[go: up one dir, main page]

JPS5887530A - 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 - Google Patents

規則性パタ−ンの欠陥検査装置

Info

Publication number
JPS5887530A
JPS5887530A JP56186738A JP18673881A JPS5887530A JP S5887530 A JPS5887530 A JP S5887530A JP 56186738 A JP56186738 A JP 56186738A JP 18673881 A JP18673881 A JP 18673881A JP S5887530 A JPS5887530 A JP S5887530A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
defect
array
photodetector
inspected
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP56186738A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6410043B2 (ja
Inventor
Shunsuke Mukasa
武笠 俊介
Kennosuke Sugizaki
杉崎 堅之助
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP56186738A priority Critical patent/JPS5887530A/ja
Publication of JPS5887530A publication Critical patent/JPS5887530A/ja
Publication of JPS6410043B2 publication Critical patent/JPS6410043B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95623Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発嘴は、レーザー党回折パターン空間周波数フィルタ
リング方式を用いて単位開口の規則性パターン中の形状
欠陥を検出する装置において、形状欠陥を縁部と区別し
て検出する却、削性パターンの欠陥検査装置に関する。
メタルメツシュ等の単位開口の規則性1列パターンから
なる工業製品は、一般に縁部は粗線によりて開口が途中
から切られているため不規則な形状の単位開口でつなが
っている。したがって、レーザー光回折パターン9間周
波数フィルタリング方式な用いた場合は、縁部は丁ぺて
欠陥形状として検出されるため、通常の欠陥と区別しな
ければならない。
ここにおいて、本発明は、それら通常の欠陥と縁部とな
謙別する装置V提供j石ことを、その目的とする。
先ず、レーザー光回折パターン9間周波数フィルタリン
グ方式の基本構成V第1図により説明する。
レーザ発振器/Y:出たレーザピームコは、コリメー/
JKよって拡大された平行党参となりて皺検査物jKQ
射される。@検査物3はフーリエ変換レンズ7の前焦廃
面に曾かれてあり、後焦点面上には被検査物jV通過す
る時に回折した光1によりて、被検査物Iのフーリエ変
換スペクトルが現われる。しかして、フーリエ変換レン
ズクの後焦点面上には、被検査物!の正常パターン(フ
ーリエ変換レンズγによる)のフーリエ変換スペクトル
強度分布YL録したイ・力再真フィルム、つまり空I%
i族訴数フィルタgが置かれており、@検査物jのフー
リエ&換スペクトルのうち、正常パターンに相当するス
ペクトルのみがq間#i波数フィルタtによって吸収さ
れ、欠陥パターンに相当するスペクトルは透過する。
ところで、この空r&i1周波数フィルタ5は逆フーリ
エ変換レンズ/θの前焦点面上に設けられているため、
空間蜘汲数フィルタjを透過した光デは逆フーリエ変換
レンズ10によって逆フーリエ変換さ1+、逆フーリエ
変換レンズの後焦点面(逆フーリエ貿換面)上に置かれ
たスクリーン//に、9!間フィルタリングされた逆フ
ーリエ変排偉1丁なわち被検査物!の欠陥部分だけσノ
儂となって埃われる。以上が9〜1フィルタリング方式
の基本桝成である。
一力、第λ図は矩形状の単位開口の規則的配列で砂るパ
ターンσノー例を丞1も0ノであり、かかるパターンの
欠陥はそり大@さか予め決められた一定(至)以上のも
のと定義される・しかして・第1図で述べた空間フィル
タリング方式を利用した欠陥検査装置では、第3図(4
)〜φ)の欠陥部分D/−DIだけが、その欠陥面積に
対応した明るさの点となって再回折像面上に現われる。
なお、第3図(K)は正常なパターンケ示して〜する。
矛フーリエ変排面に現われゐ被検査パターン3の逆儂の
欠陥部分だけの儂は、第ダ図に示1ように、フォトディ
テクタアレイ//によって検出される。つまり、欠陥部
分/Sだけ明るい点となって現われ、フォトディテクタ
アレイ/llIcよって検出される。
ここにおいて、被検査パターンtV平行光亭内で光軸l
コに直角に平行移動してもフーリエ変換の移行剤により
、フーリエ変換レンズクの後焦点面上に現われるフーリ
エ変換パターンに変化はない、したがって、被検査パタ
ーン!を平行移動してもPlsK、被検前パターンSの
フーリエ変換スペクトルのうち正常パターンに相当する
スペクトルfノみが空間フィルタgによって吸収され、
欠陥パターンに相当てるスペクトルは透過する。かくし
て、V検査パターンjの平行移11−により逆フーリエ
変換像は光軸対称σノ逆方向に移動、つまり被検査パタ
ーン3の逆儂の欠陥部分だけの像が、光軸/コを挾んで
被検査パターンSの移!l11方向と反対の方向に逆フ
ーリエ葡排面上を移動する。
第1図において、被検査パターンjの移璽1・方回ケ紙
面に直角な方向とし、逆フーリエ変換面上のフォトディ
テクタアレイ//の配列方向を紙面に平行な方向とすれ
ば、逆フーリエ変換面上v$Lvる欠陥像はフォトディ
テクタアレイ//’lkW角に横切ることになり、欠陥
像の出力信号として検出される。
また、被検査パターンjの移動に伴ない、その移動距離
に関する情INケ出力する装置#を本欠陥検査装fjl
[設置することにより、被検査パターン中において検出
された欠陥の位會を知ることができる0例を挙げて説明
すると、今、被検査パターンの移動方向に直角な方向な
X方向、平行な方向VY方向とすれば、X方向の欠陥位
置成分は、逆フーリエ変換面上において欠陥部が横切る
単位フォトディテクタの7オトデイテクタアレイ方向の
位置によって検出でき、X方向のそれは、被検査パター
ンの固定台及び本体に位置スケール、さらに高精度が要
求される場合には回折格子のモアレ縞1に:利用した位
tr位検比装置等V設ける、あるいは被検査パターンな
移動させるためのモータ斡の駆動軸部分にロータリエン
コーダV設ける1等の手段によって検出可能である。こ
わら以外にも、Y方向の欠陥位置成分は、被検査パター
ンが等速移動するため移動開始時を起点として時間を計
数することKよりても求めることができる。
フートディテクタアレイ//は仲形開口を持つ複数の単
位フォトディテクタ/3の配列で構成さt′1.被検査
パターンの移動により得られる出力信号は欠陥の最大許
容面積に相当したスレッシ宵ルドを持つコンパレータに
より1館什され。
これKより欠陥検出か竹なわt↑る。
以上(h如くして、靭検査パターンにおける欠陥部分に
対応する信号か祷られる。
ところが、上ivのような信号には、第jし1に示す知
則性パターンgo’σ)外に鯉内部76における縦方向
縁部jYと、伊方向縁部SX力通常欠陥と混在するので
1本発明はこわを識別しようとするもQノである。
第6図は、本発明で適用される欠陥積置装置をフォトデ
ィテクタ7レイ//側から見た平面図である。ト明をわ
かりや1〈するためにフーリエ費換レンズと空間Itd
波数フィルタは省略しである。
フォトディテクタアレイl/は固定され、ハターンSO
ケ移動させるパターン移ヤlk負6コは、駆動装置67
によりY軸力向、X軸力向に移動され、それぞれのY位
置、X昏黄は、Y位置信号に失装置63.x位置信七発
生装置61により求められる。
そしてパターン移1装ケ62は加りレ1に汀、1ように
、70からりlまで叫速移動してY@yx移動させ、7
ノから7−までフォトディテクタアレイ/lの伸長方向
の長さだけX II+V11λ(ピッチ送り)させ、7
コから73はY軸を逆に尋連移動ルて、これを繰返し、
パターン!θの全面をカッ(−する。
第1図ないし第1コ図は本発明の一実施例である。
本発明は、逆フーリエ変換面上の規則)(ターンの縦方
向縁部と横方向縁部が、単位フォトディテクタvl数個
−列に配列してなるフォトディテクタアレイで検出する
とき、縦方向および横方向の欠陥が連続して検出される
ことV利用し、縁部でない通常欠陥とト別する装置であ
る。
そこで、規則性パターン!Oを、′jt@に直角な面内
で、フォトディテクタアレイl/と直角(Y軸)y1向
への等速移動と、平行(X軸)方向へのフォトディテク
タアレイの長さ分のピッチ送りVIII返1゜ フォトディテクタアレイllK入射する形状欠陥部光は
並列積用するマルチ検出回路t/で検出され次に縁部判
別回□路t−へ与えられる。
同時に、前記叫速移1・と!Tll ii[′ピッチ送
りに従って、知則性パターン50の移動距蝙情報がY(
rt置信ちが・生装置63とX位置信号発生装置6りか
らI11部判yjI:回路tコヘ与えらねる。
フォトディテクタアレイ//に入射する形状欠陥部光は
、各々増幅器−によって増幅され、コ値化回路コ/によ
って形状欠陥の有無馨表わT信号に変排される。この信
号は、前記雛速移Thと前記ピッチ送りに従ってY位置
信号発生装置l163とX位置信号発生41ダから発生
される荀t1i信号と一1期したクロックパルスOKに
よってサンプリング回路ココにおいてサンプルされ、第
13Tl+に示1タイミングチャートσ〕D 8 /と
なる。
D81からDB2へ至る間のアンドケート23は、X方
向の1■・時発生欠陥ヲX7−回の縁部として無視する
ためのものであり、DB/と供にアンドケートnK島λ
らねる信号Gは、第1θ図に示す同時信号発生回路によ
って作らhる。
本実施例はX、Y両刃向において連紗3併以上欠陥が埃
われた場合にそれらvx77向縁部。
1方向縁部として無視てるものであるため、第1011
に示す回路では互いKIllり合う3個の欠陥信号II
!DBlが同一のアントゲ−ドータに接続され、さらK
それらは3個以上同時発生した欠陥信号D81jべてY
:消去するためノアゲートコを経て第を図のアントゲ−
)JJへ与えらする。
この効果によりタイミングチャート(第13図)k示し
た通り、D8/はJ個以上同時に発生した瞬間にゲート
信号Gによってブロックされ、D8コとなる。
次KY方向に傳続して発生した欠陥VY力内縁部として
無視する回路C11!//夕1)v欽明する。
本回路の動作については謝13図に各引の詳細なタイに
ンダチャー)V示しであるので概要だけを述べる0本回
路はシ薄トレジスタな構成するフリップフロップ、26
と、連続3個の欠陥信号馨検邑した場合にそ#6)&−
クリアするた給のゲートコク及びフリップフロップコと
、連続した3個の欠陥に続く欠陥Yも無視するための、
フリッグフロッ7コタと、連続欠陥が途νIf、た時に
本回路Yリセントするためのフリラフフロップ30等に
よって構成され、タイミングチャートσノD8コ(1)
Kおけるj伽達続した欠陥信号が、#終出力Q!におい
て無曲さtlている。
以上説明した捗・作によって、X、Y両方回縁部が無視
された信号Qjに従って、真の欠陥位置を記憶する81
分か第1コレ・である。
クロックパルスcxKrHIMしたパルスWOKは、q
3に欠陥信号が埃わわている時のみケー)J/を通過し
、記憶装置3コへの書き込みイに号WRとなる。θ己惜
&@3−のデータラインにはX位置信号発生装機6q及
びY荀#信号発生装置63からの信号が+Ij!5rさ
rl、アドレスラインにはアト壓。
レス微生装置33かものアドレス信号が与えられている
。アドレス祈生装置#33は、クロックパルスOKKド
1期しており、WR信号が発生した厘稜にアドレス信号
ケカウントアッフTるようになっている。
かくして、本社間によれは、メタルメツシュ轡の開口規
則性1列パターンの縁部か通常の欠陥と児全に篩別さね
るため、却1則性パターンの欠陥S萱装置としてσノ信
転付の向上と、検量能率の格段の飛躍がVめられる。
【図面の簡単な説明】
第1し1は空間フィルタリング方式の基本桐欣図、第1
図は短形状の単位開口の規則的配列で成るパターンσ・
−@を示す図、第3図(4)〜(蜀はパターンの欠陥、
正常を表わす図、@*図は逆フーリエ変換面に現われる
被検量パターンの逆俸の欠陥部分り)像の説明図、1m
!図は被検査パターンの規則性パターンの外Km肉部と
の間に介在する縦・横方向細部の紗明図、第6しは本発
明で適用される欠陥蜂出装働゛のパターンの欠陥検出部
の平面タ:、5117図はそのs!!装置の移動方向の
訪明ト、#L1し・ないし第1−図は本発明の一実II
bfllのブロック図、@t3図は一実施伊:のタイミ
ングチャートである。 l・・レーザ発振器、コ・・レーザビーム、3・・・コ
リメータ、lI・・平h*、S・・被検Ii物、ト・・
回折した光、7・・・フーリエ変換レンズ、g・・壁間
mmeフィルタ、?・・・そσノフィルタgをx1!過
した光、10・・・逆フーリエ賞便レンズ、//・・フ
ォトディテクタアレイ(スクリーン)、/コ・・・光軸
。 /3・・・単位フォトディテクタ、/l・−ヌロント、
7.5・・・通常の欠陥、/6・線内部、7戸・増幅器
、2/・・・−値化回路、2コ・・サンプリング回路、
3コ・・・記憶装量、33・・・アドレス発生装置、5
o・・・規則性パターン、jY・・縦力向l#部、jX
・・・横方向細部、4ノ・・・駆動装置、6ノ・・パタ
ーン移動装墳、63・・Y位量信号臂住装饋、tl・・
・X位置信号発生装置。 りlへ7tI・ パターン和動装置6ノの移1“経路、
gノ・・マルチ欠陥検出ρ路、gノ・・・ll#剖・判
別装置、ff、7・・・欠陥位f炭力。 比願人戦理人  格  股     清壓5図 1Δ 帛6図 馬9医 壓13図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 レーザー光回折パターン9間周波数フィルタリング方式
    7kJflいて単位開口の規則性配列でなぷ規則性パタ
    ーン中の形状欠陥を検出する装置にお(1て。 a、逆フーリエ変換面上に、単位フォトディテクタVm
    数個−列に配列してなるフォトディテクタアレイと。 b、前記知、則性パターンな、光軸KTji角な面内で
    、前記フォトディテクタアレイと直角方向への弊速移動
    と、平行方向へのフォトディテクタアレイの長さ分のピ
    ッチ送りを一返して移動させる装置と。 C,前1eフオトデイテクタアレイに入射する形状欠陥
    信号を並列検出てるマルチ検出回路と、d、前記等速移
    動とピッチ送りに従って、前記規則性パターンの移動距
    離情報を出j装置と・、前記単位フォトディテクタの前
    記等速移動方向に普数連続して発生する形状欠陥信号を
    。 前記規則性パターンの縦方向Ij&部と判別し。 前配醇達移動方向と直角に鍾絖した検数の単位フォトデ
    ィテクタに同時に発生する形状欠陥信号Y#力向I#部
    と判別して形状欠陥部と区別する回路と、 を具えゐことを%書とする規則性パターンの欠陥検査装
    置。
JP56186738A 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 Granted JPS5887530A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56186738A JPS5887530A (ja) 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56186738A JPS5887530A (ja) 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5887530A true JPS5887530A (ja) 1983-05-25
JPS6410043B2 JPS6410043B2 (ja) 1989-02-21

Family

ID=16193779

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56186738A Granted JPS5887530A (ja) 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5887530A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61179040U (ja) * 1985-04-26 1986-11-08
JPH01158308A (ja) * 1987-06-08 1989-06-21 Insyst Inc 欠陥検査方法及び装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61179040U (ja) * 1985-04-26 1986-11-08
JPH01158308A (ja) * 1987-06-08 1989-06-21 Insyst Inc 欠陥検査方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6410043B2 (ja) 1989-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102859321A (zh) 物体检测装置以及信息取得装置
US3830568A (en) Multiple detection volume laser doppler velocimeter
US5128550A (en) Method of and an apparatus for testing large area panes for optical quality
GB2051349A (en) Automatic defecting inspection apparatus
US20100253938A1 (en) Optical inspection method and optical inspection apparatus
CN104094104A (zh) 用于识别透明片体内的缺陷部位的装置和方法以及该装置的使用
US3599004A (en) Arrangement of photocells for the determination of the position of an equidistantly divided scale
JPS6286819A (ja) 位置検出方法
JP2863874B2 (ja) 粒度分布測定装置
ES8106804A1 (es) Aparato para detectar la presencia de defectos en un articu-lo de material translucido
JPS5887530A (ja) 規則性パタ−ンの欠陥検査装置
US3539260A (en) Method and apparatus for automatic alignment of coherent optical spatial frequency filters
JPS6344721Y2 (ja)
JPH02238338A (ja) レンズ検査装置
US3366794A (en) Scanning apparatus for aiding in the determination of point co-ordinates of paths of charged particles as recorded on photographic film
US5255066A (en) Measuring device for track building machines
GB1429536A (en) Device to introduce an optic measuring index at photoelectric detection of photographic plates
JPS6410044B2 (ja)
JPS6326322B2 (ja)
JPS60252291A (ja) ノイズのある環境において操作するための光学的高さ測定システム
JPH0439580Y2 (ja)
DE112021003531T5 (de) Lichtempfangsvorrichtung und Kommunikationsvorrichtung
CN119400055A (zh) 对夫琅禾费多缝衍射现象的识别测量装置及识别测量方法
JPH0134322B2 (ja)
SU1130810A1 (ru) Устройство дл наблюдени дерной фотоэмульсии