JP2002170217A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性、特に高密度記録特性に優れ、ヘ
ッド走行において磁性層の破壊によるデータ損失が発生
せず、かつブロッキングが発生しない高密度記録用磁気
ディスクを提供すること。 【解決手段】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
その上に強磁性金属粉末または六方晶フェライト粉末を
結合剤中に分散してなる磁性層が形成されている磁気デ
ィスクにおいて、前記磁性層の厚味は０．０２〜０．５
μｍであり、非接触式表面粗さ計で測定した該磁性層表
面の十点平均高さＲｚが２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であ
り、ＡＦＭで測定した高さが２０ｎｍ以上の突起数が１
×１０⁵ 個／ｍｍ² 以上２×１０⁶個／ｍｍ² 以下であ
る磁気ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気ディスクに関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、磁性層に強磁性金属粉末または六方晶フ
ェライト粉末を含む高密度記録用の磁気ディスクに関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピー（登録
商標）ディスクがパーソナルコンピュータに標準搭載さ
れようになった。しかし扱うデータ容量が急激に増加し
ている今日において、その容量は十分とは言えなくな
り、フロッピーディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェラ
イト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に
塗設したものが広く用いられる。この中でも強磁性金属
粉末と六方晶系フェライト粉末は高密度記録特性に優れ
ていることが知られている。デイスクの場合、高密度記
録特性に優れる強磁性金属粉末を用いた大容量ディスク
としては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２
ＳＤまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディスクと
しては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカル
などがあるが、容量、性能的に十分とは言えなかった。
このような状況に対し、高密度記録特性を向上させる試
みが多くなされている。以下にその例を示す。

【０００４】ディスク状磁気記録媒体の特性を向上させ
るために、特開昭６４−８４４１８号公報には酸性基と
エポキシ基と水酸基を有する塩化ビニル樹脂を用いるこ
とが提案され、特公平３−１２３７４号公報にはＨｃが
７９．６ｋＡ／ｍ（１０００エルステッド（Ｏｅ））以
上、比表面積２５〜７０ｍ ² ／ｇの金属粉末を用いる
ことが提案され、特公平６−２８１０６号公報には磁性
体の比表面積と磁化量を定め、研磨剤を含ませることが
提案されている。

【０００５】ディスク状磁気記録媒体の耐久性を改善さ
せるために、特公平７−８５３０４には不飽和脂肪酸エ
ステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用いる
ことが提案され、特公平７ー７００４５には分岐脂肪酸
エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用い
ることが提案され、特開昭５４−１２４７１６にはモー
ス硬度６以上の非磁性粉末と高級脂肪酸エステルを含ま
せることが提案され、特公平７−８９４０７には潤滑剤
を含む空孔の体積と表面粗さを０．００５〜０．０２５
μｍとすることが提案され、特開昭６１−２９４６３７
には低融点と高融点の脂肪酸エステルを用いることが提
案され、特公平７ー３６２１６には磁性層厚みに対し１
／４〜３／４の粒径の研磨剤と低融点の脂肪酸エステル
を用いることが提案され、特開平３−２０３０１８には
Ａｌを含むメタル磁性体と酸化クロムを用いることが提
案されている。

【０００６】非磁性の下層や中間層を有するディスク状
磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０６１３に
は導電層と金属粉末を含む磁性層を有する構成が提案さ
れ、特開平６−２９０４４６には１μｍ以下の磁性層と
非磁性層を有する構成が提案され、特開昭６２−１５９
３３７にはカーボン中間層と潤滑剤を含む磁性層からな
る構成が提案され、特開平５−２９０３５８にはカーボ
ンサイズを規定した非磁性層を有する構成が提案されて
いる。

【０００７】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１１１．４ｋＡ／ｍ（１４００エルステッ
ド）で厚さ０．５μｍ以下の磁性層と導電性粒子を含む
非磁性層を有する構成が提案され、特開平５−１９７９
４６には磁性層厚より大きい研磨剤を含む構成が提案さ
れ、特開平５−２９０３５４には磁性層厚が０．５μｍ
以下で、磁性層厚の厚み変動を±１５％以内とし、表面
電気抵抗を規定した構成が、特開平６−６８４５３には
粒径の異なる２種の研磨剤を含ませ、表面の研磨剤量を
規定した構成が提案されている。特開平６−５２５４１
には研磨剤としてアルミナ、酸化クロム、ダイアモンド
の内少なくとも１種を含む磁気記録媒体が示され、これ
ら高硬度粉末を添加すると走行安定性が良好になるとし
ている。磁性層の厚み損失による再生出力の低下を改良
するために、磁性層を薄層化することが知られており、
例えば、特開平５ー１８２１７８号公報には非磁性支持
体上に無機質粉末を含み、結合剤に分散してなる下層非
磁性層と該非磁性層が湿潤状態にある内に強磁性粉末を
結合剤に分散してなる１．０μｍ以下の厚みの上層磁性
層を設けた磁気記録媒体が開示されている。

【０００８】しかしながら、急速な磁気ディスクの大容
量化、高密度化にともない、このような技術をもってし
ても満足な特性を得ることが難しくなってきていた。特
に、高密度記録の場合、スペーシングロスの再生出力や
パルス半値幅への影響が大きくなるため、媒体表面の表
面性を平滑にする必要がある。しかし、表面を平滑にす
るとヘッドと媒体間の摩擦が高くなり、媒体表面の摩耗
や破壊が起こりやすくなる。そのためデータ読みだしが
不可能になりエラーとなる。また、媒体の表面を平滑に
すると、媒体間の摩擦も高くなり、滑り性が悪くなるた
め、製造工程におけるハンドリングが困難になるばかり
でなく、媒体同士が粘着してしまうという問題もあっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良され、さらにはヘ
ッド走行において磁性層の破壊によるデータ損失が発生
せず、かつブロッキングなどが発生せず媒体の製造が容
易である高密度記録用磁気ディスクを提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は下記（１）〜
（６）により達成された （１） 支持体上に実質的に非磁性である下層とその上
に強磁性金属粉末または六方晶フェライト粉末を結合剤
中に分散してなる磁性層が形成されている磁気ディスク
において、前記磁性層の厚味は０．０２〜０．５μｍで
あり、非接触式表面粗さ計で測定した該磁性層表面の十
点平均高さＲｚが２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、Ａ
ＦＭで測定した高さが２０ｎｍ以上の突起数が１×１０
⁵ 個／ｍｍ ² 以上２×１０⁶個／ｍｍ² 以下であること
を特徴とする磁気ディスク。 （２） ＡＦＭで測定した高さが２０ｎｍ以上の突起数
が３×１０⁵ 個／ｍｍ²以上１×１０⁶個／ｍｍ² 以下で
ある特徴とする（１）記載の磁気ディスク。 （３） Ｒｚが２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることを
特徴とする（１）または（２）記載の磁気ディスク。 （４） 磁性層に含まれるカーボンブラックの平均粒径
が０．０４〜０．１２μｍであることを特徴とする
（１）、（２）または（３）記載の磁気ディスク。 （５） 強磁性金属粉末の結晶子サイズが８０〜１６０
Åであることを特徴とする（１）、（２）、（３）また
は（４）記載の磁気ディスク。 （６） 磁性層の結合剤が強磁性金属粉末に対し１０〜
２２質量部であることを特徴とする（１）〜（５）のい
ずれかに記載の磁気ディスク。高さ２０ｎｍ以上の突起
数はデジタルイシンストゥルメンタル社製の原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ）ナノスコープＩＩＩを用い、ディスク上
の任意の５箇所につき、３０μｍ×３０μｍの面積での
突起数を計測した値の平均値である。Ｒｚついては、Ｗ
ＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いＭＩＲＡＵ法でディスク
上の２５０μｍ×２５０μｍの面積で高い順に突起１０
点を選びその平均値を求めた。測定を任意に５箇所で行
い、その値を平均したものをＲｚとした。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明は、支持体上に実質的に非
磁性である下層とその上に強磁性金属粉末または六方晶
フェライト粉末を結合剤中に分散してなる磁性層が形成
されている磁気ディスクにおいて、前記磁性層の厚味は
０．０２μｍ以上〜０．５μｍ以下であり、非接触式表
面粗さ計で測定した該磁性層表面の十点平均高さＲｚが
２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、ＡＦＭで測定した高
さが２０ｎｍ以上の突起数を１×１０⁵個／ｍｍ²以上２
×１０⁶個／ｍｍ² 以下（好ましくは３×１０⁵個／ｍｍ
² 以上１×１０⁶個／ｍｍ² 以下）とすることで、優れ
た高密度特性と優れた耐久性を併せ持ち高密度記録領域
での信頼性が格段に改良された磁気ディスクを得ること
ができた。Ｒｚは好ましくは２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下
である。

【００１２】ここで実質的に非磁性である下層とは記録
に関与しない程度に磁性を持っていても良いという意味
であり、以降、単に下層または非磁性層という。本発明
者は、下層を設けた上に薄層磁性層を設けた磁気ディス
クにおける、電磁変換特性と表面形状、摩擦係数と表面
形状、走行耐久性と表面形状、の関係を鋭意調査した結
果、電磁変換特性は特定の面積の全突起の中でもっとも
高い突起１０個の高さの平均値、すなわちＲｚによって
決まること、摩擦係数と耐久性は、それより小さい微少
な突起の個数で決まることを見い出した。

【００１３】本発明の媒体が高い電磁変換特性、低い摩
擦係数、優れた耐久性を示す理由は定かでないが、磁気
ディスクではヘッドがスライダ内に組み込まれているた
め、電磁変換特性に大きな影響を与えるヘッドと媒体間
のスペースは、スライダ面が媒体表面の比較的少数の高
い突起により決まると考えられる。１個の突起ではスペ
ースを維持するに十分ではなく、逆に無数の突起はスペ
ースを維持するために必要ではない。Ｒｚは電磁変換特
性との相関が高いのは１０個程度の高い突起が、スライ
ダと媒体のスペースを決めていることを示しているもの
と思われる。

【００１４】ここでＲｚは概ねスライダのレール幅に相
当する２５０μｍ四方の面積をＷＹＣＯ社製ＴＯＰＯ−
３Ｄを用い、非接触式で測定したものである。一方、微
小な突起数を多くすると、媒体同士の点接触点が多くな
り、面接触を防ぐことができるために摩擦が低くなり、
製造が容易になるばかりでなく、走行耐久性も向上する
ものと推定している。微小突起の高さはＡＭＦで３０μ
ｍ四方の面積で測定、高さは２０ｎｍ以上突起の個数を
制御するのがもっとも大きな効果が得られる。

【００１５】微少な突起を所定の個数に制御するために
は、塗布層組成や厚みでその影響度は異なるが、支持体
のフィラーの粒径と量により支持体表面の突起を制御す
ることが有効である。また、非磁性下層も磁性層表面の
形状に影響を与え、用いる非磁性粉体の粒径と形状を制
御することで磁性層表面に微細な突起を形成させること
ができる。磁性層は磁性体およぼカーボンブラックや研
磨剤などの固形の非磁性粉末の粒径を制御することで、
微小突起を形成させることができる。

【００１６】また、結合剤量を少なくすると突起数が増
加するが、これは固形の粉体の形状が媒体表面形状とし
て現れやすいためである。

【００１７】Ｒｚを制御するためは、支持体の粗大突起
を少なくすること、磁性体および磁性層中の固形の非磁
性粉体、下層の非磁性粉体は、粒度分布がシャープで特
に粗粒子分が少ないこと、ジルコニアビーズなどを用い
て十分分散を行うこと、磁性層表面を研磨テープ等で表
面処理し粗大突起を事前に削り取ること、などが有効で
ある。

【００１８】本発明の磁気ディスクの磁性層の抗磁力
（Ｈｃ）は、１４３．３ｋＡ／ｍ（１８００エルステッ
ド）以上が好ましく、更に好ましくは１５９．２ｋＡ／
ｍ（２０００エルステッド）以上であり、更に好ましく
は１８３．１〜２７８．６ｋＡ／ｍ（（２３００〜３５
００エルステッド）である。１４３．３ｋＡ／ｍ（１８
００エルステッド）未満では高密度記録の達成は困難で
ある。

【００１９】本発明の磁性層の中心面平均表面粗さ（Ｒ
ａ）は、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法により、０．５〜７．０ｎ
ｍが望ましい。７．０ｎｍを越えると磁気ディスクとヘ
ッドのスペーシングロスが大きくなり、出力が低く、ノ
イズが高くなり、本発明の磁気ディスクが有する媒体性
能を発揮出来ない。０．５ｎｍに満たないと磁性層が磁
気ヘッドにより損傷を受けやすくなるので好ましくな
い。

【００２０】以下に本発明の磁気記録媒体の各層構成及
び原材料等について更に詳しく説明する。 （磁性層）本発明の磁気ディスクでは下層と、薄層な磁
性層（以下、「上層」、「上層磁性層」ともいう）を支
持体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層は下
層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、乾燥
した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層磁性層を設けることが出来
る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好まし
いが、デイスクの場合は乾燥後塗布も十分使用できる。
本発明の重層構成で同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）
では上層／下層が同時に形成できるため、カレンダー工
程などの表面処理工程を有効に活用でき、極めて薄い磁
性層でもその表面粗さを良化できる。

【００２１】（強磁性粉末）本発明の上層磁性層に使用
する強磁性粉末としては、強磁性金属粉末または六方晶
フェライト粉末を用いる。 （強磁性金属粉末）強磁性金属粉末としては、α−Ｆｅ
を主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強
磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、
Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａ
ｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子
を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、
Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも
１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、
Ａｌ、Ｎｄ、Ｓｍの少なくとも一つを含むことがさらに
好ましい。

【００２２】Ｃｏの含有量はＦｅに対して０〜４０原子
％が好ましく、さらに好ましくは１５〜３５原子％、よ
り好ましくは２０〜３５原子％である。Ｙの含有量は
１．５〜１２原子％が好ましく、さらに好ましくは３〜
１０原子％、より好ましくは４〜９原子％である。Ａｌ
は１．５〜３０原子％が好ましく、さらに好ましくは５
〜２０原子％、より好ましくは８〜１５原子％である。
これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、
界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理
を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４
０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２
２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−
２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７
−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７
−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４
７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭
４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同
３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２０
０５号、同３３８９０１４号などに記載されている。

【００２３】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシ
ュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸
化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦ
ｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を
熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元
剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中
で蒸発させて粉末を得る方法などである。このようにし
て得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわ
ち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に
浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を
形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成
する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００２４】磁性層に含有される強磁性金属粉末をＢＥ
Ｔ法による比表面積（Ｓ_BET）で表せば、通常４５〜８
０ｍ²／ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ²／ｇであ
る。４５ｍ²／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／
ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。強磁性金属
粉末の結晶子サイズは、好ましくは８０〜１６０Åであ
り、さらに好ましくは１００〜１４０Å、更に好ましく
は１１０〜１４０Åである。強磁性金属粉末の平均長軸
長は、好ましくは３０〜１５０ｎｍであり、さらに好ま
しくは３０〜１００ｎｍである。強磁性金属粉末の針状
比は、３〜１５が好ましく、さらには５〜１２が好まし
い。強磁性金属粉末の飽和磁化（σ_S）は、通常１００
〜２００Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）であり、好まし
くは１２０Ａ・ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）〜１８０Ａ・
ｍ²／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）である。

【００２５】強磁性金属粉末の含水率は、０．０１〜２
質量％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁
性金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性
金属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は通常、４〜１２であ
るが、好ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末は、
必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性金属
粉末に対し通常、０．１〜１０質量％であり表面処理を
施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ ² 以
下になり好ましい。強磁性金属粉末には、可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場
合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２
００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは
少ない。また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は、
空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、
さらに好ましくは５容量％以下である。また形状につい
ては先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば
針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。

【００２６】強磁性金属粉末自体のＳＦＤ（switching
field distribution) は小さい方が好ましく、０．８以
下が好ましい。強磁性金属粉末のＨｃの分布を小さくす
ることが好ましい。尚、ＳＦＤが０．８以下であると、
電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転が
シャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル
磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするために
は、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布を
良くする、焼結を防止するなどの方法がある。

【００２７】（六方晶フェライト粉末）六方晶フェライ
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこ
れらの各種の各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆し
たマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピ
ネル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウ
ムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｎ
ーＺｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素
を添加した物を使用することができる。原料・製法によ
っては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズ
は、六角板径で好ましくは平均板径が１０〜５５ｎｍ、
さらに好ましくは１０〜４５ｎｍであり、特に好ましく
は１０〜４０ｎｍである。

【００２８】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、平均板径は４５ｎｍ以下が好ましいが、１０
ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めな
い。５５ｎｍより大きいとノイズが高く、いずれも高密
度磁気記録には向かない。板状比（板径／板厚）は１〜
１５が望ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小
さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な
配向性が得られない。１５より大きいと粒子間のスタッ
キングによりノイズが大きくなる。この粉体サイズ範囲
のＢＥＴ法による比表面積は３０〜２００ｍ²／ｇを示
す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と
符号する。粒子板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。
数値化は困難であるが、粒子ＴＥＭ（透過型電子顕微
鏡）写真より約５００個を無作為に測定することで比較
できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算し
て平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均粉体サ
イズ＝０．１〜１．５である。粉体サイズ分布をシャー
プにするには、粒子生成反応系をできるだけ均一にする
と共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行わ
れている。たとえば酸溶液中で超微細粉体を選別的に溶
解する方法等も知られている。

【００２９】（カーボンブラック）磁性層は、所望によ
りカーボンブラックを含むことができる。使用されるカ
ーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、
カラー用ブラック、導電性カーボンブラック、アセチレ
ンブラック、等を用いることができる。比表面積は５〜
５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１
００ｇ、平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／ｃｃ、が好ましい。平均粒子径は０．０４μ
（４０ｎｍ）〜０．１２μ（１２０ｎｍ）が特に好まし
い。磁性層に用いられるカーボンブラックの具体的な例
としては、キャボット製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２
０００、１３００、１０００、９００、９０５、８０
０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボン
製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化
学製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１００
０、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン
製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、
５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、アクゾー社
製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用してもかまわない。特に、非磁性層に含
有されるカーボンブラックの場合と同様にカルボン酸ア
ミン塩及び燐酸エステルアミン塩から選択される少なく
とも１種以上のアニオン性界面活性剤で処理され、平均
粒子径が４０〜１２０ｎｍのカーボンブラックが好まし
い。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前に
あらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ
ーボンブラックは単独、または組合せで使用することが
できる。カーボンブラックを使用する場合は、強磁性金
属粉末に対する量の０．１〜３０質量％で通常、用いる
ことができる。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、
摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上
層磁性層、下層でその種類、量、組合せを変え、粉体サ
イズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性を
もとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁
性層で使用できるカーボンブラックは例えば（「カーボ
ンブラック便覧」カーボンブラック協会編）を参考にす
ることができる。

【００３０】（研磨剤）磁性層に使用できる研磨剤とし
ては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ
素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独
または組合せで使用される。また、これらの研磨剤同士
の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を
使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合
物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量
％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒
径は０．０１〜１μｍが好ましく、特に電磁変換特性を
高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。ま
た耐久性を向上させるには必要に応じて粒径の異なる研
磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ
密度は０．３〜１．５ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５質
量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜４０ｍ²／ｇが
好ましい。研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、の
いずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−５０Ｇ、ＨＩＴ−７０、
ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノ
ルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢ
Ｍ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製Ｕ
Ｂ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、
クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４
０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭
和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は
必要に応じ下層に添加することもできる。下層に添加す
ることで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制
御したりすることができる。これら磁性層、下層の添加
する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきもの
である。

【００３１】（下層）次に下層に関する詳細な内容につ
いて説明する。本発明の磁気ディスクの下層は、実質的
に非磁性であればその構成は制限されるべきものではな
いが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉
体、例えば、無機粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散
されたものが挙げられる。該無機粉末は、通常、好まし
くは非磁性粉末であるが、下層が実質的に非磁性である
範囲で磁性粉末も使用され得るものである。下層が実質
的に非磁性であるとは、上層の電磁変換特性を実質的に
低下させない範囲で下層が磁性を有することを許容する
ということである。具体的には、例えば下層の残留磁束
密度が０．０１テスラ(１００ガウス）以下または抗磁
力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００エルステッド）以下であ
るような場合である。

【００３２】（非磁性粉末）該非磁性粉末としては、例
えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化
物、金属炭化物、金属硫化物などの無機化合物から選択
することができる。無機化合物としては、例えばα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミ
ナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリ
ウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダ
ム、窒化珪素、チタンカーバイド、酸化チタン、二酸化
珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステ
ン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カ
ルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリ
ブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ま
しいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこ
となどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バ
リウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化
鉄である。

【００３３】これら非磁性粉末の平均粒子サイズは、
０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サ
イズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁
性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせるこ
ともできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の平均粒
子径は０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性
粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０
８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、
平均長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以
下がさらに好ましい。タップ密度は通常、０．０５〜２
ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。
非磁性粉末の含水率は通常、０．１〜５質量％、好まし
くは０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５
質量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１１であ
るが、ｐＨは３〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末
の比表面積は、通常１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは５
〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ²／ｇであ
る。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μ
ｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好まし
い。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は通
常、５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０
ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１０
０ｇである。比重は、通常１〜１２、好ましくは３〜６
である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれで
もよい。モース硬度は、４以上、１０以下のものが好ま
しい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は通
常、１〜２０μｍｏｌ／ｍ² 、好ましくは２〜１５μｍ
ｏｌ／ｍ² 、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ² で
ある。これらの非磁性粉末の表面は表面処理が施されＡ
ｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂、Ｓ
ｂ₂Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ₃ が存在することが好ましい。
特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、Ｔｉ
Ｏ₂ 、ＺｒＯ₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ
₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせて
使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、
目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、
先ずアルミナを存在させた後にその表層にシリカを存在
させる方法、またはその逆の方法を採ることもできる。
また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００３４】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ
−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴ
Ｏ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ
−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１
００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ
３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ
−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイ
トα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００
Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００
Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩ
ＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，Ｓ
Ｔ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、
日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ，５００Ａ、およびそれを焼成したものが
挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンと
α−酸化鉄である。

【００３５】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗（Ｒｓ）を下げること、光透
過率を小さくすることができるとともに、所望のマイク
ロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカー
ボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもた
らすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム
用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、ア
セチレンブラックなどを用いることができる。下層のカ
ーボンブラックは所望する効果によって、以下のような
特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が
得られることがある。

【００３６】下層のカーボンブラックの比表面積は通
常、１００〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４０
０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カ
ーボンブラックの平均粒子径は通常、５〜８０ｎｍ、好
ましくは１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０
ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水
率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／
ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラック
の具体的な例としてはキャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥ
ＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９００，８
００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三
菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２
５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６
５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ
−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアンカー
ボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８
８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３
５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１
２５５，１２５０、アクゾ社製ケッチェンブラックＥＣ
などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表
面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面
の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは上記無機質粉末に対して５０質量％を越え
ない範囲、非磁性層総質量の４０質量％を越えない範囲
で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、また
は組合せで使用することができる。本発明で使用できる
カーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」
（カーボンブラック協会編）を参考にすることができ
る。

【００３７】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００３８】（結合剤）磁性層および下層に用いられる
結合剤の種類、量に関しては従来の公知技術が適用でき
る。結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱
可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が、通常−１００
〜１５０℃、数平均分子量が通常、１,０００〜２００,
０００、好ましくは１０,０００〜１００,０００、重合
度が、通常約５０〜１０００程度のものである。

【００３９】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテルなどの単量体から導かれる構成
単位を含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、
各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応
型樹脂として、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド
樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステ
ル樹脂とイソシアネートプレポリマ−の混合物、ポリエ
ステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリ
ウレタンとポリイソシアネートの混合物などがあげられ
る。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチ
ックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公
知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能であ
る。これらの例とその製造方法については特開昭６２−
２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は
単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして
塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化
ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少
なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれ
らにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられ
る。

【００４０】ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエステル
ポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテ
ルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウ
レタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、
ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用
できる。ここに示したすべての結合剤について、より優
れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯ
ＯＭ，−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺
Ｒ₃ （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ
などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重
合または付加反応で導入したものを用いることが好まし
い。このような極性基の量は、１０^-1〜１０^-8モル／ｇ
であり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４１】結合剤の具体的な例としては、ユニオンカ
−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧ
Ｆ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣ
Ｃ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨ
Ｃ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰ
Ｒ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ
−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｏ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，Ｄ
Ｘ８２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−
１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ
５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニ
ッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本
インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８
０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０
−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バ
イロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、
ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミ
ン４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２
０，９０２２、７０２０，三菱化成社製、ＭＸ５００
４，三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製
サランＦ３１０，Ｆ２１０などが挙げられる。

【００４２】下層、磁性層に用いられる結合剤は、下層
にあっては非磁性粉末、磁性層にあっては強磁性金属粉
末に対し、各々通常、５〜５０質量％の範囲、好ましく
は１０〜２２質量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系
樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは
２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるこ
とが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐
食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタ
ンとイソシアネートのみを使用することも可能である。
ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜
１５０℃、更には０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ
²（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０
Ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。

【００４３】磁気ディスクは基本的に下層および磁性層
からなるが、下層および／または磁性層を複層化しても
よい。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル
系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、ある
いはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分
子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性な
どを必要に応じ各層とで変えることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきであり、多層構成に関す
る公知技術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を変
更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層
の結合剤量を増量すること、ヘッドに対するヘッドタッ
チを良好にするためには、下層の結合剤量を多くして柔
軟性を持たせることなどが挙げられるが、適用に際して
は、本発明の効果が発揮される範囲で最適化されること
が好ましいことは言を待たない。

【００４４】ポリイソシアネートとしては、トリレンジ
イソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレ
ンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシア
ネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネ
ートなどのイソシアネート類、また、これらのイソシア
ネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシア
ネート類の縮合によって生成したポリイソシアネートな
どを使用することができる。これらのイソシアネート類
の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社
製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３
０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ，ミリオネ
ートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２、タ
ケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネ
ートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュール
Ｌ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジ
ュールＨＬなどがありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも
用いることができる。

【００４５】（添加剤）磁気ディスクの磁性層と下層に
使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、
分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。添加
剤としては、二硫化モリブデン、二硫化タングステング
ラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイ
ル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、
フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素
含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アル
キル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル
硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニル
エーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェ
ニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホ
ン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シ
ランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含
有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭
素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）、および、これら
の金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数
１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数
２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ
ールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐
していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステル
またはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、ア
ルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪
酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８
〜２２の脂肪族アミンなどが挙げられる。

【００４６】これらの具体例として下記のものが挙げら
れる。脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレ
ン酸、イソステアリン酸など。エステル類ではブチルス
テアレート、オクチルステアレート、アミルステアレー
ト、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、
オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、
ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルス
テアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−
ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステ
アレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレー
ト、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオ
ペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコー
ルジオレイルなど。アルコール類ではオレイルアルコー
ル、ステアリルアルコール、ラウリルアルコールなど。

【００４７】アルキレンオキサイド系、グリセリン系、
グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイ
ド付加体などのノニオン界面活性剤、環状アミン、エス
テルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘
導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類な
どのカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性
基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスル
ホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型などの両性界面活性剤なども使
用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性
剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されて
いる。これらの潤滑剤、帯電防止剤などは必ずしも１０
０％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物などの不純分が含まれてもかま
わない。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、
さらに好ましくは１０質量％以下である。

【００４８】これらの潤滑剤、界面活性剤は個々に異な
る物理的作用を有するものであり、その種類、量、およ
び相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は目的に応じ
最適に定められるべきものである。下層、磁性層で融点
の異なる脂肪酸を用い表面への滲み出しを制御する、沸
点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面への滲み
出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の
安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を下層で多くして
潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した
例のみに限られるものではない。一般には潤滑剤の総量
として磁性層の強磁性金属粉末または下層の非磁性粉末
に対し、０．１質量％〜５０質量％、好ましくは２質量
％〜２５質量％の範囲で選択される。

【００４９】また添加剤のすべてまたはその一部は、磁
性および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわ
ない。例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁
性体と結合剤と有機溶剤による混練工程で添加する場
合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、
塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じ
て磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤
の一部または全部を塗布することにより目的が達成され
る場合がある。また、目的によってはカレンダー処理
（カレンダーロールによる加熱加圧処理）した後、また
はスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布すること
もできる。

【００５０】上記で用いられる有機溶剤は公知のものが
使用でき、例えば特開平６−６８４５３号公報に記載の
溶剤を用いることができる。

【００５１】（層構成）磁気ディスクの層構成をより詳
しく説明する。本発明の磁気ディスクの厚み構成は支持
体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍである。

【００５２】支持体と下層との間に密着性向上のための
下塗り層を設けてもかまわない。本磁気ディスクは０．
０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍで
ある。本発明は通常、支持体両面に下層と磁性層を設け
てなる両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみ
にそれらを設けたディスク状媒体であってもよい。後者
の場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すために
下層、磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもか
まわない。この厚みは０．１〜４μｍ、好ましくは０．
３〜２．０μｍである。これらの下塗層、バックコ−ト
層は公知のものが使用できる。

【００５３】本発明の媒体の磁性層の厚みは０．０２〜
０．５μｍであり、好ましくは０．０４〜０．３μｍで
ある。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離
してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用
できる。この場合は重層の合計の厚みが上記の範囲であ
ればよい。

【００５４】本発明になる媒体の下層の厚みは通常、
０．２〜５．０μｍ、好ましくは０．３〜３．０μｍ、
さらに好ましくは１．０〜２．５μｍである。なお、本
発明媒体の下層は実質的に非磁性であればその効果を発
揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意図
的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示すもの
であり、本発明と実質的に同一の構成と見なすことがで
きることは言うまでもない。

【００５５】（支持体）磁気ディスクに用いられる支持
体は、非磁性であることが好ましい。支持体としてはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、などのポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ
−ストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド
（脂肪族ポリアミドやアラミドなどの芳香族ポリアミド
を含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフ
ォン、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが
使用できる。ポリエチレンナフタレート、ポリアミドな
どの高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に
応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平
３−２２４１２７号公報に示されるような積層タイプの
支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあら
かじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱
処理、除塵処理などをおこなってもよい。また本発明の
支持体としてアルミまたはガラス基板を適用することも
可能である。

【００５６】磁気ディスクには、支持体としてＷＹＫＯ
社製の表面粗さ計ＴＯＰＯ−３ＤのＭＩＲＡＵ法で測定
した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）が８．０ｎｍ以下、好
ましくは４．０ｎｍ以下、さらに好ましくは２．０ｎｍ
以下のものを使用することが好ましい。支持体は単に中
心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以
上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形
状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさ
と量により自由にコントロールされるものである。これ
らのフィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉな
どの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末
があげられる。支持体の最大高さＳＲｍａｘは１μｍ以
下、十点平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高
さはＳＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは
０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒ は１０％以上、
９０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ
以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るた
め、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意
にコントロールできるものであり、０．０１μｍから１
μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ²あたり０〜２０
００個の範囲でコントロールすることができる。

【００５７】支持体のＦ−５値は、好ましくは５〜５０
Ｋｇ／ｍｍ²（４９〜４９０ＭＰａ）であり、また支持
体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以
下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での
熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．
５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍｍ
²（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０００
Ｋｇ／ｍｍ²（９８０〜１９６００ＭＰａ）、が好まし
い。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／℃であり、好まし
くは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨張係数は１０^-4
／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０^-5／ＲＨ％以下で
ある。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持
体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼで等しいこ
とが好ましい。

【００５８】（磁気ディスクの製法）磁気ディスクの磁
性塗料または下層塗料を製造する工程は、少なくとも混
練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に
応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ
２段階以上にわかれていてもかまわない。磁気ディスク
の製造に使用する強磁性金属粉末、非磁性粉末、結合
剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、
溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添
加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工
程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレ
タンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための
混合工程で分割して投入してもよい。また、従来の公知
の製造技術を一部の工程として用いることができる。混
練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、
エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用するこ
とが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非
磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結
合剤の３０質量％以上が好ましい）および磁性粉末１０
０質量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処理さ
れる。これらの混練処理の詳細については特開平１−１
０６３３８号、特開平１−７９２７４号に記載されてい
る。また、磁性層塗料および下層塗料を分散させるには
ガラスビーズを用ることができるが、高比重の分散メデ
ィアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチー
ルビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充
填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使
用することができる。

【００５９】本発明で重層構成の磁気ディスクを塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に、磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置などにより、まず下層を塗布し、下層がウェット
状態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２
３８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されて
いる支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上
層を塗布する方法である。第二に、特開昭６３−８８０
８０号、特開平２−１７９７１号、特開平２−２６５６
７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二
つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に
塗布する方法である。第三に、特開平２−１７４９６５
号に開示されているバックアップロール付きエクストル
ージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する方
法である。なお、磁性粒子の凝集による磁気ディスクの
電磁変換特性などの低下を防止するため、特開昭６２−
９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されて
いるような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断
を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度につ
いては、特開平３−８４７１号に開示されている数値範
囲を満足することが好ましい。磁気ディスクの層構成を
実現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁
性層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。

【００６０】磁気ディスクは、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは、一般的には面内
２次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次
元ランダムとすることもできる。また、スピンコートを
用い円周配向してもよい。

【００６１】上記塗布工程において、乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０〜１００
０ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また
配向工程に入る前に適度の予備乾燥を行なうこともでき
る。

【００６２】カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミドなどの耐熱性の
あるプラスチックロールまたは金属ロールで処理する
が、特に両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理
することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以
上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好
ましくは１９６０N／ｃｍ（２００ｋｇ／ｃｍ）以上、
さらに好ましくは２９４０N／ｃｍ（３００ｋｇ／ｃ
ｍ）以上である。カレンダ処理後、デイスク形状に打ち
抜き、本発明の処理を行った後、ライナが内側に設置済
みのカートリッジに入れ、所定の機構部品を付加し、磁
気ディスクが製造されるが、必要に応じ、デイスク形状
に打ち抜いた後、高温でのサーモ処理（通常、５０〜９
０℃）を行い、塗布層の硬化処理を促進させてもよい。

【００６３】〔物理特性〕磁気ディスクの磁性層の飽和
磁束密度は、通常０．２〜０．６テスラ（２０００〜６
０００ガウス）である。抗磁力の分布は狭い方が好まし
く、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下が好ましい。角
形比は、通常、ランダム配向で０．４５〜０．５５、２
次元ランダムの場合は、０．６〜０．６７以下である。
垂直配向した場合は、通常０．５以上である。

【００６４】磁気ディスクのヘッドに対する摩擦係数
は、温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の範囲に
おいて、好ましくは０．５以下、より好ましくは０．３
以下であり、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴〜
１０¹²オ−ム／ｓｑであり、帯電位は−５００Ｖから＋
５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾
性率は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Ｋｇ／
ｍｍ²（９８０〜１９６００ＭＰａ）、破断強度は好ま
しくは１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ²（９８〜６８６ＭＰ
ａ）、磁気ディスクの弾性率は面内各方向で好ましくは
１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²（９８０〜１４７００Ｍ
Ｐａ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃
以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましく
は０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度（１１
０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大
点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそれ
は０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷
〜８×１０⁸Ｎ／ｍ²の範囲にあることが好ましく、損失
正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大
きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や
機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しい
ことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好まし
くは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ
／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率は下層、磁性
層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２
０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには
小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保し
た方が良い場合がある。

【００６５】磁性層のＲｚは２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下
であり、好ましくは２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である
が、磁性層の中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は測定範囲１
２１μｍ×９２μｍの場合は５．０ｎｍ以下が好まし
く、より好ましくは４．５ｎｍ以下、２．０ｎｍ以下が
さらに好ましい。これらは支持体のフィラ−による表面
性のコントロールや磁性層に添加する粉体の粒径と量、
カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロー
ルすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすること
が好ましい。

【００６６】磁気ディスクにおいて、目的に応じ下層と
磁性層でこれらの物理特性を変えることができる。例え
ば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると
同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気ディスク
のヘッドへの当りを良くするなどである。

【００６７】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以
下の「部」とは「質量部」のことである。 実施例１ ＜支持体＞ 支持体Ｂ１（ポリエチレンテレフタレート） 厚さ ６２μｍ 含有フィラー 粒径０．２μｍ ＳｉＯ₂ ４質量％ 支持体Ｂ２（ポリエチレンテレフタレート） 厚さ ６２μｍ 含有フィラー 粒径０．２μｍ ＳｉＯ₂ ４質量％ 支持体Ｂ３（ポリエチレンテレフタレート） 厚さ ６２μｍ 含有フィラー 粒径０．２μｍ ＳｉＯ₂ ４質量％ 支持体Ｂ４（ポリエチレンテレフタレート） 厚さ ６２μｍ 含有フィラー 粒径０．２μｍ ＳｉＯ₂ １０質量％ 支持体Ｂ５（ポリエチレンテレフタレート） 厚さ ６２μｍ 含有フィラー 粒径０．２μｍ ＳｉＯ₂ １５質量％ ＜非磁性塗料＞ 非磁性塗料Ｕ１ 酸化チタン １００部 平均粒径：０．０３５μｍ ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７ 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック ２５部 平均粒径 ０．０３μｍ 塩化ビニル共重合体 １６部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂７部 ＵＲ８２００（東洋紡社製）

【００６８】 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １１０部 シクロヘキサノン １９０部

【００６９】 ＜磁性塗料の作成＞ （磁性塗料Ｍ１） 強磁性金属粉末 １００部 組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝７０／３０（原子比） Ａｌ／Ｆｅ＝１３原子％ Ｙ／Ｆｅ＝６原子％ Ｈｃ： １８３．１ＫＡ／ｍ（２３００エルステッド） 平均長軸長： ０．０８μｍ 結晶子サイズ： １１０オングストローム σＳ ： １３０Ａ・ｍ² ／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ） 塩化ビニル共重合体 １０部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン樹脂 ５部 ＵＲ８２００（東洋紡社製）

【００７０】 αアルミナ（平均粒径０．１５μｍ） ５部 カ−ボンブラック（平均粒径０．１μｍ） ２部 フェニルホスホン酸 ２部 ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １１０部

【００７１】上記の塗料のそれぞれについて、各成分を
ニ−ダで混練したのち、ジルコニアビーズを用いサンド
ミルで分散させた。得られた分散液にポリイソシアネー
トを下層の塗布液には６部、磁性層の塗布液に５部を加
え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え，
１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、
下層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製
した。得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μ
ｍになるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さ
が所定の厚さになるように、各支持体上に同時重層塗布
をおこない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５
０Ｈｚ、磁場強度０．０２５Ｔ（２５０ガウス）の交流
磁場発生装置の中を通過させランダム配向処理行った。
もう片方の支持体面にも同様に塗布、配向し、乾燥後、
７段のカレンダで温度９０℃、線圧２９４０Ｎ／ｃｍ
（３００Ｋｇ／ｃｍ）にて処理を行い、３．５吋に打ち
抜き表面研磨処理した後、ライナーが内側に設置済の
３．５吋のカートリッジに入れ、所定の機構部品を付加
し、３．５吋フロッピーディスクを得た。ＳｉＯ₂フィ
ラー粒径が０．５μｍで含有量をポリエチレンテレフタ
レートに対し２質量％とした支持体をＢ２とした。Ｓｉ
Ｏ₂ フィラー粒径が０．２μｍでポリエチレンテレフタ
レートに対し２質量％含む支持体をＢ３とした。

【００７２】非磁性塗料Ｕ１のの非磁性粉末をα−Ｆｅ
₂ Ｏ₃ ヘマタイト（平均長軸長：０．０８μｍ 、ＢＥ
Ｔ法による、比表面積：６０ｍ² ／ｇ、ｐＨ：９、針状
比６、表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対して８質量％存
在）とした以外は同様としたものを非磁性塗料Ｕ２とし
た。非磁性塗料Ｕ１のの非磁性粉末をα−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘ
マタイト（平均長軸長：０．１５μｍ 、ＢＥＴ法によ
る、比表面積：４０ｍ² ／ｇ、ｐＨ：９、針状比６、表
面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対して８質量％存在）とし
た以外は同様としたものを非磁性塗料Ｕ３とした。磁性
塗料Ｍ１の強磁性金属粉末の結晶子サイズを１８０オン
グストロームとした以外はＭ１と同じとした磁性塗料を
Ｍ２とした。磁性塗料Ｍ１の塩化ビニル共重合体の量を
８部、ポリウレタン樹脂の量を４部とした以外はＭ１と
同じとした磁性塗料をＭ３とした。磁性塗料Ｍ１の塩化
ビニル共重合体の量を１２部、ポリウレタン樹脂の量を
６部とした以外はＭ１と同じとした磁性塗料をＭ４とし
た。磁性塗料Ｍ１のカーボンブラックの粒径を０．０５
μｍとした以外はＭ１と同じとした磁性塗料をＭ５とし
た。磁性塗料Ｍ１のカーボンブラックの粒径を０．０５
μｍとし、量を４部とした以外はＭ１と同じとした磁性
塗料をＭ６とした。磁性塗料Ｍ１のカーボンブラックの
粒径を０．２μｍとした以外はＭ１と同じとした磁性塗
料をＭ７とした。

【００７３】磁性塗料Ｍ１をガラズビーズで分散した以
外はＭ１と同じとした磁性塗料をＭ８とした。磁性塗料
Ｍ１の磁性体を、板径２４ｎｍ、板状比３、Ｈｃ１９９
ＫＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）、σｓ：５５Ａ・ｍ² ／ｋｇ
（ｅｍｕ／ｇ）バリウムフェライト磁性体とした以外は
Ｍ１と同じとした磁性塗料をＭ９とした

【００７４】実施例．２〜．５および比較例．１〜．１
１ 上記、支持体、非磁性塗料、磁性塗料を用いて表１に示
した組み合わせで、実施例．１と同じようにして磁気デ
ィスクを作成し、磁気ディスク各々の性能を下記の測定
法により評価し、結果を表１に示した。なお、比較例．
９はＲ_Zが１７nmであり必然的に２０nm以上の突起が０
になる。比較例１１は２０nm以上の突起が本願の上限を
越えるもので、Ｒ_Zも同時に上限を越えるのは突起数と
Ｒ_Zを独立してコントロールすることが難しくなってく
るためである。

【００７５】（測定法） （１）耐久性： ディスクに信号を記録しＺｉｐドライ
ブにて以下のフローを１サイクルとするサーモサイクル
環境で走行させた。訂正不能なエラーが発生する時点ま
での時間を耐久性とした。 （サーモサイクルフロー） ２５℃、５０％ＲＨ １時間→（昇温 ２時間）→６０
℃、２０％ＲＨ ７時間→（降温 ２時間）→２５℃、
５０％ＲＨ １時間→（降温 ２時間）→５℃、１０％
ＲＨ ７時間→（昇温 ２時間）→＜これを繰り返す＞ （２） 突起数： 高さ２０ｎｍ以上の突起は、デジタ
ルイシンストゥルメンタル社製の原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）ナノスコープＩＩＩを用い３０μｍ×３０μｍの面
積での突起数を計測した。 この測定を任意の５箇所で
行い、その値を平均したものを突起数とした。 （３） Ｒｚ： ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いＭＩ
ＲＡＵ法で２５０μｍ×２５０μｍの面積で高い順に突
起１０点を選びその平均値を求めた。測定を任意に５箇
所で行い、その値を平均したものをＲｚとした。 （４） ＨＦ出力： 記録波長０．５μの信号を記録再
生した実施例．１の出力を基準としｄＢで求めた。

【００７６】

【表１】

【００７７】上表から、本発明の実施例は、耐久性が優
れていることがわかる。

【００７８】

【発明の効果】本発明により電磁変換特性と走行耐久性
を両立させた磁気ディスクを提供することができる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   その上に強磁性金属粉末または六方晶フェライト粉末を
   結合剤中に分散してなる磁性層が形成されている磁気デ
   ィスクにおいて、前記磁性層の厚味は０．０２〜０．５
   μｍであり、非接触式表面粗さ計で測定した該磁性層表
   面の十点平均高さＲｚが２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であ
   り、ＡＦＭで測定した高さが２０ｎｍ以上の突起数が１
   ×１０⁵個／ｍｍ² 以上２×１０⁶個／ｍｍ² 以下である
   ことを特徴とする磁気ディスク。
2. 【請求項２】 ＡＦＭで測定した高さが２０ｎｍ以上の
   突起数が３×１０⁵ 個／ｍｍ² 以上１×１０⁶個／ｍｍ
   ² 以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気ディ
   スク。
3. 【請求項３】 Ｒｚが２０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である
   ことを特徴とする請求項１または２記載の磁気ディス
   ク。
4. 【請求項４】 磁性層に含まれるカーボンブラックの平
   均粒径が０．０４〜０．１２μｍであることを特徴とす
   る請求項１、２または３記載の磁気ディスク。
5. 【請求項５】 強磁性金属粉末の結晶子サイズが８０〜
   １６０Åであることを特徴とする請求項１、２、３また
   は４記載の磁気ディスク。
6. 【請求項６】 磁性層の結合剤が強磁性金属粉末に対し
   １０〜２２質量部であることを特徴とする請求項１〜５
   のいずれかに記載の磁気ディスク。