순차적으로 -Vsc 전압을 인가하면서 표시하고자 하는 방전 셀에 위치하는 어드레스 전극에 Va 전압을 인가하여 어드레스 방전을 발생시켜 벽전하를 형성한다. 이와 같이 어드레스 방전에 의해 어드레스 광이 형성된다. 도 5에서는 편의상, 어드레스 기간에서 어드레싱 동작이 한번만 일어나는 것으로 도시하였다.
이와 같이 어드레스 전극(A)에 인가된 전압(Va)과 주사 전극(Y)에 인가된 전 압(-Vsc)의 차이 및 어드레스 전극(A) 및 주사 전극(Y)에 형성된 벽 전하에 의한 벽 전압에 의해 어드레스 방전이 이루어진다. 이 때, 앞에서 설명한 것처럼 리셋 기간의 하강램프기간에서 각 전극에 형성된 벽 전하가 많이 소거되므로 벽 전압이 낮아지게 된다.
방전을 일으키는 전압은 외부에서 인가된 전압과 내부 벽 전하에 의한 벽전압의 합으로 주어지는데, 가중치 1 서브필드에서는 벽 전압이 다른 서브필드에서보다 낮으므로 방전을 일으키는 전압이 낮아진다. 따라서 어드레스 방전이 다른 서브필드에서보다 약하게 일어난다. 따라서 어드레스 방전에 의한 광이 약화되므로 저계조 표현력을 증가시킬 수 있게 된다. 또한, 리셋 기간에서 벽 전하의 소거량에 따라 어드레스 방전의 양을 제어할 수 있어 저계조 표현력을 효율적으로 증대시킬 수 있다.
다음, 유지 기간에서는 먼저 주사 전극(Y)에 Vs 전압을 인가하면서 유지 전극(X)에 기준 전압(0V)을 인가한다. 그러면 어드레스 기간에서 선택된 방전 셀에서는, 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 전압이 Vs 전압에 어드레스 기간에서 형성된 주사 전극(Y) 및 유지 전극(X)에 형성된 벽 전하에 의한 벽 전압이 더해진 것이 되므로 방전 개시 전압을 넘게 되어 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에서 1회의 유지방전이 일어난다. 그러나 앞에서 설명한것과 같이 약한 어드레스 방전에 의해 각 전극에 벽 전하들이 더 적게 형성되므로 더 약한 유지방전이 일어난다. 따라서 이 유지방전에 의한 유지광도 줄어든다.
즉, 본 발명의 제1 실시예에 의하면, 저계조를 표현하는 가중치 1 서브필드의 리셋 기간에서 하강램프기간에 주사전극(Y)에 인가되는 최종 전압을 다른 서브필드의 하강램프기간에서 인가되는 최종 전압보다 낮게 인가함으로써, 주사전극(Y)과 어드레스 전극(Y)의 벽 전하를 더 많이 소거하여 어드레스 광 및 유지 광을 감소시킴으로써 저계조 표현력을 향상시킨다.
다음, 가중치 2의 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간을 포함한다. 그리고 리셋 기간은 소거 기간과 상승 램프 기간 및 하강 램프 기간을 포함한다.
리셋 기간의 소거 기간에서는 가중치 1 서브필드의 유지 기간에서 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 각각 벽전하가 형성되어 있는 상태에서 주사 전극(Y)을 기준 전압(0V)으로 유지하고 유지 전극(X)에 Ve 전압까지 완만하게 상승하는 파형을 인가한다. 그러면, 유지 방전에 의한 방전 셀의 벽전하를 감소시켜 유지방전이 종료된다.
그리고 상승 램프 기간 및 하강 램프 기간은 앞에서 설명한 가중치 1 서브필드에서와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.
다음, 어드레스 기간에서는 먼저 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)을 각각 Vn 전압과 Ve 전압을 유지한 상태에서 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A)에 스캔 펄스 및 어드레스 펄스가 인가된다. 이 때, 스캔 펄스 폭은 가중치 1 서브필드에서 해당 펄스 폭보다 길다. 그리고 유지 기간에서는 유지방전을 위한 유지방전 펄스를 가중치 1 서브필드에서보다 더 많이 인가한다.
이후 가중치 2 서브필드와 동일한 방법으로 리셋 기간부터 시작하는 서브필드가 이어진다.
그리고, 본 발명의 제1 실시예에서는 가중치 1 서브필드의 리셋 기간에서 내부 벽 전하에 의한 벽전압을 낮게 하여 어드레스 광 및 유지 광을 감소시켰지만, 이와 달리 외부로부터 인가되는 전압을 낮게 할 수도 있다. 아래에서는 이러한 실시예에 대해서 도 6을 참조하여 설명한다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 6을 보면, 가중치 1 서브필드의 리셋 기간의 하강램프 기간에서는 유지 전극(X)을 Ve 전압으로 유지한 상태에서 Vs 전압에서 -Vnf 전압까지 하강하는 램프 전압을 인가한다.
이어서, 어드레스 기간에서는 다른 주사 전극(Y)을 Vn 전압으로 유지한 상태에서 주사 전극(Y)에 순차적으로 음의 전압인 -Vsc_H 전압을 인가하여 주사 전극(Y)을 선택한다. 그리고 -Vsc_H 전압이 인가된 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀을 형성하는 어드레스 전극(A)에 어드레스 전압(Va)을 인가한다. 그리고 -Vsc_H 전압은 -Vsc 전압보다 낮은 레벨의 전압이고 그 부호는 동일하다. 그리고, -Vsc_H 전압은 어드레스 기간에서 선택된 방전 셀에서의 어드레스 전 극(A)과 주사 전극(Y)의 전압 차이가 항상 방전 개시 전압보다 크게 하는 전압이다. 도 6에서는 -Vsc 전압을 리셋 기간에서의 -Vnf 전압과 동일한 레벨로 하였다. 이와 같이 하면, 가중치 1 서브필드에서 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A)에 인가된 전압 차가 (Vsc_H + Va) 전압이 되므로 외부로부터 인가된 전압이 낮아진다. 따라서 방전을 일으키는 전압이 낮아지므로 다른 서브필드에서보다 약한 유지방전이 일어난다. 방전의 세기는 발광량과 비례하므로 어드레스 광이 더 적게 발생된다. 그리고 어드레스 방전에 의해 유지방전을 일으키게 되면 유지방전에 의한 유지광도 줄어들게 된다.
그리고 본 발명의 제2 실시예에서는 외부로부터 인가되는 전압을 낮춤으로써 저계조 표현력을 향상시키겼지만, 이와 다른 방법으로 외부 전압을 낮출 수가 있다. 이러한 실시예들에 대해서 도 7 및 도 8을 참조하여 설명한다.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 7을 보면, 어드레스 기간에서 다른 주사 전극(Y)을 Vn 전압으로 유지한 상태에서 주사 전극(Y)에 순차적으로 음의 전압인 -Vsc 전압을 인가한 후, 플로팅시킨다. 그리고 -Vsc 전압이 인가된 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀에 위치하는 어드레스 전극(A)에 어드레스 전압(Va)을 인가한다. 이와 같이 하면, 어드레스 전극(A)에 Va 전압을 인가하면, Va 전압이 인가된 어드레스 전극(A)과 -Vsc 전압이 인가된 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 방전 셀에서는 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이 및 유지 전극(X)과 주사 전극(Y) 사이에서 어드레스 방전이 일어나고, 가중치 1 서브필드의 어드레스 기간에서 어드레스 전극(A)에 Va 전압을 인가하여 방전을 개시한 후, 어드레스 전극(A)을 플로팅 상태로 하면, 벽전하가 쌓임과 동시에 외부에서의 전하 공급이 차단되어 방전 공간 내부의 전압이 급격하게 감소한다. 방전 공간 내부의 전압이 감소함에 따라 플로팅된 주사 전극(Y)의 전압(-Vsc)이 점차적으로 증가하게 된다. 그리고 방전 공간 내부의 전압이 급격하게 감소하면 방전 공간 내부의 방전이 소멸하게 되어 다른 서브필드에서의 어드레스 방전보다 더 약한 방전이 일어난다. 그 결과 어드레스 광도 줄어들게 된다.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
즉, 도 8을 보면 어드레스 기간에서 다른 주사 전극(Y)을 기준 전압(0V)으로 유지한 상태에서 주사 전극(Y)에 순차적으로 음의 전압인 -Vsc_H 전압을 인가한 후, 플로팅시킨다. -Vsc 전압이 인가된 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀에 위치하는 어드레스 전극(A)에 어드레스 전압(Va)을 인가한다.
이와 같이 하면, 앞에서 설명한 것처럼 외부에서 인가된 전압도 낮아지게 되 고 내부 벽 전하에 의한 벽전압도 낮아지게 되므로 방전을 일으키는 전압이 낮아지게 된다. 어드레스 방전이 다른 서브필드에서보다 약하게 일어난다.
그리고 본 발명의 제1 내지 제4 실시예에서는 가중치 1 서브필드의 유지 기간에 유지방전 펄스가 인가되고, 가중치 1 서브필드의 유지 기간에서 형성된 셀의 벽전하를 소거시키기 위하여 소거 기간을 두었지만, 소거 기간을 제거할 수도 있다. 아래에서는 이러한 실시예에 대해서 도 9 및 도 10을 참조하여 설명한다.
도 9는 본 발명의 제5 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
리셋 기간은 상승 램프 기간 및 하강 램프 기간으로 이루어진다.
즉, 도 9에서 보면, 가중치 1 서브필드의 유지기간에서 주사전극(Y)에 인가되는 Vs 전압은 가중치 2 서브필드의 리셋 기간의 초기기간에서 주사전극(Y)에 인가되는 Vs 전압과 동일하므로 도 9에서 나타낸 바와 같이, 가중치 1 서브필드의 유지기간의 유지방전펄스는 주사 전극(Y)에 Vs 전압이 인가되는 가중치 2 서브필드의 리셋 기간의 초기기간과 결합하여 표현한다.
그리고, 가중치 1 서브필드 이후 서브필드의 리셋 기간에서는 직전 서브필드의 주사 전극(Y)에 Vs 전압이 인가된 상태에서 주사 전극(Y)을 Vset 전압까지 상승시킨다. 이와 같이 하면, 유지 기간 동안 주사 전극(Y)에 인가된 Vs 전압과 유지 전극(Y)에 인가된 기준 전압(0V)에 의해 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 각각 (-) 벽 전하 및 (+) 벽 전하가 형성된 상태에서 상승 램프 파형으로 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 각각 (-) 벽 전하 및 (+) 벽 전하를 추가로 형성할 수 있다.
도 10은 본 발명의 제6 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 파형 및 각 서브필드에서 발광되는 발광량을 나타내는 도면이다.
도 10을 보면, 도 9에서와 같이 소거기간을 제거하고, 가중치 1 서브필드 이후의 서브필드의 리셋 기간에서 직전 서브필드의 주사 전극(Y)에 Vs 전압이 인가된 상태에서 주사 전극(Y)을 -Vnf 전압까지 하강시킨다. 이와 같이 하면 유지 기간 동안 주사 전극(Y)에 인가된 Vs 전압과 유지 전극(Y)에 인가된 기준 전압(0V)에 의해 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 각각 (-) 벽 전하 및 (+) 벽 전하가 형성된 상태에서 하강 램프 파형으로 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)에 각각 형성된 (-) 벽 전하 및 (+) 벽 전하를 소거할 수 있다.
도 5 내지 도 10에서 각각 발광량의 도면을 직선 형태로 도시하였으나 이는 발광이 발생하는 것을 나타내기 위해서 도시한 것으로 실제에 있어서는 그 형태가 다소 달라질 수 있다. 그리고 상기의 설명에서 서브필드 1의 가중치를 가중치 1로 설명하였지만 이는 편의상 최소 가중치를 나타낸 것으로 이는 0.5 또는 0.25 등 최소 가중치를 나타낸다. 그리고, 본 발명의 제1 실시예에 따른 가중치 1 서브필드의 리셋 기간에서의 구동 파형을 본 발명의 제2 내지 제6 실시예에 적용할 수 있다.
또한, 서브필드에 따라 가장 낮은 가중치의 서브필드 이외에 다음으로 낮은 가중치를 가지는 서브필드 내로 본 발명의 실시예를 적용할 수 있다. 즉, 복수의 서브필드를 본 발명의 실시예가 적용되는 군과 적용되지 않는 군으로 나눌 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 종래의 구동파형에서보다 저계조 표현력을 극대화시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (17)

  1. 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널의 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조가 표시되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서,
    어드레스 기간 동안,
    상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 주사 전극에 스캔 전압을 인가하는 단계,
    상기 주사 전극에 스캔 전압을 인가한 후, 상기 주사 전극을 제1 기간 동안 플로팅시키는 단계, 그리고
    상기 제1 기간 이후에 상기 플로팅하였던 주사 전극에 상기 스캔 전압과는 다른 전압을 인가하는 단계
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압과 동일한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압보다 높은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 군의 서브필드의 리셋 기간동안,
    상기 주사 전극의 전압을 제1 전압에서 제2 전압까지 점차적으로 하강하는 전압파형을 인가하는 단계
    를 더 포함하며,
    상기 제2 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 최종 전압과 동일한 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  5. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 군의 서브필드의 리셋 기간동안,
    상기 주사 전극의 전압을 제1 전압에서 제3 전압까지 점차적으로 하강하는 전압파형을 인가하는 단계
    를 더 포함하며,
    상기 제3 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 리셋 기간에서 인가되는 최종 전압보다 낮은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  6. 삭제
  7. 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널의 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조가 표시되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서,
    리셋 기간 동안, 상기 주사 전극에 제1 전압에서 최종 전압까지 하강하는 전압파형을 인가하는 단계;
    어드레스 기간 동안, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 주사 전극과 상기 어드레스 전극에 각각 스캔 전압과 어드레스 전압을 인가하는 단계를 포함하며,
    상기 제1 군의 서브필드의 최종 전압이 상기 제2 군의 서브필드의 최종 전압보다 낮은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  8. 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널의 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고, 각 서브필드의 조합에 의해 계조가 표시되는 플라즈마 디스플레이 패널을 구동하는 방법에 있어서,
    제1 군과 제2 군으로 이루어지는 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 제1 군의 서브필드에서,
    리셋 기간 동안, 상기 주사 전극에 제1 전압에서 최종 전압까지 하강하는 전압파형을 인가하는 단계;
    어드레스 기간 동안, 상기 방전 셀 중 선택하고자 하는 방전 셀의 상기 주사 전극과 상기 어드레스 전극에 각각 스캔 전압과 어드레스 전압을 인가하는 단계를 포함하며,
    상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압이 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압보다 높은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
  9. 삭제
  10. 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극 사이에 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널, 그리고
    상기 플라즈마 디스플레이 패널에서 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간 동안 각 서브필드별로 상기 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 구동 전압을 인가하는 구동 회로를 포함하며,
    상기 구동 회로는,
    상기 제1 군의 서브필드에서 상기 주사 전극에 인가되는 스캔 전압을 상기 제2 군의 서브필드에서 상기 주사 전극에 인가되는 스캔 전압보다 높게 하며,
    상기 제1 군의 서브필드는 상기 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 플라즈마 표시 장치.
  11. 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극 사이에 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널, 그리고
    상기 플라즈마 디스플레이 패널에서 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간 동안 각 서브필드별로 상기 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 구동 전압을 인가하는 구동 회로를 포함하며,
    상기 구동 회로는,
    상기 제1 군의 서브필드의 리셋 기간에서 상기 주사 전극에 제1 전압에서 최종 전압까지 하강하는 전압파형을 인가하고,
    상기 최종 전압이 상기 제2 군의 서브필드의 리셋 기간에서 상기 주사 전극에 인가되는 최종 전압보다 낮으며,
    상기 제1 군의 서브필드는 상기 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 플라즈마 표시 장치.
  12. 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극 사이에 방전 셀이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널, 그리고
    상기 플라즈마 디스플레이 패널에서 1 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누고 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간 동안 각 서브필드별로 상기 주사 전극, 유지 전극 및 어드레스 전극에 구동 전압을 인가하는 구동 회로를 포함하며,
    상기 구동 회로는,
    상기 제1 군의 서브필드에서 상기 주사 전극에 스캔 전압을 인가한 후, 상기 주사 전극을 플로팅시키며,
    상기 제1 군의 서브필드는 상기 복수의 서브필드 중 가장 낮은 가중치를 가지는 서브필드를 포함하는 플라즈마 표시 장치.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압과 동일한 플라즈마 표시 장치.
  14. 제 12항에 있어서,
    상기 제1 군의 서브필드의 스캔 전압은 상기 제2 군의 서브필드의 스캔 전압보다 높은 플라즈마 표시 장치.
  15. 제10항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 구동회로는,
    상기 유지 기간 동안, 상기 주사 전극에 제2 전압을 가지는 하나의 유지방전 펄스가 인가되는 플라즈마 표시 장치.
  16. 제 15항에 있어서,
    상기 주사 전극에 상기 제2 전압이 인가된 상태에서 상기 주사 전극의 전압을 제3 전압으로 완만하게 상승시키고,
    상기 주사 전극에 인가되는 상승 전압은 상기 제1 서브필드 다음 서브필드의 리셋 기간에 포함되는 플라즈마 표시 장치.
  17. 제 15항에 있어서,
    상기 주사 전극에 상기 제2 전압이 인가된 상태에서 상기 주사 전극의 전압을 제4 전압으로 완만하게 하강시키고,
    상기 주사 전극에 인가되는 하강 전압은 상기 제1 서브필드 다음 서브필드의 리셋 기간에 포함되는 플라즈마 표시 장치.
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