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JPS6410043B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6410043B2
JPS6410043B2 JP18673881A JP18673881A JPS6410043B2 JP S6410043 B2 JPS6410043 B2 JP S6410043B2 JP 18673881 A JP18673881 A JP 18673881A JP 18673881 A JP18673881 A JP 18673881A JP S6410043 B2 JPS6410043 B2 JP S6410043B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
defect
photodetector array
fourier transform
regular pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP18673881A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5887530A (ja
Inventor
Shunsuke Mukasa
Kennosuke Sugizaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP56186738A priority Critical patent/JPS5887530A/ja
Publication of JPS5887530A publication Critical patent/JPS5887530A/ja
Publication of JPS6410043B2 publication Critical patent/JPS6410043B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95623Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザー光回折パターン空間周波フ
イルタリング方式を用いて単位開口の規則性パタ
ーン中の形状欠陥を検出する装置において、形状
欠陥を縁部と区別して検出する規則性パターンの
欠陥検査装置に関する。
メタルメツシユ等の単位開口の規則性配列パタ
ーンからなる工業製品は、一般に縁部は縁線によ
つて開口が途中から切られているため不規則な形
状の単位開口でつながつている。したがつて、レ
ーザー光回折パターン空間周波数フイルタリング
方式を用いた場合は、縁部はすべて欠陥形状とし
て検出されるため、通常の欠陥と区別しなければ
ならない。
ここにおいて、本発明は、それから通常の欠陥
と縁部とを識別する装置を提供することを、その
目的とする。
先ず、レーザー光回折パターン空間周波数フイ
ルタリング方式の基本構成を第1図により説明す
る。
レーザ発振器1を出たレーザビーム2は、コリ
メータ3によつて拡大された平行光4となつて被
検査物5に照射される。被検査物5はフーリエ変
換レンズ7の前焦点面に置かれてあり、後焦点面
上には被検査物5を通過する時に回折した光6に
よつて、被検査物5のフーリエ変換スペクトルが
現われる。しかして、フーリエ変換レンズ7の後
集点面上には、被検査物5の正常パターン(フー
リエ変換レンズ7による)のフーリエ変換スペク
トル強度分布を記録したネガ写真フイルム、つま
り空間周波数フイルタ8が置かれており、被検査
物5のフーリエ変換スペクトルのうち、正常パタ
ーンに相当するスペクトルのみが空間周波数フイ
ルタ8によつて吸収され、欠陥パターンに相当す
るスペクトルは透過する。
ところで、この空間周波数フイルタ8は逆フー
リエ変換レンズ10の前焦点面上に設けられてい
るため、空間周波数フイルタ8を透過した光9は
逆フーリエ変換レンズ10によつて逆フーリエ変
換され、逆フーリエ変換レンズの後焦点面(逆フ
ーリエ変換面)上に置かれたスクリーン11に、
空間フイルタリングされた逆フーリエ変換像、す
なわち被検査物5の欠陥部分だけの像となつて現
われる。以上が空間フイルタリング方式の基本構
成である。
一方、第2図は矩形状の単位開口の規則的配列
で成るパターンの一例を示すものであり、かかる
パターンの欠陥はその大きさが予め決められた一
定値以上のものと定義される。しかして、第1図
で述べた空間フイルタリング方式を利用した欠陥
検査装置では、第3図A〜Dの欠陥部分D1〜D
4だけが、その欠陥面積に対応した明るさの点と
なつて再回折像面上に現われる。なお、第3図E
は正常なパターンを示している。
逆フーリエ変換面に現われる被検査パターン5
の逆像の欠陥部分だけの像は、第4図に示すよう
に、フオトデイテクタアレイ11によつて検出さ
れる。つまり、欠陥部分15だけ明るい点となつ
て現われ、フオトデイテクタアレイ11によつて
検出される。
ここにおいて、被検査パターン5を平行光4内
で光軸12に直角に平行移動してもフーリエ変換
の移行則により、フーリエ変換レンズ7の後焦点
面上に現われるフーリエ変換パターンに変化はな
い。したがつて、被検査パターン5を平行移動し
ても同様に、被検査パターン5のフーリエ変換ス
ペクトルのうち正常パターンに相当するスペクト
ルのみが空間フイルタ8によつて吸収され、欠陥
パターンに相当するスペクトルは透過する。かく
して、被検査パターン5の平行移動により逆フー
リエ変換像は光軸対称の逆方向に移動、つまり被
検査パターン5の逆像の欠陥部分だけの像が、光
軸12を挾んで被検査パターン5の移動方向と反
対の方向に逆フーリエ変換面上を移動する。
第1図において、被検査パターン5の移動方向
を紙面に直角な方向とし、逆フーリエ変換面上の
フオトデイテクタアレイ11の配列方向を紙面に
平行な方向とすれば、逆フーリエ変換面上を移動
する欠陥像はフオトデイテクタアレイ11を直角
に横切ることになり、欠陥像の出力信号として検
出される。
また、被検査パターン5の移動に伴ない、その
移動距離に関する情報を出力する装置を本欠陥検
査装置に設置することにより、被検査パターン中
において検出された欠陥の位置を知ることができ
る。例を挙げて説明すると、今、被検査パターン
の移動方向に直角な方向をX方向、平行な方向を
Y方向とすれば、X方向の欠陥位置成分は、逆フ
ーリエ変換面上において欠陥像が横切る単位フオ
トデイテクタのフオトデイテクタアレイ方向の位
置によつて検出でき、Y方向のそれは、被検査パ
ターンの固定台及び本体に位置スケール、さらに
高精度が要求される場合には回折格子のモアレ縞
を利用した位置変位検出装置等を設ける、あるい
は被検査パターンを移動させるためのモータ等の
駆動軸部分にロータリエンコーダを設ける、等の
手段によつて検出可能である。これら以外にも、
Y方向の欠陥位置成分は、被検査パターンが等速
移動するため移動開始時を起点として時間を計数
することによつても求めることができる。
フオトデイテクタアレイ11は矩形開口を持つ
複数の単位フオトデイテクタ13の配列で構成さ
れ、被検査パターンの移動により得られる出力信
号は欠陥の最大許容面積に相当したスレツシヨル
ドを持つコンパレータにより2値化され、これに
より欠陥検出が行なわれる。
以上の如くして、被検査パターンにおける欠陥
部分に対応する信号が得られる。
ところが、上記のような信号には、第5図に示
す規則性パターン50の外に縁肉部16における
縦方向縁部5Yと、横方向縁部5Xが通常欠陥と
混在するので、本発明はこれを識別しようとする
ものである。
第6図は、本発明で適用される欠陥検査装置を
フオトデイテクタアレイ11側から見た平面図で
ある。説明をわかりやすくするためにフーリエ変
換レンズと空間周波数フイルタは省略してある。
フオトデイテクタアレイ11は固定され、パタ
ーン50を移動させるパターン移動装置62は、
駆動装置61によりY軸方向、X軸方向に移動さ
れ、それぞれのY位置、X位置は、Y位置信号発
生装置63、X位置信号発生装置64により求め
られる。
そしてパターン移動装置62は第7図に示すよ
うに、70から71まで等速移動してY軸を移動
させ、71から72までフオトデイテクタアレイ
11の伸長方向の長さだけX軸を移動(ピツチ送
り)させ、72から73はY軸を逆に等速移動し
て、これを繰返し、パターン50の全面をカバー
する。
第8図ないし第12図は本発明の一実施例であ
る。
本発明は、逆フーリエ変換面上の規則パターン
の縦方向縁部と横方向縁部が、単位フオトデイテ
クタを複数個一列に配列してなるフオトデイテク
タアレイで検出するとき、縦方向および横方向の
欠陥が連続して検出されることを利用し、縁部で
ない通常欠陥と区別する装置である。
そこで、規則性パターン50を、光軸に直角な
面内で、フオトデイテクタアレイ11と直角(Y
軸)方向への等速移動と、平行(X軸)方向への
フオトデイテクタアレイの長さ分のピツチ送りを
繰返す。
フオトデイテクタアレイ11に入射する形状欠
陥部光は並列検出するマルチ欠陥検出回路81で
検出され次に縁部判別回路82へ与えられる。
同時に、前記等速移動と前記ピツチ送りに従つ
て、規則性パターン50の移動距離情報がY位置
信号発生装置63とX位置信号発生装置64から
縁部判別回路82へ与えられる。
フオトデイテクタアレイ11に入射する形状欠
陥部光は、各々増幅器20によつて増幅され、2
値化回路21によつて形状欠陥の有無を表わす信
号に変換される。この信号は、前記等速移動と前
記ピツチ送りに従つてY位置信号発生装置63と
X位置信号発生装置64から発生される位置信号
と同期したクロツクパルスCKによつてサンプリ
ング回路22においてサンプルされ、第13図に
示すタイミングチヤートのDS1となる。
DS1からDS2へ至る間のアンドゲート23
は、X方向の同時発生欠陥をX方向の縁部として
無視するためのものであり、DS1と共にアンド
ゲート23に与えられる信号Gは、第10図に示
す同時信号発生回路によつて作られる。
本実施例はX、Y両方向において連続3個以上
欠陥が現われた場合にそれらをX方向縁部、Y方
向縁部として無視するものであるため、第10図
に示す回路では互いに隣り合う3個の欠陥信号線
DS1が同一のアンドゲート24に接続され、さ
らにそれらは3個以上同時発生した欠陥信号DS
1すべてを消去するためノアゲート25を経て第
9図のアンドゲート23へ与えられる。この効果
によりタイミングチヤート(第13図)に示した
通り、DS1は3個以上同時に発生した瞬間にゲ
ート信号Gによつてブロツクされ、DS2となる。
次にY方向に連続して発生した欠陥をY方向縁
部として無視する回路(第11図)を説明する。
本回路の動作については第13図に各部の詳細な
タイミングチヤートを示してあるので概要だけを
述べる。本回路はシフトレジスタを構成するフリ
ツプフロツプ26と、連続3個の欠陥信号を検出
した場合にそれらをクリアするためのゲート27
及びフリツプフロツプ28と、連続した3個の欠
陥に続く欠陥をも無視するためのフリツプフロツ
プ29と、連続欠陥が途切れた時に本回路をリセ
ツトするためのフリツプフロツプ30等によつて
構成され、タイミングチヤートのDS2(i)に
おける5個連続した欠陥信号が、最終出力Q5に
おいて無視されている。
以上説明した動作によつて、X、Y両方向縁部
が無視された信号Q5に従つて、真の欠陥位置を
記憶する部分が第12図である。
クロツクパルスCKに同期したパルスWCKは、
Q5に欠陥信号が現われている時のみゲート31
を通過し、記憶装置32への書き込み信号WRと
なる。記憶装置32のデータラインにはX位置信
号発生装置64及びY位置信号発生装置63から
の信号が接続され、アドレスラインにはアドレス
発生装置33からのアドレス信号が与えられてい
る。アドレス発生装置33は、クロツクパルス
CKに同期しており、WR信号が発生した直後に
アドレス信号をカウントアツプするようになつて
いる。
かくして、本発明によれば、メタルメツシユ等
の開口規則性配列パターンの縁部が通常の欠陥と
完全に識別されるため、規則性パターンの欠陥検
査装置としての信頼性の向上と、検査能率の格段
の飛躍が認められる。
【図面の簡単な説明】
第1図は空間フイルタリング方式の基本構成
図、第2図は矩形状の単位開口の規則的配列で成
るパターンの一例を示す図、第3図A〜Eはパタ
ーンの欠陥、正常を表わす図、第4図は逆フーリ
エ変換面に現われる被検査パターンの逆像の欠陥
部分の像の説明図、第5図は被検査パターンの規
則性パターンの外に縁肉部との間に介在する縦・
横方向縁部の説明図、第6図は本発明で適用され
る欠陥検出装置のパターンの欠陥検出部の平面
図、第7図はその移動装置の移動方向の説明図、
第8図ないし第12図は本発明の一実施例のブロ
ツク図、第13図は一実施例のタイミングチヤー
トである。 1……レーザ発振器、2……レーザビーム、3
……コリメータ、4……平行光、5……被検査
物、6……回折した光、7……フーリエ変換レン
ズ、8……空間周波数フイルタ、9……そのフイ
ルタ8を透過した光、10……逆フーリエ変換レ
ンズ、11……フオトデイテクタアレイ(スクリ
ーン)、12……光軸、13……単位フオトデイ
テクタ、14……スロツト、15……通常の欠
陥、16……縁肉部、20……増幅器、21……
2値化回路、22……サンプリング回路、32…
…記憶装置、33……アドレス発生装置、50…
…規則性パターン、5Y……縦方向縁部、5X…
…横方向縁部、61……駆動装置、62……パタ
ーン移動装置、63……Y位置信号発生装置、6
4……X位置信号発生装置、71〜74……パタ
ーン移動装置62の移動経路、81……マルチ欠
陥検出回路、82……縁部判別装置、83……欠
陥位置出力。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 レーザー光回析パターン空間周波数フイルタ
    リング方式を用いて単位開口の規則性配列でなる
    規則性パターン中の形状欠陥を検出する装置にお
    いて、 a 逆フーリエ変換面上に、単位フオトデイテク
    タを複数個一列に配列してなるフオトデイテク
    タアレイと、 b 前記規則性パターンを、光軸に直角な面内
    で、前記フオトデイテクタアレイと直角方向へ
    の等速移動と、平行方向へのフオトデイテクタ
    アレイの長さ分のピツチ送りを繰返して移動さ
    せる装置と、 c 前記フオトデイテクタアレイに入射する形状
    欠陥部光を並列検出するマルチ欠陥検出回路
    と、 d 前記等速移動とピツチ送りに従つて、前記規
    則性パターンの移動距離情報を出す装置と、 e 前記単位フオトデイテクタの前記等速移動方
    向に複数連続して発生する形状欠陥信号を、前
    記規則性パターンの縦方向縁部と判別し、前記
    等速移動方向と直角に連続した複数の単位フオ
    トデイテクタに同時に発生する形状欠陥信号を
    横方向縁部と判別して形状欠陥部と区別する回
    路と、 を具えることを特徴とする規則性パターンの欠陥
    検査装置。
JP56186738A 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 Granted JPS5887530A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56186738A JPS5887530A (ja) 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置

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JP56186738A JPS5887530A (ja) 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5887530A JPS5887530A (ja) 1983-05-25
JPS6410043B2 true JPS6410043B2 (ja) 1989-02-21

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ID=16193779

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JP56186738A Granted JPS5887530A (ja) 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH061875Y2 (ja) * 1985-04-26 1994-01-19 マツダ株式会社 自動車のリヤシ−ト装置
US4806774A (en) * 1987-06-08 1989-02-21 Insystems, Inc. Inspection system for array of microcircuit dies having redundant circuit patterns

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5887530A (ja) 1983-05-25

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