JPH103643A - ディスク状磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁変換特性、特に高密度記録特性が格段に
改良されたディスク状磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 非磁性支持体上に軟磁性層と強磁性六方
晶フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる強磁性層
をこの順に設けたディスク状磁気記録媒体において、該
強磁性層の厚みが０．５μｍ以下であり、かつ該強磁性
層の任意の場所における光沢度の測定方向依存性が５％
以内であることを特徴とするディスク状磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は強磁性層と軟磁性層を有
し、最上層に六方晶フェライト微粉末を含む高密度記録
用のディスク状磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディス
クがパーソナルコンピュータに標準搭載されようになっ
た。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日に
おいて、その容量は十分とは言えなくなり、フロッピー
ディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗
設したものが広く用いられる。この中でも強磁性金属微
粉末と六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優
れていることが知られている。高密度記録特性に優れる
強磁性金属微粉末を用いた大容量ディスクとしては１０
ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２ＳＤまたは六
方晶フェライトを用いた大容量ディスクとしては４ＭＢ
のＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルなどがある
が、容量、性能的に十分とは言えなかった。このような
状況に対し、高密度記録特性を向上させる試みが多くな
されている。

【０００４】高密度記録特性に優れる磁性体として特開
昭６１−２１７９３６号報、特開昭６１−２７３７３５
号報には六方晶フェライト磁性体が提案されている。六
方晶フェライト磁性体は、その粒子サイズが小さいこ
と、形状が平板状でしかもその板面に垂直な方向に磁化
容易軸があること等から高密度記録用の磁気記録媒体に
用いる磁性体として有望視されている。

【０００５】そして、六方晶フェライト磁性体を面内垂
直方向に配向させることで、さらに自己減磁を小さくす
ることが特開平４−１２３３１２号報、特開昭６２−２
０８４１５号報に、さらには磁性層を二層以上設け、上
層に垂直配向した六方晶フェライトを用いた例が特開昭
６０−２１２８１７号報、特開平１−２５１４２７号
報、特開平１−２５１４２４号報、特開平１−２５１４
２６号報、特開昭５９−１２９９３５号報、特開昭６４
−７９９３０号報、特開昭６４−５５７３２号報、特開
昭５９−７７６２８号報などで開示されている。しか
し、未だ十分な特性を得るに至っていない。

【０００６】このような問題に対し下地層として抗磁力
が低く、透磁率の高い軟磁性の金属薄膜、または粒子塗
布膜を形成し、その上に六方晶フェライトを含む塗布層
を設ける試みが特開昭５６−９８７１８号報、特開昭５
９−９４２３１号報、特開昭５９−１６７８４３号報、
特開昭６２−１８０５２２号報に示されている。しかし
今日要求される高密度記録に対しては既に十分な特性と
は言えなくなっている。

【０００７】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１４００Oe以上で厚さ０．５μｍ以下の磁性
層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構成が、特開平
５−２９０３５４には磁性層厚が０．５μｍ以下で、磁
性層厚の厚み変動を±１５％以内とし、表面電気抵抗を
規定した構成が提案されている。

【０００８】しかしながら、急速なディスク状磁気記録
媒体の高密度化にともない、このような技術をもってし
ても満足な特性を得ることが難しくなってきていた。近
年、提案されてきた垂直磁気記録媒体として、下層に軟
磁性層（Ｈc のきわめて低い磁気ヘッドに最適な磁性体
を使用した磁性層）を設けその上に垂直磁化膜を設ける
ことにより磁力線の流路を最適なものとした高密度記録
用磁気記録媒体が知られている。

【０００９】これまでの該垂直磁気記録媒体は、テープ
状媒体が主体で余り磁気ディスクに重きをおいた開発
は、行われていないのが現状である。軟磁性層と強磁性
層の重層構成におけるディスク状磁気記録媒体において
は、磁気的な配向度を測定することが困難であるという
問題がある。即ち、ディスク状磁気記録媒体における高
密度化を改善するため磁気的な配向度を簡明な手段で測
定でき、ひいては高密度化に寄与する該配向度を制御す
る手段が望まれていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良されたディスク状
磁気記録媒体を提供することを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは電磁変換特
性が良好なディスク状磁気記録媒体を得るために鋭意検
討した結果、以下のような媒体とすることで、本発明の
目的である優れた高密度記録特性が得られることを見い
だし、本発明に至ったものである。すなわち、非磁性支
持体上に軟磁性層と強磁性六方晶フェライト微粉末を結
合剤中に分散してなる強磁性層をこの順に設けたディス
ク状磁気記録媒体において、該強磁性層の厚みが０．５
μｍ以下であり、かつ該強磁性層の任意の場所における
光沢度の測定方向依存性が５％以内であることを特徴と
するディスク状磁気記録媒体により達成される。

【００１２】そして前記強磁性層は垂直方向に磁気的に
配向されていると一層本発明の目的を有効に達成するこ
とができる。本発明の磁気記録媒体における軟磁性層は
Ｈｃ（抗磁力）が２００Ｏｅ以下、好ましくは０．１以
上１００Ｏｅ以下、Ｂｓ（飽和磁束密度）は１５００Ｇ
以上で、好ましくは２０００Ｇ以上５０００Ｇ以下であ
る。Ｈｃが上記値より大きいと下地層に記録磁化が残留
し磁性層内で磁化の位相ずれが発生し好ましくない。Ｂ
ｓが上記値より小さいと下地層を通る磁束が低下し好ま
しくない。なおここでのＨｃは長手および垂直方向での
高い方の値を用いる。

【００１３】また、本発明における光沢度の測定方向依
存性（以下、「光沢度差」ともいう）は、強磁性層の任
意の場所において５％以内であるが、該光沢度差はディ
ジタル光沢計（スガ試験機社製ＧＫ−４５Ｄ型）を用い
て、ディスク半径の１／２の径の円周上を等間隔に８ヶ
所で、測定方向を４５度毎に変化させ８方向から測定
し、最大値と最小値の差から求められる下記式のものを
指標として、この値が５％以内であれば、強磁性層の任
意の場所の２点の光沢度の差が５％以内になると考えて
差し支えない。

【００１４】光沢度差（％）＝最大値−最小値 本発明における光沢度差は、好ましくは０〜５％の範囲
である。 〔構成要件と効果の関係〕本発明がかかる効果をもたら
す理由は定かではないが、次のように考えられる。

【００１５】短波長記録になると信号の記録深さが浅く
なる。強磁性層の下地層として軟磁性層を設けること
で、下地層がない場合に強磁性層下部に発生する磁極を
短絡させ、反磁界を低減させることができる。このよう
な下地層の効果を発揮させるためには上層厚みを記録波
長に合わせて薄くする必要がある。また、短波長記録で
記録深さが浅い時は表面粗さによる分離損失が大きな影
響を及ぼし、表面粗さが大きい場合はヘッドと媒体の距
離が大きくなり同様に下地層の効果がなくなるものと思
われる。

【００１６】一方ディスク状磁気記録媒体ではディスク
一周に渡って一定の出力を得ることが必要であり、配向
度比を０．８５以上とすることにより達成されることが
特開平５−１０９０６１号等に示されている。しかしな
がら最近の高密度記録では配向度比が０．８５以上でも
一定の出力が得られない場合がある。その原因としては
定かではないが表面粗さが円周方向に均一でないこと等
が考えられる。特に本発明の場合は表面粗さが軟磁性層
の効果に影響を及ぼす。

【００１７】光沢度は本来表面粗さの指標であるが、反
射光量を測定するため磁性体粒子の配向方向や凝集の影
響を受けると推定される。光沢度を任意の場所で測定方
向に依らず一定にすることで表面粗さが均一になるだけ
でなく磁性体粒子の配向や凝集の度合いが均一になり磁
気特性も均一になるため、ディスク一周に渡って一定な
出力が得られるようになると考えられる。

【００１８】六方晶フェライトは板状であるため強磁性
層厚みが薄い場合は配向にかかわらず面内垂直方向に容
易軸を向ける傾向がある。強磁性層の配向方向は長手方
向、無配向、ランダム配向いずれでも本願の目的は達成
されるが、特に垂直方向に配向することで本願の目的と
する効果が顕著になり好ましい。本発明の磁気記録媒体
を得るためには、特に前記光沢度の測定方向依存性を５
％以内にするための方法としては種々の方法があるが特
に下記の方法が有効である。

【００１９】例えば、 強磁性層が薄膜であっても平
滑な塗布面が得られる後述の同時重層塗布方式等の塗布
方法を採用すること、 磁性塗布液の製造に際し高負
荷の分散法を採用すること、 ３０００Ｇ以上の異極
対抗コバルト磁石を用い、磁性層の磁気配向を磁性層の
垂直方向に配向させると共に塗布乾燥に際し塗布速度、
乾燥風温度、乾燥風量を調整し磁石ゾーン内で塗膜を乾
燥させること、 上記やに最適な強磁性六方晶フ
ェライト微粉末、軟磁性層に使用する粉体の形状・サイ
ズ等を調整すること、 強磁性層及び軟磁性層に使用
される結合剤を選定すること、 分散剤を利用して強
磁性六方晶フェライトの分散性を高めること等が挙げら
れる。

【００２０】上記方法は、下記において詳述される。 〔六方晶フェライト微粉末に関する記載〕本発明の強磁
性層に含まれる六方晶フェライト微粉末としては、バリ
ウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェラ
イト、 カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等
がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで
粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライ
ト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイ
ト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライ
ト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、
Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、
Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、
Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂな
どの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、
Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ
等の元素を添加した物を使用することができる。原料・
製法によっては特有の不純物を含有するものもある。

【００２１】粒子サイズは六角板径で１０〜２００nm、
好ましくは２０〜１００nmである。磁気抵抗ヘッドで再
生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は４０
nm以下が好ましいが、１０nm以下では熱揺らぎのため安
定な磁化が望めない。２００nm以上ではノイズが高く、
いずれも高密度磁気記録には向かない。板状比（板径／
板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは２〜７であ
る。板状比が小さいと強磁性層中の充填性は高くなり好
ましいが、十分な配向性が得られない。１５より大きい
と粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。こ
の粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜２
００ｍ² ／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚か
らの算術計算値と符号する。結晶子サイズは５０〜４５
０Å、好ましくは１００〜３５０Åである。粒子板径・
板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であ
るが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する
事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多い
が、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／
平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布を
シャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一に
すると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも
行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的
に溶解する方法等も知られている。磁性体で測定される
抗磁力Ｈｃは５００Oe〜５０００Oe程度まで作成でき
る。

【００２２】Ｈｃは高い方が高密度記録に有利である
が、記録ヘッドの能力で制限される。通常８００Oeから
４０００Oe程度であるが、好ましくは１５００Oe以上、
３５００Oe以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テス
ラを越える場合は、２０００Oe以上にすることが好まし
い。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類
と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制
御できる。飽和磁化σｓは４０emu/g 〜８０emu/g であ
る。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さく
なる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイト
フェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有
元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。また
Ｗ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性
体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、結合剤に合
った物質で処理することも行われている。表面処理剤は
無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物とし
てはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種
シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代
表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０重量％で
ある。磁性体のＰＨも分散に重要である。通常４〜１２
程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の
化学的安定性、保存性から６〜１０程度が選択される。
磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、結合
剤により最適値があるが通常０．０１〜２．０重量％が
選ばれる。六方フェライトの製法としてはガラス結晶化
法・共沈法・水熱反応法等があるが、本発明は製法を選
ばない。

【００２３】〔軟磁性層に関する記載〕本発明の軟磁性
層に使用する軟磁性粉体としては、Ｆｅ粉、Ｎｉ粉、Ｃ
ｏ粉、マグネタイト粉、パ−マロイ粉、センダスト粉、
Ｍｎ−Ｚｎフェライト粉、Ｎｉ−Ｚｎフェライト粉、Ｃ
ｕ−Ｚｎフェライト粉などが挙げられる。これらの粉体
は針状、粒状、板状、いずれでもかまわないが、Ｈｃを
小さくするためには粒状が好ましい。これらの軟磁性粉
体には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、
Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、
Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐ
ｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、
Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んで
もかまわない。

【００２４】これらの軟磁性粉体の比表面積をＳ_BET で
表せば１０〜１００ｍ² ／ｇであり、好ましくは４０〜
７０ｍ² ／ｇである。１０ｍ² ／ｇ以下および１００ｍ
² ／ｇ以上では良好な表面性得にくく好ましくない。平
均粒子径は０．０１μｍ以上、１μｍ以下、かさ密度は
０．４以上、１．５以下、吸着水分は０．１％以上、２
％以下、DBP を用いた吸油量は５〜１００ml/100g 、ｐ
Ｈは３以上１０以下が好ましい。これらの粉体の表面は
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｓｎ
Ｏ₂ 、Ｓｂ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯで表面処理することが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、
ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、であるが、更に好ましいのはＡｌ
₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わ
せて使用しても良い。

【００２５】軟磁性層にカ−ボンブラックを混合させて
公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透
過率を小さくすることができるとともに、所望のマイク
ロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカー
ボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもた
らすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム
用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、ア
セチレンブラック、等を用いることができる。

【００２６】また軟磁性層には有機質粉末を目的に応じ
て、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン
系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹
脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオ
レフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリア
ミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エ
チレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭
６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記
されているようなものが使用できる。

【００２７】軟磁性層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、
添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する強磁性
層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添
加剤、分散剤の添加量、種類に関しては強磁性層に関す
る公知技術が適用できる。 〔結合剤に関する記載〕本発明の軟磁性層の結合剤、潤
滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は強磁性
層のそれが適用できる。特に、結合剤量、種類、添加
剤、分散剤の添加量、種類に関しては強磁性層に関する
公知技術が適用できる。

【００２８】本発明の強磁性層に使用される結合剤とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜
１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のもので
ある。

【００２９】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコ−ル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。

【００３０】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ₃ （Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものをもちいることが好ましい。このような
極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは
１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３１】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。

【００３２】本発明の軟磁性層、強磁性層に用いられる
結合剤は軟磁性粉体または六方晶フェライト微粉末に対
し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量
％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合
は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２
〜２０重量％、ポリイソシアネ−トは２〜２０重量％の
範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、
例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合
は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネ
ートのみを使用することも可能である。本発明におい
て、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５
０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが
１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／
ｃｍ² 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ² が好まし
い。

【００３３】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるい
はそれ以外の樹脂の量、強磁性層を形成する各樹脂の分
子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性な
どを必要に応じ軟磁性層、強磁性層とで変えることはも
ちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、
多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各
層で結合剤量を変更する場合、強磁性層表面の擦傷を減
らすためには強磁性層の結合剤量を増量することが有効
であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするため
には、軟磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせる
ことができる。

【００３４】本発明にもちいるポリイソシアネ−トとし
ては、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシア
ネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシア
ネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメ
タントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、
これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネ−ト等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ、
コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−
トＭＲ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−
トＤ−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ
−２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、
デスモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−
ルＮ、デスモジュ−ルＨＬ、等がありこれらを単独また
は硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組
合せで各層とももちいることができる。

【００３５】〔カーボンブラック、研磨剤に関する記
載〕本発明の軟磁性層、強磁性層に使用されるカ−ボン
ブラックはゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は
１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｎｍ〜３００
ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タッ
プ密度は０．１〜１ｇ／cc、が好ましい。本発明に用い
られるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵ
ＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６
０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２
４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００、＃３
０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカ−ボン社製、Ｃ
ＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、
４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケ
ッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カ−ボンブ
ラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト
化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したも
のを使用してもかまわない。また、カ−ボンブラックを
磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散しても
かまわない。これらのカ−ボンブラックは単独、または
組合せで使用することができる。カ−ボンブラックを使
用する場合は各磁性層の磁性体に対する量の０．１〜３
０重量％で用いることが好ましい。カ−ボンブラックは
層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上
などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラックに
より異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−ボ
ンブラックは強磁性層、軟磁性層でその種類、量、組合
せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先
に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることは
もちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきもので
ある。本発明で使用できるカ−ボンブラックは例えば
「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編 を
参考にすることができる。

【００３６】本発明の強磁性層に用いられる研磨剤とし
てはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、
炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、
コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チ
タン、カ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ
素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独
または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どう
しの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）
を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化
合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％
以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子
サイズは０．０１〜２μが好ましく、特に電磁変換特性
を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。
また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの
異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径
分布を広くして同様の効果をもたせることも可能であ
る。タップ密度は０．３〜２g/cc、含水率は０．１〜５
％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ² ／ｇ、が
好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球
状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角
を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友
化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、
ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３
０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８
０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、
ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、Ｗ
Ａ１００００、上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業
社製、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、
戸田工業社製、ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社
製、ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製、
Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ
軟磁性層に添加することもできる。軟磁性層に添加する
ことで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御
したりすることができる。これら強磁性層、軟磁性層の
添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべき
ものである。

【００３７】〔添加剤に関する説明〕本発明の強磁性層
と軟磁性層に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯
電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが使
用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラ
ファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオイ
ル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−ン、
フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フッ素
含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−ル、アル
キル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル
硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニル
エ−テル、フェニルホスホン酸、アミノキノン類、各種
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素
含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含ん
でも、また分岐していてもかまわない）、および、これ
らの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素
数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価ア
ルコ−ル、（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ
−ル、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数
２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ
−ルのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステル
またはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、ア
ルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪
酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８
〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。

【００３８】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、アルコール類ではオレイルアルコ
−ル、ステアリルアルコール、ラウリルアルコ−ル、な
どがあげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレ
ンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状ア
ミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダ
ントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホ
ニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、ス
ルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、
などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐
酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性
剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、
「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に
記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ず
しも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反
応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０重量％以下が好ま
しく、さらに好ましくは１０重量％以下である。

【００３９】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
軟磁性層、強磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へ
のにじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエ
ステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活
性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤
滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させる
など考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもの
ではない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または軟
磁性粉体に対し、０．１重量％〜５０重量％、好ましく
は２重量％〜２５重量％の範囲で選択される。

【００４０】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて強磁性層を塗布した後、同時または逐
次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することによ
り目的が達成される場合がある。また、目的によっては
カレンダ−した後、またはスリット終了後、強磁性層表
面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４１】〔溶剤に関する記載〕本発明で用いられる
有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等
のケトン類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、
ブタノ−ル、イソブチルアルコ−ル、イソプロピルアル
コール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコ−ル
類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イ
ソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコ−ル等のエステル
類、グリコ−ルジメチルエーテル、グリコールモノエチ
ルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル
系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロ
ルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロラ
イド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の
塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘ
キサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずし
も１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含ま
れてもかまわない。これらの不純分は３０重量％以下が
好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。本
発明で用いる有機溶媒は強磁性層と軟磁性層でその種類
は同じでも構わないが、軟磁性層に表面張力の高い溶媒
（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安
定性をあげることが好ましい、具体的には上層溶剤組成
の表面張力の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を
下回らないことが肝要である。分散性を向上させるため
にはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、
誘電率が１５以上の溶剤が５０重量％以上含まれること
が好ましい。また、溶解パラメ−タは８〜１１であるこ
とが好ましい。

【００４２】〔層構成に関する記載〕本発明の磁気記録
媒体の厚み構成は非磁性支持体が２〜１００μｍ、好ま
しくは１０〜８０μｍ。非磁性可撓性支持体と軟磁性層
また強磁性層の間に密着性向上のための下塗り層を設け
てもかまわない。本下塗層厚みは０．０１〜２μｍ、好
ましくは０．０２〜０．５μｍである。本願は通常支持
体両面に軟磁性層と強磁性層を設けてなる両面磁性層デ
ィスク状媒体であるが、片面のみに設けてもかまわな
い。この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出す
ために軟磁性層、強磁性層側と反対側にバックコ−ト層
を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜４μｍ、好
ましくは０．３〜２．０μｍである。これらの下塗層、
バックコ−ト層は公知のものが使用できる。

【００４３】本発明の媒体の強磁性層の厚みは用いるヘ
ッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域
により最適化されるものであるが、一般には０．０１μ
ｍ以上０．５μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ
以上０．４μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ〜
０．３μｍである。強磁性層を異なる磁気特性を有する
２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関
する構成が適用できる。

【００４４】本発明になる媒体の下地層である軟磁性層
の厚みは０．２μｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは
０．５μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは１．
０μｍ以上２．５μｍ以下である。 〔支持体に関する記載〕本発明に用いられる非磁性支持
体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタ
レート、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セル
ロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、
ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾ
−ルなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレン
ナフタレ−ト、ポリアミドなどの高強度支持体を用いる
ことが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の
表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７に示され
るような積層タイプの支持体を用いることもできる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。また本発明の支持体としてアルミまたはガラ
ス基板を適用することも可能である。

【００４５】本発明の目的を達成するには、非磁性支持
体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で
測定した中心面平均表面粗さはＳＲａは２０nm以下、、
好ましくは１０nm以下、さらに好ましくは５nm以下のも
のを使用する必要がある。これらの非磁性支持体は単に
中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ
以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ
形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大き
さと量により自由にコントロ−ルされるものである。こ
れらのフィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉ
などの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉
末があげられる。

【００４６】支持体の最大高さＳＲmax は１μｍ以下、
十点平均粗さＳＲz は０．５μｍ以下、中心面山高さは
ＳＲp は０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲv は０．５
μｍ以下、中心面面積率ＳＳr は１０％以上、９０％以
下、平均波長Ｓλa は５μｍ以上、３００μｍ以下が好
ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これ
ら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコント
ロールできるものであり、０．０１μｍから１μｍの大
きさのもの各々を０．１mm２あたり０個から２０００個
の範囲でコントロ−ルすることができる。

【００４７】本発明に用いられる非磁性支持体のＦ−５
値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ ² 、また、支持体の
１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さ
らに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮
率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以
下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍｍ² 、弾性率
は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ² 、が好ましい。温度膨
張係数は１０^-4〜１０ ^-8/ ℃であり、好ましくは１０^-5
〜１０^-6／℃である。湿度膨張係数は１０^-4/RH%以下で
あり、好ましくは１０^-5/RH%以下である。これらの熱特
性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対
し１０％以内の差でほぼで等しいことが好ましい。

【００４８】〔製法に関する記載〕本発明の磁気記録媒
体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、
分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設
けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以
上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する磁性
体、軟磁性粉体、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、
帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程
の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々
の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわな
い。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散
後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよ
い。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製
造技術を一部の工程として用いることができる。混練工
程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エク
ストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが
好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性体または軟磁性粉
体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の
３０重量％以上が好ましい）および磁性体１００部に対
し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混
練処理の詳細については特願昭６２−２６４７２２、特
願昭６２−２３６８７２に記載されている。また、強磁
性層液および軟磁性層液を分散させるにはガラスビーズ
を用ることができるが、高比重の分散メディアであるジ
ルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好
適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化
して用いられる。分散機は公知のものを使用することが
できる。

【００４９】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下地層を塗布し、下地層がウェッ
ト状態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２
３８１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている
支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を
塗布する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平
２−１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されて
いるような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗
布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三
に特開平２−１７４９６５に開示されているバックアッ
プロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層
をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝
集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止す
るため、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９
６８に開示されているような方法により塗布ヘッド内部
の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、
塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９に開
示されている数値範囲を満足する必要がある。本願の構
成を実現するには下地層を塗布し乾燥させたのち、その
上に強磁性層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろん
かまわず、本発明の効果が失われるものではない。ただ
し、塗布欠陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を
向上させるためには、前述の同時重層塗布を用いること
が好ましい。

【００５０】配向装置を用いず無配向でも十分に等方的
な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜め
に交互に配置する、ソレノイドで交流磁場を印加するな
ど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等
方的な配向とは六方晶フェライトの場合は一般的に面内
および垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内
２次元ランダムとすることも可能である。また異極対向
磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周
方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に
高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。乾燥風の
温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置
を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２
０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上
が好ましい、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥
を行なうこともできる。

【００５１】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００Ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましくは３００Ｋ
ｇ／ｃｍ以上である。

【００５２】〔物理特性に関する記載〕本発明になる磁
気記録媒体の強磁性層の飽和磁束密度Ｂｓは、六方晶フ
ェライトを用いた場合は８００Ｇ以上３０００Ｇ以下で
ある。抗磁力ＨｃおよびＨｒは１０００Ｏｅ以上５００
０Ｏｅ以下であるが、好ましくは１５００Ｏｅ以上、３
０００Ｏｅ以下である。抗磁力の分布は狭い方が好まし
く、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下が好ましい。角
形比は２次元ランダムの場合は０．５５以上０．６７以
下で、好ましくは０．５８以上、０．６４以下、３次元
ランダムの場合は0 ．４５以上、０．５５以下が好まし
く、垂直配向の場合は垂直方向に０．６以上好ましくは
０．７以上、反磁界補正を行った場合は０．７以上好ま
しくは０．８以上である。２次元ランダム、３次元ラン
ダムとも配向度比は０．８以上が好ましい。２次元ラン
ダムの場合、垂直方向の角形比、Ｂｒ、ＨｃおよびＨｒ
は面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好まし
い。

【００５３】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿度０％から９５％
の範囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表
面固有抵抗は好ましくは磁性面１０４〜１０１２オ−ム
/sq 、帯電位は−５００V から＋５００V 以内が好まし
い。強磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で
好ましくは１００〜２０００kg/mｍ２、破断強度は好ま
しくは１〜３０Ｋｇ／ｃｍ² 、磁気記録媒体の弾性率は
面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍ
ｍ² 、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以
下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは
０．１％以下である。強磁性層のガラス転移温度( １１
０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)
は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層軟磁性層の
それは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１
０８〜８×１０９ｄｙｎｅ／ｍ² の範囲にあることが好
ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。
損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これ
らの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内
でほぼ等しいことが好ましい。強磁性層中に含まれる残
留溶媒は好ましくは１００mg/m² 以下、さらに好ましく
は１０mg/m² 以下である。塗布層が有する空隙率は軟磁
性下層、強磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さら
に好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を
果たすためには小さい方が好ましいが、目的によっては
ある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返
し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方
が走行耐久性は好ましいことが多い。 強磁性層のＴＯ
ＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で測定した中心面表面粗さＲ
ａは１０nm以下、好ましくは５nm以下、さらに好ましく
は３nm以下であるが、ＡＦＭによる評価で求めたＲＭＳ
表面粗さＲRMS は２nm〜１５nmの範囲にあることが好ま
しい。強磁性層の最大高さＳＲmax は０．５μｍ以下、
十点平均粗さＳＲzは０．３μｍ以下、中心面山高さＳ
Ｒp は０．３μｍ以下、中心面谷深さＳＲvは０．３μ
ｍ以下、中心面面積率ＳＳr は２０％以上、８０％以
下、平均波長Ｓλa は５μｍ以上、３００μｍ以下が好
ましい。強磁性層の表面突起は０．０１μｍから１μｍ
の大きさのものを０個から２０００個の範囲で任意に設
定し、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは
支持体のフィラ−による表面性のコントロ−ルや強磁性
層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロ−ル表
面形状などで容易にコントロ−ルすることができる。

【００５４】カールは±３mm以内とすることが好まし
い。本発明の磁気記録媒体で軟磁性層と強磁性層を有す
る場合、目的に応じ軟磁性層と強磁性層でこれらの物理
特性を変えることができるのは容易に推定されることで
ある。例えば、強磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を
向上させると同時に軟磁性層の弾性率を強磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【００５５】

【実施例】

〔実施例１〕 ＜塗料の作製＞ 磁性塗料 Ｙ バリウムフェライト磁性粉 １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００Oe、比表面積５０ｍ２／ｇ、σs ５８emu/g 板径３０nm、板状比３．５ 塩化ビニル共重合体（−ＳＯ₃ Ｋ含有） １２部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン（−ＳＯ₃ Ｎａ含有）：ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 フェニルホスホン酸 ３部 α−アルミナ（平均粒径０．２μｍ）：ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 ＃５０（旭カーボン社製） ５部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 軟磁性塗料 Ｚ 粒状マグネタイト粉 γ−Ｆｅ₃ Ｏ₄ ８０部 平均一次粒子径０．０３５μｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ² /g Ｈｃ５５Oe、ｐＨ ７、ＴｉＯ₂ 含有量９０重量％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８ml/100g 、 表面処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ ８重量％ コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 ＭＲ１１０ １２部 ＵＲ８２００ ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで
混練したのち、サンドミルをもちいて分散させた。得ら
れた分散液にポリイソシアネ−トを軟磁性層の塗布液に
は１０部、強磁性層の塗布液には１０部を加え、さらに
それぞれに酢酸ブチル４０部を加え，１μｍの平均孔径
を有するフィルターを用いて濾過し、軟磁性層形成用お
よび強磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００５６】得られた軟磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μｍになるようにさらにその直後にその上に強
磁性層の厚さが０．２μｍになるように、厚さ６２μｍ
で中心線表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフ
タレ−ト支持体上に同時重層塗布をおこない、両層がま
だ湿潤状態にあるうちに６０００Ｇの異極対向磁石の間
隙を通過させた後、４０℃と８０℃と１００℃の乾燥ゾ
ーンを通過させて垂直配向処理を行った。乾燥後７段の
カレンダで温度９０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍにて処理
を行い、３．７吋に打ち抜き表面研磨処理施した後、ラ
イナーが内側に設置済の３．７吋のカートリッジ（米
Ｉｏｍｅｇａ社製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジに入
れ、所定の機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディ
スクを得た。

【００５７】得られたサンプルのＢａフェライト強磁性
層のＨｃは２６５０Ｏｅ、Ｂｓは１３００Ｇであった。
軟磁性層のＨｃは４５Ｏｅ、Ｂｓは２０００Ｇであっ
た。 〔実施例２〕実施例１においてＢａフェライト強磁性層
の厚みを０．５μｍとした。 〔実施例３〕実施例１において、異極対向磁石として３
０００Ｇのを使用した以外は、実施例１と同一の条件で
フロッピーディスクを得た。 〔実施例４〕実施例１において、軟磁性塗料の粒状マグ
ネタイトに代えてＨｃが２１０Ｏｅの粒状マグネタイト
粉を用いた。 〔実施例５〕実施例１において軟磁性塗料のＭＲ１１０
を１６部、ＵＲ８２００を７部、ポリイソシアネートを
１３部とした。 〔比較例１〕実施例１においてＢａフェライト強磁性層
の厚みを０．７μｍとした。 〔比較例２〕実施例１において、２０００Ｇの異極対向
磁石と３０００Ｇのソレノイド磁石を用いた以外は、実
施例１と同一の条件でフロッピーディスクを得た。 〔比較例３〕実施例１において、軟磁性塗料の粒状マグ
ネタイトに代えてＨｃが２７０Ｏｅの粒状マグネタイト
粉を用いた。 〔比較例４〕実施例１において軟磁性塗料のＭＲ１１０
を１８部、ＵＲ８２００を８部、ポリイソシアネートを
１５部とした。 〔比較例５〕実施例１において、軟磁性層の軟磁性粉体
である粒状マグネタイト粉に代えて非磁性粉体の酸化チ
タン（平均粒径０．３５μｍ）とした。

【００５８】〔実施例と比較例の対比〕各試料の評価結
果を表１に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】本発明のディスク状媒体は、従来のディス
ク状媒体に比べ高密度記録での特性が格段に優れている
ことがわかる。 〔測定法に関する記載〕フロッピーディスクの各試料
は、下記の評価方法で測定した。 再生出力の測定：再生出力の測定は、国際電子工業社
（旧東京エンジニアリング）製のディスク試験装置とＳ
Ｋ６０６Ｂ型評価装置を用いギャップ長０．３μｍのメ
タルインギャップヘッド用い、半径２４．６ｍｍの位置
において記録波長６０ＫＦＣＩで記録した後ヘッド増幅
機の再生出力をテクトロニクス社製オシロスコープ７６
３３型で測定した。再生出力は実施例−１の出力を１０
０として相対値で示した。

【００６１】モジュレーション：再生出力の測定と同様
の条件、装置を使用し再生波形の１周における最大値Ｖ
_MAX 、最小値Ｖ_MIN を｛（Ｖ_MAX −Ｖ_MIN ) ／（Ｖ_MAX
＋Ｖ_MIN ）｝×１００（％）の式に代入して求めた。 磁気特性（Ｈｃ、Ｂｒ／Ｂｍ、ＳＦＤ、Ｈｒ（９０
゜）：振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ
１０ＫＯｅで測定した。

【００６２】強磁性層の厚さ：層断面の切片試料を作成
して、走査型電子顕微鏡（日立製作所製、Ｓー７００
型）による画像を撮影した断面写真から求めた。 光沢度差：ディジタル光沢計（スガ試験機社製ＧＫ−４
５Ｄ型）を用いて、前述のように測定方向を４５度毎に
変化させ８方向から測定し、最大値と最小値の差を求め
た。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】非磁性支持体上に軟磁性層と強磁性六方晶
   フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる強磁性層を
   この順に設けたディスク状磁気記録媒体において、該強
   磁性層の厚みが０．５μｍ以下であり、かつ該強磁性層
   の任意の場所における光沢度の測定方向依存性が５％以
   内であることを特徴とするディスク状磁気記録媒体。
2. 【請求項２】前記強磁性層は垂直方向に磁気的に配向し
   ている請求項１記載のディスク状磁気記録媒体。
3. 【請求項３】前記軟磁性層はＨｃ（抗磁力）が２００Ｏ
   ｅ以下、Ｂｓ（飽和磁束密度）が１５００Ｇ以上である
   請求項１または２記載のディスク状磁気記録媒体。