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JPS5838468B2 - キノフタロンケイカゴウブツ ノ セイゾウホウ - Google Patents

キノフタロンケイカゴウブツ ノ セイゾウホウ

Info

Publication number
JPS5838468B2
JPS5838468B2 JP10342974A JP10342974A JPS5838468B2 JP S5838468 B2 JPS5838468 B2 JP S5838468B2 JP 10342974 A JP10342974 A JP 10342974A JP 10342974 A JP10342974 A JP 10342974A JP S5838468 B2 JPS5838468 B2 JP S5838468B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parts
group
naphthalene
product
dicarboxylic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10342974A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5130827A (ja
Inventor
謙三 小西
賢 松岡
弟次郎 北尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP10342974A priority Critical patent/JPS5838468B2/ja
Publication of JPS5130827A publication Critical patent/JPS5130827A/ja
Publication of JPS5838468B2 publication Critical patent/JPS5838468B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な化合物であるキノフタロン系化合物の製
造法である。
更に詳しくは、特に耐光性・耐熱性にすぐれた顔料とし
て用いるに好適なキノフタロン系化合物の製造法である
従来、キノフタロン系化合物として多くの化合物が知ら
れているが、顔料として用いるに好適な特に耐光性、耐
熱性のすぐれた化合物はあまり知**られていない。
すなわち、例えば、下記式(IV) 〔式中、Yはハロゲン原子、X、Xl、X2は水素原子
又はハロゲン原子、nは1〜4の整数〕で表わされるキ
ノフタロン系化合物が提案されている(特開昭48−3
0,736号公報、特開昭48−32,916号公報参
照)が、それでもなお耐熱性が必ずしも充分とは云えず
、耐熱性を充分にするには更にハロゲン化することが必
要であった。
本発明者は、かかる欠点を解決した耐熱性、色調のすぐ
れた更に耐熱性も向上したキノフタロン系化合物を提供
する方法を鋭意研究した結果、上記式〔■〕で示される
新規化合物を工業的に有利に製造する方法を究明し、本
発明に到達したものである。
すなわち、本発明は、 下記式(I) 〔式中、Aはイオン化しない置換基により置換されてい
ても良く、2個のカルボニル基(1および2)のオルト
位又はぺり位で結合しているフェニレン基又はナフチレ
ン基、Xはイオン化しない置換基、nはO〜3の整数〕 で表わされるナフタレン−2,3−ジカルボン酸類又は
その2,3−ジカルボン酸無水物類を、下記式(It) ※ 〔式中、Rは水素原子、カルボキシル基又はハロゲン原
子、Yはイオン化しない置換基、mは1〜4の整数〕 で表わされるキノリン誘導体と加熱反応させ、所望によ
り更にハロゲン化することを特徴とする下記式CIII
) 〔式中、A、X、Y、mおよびnは上式に同じ、R′は
水素原子又はハロゲン原子、〕 で表わされるキノフタロン系化合物又は更にハロゲン化
されたキノフタロン系化合物の製造法である。
本発明方法において用いられるナフタレン−2゜3−ジ
カルボン酸類又はその2,3−ジカルボン酸無水物類は
上記式〔■〕で表わされるものである。
式中、Aはイオン化しない置換基により置換されていて
も良く、また、イミド環を形成している2個のカルボニ
ル基(式では1および2の番号が付しである)とオルト
位又はぺり位で結合しているフェニレン基又はナフチレ
ン基であり、Xはイオン化しない置換基、nはO〜3の
整数である。
イオン化しない置換基とは、例えば、カルボン酸基、ス
ルホン酸基の如きアルカリと反応して水溶性の塩を形成
するような基ではないことを表わすものであり、具体的
には、塩素、臭素の如きハロゲン原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基の如きアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基の如きアルコキシ基、フェニル基、ト
リル基の如きアリル基、ベンゾイル基、アセチル基の如
きアシル基等を好ましいものとしてあげることができる
かかる化合物の具体例としては、例えば、およびこれら
化合物のフタルイミド基あるいはナフトイルイミド基を
構成するベンゼン環またはナフタレン環が1〜4個のハ
ロゲン原子、特に塩素又は臭素原子により置換されたも
のに相当する化合物、 および、これら化合物のフタルイミド基又はナフトイル
イミド基を構成するベンゼン環またはナフタレン環が1
〜4個のハロゲン原子特に塩素又は臭素原子により置換
されたものに相当する化合物、およびこれら化合物のフ
タルイミド基又はナフトイルイミド基を構成するベンゼ
ン環またはナフタレン環が1〜4個のハロゲン原子、特
に塩素又は臭素原子により置換されたものに相当する化
合物、更には上記各式に表わされる化合物の臭素原子(
すなわち、2,3−ナフタレンジカルボン酸部位の臭素
原子)が塩素原子により置換された化合物等をあげるこ
とができる。
これらの化合物は、5アミノ−または6アミノー2,3
−ナフタレンジカルボン酸、或はこれらのハロゲン化誘
導体と、無水フタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン
酸無水物、L2−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,
8−ナフタル酸無水物或はこれらのハロゲン化誘導体と
を加熱反応させ、所望により更にハロゲン化することに
より合成することができる。
また、本発明方法において用いられるキノリン誘導体と
しては、例えば、3−オキシキナルジン、3−オキシキ
ナルジン−4−カルボン酸、3−オキシ−4−ブロムキ
ナルジン、3−オキシ−4−クロルキナルジン、3−オ
キシ−6−ブロムキナルジン、3−オキシ−6−クロル
キナルジン、3−オキシ−8−ブロムキナルジン、3−
オキシ−8−クロルキナルジン、3−オキシ−4,6−
ジブロムキナルジン、3−オキシ−6,8−ジブロムキ
ナルジン、3−オキシ−4−ブロム−6−クロルキナル
ジン、3−オキシ−6,8−ジクロルキナルジン、3−
オキシ−6−プロムキナルジンー4−カルボン酸、3−
オキシ−6,7−ジクロルキナルジン、3−オキシ−5
,6−ジクロルキナルジン等を好ましいものとしてあげ
られる。
本発明の反応は溶媒の存在下または不存在下で行うこと
ができる。
溶媒の存在下で反応を行う場合、用いられる溶媒として
は、反応に不活性な有機溶媒例えば、ニトロベンゼン、
O−ニトロトルエン、O−ジクロベンゼン、トリクロル
ベンゼン、トリメチルベンゼン、デカリン、テトラリン
、クロルナフタレン、N−メチルピロリドン、ジメチル
アセトアミド等が用いられる。
使用される量は反応物に対して2〜20重量倍で良く、
更に大量の溶媒を用いても良いが反応後の溶媒の回収等
の点から好ましくは3〜15重量倍でよい。
また、上記式〔I〕で表わされるイミド化ナフタレン−
2,3−ジカルボン酸類またはその2,3−ジカルボン
酸無水物と上記式(II)で表わされるキノリン誘導体
の使用割合は、如何なる範囲でも行なわれ得るが、キノ
リン誘導体がナフタレンジカルボン酸誘導体又はその無
水物に比して分解しやすいのでキノリン誘導体を効率よ
く反応させるためには、ナフタレン−2,3−ジカルボ
ン酸誘導体又はその無水物を過剰に用いた方が良い。
例えば、キノリン誘導体に対して2〜20モル倍の量が
使用される。
反応は100〜300℃の温度範囲で行われうるが、好
ましくは160〜260℃の範囲が良い。
反応は原料混合物を上記溶媒の存在下或は不存在下で、
適当な温度でただ加熱するだけでも進行するが、一層効
果的に行うために、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、沸化
ホウ素−エーテル錯体等の触媒を加えて行うこともでき
る。
以上詳述した通り、本発明によれば、新規化合物である
キノフタロン系化合物が極めて容易に製造し得、しかも
これらの化合物はすぐれた耐熱性と色調とを有している
ため特に顔料として有用な化合物を提供しうるものであ
り、その効果は犬である。
以下、実施例により本発明方法を詳述する。
実施例中「部」は「重量部」を表わしている。
実施例 1 (1)ナフタレン−2,3−ジカルボン酸20fを比重
1.42の硝酸60ydに室温で加え、100℃に1時
間保持した。
後、水を加え濾過水洗乾燥して淡黄色の粗製化合物23
1(収率97φ)を得た。
氷酢酸より再結晶して、融点238℃の淡黄色プリズム
晶の5−ニトロ−2,3−ナフタレンジカルボン酸を得
た。
(2) 5−ニトロ−2,3−ナフタレンジカルボン
酸14グをアンモニア水(28%アンモニア水100r
nlに水300−を加えたもの)に溶解し、これに結晶
性硫酸第1鉄1221を水200rrllに溶解した熱
溶液を加え、スチームバスで30分間加熱した。
後、生成物を熱時濾過し、ろ液に氷酢酸50rrllを
加え12時間放置し、析出した沈澱を炉取、水洗更に乾
燥し8.6f(収率69.7%)の粗製化合物を得た。
75φの酢酸より再結晶を行い融点360℃以上で下記
の如き元素分析値を示す5−アミノ−2,3−ナフタレ
ンジカルボン酸を得た。
CHN 理論値(至) 62.30 3.90 6.06
実測値帆 61.35 4.01 5.69(3
)上記(2)の如くして製造した5−アミノ−2,3−
ナフタレンジカルボン酸9.2 P (0,04モル)
と無水フタル酸6f(0,04モル)を氷酢酸に溶解し
2時間加熱還流した。
後、氷水中に注入し析出した沈澱を泗取、水洗更に乾燥
して81(収率56φ)の粗製化合物を得た。
これを65咎の氷酢酸から再結晶して融点300℃以上
の5−フタルイミノ−ナフタレン−2,3−yカルボン
酸を得た。
また、上記(1)〜(3)の工程と同様にして表−1に
示した如き種々のイミノ化ナフタレン−2,3−ジカル
ボン酸類を合成した。
収率、融点、元素分析値を表−1に合せて示した。
また、これらの2,3−ジカルボン酸無水物類は相当す
る2、3−ジカルボン酸類を無水酢酸中で1時間加熱還
流することにより製造した。
(4)5−フタルイミノナフタレン−2,3−ジカルボ
ン酸無水物11部と2−メチル−3−オキシキノリン−
4−カルボン酸6.2部をニトロベンゼン60部中で6
時間還流下に加熱後冷却し、*水蒸気蒸留により溶媒を
留去した。
沈澱を炉取しエタノールで洗浄後乾燥して下記構造を有
する黄色生成物7.0部を得た。
キシレンより再結晶した生成物の融点は示差熱分析(D
TA)によると488℃であった。
元素分析値は下記表−2の通りで計算値とはシ一致した
又、このものはジメチルホルムアミド (DMF)中での最大吸収波長462mμを示した。
このものは微粉砕することによりそのまま着色顔料とし
て使用することが出来るが、更にこれを硫酸に溶解させ
て氷水中に投入し再沈澱させて水洗することにより顔料
化した。
この顔料は耐光性、耐熱性、耐薬品性にすぐれており印
刷インク塗料、プラスチックス等の着色に適するもので
あった。
実施例 2 5−(2,3’−ナフタルイミノ)ナフタレン−2,3
−ジカルボン酸無水物12.7部と2−メチル−3−オ
キシキノリン−4−カルボン酸6.2部とをニトロベン
ゼン60部中で6時間還流下に加熱後冷却し、水蒸気蒸
留により溶媒を留去した。
沈澱を炉取しエタノールで洗浄後乾燥して下記構造を有
する黄色生成物8.3部を得た。
N−メチルピロリドンで再結晶した生成物の融点は36
0℃以上であった。
又、DMF中での最大吸収波長は462mμであった。
元素分析値は下記表−3の通りで計算値とほぼ一致した
実施例 3 5−テトラブロムフタルイミノ−ナフタレン−2,3−
ジカルボン酸無水物21.0部と2−メチル−3−オキ
シキノリン−4−カルボン酸6.2部をトリクロロベン
ゼン100部中で8時間還流下に加熱後冷却して生成す
る沈澱を枦取しエタノールで洗浄後乾燥して下記の構造
式を有する生成物12.3部を得た。
トリクロルベンゼンで熱時洗浄して精製した生成物の融
点は360℃以上であった。
DMF中での最大吸収波長は464mμであった。
元素分析値は下記表−4の通りで計算値とほぼ一致した
実施例 4 5−テトラクロルフタルイミノ−ナフタレン−2,3−
ジカルボン酸無水物15.4部と2−メチル−3−オキ
シキノリン−4−カルボン酸6.2部をトリクロルベン
ゼン100部中で8時間還流下に加熱後冷却して生成す
る沈澱を炉取しエタノールで洗浄後乾燥して下記の構造
式を有する生成物10.2部を得た。
トリクロルベンゼンで熱時洗浄して精製した生成物の融
点はDTAによると430℃であった。
又、DMF中での最大吸収波長は462mμであづた。
元素分析値は下記表−5の通りで計算値とはシ一致した
実施例 5 5−(5’ 、 8’−ジブロモナフタルイミノ)ナフ
タレン−2,3−ジカルボン酸無水物20部と2−メチ
ル−3−オキシキノリン−4−カルボン酸6.2部をニ
トロベンゼン100部中で8時間還流下に加熱後冷却し
て生成する沈澱を炉取し、エタノールで洗浄して下記の
構造式を有する生成物14部を得た。
融点はDTAによると442℃であった。
入DMF中での最大吸収波長は462mμであった。
元素分析値は下記表−6の通りで計算値とはV 一実施
例 6 5−(5’、6’、7’、8’−テトラブロモナフタル
イミノ)ナフタレン−2,3−ジカルボン酸無水物50
部と2−メチル−3−オキシキノリン−4−カルボン酸
7部とをニトロベンゼン150部中で8時間還流下に加
熱したのち、冷却して生成する沈澱を炉取し、エタノー
ルで洗浄して下記の構造式を有する生成物20部を得た
このものの融点はDTAによると500℃以上であった
又、DMF中での最大吸収波長は467mμであった0
元素分析値は下記表−7の通りで計算値とはシ一致した
実施例 7 5−(1’ 、 2’−ナフタルイミノ)ナフタレン−
2,3−ジカルボン酸無水物12.7部と2−メチル−
3−オキシキノリン−4−カルボン酸6.2部ヲ二トロ
ベンゼン60部中で6時間還流下に加熱後冷却し生成す
る沈澱を炉取し、エタノールで洗浄後乾燥して下記構造
を有する融点360℃以上の黄色生成物7.7部を得た
元素分析値は下記表−8の通りで計算値とほぼ一致した
実施例 ※ 5−(1’ 、 8’−ナフタルイミノ)−ナフタ
レン−2,3−ジカルボン酸無水物12,7部と2−メ
チル−3−オキシキノリン−4−カルボン酸6.2部を
ニトロベンゼン60部中で6時間還流下に加熱後冷却し
生成する沈澱を炉取し、エタノールで洗浄後乾燥して下
記構造を有する融点360℃以上の黄色生成物7.5部
を得た。
元素分析値は下記表−9の通りで計算値とほぼ一致した
実施例 9 実施例1(4)の方法で得られた生成物1−0部と〇−
ジクロルベンゼン100部を混合して160℃に加熱し
攪拌しながら臭素6.4部を滴加した。
添加終了後更に2時間反応させたのち冷却し、生成物を
濾過してエタノールで洗浄後乾燥して下記構造式を有す
る融点360℃以上の黄色生成物12部を得た。
元素分析値は表−10に示す通りで計算値とほぼ一致し
た。
実施例 10 8−ブロム−5−(2’ 、 3’−ナフタルイミノ)
−ナフタレン−2,3−ジカルボン酸無水物25部と2
−メチル−3−オキシキノリン−4−カルボン酸10部
をデカリン中で20時間還流下加熱後冷却して生成する
沈澱を炉別し、エタノールで洗浄後乾燥して融点360
℃以上の下記構造式で表わされる黄色生成物12部を得
た。
元素分析値は下記表−11の通りで計算値とほぼ一致し
た。
実施例 11 5−(2’、3’−ナフタルイミノ)−ナフタレン−2
,3−ジカルボン酸無水物20部と6−ブロム−2−メ
チル−3−オキシキノリン−4−カルボン酸9部をデカ
リン中で20時間還流下加熱後冷却して生成する沈澱を
炉別し、エタノールで洗浄後乾燥して融点360℃以上
の下記構造式で示される黄色生成物9部を得た。
元素分析値は下記表−12の通り計算値とほぼ一致した
実施例 12 8−ブロム−5−(2’ 、3’−ナフタルイミノ)−
ナフタレンー2,3−ジカルボン酸無水物20部と6−
ブロム−2−メチル−3−オキシキノリン−4−カルボ
ン酸10部をデカリン中で20時間還流下に加熱したの
ち冷却して生成する沈澱を炉別しエタノールで洗浄後乾
燥して融点360℃以上の下記式で示される黄色生成物
11部を得た。
元素分析値は下記表 一致した。
13の通りで計算値とほぼ 実施例 13 5−(5’、8’−ジブロモナフタルイミノ)−ナフタ
レン−2,3−ジカルボン酸無水物30部と2.6−シ
メチルー3−オキシキノリン−4−カルボン酸10部を
ニトロベンゼン中で8時間還流下に加熱後冷却して、生
成する沈澱を炉取し、エタノールで洗浄して下記の構造
を有する融点360℃以上の黄色生成物15部を得た。
元素分析値は下記表−14の通りで計算値とほぼ一致し
た。
実施例2〜13で得られた生成物は微粉砕することによ
りそのま\着色剤として使用することが出来るが、更に
これを硫酸に溶解させて氷水中に投入することにより再
沈澱させ水洗して顔料化される。
尚、実施例7〜13で得られた生成物の最大吸収波長は
、以下、 実施例7の生成物 462 nm実施例8の
生成物 463 nm実施例9の生成物
465 nm実施例10の生成物 4
63 nm実施例11の生成物 465 nm
実施例12の生成物 466 nm実施例13
の生成物 463 nmの通りである。
この顔料は耐光性、耐熱仏耐薬品性にすぐれており印刷
インク、塗料、プラスチックスの着色に適することも明
らかとなった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記式(I) * 〔式中、Aはハロゲン原子により置換されていても
    よく、2個のカルボニル基(1および2)のオルト位又
    はぺり位で結合しているフェニレン基又はナフチレン基
    、Xはハロゲン原子、nはO〜3の整数〕 で表わされるナフタレン−2,3−ジカルボン酸類又は
    その2,3−ジカルボン酸無水物類を、下記式(II) 〔式中、Rは水素原子、カルボキシル基又はハ5 ロゲ
    ン原子、Yはハロゲン原子又は低級アルキル基、mは1
    〜4の整数〕 で表わされるキノリン誘導体と加熱反応させ、所望によ
    り更にハロゲン化することを特徴とする下記式(I[) 〔式中、A、X、Y、mおよびnは上式に同じ、R′は
    水素原子又はハロゲン原子、〕 で表わされるキノフタロン系化合物又は更にハロゲン化
    されたキノフタロン系化合物の製造法。
JP10342974A 1974-09-10 1974-09-10 キノフタロンケイカゴウブツ ノ セイゾウホウ Expired JPS5838468B2 (ja)

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