JPH02304504A - 光学部品用多層膜 - Google Patents
光学部品用多層膜Info
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- JPH02304504A JPH02304504A JP1127273A JP12727389A JPH02304504A JP H02304504 A JPH02304504 A JP H02304504A JP 1127273 A JP1127273 A JP 1127273A JP 12727389 A JP12727389 A JP 12727389A JP H02304504 A JPH02304504 A JP H02304504A
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Landscapes
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光学部品用多層膜、特に付着力、耐溶剤性、耐
環境性に優れた光学部品用多層膜に関する。
環境性に優れた光学部品用多層膜に関する。
従来の技術
光学部品は、反射防止効果あるいは耐久性を改善する目
的等で、その部品の上に多層膜が形成される。従って、
その多層膜は少々の摩擦で剥離、損傷等を受けない耐久
性に優れた特性が要求される。
的等で、その部品の上に多層膜が形成される。従って、
その多層膜は少々の摩擦で剥離、損傷等を受けない耐久
性に優れた特性が要求される。
特に、今日、カメラ、ビデオ等の軽量化のため樹脂製光
学部品が多く導入されるに至っているが、樹脂基板上に
多層膜を形成するときは、樹脂の耐熱性の低さ故に樹脂
基板を加熱することはできない。基板を加熱することな
くその上に多層膜を形成しても、該多層膜は密着性等の
膜強度、耐溶剤性、耐環境性等の耐久性に劣る。そのた
め樹脂基板上に無加熱で膜強度、耐溶剤性等の耐久性に
優れた多層膜を形成することは非常に困難であり、樹脂
基板上に形成できる多層膜の種類は非常に少なく限定さ
れたものであった。
学部品が多く導入されるに至っているが、樹脂基板上に
多層膜を形成するときは、樹脂の耐熱性の低さ故に樹脂
基板を加熱することはできない。基板を加熱することな
くその上に多層膜を形成しても、該多層膜は密着性等の
膜強度、耐溶剤性、耐環境性等の耐久性に劣る。そのた
め樹脂基板上に無加熱で膜強度、耐溶剤性等の耐久性に
優れた多層膜を形成することは非常に困難であり、樹脂
基板上に形成できる多層膜の種類は非常に少なく限定さ
れたものであった。
また、光学部品の基板にガラス製基板を用いる場合でも
、基板を無加熱の状態で、その上に膜強度、耐久性に優
れた多層膜を形成することは難しい。
、基板を無加熱の状態で、その上に膜強度、耐久性に優
れた多層膜を形成することは難しい。
樹脂基板上の多層膜の密着性の向上を図った技術として
、樹脂基板上に厚さ2〜5μmのアルミニウム層を形成
し、その上にMgF2層を形成するもの(特公昭47−
38189号公報)、または樹脂基板上に金属Cr等の
蒸着層を形成し、その上にMgF 2の誘電体層を形成
した技術が知られている(特開昭62−186202号
公報)。しかし、本発明とは構成が異なり、達成される
効果も異なる。
、樹脂基板上に厚さ2〜5μmのアルミニウム層を形成
し、その上にMgF2層を形成するもの(特公昭47−
38189号公報)、または樹脂基板上に金属Cr等の
蒸着層を形成し、その上にMgF 2の誘電体層を形成
した技術が知られている(特開昭62−186202号
公報)。しかし、本発明とは構成が異なり、達成される
効果も異なる。
発明が解決しようとする課題
本発明は光学部品、特に樹脂製光学部品上に形成しても
、特性等に経時変化がなく、密着性等の膜強度、耐溶剤
性および耐環境性等の耐久性に優れた多層膜を提供する
ことを目的とする。
、特性等に経時変化がなく、密着性等の膜強度、耐溶剤
性および耐環境性等の耐久性に優れた多層膜を提供する
ことを目的とする。
課題を解決するための手段
即ち、本発明はYF3からなる層(以下rYF、層」と
いう)と金属Crからなる層(以下[金属Cr層Jとい
う)を隣接する2層として含む光学部品用多層膜に関す
る。
いう)と金属Crからなる層(以下[金属Cr層Jとい
う)を隣接する2層として含む光学部品用多層膜に関す
る。
本発明の光学部品用多層膜は少なくとも1層のYF、層
とCr層の隣接する2層を含み、ガラス基板上、合成樹
脂基板上に形成される。
とCr層の隣接する2層を含み、ガラス基板上、合成樹
脂基板上に形成される。
特に、基板として合成樹脂基板を用いる場合、金属Cr
層は、その基板上に直接形成することが好ましく、該金
属Cr層上にYF、層を形成する。
層は、その基板上に直接形成することが好ましく、該金
属Cr層上にYF、層を形成する。
さらにそのYF、層上に所望の特性を有する多層膜(例
えば反射防止膜、ハーフミラ−等)を形成する。そうし
た構成とすることにより、金属Cr層、YF、層を含め
た多層膜と樹脂基板とは密着性、耐環境性に優れたもの
となる。
えば反射防止膜、ハーフミラ−等)を形成する。そうし
た構成とすることにより、金属Cr層、YF、層を含め
た多層膜と樹脂基板とは密着性、耐環境性に優れたもの
となる。
合成樹脂基板としては、通常光学部品として使用されて
いる種類のものであれは、特に限定されず、例えばポリ
メチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネイト CR−
39等を挙げることができ、本発明は特に耐熱性の低い
樹脂に対しより有効である。
いる種類のものであれは、特に限定されず、例えばポリ
メチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネイト CR−
39等を挙げることができ、本発明は特に耐熱性の低い
樹脂に対しより有効である。
本発明は、該合成樹脂基板上に金属Cr層を設ける。金
属Cr層は基板と該Cr層上に形成される多層膜の密着
性を高める働きを有し、さらに得られる光学部品は高温
高湿に対する耐久性が向上する。
属Cr層は基板と該Cr層上に形成される多層膜の密着
性を高める働きを有し、さらに得られる光学部品は高温
高湿に対する耐久性が向上する。
金属Cr層は、電子銃蒸着、抵抗加熱蒸着の方法により
形成することができ、その際、100人を越えない厚さ
に形成する。100Aより厚く形成すると光の透過率が
非常に低下するからである。
形成することができ、その際、100人を越えない厚さ
に形成する。100Aより厚く形成すると光の透過率が
非常に低下するからである。
金属Cr層上にはYF、層を形成する。YF、層は耐溶
剤性(特に有機溶剤)を高める働きをする。
剤性(特に有機溶剤)を高める働きをする。
YF3層は、基板を加熱することなく、YF、材をカー
ボンルツボを使用して、電子銃(E、B、と略す)蒸着
することにより形成することができる。
ボンルツボを使用して、電子銃(E、B、と略す)蒸着
することにより形成することができる。
膜厚は、多層膜の構成材料や各コート条件にもよるか、
500人〜1μm程度あればよい。あまり厚く形成する
とクラックが発生したり、剥離が生しやすくなる。
500人〜1μm程度あればよい。あまり厚く形成する
とクラックが発生したり、剥離が生しやすくなる。
本発明においては、上記YF、層上にさらに金属Cr層
を形成してもよい。このCr層は、YF3層のクランク
発生の防止に有効であり、その際、膜厚は基板上に形成
したCr層層膜上合計して前記した厚さ、即ち100人
を越えないようにする。
を形成してもよい。このCr層は、YF3層のクランク
発生の防止に有効であり、その際、膜厚は基板上に形成
したCr層層膜上合計して前記した厚さ、即ち100人
を越えないようにする。
光学部品用多層膜を光学部品基板(特に樹脂製基板)上
に形成された金属Cr層およびYF、層を介して積層す
ることにより、耐溶剤性、耐環境性等の耐久性、密着性
に優れた多層膜が得られる。
に形成された金属Cr層およびYF、層を介して積層す
ることにより、耐溶剤性、耐環境性等の耐久性、密着性
に優れた多層膜が得られる。
特に樹脂基板に対しては、その効果がより顕著である。
本発明により、YF、層および金属Cr層を介在させる
ことにより、従来膜強度不足のため使用不N能であった
蒸着材料が使用可能となるため、種々の優れた光学特性
を有する多層膜、例えば反射防止膜、ハーフミラ−等を
得ることが可能となる。
ことにより、従来膜強度不足のため使用不N能であった
蒸着材料が使用可能となるため、種々の優れた光学特性
を有する多層膜、例えば反射防止膜、ハーフミラ−等を
得ることが可能となる。
例えば6層(空気側より第1層、第2N1第3層、第4
層、第5層、第6層)からなる反射防止膜であり、基板
上に金属Cr層およびYF、層をその順で積層する構成
の場合、屈折率(n)、膜厚(d)および光学的膜厚(
nd)が以下記載の範囲または関係を満たすように形成
される。
層、第5層、第6層)からなる反射防止膜であり、基板
上に金属Cr層およびYF、層をその順で積層する構成
の場合、屈折率(n)、膜厚(d)および光学的膜厚(
nd)が以下記載の範囲または関係を満たすように形成
される。
第1層
屈折率;n皿≦ns
光学的膜厚; 0.2λ。≦n、 d、≦0.3λ。
第2層
屈折率; l、8≦02
光学的膜厚;0.35λ。≦n2d2≦0.6λ。
第3層
屈折率;n3≦n4
光学的膜厚;0.03λ。≦n3 d3≦0.15λ。
第4層
屈折率;ns≦n4
光学的膜厚、0.03λ。≦n4d、≦0.25λ0第
5層 YF、層の厚さが500Å以上1pm以下第6層 金属Cr層の厚さが100A以下 なお、nsは基板の屈折率、n、は第1層の屈折率、n
2は第2層の屈折率、n、は第3層の屈折率、n、は第
4層の屈折率、dlは第1層の膜厚、d2は第2層の膜
厚、d、は第3層の膜厚、d、は第4層の膜厚、λ。は
主波長を表す。
5層 YF、層の厚さが500Å以上1pm以下第6層 金属Cr層の厚さが100A以下 なお、nsは基板の屈折率、n、は第1層の屈折率、n
2は第2層の屈折率、n、は第3層の屈折率、n、は第
4層の屈折率、dlは第1層の膜厚、d2は第2層の膜
厚、d、は第3層の膜厚、d、は第4層の膜厚、λ。は
主波長を表す。
上記多層膜構成において、第1.2および4層が上記範
囲から逸脱すると所望の波長領域で充分な反射防止効果
は得られない。第3層が上記範囲から逸脱しても同様で
あり、特に下限の膜厚は形成技術的観点から規定されて
いる。第6層の金属Cr層の厚さが100Aを越えると
透過率が低下するのみならず、反射防止効果にも悪影響
を及ぼす。
囲から逸脱すると所望の波長領域で充分な反射防止効果
は得られない。第3層が上記範囲から逸脱しても同様で
あり、特に下限の膜厚は形成技術的観点から規定されて
いる。第6層の金属Cr層の厚さが100Aを越えると
透過率が低下するのみならず、反射防止効果にも悪影響
を及ぼす。
5層(空気側より第1層、第2層、第3層、第4層、第
5層)からなる反射防止膜の場合、金属Cr層、YF、
層重外の各層は反射防止効果の観点から屈折率(n)、
膜厚(d)および光学的膜厚(nd)が以下記載の範囲
または関係を満たすように、形成される。その範囲を逸
脱しまたはそれらの関係を満たさないと、充分な反射防
止効果が得られない。
5層)からなる反射防止膜の場合、金属Cr層、YF、
層重外の各層は反射防止効果の観点から屈折率(n)、
膜厚(d)および光学的膜厚(nd)が以下記載の範囲
または関係を満たすように、形成される。その範囲を逸
脱しまたはそれらの関係を満たさないと、充分な反射防
止効果が得られない。
第1層
屈折率+ nl≦ns
光学的膜厚:0.2λ。≦n、 d、≦0.3λ。
第2層
屈折率; 1.8≦02
光学的膜厚;0.35λ。≦n2 d2≦0.6λ。
第3層
屈折率; 1.5≦n、≦ 1.8光学的膜厚;0
.15λ。≦n3 a、≦0.35λ。
.15λ。≦n3 a、≦0.35λ。
第4層(YF、層)
500A以上l/71R以下の厚さ
第5層(金属Cr層)
100Å以下
なお、nsは基板の屈折率、nlは第1層の屈折率、n
2は第2層の屈折率、n、は第3層の屈折率、d、は第
1層の膜厚、d、は第2層の膜厚、d3は第3層の膜厚
、λ。は主波長を表す。
2は第2層の屈折率、n、は第3層の屈折率、d、は第
1層の膜厚、d、は第2層の膜厚、d3は第3層の膜厚
、λ。は主波長を表す。
上記反射膜構成において、第1層〜第3層はそのままで
第4層を金属Cr層、第5層をYF、層および第6層を
金属Cr層とすることにより6層構成反射防止膜を形成
してもよい。その際の膜厚は前記した範囲内とする。
第4層を金属Cr層、第5層をYF、層および第6層を
金属Cr層とすることにより6層構成反射防止膜を形成
してもよい。その際の膜厚は前記した範囲内とする。
7層(空気側より第1層、第2層、第3層、第4層、第
5層、第6層、第7層)からなる反射防止膜の場合、金
属Cr層、YF、層重外の各層は反射防止効果の観点か
ら屈折率(n)、膜厚(d)および光学的膜厚(nd)
が以下記載の範囲または関係を満たすように、形成され
る。その範囲を逸脱しまたはそれらの関係を満たさない
と、充分な反射防止効果が得られない。第3層および第
4層の膜厚の下限は形成技術的観点から規定されており
、それ以下の膜厚に制御された膜を形成することは不可
能である。即ち、 第1層〜第4層を以下の構成; 第1層 屈折率;n1≦ns 光学的膜厚: 0.2λ。≦n、 d、≦0.3λ。
5層、第6層、第7層)からなる反射防止膜の場合、金
属Cr層、YF、層重外の各層は反射防止効果の観点か
ら屈折率(n)、膜厚(d)および光学的膜厚(nd)
が以下記載の範囲または関係を満たすように、形成され
る。その範囲を逸脱しまたはそれらの関係を満たさない
と、充分な反射防止効果が得られない。第3層および第
4層の膜厚の下限は形成技術的観点から規定されており
、それ以下の膜厚に制御された膜を形成することは不可
能である。即ち、 第1層〜第4層を以下の構成; 第1層 屈折率;n1≦ns 光学的膜厚: 0.2λ。≦n、 d、≦0.3λ。
第2層
屈折率; 1.8≦02
光学的膜厚;0.35λ。≦n2d、≦0.6λ。
第3層
屈折率;03≦04
光学的膜厚;0.03λ。≦n、 d、≦0.15λ。
第4層
屈折率+ ns≦04
光学的膜厚;0.03λ。≦n、 d4≦o、25λ。
第5層を金属Cr層、第6層をYF、層および第7層を
金属Cr層とする。
金属Cr層とする。
なお、nsは基板の屈折率、n、は第1層の屈折率、n
2は第2層の屈折率、n、は第3層の屈折率、n4は第
4層の屈折率、dlは第1層の膜厚、d2は第2層の膜
厚、d、は第3層の膜厚、d、は第4層の膜厚、λ0は
主波長を表す。
2は第2層の屈折率、n、は第3層の屈折率、n4は第
4層の屈折率、dlは第1層の膜厚、d2は第2層の膜
厚、d、は第3層の膜厚、d、は第4層の膜厚、λ0は
主波長を表す。
また、本発明はハーフミラ−にも有効で、例えば5層か
らなるハーフミラ−の構成は以下のような構成が例示さ
れる。
らなるハーフミラ−の構成は以下のような構成が例示さ
れる。
第1層
屈折率;n2≦01
光学的膜厚:0.2λ。≦n、 d、≦0.3λ。
第2層
屈折率;n2−〇。
光学的膜厚:0.2λ0≦n2 d2≦0.3λ0第0
層 屈折率;n、≧ns 光学的膜厚;0.2λ。≦n4 d、≦0.3λ。
層 屈折率;n、≧ns 光学的膜厚;0.2λ。≦n4 d、≦0.3λ。
第4層(YFs層)
500Å以上lp+l以下
第5層(Cr層)
100Å以下
なお、nsは基板の屈折率、n、は第1層の屈折率、n
、は第2層の屈折率、n3は第3層の屈折率、dlは第
1層の膜厚、d2は第2層の膜厚、d、は第3層の膜厚
、λ。は主波長を表す。
、は第2層の屈折率、n3は第3層の屈折率、dlは第
1層の膜厚、d2は第2層の膜厚、d、は第3層の膜厚
、λ。は主波長を表す。
第1層ないし第3層が上記範囲を逸脱すると充分な反射
率および透過率を得られない。
率および透過率を得られない。
以上の膜構成は例示的なものであり、本発明ではCr、
YF、以外の膜構成はここに示したものに限らず、所望
の分光特性を得るために必要な構成であればよい。
YF、以外の膜構成はここに示したものに限らず、所望
の分光特性を得るために必要な構成であればよい。
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明する。
衷鳳男
光学部品基板上に表1〜表5に示した反射防止膜あるい
はハーフミラ−を作製した。
はハーフミラ−を作製した。
得られた光学部品の反射防止特性分光特性を表番号に対
応させて第1図〜第5図にそれぞれ示しIこ。
応させて第1図〜第5図にそれぞれ示しIこ。
なお、反射防止膜は入射角が00である。
ハーフミラ−(実施例3)は入射角が45°である。
表1
SiO□ 1.46 0.248TiOz
2.22 0.505Si02 1
.46 0.035Y20i 1.7o
O,182YF、 1.49 0.
750Cr (d−25A)表
2 Sing 1.46 0.250Tilt
2.22 0.490y、o、
L70 0.240YF、 1.49
0.500Cr (d=
3.OA)基板PC1,58 表3 TiOz 2−20 0−250SiOz
l 、46 0−250Tie:
2.20 0.250YF、 1.4
9 0.750Cr
cd=3o人)表4 SiO□ 1.46 0.250A12Ch
1.56 0.250Cr
(d=30人)YF、
1.49 0.150Cr
(d=30人)基板PMMA 1.49 表5 Sing 1.46 0.240SiO□
1.46 0.095Cr
(d=25A)YFs 1−4
9 0−150Cr (
d=25A)前記実施例1〜5について耐久試験を行っ
た。
2.22 0.505Si02 1
.46 0.035Y20i 1.7o
O,182YF、 1.49 0.
750Cr (d−25A)表
2 Sing 1.46 0.250Tilt
2.22 0.490y、o、
L70 0.240YF、 1.49
0.500Cr (d=
3.OA)基板PC1,58 表3 TiOz 2−20 0−250SiOz
l 、46 0−250Tie:
2.20 0.250YF、 1.4
9 0.750Cr
cd=3o人)表4 SiO□ 1.46 0.250A12Ch
1.56 0.250Cr
(d=30人)YF、
1.49 0.150Cr
(d=30人)基板PMMA 1.49 表5 Sing 1.46 0.240SiO□
1.46 0.095Cr
(d=25A)YFs 1−4
9 0−150Cr (
d=25A)前記実施例1〜5について耐久試験を行っ
た。
耐久試験としては、下記3項目を行った。
1、テープ剥離テスト
薄膜面上にテープを接着させた後、テープを垂直に剥す
操作を10回繰り返す。
操作を10回繰り返す。
2、高温高湿テスト
70°C180%環境下に500時間放置。
3、有機溶剤テスト
\。
アルコールを浸しt;布で2に9重の力をかけて40回
擦る。
擦る。
結果を下に示す。
表に
のように本発明における膜構成では有機溶剤に対しても
良好であった。
良好であった。
発明の効果
本発明によりYF、層および金属Cr層を基板と多層膜
の間に介在させることにより、合成樹脂製光学基板ある
いはガラス基板上、耐溶剤性、耐環境性等の耐久性、密
着部、膜強度に優れた多層膜を構成することができる。
の間に介在させることにより、合成樹脂製光学基板ある
いはガラス基板上、耐溶剤性、耐環境性等の耐久性、密
着部、膜強度に優れた多層膜を構成することができる。
第1図、第2図、第4図および第5図は反射防止膜の反
射率を示す図である。 第3図はハーフミラ−の分光特性を示す図である。 特許出願人 ミノルタカメラ株式会社 代理 人 弁理士前 山 葆 はか1名第1図 第2図 第3図 第4図 茅5図
射率を示す図である。 第3図はハーフミラ−の分光特性を示す図である。 特許出願人 ミノルタカメラ株式会社 代理 人 弁理士前 山 葆 はか1名第1図 第2図 第3図 第4図 茅5図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、YF_3からなる層と金属Crからなる層を隣接す
る2層として含む光学部品用多層膜。 2、樹脂基板上に金属Crからなる層およびYF_3か
らなる層をその順に含む光学部品用多層膜。 3、基板上に厚さ100Å以下の金属Crからなる層お
よび厚さ500Å以上のYF_3からなる層をその順に
含む光学部品用多層膜。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1127273A JP3067134B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 光学部品用多層膜 |
US07/525,549 US5282084A (en) | 1989-05-19 | 1990-05-18 | Multi-layered coating for optical part comprising YF3 layer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1127273A JP3067134B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 光学部品用多層膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02304504A true JPH02304504A (ja) | 1990-12-18 |
JP3067134B2 JP3067134B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=14955913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1127273A Expired - Lifetime JP3067134B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 光学部品用多層膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3067134B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1127273A patent/JP3067134B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3067134B2 (ja) | 2000-07-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |