JPS60225101A - プラスチツク製光学部品 - Google Patents
プラスチツク製光学部品Info
- Publication number
- JPS60225101A JPS60225101A JP59082543A JP8254384A JPS60225101A JP S60225101 A JPS60225101 A JP S60225101A JP 59082543 A JP59082543 A JP 59082543A JP 8254384 A JP8254384 A JP 8254384A JP S60225101 A JPS60225101 A JP S60225101A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- optical
- mixture
- sio
- plastics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラスチックレンズやプラスチックのハ′−フ
ミラーなど、プラスチックからなる光学部品に関する。
ミラーなど、プラスチックからなる光学部品に関する。
従来、レンズなと光学部品の表面に、表面保護の為、反
射防止の為、増反側の為、フィルタ作用の為なとに、薄
膜を設けることは知られている。
射防止の為、増反側の為、フィルタ作用の為なとに、薄
膜を設けることは知られている。
例えは、カメラに用いられるレンズにおいては、ガラス
基板の表面に多層の反ρ、]防止膜を真空蒸71するこ
とか良(なされている。ここで、近年、軽量かつ低価格
化の為にカラスに代わってプラスチックを用いることか
提案されてきている。しかし、プラスチックは加熱によ
って変形しやすいので、ガラス基板のように基板を加熱
しつつ真空蒸71を行なうことはできない。例えは、ア
クリル樹脂は約90℃以」二に加熱すると変形してしま
う。ところか、蒸着材料として知られている物質の多く
は、基板を加熱しつつ真空蒸着を行なわないと、基板と
の密着性か悲(容易にはかれてしまうものてあった。
基板の表面に多層の反ρ、]防止膜を真空蒸71するこ
とか良(なされている。ここで、近年、軽量かつ低価格
化の為にカラスに代わってプラスチックを用いることか
提案されてきている。しかし、プラスチックは加熱によ
って変形しやすいので、ガラス基板のように基板を加熱
しつつ真空蒸71を行なうことはできない。例えは、ア
クリル樹脂は約90℃以」二に加熱すると変形してしま
う。ところか、蒸着材料として知られている物質の多く
は、基板を加熱しつつ真空蒸着を行なわないと、基板と
の密着性か悲(容易にはかれてしまうものてあった。
本発明は、」二連の如き欠点を解消すへくなされたもの
であり、その目的は、基板を加熱することなく真空蒸着
を行なって基板表面に光学薄膜を形成しても、該薄膜と
基板との密着性か良(、所望の光学特性を得ることかて
きるプラスチック製光学部品を提供することにある。
であり、その目的は、基板を加熱することなく真空蒸着
を行なって基板表面に光学薄膜を形成しても、該薄膜と
基板との密着性か良(、所望の光学特性を得ることかて
きるプラスチック製光学部品を提供することにある。
上記目的を達成する為に、本発明は5i02.SiOも
しくはそれらの混合物と1”a205との組合せかプラ
スチックとの密着性か良いことを発見したことに基つい
てなされたものであり、その特徴は、プラスチックから
なる基板の表面に、ます、SiO2゜S io、もしく
はそれらの混合物からなる介在層を設け、史にその上ニ
Ta 205と、SiO2,SiOもしくはそれらの混
合物を交互に積層したことにある。
しくはそれらの混合物と1”a205との組合せかプラ
スチックとの密着性か良いことを発見したことに基つい
てなされたものであり、その特徴は、プラスチックから
なる基板の表面に、ます、SiO2゜S io、もしく
はそれらの混合物からなる介在層を設け、史にその上ニ
Ta 205と、SiO2,SiOもしくはそれらの混
合物を交互に積層したことにある。
全体としての層数や各層の屈折率及び光学的膜厚は所望
の光学特性に応じて定めれば良い。
の光学特性に応じて定めれば良い。
以下、本発明の実施例を示す。各実施例において、大月
、j媒質側から順に、第1層、第2層、・・・とじ、最
終層を介在層とする。
、j媒質側から順に、第1層、第2層、・・・とじ、最
終層を介在層とする。
実施例]
本実施例のll&: +lvl成を第1表及び第1図に
示す。
示す。
表中、λ014設、1.n’:Jいを示し、本実施例に
おいては、ハ’ = 5]Onmである。
おいては、ハ’ = 5]Onmである。
本実施例は、N = 1.49のアクリル樹脂からなる
プラスチック基板(S)の表面に、SiOをタンクステ
ンボートに入れた抵抗加熱法を用いて1 x I Q−
”1brrの酸素雰囲気中で真空蒸着して5102から
なる第3層(介在層)を形成し、その上に’I’a 、
!05を同杆の抵抗加熱法もしくは電子銃法によって真
空蒸6して第2層を形成し、史にその上に、SiOを」
−述と同様の抵抗加熱tノ4てr↓空蒸着するか、もし
くは5102を電j′−統法で真空蒸着して第1層を形
成することによって製造される。本実施例の垂直入用光
に対する分光反射率特性を第2図1ζ示す。
プラスチック基板(S)の表面に、SiOをタンクステ
ンボートに入れた抵抗加熱法を用いて1 x I Q−
”1brrの酸素雰囲気中で真空蒸着して5102から
なる第3層(介在層)を形成し、その上に’I’a 、
!05を同杆の抵抗加熱法もしくは電子銃法によって真
空蒸6して第2層を形成し、史にその上に、SiOを」
−述と同様の抵抗加熱tノ4てr↓空蒸着するか、もし
くは5102を電j′−統法で真空蒸着して第1層を形
成することによって製造される。本実施例の垂直入用光
に対する分光反射率特性を第2図1ζ示す。
実施例2
本実施例は、実施例Jの第2層frlを不均質層として
分光動性をよりフラットにしたものであり、その膜構成
を第2表に示す。
分光動性をよりフラットにしたものであり、その膜構成
を第2表に示す。
第 2 表
(λ0に510nm)
本実施例において、第1層(1,1及び介在層である第
3層冊は実施例1と同様にして形成すれは良いか、第2
層(I])は、ます、025λ0に達する才では真空槽
内に酸素ガスを導入して1,5x10 rorrの酸紫
雲囲気中でTa206を真空蒸着し、その後、ガス導入
を止めて5 X 10−’rorr以下で真空蒸着する
ことによって形成される。本実施例の垂直入射光に対す
る分光反射率特性を第3図に示すが、これを第2図と比
べると、明らかに本実施例の方が分光特性がフラットで
、反射率自体も小さい。
3層冊は実施例1と同様にして形成すれは良いか、第2
層(I])は、ます、025λ0に達する才では真空槽
内に酸素ガスを導入して1,5x10 rorrの酸紫
雲囲気中でTa206を真空蒸着し、その後、ガス導入
を止めて5 X 10−’rorr以下で真空蒸着する
ことによって形成される。本実施例の垂直入射光に対す
る分光反射率特性を第3図に示すが、これを第2図と比
べると、明らかに本実施例の方が分光特性がフラットで
、反射率自体も小さい。
実施例3
本実施例は、介在層を含めて5層構成とすることにより
、400nm〜700nmの可視波長域における反射率
をより小さくかつよりフラットにして、良好な゛反p・
J防止効果を得たものである。本実施例の膜構成を第3
表及び第4図に示す。
、400nm〜700nmの可視波長域における反射率
をより小さくかつよりフラットにして、良好な゛反p・
J防止効果を得たものである。本実施例の膜構成を第3
表及び第4図に示す。
rノn==(Qf’lnm1
本実施例は実施例1と同様にして製造される。
その垂直入射光に対する分光反射率特性を第5図に示す
。第5図から明らがなように、本実施例によれは、40
0 nm〜700 nmの可視波長域はぼ全域lこわた
って反射率1%以下のフラットな分光反射率特性を得る
ことかできる。
。第5図から明らがなように、本実施例によれは、40
0 nm〜700 nmの可視波長域はぼ全域lこわた
って反射率1%以下のフラットな分光反射率特性を得る
ことかできる。
実施例4
本実施例は、実施例3の第1〜4層の光学的1′厚を調
整して可視波長域のみならす近赤外域に、jいても1%
以下の反射率lこ押えることかでき・ようにしたもので
ある。その膜構成を第4表に示す。
整して可視波長域のみならす近赤外域に、jいても1%
以下の反射率lこ押えることかでき・ようにしたもので
ある。その膜構成を第4表に示す。
本実施例も実施例1と同様にして製造される。
その、垂1人剤光に対する分光反射率特性を第6区1に
示す。fiS6図から明らかなように、本実施例によれ
ば、/+ 00 nm〜8 Q Q nmの波長域にお
いて反を1+1%以下のフラットな分光反E1.J 相
持性を得ることかできる。
示す。fiS6図から明らかなように、本実施例によれ
ば、/+ 00 nm〜8 Q Q nmの波長域にお
いて反を1+1%以下のフラットな分光反E1.J 相
持性を得ることかできる。
ここで、実施例3,4のように可視波長域全域で充分な
If;1.創防止効果を得る為には、以下の条件を満足
することか望ましい。
If;1.創防止効果を得る為には、以下の条件を満足
することか望ましい。
(1) 1.45 < N’ < 1.50(2) +
、so<N2<21s (3+ +/Is<N:+<+5゜ (4) ]、 80 (N4 (2,15(s) ]
45<N5<160 (6) 0.20λ0(Nl dl (0,30λ0(
71030λa (N2 d2 < 060 λ。
、so<N2<21s (3+ +/Is<N:+<+5゜ (4) ]、 80 (N4 (2,15(s) ]
45<N5<160 (6) 0.20λ0(Nl dl (0,30λ0(
71030λa (N2 d2 < 060 λ。
(8) 0(N3d3(0,25λ0
(g) 0(N4 d4(0,25λ0(10) O(
Ns cb、 (2λ0(]l) NI=N3 (+2) N2=N+ (+3) (1<Nad3+N4d4<、0,25λ0
イυし、ここて、N1は第1層の屈折率、N2は第2層
の屈折率、N3は第3層の屈折率、N4は第4層の屈折
率、N5は9J55層の屈折率、N1dlは第1層の光
学的膜厚、N2d2は第2層の、光学的膜厚、N5d3
は第3層の光学的膜厚、N司4は第4層の光学的膜厚、
N !、d fiは第5層の光学的膜厚、λ0は設計波
長、である。
Ns cb、 (2λ0(]l) NI=N3 (+2) N2=N+ (+3) (1<Nad3+N4d4<、0,25λ0
イυし、ここて、N1は第1層の屈折率、N2は第2層
の屈折率、N3は第3層の屈折率、N4は第4層の屈折
率、N5は9J55層の屈折率、N1dlは第1層の光
学的膜厚、N2d2は第2層の、光学的膜厚、N5d3
は第3層の光学的膜厚、N司4は第4層の光学的膜厚、
N !、d fiは第5層の光学的膜厚、λ0は設計波
長、である。
条件(11〜(10)は各層の屈折率及び光学的膜厚の
範囲を規定するものであり、この範囲を満足するととも
に条件(II X12)に示される第1層ど第3層との
聞及び第2層と第71層との間の屈折率関係の条件及び
条件(13)に示される第3.4層の光学的膜厚の和の
条件を満足することによって、実施例3゜4のようlこ
可視波長全域においてJX射防止効果か得られる。
範囲を規定するものであり、この範囲を満足するととも
に条件(II X12)に示される第1層ど第3層との
聞及び第2層と第71層との間の屈折率関係の条件及び
条件(13)に示される第3.4層の光学的膜厚の和の
条件を満足することによって、実施例3゜4のようlこ
可視波長全域においてJX射防止効果か得られる。
実施例5
本実施例は、入射角45°の光に対してフラットな分光
反射率特性を有するハーフミラ−を、介在層を含めて4
層で構成したものであり、その膜構成を第5表及び第7
図に示す。
反射率特性を有するハーフミラ−を、介在層を含めて4
層で構成したものであり、その膜構成を第5表及び第7
図に示す。
第5表
(λo=sIcJrr7n)
本実施例も実施例Jと同様にして製造される。
本実施例の入射角45°の光に対する分光反UJ 4i
特性を第8図に示す。
特性を第8図に示す。
実施例6
本実施例は、実施例2の基板(51をスチレン樹脂に代
えたものであり、その膜構成を第6表に示す。
えたものであり、その膜構成を第6表に示す。
以下余白
第6表
(λG=510nm)
本実施例は実施例2と全く同様にして製造される。本実
施例の垂直入射光に対する分光反射率特性を第9図に示
す。第9図と実施例2の特性を示す第3図とを比較する
と明らかなように、本実施例の方か可視波長域における
反射率をよりフラ・ノドにすることかできる。
施例の垂直入射光に対する分光反射率特性を第9図に示
す。第9図と実施例2の特性を示す第3図とを比較する
と明らかなように、本実施例の方か可視波長域における
反射率をよりフラ・ノドにすることかできる。
実施例7
本実施例は、実施例6の介在層である第3層(曲にSi
OとS i O2との混合物を用いて該層([111の
屈折率をより高くし、基板(51との屈折率差を減少せ
しめたものである。その膜構成を第7表に示す。
OとS i O2との混合物を用いて該層([111の
屈折率をより高くし、基板(51との屈折率差を減少せ
しめたものである。その膜構成を第7表に示す。
第7表
(λ0=510nm)
本実施例は、N=1.59のスチレン樹脂からなるプラ
スチック基板(Slの表面に、SiOをタングステンポ
ートに入れた抵抗加熱法を用い6 X I O’I’o
rrの酸素雰囲気中で真空蒸着してSiOと5j02の
混合物からなる第3層(介在層)を形成し、次に1、5
X 10 ’I”Orr (7)酸素雰囲気中で’J
’a 206を0.25 λu1まて真空蒸着し、その
後ガス尋人を止めて5XIO−’’I’Orr以下でT
a205を真空蒸着して第2層を形成し、その」二にS
iOをI X 10 TOrrの酸素雰囲気中て真空a
[するか5 X 10 ’J’orr以下テ5i02を
真空蒸着するかして、5i02からなる第1層を形成す
ることによって製造される。
スチック基板(Slの表面に、SiOをタングステンポ
ートに入れた抵抗加熱法を用い6 X I O’I’o
rrの酸素雰囲気中で真空蒸着してSiOと5j02の
混合物からなる第3層(介在層)を形成し、次に1、5
X 10 ’I”Orr (7)酸素雰囲気中で’J
’a 206を0.25 λu1まて真空蒸着し、その
後ガス尋人を止めて5XIO−’’I’Orr以下でT
a205を真空蒸着して第2層を形成し、その」二にS
iOをI X 10 TOrrの酸素雰囲気中て真空a
[するか5 X 10 ’J’orr以下テ5i02を
真空蒸着するかして、5i02からなる第1層を形成す
ることによって製造される。
本実施例の垂直入用光に対する分光反射率特性を第10
図に示す。第10図から明らかなように、本実施例によ
れば7Ioonm〜700 nm の可視波長域内で反
射率1%以下のフラットな分光特性を得ることかできる
。
図に示す。第10図から明らかなように、本実施例によ
れば7Ioonm〜700 nm の可視波長域内で反
射率1%以下のフラットな分光特性を得ることかできる
。
実施例8
本実施例は実施例3の第5層(介在層)をSiOとS
i 02 との混合物に代え、それに応じて充分な反則
防止+I、果か得られるように各層の膜厚を調節したも
のである。その膜構成を第8表に示す。
i 02 との混合物に代え、それに応じて充分な反則
防止+I、果か得られるように各層の膜厚を調節したも
のである。その膜構成を第8表に示す。
(λ0=520nm)
本実施例において、第5層tv+は実施例7の第3層(
tillと全く同様にして形成され、第4〜1層は実施
例3.4と同様にして形成される。本実施例の垂直入射
光に対する分光反射率特性を第11図に示す。本実施例
においても、充分な反射防止効果か得られる。
tillと全く同様にして形成され、第4〜1層は実施
例3.4と同様にして形成される。本実施例の垂直入射
光に対する分光反射率特性を第11図に示す。本実施例
においても、充分な反射防止効果か得られる。
本発明の効果を示す為【こ、実施例1〜8の光学部品に
下記の如き耐久性試験を行った。
下記の如き耐久性試験を行った。
ます、耐1す耗性試験の為に、摩耗試験機を用い、研摩
紙として61度03μのA6203付きフィルムを用い
て本発明実施例1〜8のプラスチック製光学部品を、加
重10に9、ストローク30闘の条件下て300往復こ
すった。すると、各実施例のものとも欣に傷か入るか股
自体の刺部1は生しなかった。比較の2冒こ、)1(板
を加熱することなしにZrO2とMg+・2とを電子銃
法もしくは抵抗加熱法で交互に2〜3層プラスチソクノ
1!、 v土に積層したものを用いて」二連の試験を行
なうとII&jか剥離してしまった。
紙として61度03μのA6203付きフィルムを用い
て本発明実施例1〜8のプラスチック製光学部品を、加
重10に9、ストローク30闘の条件下て300往復こ
すった。すると、各実施例のものとも欣に傷か入るか股
自体の刺部1は生しなかった。比較の2冒こ、)1(板
を加熱することなしにZrO2とMg+・2とを電子銃
法もしくは抵抗加熱法で交互に2〜3層プラスチソクノ
1!、 v土に積層したものを用いて」二連の試験を行
なうとII&jか剥離してしまった。
次に、耐薬品試験の為に、布ウェスに神々の冴。
剤をしろ込ませた後、この布ウェスて、実施例1〜8の
光学部品を]、 OK9の加重て5o往復こすった。
光学部品を]、 OK9の加重て5o往復こすった。
すると溶剤としてクロン、ベンジンを用いると外観上も
光学性能上も全(異常は認められなかった。
光学性能上も全(異常は認められなかった。
但し、アルコールを用いると多少型が生した。更に、フ
ェードメーターを用いた220時間の耐候性 。
ェードメーターを用いた220時間の耐候性 。
中
試験、及0温度70℃、湿度80%侍に200時間放置
した酬湿度試験においても実施例j〜8とも外観上も光
学性能」二も全く異常は認められなかった。
した酬湿度試験においても実施例j〜8とも外観上も光
学性能」二も全く異常は認められなかった。
以、上のことから、本発明によれば基板を加熱すること
なく真空蒸着を行なっても耐久性に優れた膜を得ること
かできることが明らがである。
なく真空蒸着を行なっても耐久性に優れた膜を得ること
かできることが明らがである。
以上のように、本発明に係るプラスチック製光学部品は
、プラスチックからなる基板の表面にSin。
、プラスチックからなる基板の表面にSin。
SiO・、もL < i;Iそれらの混合物からなる介
在層を設け、史Iこ、その」−ニ、’I’q 205と
Sin、 5i02.もしくはそれらの混合物とを交互
Iこ積層したことを特徴とするものであり、このようl
c槁成することによって、耐久性の良いプラスチック製
光学部品を得ることかできる。
在層を設け、史Iこ、その」−ニ、’I’q 205と
Sin、 5i02.もしくはそれらの混合物とを交互
Iこ積層したことを特徴とするものであり、このようl
c槁成することによって、耐久性の良いプラスチック製
光学部品を得ることかできる。
第1図は実施例] + 2 + 6 + 7の構成を示
す断面図、第4図は実施例3.’I、)’iの構成を示
す断面図、第7図は実施例5の構成を不す断面図、第2
1315161!夕、]0.11図はそれぞれ実施例1
〜4.6〜8の垂直式q・1光lこ対する分光Jx f
AJ 子持性を示すグラフ、第8図は実施例50入u・
f ft+−+5゜の光に対する分光反射・1゛特性を
示すクラブである。 (S);基板 (聞;介在層(第1図)、 (V);介在層(第1図)、 (■);介在層(第7図)。 Jジ、上 出Xi/+人 ミノルタカメラ株式会社δ 第2図 第3図 Waveretyt、k (nrn) δ 第5図 第6図 第3図 りθ 第9図 フρ 11Alθ図 Wavelen5th tn*) 第11図 Wavelert$h tn m ) 1 休;1 抽 It’: ;’1 、発明の名称 ブラスナ57り製尼+’、”: fl、lX品;(、十
山正をする名 事件との関係 出願人 II−所 J(阪市東区゛4十、町”ン1’ It :
(’1 i%1世)(阪1.il際ヒル 名称 (ri(17) ミノルタカノー7個、代つ士1
白発袖j1゜ r〉、補止の大−1’づこ (1)明細111の1発明の11′(細−r’、 、1
7.明1の11°(′・1(2>IZI向 〔;、抽11の内゛1°、′ (1)明細、1:第7頁1・から2イ]’ 14 +r
T iOrJとあろの?l!−:in、、1と補1ビす
る。。 (2)明In ;’:第1 ri頁第12行11「クロ
ン」とあるのを170ン1と補止する。。 に()図面用(1図を添付のj]’ It第(1図の通
りに袖11−セろ。 1゛)、十
す断面図、第4図は実施例3.’I、)’iの構成を示
す断面図、第7図は実施例5の構成を不す断面図、第2
1315161!夕、]0.11図はそれぞれ実施例1
〜4.6〜8の垂直式q・1光lこ対する分光Jx f
AJ 子持性を示すグラフ、第8図は実施例50入u・
f ft+−+5゜の光に対する分光反射・1゛特性を
示すクラブである。 (S);基板 (聞;介在層(第1図)、 (V);介在層(第1図)、 (■);介在層(第7図)。 Jジ、上 出Xi/+人 ミノルタカメラ株式会社δ 第2図 第3図 Waveretyt、k (nrn) δ 第5図 第6図 第3図 りθ 第9図 フρ 11Alθ図 Wavelen5th tn*) 第11図 Wavelert$h tn m ) 1 休;1 抽 It’: ;’1 、発明の名称 ブラスナ57り製尼+’、”: fl、lX品;(、十
山正をする名 事件との関係 出願人 II−所 J(阪市東区゛4十、町”ン1’ It :
(’1 i%1世)(阪1.il際ヒル 名称 (ri(17) ミノルタカノー7個、代つ士1
白発袖j1゜ r〉、補止の大−1’づこ (1)明細111の1発明の11′(細−r’、 、1
7.明1の11°(′・1(2>IZI向 〔;、抽11の内゛1°、′ (1)明細、1:第7頁1・から2イ]’ 14 +r
T iOrJとあろの?l!−:in、、1と補1ビす
る。。 (2)明In ;’:第1 ri頁第12行11「クロ
ン」とあるのを170ン1と補止する。。 に()図面用(1図を添付のj]’ It第(1図の通
りに袖11−セろ。 1゛)、十
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 プラスチックからなる基板の表面に、Sin。 SiO2,もしくはそれらの混合物からなる介在層を設
け、更にその上ニーra 205と、Sin、 SiO
2,もしくはそれらの混合物とを交互に積1ねしたこと
を特徴とするプラスチック製光学部品。 2、入射媒質側から順に、第1層、第2層、第3層、9
54層、第5層の5層構成を有し、各層はチック製光学
部品: 1、45 <N+ < 1.50 180<N2<2.15 1、45 < N3 < 1.50 180(N4 <215 1、45 < N6< 1.60 020 λo(N+d蔦く030 λ00、30λa
(N2 d2 (0,60λOo < N3 d:+
< 0.25λOo (N4 d4< 0.25λ0 0<Nfidfi<2λ0 NI=N3 N2 =N4 (1(N:I d3 +N4 d4 (Q、 25λ0
但し、ここて、 Nj:第1層の屈折率、 N2;第2層の屈折率、 Nj;第3層の屈折率、 N4;第・1層の屈折率、 N5;第5層の屈折率、 N+d+;第1層の光学的膜厚、 N2d2;第2層の光学的膜厚、 N3d:+;第3層の光学的膜厚、 N4 d4; m 4 Fm ノ光学的膜厚、Nb d
s ;第5層の光学的膜厚、 λ0 ;設計波長、 である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59082543A JPS60225101A (ja) | 1984-04-23 | 1984-04-23 | プラスチツク製光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59082543A JPS60225101A (ja) | 1984-04-23 | 1984-04-23 | プラスチツク製光学部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60225101A true JPS60225101A (ja) | 1985-11-09 |
Family
ID=13777415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59082543A Pending JPS60225101A (ja) | 1984-04-23 | 1984-04-23 | プラスチツク製光学部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60225101A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63298301A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
DE3818341A1 (de) * | 1987-06-04 | 1988-12-22 | Olympus Optical Co | Kunststoff-halbspiegel |
JPH02901A (ja) * | 1988-03-03 | 1990-01-05 | Asahi Glass Co Ltd | 耐久性の優れた光学体 |
JPH0212201A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-17 | Hoya Corp | 反射防止膜 |
US4988164A (en) * | 1988-04-25 | 1991-01-29 | Olympus Optical Co., Ltd. | Anti-reflection film for synthetic resin optical elements |
EP0529268A2 (de) * | 1991-08-28 | 1993-03-03 | Leybold Aktiengesellschaft | Harte Entspiegelungsschicht für Kunststofflinsen |
US5264286A (en) * | 1988-03-03 | 1993-11-23 | Asahi Glass Company Ltd. | Laminated glass structure |
US5399435A (en) * | 1988-03-03 | 1995-03-21 | Asahi Glass Company Ltd. | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
US6004850A (en) * | 1998-02-23 | 1999-12-21 | Motorola Inc. | Tantalum oxide anti-reflective coating (ARC) integrated with a metallic transistor gate electrode and method of formation |
US6606196B2 (en) * | 2000-08-29 | 2003-08-12 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
JP2005274527A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Cimeo Precision Co Ltd | 時計用カバーガラス |
DE10105778B4 (de) * | 2001-02-07 | 2010-12-09 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Polymethylmethacrylat-Substraten |
US8021560B2 (en) | 2004-09-10 | 2011-09-20 | Fraunhofer-Gesellshaft zur Foerderung der Angewandten Forschung E. V. | Method for producing a radiation-absorbing optical element and corresponding radiation absorbing optical element |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55110126A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Seiko Epson Corp | Preparation of antireflection film |
JPS5835501A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Seiko Epson Corp | 合成樹脂製レンズ |
-
1984
- 1984-04-23 JP JP59082543A patent/JPS60225101A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55110126A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Seiko Epson Corp | Preparation of antireflection film |
JPS5835501A (ja) * | 1981-08-28 | 1983-03-02 | Seiko Epson Corp | 合成樹脂製レンズ |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63298301A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラスチック製光学部品の反射防止膜 |
DE3818341A1 (de) * | 1987-06-04 | 1988-12-22 | Olympus Optical Co | Kunststoff-halbspiegel |
US5264286A (en) * | 1988-03-03 | 1993-11-23 | Asahi Glass Company Ltd. | Laminated glass structure |
JPH02901A (ja) * | 1988-03-03 | 1990-01-05 | Asahi Glass Co Ltd | 耐久性の優れた光学体 |
US5399435A (en) * | 1988-03-03 | 1995-03-21 | Asahi Glass Company Ltd. | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
US4988164A (en) * | 1988-04-25 | 1991-01-29 | Olympus Optical Co., Ltd. | Anti-reflection film for synthetic resin optical elements |
JPH0212201A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-17 | Hoya Corp | 反射防止膜 |
EP0529268A2 (de) * | 1991-08-28 | 1993-03-03 | Leybold Aktiengesellschaft | Harte Entspiegelungsschicht für Kunststofflinsen |
US5725959A (en) * | 1993-03-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Antireflection film for plastic optical element |
US6004850A (en) * | 1998-02-23 | 1999-12-21 | Motorola Inc. | Tantalum oxide anti-reflective coating (ARC) integrated with a metallic transistor gate electrode and method of formation |
US6294820B1 (en) | 1998-02-23 | 2001-09-25 | Motorola, Inc. | Metallic oxide gate electrode stack having a metallic gate dielectric metallic gate electrode and a metallic arc layer |
US6606196B2 (en) * | 2000-08-29 | 2003-08-12 | Hoya Corporation | Optical element having antireflection film |
DE10105778B4 (de) * | 2001-02-07 | 2010-12-09 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Verfahren zur Oberflächenbeschichtung von Polymethylmethacrylat-Substraten |
JP2005274527A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Cimeo Precision Co Ltd | 時計用カバーガラス |
US8021560B2 (en) | 2004-09-10 | 2011-09-20 | Fraunhofer-Gesellshaft zur Foerderung der Angewandten Forschung E. V. | Method for producing a radiation-absorbing optical element and corresponding radiation absorbing optical element |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60225101A (ja) | プラスチツク製光学部品 | |
US9310525B2 (en) | Antireflection film and optical device | |
US20220221617A1 (en) | Curved surface films and methods of manufacturing the same | |
WO2012073791A1 (ja) | 赤外線用光学機能膜 | |
US20110299167A1 (en) | Reflective coating, pigment, colored composition, and process of producing a reflective pigment | |
US3761160A (en) | Wide band anti-reflection coating and article coated therewith | |
CN113009713A (zh) | 一种超低反清底色防蓝光树脂镜片及其制备方法 | |
CN215895150U (zh) | 一种超低反清底色防蓝光树脂镜片 | |
JP3221764B2 (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜 | |
JP3068252B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
JPH1067078A (ja) | 光学要素とその製造に用いられるフッ化物材料の多層積層体 | |
JPH052101A (ja) | 光学部品 | |
JP7599910B2 (ja) | 光学素子、光学系、および、光学機器 | |
JPS6029701A (ja) | 5層反射防止膜 | |
JPS58221811A (ja) | 耐熱反射防止膜 | |
JPS6177001A (ja) | 光反射防止膜 | |
JP2776553B2 (ja) | 反射防止膜 | |
CN109581549B (zh) | 一种反射防止膜及包含该反射防止膜的光学部件 | |
JPH02304501A (ja) | 自動開閉装置 | |
JP7349687B2 (ja) | 光学素子 | |
JPH01310302A (ja) | 分光フイルター | |
JPS5948702A (ja) | 反射防止合成樹脂レンズ | |
JPS62134601A (ja) | 光学部品用反射防止膜およびその製造法 | |
JPH02304502A (ja) | 光学部品用多層膜 | |
JPH02304504A (ja) | 光学部品用多層膜 |