JPH10149974A - ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法Info
- Publication number
- JPH10149974A JPH10149974A JP31861596A JP31861596A JPH10149974A JP H10149974 A JPH10149974 A JP H10149974A JP 31861596 A JP31861596 A JP 31861596A JP 31861596 A JP31861596 A JP 31861596A JP H10149974 A JPH10149974 A JP H10149974A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- base
- thrust
- moving
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板ステージへの床の振動の伝達を有効に防
止する。 【解決手段】 基板を載せて移動するステージをその移
動を許容するようにステージ定盤７上に支持し、ステー
ジ定盤７を水平面内で移動可能にベース部材１０上にエ
アベアリング等６４で支持するとともに、ステージの加
減速によりステージ定盤が移動するのを阻止するように
ステージ定盤にリニアモータ６５〜６８で推力を付与す
る。
止する。 【解決手段】 基板を載せて移動するステージをその移
動を許容するようにステージ定盤７上に支持し、ステー
ジ定盤７を水平面内で移動可能にベース部材１０上にエ
アベアリング等６４で支持するとともに、ステージの加
減速によりステージ定盤が移動するのを阻止するように
ステージ定盤にリニアモータ６５〜６８で推力を付与す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、設計パターンを基
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置、およびそれを用い得るデバ
イス製造方法、ならびにこれらに用い得るステージ装置
に関する。
板上のレジストに露光して半導体デバイス等を製造する
ために用いられる露光装置、およびそれを用い得るデバ
イス製造方法、ならびにこれらに用い得るステージ装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような露光装置としては、ウ
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域にマスクパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスクと
基板とを移動させ、マスクと基板をスリット状の露光光
によって走査することによりマスクパターンを基板上に
走査露光する走査型の露光装置等が知られている。
エハ等の基板をステップ移動させながら基板上の複数の
露光領域にマスクパターンを投影光学系を介して順次露
光するステッパや、投影光学系に対し相対的にマスクと
基板とを移動させ、マスクと基板をスリット状の露光光
によって走査することによりマスクパターンを基板上に
走査露光する走査型の露光装置等が知られている。
【０００３】また、近年、より高精度で微細なパターン
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度で微細な
パターンの露光が可能となっている。走査露光に際して
は、レチクルステージやウエハステージを走査方向等に
対して精密に制御しながら、移動させるために、レーザ
干渉計を用いてこれらのステージ位置をモニタするよう
にしている。その際、ウエハステージの移動荷重による
力や、加速、移動等に伴う振動を、投影光学系やレーザ
干渉計等に伝達させないために、ウエハステージの支持
系と、投影光学系、ウエハステージの位置計測基準とな
るレーザ干渉計、アライメント光学系等の支持系とを別
個に構成するのが好ましい。
の露光が行えるように、前記ステップ移動と走査露光と
を繰り返すことにより、基板上の複数の領域に高精度で
微細なパターンの露光を行う、ステップ・アンド・スキ
ャン型の露光装置が提案されている。この露光装置で
は、スリットにより制限して投影光学系の比較的光軸に
近い部分のみを使用しているため、より高精度で微細な
パターンの露光が可能となっている。走査露光に際して
は、レチクルステージやウエハステージを走査方向等に
対して精密に制御しながら、移動させるために、レーザ
干渉計を用いてこれらのステージ位置をモニタするよう
にしている。その際、ウエハステージの移動荷重による
力や、加速、移動等に伴う振動を、投影光学系やレーザ
干渉計等に伝達させないために、ウエハステージの支持
系と、投影光学系、ウエハステージの位置計測基準とな
るレーザ干渉計、アライメント光学系等の支持系とを別
個に構成するのが好ましい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに各支持系を別個に構成するとしても、ウエハステー
ジには、その支持系を介して床の振動が伝達するため、
高精度で微細なパターンの露光を実効あるものとするこ
とができないという問題がある。
うに各支持系を別個に構成するとしても、ウエハステー
ジには、その支持系を介して床の振動が伝達するため、
高精度で微細なパターンの露光を実効あるものとするこ
とができないという問題がある。
【０００５】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、上述のような露光技術において、基板ステ
ージへの床の振動の伝達を有効に防止することにある。
題点に鑑み、上述のような露光技術において、基板ステ
ージへの床の振動の伝達を有効に防止することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の露光装置は、ステージ定盤と、このステージ定
盤上で水平な所定の方向に移動可能に支持されたステー
ジと、このステージをステージ定盤上で前記所定方向に
移動させるステージ駆動手段と、ベース部材と、このベ
ース部材上でステージ定盤を水平面内で所定方向に移動
可能に支持する定盤支持手段と、ステージの加減速によ
りステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ
定盤に推力を付与する推力付与手段とを具備することを
特徴とする。
本発明の露光装置は、ステージ定盤と、このステージ定
盤上で水平な所定の方向に移動可能に支持されたステー
ジと、このステージをステージ定盤上で前記所定方向に
移動させるステージ駆動手段と、ベース部材と、このベ
ース部材上でステージ定盤を水平面内で所定方向に移動
可能に支持する定盤支持手段と、ステージの加減速によ
りステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ
定盤に推力を付与する推力付与手段とを具備することを
特徴とする。
【０００７】より具体的には、ステージは水平なＸおよ
びＹ方向にそれぞれ移動可能なＸステージおよびＹステ
ージを有し、推力付与手段は、Ｙ方向あるいはこれに加
えＸ方向にステージ定盤を案内し駆動する複数のリニア
モータであり、かつこれらのリニアモータは、ステージ
の加減速によりステージ定盤が移動するのを阻止するよ
うにステージ定盤にＹ方向あるいはこれに加えＸ方向へ
並進させる推力および回転方向の推力を付与するもので
あることを特徴とする。この場合、ＸステージはＹステ
ージ上でＸ方向に移動するものであり、ステージ駆動手
段は、Ｙステージとベース部材との間に設けたリニアモ
ータによりＹステージをＹ方向へ駆動するものであって
もよい。またこの場合、定盤支持手段はステージ定盤を
Ｘ方向に拘束し、かつＹ方向に並進可能に、また回転可
能に、支持する板ばねを有するようにしてもよい。
びＹ方向にそれぞれ移動可能なＸステージおよびＹステ
ージを有し、推力付与手段は、Ｙ方向あるいはこれに加
えＸ方向にステージ定盤を案内し駆動する複数のリニア
モータであり、かつこれらのリニアモータは、ステージ
の加減速によりステージ定盤が移動するのを阻止するよ
うにステージ定盤にＹ方向あるいはこれに加えＸ方向へ
並進させる推力および回転方向の推力を付与するもので
あることを特徴とする。この場合、ＸステージはＹステ
ージ上でＸ方向に移動するものであり、ステージ駆動手
段は、Ｙステージとベース部材との間に設けたリニアモ
ータによりＹステージをＹ方向へ駆動するものであって
もよい。またこの場合、定盤支持手段はステージ定盤を
Ｘ方向に拘束し、かつＹ方向に並進可能に、また回転可
能に、支持する板ばねを有するようにしてもよい。
【０００８】あるいは、ステージは水平なＸおよびＹ方
向にそれぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを
有し、ステージ駆動手段はＸステージおよびＹステージ
をそれぞれＸおよびＹ方向に案内し駆動するリニアモー
タを有し、また、ＸステージおよびＹステージは鉛直方
向には静圧軸受を介して水平面内で移動可能に支持され
ており、定盤支持手段は、ステージ定盤を鉛直方向に支
持するエアベアリングと、ステージ定盤の並進方向への
移動を拘束し、かつ、水平面内での回転方向への移動を
許容する板ばねとを有し、推力付与手段は、ステージの
加減速によりステージ定盤が回転するのを阻止するよう
にステージ定盤に推力を付与するリニアモータであるこ
とを特徴とする。
向にそれぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを
有し、ステージ駆動手段はＸステージおよびＹステージ
をそれぞれＸおよびＹ方向に案内し駆動するリニアモー
タを有し、また、ＸステージおよびＹステージは鉛直方
向には静圧軸受を介して水平面内で移動可能に支持され
ており、定盤支持手段は、ステージ定盤を鉛直方向に支
持するエアベアリングと、ステージ定盤の並進方向への
移動を拘束し、かつ、水平面内での回転方向への移動を
許容する板ばねとを有し、推力付与手段は、ステージの
加減速によりステージ定盤が回転するのを阻止するよう
にステージ定盤に推力を付与するリニアモータであるこ
とを特徴とする。
【０００９】あるいは、ステージは水平なＸおよびＹ方
向にそれぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを
有し、ステージ駆動手段はＸステージおよびＹステージ
をそれぞれＸおよびＹ方向に案内して駆動するリニアモ
ータを有し、また、ＸステージおよびＹステージは鉛直
方向には静圧軸受を介して水平面内で移動可能に支持さ
れており、定盤支持手段は、ステージ定盤を鉛直方向に
支持するエアベアリングと、ころがり軸受によるラジア
ル軸受とを有し、ステージ定盤の水平面内での回転方向
への移動のみを許容するものであり、推力付与手段は、
ステージの加減速によりステージ定盤が回転するのを阻
止するようにステージ定盤に推力を付与するリニアモー
タであることを特徴とする。
向にそれぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを
有し、ステージ駆動手段はＸステージおよびＹステージ
をそれぞれＸおよびＹ方向に案内して駆動するリニアモ
ータを有し、また、ＸステージおよびＹステージは鉛直
方向には静圧軸受を介して水平面内で移動可能に支持さ
れており、定盤支持手段は、ステージ定盤を鉛直方向に
支持するエアベアリングと、ころがり軸受によるラジア
ル軸受とを有し、ステージ定盤の水平面内での回転方向
への移動のみを許容するものであり、推力付与手段は、
ステージの加減速によりステージ定盤が回転するのを阻
止するようにステージ定盤に推力を付与するリニアモー
タであることを特徴とする。
【００１０】また、本発明の露光装置は、原版と基板と
を走査方向に移動させながら原版のパターンを投影光学
系を介して基板上に露光する走査式の露光装置におい
て、上述のようなステージ装置を基板を移動させるため
の基板用のステージ装置として用い、そのステージ装置
のＹ方向が走査方向に一致することを特徴とする。この
場合、ベース部材上に、原版を移動させる原版用のステ
ージ装置、および投影光学系が支持されていてもよい。
を走査方向に移動させながら原版のパターンを投影光学
系を介して基板上に露光する走査式の露光装置におい
て、上述のようなステージ装置を基板を移動させるため
の基板用のステージ装置として用い、そのステージ装置
のＹ方向が走査方向に一致することを特徴とする。この
場合、ベース部材上に、原版を移動させる原版用のステ
ージ装置、および投影光学系が支持されていてもよい。
【００１１】また、本発明のデバイス製造方法は、原版
と基板とをそれぞれ別個の手段により走査方向に移動さ
せながら原版のパターンを投影光学系を介して基板上に
走査露光するデバイス製造方法において、基板を載せて
移動するステージをその移動を許容するようにステージ
定盤上に支持し、さらにこのステージ定盤を水平面内で
移動可能に支持するとともに、ステージの加減速により
ステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定
盤に推力を付与することを特徴とする。
と基板とをそれぞれ別個の手段により走査方向に移動さ
せながら原版のパターンを投影光学系を介して基板上に
走査露光するデバイス製造方法において、基板を載せて
移動するステージをその移動を許容するようにステージ
定盤上に支持し、さらにこのステージ定盤を水平面内で
移動可能に支持するとともに、ステージの加減速により
ステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定
盤に推力を付与することを特徴とする。
【００１２】より具体的には、原版と基板とをそれぞれ
別個の手段により走査方向に移動させながら原版のパタ
ーンを投影光学系を介して基板上に走査露光するデバイ
ス製造方法において、基板を移動させるために上述のよ
うなステージ装置を用い、そのＹ方向を走査方向に一致
させるとともに、そのステージ装置におけるステージの
加減速によりステージ装置のステージ定盤が移動するの
を阻止するようにステージ定盤に推力を付与することを
特徴とする。
別個の手段により走査方向に移動させながら原版のパタ
ーンを投影光学系を介して基板上に走査露光するデバイ
ス製造方法において、基板を移動させるために上述のよ
うなステージ装置を用い、そのＹ方向を走査方向に一致
させるとともに、そのステージ装置におけるステージの
加減速によりステージ装置のステージ定盤が移動するの
を阻止するようにステージ定盤に推力を付与することを
特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を説明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る
露光装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、
図２は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これ
らの図に示すように、この露光装置はレチクルのパター
ンの一部を投影光学系２を介して、ＸＹステージ装置３
上に設けられた微動ステージ８０上のウエハに投影し、
投影光学系２に対し相対的にレチクルとウエハをＹ方向
に同期走査することによりレチクルのパターンをウエハ
に露光するとともに、この走査露光を、ウエハ上の複数
領域に対して繰返し行うためのステップ移動を介在させ
ながら行なうステップ・アンド・スキャン型の露光装置
である。
形態を説明する。図１は本発明の第１の実施形態に係る
露光装置を側方から見た様子を模式的に示す図であり、
図２は、その露光装置の外観を示す斜視図である。これ
らの図に示すように、この露光装置はレチクルのパター
ンの一部を投影光学系２を介して、ＸＹステージ装置３
上に設けられた微動ステージ８０上のウエハに投影し、
投影光学系２に対し相対的にレチクルとウエハをＹ方向
に同期走査することによりレチクルのパターンをウエハ
に露光するとともに、この走査露光を、ウエハ上の複数
領域に対して繰返し行うためのステップ移動を介在させ
ながら行なうステップ・アンド・スキャン型の露光装置
である。
【００１４】レチクルの走査方向（Ｙ方向）への移動
は、レチクル側ステージ装置によって行われ、このステ
ージ装置は、固定子４ａと可動子４ｂとの間で推力を付
与することにより可動子４ｂを走査方向へ移動させるリ
ニアモータ４を備え、可動子４ｂにレチクルステージ１
が結合している。固定子４ａは第１の支持手段１０１に
よりＹ方向には自由度をもたせて支持される。そして、
第２の支持手段１０５によりＹ方向について剛に、他の
方向について柔に支持される。この第２支持手段１０５
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３、
および柱部１０３からＹ方向に伸び、固定子４ａをＹ方
向について剛に、他の方向について柔に支持する一軸支
持手段１０２を有する。
は、レチクル側ステージ装置によって行われ、このステ
ージ装置は、固定子４ａと可動子４ｂとの間で推力を付
与することにより可動子４ｂを走査方向へ移動させるリ
ニアモータ４を備え、可動子４ｂにレチクルステージ１
が結合している。固定子４ａは第１の支持手段１０１に
よりＹ方向には自由度をもたせて支持される。そして、
第２の支持手段１０５によりＹ方向について剛に、他の
方向について柔に支持される。この第２支持手段１０５
は、ベースフレーム１０から上方に伸びた柱部１０３、
および柱部１０３からＹ方向に伸び、固定子４ａをＹ方
向について剛に、他の方向について柔に支持する一軸支
持手段１０２を有する。
【００１５】レチクルステージ１はリニアモータ４によ
ってＹ方向へ駆動し、ＸＹステージ装置３のＸステージ
３ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステ
ージ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよ
うになっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、
レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一
定の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより
行なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３
ａにより行なう。
ってＹ方向へ駆動し、ＸＹステージ装置３のＸステージ
３ａはリニアモータ５によってＸ方向に駆動し、Ｙステ
ージ３ｂはリニアモータ６によってＹ方向へ駆動するよ
うになっている。レチクルおよびウエハの同期走査は、
レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方向へ一
定の速度比率（例えば４：１）で駆動させることにより
行なう。また、Ｘ方向へのステップ移動はＸステージ３
ａにより行なう。
【００１６】ＸＹステージ装置３は、ステージ定盤７上
に設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して
３点で床等の上に支持されている。第１支持手段１０１
および投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定
盤９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および
支柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向
にアクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパ
であるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダ
ンパを介せずに支持してもよい。
に設けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して
３点で床等の上に支持されている。第１支持手段１０１
および投影光学系２は鏡筒定盤９上に設けられ、鏡筒定
盤９はベースフレーム１０上に３つのダンパ１１および
支柱１２を介して支持されている。ダンパ８は６軸方向
にアクティブに制振もしくは除振するアクティブダンパ
であるが、パッシブダンパを用いてもよく、あるいはダ
ンパを介せずに支持してもよい。
【００１７】この構成において、不図示の搬送手段によ
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸＹ
ステージ装置３上にウエハが搬入され、所定の位置合せ
が終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移
動を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対し
てレチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際し
ては、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方
向（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリッ
ト状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
り、装置前部の２つの支柱１２間の搬送経路を経てＸＹ
ステージ装置３上にウエハが搬入され、所定の位置合せ
が終了すると、露光装置は、走査露光およびステップ移
動を繰り返しながら、ウエハ上の複数の露光領域に対し
てレチクルのパターンを露光転写する。走査露光に際し
ては、レチクルステージ１およびＹステージ３ｂをＹ方
向（走査方向）へ、所定の速度比で移動させて、スリッ
ト状の露光光でレチクル上のパターンを走査するととも
に、その投影像でウエハを走査することにより、ウエハ
上の所定の露光領域に対してレチクル上のパターンを露
光する。１つの露光領域に対する走査露光が終了した
ら、Ｘステージ３ａをＸ方向へ駆動してウエハをステッ
プ移動させることにより、他の露光領域を走査露光の開
始位置に対して位置決めし、走査露光を行なう。なお、
このＸ方向へのステップ移動と、Ｙ方向への走査露光の
ための移動との組合せにより、ウエハ上の複数の露光領
域に対して、順次効率良く露光が行なえるように、各露
光領域の配置、Ｙの正または負のいずれかへの走査方
向、各露光領域への露光順等が設定されている。
【００１８】図３はＸＹステージ装置３をＹ方向から見
た図である。同図に示すように、ダンパ８は、部材５１
上に設けられた重力補償用空気ばね５２およびアクチュ
エータ５３を有し、これらによってステージ定盤７を水
平面内において移動可能に支持する。リニアモータ６
は、Ｙステージ３ｂと、床等のベース５４との間に設け
られている。すなわち、リニアモータ６のリニアモータ
コイル５５を有する固定子は、支持部材５６を介してベ
ース５４に固定され、可動子５７はＹステージ３ｂに固
定されている。Ｙステージ３ｂおよびＸステージ３ａ
は、それぞれ静圧軸受５８および５９を介して、ステー
ジ定盤７上の基準面６０上に、水平面内で移動可能なよ
うに、Ｚ方向に支持されている。Ｙステージ３ｂはま
た、静圧軸受６１を介して、Ｙガイド６２によりＹ方向
に案内されている。Ｘステージ３ａはＹステージ３ｂ上
でＸ方向に移動可能なように案内されている。また、支
持部材５６と、ステージ定盤７との間には、それぞれス
テージ定盤７に対してＹ方向の推力を付与することがで
きる２つのリニアモータ６３が設けられ、これにより、
ステージ定盤７をＹ方向に並進させおよび回転させる推
力を付与することができるようになっている。
た図である。同図に示すように、ダンパ８は、部材５１
上に設けられた重力補償用空気ばね５２およびアクチュ
エータ５３を有し、これらによってステージ定盤７を水
平面内において移動可能に支持する。リニアモータ６
は、Ｙステージ３ｂと、床等のベース５４との間に設け
られている。すなわち、リニアモータ６のリニアモータ
コイル５５を有する固定子は、支持部材５６を介してベ
ース５４に固定され、可動子５７はＹステージ３ｂに固
定されている。Ｙステージ３ｂおよびＸステージ３ａ
は、それぞれ静圧軸受５８および５９を介して、ステー
ジ定盤７上の基準面６０上に、水平面内で移動可能なよ
うに、Ｚ方向に支持されている。Ｙステージ３ｂはま
た、静圧軸受６１を介して、Ｙガイド６２によりＹ方向
に案内されている。Ｘステージ３ａはＹステージ３ｂ上
でＸ方向に移動可能なように案内されている。また、支
持部材５６と、ステージ定盤７との間には、それぞれス
テージ定盤７に対してＹ方向の推力を付与することがで
きる２つのリニアモータ６３が設けられ、これにより、
ステージ定盤７をＹ方向に並進させおよび回転させる推
力を付与することができるようになっている。
【００１９】これによれば、ベース５４が振動したとし
ても、ステージ定盤７がダンパ８により支持され、ま
た、ベース５４と、ステージ定盤７およびＹステージ３
ｂとの間はそれぞれリニアモータ６３および６を介して
非接触であるため、その振動はステージ定盤７やＹステ
ージ３ｂに伝達しにくい。一方、走査露光時において、
走査方向であるＹ方向にＹステージを駆動する場合、Ｙ
ステージの加減速時に駆動反力がステージ定盤７に付与
されるが、その反力のＹ方向並進成分および回転方向成
分は２つのリニアモータにより６３によりキャンセルさ
れる。すなわち、ステージ定盤７の移動を阻止するよう
に、ステージ定盤７に対し、２つのリニアモータ６３が
推進力を付与する。このような、リニアモータ６３の駆
動は、例えば、ステージ定盤７上に設けた加速度センサ
の出力に基づいて、行うことができる。ただし、この場
合、Ｙ方向の駆動反力は、ほとんど支持部材５６を介し
てベース５４によって支持されるため、Ｙステージ３ｂ
を駆動させるリニアモータ６をステージ定盤７との間に
設ける場合に比べ、リニアモーダ６３の出力を小さくす
ることができる。なお、Ｘステージ３ａを駆動する場合
の反力は、同様に、支持部材５６と、ステージ定盤７と
の間に、ステージ定盤７に対してＸ方向の推力をそれぞ
れ付与することができる２つのリニアモータを設けるこ
とにより、キャンセルすることができる。
ても、ステージ定盤７がダンパ８により支持され、ま
た、ベース５４と、ステージ定盤７およびＹステージ３
ｂとの間はそれぞれリニアモータ６３および６を介して
非接触であるため、その振動はステージ定盤７やＹステ
ージ３ｂに伝達しにくい。一方、走査露光時において、
走査方向であるＹ方向にＹステージを駆動する場合、Ｙ
ステージの加減速時に駆動反力がステージ定盤７に付与
されるが、その反力のＹ方向並進成分および回転方向成
分は２つのリニアモータにより６３によりキャンセルさ
れる。すなわち、ステージ定盤７の移動を阻止するよう
に、ステージ定盤７に対し、２つのリニアモータ６３が
推進力を付与する。このような、リニアモータ６３の駆
動は、例えば、ステージ定盤７上に設けた加速度センサ
の出力に基づいて、行うことができる。ただし、この場
合、Ｙ方向の駆動反力は、ほとんど支持部材５６を介し
てベース５４によって支持されるため、Ｙステージ３ｂ
を駆動させるリニアモータ６をステージ定盤７との間に
設ける場合に比べ、リニアモーダ６３の出力を小さくす
ることができる。なお、Ｘステージ３ａを駆動する場合
の反力は、同様に、支持部材５６と、ステージ定盤７と
の間に、ステージ定盤７に対してＸ方向の推力をそれぞ
れ付与することができる２つのリニアモータを設けるこ
とにより、キャンセルすることができる。
【００２０】図４は、本発明の第２の実施形態に係る露
光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下
の部分を示す平面図であり、図５はその正面図である。
ここで特に言及する以外の構成は、第１の実施形態の場
合と同様である。ここでは、ベースフレーム１０上に、
ステージ定盤７を支持し、Ｙステージを駆動するリニア
モータは、Ｙステージとステージ定盤７との間に設けら
れる。ベースフレーム１０上にはまた、上述の投影光学
系２、レチクルステージ１等の他に、微動ステージ８０
の位置を計測するレーザ干渉計２３（図１）、微動ステ
ージ８０の露光光軸方向の姿勢を計測するフォーカス計
測計２１、２２、レチクル上のパターンとウエハ上のパ
ターンとの位置ずれを計測するアライメント光学系等が
設けられている。ステージ定盤７とベースフレーム１０
との間にダンパとしてのエアベアリング６４が設けられ
ている。エアベアリング６４は、Ｚ方向に荷重負荷能力
を充分有しており、ステージ定盤７を水平方向に可動な
ように支持する。さらにステージ定盤７とベースフレー
ム１０との間にはリニアモータ６５〜６８が設けられて
いる。リニアモータ６５および６６は、それぞれＹ方向
にステージ定盤７を案内し推力を発生するするように配
置される。リニアモータ６７および６８は、それぞれＸ
方向にステージ定盤７を案内し推力を発生するように配
置される。すなわち、リニアモータ６５〜６８は、ステ
ージ定盤７に対して、ＸおよびＹ並進方向、ならびに水
平面内の回転方向に推力を付与することができるよう
に、ステージ定盤７およびベースフレーム１０間に取り
付けられる。各リニアモータの磁石部はステージ定盤７
に固定され、コイル部は、ベースフレーム１０に固定さ
れる。コイル部材はアルミニウムのジャケットの中に配
置されており、コイルとジャッケットとの間に温度制御
された冷却媒体が流れる。これによってコイルの発熱に
よる温度の上昇を抑制する。各リニアモータ６５〜６８
においては、その構成上、ベースフレーム１０側（コイ
ル部）とステージ定盤７側（磁石部）とが非接触になっ
ている。
光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下
の部分を示す平面図であり、図５はその正面図である。
ここで特に言及する以外の構成は、第１の実施形態の場
合と同様である。ここでは、ベースフレーム１０上に、
ステージ定盤７を支持し、Ｙステージを駆動するリニア
モータは、Ｙステージとステージ定盤７との間に設けら
れる。ベースフレーム１０上にはまた、上述の投影光学
系２、レチクルステージ１等の他に、微動ステージ８０
の位置を計測するレーザ干渉計２３（図１）、微動ステ
ージ８０の露光光軸方向の姿勢を計測するフォーカス計
測計２１、２２、レチクル上のパターンとウエハ上のパ
ターンとの位置ずれを計測するアライメント光学系等が
設けられている。ステージ定盤７とベースフレーム１０
との間にダンパとしてのエアベアリング６４が設けられ
ている。エアベアリング６４は、Ｚ方向に荷重負荷能力
を充分有しており、ステージ定盤７を水平方向に可動な
ように支持する。さらにステージ定盤７とベースフレー
ム１０との間にはリニアモータ６５〜６８が設けられて
いる。リニアモータ６５および６６は、それぞれＹ方向
にステージ定盤７を案内し推力を発生するするように配
置される。リニアモータ６７および６８は、それぞれＸ
方向にステージ定盤７を案内し推力を発生するように配
置される。すなわち、リニアモータ６５〜６８は、ステ
ージ定盤７に対して、ＸおよびＹ並進方向、ならびに水
平面内の回転方向に推力を付与することができるよう
に、ステージ定盤７およびベースフレーム１０間に取り
付けられる。各リニアモータの磁石部はステージ定盤７
に固定され、コイル部は、ベースフレーム１０に固定さ
れる。コイル部材はアルミニウムのジャケットの中に配
置されており、コイルとジャッケットとの間に温度制御
された冷却媒体が流れる。これによってコイルの発熱に
よる温度の上昇を抑制する。各リニアモータ６５〜６８
においては、その構成上、ベースフレーム１０側（コイ
ル部）とステージ定盤７側（磁石部）とが非接触になっ
ている。
【００２１】以上の構成によって、水平方向の床等の振
動は、ベースフレーム１０を介してステージ定盤７に伝
達しにくくなる。また、特に、静圧軸受とリニアモータ
とで案内されるように構成したＸＹステージには、ステ
ージ定盤７のθ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の振動がＹ
方向に変換されて伝達しやすいが、そのようなθ方向の
振動が床等からステージ定盤７に伝達するのを排除する
ことができる。
動は、ベースフレーム１０を介してステージ定盤７に伝
達しにくくなる。また、特に、静圧軸受とリニアモータ
とで案内されるように構成したＸＹステージには、ステ
ージ定盤７のθ方向（Ｚ軸回りの回転方向）の振動がＹ
方向に変換されて伝達しやすいが、そのようなθ方向の
振動が床等からステージ定盤７に伝達するのを排除する
ことができる。
【００２２】一方、ステージ定盤７上のＸＹステージが
加速あるいは減速する場合の反力によって、ステージ定
盤７はＸＹステージの加速度と反対方向に移動しようと
するが、この移動は、リニアモータ６５〜６８を、ＸＹ
ステージの加減速時の反力によってステージ定盤７が並
進しまたは回転しない方向に推力を発生するように駆動
制御することにより、阻止される。
加速あるいは減速する場合の反力によって、ステージ定
盤７はＸＹステージの加速度と反対方向に移動しようと
するが、この移動は、リニアモータ６５〜６８を、ＸＹ
ステージの加減速時の反力によってステージ定盤７が並
進しまたは回転しない方向に推力を発生するように駆動
制御することにより、阻止される。
【００２３】図６は、本発明の第３の実施形態に係る露
光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下
の部分を示す平面図であり、図７はその正面図である。
ここで特に言及する以外の構成は、第２の実施形態と同
様である。ここでは、ステージ定盤７とベースフレーム
１０との間を、水平方向に放射状に配置した板バネ部材
６７〜７０で結合し、水平方向の並進方向の動きを拘束
している。また、ステージ定盤７とベースフレーム１０
との間のリニアモータとしては、ステージ定盤７に対し
て水平面内の回転方向に推力を発生するように２カ所に
配置した、２つのリニアモータ７１および７２のみ用い
ている。
光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下
の部分を示す平面図であり、図７はその正面図である。
ここで特に言及する以外の構成は、第２の実施形態と同
様である。ここでは、ステージ定盤７とベースフレーム
１０との間を、水平方向に放射状に配置した板バネ部材
６７〜７０で結合し、水平方向の並進方向の動きを拘束
している。また、ステージ定盤７とベースフレーム１０
との間のリニアモータとしては、ステージ定盤７に対し
て水平面内の回転方向に推力を発生するように２カ所に
配置した、２つのリニアモータ７１および７２のみ用い
ている。
【００２４】この場合、水平面内の床振動のうち、回転
成分のみが、ステージ定盤７に伝わるのを遮断される。
並進方向成分はステージ定盤７に伝達しやすいが、ＸＹ
ステージの静圧軸受によるガイド構成は、水平方向の並
進成分の振動をウエハに伝達しにくいので、結果的に、
ウエハには水平方向の床振動は伝達しにくい構成となっ
ている。リニアモータ７１および７２は、ＸＹステージ
の加減速時の反力による水平面内のモーメントによっ
て、ステージ定盤７が移動しないように、制御される。
すなわち、ステージ定盤７のθ方向の移動が阻止され
る。
成分のみが、ステージ定盤７に伝わるのを遮断される。
並進方向成分はステージ定盤７に伝達しやすいが、ＸＹ
ステージの静圧軸受によるガイド構成は、水平方向の並
進成分の振動をウエハに伝達しにくいので、結果的に、
ウエハには水平方向の床振動は伝達しにくい構成となっ
ている。リニアモータ７１および７２は、ＸＹステージ
の加減速時の反力による水平面内のモーメントによっ
て、ステージ定盤７が移動しないように、制御される。
すなわち、ステージ定盤７のθ方向の移動が阻止され
る。
【００２５】図８は、本発明の第４の実施形態に係る露
光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下
の部分を示す平面図であり、図９はその正面図である。
ここでは、図６のものにおける板バネ部材６７〜７０の
代わりに、ころがり軸受によるラジアル軸受７３を有
し、これにより、図６のものの場合と同様に、ステージ
定盤７の水平面内での回転方向への移動のみを許容する
ようにしている。他の点については図６のものの場合と
同様である。
光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下
の部分を示す平面図であり、図９はその正面図である。
ここでは、図６のものにおける板バネ部材６７〜７０の
代わりに、ころがり軸受によるラジアル軸受７３を有
し、これにより、図６のものの場合と同様に、ステージ
定盤７の水平面内での回転方向への移動のみを許容する
ようにしている。他の点については図６のものの場合と
同様である。
【００２６】図１０は、本発明の第５の実施形態に係る
露光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より
下の部分を示す平面図であり、図１１はその正面図であ
る。Ｙステージ３ｂを駆動するリニアモータ６は、Ｙス
テージ３ｂとベースフレーム１０との間に設けられ、リ
ニアモータ６の固定子５５は固定子支持部材５６によっ
てベースフレーム１０に固定され、可動子５７はＹステ
ージ３ｂに固定されている。
露光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より
下の部分を示す平面図であり、図１１はその正面図であ
る。Ｙステージ３ｂを駆動するリニアモータ６は、Ｙス
テージ３ｂとベースフレーム１０との間に設けられ、リ
ニアモータ６の固定子５５は固定子支持部材５６によっ
てベースフレーム１０に固定され、可動子５７はＹステ
ージ３ｂに固定されている。
【００２７】他の構成は図４のものの場合と同様であ
る。ただし、Ｙ方向への推力を付与するリニアモータ６
５および６６の出力は、図４のものの場合より小さくて
よい。すなわち、本形態の場合、図４のものの場合と同
様にリニアモータ６５〜６８はＸＹステージが加速ある
いは減速する場合の反力によってステージ定盤７がステ
ージの加速度と反対方向に移動しないように制御される
が、Ｙステージ３ｂの加減速時の反力は主に固定子支持
部材５６を介してベースフレーム１０にかかるため、Ｙ
方向の反力は図４のものの場合に比べて小さくなるの
で、リニアモータ６５および６６に必要な最大推力は小
さくなる。
る。ただし、Ｙ方向への推力を付与するリニアモータ６
５および６６の出力は、図４のものの場合より小さくて
よい。すなわち、本形態の場合、図４のものの場合と同
様にリニアモータ６５〜６８はＸＹステージが加速ある
いは減速する場合の反力によってステージ定盤７がステ
ージの加速度と反対方向に移動しないように制御される
が、Ｙステージ３ｂの加減速時の反力は主に固定子支持
部材５６を介してベースフレーム１０にかかるため、Ｙ
方向の反力は図４のものの場合に比べて小さくなるの
で、リニアモータ６５および６６に必要な最大推力は小
さくなる。
【００２８】図１２は、本発明の第６の実施形態に係る
露光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より
下の部分を示す平面図であり、図１３はその正面図であ
る。この場合、ベースフレーム１０上に固定した部材７
５とステージ定盤７との間に板ばね部材７４が設けられ
ている。板ばね部材７４は２ケ所に配置されており、エ
アベアリング６４と板バネ部材７４とによって、ステー
ジ定盤７は、Ｙ方向と水平面内の回転方向とに可動に支
持されている。
露光装置におけるＸＹステージ装置のステージ定盤より
下の部分を示す平面図であり、図１３はその正面図であ
る。この場合、ベースフレーム１０上に固定した部材７
５とステージ定盤７との間に板ばね部材７４が設けられ
ている。板ばね部材７４は２ケ所に配置されており、エ
アベアリング６４と板バネ部材７４とによって、ステー
ジ定盤７は、Ｙ方向と水平面内の回転方向とに可動に支
持されている。
【００２９】その他の構成は、図１０のものの場合と同
様である。ただし、Ｘ方向への推力を付与するリニアモ
ータ６７および６８の出力は、図１０のもののに比べ、
小さくてよい。すなわち、Ｘステージ３ａのＸ方向の移
動に伴う反力は、板ばね部材７４の引っ張り方向の剛性
によってベースフレーム１０にかかるので、図１０のも
のに比べてニアモータ６７および６８に必要な最大推力
は小さくなる。
様である。ただし、Ｘ方向への推力を付与するリニアモ
ータ６７および６８の出力は、図１０のもののに比べ、
小さくてよい。すなわち、Ｘステージ３ａのＸ方向の移
動に伴う反力は、板ばね部材７４の引っ張り方向の剛性
によってベースフレーム１０にかかるので、図１０のも
のに比べてニアモータ６７および６８に必要な最大推力
は小さくなる。
【００３０】次に、上述の各形態に係る露光装置を利用
することができるデバイス製造例を説明する。図１４
は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液
晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン
等）の製造のフローを示す。ステップ３１（回路設計）
では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ３２
（マスク製作）では設計した回路パターンを形成したマ
スクを製作する。一方、ステップ３３（ウエハ製造）で
はシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステッ
プ３４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によっ
てウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ３５
（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ３４によって
作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ３６（検査）では、ステップ３５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷（ステップ３７）する。
することができるデバイス製造例を説明する。図１４
は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液
晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン
等）の製造のフローを示す。ステップ３１（回路設計）
では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ３２
（マスク製作）では設計した回路パターンを形成したマ
スクを製作する。一方、ステップ３３（ウエハ製造）で
はシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステッ
プ３４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によっ
てウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ３５
（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ３４によって
作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ３６（検査）では、ステップ３５で作製された半
導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査
を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これを出荷（ステップ３７）する。
【００３１】図１５は、上記ウエハプロセスの詳細なフ
ローを示す。ステップ４１（酸化）ではウエハの表面を
酸化させる。ステップ４２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップ４３（電極形成）ではウエ
ハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ４４（イ
オン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ
４５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。
ステップ４６（露光）では、上記説明した露光装置によ
ってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ス
テップ４７（現像）では露光したウエハを現像する。ス
テップ４８（エッチング）では現像したレジスト像以外
の部分を削り取る。ステップ４９（レジスト剥離）で
は、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによってウ
エハ上に多重に回路パターンを形成する。
ローを示す。ステップ４１（酸化）ではウエハの表面を
酸化させる。ステップ４２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。ステップ４３（電極形成）ではウエ
ハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ４４（イ
オン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ
４５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。
ステップ４６（露光）では、上記説明した露光装置によ
ってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ス
テップ４７（現像）では露光したウエハを現像する。ス
テップ４８（エッチング）では現像したレジスト像以外
の部分を削り取る。ステップ４９（レジスト剥離）で
は、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによってウ
エハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００３２】この製造方法を用いれば、従来は製造が難
しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで製造す
ることができる。
しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで製造す
ることができる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ベース部材上でステージ定盤を水平面内で所定方向に移
動可能に支持するとともに、ステージの加減速によりス
テージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定盤
に推力を付与するようにしたため、床等の振動がステー
ジ定盤に伝達するのを防止することができ、その場合で
も、ステージの加減速による反力でステージ定盤が移動
することがない。
ベース部材上でステージ定盤を水平面内で所定方向に移
動可能に支持するとともに、ステージの加減速によりス
テージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定盤
に推力を付与するようにしたため、床等の振動がステー
ジ定盤に伝達するのを防止することができ、その場合で
も、ステージの加減速による反力でステージ定盤が移動
することがない。
【００３４】具体的には、ステージがＸＹステージであ
り、推力付与手段がＹ方向あるいはこれに加えＸ方向に
ステージ定盤を案内し駆動する複数のリニアモータであ
る場合、これらのリニアモータは、ステージの加減速に
よりステージ定盤が移動するのを阻止するようにステー
ジ定盤にＹ方向あるいはこれに加えＸ方向へ並進させる
推力および回転方向の推力を付与することにより、床等
の振動の水平な並進方向の成分および回転方向の成分が
ステージ定盤に伝達するのを防止することができ、その
場合でも、ＸＹステージの加減速による反力でステージ
定盤が移動することもない。
り、推力付与手段がＹ方向あるいはこれに加えＸ方向に
ステージ定盤を案内し駆動する複数のリニアモータであ
る場合、これらのリニアモータは、ステージの加減速に
よりステージ定盤が移動するのを阻止するようにステー
ジ定盤にＹ方向あるいはこれに加えＸ方向へ並進させる
推力および回転方向の推力を付与することにより、床等
の振動の水平な並進方向の成分および回転方向の成分が
ステージ定盤に伝達するのを防止することができ、その
場合でも、ＸＹステージの加減速による反力でステージ
定盤が移動することもない。
【００３５】さらにこの場合において、ＸステージはＹ
ステージ上でＸ方向に移動するものであり、ステージ駆
動手段は、Ｙステージとベース部材との間に設けたリニ
アモータによりＹステージをＹ方向へ駆動するものであ
るときは、Ｙステージの加減速時の反力のかなりの部分
がベース部材で支持されるため、Ｙ方向へステージ定盤
を駆動するリニアモータの出力を小さくすることができ
る。またさらに、定盤支持手段が、ステージ定盤をＸ方
向に拘束し、かつＹ方向に並進可能に、また回転可能
に、支持する板ばねを有する場合は、Ｘ方向へステージ
定盤を駆動するリニアモータの出力も小さくすることが
できる。
ステージ上でＸ方向に移動するものであり、ステージ駆
動手段は、Ｙステージとベース部材との間に設けたリニ
アモータによりＹステージをＹ方向へ駆動するものであ
るときは、Ｙステージの加減速時の反力のかなりの部分
がベース部材で支持されるため、Ｙ方向へステージ定盤
を駆動するリニアモータの出力を小さくすることができ
る。またさらに、定盤支持手段が、ステージ定盤をＸ方
向に拘束し、かつＹ方向に並進可能に、また回転可能
に、支持する板ばねを有する場合は、Ｘ方向へステージ
定盤を駆動するリニアモータの出力も小さくすることが
できる。
【００３６】また、同様にＸＹステージおよびこれを駆
動するリニアモータを有するとともに、さらに、Ｘステ
ージおよびＹステージは鉛直方向には静圧軸受を介して
水平面内で移動可能に支持されており、定盤支持手段
が、ステージ定盤を鉛直方向に支持するエアベアリング
と、ステージ定盤の並進方向への移動を拘束し、かつ、
水平面内での回転方向への移動を許容する板ばねとを有
し、推力付与手段が、ステージの加減速によりステージ
定盤が回転するのを阻止するようにステージ定盤に推力
を付与するリニアモータである場合は、床振動等の水平
面内での回転方向成分がステージ定盤に伝達するのを防
止することができ、その場合でも、ＸＹステージの加減
速による反力でステージ定盤が回転移動することもな
い。床振動等の水平面内での並進方向成分は、ステージ
定盤に伝達しやすいが、ＸＹステージが静圧軸受を介し
て支持されているため、ＸＹステージには伝達しにく
い。板ばねの代わりに、ころがり軸受によるラジアル軸
受によってステージ定盤の水平面内での回転方向への移
動のみを許容する場合も同様である。
動するリニアモータを有するとともに、さらに、Ｘステ
ージおよびＹステージは鉛直方向には静圧軸受を介して
水平面内で移動可能に支持されており、定盤支持手段
が、ステージ定盤を鉛直方向に支持するエアベアリング
と、ステージ定盤の並進方向への移動を拘束し、かつ、
水平面内での回転方向への移動を許容する板ばねとを有
し、推力付与手段が、ステージの加減速によりステージ
定盤が回転するのを阻止するようにステージ定盤に推力
を付与するリニアモータである場合は、床振動等の水平
面内での回転方向成分がステージ定盤に伝達するのを防
止することができ、その場合でも、ＸＹステージの加減
速による反力でステージ定盤が回転移動することもな
い。床振動等の水平面内での並進方向成分は、ステージ
定盤に伝達しやすいが、ＸＹステージが静圧軸受を介し
て支持されているため、ＸＹステージには伝達しにく
い。板ばねの代わりに、ころがり軸受によるラジアル軸
受によってステージ定盤の水平面内での回転方向への移
動のみを許容する場合も同様である。
【００３７】また、このようなステージ装置を、原版と
基板とを走査方向に移動させながら原版のパターンを投
影光学系を介して基板上に露光する走査式の露光装置に
おいて基板移動用のステージ装置として用い、そのステ
ージ装置のＹ方向を走査方向に一致させることにより、
床等の振動を基板に伝達することなく、露光を行うこと
ができる。またその場合、ベース部材上に、原版を移動
させる原版用のステージ装置、および投影光学系が支持
されているときは、原版用のステージ装置の振動が基板
側に伝わるのを防止することができる。
基板とを走査方向に移動させながら原版のパターンを投
影光学系を介して基板上に露光する走査式の露光装置に
おいて基板移動用のステージ装置として用い、そのステ
ージ装置のＹ方向を走査方向に一致させることにより、
床等の振動を基板に伝達することなく、露光を行うこと
ができる。またその場合、ベース部材上に、原版を移動
させる原版用のステージ装置、および投影光学系が支持
されているときは、原版用のステージ装置の振動が基板
側に伝わるのを防止することができる。
【００３８】よって、原版のパターンを基板上に高精度
で走査露光することができ、高精度な回路パターン等を
有するデバイスを製造することができる。
で走査露光することができ、高精度な回路パターン等を
有するデバイスを製造することができる。
【図１】 本発明の第１の実施形態に係る露光装置を側
方から見た様子を模式的に示す図である。
方から見た様子を模式的に示す図である。
【図２】 図１の露光装置の外観を示す斜視図である。
【図３】 図１の装置におけるＸＹステージ装置を、Ｙ
方向から見た図である。
方向から見た図である。
【図４】 本発明の第２の実施形態に係る露光装置にお
けるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を示
す平面図である。
けるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を示
す平面図である。
【図５】 図４の正面図である。
【図６】 本発明の第３の実施形態に係る露光装置にお
けるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を示
す平面図である。
けるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を示
す平面図である。
【図７】 図６の正面図である。
【図８】 本発明の第４の実施形態に係る露光装置にお
けるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を示
す平面図である。
けるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を示
す平面図である。
【図９】 図８の正面図である。
【図１０】 本発明の第５の実施形態に係る露光装置に
おけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を
示す平面図である。
おけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を
示す平面図である。
【図１１】 図１０の正面図である。
【図１２】 本発明の第６の実施形態に係る露光装置に
おけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を
示す平面図である。
おけるＸＹステージ装置のステージ定盤より下の部分を
示す平面図である。
【図１３】 図１２の正面図である。
【図１４】 図１の装置により製造し得る微小デバイス
の製造の流れを示すフローチャートである。
の製造の流れを示すフローチャートである。
【図１５】 図１４におけるウエハプロセスの詳細な流
れを示すフローチャートである。
れを示すフローチャートである。
１：レチクルステージ、２：投影光学系、３：ＸＹステ
ージ、４：リニアモータ、４ａ：固定子、４ｂ：可動
子、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニア
モータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定
盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支
柱、１３：距離測定手段、２１，２２：フォーカス計測
計、２３：レーザ干渉計、３１〜３６：レーザ干渉計、
３７，３８：レーザヘッド、３９，４１，４２，４４，
４７，４８：反射ミラー、４０，４３，４５，４６：ビ
ームスプリッタ、８０：微動ステージ装置、５１：ベー
ス、５２：重力補償用空気ばね、５３：アクチュエー
タ、５４：ベース、５５：リニアモータコイル、５６：
支持部材、５７：可動子、５８，５９，６１：静圧軸
受、６０：基準面、６２：Ｙガイド、６３：リニアモー
タ、６４：エアベアリング、６５〜６８：リニアモー
タ、６７〜７０：板バネ部材、７１，７２：リニアモー
タ、７３：ラジアル軸受、７５：部材、７４：板ばね部
材。
ージ、４：リニアモータ、４ａ：固定子、４ｂ：可動
子、３ａ：Ｘステージ、３ｂ：Ｙステージ、６：リニア
モータ、７：ステージ定盤、８：ダンパ、９：鏡筒定
盤、１０：ベースフレーム、１１：ダンパ、１２：支
柱、１３：距離測定手段、２１，２２：フォーカス計測
計、２３：レーザ干渉計、３１〜３６：レーザ干渉計、
３７，３８：レーザヘッド、３９，４１，４２，４４，
４７，４８：反射ミラー、４０，４３，４５，４６：ビ
ームスプリッタ、８０：微動ステージ装置、５１：ベー
ス、５２：重力補償用空気ばね、５３：アクチュエー
タ、５４：ベース、５５：リニアモータコイル、５６：
支持部材、５７：可動子、５８，５９，６１：静圧軸
受、６０：基準面、６２：Ｙガイド、６３：リニアモー
タ、６４：エアベアリング、６５〜６８：リニアモー
タ、６７〜７０：板バネ部材、７１，７２：リニアモー
タ、７３：ラジアル軸受、７５：部材、７４：板ばね部
材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ Ｂ２３Ｑ 1/18 Ａ
Claims (10)
- 【請求項１】 ステージ定盤と、このステージ定盤上で
水平な所定の方向に移動可能に支持されたステージと、
このステージをステージ定盤上で前記所定方向に移動さ
せるステージ駆動手段と、ベース部材と、このベース部
材上でステージ定盤を水平面内で所定方向に移動可能に
支持する定盤支持手段と、ステージの加減速によりステ
ージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定盤に
推力を付与する推力付与手段とを具備することを特徴と
するステージ装置。 - 【請求項２】 ステージは水平なＸおよびＹ方向にそれ
ぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを有し、推
力付与手段は、Ｙ方向あるいはこれに加えＸ方向にステ
ージ定盤を案内し駆動する複数のリニアモータであり、
かつこれらのリニアモータは、ステージの加減速により
ステージ定盤が移動するのを阻止するようにステージ定
盤にＹ方向あるいはこれに加えＸ方向へ並進させる推力
および回転方向の推力を付与するものであることを特徴
とする請求項１記載のステージ装置。 - 【請求項３】 ステージは水平なＸおよびＹ方向にそれ
ぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを有し、ス
テージ駆動手段はＸステージおよびＹステージをそれぞ
れＸおよびＹ方向に案内し駆動するリニアモータを有
し、また、ＸステージおよびＹステージは鉛直方向には
静圧軸受を介して水平面内で移動可能に支持されてお
り、定盤支持手段は、ステージ定盤を鉛直方向に支持す
るエアベアリングと、ステージ定盤の並進方向への移動
を拘束し、かつ、水平面内での回転方向への移動を許容
する板ばねとを有し、推力付与手段は、ステージの加減
速によりステージ定盤が回転するのを阻止するようにス
テージ定盤に推力を付与するリニアモータであることを
特徴とする請求項１記載のステージ装置。 - 【請求項４】 ステージは水平なＸおよびＹ方向にそれ
ぞれ移動可能なＸステージおよびＹステージを有し、ス
テージ駆動手段はＸステージおよびＹステージをそれぞ
れＸおよびＹ方向に案内して駆動するリニアモータを有
し、また、ＸステージおよびＹステージは鉛直方向には
静圧軸受を介して水平面内で移動可能に支持されてお
り、定盤支持手段は、ステージ定盤を鉛直方向に支持す
るエアベアリングと、ころがり軸受によるラジアル軸受
とを有し、ステージ定盤の水平面内での回転方向への移
動のみを許容するものであり、推力付与手段は、ステー
ジの加減速によりステージ定盤が回転するのを阻止する
ようにステージ定盤に推力を付与するリニアモータであ
ることを特徴とする請求項１記載のステージ装置。 - 【請求項５】 ＸステージはＹステージ上でＸ方向に移
動するものであり、ステージ駆動手段は、Ｙステージと
ベース部材との間に設けたリニアモータによりＹステー
ジをＹ方向へ駆動するものであることを特徴とする請求
項２記載のステージ装置。 - 【請求項６】 定盤支持手段はステージ定盤をＸ方向に
拘束し、かつＹ方向に並進可能に、また回転可能に、支
持する板ばねを有することを特徴とする請求項５記載の
ステージ装置。 - 【請求項７】 原版と基板とを走査方向に移動させなが
ら原版のパターンを投影光学系を介して基板上に露光す
る走査式の露光装置において、請求項２〜７のいずれか
のステージ装置を基板を移動させるための基板用のステ
ージ装置として用い、そのステージ装置のＹ方向が走査
方向に一致することを特徴とする露光装置。 - 【請求項８】 ベース部材上に、原版を移動させる原版
用のステージ装置、および投影光学系が支持されている
ことを特徴とする請求項７記載の露光装置。 - 【請求項９】 原版と基板とをそれぞれ別個の手段によ
り走査方向に移動させながら原版のパターンを投影光学
系を介して基板上に走査露光するデバイス製造方法にお
いて、基板を載せて移動するステージをその移動を許容
するようにステージ定盤上に支持し、さらにこのステー
ジ定盤を水平面内で移動可能に支持するとともに、ステ
ージの加減速によりステージ定盤が移動するのを阻止す
るようにステージ定盤に推力を付与することを特徴とす
るデバイス製造方法。 - 【請求項１０】 原版と基板とをそれぞれ別個の手段に
より走査方向に移動させながら原版のパターンを投影光
学系を介して基板上に走査露光するデバイス製造方法に
おいて、基板を移動させるために請求項２〜７のいずれ
かのステージ装置を用い、そのＹ方向を走査方向に一致
させるとともに、そのステージ装置におけるステージの
加減速によりステージ装置のステージ定盤が移動するの
を阻止するようにステージ定盤に推力を付与することを
特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31861596A JPH10149974A (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31861596A JPH10149974A (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10149974A true JPH10149974A (ja) | 1998-06-02 |
Family
ID=18101123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31861596A Pending JPH10149974A (ja) | 1996-11-15 | 1996-11-15 | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10149974A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074120A1 (fr) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Nikon Corporation | Procede et appareil d'exposition |
| WO2001027978A1 (fr) * | 1999-10-07 | 2001-04-19 | Nikon Corporation | Substrat, dispositif a etage, procede d'attaque d'etage, systeme d'exposition et procede d'exposition |
| JP2002525858A (ja) * | 1998-09-18 | 2002-08-13 | ゼネラル・スキャニング・インコーポレーテッド | 高速精密位置決め装置 |
| JP2005203567A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Canon Inc | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| CN110067811A (zh) * | 2019-05-30 | 2019-07-30 | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 | 一种气浮转台 |
| CN114459675A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-05-10 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 大幅值正弦力发生装置 |
| CN115401473A (zh) * | 2022-09-23 | 2022-11-29 | 泉州市良友精密机械有限公司 | 一种数控铣床加工的减震支架结构 |
-
1996
- 1996-11-15 JP JP31861596A patent/JPH10149974A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002525858A (ja) * | 1998-09-18 | 2002-08-13 | ゼネラル・スキャニング・インコーポレーテッド | 高速精密位置決め装置 |
| JP2011091392A (ja) * | 1998-09-18 | 2011-05-06 | Gsi Group Corp | 高速精密位置決め装置 |
| WO2000074120A1 (fr) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Nikon Corporation | Procede et appareil d'exposition |
| US6961113B1 (en) | 1999-05-28 | 2005-11-01 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus |
| WO2001027978A1 (fr) * | 1999-10-07 | 2001-04-19 | Nikon Corporation | Substrat, dispositif a etage, procede d'attaque d'etage, systeme d'exposition et procede d'exposition |
| JP2005203567A (ja) * | 2004-01-15 | 2005-07-28 | Canon Inc | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US7795833B2 (en) | 2004-01-15 | 2010-09-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| CN110067811A (zh) * | 2019-05-30 | 2019-07-30 | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 | 一种气浮转台 |
| CN110067811B (zh) * | 2019-05-30 | 2024-03-26 | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 | 一种气浮转台 |
| CN114459675A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-05-10 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 大幅值正弦力发生装置 |
| CN115401473A (zh) * | 2022-09-23 | 2022-11-29 | 泉州市良友精密机械有限公司 | 一种数控铣床加工的减震支架结构 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7301607B2 (en) | Wafer table for immersion lithography | |
| JP3221823B2 (ja) | 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法 | |
| US6654098B2 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and device production method | |
| KR100369730B1 (ko) | 리니어모터와스테이지장치및이것을이용한주사형노광장치및디바이스제조방법 | |
| US7586218B2 (en) | Moving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2000223410A (ja) | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法ならびに位置決め方法 | |
| JP3286184B2 (ja) | 走査露光装置および方法 | |
| JPH10149974A (ja) | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JPH11297613A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JP2004152902A (ja) | 位置決め装置 | |
| JP2002175963A (ja) | ステージ装置とその位置制御方法および露光装置並びに露光方法 | |
| JP4011919B2 (ja) | 移動装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2000223411A (ja) | 位置決め装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JPH11297616A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JP2001148336A (ja) | テーブル駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2001015579A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JPH10144596A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2000353736A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JP2000352592A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JPH09306815A (ja) | 露光装置とこれを利用したデバイス生産方法 | |
| JPH02201913A (ja) | 露光装置 | |
| JPH11297795A (ja) | ステージ装置およびこれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JP2003133204A (ja) | ステージ装置および露光装置 |