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JPS6410044B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6410044B2
JPS6410044B2 JP18673981A JP18673981A JPS6410044B2 JP S6410044 B2 JPS6410044 B2 JP S6410044B2 JP 18673981 A JP18673981 A JP 18673981A JP 18673981 A JP18673981 A JP 18673981A JP S6410044 B2 JPS6410044 B2 JP S6410044B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
photodetector
regular pattern
defect
photodetector array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP18673981A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5887531A (ja
Inventor
Shunsuke Mukasa
Kennosuke Sugizaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP56186739A priority Critical patent/JPS5887531A/ja
Publication of JPS5887531A publication Critical patent/JPS5887531A/ja
Publication of JPS6410044B2 publication Critical patent/JPS6410044B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95623Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、レーザー光回析パターン空間周波数
フイルタリング方式を用いて単位開口の規則性パ
ターン中の形状欠陥を検出する装置において、形
状欠陥を縁部と区別して検出する規則性パターン
の欠陥検査装置に関する。
メタルメツシユ等の単位開口の規則性配列パタ
ーンからなる工業製品は、一般に縁部は縁線によ
つて開口が途中から切られているため不規則な形
状の単位開口でつながつている。したがつて、レ
ーザー光回析パターン空間周波数フイルタリング
方式を用いた場合は、縁部はすべて欠陥形状とし
て検出されるため、通常の欠陥と区別しなければ
ならない。
しかしながら、規則性パターンの全領域にわた
つて複数連続した形状欠陥信号をパターンの縁部
とみなしてしまうと、パターンの縁部以外で発生
した連続した形状欠陥も縁部とみなし無視してし
まうため見落しが起こる。
このため、本発明は、パターンの縁部を判別す
べき領域を限定することにより、パターンの縁部
以外の連続した形状欠陥を見落さない規則性パタ
ーンの欠陥検査装置を提供することを、その目的
とする。
先ず、レーザー光回折パターン空間周波数フイ
ルタリング方式の基本構成を第1図により説明す
る。
レーザ発振器1を出たレーザビーム2は、コリ
メータ3によつて拡大された平行光4となつて被
検査物5に照射される。被検査物5はフーリエ変
換レンズ7の前焦点面に置かれてあり、後焦点面
上には被検査物5を通過する時に回折した光6に
よつて、被検査物5のフーリエ変換スペクトルが
現われる。しかして、フーリエ変換レンズ7の後
焦点面上には、被検査物5の正常パターン(フー
リエ変換レンズ7による)のフーリエ変換スペク
トル強度分布を記録したネガ写真フイルム、つま
り空間周波数フイルタ8が置かれており、被検査
物5のフーリエ変換スペクトルのうち、正常パタ
ーンに相当するスペクトルのみが空間周波数フイ
ルタ8によつて吸収され、欠陥パターンに相当す
るスペクトルは透過する。
ところで、この空間周波数フイルタ8は逆フー
リエ変換レンズ10の前焦点面上に設けられてい
るため、空間周波数フイルタ8を透過した光9は
逆フーリエ変換レンズ10によつて逆フーリエ変
換され、逆フーリエ変換レンズの後焦点面(逆フ
ーリエ変換面)上に置かれたスクリーン11に、
空間フイルタリングされた逆フーリエ変換像、す
なわち被検査物5の欠陥部分だけの像となつて現
われる。以上が空間フイルタリング方式の基本構
成である。
一方、第2図は矩形状の単位開口の規則的配列
で成るパターンの一例を示すものであり、かかる
パターンの欠陥はその大きさが予め決められた一
定値以上のものと定義される。しかして、第1図
で述べた空間フイルタリング方式を利用した欠陥
検査装置では、第3図A〜Dの欠陥部分D1〜D
4だけが、その欠陥面積に対応した明るさの点と
なつて再回折像面上に現われる。なお、第3図E
は正常なパターンを示している。
逆フーリエ変換面に現われる被検査パターン5
の逆像の欠陥部分だけの像は、第4図に示すよう
に、フオトデイテクタアレイ11によつて検出さ
れる。つまり、欠陥部分15だけ明るい点となつ
て現われフオトデイテクタアレイ11によつて検
出される。
ここにおいて、被検査パターン5を平行光4内
で光軸12に直角に平行移動してもフーリエ変換
の移行側により、フーリエ変換レンズ7の後焦点
面上に現われるフーリエ変換パターンに変化はな
い。したがつて、被検査パターン5を平行移動し
ても同様に、被検査パターン5のフーリエ変換ス
ペクトルのうち正常パターンに相当するスペクト
ルのみが空間フイルタ8によつて吸収され、欠陥
パターンに相当するスペクトルは透過する。かく
して、被検査パターン5の平行移動により逆フー
リエ変換像は光軸対称の逆方向に移動、つまり被
検査パターン5の逆像の欠陥部分だけの像が、光
軸12を挾んで被検査パターン5の移動方向と反
対の方向に逆フーリエ変換面上を移動する。
第1図において、被検査パターン5の移動方向
を紙面に直角な方向とし、逆フーリエ変換面上の
フオトデイテクタアレイ11の配列方向を紙面に
平行な方向とすれば、逆フーリエ変換面上を移動
する欠陥像はフオトデイテクタアレイ11を直角
に横切ることになり、欠陥像の出力信号として検
出される。
また、被検査パターン5の移動に伴ない、その
移動距離に関する情報を出力する装置を本欠陥検
査装置に設置することにより、被検査パターン中
において検出された欠陥の位置を知ることができ
る。例を挙げて説明すると、今、被検査パターン
の移動方向に直角な方向をX方向、平行な方向を
Y方向とすれば、X方向の欠陥位置成分は、逆フ
ーリエ変換面上において欠陥像が横切る単位フオ
トデイテクタのフオトデイテクタアレイ方向の位
置によつて検出でき、Y方向のそれは、被検査パ
ターンの固定台及び本体に位置スケール、さらに
高精度が要求される場合には回折格子のモアレ縞
を利用した位置変位検出装置等を設ける、あるい
は被検査パターンを移動させるためのモータ等の
駆動軸部分にロータリエンコーダを設ける、等の
手段によつて検出可能である。これら以外にも、
Y方向の欠陥位置成分は、被検査パターンが等速
移動するため移動開始時を起点として時間を計数
することによつても求めることができる。
フオトデイテクタアレイ11は矩形開口を持つ
複数の単位フオトデイテクタ13の配列で構成さ
れ、被検査パターンの移動により得られる出力信
号は欠陥の最大許容面積に相当したスレツシヨル
ド(threshold)を持つコンパレータ104によ
り2値化され、これにより欠陥検出が行なわれ
る。
以上の如くして、被検査パターンにおける欠陥
部分に対応する信号が得られる。
ところが、上記のような信号には、第5図に示
す規則性パターン50の外に縁内部16における
縦方向縁部5Yと、横方向縁部5Xが通常欠陥と
混在するので、本発明はこれを識別しようとする
ものである。
それには、第6図に表わすように規則性パター
ン50の存在する領域を領域指定線17で囲み、
この中で検出される形状欠陥は通常の欠陥と認定
するものである。
第7図は、本発明で適用される欠陥検査装置を
フオトデイテクタアレイ11側からみた平面図で
ある。説明をわかりやすくするためにフーリエ変
換レンズと空間周波数フイルタは省略してある。
フオトデイテクタアレイ11は固定され、パタ
ーン50を移動させるパターン移動装置72は、
駆動装置71によりY軸方向、X軸方向に移動さ
れ、それぞれのY位置、X位置は、Y位置発生装
置73、X位置信号発生装置74により求められ
る。
そしてパターン移動装置72は第8図に示すよ
うに、80から81まで等速移動してY軸を移動
させ、81から82までフオトデイテクタアレイ
11の伸長方向の長さだけX軸を移動(ピツチ送
り)させ、82から83はY軸を逆に等速移動し
て、これを繰返し、パターン50の全面をカバー
する。
第9図ないし第14図は本平明の一実施例のブ
ロツク図である。
本発明は、逆フーリエ変換面上の規則パターン
の縦方向縁部と横方向縁部が、単位フオトデイテ
クタを複数個一列に配列してなるフオトデイテク
タアレイで検出するとき、縦方向および横方向の
欠陥が連続して検出されることを利用した、縁部
と縁部でないつまり領域指定線内での連続しない
あるいは連続した通常欠陥とを区別する装置であ
る。
そこで、規則性パターン50を、光軸に直角な
面内で、フオトデイテクタアレイ11と直角(Y
軸)方向への等速移動と、平行(X軸)方向への
フオトデイテクタアレイの長さ分のピツチ送りを
繰返す。
フオトデイテクタアレイ11に入射する形状欠
陥部光は並列検出するマルチ検出回路91で検出
され、次に領域指定縁部判別回路92へ与えられ
る。
同時に、前記等速移動と前記ピツチ送りに従つ
て、規則性パターン50の移動距離情報がY位置
信号発生装置73とX位置信号発生装置74から
領域指定縁部判別回路92へ与えられる。
フオトデイテクタアレイ11に入射する形状欠
陥部光は、各々増幅器20によつて増幅され、2
値化回路21によつて形状欠陥の有無を表わす信
号に変換される。この信号は、前記等速移動と前
記ピツチ送りに従つてY位置信号発生装置73と
X位置信号発生装置74から発生される位置信号
と同期したクロツクパルスCKによつてサンプリ
ング回路22においてサンプルされ、第14図に
示すタイミングチヤートのDS1となる。
DS1からDS2へ至る間のゲート23は、領域
指定線17の外側においてのみ、X方向の同時発
生欠陥をX方向の縁部として無視するためのもの
であり、DS1と供にゲート23に与えられる信
号Gは、第11図に示す同時信号発生回路によつ
て作られる。
本実施例はX、Y両方向において連続3個以上
欠陥が現われた時に、それらが領域指定線17の
外側に存在する場合に限り、それらをX方向縁
部、Y方向縁部として無視するものであるため、
第12図に示す回路では、第11図において作り
出されたY方向領域指定信号AG1によつて、領
域外にフオトデイテクタアレイ11が存在する場
合に限り開かれるゲート24を通過した互いに隣
り合う3個の欠陥信号線DS1が同一のゲート2
5に接続され、さらにそれらは3個以上同時発生
した欠陥信号DS1すべてを消去するため、ゲー
ト26を経て第10図のゲート23へ与えられ
る。この効果によりタイミングチヤート(第15
図)に示した通り、DS1は指定領域外において
3個以上同時に発生した瞬間にゲート信号Gによ
つてブロツクされ、DS2となる。
ここで、領域指定信号AG1について説明す
る。(第11図2)本回路はコンパレータ36及
びゲート37により構成され、Y位置信号発生装
置73より出力される位置座標のY成分が、各々
のコンパレータに与えられたY方向の領域始端座
標及び領域終端座標と比較され、それらの間に存
在する場合に限りAG1が“1”になるように作
られている。
次にY方向に連続して発生した欠陥を指定領域
外に限りY方向縁部として無視する回路(第12
図)を説明する。本回路の動作については第14
図に指定領域外における各部Q1〜WRと、指定
領域内における結果(Q5′とWR′)の詳細なタ
イミングチヤートを示してあるので概要だけを述
べる。本回路はシフトレジスタを構成するフリツ
プフロツプ27と、連続3個の欠陥信号を検出し
た場合にそれらをクリアするためのゲート28及
びフリツプフロツプ29と、連続した3個の欠陥
に続く欠陥をも無視するためのフリツプフロツプ
30と、連続欠陥が途切れた時に本回路をリセツ
トするためのフリツプフロツプ31等によつて構
成される。さらに、各単一フオトデイテクタが指
定領域内にある時に限り、本回路を単なるシフト
レジスタにするゲート32が設けられている。本
回路の指定領域外における効果はタイミングチヤ
ートのQ5においてDS2(i)に存在した連続5個
の欠陥が消去されている部分に現われており、指
定領域内においてはQ5′に示すように上記連続
5個の欠陥がそのまま検出されている。
ここにおいてAG2(i)は各信号線について固有
の信号であり、第11図1の回路によつて発生さ
れる。本回路の動作は上記したAG1の発生方法
と同様であるが、X位置信号発生装置74はフオ
トデイテクタアレイ11の代表位置座標を出力す
るのみであり、各単位フイトデイテクタの固有の
座標を示すものではないため、単位フオトデイテ
クタ毎にX方向の領域始端座標及び終端座標を与
えなければならない。
以上説明した動作によつて、X、Y両方向縁部
が指定領域外に限つて識別された信号Q5,Q
5′に従つて、真の欠陥位置を記憶する部分が第
13図である。
クロツクパルスCKに同期したパルスWCKは、
Q5に欠陥信号が現われている時のみゲート33
を通過し、記憶装置34への書き込み信号WRと
なる。記憶装置34のデータラインにはX位置信
号発生装置74及びY位置信号発生装置73から
の信号が接続され、アドレスラインにはアドレス
発生装置35からのアドレス信号が与えられてい
る。アドレス発生装置35は、クロツクパルス
CKに同期しており、WR信号が発生した直後に
アドレス信号をカウントアツプするようになつて
いる。
かくして、本発明によれば、メタルメツシユ等
の開口規則性配列パターンの縁部が通常の欠陥と
完全に識別されるため、規則性パターンの欠陥検
査装置としての信頼性の向上と、検査能率の格段
の飛躍が認められる。
【図面の簡単な説明】
第1図は空間フイルタリング方式の基本構成
図、第2図は矩形状の単位開口の規則的配列で成
るパターンの一例を示す図、第3図A〜Eはパタ
ーンの欠陥、正常を表わす図、第4図は逆フーリ
エ変換面に現われる被検査パターンの逆像の欠陥
部分の像の説明図、第5図は被検査パターンの規
則性パターンの外に縁内部との間に介在する縦・
横方向縁部の説明図、第6図は領域指定の説明
図、第7図は本発明で適用される欠陥検出装置を
フオトデイテクタ側から見た平面図、第8図はそ
の移動装置の移動方向の説明図、第9図ないし第
14図は本発明の一実施例のブロツク図、第15
図は一実施例のタイミングチヤートである。 1……レーザ発振器、2……レーザビーム、3
……コリメータ、4……平行光、5……被検査
物、6……回折した光、7……フーリエ変換レン
ズ、8……空間周波数フイルタ、9……そのフイ
ルタ8を透過した光、10……逆フーリエ変換レ
ンズ、11……フオトデイテクタアレイ(スクリ
ーン)、12……光軸、13……単位フオトデイ
テクタ、14……スロツト、15……通常の欠
陥、16……縁内部、17……領域指定線、20
……増幅器、21……2値化回路、22……サン
プリング回路、34……記憶装置、35……アド
レス発生装置、36……コンパレータ、50……
規則性パターン、5Y……縦方向縁部、5X……
横方向縁部、71……駆動装置、72……パター
ン移動装置、73……Y位置信号発生装置、74
……X位置信号発生装置、81〜84……パター
ン移動装置72の移動経路、91……マルチ欠陥
検出回路、92……縁部判別装置、93……欠陥
位置出力、101……レーザ光、102……光−
電気変換器、103……電気信号、104……コ
ンパレータ、105……2値化信号。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 レーザー光回折パターン空間周波数フイルタ
    リング方式を用いて単位開口の規則性配列で成る
    規則性パターン中の形状欠陥を検出する装置にお
    いて、 a 逆フーリエ変換面上に、単位フオトデイテク
    タを複数個一列に配列して成るフオトデイテク
    タアレイと、 b 前記規則性パターンを光軸に直角な面内で、
    前記フオトデイテクタアレイと直角方向への等
    速移動と、平行方向へのフオトデイテクタアレ
    イの長さ分のピツチ送りを繰返して移動させる
    装置と、 c 前記フオトデイテクタアレイに入射する形状
    欠陥部光を並列検出するマルチ欠陥検出回路
    と、 d 前記等速移動とピツチ送りに従つて、前記規
    則性パターンの移動距離情報を出力する装置
    と、 e 前記規則性パターンの縁部より内側の領域に
    領域指定線を設け、この領域指定線の外側にて
    前記単位フオトデイテクタの前記等速移動方向
    に複数連続して発生する形状欠陥信号を、前記
    規則性パターンの縦方向縁部と判別し、前記等
    速移動方向と直角に連続した複数の単位フオト
    デイテクタに同時に発生する形状欠陥信号を横
    方向縁部と判別して形状欠陥部と区別し、この
    領域指定線の内側にて発生する形状欠陥信号を
    すべて形状欠陥部と判別する回路と を具えることを特徴とする規則性パターンの欠陥
    検査装置。
JP56186739A 1981-11-20 1981-11-20 規則性パタ−ンの欠陥検査装置 Granted JPS5887531A (ja)

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JPS5887531A JPS5887531A (ja) 1983-05-25
JPS6410044B2 true JPS6410044B2 (ja) 1989-02-21

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007033263A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Nagasaki Univ 微小凹面形状の形状誤差機上計測方法および計測装置
JP2008000248A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Yamazaki Corp 清掃具

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JPS5887531A (ja) 1983-05-25

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