JPH09293232A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性、特に高密度記録特性が格段に改
良され、かつエラーレートが小さい磁気記録媒体を提供
すること。 【解決手段】非磁性支持体上に実質的に非磁性である下
地層と強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分散
してなる磁性層をこの順に設けてなり、磁性層の垂直方
向の角形比ＳＱｐが０．４以上であり、磁性層の垂直方
向の抗磁力Ｈｃｐが１５００Ｏｅ以上であり、記録され
るデジタル信号のビット最小反転間隔Ｙμｍ、最大反転
間隔Ｚμｍと磁性層の厚みＸμｍとの間に、 Ｘ≦Ｙ≦０．８μｍ Ｚ≦１．０μｍ の関係が成り立つことを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁性層と非磁性層を
有し、最上層に六方晶フェライト微粉末を含む高密度記
録用の磁気記録媒体、特にディスク状磁気記録媒体に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体、特に磁気ディスクの分野
において、Ｃｏ変性酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２Ｈ
Ｄフロッピーディスクがパーソナルコンピュータに標準
搭載されようになった。しかし扱うデータ容量が急激に
増加している今日において、その容量は十分とは言えな
くなり、フロッピーディスクの大容量化が望まれてい
た。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉末を結
合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したもの
が広く用いられる。この中でも強磁性金属微粉末となら
び六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れて
いることが知られている。高密度記録特性に優れる強磁
性金属微粉末を用いた大容量ディスクとしては１０ＭＢ
のＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２ＳＤまたは六方晶
フェライトを用いた大容量ディスクとしては４ＭＢのＭ
Ｆ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルなどがあるが、容
量、性能的に十分とは言えなかった。

【０００４】六方晶フェライトは垂直異方性をもつた
め、高密度記録に適すると言われている。特開昭５９−
７７６２８、特開昭６１−２９６５２５、特開昭６２−
２８７４２０、特開昭６２−１０９２２６には垂直配向
させた六方晶フェライトを含む、ディスク状磁気記録媒
体が提案されている。このような垂直配向させた六方晶
フェライトは確かに出力、Ｃ／ＮやＤ50（記録密度）に
優れるが、デジタル記録特性として最終的に重要となる
エラーレートはむしろ著しく劣る場合があった。この原
因は垂直磁化成分を多くもつ場合にリングヘッドで記録
再生した場合、波形がダイパルス状になるため、正確な
ピーク検出ができないためと思われる。ランダム配向し
た場合でも、六方晶フェライトは垂直方向に磁化成分を
比較的多くもつ。そのためアンダーシュートが発生し、
対象性の悪い波形となり同様の問題が発生する。このよ
うな問題が垂直成分を多く有する六方晶フェライトの実
用化の障壁になっていた。一方、単磁極ヘッドを用いた
垂直記録を行い、波形を単峰パルスとすることも検討さ
れているが、実用レベルには多くの課題がある。

【０００５】非磁性の下地層や中間層を有するディスク
状磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０６１３
には導電層と金属微粉末を含む磁性層を有する構成が、
特開平６−２９０４４６には１μm 以下の磁性層と非磁
性層を有する構成が、特開昭６２−１５９３３７にはカ
ーボン中間層と潤滑剤を含む磁性層からなる構成が、特
開平５−２９０３５８にはカーボンサイズを規定した非
磁性層を有する構成が提案されている。

【０００６】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１４００Oe以上で厚さ０．５μm 以下の磁性
層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構成が、特開平
５−１９７９４６には磁性層厚より大きい研磨剤を含む
構成が、特開平５−２９０３５４には磁性層厚が０．５
μm 以下で、磁性層厚の厚み変動を±１５％以内とし、
表面電気抵抗を規定した構成が、特開平６−６８４５３
には粒径の異なる２種の研磨剤を含ませ、表面の研磨剤
量を規定した構成が提案されている。

【０００７】しかしながら、急速なディスク状磁気記録
媒体の高密度化にともない、このような技術をもってし
ても満足な特性、即ち、高密度記録でかつエラーレート
の低い特性のものを得ることが難しくなってきていた。
その一因として、上述のような薄層の磁性層を有した磁
気記録媒体においてデジタル信号の態様と磁気記録媒体
の磁気特性との態様とを該磁性層厚とに関係ずけたそれ
ら各要素に着目した一般性のある関係が見いだされてい
なかったことが挙げられていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良され、かつエラー
レートが小さい磁気記録媒体を提供することを目的とし
ている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは垂直磁化成
分を有する六方晶フェライトの電磁変換特性を向上させ
るだけではなく、実用上もっとも重要なエラーレートを
改善させるため鋭意検討した結果、以下のような磁気記
録媒体とすることで、本発明の目的を達成できることを
見いだし本発明に至ったものである。

【００１０】すなわち、非磁性支持体上に実質的に非磁
性である下地層と強磁性六方晶フェライト微粉末を結合
剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けてなり、磁性
層の垂直方向の角形比ＳＱｐが０．４以上であり、磁性
層の垂直方向の抗磁力Ｈｃｐが１５００Ｏｅ以上であ
り、記録されるデジタル信号のビット最小反転間隔Ｙμ
ｍ、最大反転間隔Ｚμｍと磁性層の厚みＸμｍとの間
に、 Ｘ≦Ｙ≦０．５μｍ Ｚ≦１．０μｍ の関係が成り立つことを特徴とする磁気記録媒体であ
り、従来の技術では得ることができなかった優れた高密
度特性と小さなエラーレートを併せ持つ磁気記録媒体を
得ることができることを見いだしたものである。ここ
で、ビット最小反転間隔Ｙは変調された信号のビット列
の反転間隔の最小値であり、最短記録波長の１／２に相
当する。最大反転間隔Ｚは変調された信号ビット列の反
転間隔の最大値である。

【００１１】〔構成要件と効果の関係〕本発明の上記関
係式において、ＹとＺは上記式を満足すれば特に制限は
ないが、ＹとＺとの関係はデジタル信号の変調方式によ
り決定され得る。本発明ではＭＦＭ変調方式、（２，
７）ＲＬＬＣ変調方式が好適である。本発明において、
ＭＦＭ変調ではＺ／Ｙ＝２、（２，７）ＲＬＬＣ変調で
は、Ｚ／Ｙ＝８／３となる。特に、本発明の磁気記録媒
体はディスク状磁気記録媒体に好適である。

【００１２】本発明がかかる効果をもたらす理由は定か
ではないが、次のように考えられる。垂直磁化成分を比
較的多く有する強磁性六方晶フェライト微粉末（以下、
「六方晶フェライト」ともいう）含有磁性層は、孤立反
転信号を記録した場合、波形はアンダーシュートをもっ
た歪んだ波形となり、特に積極的に垂直配向させた場合
は、ダイパルス波形になる。このような現象は記録密度
をある程度上げていっても変化なく、個々の信号の出力
は高くても信号ピークの位置がシフトするため信号検出
が困難になる。ところが、記録密度をさらに上げていく
と見かけ上再生波形が単峰パルス状になることに本発明
者らは着目したのである。これは隣接する反転ビットの
再生波形同士が干渉しあい、特に極性の異なるダイパル
ス波形が重なり合うと見かけ上単峰パルス波形になるた
めと考えられる。しかし、これだけでは十分ではない。
なぜなら、一般にデジタル記録の信号は異なるビット間
隔から構成されるビット列からなるため、ひとつのビッ
ト間隔で単峰パルス波形が得られるだけではなく、ビッ
ト列を構成するすべてのビット間隔で単峰パルス波形が
得られなければならない。そこで、本発明者らは垂直磁
化成分を有する六方晶フェライトの磁気記録媒体におい
て、再生波形が単峰パルス状の波形になる記録密度（ビ
ット間隔）を調べ、上述のようにすべてのビット間隔が
その記録密度範囲となるような信号変調方式が適用され
得ることを提案するに至った。これにより、高出力、高
Ｓ／Ｎでありかつピーク検出を容易にし、優れたエラー
レートを実現することができた。また磁性層厚も特にビ
ット最小反転間隔より小さくすることやＳＱｐおよびＨ
ｃｐも、エラーレートを小さくするために重要であるこ
とがわかり、本発明の上記関係式を得た。

【００１３】〔本発明の好ましい実施態様〕本発明の好
ましい実施態様は以下のとおりである。記録されるデジ
タル信号のビット最小反転間隔Ｙμｍ、最大反転間隔Ｚ
μｍと磁性層の厚みＸμｍとの間に、 Ｘ≦Ｙ≦０．５μｍ Ｚ≦１．０μｍ の関係が成り立つことが好ましく、 Ｘ≦Ｙ≦０．３μｍ Ｚ≦０．６μｍ の関係が成り立つことが更に好ましい。

【００１４】垂直方向の抗磁力Ｈｃｐは好ましくは２０
００Oe以上である。本発明の磁気記録媒体は垂直成分を
もつもので、具体的にはＳＱｐが０．４以上であるが、
好ましくはＳＱｐが０．６以上、さらに好ましくは０．
８以上である。ここでＳＱｐは反磁界補正を行わない値
である。 〔六方晶フェライト〕本発明の最上層に含まれる六方晶
フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウム
フェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各
置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプラ
ンバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフ
ェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプラ
ンバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有した
マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びスト
ロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子
以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、
Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂ
ａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓ
ｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。
一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−
Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚ
ｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用する
ことができる。原料・製法によっては特有の不純物を含
有するものもある。粒子サイズは六角板径で１０〜２０
０nm、好ましくは２０〜１００nmである。磁気抵抗ヘッ
ドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径
は４０nm以下が好ましいが、１０nm以下では熱揺らぎの
ため安定な磁化が望めない。２００nm以上ではノイズが
高く、いずれも高密度磁気記録には向かない。板状比
（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは２〜
７である。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くな
り好ましいが、十分な配向性が得られない。１５より大
きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくな
る。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１
０〜２００ｍ² ／ｇを示す。比表面積は好ましくは３０
〜７０ｍ² ／ｇであるが、特に低ノイズを要求されるシ
ステム、例えば磁気抵抗ヘッド（ＭＲヘッド、ＧＭＲヘ
ッド）などで再生する場合は比表面積を大きく、粒子サ
イズを小さくすることが好ましい。比表面積は概ね粒子
板径と板厚からの算術計算値と符号する。結晶子サイズ
は５０〜４５０Å、好ましくは１００〜３５０Åであ
る。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数
値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無
作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではな
い場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差
で表すと通常、σ／平均サイズ＝０．１〜２．０、好ま
しくは０．１〜０．５である。粒子サイズ分布をシャー
プにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると
共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われ
ている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解
する方法等も知られている。六方晶フェライトで測定さ
れる抗磁力Ｈｃは５００Oe〜５０００Oe程度まで作成で
きる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録
ヘッドの能力で制限される。通常８００Oeから４０００
Oe程度であるが、好ましくは１５００Oe以上、３０００
Oe以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越え
る場合は、２０００Oe以上にすることが好ましい。Ｈｃ
は粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元
素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御でき
る。飽和磁化σｓは４０emu/g 〜８０emu/g である。σ
ｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾
向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェラ
イトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の
種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六
方晶フェライトを用いることも可能である。六方晶フェ
ライトを分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマ
ーに合った物質で処理することも行われている。表面処
理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合
物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化
物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリン
グ剤が代表例である。量は六方晶フェライトに対して
０．１〜１０重量％である。六方晶フェライトのｐＨも
分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマ
ーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性
から６〜１０程度が選択される。六方晶フェライトに含
まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより
最適値があるが通常０．０１〜２．０重量％が選ばれ
る。

【００１５】六方晶フェライトの製法としては、ガラス
結晶化法・共沈法・水熱反応法等があるが、本発明は製
法を選ばない。例えば、バリウムフェライトの製法とし
ては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化
物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェラ
イト組成になるように混合した後、溶融し、急冷して非
晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕して
バリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、
バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和
し、副生成物を除去した後、１００℃以上で液相加熱し
た後、洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉
体を得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金属塩
溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後、乾燥
し、１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得る共沈法等がある。

【００１６】〔下地層〕本発明の下地層は基本的には結
合剤と非磁性粉末とからなる。以下、下地層を下層また
は非磁性層ともいう。非磁性粉末としては、カーボンブ
ラックが含まれる。以下の非磁性無機粉末とカーボンブ
ラックとは異なる範疇とする。下地層に用いられる非磁
性無機粉末は、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属
硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無
機質化合物から選択することができる。無機化合物とし
ては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アル
ミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化
クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コラ
ンダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二
酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングス
テン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸
カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モ
リブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好
ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多い
こと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バ
リウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化
鉄である。これら非磁性無機粉末の粒子サイズは０．０
０５〜２μm が好ましいが、必要に応じて粒子サイズの
異なる非磁性無機粉末を組み合わせたり、単独の非磁性
無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせる
こともできる。とりわけ好ましいのは非磁性無機粉末の
粒子サイズは０．０１μm 〜０．２μm である。特に、
非磁性無機粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒
子径０．０８μm以下が好ましく、針状金属酸化物であ
る場合は、長軸長が０．３μm 以下が好ましい。タップ
密度は０．０５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５g/
mlである。非磁性無機粉末の含水率は０．１〜５重量
％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．
３〜１．５重量％である。非磁性無機粉末のｐＨは２〜
１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好まし
い。非磁性無機粉末の比表面積は１〜１００m²/g、好ま
しくは５〜８０m²/g、更に好ましくは１０〜７０m²/gで
ある。非磁性無機粉末の結晶子サイズは０．００４μm
〜１μm が好ましく、０．０４μm 〜０．１μm が更に
好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油
量は５〜１００ml/100g 、好ましくは１０〜８０ml/100
g 、更に好ましくは２０〜６０ml/100g である。比重は
１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球
状、多面体状、板状のいずれでも良い。

【００１７】強熱減量は２０重量％以下であることが好
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記非磁性無機粉末のモース硬度は４
以上、１０以下のものが好ましい。これらの粉体表面の
ラフネスファクターは０．８〜１．５が好ましく、更に
好ましいラフネスファクターは０．９〜１．２である。
非磁性無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２
０μmol ／m²、好ましくは２〜１５μmol/m²、さらに好
ましくは３〜８μmol/m²である。非磁性無機粉末の２５
℃での水への湿潤熱は２００erg/cm² 〜６００erg/cm²
の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲
にある溶媒を使用することができる。ｐＨは３〜６の間
にあることが好ましい。非磁性無機粉末の水溶性Ｎａは
０〜１５０ppm 、水溶性Ｃａは０〜５０ppm である。

【００１８】これらの非磁性無機粉末の表面にはＡｌ₂
Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ
₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ で表面処理することが好まし
い。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、
ＴｉＯ２、ＺｒＯ₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂
Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせ
て使用しても良いし、単独で用いることもできる。ま
た、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良い
し、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処
理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。
また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わ
ないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００１９】本発明の下地層に用いられる非磁性無機粉
末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友
化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘ
マタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ
−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢ
Ｎ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、Ｔ
ＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴ
Ｏ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタ
イトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン
工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴ
Ｔ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テ
イカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０
Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００
Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、Ｂ
Ｆ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業
製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製
ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５
００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。

【００２０】特に好ましい非磁性無機粉末は二酸化チタ
ンとα−酸化鉄である。α−酸化鉄（ヘマタイト）は以
下のような諸条件の基で実施される。即ち、本発明にお
けるα−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子粉末は、通常の第一鉄水溶液
に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸
化第一鉄コロイドを含む懸濁液をｐＨ１１以上にて８０
℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う
事により針状ゲータイト粒子を生成させる方法、第一
鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られ
るＦｅＣＯ₃ を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸
化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子
を生成させる方法、第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸
化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して
得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に
酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲ
ータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト
核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中の
Ｆｅ²⁺に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加し
た後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒
子を成長させる方法、及び第一鉄水溶液と等量未満の
水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得
られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸
素含有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲー
タイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で
前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等により得
られた針状ゲータイト粒子を前駆体粒子とする。

【００２１】尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉
末の特性向上等の為に通常添加されているＮｉ、Ｚｎ、
Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。
前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５００
℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０
〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして
針状α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子を得る。尚、脱水または焼き鈍
しされる針状ゲータイト粒子の表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚ
ｒ、Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。
３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍し
をするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒
子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子
の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態と
させる事が好ましいからである。

【００２２】本発明において用いられるα−Ｆｅ₂ Ｏ₃
粒子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状
α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、
Ａｌ化合物を添加しｐＨ調整をして前記α−Ｆｅ₂ Ｏ₃
粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、
水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を
施す事により得られる。用いられるＡｌ化合物は酢酸ア
ルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝
酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ
等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。こ
の場合のＡｌ化合物添加量はα−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子粉末に
対してＡｌ換算で０．０１〜５０重量％である。０．０
１重量％未満である場合には、結合剤樹脂中における分
散が不十分であり、５０重量％を超える場合には粒子表
面に浮遊するＡｌ化合物同士が相互作用するために好ま
しくない。本発明における下層の非磁性無機粉末におい
ては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物を始めとして、
Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂから選
ばれる化合物の１種または２種以上を用いて被覆するこ
ともできる。Ａｌ化合物とともに用いるこれらの化合物
の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子粉末に対して
０．０１〜５０重量％の範囲である。０．０１重量％未
満である場合には添加による分散性向上の効果が殆どな
く、５０重量％を超える場合には、粒子表面以外に浮遊
する化合物同士が相互作用をする為に好ましくない。

【００２３】二酸化チタンの製法に関しては以下の通り
である。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素
法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解
し、Ｔｉ、Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれ
ば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水
分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。こ
の粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作
成する。塩素法の原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用
いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴ
ｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂ となり、冷却により固体と
なった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られ
た粗ＴｉＣｌ₄ は精留により精製した後核生成剤を添加
し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、
粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸
化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸
法と同じである。

【００２４】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓ
ｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、
またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チ
タン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカン
テーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリ
ーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済
みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤー
で乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕
され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン
粉体にＡｌＣｌ₃ 、ＳｉＣｌ₄ の蒸気を通じその後水蒸
気を流入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能であ
る 。その他の顔料の製法についてはG.D.Parfitt and
K.S.W. Sing ”Characterization of Powder Surfaces
”Academic Press,1976 を参考にすることができる。

【００２５】下地層にカーボンブラックを混合させて公
知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過
率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロ
ビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボ
ンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたら
すことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用
ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセ
チレンブラック、等を用いることができる。下層のカー
ボンブラックは所望する効果によって、以下のような特
性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得
られることがある。

【００２６】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００m²／ｇ、好ましくは１５０〜４００m²／ｇ、
ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g 、好ましくは３０
〜２００ml/100g である。カーボンブラックの粒子径は
５m μ〜８０m μ、好ましく１０〜５０m μ、さらに好
ましくは１０〜４０m μである。カーボンブラックのｐ
Ｈは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカー
ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製 Ｂ
ＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１００
０、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、三菱化成工業社製 ＃３０５０Ｂ、＃３１
５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、
＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ
−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コ
ロンビアンカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、
ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５
０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８０
０、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッ
チェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを
使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは上記非磁性無機粉末に
対して５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４
０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブ
ラックは単独、または組合せで使用することができる。
本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボ
ンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考に
することができる。

【００２７】また下地層には有機質粉末を目的に応じ
て、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン
系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹
脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオ
レフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリア
ミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エ
チレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭
６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記
されているようなものが使用できる。

【００２８】下地層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添
加剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層の
それが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加
剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公
知技術が適用できる。 〔結合剤〕本発明の非磁性層の結合剤（バインダーとも
いう）、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その
他は磁性層のそれが適用できる。特に、バインダー量、
種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層
に関する公知技術が適用できる。

【００２９】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。

【００３０】また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂とし
てはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アク
リル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの
樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブ
ック」に詳細に記載されている。

【００３１】また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使
用することも可能である。これらの例とその製造方法に
ついては特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されて
いる。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、
好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合
体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わ
せたものがあげられる。

【００３２】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ₃ （Ｒは炭化
水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる
少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応
で導入したものをもちいることが好ましい。このような
極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは
１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００３３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫ
ＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、
ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５
１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三
菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０など
があげられる。

【００３４】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性無機粉末または磁性体に対し、５〜５０％
の範囲、好ましくは１０〜３０％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％、ポリウレ
タン樹脂を用いる場合は２〜２０％、ポリイソシアネー
トは２〜２０％の範囲でこれらを組み合わせて用いるこ
とが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐
食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタ
ンとイソシアネートのみを使用することも可能である。
本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転
移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００
℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０
５〜１０Kg/cm²、降伏点は０．０５〜１０Kg/cm²が好ま
しい。

【００３５】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ非磁性層、各磁性層とで変えることはもち
ろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多
層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層
でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減
らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有
効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするた
めには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持
たせることができる。

【００３６】本発明にもちいるポリイソシアネートとし
ては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−
１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメ
タントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、
これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成
物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポ
リイソシアネート等を使用することができる。これらの
イソシアネート類の市販されている商品名としては、日
本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、
コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネー
トＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネー
トＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ
−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、
デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュー
ルＮ、デスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独また
は硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組
合せで各層とももちいることができる。

【００３７】〔カーボンブラック、研磨剤〕本発明の磁
性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０m²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００m ｌ／１００
ｇ、粒子径は５m μ〜３００m μ、ＰＨは２〜１０、含
水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／c
c、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラック
の具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥ
ＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、９
０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭
カーボン社製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３
５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃
９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロ
ンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−Ｍ
Ｔ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥＣ、など
があげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一
部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。
また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の０．１〜３０％でもちいることが好ましい。カーボ
ンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性
付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ
ーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用され
るこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁性
層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油
量、電導度、ＰＨなどの先に示した諸特性をもとに目的
に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ
各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用
できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便
覧」カーボンブラック協会編 を参考にすることができ
る。 本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％
以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化
クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造
ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、
酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ
ース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用
される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤
を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。
これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含
まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果に
かわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜
２μが好ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、
その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上さ
せるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み
合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様
の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．
３〜２g/cc、含水率は０．１〜５％、ＰＨは２〜１１、
比表面積は１〜３０m²/g、が好ましい。本発明に用いら
れる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれ
でも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高
く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、Ａ
ＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５
０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ
６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノ
ルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−Ｄ
ＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社
製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロメック
スＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１０
０、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウルト
ラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられる。
これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することも
できる。非磁性層に添加することで表面形状を制御した
り、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。
これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量は
むろん最適値に設定すべきものである。

【００３８】〔添加剤〕本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、アミノキノン類、各種シランカップリン
グ剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸
エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素
数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２
の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのい
ずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ
脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレン
オキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステ
ル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の
脂肪族アミン、などが使用できる。

【００３９】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、アルコール類ではオレイルアルコ
ール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、な
どがあげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレ
ンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状ア
ミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダ
ントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホ
ニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、ス
ルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、
などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐
酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性
剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、
「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に
記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ず
しも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反
応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。

【００４０】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤等は個々に異なる物理的作用を有するものであ
り、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤
の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものであ
る。非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面
へのにじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なる
エステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面
活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、
潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させ
るなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるも
のではない。一般には潤滑剤の総量として六方晶フェラ
イトまたは非磁性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ま
しくは２％〜２５％の範囲で選択される。

【００４１】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に六方晶
フェライトと混合する場合、六方晶フェライトと結合剤
と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加
する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する
場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した
後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を
塗布することにより目的が達成される場合がある。ま
た、目的によってはカレンダーした後、またはスリット
終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。

【００４２】〔溶剤〕本発明で用いられる有機溶媒は任
意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチ
ルシクロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、
乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、な
どの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレン
クロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロ
ルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のもの
が使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋
ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、
分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
磁性層と非磁性層でその種類は同じでも構わないが、非
磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオ
キサンなど）を用い塗布の安定性をあげることが好まし
い、具体的には上層溶剤組成の表面張力の算術平均値が
下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要であ
る。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方
が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が
５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメ
ータは８〜１１であることが好ましい。

【００４３】〔層構成〕本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は非磁性支持体が２〜１００μm 、好ましくは１０〜
８０μm である。非磁性支持体と非磁性層の間に密着性
向上のための下塗り層を設けてもかまわない。下塗層厚
みは０．０１〜２μm 、好ましくは０．０２〜０．５μ
m である。本願は支持体の両面または片面に非磁性層と
磁性層を設けてなる磁気記録媒体で、好ましくは両面に
それらを設けたディスク状媒体である。片面に磁性層を
設けた場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すた
めに非磁性層、磁性層側と反対側にバックコート層を設
けてもかまわない。この厚みは０．１〜４μm 、好まし
くは０．３〜２．０μm である。これらの下塗層、バッ
クコート層は公知のものが使用できる。

【００４４】本発明の磁性層は、前記Ｘを有する磁性層
の他、所望により異なる磁気特性を有する層を設けるこ
とができ、公知の重層磁性層に関する構成が適用でき
る。本発明になる媒体の下地層である非磁性層の厚みは
０．２μm 〜５．０μm 、好ましくは０．５μm 〜３．
０μｍ、さらに好ましくは１．０μm 〜２．５μmであ
る。なお、本願媒体の下地層は実質的に非磁性層であれ
ばその効果を発揮するものであり、たとえば不純物とし
てあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、本願の効
果を示すものであり、本願と実質的に同一の構成と見な
すことができることは言うまでもない。実質的に非磁性
層とは下地層の残留磁束密度が１００Ｇ以下または抗磁
力が１００Oe以下であることを示し、好ましくは残留磁
束密度と抗磁力をもたないことを示す。

【００４５】〔非磁性支持体〕本発明に用いられる非磁
性支持体はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフ
ォン、ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオ
キサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエ
チレンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を
用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベー
ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７に
示されるような積層タイプの支持体を用いることもでき
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。また本発明の支持体としてアルミまた
はガラス基板を適用することも可能である。

【００４６】本発明の目的を達成するには、非磁性支持
体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で
測定した中心面平均表面粗さはＳＲａは２０nm以下、好
ましくは１０nm以下、さらに好ましくは５nm以下のもの
を使用する必要がある。これらの非磁性支持体は単に中
心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μm以
上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形
状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさ
と量により自由にコントロールされるものである。これ
らのフィラーとしては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉな
どの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末
があげられる。支持体の最大高さＳＲmax は１μm 以
下、十点平均粗さＳＲz は０．５μm 以下、中心面山高
さはＳＲpは０．５μm 以下、中心面谷深さＳＲv は
０．５μm 以下、中心面面積率ＳＳrは１０％以上、９
０％以下、平均波長Ｓλa は５μm 以上、３００μm 以
下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るた
め、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意
にコントロールできるものであり、０．０１μm から１
μm の大きさのもの各々を０．１mm² あたり０個から２
０００個の範囲でコントロールすることができる。

【００４７】本発明に用いられる非磁性支持体のＦ−５
値は好ましくは５〜５０kg/mm²、また、支持体の１００
℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好
ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好
ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下であ
る。破断強度は５〜１００kg/mm²、弾性率は１００〜２
０００kg/mm²、が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１
０^-8/ ℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃であ
る。湿度膨張係数は１０^-4/RH%以下であり、好ましくは
１０^-5/RH ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、
機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の
差でほぼ等しいことが好ましい。

【００４８】〔製法〕本発明の磁気記録媒体の磁性塗
料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じ
て設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段
階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
六方晶フェライト、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラ
ック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての
原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわな
い。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加
してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、
分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割し
て投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、
従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることが
できる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加
圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを
使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は六方晶
フェライトまたは非磁性粉末と結合剤のすべてまたはそ
の一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）およ
び六方晶フェライト１００部に対し１５〜５００部の範
囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細について
は特願昭６２−２６４７２２、特願昭６２−２３６８７
２に記載されている。また、磁性層液および非磁性層液
を分散させるにはガラスビーズを用ることができるが、
高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニ
アビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メ
ディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機
は公知のものを使用することができる。

【００４９】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下地層を塗布し、下地層がウェッ
ト状態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２
３８１７９、特開平２−２６５６７２に開示されている
支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を
塗布する方法、第二に特開昭６３−８８０８０、特開平
２−１７９７１、特開平２−２６５６７２に開示されて
いるような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗
布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法、第三
に特開平２−１７４９６５に開示されているバックアッ
プロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層
をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝
集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止す
るため、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９
６８に開示されているような方法により塗布ヘッド内部
の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、
塗布液の粘度については、特願平１−３１２６５９に開
示されている数値範囲を満足する必要がある。本願の構
成を実現するには下地層を塗布し乾燥させたのち、その
上に磁性層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろんかま
わず、本発明の効果が失われるものではない。ただし、
塗布欠陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上
させるためには、前述の同時重層塗布を用いることが好
ましい。

【００５０】配向装置を用いず無配向、またはコバルト
磁石を斜めに交互に配置する、ソレノイドで交流磁場を
印加するなど公知のランダム配向装置を用いることがで
きるが、特に好ましくは異極対向磁石など公知の方法を
用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特
性を付与することである。特に高密度記録を行う場合は
垂直配向が好ましい。乾燥風の温度、風量、塗布速度を
制御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にするこ
とが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１０００m/分、乾
燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾーンに
入る前に適度の予備乾燥を行なう事もできる。

【００５１】カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロールまたは金属ロールで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００kg/cm 以上、さらに好ましくは３００kg/cm
以上である。

【００５２】〔物理特性〕本発明の磁気記録媒体のヘッ
ドに対する摩擦係数は温度−１０℃〜４０℃、湿度０％
〜９５％の範囲において０．５以下、好ましくは０．３
以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴ 〜１０¹²
オーム/sq 、帯電位は−５００V 〜＋５００V 以内が好
ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向
（面内の任意の方向）で好ましくは１０ ０〜２０００
kg/mm²、破断強度は好ましくは１〜３０kg/cm²、磁気記
録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５
００kg/mm²、残留のびは好ましくは０．５％以下、１０
０℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％
以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好まし
くは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度( １
１０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大
点) は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層非磁性
層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１
×１０⁸ 〜８×１０⁹dyne/cm² の範囲にあることが好ま
しく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損
失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これら
の熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内で
ほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶
媒は好ましくは１００mg/m² 以下、さらに好ましくは１
０mg/m² 以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性下
層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ま
しくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たす
ためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値
を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途
が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行
耐久性は好ましいことが多い。

【００５３】磁性層のＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で
測定した中心面表面粗さＳＲａは１０nm以下、好ましく
は５nm以下、さらに好ましくは３nm以下であるが、ＡＦ
Ｍによる評価で求めたＲＭＳ表面粗さＲRMS は２nm〜１
５nmの範囲にあることが好ましい。磁性層の最大高さＳ
Ｒmax は０．５μm 以下、十点平均粗さＳＲz は０．３
μm 以下、中心面山高さＳＲp は０．３μm 以下、中心
面谷深さＳＲv は０．３μm 以下、中心面面積率ＳＳr
は２０％以上、８０％以下、平均波長Ｓλa は５μm 以
上、３００μm 以下が好ましい。磁性層の表面突起は
０．０１μm 〜１μm の大きさのものを０個〜２０００
個の範囲で任意に設定し、摩擦係数を最適化することが
好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコ
ントロールや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレン
ダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールする
ことができる。カールは±３mm以内とすることが好まし
い。

【００５４】本発明は、目的に応じ非磁性層と磁性層で
これらの物理特性を変えることができるのは容易に推定
されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走
行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性
層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くす
るなどである。

【００５５】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 磁性塗料 Ｘ バリウムフェライト磁性粉 １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０％、Ｃｏ０．３０％、Ｚｎ０．５７％ Ｈｃ２２００Oe、比表面積５５m²／ｇ、σs ６２emu/g 板径３０nm、板状比３．５ 塩化ビニル共重合体（−ＳＯ₃ Ｋ含有） ８部 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） ポリウレタン（−ＳＯ₃ Ｎａ含有）：ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 α−アルミナ（平均粒径０．２μｍ）：ＨＩＴ５５（住友化学社製）１０部 カーボンブラック（平均粒径８０ｎｍ） ５部 ＃５０（旭カーボン社製） ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 非磁性塗料 Ｙ 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径０．０３０μm 、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m²/g ｐＨ ７、ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ ８重量％ コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 （平均粒径：２０ｎｍ） ＭＲ１１０ １５部 ＵＲ８３００ ５部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 〔磁気記録媒体の作成〕上記２つの塗料のそれぞれにつ
いて、各成分をニーダで混練したのち、サンドミルをも
ちいて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネー
トを非磁性層の塗布液には１０部、磁性層の塗布液には
１０部を加え、さらにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加
え、１μm の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれ
ぞれ調製した。

【００５６】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μm になるようにさらにその直後にその上に磁
性層の厚さが０．２μｍの厚さになるように、厚さ６２
μmで中心線表面粗さが０．００４μm のポリエチレン
テレフタレート支持体上に同時重層塗布を行い、両層が
まだ湿潤状態にあるうちに、５０００Ｇの異極対向Ｃｏ
磁石により垂直配向を行った。そののち７段のカレンダ
で温度９０℃、線圧３００kg/cm にて処理を行い、３．
７吋に打ち抜き表面研磨処理施した後、ライナーが内側
に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ
社製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の
機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスクを作成
し、これをサンプルＡ−２とした。さらに磁性層厚を
０．１μｍ〜０．７μｍの範囲で変更したサンプルＡ−
１、Ａ−３〜Ａ−１０、Ｂ−１〜Ｂ−１０とした。な
お、サンプルＢ−２のみは非磁性層を設けず、磁性層の
みを支持体上に塗布している。ここで、「Ａ−」は実施
例、「Ｂ−」は比較例を示す。

【００５７】〔評価〕これらのディスクに所定の最小ビ
ット間隔Ｙと最大ビット間隔Ｚの信号を記録し、各々の
出力をＨＦ出力（最短波長の出力）、ＬＦ出力（最長波
長の出力）として観測した。またＬＦ出力の波形を観測
し、単峰パルスのものを○、ほぼ単峰パルスのものを
△、ダイパルスの傾向をもち波形の対称性が悪いものを
×とした。さらに、サンプルＡ−１〜Ａ−６、Ｂ−１、
Ｂ−２、Ｂ−８〜Ｂ−１０にはＭＦＭ変調（Ｚ／Ｙ＝
２）、Ａ−７〜Ａ−１０、Ｂ−３〜Ｂ−７には２−７Ｒ
ＬＬＣ変調（Ｚ／Ｙ＝８／３）の信号を記録し、エラー
レートを測定した。これらの特性を表１に記載した。

【００５８】また、磁性層の厚み、Ｈｃｐ、ＳＱｐを変
えたサンプルＡ−１１〜Ａ−１６、Ｂ−１１、Ｂ−１２
につき同様にして得られた結果を表２に示した。

【００５９】

【表１】

【００６０】

【表２】

【００６１】〔実施例と比較例の対比〕本発明のディス
ク状媒体は、垂直成分を有する媒体であるが、高出力で
かつすべてのビット間隔の信号に対し単峰パルスに近い
波形が得られるためか、エラーレートが小さく優れたデ
ータ記録媒体であることがわかる。 〔測定法〕フロッピーディスクの各試料は、下記の評価
方法で測定した。

【００６２】再生出力の測定：再生出力の測定は、国際
電子工業社（旧東京エンジニアリング）製のディスク試
験装置とＳＫ６０６Ｂ型評価装置を用いギャップ長０．
３μｍのメタルインギャップヘッド用い、半径２４．６
ｍｍの位置において所定の信号を記録した後ヘッド増幅
機の再生出力をテクトロニクス社製オシロスコープ７６
３３型で測定した。

【００６３】磁気特性（Ｈｃｐ、ＳＱｐ＝Ｂｒ／Ｂ
ｍ）：振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ
１０ＫＯｅで測定した。 磁性層の厚さ：層断面の切片試料を作成して、走査型電
子顕微鏡（日立製作所製、Ｓー７００型）による画像を
撮影した断面写真から求めた。

【００６４】

【発明の効果】本発明は、強磁性六方晶フェライト微粉
末を結合剤中に分散してなる磁性層の垂直方向の角形比
ＳＱｐを０．４以上とし、磁性層の垂直方向の抗磁力Ｈ
ｃｐを１５００Ｏｅ以上とすると共に記録されるデジタ
ル信号のビット最小反転間隔Ｙμｍ、最大反転間隔Ｚμ
ｍと磁性層の厚みＸμｍとの間に、Ｘ≦Ｙ≦０．８μ
ｍ、およびＺ≦１．０μｍの関係が成り立つものであ
り、従来の技術では得ることができなかった優れた高密
度特性と小さなエラーレートを併せ持つ磁気記録媒体を
提供することができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に実質的に非磁性である
   下地層と強磁性六方晶フェライト微粉末を結合剤中に分
   散してなる磁性層をこの順に設けてなり、磁性層の垂直
   方向の角形比ＳＱｐが０．４以上であり、磁性層の垂直
   方向の抗磁力Ｈｃｐが１５００Ｏｅ以上であり、記録さ
   れるデジタル信号のビット最小反転間隔Ｙμｍ、最大反
   転間隔Ｚμｍと磁性層の厚みＸμｍとの間に、 Ｘ≦Ｙ≦０．８μｍ Ｚ≦１．０μｍ の関係が成り立つことを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 記録されるデジタル信号のビット最短反
   転間隔Ｙμｍ、最長反転間隔Ｚμｍと磁性層の厚みＸμ
   ｍとの間に、 Ｘ≦Ｙ≦０．５μｍ Ｚ≦１．０μｍ の関係が成り立ち、かつ形状がディスク状であることを
   特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 記録されるデジタル信号のビット最短反
   転間隔Ｙμｍ、最長反転間隔Ｚμｍと磁性層の厚みＸμ
   ｍとの間に、 Ｘ≦Ｙ≦０．３μｍ Ｚ≦０．６μｍ の関係が成り立ち、かつ形状がディスク状であることを
   特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 ＳＱｐが０．６以上であることを特徴と
   する請求項１〜３の何れか１項に記載の磁気記録媒体。