JPS60161974A - テトラクロロ無水フタル酸の製造方法 - Google Patents
テトラクロロ無水フタル酸の製造方法Info
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- JPS60161974A JPS60161974A JP59014528A JP1452884A JPS60161974A JP S60161974 A JPS60161974 A JP S60161974A JP 59014528 A JP59014528 A JP 59014528A JP 1452884 A JP1452884 A JP 1452884A JP S60161974 A JPS60161974 A JP S60161974A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、無水フタル酸と塩素とを、200〜400℃
の範囲の温度で、塩化コバルトを必須成分とし、更に塩
化カルシウム、塩化バリウムおよび塩化ランタンよシな
る群から選ばれた成分を一種もしくは二種以上含有する
混合物を活性炭に担持せしめた触媒上に送入して、気相
で反応させることによシ高純度のテトラクロロ無水7タ
ル酸を高収率で製造する方法に関するものである。
の範囲の温度で、塩化コバルトを必須成分とし、更に塩
化カルシウム、塩化バリウムおよび塩化ランタンよシな
る群から選ばれた成分を一種もしくは二種以上含有する
混合物を活性炭に担持せしめた触媒上に送入して、気相
で反応させることによシ高純度のテトラクロロ無水7タ
ル酸を高収率で製造する方法に関するものである。
テトラクロロ無水7タル酸は、顔料中間体、難燃性ポリ
エステル等の用途があシ、その製造方法もすでに知られ
ている。その一般的な製造方法は液相法であシ、例えば
ヨード等を触媒にしてクロルスルホン酸あるいは発煙硫
酸等の溶媒中で無水フタル酸を塩素化してテトラクロロ
無水フタル酸をえる方法が知られている(例えば西ドイ
ツ特許第1,934,174号)。又気相で行う方法と
しては、斉藤ら、有機合成化生協会誌第22巻第663
頁(1964年)、同じく第22巻第783頁(196
4年)また特開昭38−25365号公報に記載されて
いる様に、無水フタル酸と塩素を、不活性担体上に塩化
第2鉄及び塩化カリウムを担持させた触媒上で反応させ
る製法も提案されている。前者の場合、液相中で腐蝕性
物質を取シ扱うため、装置の腐蝕が著るしい等の欠点を
有している。又後者の場合、昇華性の塩化第2鉄を触媒
に使うため、飛散してきた塩化第2鉄によシ製品が茶色
系に着色するのが避けられないし、又テトラクロロ無水
フタル酸以外に副生物として7〜lO重量係のへキサク
ロルベンゼン等が混入してくるため、煩雑な精製工程を
必要とする等の欠点を有している。
エステル等の用途があシ、その製造方法もすでに知られ
ている。その一般的な製造方法は液相法であシ、例えば
ヨード等を触媒にしてクロルスルホン酸あるいは発煙硫
酸等の溶媒中で無水フタル酸を塩素化してテトラクロロ
無水フタル酸をえる方法が知られている(例えば西ドイ
ツ特許第1,934,174号)。又気相で行う方法と
しては、斉藤ら、有機合成化生協会誌第22巻第663
頁(1964年)、同じく第22巻第783頁(196
4年)また特開昭38−25365号公報に記載されて
いる様に、無水フタル酸と塩素を、不活性担体上に塩化
第2鉄及び塩化カリウムを担持させた触媒上で反応させ
る製法も提案されている。前者の場合、液相中で腐蝕性
物質を取シ扱うため、装置の腐蝕が著るしい等の欠点を
有している。又後者の場合、昇華性の塩化第2鉄を触媒
に使うため、飛散してきた塩化第2鉄によシ製品が茶色
系に着色するのが避けられないし、又テトラクロロ無水
フタル酸以外に副生物として7〜lO重量係のへキサク
ロルベンゼン等が混入してくるため、煩雑な精製工程を
必要とする等の欠点を有している。
本発明者らは、上記の欠点を改良するために鋭意検討し
た結果、無水フタル酸と塩素とを、200〜400℃の
範囲の温度で、塩化コバルトを必須成分とし、更に塩化
カルシウム、塩化バリウムおよび塩化ランタンよりなる
群から選ばれた成分を一種もしくは二種以上含有する混
合物を活性炭に担持せしめた触媒上に送入して、気相で
反応させることによって高収率でしかも高純度のテトラ
クロロ無水フタル酸が製造できることを見い出し本発明
を完成させた。
た結果、無水フタル酸と塩素とを、200〜400℃の
範囲の温度で、塩化コバルトを必須成分とし、更に塩化
カルシウム、塩化バリウムおよび塩化ランタンよりなる
群から選ばれた成分を一種もしくは二種以上含有する混
合物を活性炭に担持せしめた触媒上に送入して、気相で
反応させることによって高収率でしかも高純度のテトラ
クロロ無水フタル酸が製造できることを見い出し本発明
を完成させた。
本発明における触媒としては、活性炭上に塩化コバルト
を主成分とし、更に塩化カルシウム、塩化バリウムおよ
び塩化ランタンよシなる群から選ばれた成分を一種もし
くは二種以上含有する混合物を担持させたものが使用さ
れるが、混合物の担持量としては活性炭100重量部に
対して、塩化コバルト、塩化カルシウム、塩化バリウム
、塩化ランタンの混合物の全担持量が5〜100重量部
、好ましくは10〜70重量部の範囲とするのが良い。
を主成分とし、更に塩化カルシウム、塩化バリウムおよ
び塩化ランタンよシなる群から選ばれた成分を一種もし
くは二種以上含有する混合物を担持させたものが使用さ
れるが、混合物の担持量としては活性炭100重量部に
対して、塩化コバルト、塩化カルシウム、塩化バリウム
、塩化ランタンの混合物の全担持量が5〜100重量部
、好ましくは10〜70重量部の範囲とするのが良い。
又塩化コバルトに対する塩化カルシウム、塩化バリウム
および塩化ランタンよシなる群から選ばれた一種もしく
は二種以上の混合物の分子比は1 : 0.5〜1.5
、好ましくはl : 0.5〜1.0が良い。そして、
これらの塩化コバルト、塩化カルシウム、塩化バリウム
、塩化ランタンは必ずしも最初から塩化物の形で担持さ
れる必要はなく、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩などの無機
酸塩あるいは酢酸塩、安息香酸塩などの有機酸塩などと
して加えられても良い。これらは反応前の塩素処理ある
いは反応中に塩素によって塩素化され容易に塩化物にな
る。なお、本発明触媒においては活性炭を使用している
が、活性炭と本質的に同種の木炭、骨炭、血炭などの炭
質物も使用できる。
および塩化ランタンよシなる群から選ばれた一種もしく
は二種以上の混合物の分子比は1 : 0.5〜1.5
、好ましくはl : 0.5〜1.0が良い。そして、
これらの塩化コバルト、塩化カルシウム、塩化バリウム
、塩化ランタンは必ずしも最初から塩化物の形で担持さ
れる必要はなく、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩などの無機
酸塩あるいは酢酸塩、安息香酸塩などの有機酸塩などと
して加えられても良い。これらは反応前の塩素処理ある
いは反応中に塩素によって塩素化され容易に塩化物にな
る。なお、本発明触媒においては活性炭を使用している
が、活性炭と本質的に同種の木炭、骨炭、血炭などの炭
質物も使用できる。
本発明における触媒成分、塩化コバルト、塩化カルシウ
ム、塩化バリウムおよび塩化ランタンは、従来提案され
ている(特開昭38−25365号)成分である塩化鉄
等と異なシ、本発明での反応温度200〜400℃の範
囲で全く昇華性がないため、本発明では製品中にこれら
の無機塩が夾雑することなく又製品が着色しない利点が
ある。又従来提案された製造法では塩素化さ、れた無水
7タル酸は脱炭酸を受け易く核塩素化された安息香酸ク
ロライド類やヘキサクロルベンゼン等の副生物が多量に
生成し再結晶などの精製工程を必要としたが、本発明で
はすぐれて純度の高いテトラクロル無水フタル酸を高収
率で見られ、製品としてそのま\使用できるはととなる
という利点もある。
ム、塩化バリウムおよび塩化ランタンは、従来提案され
ている(特開昭38−25365号)成分である塩化鉄
等と異なシ、本発明での反応温度200〜400℃の範
囲で全く昇華性がないため、本発明では製品中にこれら
の無機塩が夾雑することなく又製品が着色しない利点が
ある。又従来提案された製造法では塩素化さ、れた無水
7タル酸は脱炭酸を受け易く核塩素化された安息香酸ク
ロライド類やヘキサクロルベンゼン等の副生物が多量に
生成し再結晶などの精製工程を必要としたが、本発明で
はすぐれて純度の高いテトラクロル無水フタル酸を高収
率で見られ、製品としてそのま\使用できるはととなる
という利点もある。
反応温度は、無水フタル酸濃度、空間速度などのような
その時の反応条件によって異なるが、生成物の融点が2
54〜258℃と蒸気圧の小さな物質であるため、20
0℃未満では反応管中で閉塞を起す傾向があシ好ましく
ない。又反応温度が400℃を起えると、脱炭酸反応が
起シ易くなシ好ましくない。よって200〜400 ℃
、とくに300〜380℃の温度範囲が好ましい。
その時の反応条件によって異なるが、生成物の融点が2
54〜258℃と蒸気圧の小さな物質であるため、20
0℃未満では反応管中で閉塞を起す傾向があシ好ましく
ない。又反応温度が400℃を起えると、脱炭酸反応が
起シ易くなシ好ましくない。よって200〜400 ℃
、とくに300〜380℃の温度範囲が好ましい。
本発明での塩素ガスの使用量は反応に必要な理論量の1
〜2倍が最適であるが、さらに3倍以上の塩素ガスを用
いて未反応の塩素ガスを循環使用することもできる。塩
素ガスは窒素、炭酸ガス、塩化水素ガスなどとともに希
釈されて供給されても良い。
〜2倍が最適であるが、さらに3倍以上の塩素ガスを用
いて未反応の塩素ガスを循環使用することもできる。塩
素ガスは窒素、炭酸ガス、塩化水素ガスなどとともに希
釈されて供給されても良い。
反応ガスの空間速度は毎時200〜1000とするのが
実用的である。又原料ガス中の無水7タル酸の濃度は反
応温度によって異なるが、0.5〜10容量係が適当で
、とくに1〜3容量係の範囲が好ましい。
実用的である。又原料ガス中の無水7タル酸の濃度は反
応温度によって異なるが、0.5〜10容量係が適当で
、とくに1〜3容量係の範囲が好ましい。
本発明は固定床反応器でも流動床反応器でも使用できる
。
。
以下本発明を実施例によシ更に具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
実施例 1
塩化コバルト(CoC42として) 12.Oyと塩化
バリウム(BaCl2・2H20として) l 8.1
yを含む水溶液150CCに4〜6メツシユの活性炭
〔飲用薬品製「白鷺(商標) J C−2X:360C
Cを浸し、湯浴上で水分を蒸発乾固せしめて触媒を調製
した。
バリウム(BaCl2・2H20として) l 8.1
yを含む水溶液150CCに4〜6メツシユの活性炭
〔飲用薬品製「白鷺(商標) J C−2X:360C
Cを浸し、湯浴上で水分を蒸発乾固せしめて触媒を調製
した。
その担持率は52重重量%あった。この触媒50匡を内
径26輯のニッケル製反応管に充填した。
径26輯のニッケル製反応管に充填した。
反応管を浸した浴温を300℃とし、塩素ガスを毎時3
.O2触媒層に2時間通じ塩素処理を行った。
.O2触媒層に2時間通じ塩素処理を行った。
ついで、浴温を320℃とし、気化させた無水フタル酸
を毎時2.5tと塩素ガスを毎時3.Otと窒素ガス毎
時11.61とをよく混合して触媒層に送入し、反応を
行った。生成した固型物は結晶器で僕 捕集し、捕集量を秤量した量、ガスクロマトグラフ(S
E 52 : 1 ff1s カラム檜温度110℃)
で、目的物質テトラクロロ無水フタル酸及び副生物とし
ての核塩素化安息香酸クロライド及びヘキサクロルベン
ゼンを定量した。5時間反応させた結果粗生成物20.
Ofかえられ、供給無水フタル酸に対して、えられた粗
生成物をテトラクロロ無水フタル酸として収率を算出し
たところ82.8モル係であった。又粗生成物中の副生
物の含有率は各々核塩素化安息香酸クロライド1.6重
量%、ヘキサクロルベンゼン0.3重量%であった。な
お、テトラクロロ無水フタル酸とこれらの副生物以外は
ガスクロマトグラフィーでピークは認められなかった。
を毎時2.5tと塩素ガスを毎時3.Otと窒素ガス毎
時11.61とをよく混合して触媒層に送入し、反応を
行った。生成した固型物は結晶器で僕 捕集し、捕集量を秤量した量、ガスクロマトグラフ(S
E 52 : 1 ff1s カラム檜温度110℃)
で、目的物質テトラクロロ無水フタル酸及び副生物とし
ての核塩素化安息香酸クロライド及びヘキサクロルベン
ゼンを定量した。5時間反応させた結果粗生成物20.
Ofかえられ、供給無水フタル酸に対して、えられた粗
生成物をテトラクロロ無水フタル酸として収率を算出し
たところ82.8モル係であった。又粗生成物中の副生
物の含有率は各々核塩素化安息香酸クロライド1.6重
量%、ヘキサクロルベンゼン0.3重量%であった。な
お、テトラクロロ無水フタル酸とこれらの副生物以外は
ガスクロマトグラフィーでピークは認められなかった。
実施例 2
反応温度を変えた以外は、実施例1でえられたのと同じ
触媒を使用して、同じ条件で反応させて表1の結果をえ
た。
触媒を使用して、同じ条件で反応させて表1の結果をえ
た。
実施例3〜6および比較例1
触媒成分を変えた以外は、実施例1と同じ様に触媒を調
製し、又反応温度を変えた以外は実施例1と同じ様に反
応を行い表1の結果をえた。
製し、又反応温度を変えた以外は実施例1と同じ様に反
応を行い表1の結果をえた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11無水7タル酸と塩素とを、200〜400℃の範
囲の温度で、塩化コバルトを必須成分とし、更に塩化カ
ルシウム、塩化バリウムおよび塩化ランタンよりなる群
から選ばれた成分を一種もしくは二種以上含有する混合
物を活性炭に担持せしめた触媒上に送入して、気相で反
応させることを特徴とするテトラクロロ無水フタル酸の
製造方法。 (21塩化カルシウム、塩化バリウムおよび塩化ランタ
ンよシなる群から選ばれた一種もしくは二種以上の混合
物が1.塩化コバルトに対し分子比で0.1〜1.5の
範囲存在せしめられてなる特許請求の範囲+11記載の
方法。 (31塩化コバルト、塩化カルシウム、塩化バリウム、
塩化ランタンの全担持量が活性炭100重量部に対して
5〜100重量部である特許請求の範囲(1)または(
21記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59014528A JPS60161974A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | テトラクロロ無水フタル酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59014528A JPS60161974A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | テトラクロロ無水フタル酸の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60161974A true JPS60161974A (ja) | 1985-08-23 |
Family
ID=11863632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59014528A Pending JPS60161974A (ja) | 1984-01-31 | 1984-01-31 | テトラクロロ無水フタル酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60161974A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307858A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-12-15 | エルフ アトケム ソシエテ アノニム | ハロゲン化イミドの製造方法 |
EP0632032A1 (en) * | 1993-06-02 | 1995-01-04 | Nippon Light Metal Co., Ltd. | Process for purifying tetrachlorophthalic anhydride and high-purity tetrachlorophthalic anhydride |
US5574172A (en) * | 1993-05-27 | 1996-11-12 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing halogenated phthalic anhydride |
-
1984
- 1984-01-31 JP JP59014528A patent/JPS60161974A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307858A (ja) * | 1987-05-18 | 1988-12-15 | エルフ アトケム ソシエテ アノニム | ハロゲン化イミドの製造方法 |
US5574172A (en) * | 1993-05-27 | 1996-11-12 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for producing halogenated phthalic anhydride |
EP0632032A1 (en) * | 1993-06-02 | 1995-01-04 | Nippon Light Metal Co., Ltd. | Process for purifying tetrachlorophthalic anhydride and high-purity tetrachlorophthalic anhydride |
US5493033A (en) * | 1993-06-02 | 1996-02-20 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Process for purifying tetrachlorophthalic anhydride |
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