JPS58151180A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
- Publication number
- JPS58151180A JPS58151180A JP57032468A JP3246882A JPS58151180A JP S58151180 A JPS58151180 A JP S58151180A JP 57032468 A JP57032468 A JP 57032468A JP 3246882 A JP3246882 A JP 3246882A JP S58151180 A JPS58151180 A JP S58151180A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- mo8t
- ctd
- transfer
- potential
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 title 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 13
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 241000272814 Anser sp. Species 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- AMHIJMKZPBMCKI-PKLGAXGESA-N ctds Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H]2O[C@H](COS(O)(=O)=O)[C@H]1O[C@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@H](CO)[C@H]1O[C@@H](O[C@@H]1CO)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H]1O[C@@H](O[C@@H]1CO)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H]1O[C@@H](O[C@@H]1CO)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H]1O[C@@H](O[C@@H]1CO)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H]1O[C@@H](O[C@@H]1CO)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@@H]1O2 AMHIJMKZPBMCKI-PKLGAXGESA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光ダイオードと絶縁ゲート型電界効果トラン
ジスタ(以下、MO8T)からなる画素のアレー〇垂直
走査管シフトレジスタで行ない、水平走査を電荷転送素
子(CTD)で行なう方式の二次元固体撮僧装置に関す
る。
ジスタ(以下、MO8T)からなる画素のアレー〇垂直
走査管シフトレジスタで行ない、水平走査を電荷転送素
子(CTD)で行なう方式の二次元固体撮僧装置に関す
る。
固体撮倫装置は、従来、絶縁ゲート電界効果トランジス
タ(以下本明細書においては、MO8Tと称する。)を
用いるMO8方式と、電荷転送素子(以下本明細書にお
いてi、CTDと略称する。)を用いるCTD方式の2
穐類が知られている。
タ(以下本明細書においては、MO8Tと称する。)を
用いるMO8方式と、電荷転送素子(以下本明細書にお
いてi、CTDと略称する。)を用いるCTD方式の2
穐類が知られている。
前者は後者に較べて元の利用率が高く、信号電荷量も多
いが、読出しの際の雑音が大きいなど、それぞれ一長一
短を有している。
いが、読出しの際の雑音が大きいなど、それぞれ一長一
短を有している。
この二つの方式の長所を兼ね備えた固体撮偉装置として
、第1図に示すような、受光部にMO8方式を、読出し
レジスタにCTD方式を用いた固体撮儂装置が提案され
ている。
、第1図に示すような、受光部にMO8方式を、読出し
レジスタにCTD方式を用いた固体撮儂装置が提案され
ている。
第1図は受光部にホトダイオード−アレー、読出しレジ
スタCTD=i有する。従来の固体撮儂装置の1例の回
路模式図を示す。第1図において、11はCTDの入力
部、12は出力部、13は電荷転送部である。14はホ
トダイオード、15は垂直スイッチ用MO8T、16は
垂直信号線、17は垂直走査回路、18は転送ゲートで
ある。
スタCTD=i有する。従来の固体撮儂装置の1例の回
路模式図を示す。第1図において、11はCTDの入力
部、12は出力部、13は電荷転送部である。14はホ
トダイオード、15は垂直スイッチ用MO8T、16は
垂直信号線、17は垂直走査回路、18は転送ゲートで
ある。
この装置において転垂直信号線16の信号電荷は水平グ
ラ/キング期間内にCTDへ転送される。水平ブランキ
ング期間に入いり、ある垂直ゲ−HlI 0(7)を位
が高レベルになると、ある行のホトダイオードの信号電
荷はそれぞれの垂直信号線16へ移る。ついで、転送ゲ
ー)18(TX)およびCTDの移送ノ(ルスが高レベ
ルになると。
ラ/キング期間内にCTDへ転送される。水平ブランキ
ング期間に入いり、ある垂直ゲ−HlI 0(7)を位
が高レベルになると、ある行のホトダイオードの信号電
荷はそれぞれの垂直信号線16へ移る。ついで、転送ゲ
ー)18(TX)およびCTDの移送ノ(ルスが高レベ
ルになると。
垂直信号線にある信号電荷はCTDに向って流れる。移
送の最終時点において、垂直信号線16は式(1)で定
義される電位Vcにクランプされる。
送の最終時点において、垂直信号線16は式(1)で定
義される電位Vcにクランプされる。
Vc =Vt−Vtb (TX) ・・”・=・
(1)ここで、Vti転送ゲー)TXの高レベルの電圧
、V tk(TX ) n基板バイアス効果も含め、転
送ゲ−)TXの実効閾電圧を意味する。
(1)ここで、Vti転送ゲー)TXの高レベルの電圧
、V tk(TX ) n基板バイアス効果も含め、転
送ゲ−)TXの実効閾電圧を意味する。
この従来例においては、MOS型とCTD型の長所を組
み合わせた装置として優れた性能が期待された。しかし
ながら、実際には下記の理由から極めて不十分な性能し
か得られない。
み合わせた装置として優れた性能が期待された。しかし
ながら、実際には下記の理由から極めて不十分な性能し
か得られない。
垂直信号線のクランプ電位を決める転送ゲートの高レベ
ルの電圧のゆらぎによって式(2)で表わされるランダ
ム雑音が生じる。
ルの電圧のゆらぎによって式(2)で表わされるランダ
ム雑音が生じる。
<q”> = −8,(0)Cv”/l −・・・・・
・・・(2)ここで、S、(O)Uクロックのゆらぎの
パワー・スペクトラム、Cvld垂直信号線の静電容量
、tは転送時間を表わす。
・・・(2)ここで、S、(O)Uクロックのゆらぎの
パワー・スペクトラム、Cvld垂直信号線の静電容量
、tは転送時間を表わす。
例えば1通例のパルス駆動法においては、FフO)−=
0.7μV/μl” (1skH,で10V振幅t
とつ7’c時O8/N=100 dB11度で、Cv
=1.6 pF% t=2μ8eoとすると、電流値に
して12nA程度の雑音値となる。
0.7μV/μl” (1skH,で10V振幅t
とつ7’c時O8/N=100 dB11度で、Cv
=1.6 pF% t=2μ8eoとすると、電流値に
して12nA程度の雑音値となる。
この雑音を低減するには、垂直信号線のクランプ電位を
決める転送ゲートのスイッチ・オン時の電圧のゆらぎを
減少させなければならない。
決める転送ゲートのスイッチ・オン時の電圧のゆらぎを
減少させなければならない。
受光部にホトダイオード参アレー、読出しレジスタにC
TDを用いた固体撮倫装置の他の従来例として、実開昭
56−78364に、第2図に示すようなブルーミング
防止回路性の装置が提案されている。第2図において、
21A、21BはCTDの入力部、22A、22Bは出
力部、23A。
TDを用いた固体撮倫装置の他の従来例として、実開昭
56−78364に、第2図に示すようなブルーミング
防止回路性の装置が提案されている。第2図において、
21A、21BはCTDの入力部、22A、22Bは出
力部、23A。
23Bは電荷転送部である。24はホトダイオード、2
5は垂直スイッチMO8T、26は垂直信号線、27は
垂直走査回路、28A、28Bは第1転送ゲート、29
A、29Bは第2転送ゲート、30A、30Bはブルー
ミング防止回路である。
5は垂直スイッチMO8T、26は垂直信号線、27は
垂直走査回路、28A、28Bは第1転送ゲート、29
A、29Bは第2転送ゲート、30A、30Bはブルー
ミング防止回路である。
この装置の動作全以下に説明する。第3図は第2図の固
体撮偉装置の各パルスのタイミング・チャートである。
体撮偉装置の各パルスのタイミング・チャートである。
水平走査期間にCTDが動作し、各信号を出力段へ転送
すると同時に、入力部から一定のバイアス電荷を11次
転送してきて、水平走査期間の終りには信号が全て読み
出されているとともに、 CTDの各段には一定量の電
荷CGが存在している状態となる。
すると同時に、入力部から一定のバイアス電荷を11次
転送してきて、水平走査期間の終りには信号が全て読み
出されているとともに、 CTDの各段には一定量の電
荷CGが存在している状態となる。
水平ブランキング期間に入り、ますAチャネルの動作が
開始される。図のTX2とBLG−が高レベルに、BL
Dが低レベルになると、BLDからの電荷が垂直信号線
へ流入する。その後、BLDを高レベルにすると、逆に
垂直信号線から電荷がBLDへ流出し、垂直信号線は次
式で示される電位Vvcにクランプされ、電荷の流出は
止まる。
開始される。図のTX2とBLG−が高レベルに、BL
Dが低レベルになると、BLDからの電荷が垂直信号線
へ流入する。その後、BLDを高レベルにすると、逆に
垂直信号線から電荷がBLDへ流出し、垂直信号線は次
式で示される電位Vvcにクランプされ、電荷の流出は
止まる。
Vvc = Vrx@ V@htx@−−0−(3)
ここでb Vtx* 1Vthtx2 UそれぞれT
X2の高レベル電圧、TX2ゲー) (29)の基板バ
イアス効果を含む実効閾電圧である。
ここでb Vtx* 1Vthtx2 UそれぞれT
X2の高レベル電圧、TX2ゲー) (29)の基板バ
イアス効果を含む実効閾電圧である。
BLGが低レベルになり、以下の動作ではBLGとBL
Dは関与しない。つぎに、TXIが高レベルとなり、C
TDの移送パルスであるHlを低レベルにすると、CT
Dの入力部から送られてきた各バイアス電荷CGがそれ
ぞれの垂直信号線へ転送される。この、Hlが低レベル
のとき、電荷がCTDの隣の電極へ移送しないように、
各電位関係を設定しておく必要がある。具体的にU、C
TDチャネルの閾電圧、転送ゲー)TXIの閾電圧、C
TI)の移送パルスH2の低レベル、転送パルスTXI
の高レベルをそれぞれVthc、VthtxI。
Dは関与しない。つぎに、TXIが高レベルとなり、C
TDの移送パルスであるHlを低レベルにすると、CT
Dの入力部から送られてきた各バイアス電荷CGがそれ
ぞれの垂直信号線へ転送される。この、Hlが低レベル
のとき、電荷がCTDの隣の電極へ移送しないように、
各電位関係を設定しておく必要がある。具体的にU、C
TDチャネルの閾電圧、転送ゲー)TXIの閾電圧、C
TI)の移送パルスH2の低レベル、転送パルスTXI
の高レベルをそれぞれVthc、VthtxI。
HlL 、 Vtxl とすると、
V?X1 −Vtbtxl ’;2H@t、 −V
*hc ”・・ (4)であればよい。
*hc ”・・ (4)であればよい。
この時、ある垂直ゲート線(第2図の20)の電位Vt
Oが高レベルにすると、ある行のホトダイオードの信号
電荷は、それぞれの垂直信号線へ移り、C’l’Dから
のバイアス電荷と混合する。
Oが高レベルにすると、ある行のホトダイオードの信号
電荷は、それぞれの垂直信号線へ移り、C’l’Dから
のバイアス電荷と混合する。
つぎに、CTDの移送パルスH1を高レベルにすると、
垂直信号線にあるバイアス電荷と信号電荷が、垂直信号
線が式(3)のVvcになるまで、 CTDへ流れる。
垂直信号線にあるバイアス電荷と信号電荷が、垂直信号
線が式(3)のVvcになるまで、 CTDへ流れる。
転送パルスTXIを低レベルにすると、垂直信号線とC
TDfl電気的に切れるが、この時CTDには1元あっ
たバイアス電荷に加え、ホトダイオードからの信号電荷
もあることになる。
TDfl電気的に切れるが、この時CTDには1元あっ
たバイアス電荷に加え、ホトダイオードからの信号電荷
もあることになる。
以上AチャネルのCTDKn行目の信号を入れる動作を
示したが、同じ水平ブランキング期間の後半にもう一方
のBチャネルCTDに(n+1)行目の信号を移すAチ
ャネルと同じ動作が行なわれる。そして、水平走査期間
にA、B両チャネルのCTDが動作し、2行の信号が二
つの出力段から順次読みぬされるととKなる。この方式
によV。
示したが、同じ水平ブランキング期間の後半にもう一方
のBチャネルCTDに(n+1)行目の信号を移すAチ
ャネルと同じ動作が行なわれる。そして、水平走査期間
にA、B両チャネルのCTDが動作し、2行の信号が二
つの出力段から順次読みぬされるととKなる。この方式
によV。
2行同時読み出し方式の固体撮偉装置となる。もちろん
、Aチャネルのみを設ければ、1行読み出し方式の固体
撮儂装置となる。
、Aチャネルのみを設ければ、1行読み出し方式の固体
撮儂装置となる。
この従来例においては、信号を読み出す前に、BLDと
BLGの動作により各垂直信号線の電位の各チャネルご
とに式(3)で示されるクランプ電位に設定することに
よ、9.10mV〜100mVのAチャネルの第2転送
ゲートとBチャネルの第2転送ゲートの閾値電圧のばら
つき、および各垂直信号線ごとの閾値電圧のばらつきの
悪影響をなくし、MOS型とCTD型の長所を組み合わ
せた装置として優れた特性が期待された。しかし、実際
には、第1図の従来例と同様に、第2転送ゲートのパル
ス駆動により生じるランダム雑音により。
BLGの動作により各垂直信号線の電位の各チャネルご
とに式(3)で示されるクランプ電位に設定することに
よ、9.10mV〜100mVのAチャネルの第2転送
ゲートとBチャネルの第2転送ゲートの閾値電圧のばら
つき、および各垂直信号線ごとの閾値電圧のばらつきの
悪影響をなくし、MOS型とCTD型の長所を組み合わ
せた装置として優れた特性が期待された。しかし、実際
には、第1図の従来例と同様に、第2転送ゲートのパル
ス駆動により生じるランダム雑音により。
十分な特性は得られない。
そこで、これを改善するために、信号読出し用CTDと
垂直信号線の間にある転送ゲートに、垂直信号線のクラ
ンプ・レベルを決めるクランプゲートが直列に接続され
、クランプゲートは直流駆動、転送ゲートはパルス駆動
され、直流動作をしているMO8Tが垂直信号線のクラ
ンプ・レベルを決めるように電位関係が定められる固体
撮儂装置が提案された。(実願昭56−53744.実
願昭56−74584ン 第4図はその回路模式図である。第4図において、11
から18までは第1図の同じ引用番号と同じものを意味
し、19は第2の転送ゲートである。
垂直信号線の間にある転送ゲートに、垂直信号線のクラ
ンプ・レベルを決めるクランプゲートが直列に接続され
、クランプゲートは直流駆動、転送ゲートはパルス駆動
され、直流動作をしているMO8Tが垂直信号線のクラ
ンプ・レベルを決めるように電位関係が定められる固体
撮儂装置が提案された。(実願昭56−53744.実
願昭56−74584ン 第4図はその回路模式図である。第4図において、11
から18までは第1図の同じ引用番号と同じものを意味
し、19は第2の転送ゲートである。
第4図に示す素子の動作の要点は、信号電荷に移送する
際に、垂直信号線のクランプ電位を決めるり2ンブゲー
)19を直流動作させている点にある。動作原理は第1
図に示す装置と全く同じである。クランプゲート下の電
位V ?!! −Vtbtxlは式(5)のように定め
られ、第2転送ゲートが垂直信号線のクランプ−レベル
を決める。
際に、垂直信号線のクランプ電位を決めるり2ンブゲー
)19を直流動作させている点にある。動作原理は第1
図に示す装置と全く同じである。クランプゲート下の電
位V ?!! −Vtbtxlは式(5)のように定め
られ、第2転送ゲートが垂直信号線のクランプ−レベル
を決める。
Vtx& −Vtbtxl >Ttx鵞 Vth
tg・・・・・・・・・・・・(5) ここで、■〒!□は転送ゲー)18(TXI)の高しヘ
ル電圧%Vテロはクランプケ−) 19 (TX2)に
かかる直流電圧、V thtx1B転送ゲート18(T
XI)の実効閾電圧、Vtbtxlはクランプゲ−)1
9(TX2)の実効閾電圧である。
tg・・・・・・・・・・・・(5) ここで、■〒!□は転送ゲー)18(TXI)の高しヘ
ル電圧%Vテロはクランプケ−) 19 (TX2)に
かかる直流電圧、V thtx1B転送ゲート18(T
XI)の実効閾電圧、Vtbtxlはクランプゲ−)1
9(TX2)の実効閾電圧である。
転送ゲー)18(TXI)にかかる直流電圧のゆらぎは
、素子外部あるいは内部のローパスフィルタにより低減
することが可能であり、式(5)かられかるように、ゲ
ート電圧のゆらぎによるランダム雑音を低減させること
ができる。
、素子外部あるいは内部のローパスフィルタにより低減
することが可能であり、式(5)かられかるように、ゲ
ート電圧のゆらぎによるランダム雑音を低減させること
ができる。
この例において、転送ゲー)18(TXI)とクランプ
ゲート19(TX2)の間に拡散層を設けても、拡散層
を設けなくてもよい。また、ゲート18(TXI)を直
流動作させ、ゲート19(TX2)eパルス駆動しても
よい。このとtk。
ゲート19(TX2)の間に拡散層を設けても、拡散層
を設けなくてもよい。また、ゲート18(TXI)を直
流動作させ、ゲート19(TX2)eパルス駆動しても
よい。このとtk。
式(5)に代る条件は式(6)のようになる。
■!Kl −Vthyxl <Vtxl −Vs
btx鵞・・・・・・・・・・・・・・・(6)第5図
は、第2図に示す装置に直流駆動クランプゲートを付加
した回路模式図である。
btx鵞・・・・・・・・・・・・・・・(6)第5図
は、第2図に示す装置に直流駆動クランプゲートを付加
した回路模式図である。
第5図において、20から30までは第2図の同じ引用
番号と同じ部分を示し、51Aおよび51Bはクランプ
ゲートである。動作原理は第2図に示す装置と同じで、
垂直信号線のクランプ・レベルを決めるクランプゲー)
51A、51B(TX3A、TX3B)を直流駆動して
いる点でのみ異なっている(第3図参照)6し九がって
、直線で表わされているTX3AおよびTX3Bが加わ
っている点を除いて、第2図について述べた説明に第3
図についてもそのまま成り立つ。
番号と同じ部分を示し、51Aおよび51Bはクランプ
ゲートである。動作原理は第2図に示す装置と同じで、
垂直信号線のクランプ・レベルを決めるクランプゲー)
51A、51B(TX3A、TX3B)を直流駆動して
いる点でのみ異なっている(第3図参照)6し九がって
、直線で表わされているTX3AおよびTX3Bが加わ
っている点を除いて、第2図について述べた説明に第3
図についてもそのまま成り立つ。
クランプゲート51A、51B(TX3A。
TX3B)を加えることによって、ゲート電圧のゆらぎ
によるランダム雑音を大幅に低減できることに前の実施
例におけるのと全く同じである。
によるランダム雑音を大幅に低減できることに前の実施
例におけるのと全く同じである。
第6図(A)は、第5図における垂直信号線26からC
TD23Aに至る素子断面構造の概略で、同図(b)は
この構造に沿った素子内のポテンシャル図である。リセ
ット用トランジスタ30AHここでは無関係であり、省
いである。
TD23Aに至る素子断面構造の概略で、同図(b)は
この構造に沿った素子内のポテンシャル図である。リセ
ット用トランジスタ30AHここでは無関係であり、省
いである。
この素子の動作は実願昭56−74584に詳述しであ
るが、問題は垂直信号線26(65)からCTD、23
Aへの電荷転送の終りに起こる。
るが、問題は垂直信号線26(65)からCTD、23
Aへの電荷転送の終りに起こる。
プトランジスタ51Aのゲート67の形成するしきい6
02を越す分だけ、n0拡敏層66、MO8T、29A
のゲート68の下、水平スイッチMO8T、28Aのゲ
ート69の下を経て、CTD、23Aのn一層63に流
れ込む。この動作の終りにおいて、ゲート68の下には
電子が無く、n9拡散層66の電位はゲート68の作る
障壁603に落着くことが必要である。
02を越す分だけ、n0拡敏層66、MO8T、29A
のゲート68の下、水平スイッチMO8T、28Aのゲ
ート69の下を経て、CTD、23Aのn一層63に流
れ込む。この動作の終りにおいて、ゲート68の下には
電子が無く、n9拡散層66の電位はゲート68の作る
障壁603に落着くことが必要である。
しかしながら、n0拡散層66には多数キャリアである
多量な電子604が存在し、熱的に励起された電子が障
壁603を越して飛び出す確率がある(これがMO8T
のゾール電流という寄生効果が生じる訳である)。この
電流はn1拡散層66のポテンシャル低下と共に指数関
数的に低下(〜1桁/ 0. I V )するが、この
結果、障壁603の性質はシャープさを欠く。特にMO
8T、29Aは、水平スイッチ用MO8T、28Aとリ
セット用MO8T、30Aを継むぐために、ゲート長の
長い、したがってコンダクタンスの低いものとならざる
を得ず、n9拡散層66のポテンシャル低下速度は遅く
、ゲート68下には無視できない量の電荷605が居続
けることになる。この糧の電荷605は信号電荷とは別
の余計な電荷であるが、信号に混入するため実質的には
一種の読み取り誤差である。リセット動作においても同
様なことが起こる。水平方向に並んだMO8T、29A
および29Bの特性がバラ付くと、この誤差もバラ付き
、その結果再生画面上で縦縞となって現われるにせ信号
、すなわち固定雑音を生む。この固定雑音レベルが信号
検出の下限を押し上げ、結局撮儂素子の感度低下をもた
らしている。
多量な電子604が存在し、熱的に励起された電子が障
壁603を越して飛び出す確率がある(これがMO8T
のゾール電流という寄生効果が生じる訳である)。この
電流はn1拡散層66のポテンシャル低下と共に指数関
数的に低下(〜1桁/ 0. I V )するが、この
結果、障壁603の性質はシャープさを欠く。特にMO
8T、29Aは、水平スイッチ用MO8T、28Aとリ
セット用MO8T、30Aを継むぐために、ゲート長の
長い、したがってコンダクタンスの低いものとならざる
を得ず、n9拡散層66のポテンシャル低下速度は遅く
、ゲート68下には無視できない量の電荷605が居続
けることになる。この糧の電荷605は信号電荷とは別
の余計な電荷であるが、信号に混入するため実質的には
一種の読み取り誤差である。リセット動作においても同
様なことが起こる。水平方向に並んだMO8T、29A
および29Bの特性がバラ付くと、この誤差もバラ付き
、その結果再生画面上で縦縞となって現われるにせ信号
、すなわち固定雑音を生む。この固定雑音レベルが信号
検出の下限を押し上げ、結局撮儂素子の感度低下をもた
らしている。
本発明は、このゲート68下に居続ける電荷605を無
くシ、固定雑音低下をはかり、したがって固体撮儂素子
の感度向上を実現するものである。
くシ、固定雑音低下をはかり、したがって固体撮儂素子
の感度向上を実現するものである。
本発明の骨子とするところは、まずn+拡散層66のポ
テンシャル変化速度を早めて、安定電位にする事を早め
、同時にゲート68下の電荷を流し出しきり、固定雑音
を低下させることにあり、具体的には、ゲート長が小さ
くコンダクタンスの高いMO8Tを追加し、拡散層66
に対するしきい動作を分担させるものである。
テンシャル変化速度を早めて、安定電位にする事を早め
、同時にゲート68下の電荷を流し出しきり、固定雑音
を低下させることにあり、具体的には、ゲート長が小さ
くコンダクタンスの高いMO8Tを追加し、拡散層66
に対するしきい動作を分担させるものである。
第7図は1本発明の一実施例を示す。MO8T。
29Aとクランプ用MO8T、51Aの関(同様にMO
8T、29BとMO8’r、51Bの間にも)に、第3
転送ゲートとなるMO8T、71A(71B)を挿入し
たもので、具体的には第6図(A)に合わせた第8図(
A)に示す構造の実施例のごとく、n+拡散l1166
とゲート68の間に、ゲート長が4μm程度の短かいゲ
ート81を設ける。この2つのMO8Tの間にn0拡散
層がないことが重要である。動作は第8図(B)に示す
ごとく、n0拡散層66に対するしきいは、ゲート81
で作った障壁801で行ない、ゲート68の作るポテン
シャル603をこれより充分低くする。
8T、29BとMO8’r、51Bの間にも)に、第3
転送ゲートとなるMO8T、71A(71B)を挿入し
たもので、具体的には第6図(A)に合わせた第8図(
A)に示す構造の実施例のごとく、n+拡散l1166
とゲート68の間に、ゲート長が4μm程度の短かいゲ
ート81を設ける。この2つのMO8Tの間にn0拡散
層がないことが重要である。動作は第8図(B)に示す
ごとく、n0拡散層66に対するしきいは、ゲート81
で作った障壁801で行ない、ゲート68の作るポテン
シャル603をこれより充分低くする。
障壁801は長さが小さいために、電荷は速やかに流れ
、n0層のポテンシャル変化は速く、ゲート68下への
電子の流入は速かに低下する。さらに、この動作を明確
にするためには、一定時間経過後ゲート81に負のパル
スを与え、障壁802のごとく高くして完全に電流を止
めれば良い。新たな電流注入が無いため、ゲート68下
の電荷も運やかにCTD、23Aのn一層63に流用し
きり、読み取り誤差はなくなる。リセット動作において
も、筐たCTD、23B側においても、全く同様な効果
があり、従ってMO8T、29Aおよび29Bのパラ付
に係わりなくこの種の転送誤差による固定雑音をなくす
ることができる。
、n0層のポテンシャル変化は速く、ゲート68下への
電子の流入は速かに低下する。さらに、この動作を明確
にするためには、一定時間経過後ゲート81に負のパル
スを与え、障壁802のごとく高くして完全に電流を止
めれば良い。新たな電流注入が無いため、ゲート68下
の電荷も運やかにCTD、23Aのn一層63に流用し
きり、読み取り誤差はなくなる。リセット動作において
も、筐たCTD、23B側においても、全く同様な効果
があり、従ってMO8T、29Aおよび29Bのパラ付
に係わりなくこの種の転送誤差による固定雑音をなくす
ることができる。
以上説明したごとく、本発明により、垂直信号線26か
らCTD、23Aおよび23Bへの電荷転送に対するM
O8Tの寄生効果の影響を押え、期待される通りの高性
能の固体掃倫素子を実現することができる。
らCTD、23Aおよび23Bへの電荷転送に対するM
O8Tの寄生効果の影響を押え、期待される通りの高性
能の固体掃倫素子を実現することができる。
なお、本発明は、1ケのCTDで同じ機能を果すことを
目的とした固体撮倫素子に対しても、全く同様な効果が
ある。
目的とした固体撮倫素子に対しても、全く同様な効果が
ある。
又、先に述べたランダム雑音が問題にならない場合には
、直流駆動のクランプゲート51A(51B)を省略し
ても良い。
、直流駆動のクランプゲート51A(51B)を省略し
ても良い。
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図に従来の固体
撮儂素子の説明図、第6図は従来装置の動作を説明する
ための断面構造とポテンシャル関係の説明図、第7図は
本発明の実施例の回路構成図、第8図は本発明の実施例
の断面構造とポテンシャル関係の説明図である。 23Aおよび23B・・・CTD、27・・・垂直走査
用シフトレジスタ、24・・・元ダイオード、25・・
・垂直スイッチMO8T、26・・・垂直信号線、29
Aおよび29B・・・転送用MO8T、28Aおよび2
8B・・・水平スイッチMO8T、30Aおよび30B
・・・リセットMO8T、61・・・CTDの転送電極
、62・・・p形Si基板、63・・・CTDのチャン
ネル用n“層、64および66・・・n+拡散層、65
・・・垂直信号線間At配線、6.7.68,69゜囁
1 図 ’%Z 図 I J 口 V2 ¥J 4 図 第 5 図 藁 6 図 (A) (B) シν0 6シq 寄 7 図 ¥J 8 図 (A) (I3) 第1頁の続き 0発 明 者 中井正章 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 0発 明 者 尾崎俊文 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 0発 明 者 今出宅哉 横浜市戸塚区吉田町292番地株 式会社日立製作所家電研究所内
撮儂素子の説明図、第6図は従来装置の動作を説明する
ための断面構造とポテンシャル関係の説明図、第7図は
本発明の実施例の回路構成図、第8図は本発明の実施例
の断面構造とポテンシャル関係の説明図である。 23Aおよび23B・・・CTD、27・・・垂直走査
用シフトレジスタ、24・・・元ダイオード、25・・
・垂直スイッチMO8T、26・・・垂直信号線、29
Aおよび29B・・・転送用MO8T、28Aおよび2
8B・・・水平スイッチMO8T、30Aおよび30B
・・・リセットMO8T、61・・・CTDの転送電極
、62・・・p形Si基板、63・・・CTDのチャン
ネル用n“層、64および66・・・n+拡散層、65
・・・垂直信号線間At配線、6.7.68,69゜囁
1 図 ’%Z 図 I J 口 V2 ¥J 4 図 第 5 図 藁 6 図 (A) (B) シν0 6シq 寄 7 図 ¥J 8 図 (A) (I3) 第1頁の続き 0発 明 者 中井正章 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 0発 明 者 尾崎俊文 国分寺市東恋ケ窪1丁目280番 地株式会社日立製作所中央研究 所内 0発 明 者 今出宅哉 横浜市戸塚区吉田町292番地株 式会社日立製作所家電研究所内
Claims (1)
- 1、垂直信号出力線と水平スイッチ用MO8)ランジス
タ(MO8T)の間に転送用MO8Tを設け、該転送用
MO8Tと前記水平スイッチ用MO8Tの接続点にリセ
ット用MO8Tを接続してなり、信号の転送直前に垂直
信号線の電位を基準電位に設定する機構を備えた固体撮
儂装置において、前記水平スイッチ用MO8Tと前記リ
セット用MO8Tの接続点と、前記転送用MO8Tとの
間、および前記水平スイッチ用MO8Tと前記リセット
用MO8Tの接続点との間に高濃度不純物濃度領域を介
さず、かつ相互の間にも高濃度不純物濃度領域を介さず
直列接続した2ケのMO8Tによシ前記転送MO8Tが
なることを特徴とする固体撮倫装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57032468A JPS58151180A (ja) | 1982-03-03 | 1982-03-03 | 固体撮像装置 |
US06/462,763 US4621291A (en) | 1982-03-03 | 1983-02-01 | Solid-state imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57032468A JPS58151180A (ja) | 1982-03-03 | 1982-03-03 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58151180A true JPS58151180A (ja) | 1983-09-08 |
Family
ID=12359799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57032468A Pending JPS58151180A (ja) | 1982-03-03 | 1982-03-03 | 固体撮像装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4621291A (ja) |
JP (1) | JPS58151180A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2580883B1 (fr) * | 1985-04-19 | 1987-05-22 | Thomson Csf | Dispositif de lecture par transfert de ligne avec contre-reaction |
US5737016A (en) * | 1985-11-15 | 1998-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid state image pickup apparatus for reducing noise |
DE4118154A1 (de) * | 1991-06-03 | 1992-12-10 | Philips Patentverwaltung | Anordnung mit einer sensormatrix und einer ruecksetzanordnung |
JP3918248B2 (ja) * | 1997-09-26 | 2007-05-23 | ソニー株式会社 | 固体撮像素子およびその駆動方法 |
JP2001251557A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-09-14 | Canon Inc | エリアセンサ、該エリアセンサを有する画像入力装置および該エリアセンサの駆動方法 |
US10347681B2 (en) * | 2016-02-19 | 2019-07-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Imaging device |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5839386B2 (ja) * | 1978-02-22 | 1983-08-30 | 株式会社東芝 | 電荷転送形イメ−ジセンサ |
JPS5678364U (ja) * | 1979-11-14 | 1981-06-25 | ||
JPS56164681A (en) * | 1980-05-22 | 1981-12-17 | Matsushita Electronics Corp | Solidstate image pick-up device |
JPS5741081A (en) * | 1980-08-23 | 1982-03-06 | Shoichi Tanaka | Solid image pickup device |
-
1982
- 1982-03-03 JP JP57032468A patent/JPS58151180A/ja active Pending
-
1983
- 1983-02-01 US US06/462,763 patent/US4621291A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4621291A (en) | 1986-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4809075A (en) | Solid-state imaging device having an amplifying means in the matrix arrangement of picture elements | |
CN105308747B (zh) | 分离栅极有条件重置的图像传感器 | |
CN100407772C (zh) | 固态成像设备及其驱动方法 | |
US4518863A (en) | Static induction transistor image sensor with noise reduction | |
US7973841B2 (en) | Photo sensor with a low-noise photo element, sub-linear response and global shutter | |
US20110205417A1 (en) | Method and image sensor pixel without address transistor | |
JP2000125203A (ja) | 増幅型固体撮像装置およびその駆動方法 | |
US20240089624A1 (en) | Low noise pixel for image sensor | |
JPS5870687A (ja) | 固体撮像素子の駆動方法 | |
US4016550A (en) | Charge transfer readout of charge injection device arrays | |
JPS58151180A (ja) | 固体撮像装置 | |
US9184192B2 (en) | Radiation detector and method having a source follower arrangement formed by a source follower input transistor and a bias current portion via a bias line select transistor | |
JPH08264743A (ja) | 固体撮像装置 | |
JP2000152090A (ja) | 固体撮像装置 | |
US7893980B2 (en) | CMOS image sensor having directly output transfer gate signal | |
KR850000366B1 (ko) | 고체촬상소자 | |
JPH0150156B2 (ja) | ||
KR850000036B1 (ko) | 고체 촬상 장치 | |
JPH10200817A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS61157179A (ja) | 撮像装置 | |
JPS6313581A (ja) | 固体撮像装置 | |
CN113488494A (zh) | 一种内线帧转移ccd的像元倍增及信号转移控制方法 | |
JPS6046178A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS6046176A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPS61154371A (ja) | 光電変換装置 |