JP2000223411A - 位置決め装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速高精度に位置決め可能とする位置決め装
置を提供する。 【解決手段】 基準面を有する定盤と、該定盤に対して
移動可能なサブステージと、該サブステージを該定盤に
対して移動させる移動機構と、該サブステージと共に該
定盤に対して移動可能なメインステージとを備え、該サ
ブステージが移動する方向に対して該メインステージと
該サブステージとを非接触で支持する非接触軸受と、該
非接触軸受が支持している方向とほぼ平行な方向に該メ
インステージと該サブステージとの間で力を発生させる
非接触アクチュエータとを並列に設けていることを特徴
とし、前記非接触アクチュエータによって前記非接触軸
受の見た目の軸受剛性を調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、位置決め装置、特
には半導体ウエハまたは液晶表示パネル等の基板にパタ
ーンを形成するための露光装置の位置決め装置に関し、
さらには被露光体である基板の姿勢を適確に保持して高
精度な露光を可能にする露光装置やデバイス製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えばマスクやレチクル上に描か
れた半導体装置製造用のパターンをウエハ上に投影する
ステッパ等の露光装置では、レチクルとウエハの位置あ
わせを行う機能が備えられており、それにより位置合わ
せを行った後で露光を行っている。そして、このような
位置合わせは、一般的には露光すべきパターンが描かれ
たレチクル等の原板とウエハ等の被露光体（基板）との
ずれを計測し、その結果に基づいて被露光体をレーザー
測長器の計測値に基づいた制御によりステップアンドリ
ピート移動したり、または原板と被露光体とを移動した
りすることにより行われている。

【０００３】所謂ステップアンドリピートタイプやステ
ップアンドスキャンタイプのステッパは、その解像度及
び重ね合せ精度の面から被露光体（ウエハ）を保持しな
がら移動する所謂ウエハステージを極めて高精度に位置
決めすることが要求されている。加えて近年では生産性
の向上のために位置決めの高速化が望まれている。

【０００４】図１４は、従来の6軸ウエハステージの斜
視図である。

【０００５】１５０は、基準面を有する定盤である。１
５４は、基準面上で静圧軸受により支持され、定盤上に
設けられたＹガイド１５２により案内され、Ｙ方向に移
動可能なＹステージである。１５４Ｙは、Ｙステージを
Ｙ方向に駆動するためのＹリニアモータであり、Ｙリニ
アモータ固定子は定盤と実質上一体的に設けられてお
り、Ｙリニアモータ可動子はＹステージと実質上一体的
に設けられている。１５１は、基準面上で静圧軸受によ
り支持され、Ｙステージ１５４に設けられたＸガイドに
より案内され、Ｙステージに対してＸ方向に移動可能な
Ｘステージである。１５１Ｙは、ＸステージをＹステー
ジに対してＸ方向に駆動するためのＸリニアモータであ
り、Ｘリニアモータ固定子はＹステージと実質上一体的
に設けられており、Ｘリニアモータ可動子はＸステージ
と実質上一体的に設けられている。

【０００６】上記の静圧ＸＹステージのＸステージ上
に、４軸静圧θＺＴステージが搭載されている。

【０００７】図１５および図１６に従来のθＺＴステー
ジの平面図および断面図を示す。

【０００８】トップステージＥ０は、真空吸着力等によ
ってウエハ等基板を吸着するウエハチャック（不図示）
を備えた保持盤１０４を有し、保持盤１０４はＸＹステ
ージ（不図示）の天板１５１上に複数の第１圧電素子１
０５によって支持されている。第１圧電素子１０５はそ
れぞれの一端を弾性ヒンジ１０５ａによって、保持盤１
０４の外周縁に隣接する環状部材１０３に弾力的に結合
されており、他端は弾性ヒンジ１０５ｂを介して天板１
５１に弾性的に結合されている。保持盤１０４と環状部
材１０３は、複数の第１板バネ１０３ａによって弾力的
に結合されており、また、天板１５１と一体的である複
数の支持部材１０２と環状部材１０３の外周縁は、それ
ぞれ複数の第２板バネ１０３ｂによって弾力的に連結さ
れている。保持盤１０４は、環状部材１０３の開口を貫
通して径方向外方へのびる突出アーム１０４ａを有して
おり、この突出アーム１０４ａと環状部材１０３に設け
られた突出アーム１０３ｄとの間には第２圧電素子１０
６が設けられている。

【０００９】このθＺＴステージでは、第１圧電素子を
個別に駆動制御することにより、保持盤と天板とのＺ方
向および傾斜方向（チルト）の相対移動を行い、第２圧
電素子を駆動制御することにより、保持盤と天板とのθ
方向の相対移動を行う。

【００１０】また、図１７に、特開平６−２６７８２３
号公報に開示されている別形態の従来のθＺＴステージ
の断面図を示す。

【００１１】保持盤２０４のＸＹ方向は、前述の従来例
のヒンジおよび板バネに代わり、ラジアル空気軸受２０
７によって、ＸＹステージ（不図示）の天板１５１に支
持拘束されている。このラジアル空気軸受２０７は拘束
軸以外のＺ軸、Ｘ軸回り、Ｙ軸回りおよびＺ軸回りの保
持盤の自由度を許容する。また、アクチュエータとして
前述の従来例のアクチュエータである圧電素子の代わり
に３つのＺリニアモータと、保持盤を台盤に対して回転
させるθリニアモータを有する。さらに、保持盤のＸ、
Ｙ方向の位置を計測する手段としてレーザ干渉計を使用
し、保持盤にはレーザビームを反射する平面ミラーが固
定される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】前述の第１の従来例で
は、第1の圧電素子によって移動される環状部材に第2の
圧電素子が結合されているため、第1および第２の圧電
素子を同時に駆動するときに発生する振動が互いに連成
してしまう。また、環状部材と保持盤および支持部材と
環状部材の間がそれぞれ板バネによって連結されている
ため、圧電素子の駆動量が大きいと、駆動力の線形性が
保てない。

【００１３】前述の第２の従来例では、ウエハ等の基板
を搭載した保持盤をＸ、Ｙ方向の所定の位置に移動する
ため、レーザ干渉計で保持盤のＸＹ方向の位置を管理し
ながら、ＸＹステージにより台盤がＸＹ方向に移動す
る。そして保持盤は、台盤からラジアル空気軸受の空気
膜を介して駆動力を受け、所定の位置に移動する。この
とき、保持盤と台盤は一体的に移動することが望まし
い。しかし、実際には、台盤の移動に対して保持盤が受
ける駆動力は、静圧軸受の空気膜の圧縮性により位相遅
れが生じる。

【００１４】本発明は、上記従来の技術を改良するもの
であり、高速高精度に位置決め可能とする位置決め装置
を提供することを目的とするものである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の位置決め装置は、基準面を有する定盤と、
該定盤に対して移動可能なサブステージと、該サブステ
ージを該定盤に対して移動させる移動機構と、該サブス
テージと共に該定盤に対して移動可能なメインステージ
とを備え、該サブステージが移動する方向に対して該メ
インステージと該サブステージとを非接触で支持する非
接触軸受と、該メインステージと該サブステージとの間
で力を発生させる非接触アクチュエータとを並列に設け
ていることを特徴とする。

【００１６】また、前記非接触アクチュエータは、前記
非接触軸受が支持している方向とほぼ平行な方向に力を
発生することが望ましい。

【００１７】また、前記非接触アクチュエータは、前記
非接触軸受の剛性を調整するように駆動されることが望
ましく、前記非接触アクチュエータによる軸受の剛性の
調整は、サブステージの加減速時には前記非接触軸受の
剛性が強くなるように調整し、サブステージの停止時ま
たは定速走行時には前記非接触軸受の剛性が弱くなるよ
うに調整することが好ましい。

【００１８】また、前記メインステージ若しくは前記サ
ブステージの移動情報または前記移動機構の駆動情報を
利用して前記非接触アクチュエータの駆動を行うことが
望ましい。

【００１９】また、前記メインステージは、前記サブス
テージに対して、該サブステージが移動する方向と平行
な方向に移動可能であることが望ましく、前記非接触ア
クチュエータにより、前記メインステージを前記サブス
テージに対して移動させることが好ましい。

【００２０】また、前記メインステージは、前記サブス
テージ上に支持されていることが望ましい。

【００２１】また、前記サブステージは、前記基準面と
平行な面内に移動可能なＸＹステージであることが望ま
しい。

【００２２】また、前記メインステージは、前記定盤上
に支持されていることが望ましく、前記メインステージ
は、静圧軸受により定盤上に支持されていることが好ま
しい。

【００２３】また、前記メインステージは、前記サブス
テージに対して、前記基準面と直交する方向および該直
交する方向と傾斜する方向に移動可能であること望まし
く、また、前記メインステージは、前記サブステージに
対して、前記基準面と平行な面内の回転方向に移動可能
であることが望ましい。

【００２４】また、前記非接触軸受は、ラジアル軸受を
有することが望ましい。

【００２５】また、前記サブステージは前記基準面と平
行な第１方向に移動可能であり、前記メインステージは
該サブステージに対して前記基準面と平行で前記第１方
向と交わる第２方向に移動可能であることが望ましく、
前記メインステージは、基準面と平行な方向に２次元移
動可能であることが好ましい。

【００２６】また、前記非接触軸受は、静圧軸受または
磁気軸受のうちの少なくとも一方を有することが望まし
く、また、前記非接触アクチュエータは、リニアモータ
を有することが望ましい。

【００２７】また、上述した本発明の目的を達成するた
めの別の位置決め装置は、基準面を有する定盤と、該基
準面上を移動可能なメインステージと、該メインステー
ジを移動させる移動機構を有するサブステージとを備
え、該メインステージの移動方向とほぼ平行な方向から
該定盤と該サブステージとを非接触で支持する非接触軸
受と、該定盤と該サブステージとの間で力を発生させる
非接触アクチュエータとを並列に設けることが望まし
い。

【００２８】また、前記非接触アクチュエータは、該非
接触軸受が支持している方向とほぼ平行な方向に力を発
生することが望ましい。

【００２９】また、前記非接触アクチュエータは、前記
非接触軸受の剛性を調整するように駆動されることが望
ましく、前記非接触アクチュエータによる軸受の剛性の
調整は、メインステージの加減速時には前記非接触軸受
の剛性が強くなるように調整し、メインステージの停止
時または定速走行時には前記非接触軸受の剛性が弱くな
るように調整することが好ましい。

【００３０】また、前記メインステージの移動情報また
は前記移動機構の駆動情報を利用して前記非接触アクチ
ュエータの駆動を行うことが望ましい。

【００３１】また、前記メインステージは、前記定盤上
に支持されていることが望ましく、前記メインステージ
は、静圧軸受により定盤上に支持されていることが好ま
しい。

【００３２】また、前記サブステージは、前記定盤に対
して、前記メインステージの移動方向と交わる方向に移
動可能であることが望ましく、前記メインステージは、
前記基準面と平行な２次元方向に移動可能であることが
好ましい。

【００３３】また、前記非接触軸受は、静圧軸受または
磁気軸受のうちの少なくとも一方を有することが望まし
く、また、前記非接触アクチュエータは、リニアモータ
を有することが望ましい。

【００３４】

【発明の実施の形態】＜実施形態１＞図１は、本発明の
実施形態の位置決め装置の平面図である。図２は、本発
明の第１実施形態の位置決め装置をＹ方向から見た場合
の一部断面図である。また、図３は、本発明の実施形態
の位置決め装置をＸ方向から見た場合の一部断面図であ
る。

【００３５】１は、天板５１ａを定盤５０に対してＸＹ
方向に駆動するためのＸＹステージであり、前述の従来
例のＸＹステージとほぼ同様の構成であるので説明を省
略する。２は、円筒状の固定部材であり、天板５１ａと
一体的に設けられている。３は固定部材２の支持面であ
る外周面と対向する円筒状の面を有する案内部材であ
り、４は案内部材３の上端に一体的に結合され、真空吸
着力等によってウエハ等基板を吸着するウエハチャック
（不図示）を備えた保持盤である。

【００３６】５は、保持盤４と天板５１ａとをＺ方向に
接近・離間させる３個のＺリニアモータである。６は、
保持盤４を天板５１ａに対してＸＹ平面にて並進もしく
は回転させる方向に力を発生させるためのリニアモータ
である。

【００３７】７は、固定部材２の外周面に保持された環
状の多孔質絞り型の静圧軸受である多孔質パッドであ
る。固定部材２の外周面と案内部材３の案内面である内
周面とは、多孔質パッド７から噴出される加圧流体の静
圧によって、互いに非接触に支持されている。つまり、
保持盤４は、静圧軸受7により、ＸＹステージ１の移動
方向であるＸＹ方向に関して、天板５１ａから非接触で
支持されている。また、保持盤４は、固定部材２と案内
部材３の円筒状の案内面により、固定部材２と案内部材
３の中心軸Ｚ軸に沿って往復移動自在であるとともに、
Ｚ軸の回りに回動自在である。そして、多孔質パッド７
の軸受間隙の許す範囲内において、Ｚ軸に対して傾斜自
在である。Ｚ軸に対する傾斜各の許容値は、多孔質パッ
ド７ｐの軸方向寸法を小さくすることで大きくすること
ができる。さらに、案内部材３、保持盤４および保持盤
４に吸着されたウエハの重量をＺ方向に支持する力は、
固定部材２に設けられた段差２ａと案内部材に設けられ
た段差３ａによって形成される付勢手段である予圧室８
の加圧流体の圧力によって得られる。

【００３８】図２に示すように、固定部材２は、多孔質
パッド７ｐおよび予圧室８にそれぞれ加圧流体を供給す
る内部流路７ａおよび８ａを有し、また、案内部材３と
固定部材２の段差の下端にはラビリンスシール８ｂが形
成されている。なお、多孔質パッド７ｐと案内部材３と
の間隙は７μｍ程度であり、ラビリンスシール８ｂの間
隙は約１５μｍである。

【００３９】Ｚリニアモータ５ａ〜５ｃは、案内部材の
外側に周方向に等間隔で配設されている。各Ｚリニアモ
ータ５ａ〜５ｃの可動子５ｍは、内面に永久磁石を有す
る筒状の枠体であり、該枠体は、案内部材３の外周面に
固着されている。また、各Ｚリニアモータ５ａ〜５ｃの
固定子５ｓは、天板５１ａと一体である支持体１ｚに固
着されたコイルであり、図示しない配線によって所定の
駆動制御系に接続されている。該駆動制御系から供給さ
れる電流量に応じて、可動子５ｍがＺ方向へ駆動され
る。各Ｚリニアモータ５ａ〜５ｃに供給される電流量が
同じであれば、保持盤４の平面度を維持しつつＺ方向に
移動することができ、各Ｚリニアモータ５ａ〜５ｃに供
給される電流量を個別に変化させることによって保持盤
４の平面度すなわち傾斜角度を変化させることができ
る。

【００４０】天板５１ａには、各Ｚリニアモータ５ａ〜
５ｃに隣接する非接触型の変位センサ９ａ〜９ｃが配設
されている。各変位センサ９ａ〜９ｃは、保持盤４の下
面に対向する検出端を有し、保持盤４のＺ方向の位置変
化を検出している。変位センサ９ａ〜９ｃの出力を前述
の駆動制御系にフィードバックすることにより、保持盤
４の傾斜角度の位置決めを行うことができる。つまり、
保持盤４は、天板５１ａに対してＺ・Ｔｉｌｔステージ
になっている。

【００４１】図１に示すように、保持盤４を天板５１ａ
に対してＸ方向に力を発生させるためのリニアモータで
あるｘリニアモータ６ｘは、保持盤中央ほぼ真下の位置
に配設されている。加えて、保持盤４を天板５１ａに対
してＹ方向もしくはＺ軸に回転させる方向に力を発生さ
せるためのリニアモータである２つのｙリニアモータ６
ｙｌ、６ｙｒは、保持盤の左右にそれぞれ配設されてい
る。また、ｘリニアモータの可動子６ｘｍおよびｙリニ
アモータの可動子６ｙｍは、内面に永久磁石を有する筒
状の枠体であり、該枠体は案内部材３の外周面に固着さ
れている。ｘリニアモータ６の固定子６ｘｓおよびｙリ
ニアモータの固定子６ｙｓは、天板５１ａと一体である
支持体１ｘ、１ｙに固着されたコイルであり、図示しな
い配線によって所定の駆動制御系に接続されている。該
駆動制御系から供給される電流量に応じて各可動子６ｘ
ｍ、６ｙｍを駆動し、保持盤４への駆動力が、天板５１
ａに対してＸＹ方向に働くようにする。具体的には、ｘ
リニアモータ６ｘに電流が供給されれば、保持盤のＸ方
向に並進力が作用する。また、ｙリニアモータに電流が
同符合に供給されれば、保持盤のＹ方向に並進力が作用
し、異符号に供給されれば保持盤をＺ軸回りに回転させ
るモーメント力が作用する。

【００４２】また、保持盤４のＸＹ方向の位置を正確に
計測するために、レーザ干渉計を用いており、Ｘ方向の
変動を計測するためのＸ計測ミラー１０ｘ、Ｙ方向の変
動およびＺ軸回りの回転方向の変動を計測するためのＹ
計測ミラーは、それぞれ保持盤４に固定されている。干
渉計の出力を前述の駆動制御系にフィードバックするこ
とにより、保持盤４のＸＹ方向の位置決めを自動的に行
うことができる。

【００４３】保持盤４がＸＹ方向にステップ移動すると
きは、レーザ干渉計で保持盤４のＸＹ方向の位置を計測
しながら、まずＸＹステージ１がＸＹ方向に移動する。
ＸＹステージにより天板がＸＹ方向に移動すると、天板
に設けられたラジアル静圧軸受７の空気膜を介して保持
盤４に力が伝達され、保持盤４は所定の位置に移動する
ことになる。このとき、位相遅れなく保持盤４が天板５
１ａと共に移動できるように、ｘｙリニアモータ６を駆
動する必要がある。

【００４４】本実施形態の位置決め装置のＸＹ方向駆動
時の動作について、図４に示すモデル図を用いて詳細に
説明を行う。

【００４５】同図における各構成要素は、図１〜図３中
の構成要素の番号と対応している。上述の説明では、ｘ
ｙリニアモータ６の固定子は、天板５１ａと一体に設け
られた支持体に固着されていたが、本図においては説明
の都合のため、固定子は天板５１ａと一体に設けられた
固定部材２に設けられている。また、ｘｙリニアモータ
６の配置が図１と異なっているが、これも説明の都合の
ためであり、ｘｙリニアモータ６が有している「保持盤
４を天板５１ａに対してＸＹ平面にて並進もしくは回転
させる方向に力を発生させる」という作用を変えるもの
ではない。さらに、ラジアル静圧軸受７について、空気
膜を模したバネで四方から固定部材２と案内部材３を連
結しているが、これは軸受により形成される空気バネを
表わしており、実際は非接触であり、四方に限られずラ
ジアル方向全体に空気バネが存在している。以上の構成
から分かるように、本実施形態の位置決め装置は、リニ
アモータ６と空気軸受とが並列に配置された構成になっ
ているといえる。

【００４６】同図において、ＸＹステージ（不図示）に
より固定部材２がＸＹ方向に移動すると、ラジアル軸受
７により形成された空気バネを介して案内部材３に力が
伝達され、保持盤（不図示）は所定の位置に移動するこ
とになる。ｘｙリニアモータの駆動を行わない場合、固
定部材２の加速に伴って空気バネが縮み（つまり、空気
軸受の間隙が狭くなり）、空気軸受の剛性が高くなり、
空気バネを介して固定部材２からの力が案内部材３に伝
達される。そのため、固定部材２（天板５１ａ）の移動
と案内部材３（保持盤４）の移動との間に位相差が生じ
てしまう。また、ＸＹステージの加速があまり大きい
と、固定部材２と案内部材３とが接触する可能性もあ
る。一方、固定部材２がＸＹ方向に移動するときにｘｙ
リニアモータ６を駆動すると、ｘｙリニアモータ６を介
しても固定部材２（天板５１ａ）から案内部材（保持部
材４）に力が伝達されるため、空気バネがほとんど縮む
ことなく、ラジアル静圧軸受７の見た目の剛性が高くな
る。そして、ラジアル静圧軸受７の剛性が高くなるよう
にｘｙリニアモータ６を駆動すれば、天板の移動の位相
遅れを軽減することができることになる。つまり、ＸＹ
ステージにより天板５１ａをＸＹ方向に駆動した際に、
保持盤４の移動の位相遅れを、ｘｙリニアモータ６によ
り調整することができる。また、ｘｙリニアモータ６に
より天板と保持盤との間で発生させる力は、位相遅れな
く保持盤４がＸＹステージと共に移動できるように、駆
動制御系にて所定値に調整される。そのため、例えばＸ
Ｙステージの天板若しくは保持盤の位置・速度・加速度
等の移動情報またはＸＹステージの駆動信号等の駆動情
報を利用してｘｙリニアモータ６の駆動信号を生成して
も良い。

【００４７】本実施形態は、Ｚリニアモータ５ａ〜５ｃ
およびｘｙリニアモータが、それぞれ個別に天板５１ａ
上に支持されており、また、保持盤４と天板５１ａが非
接触であるため、保持盤４の移動中に大きな振動が発生
するおそれがない。また、予圧室８によって保持盤４や
保持されたウエハの重量の大部分を支持しているため、
Ｚリニアモータ５ａ〜５ｃの負荷は小さくてすむ。な
お、保持盤４の平面をＸＹ平面に対して傾斜させた場
合、すなわち、保持盤４をＺ軸に対して傾斜させた場合
は、これに伴って多孔質パッド７ｐの軸受間隔の寸法
と、ラビリンスシール８ａの間隙寸法と、各Ｚリニアモ
ータ５ａ〜５ｃおよびｘｙリニアモータ６の永久磁石と
コイルの間隙寸法とが変化するが、露光装置の焦点合わ
せや最終的な位置決めを行う位置決め装置においては、
このような変化は微小であるため、多孔質パッド７ｐと
案内部材３が接触したり、ラビリンスシールの性能が著
しく低下したり、あるいはリニアモータの駆動量が著し
く制限されるおそれはない。なぜなら、リニアモータの
最小間隙は１〜２ｍｍ程度であり、例えば図５に示すよ
うに、多孔質パッド７ｐの軸受面の直径ｄ、Ｚ方向の寸
法ｗ、軸受間隙の両端の寸法ｈ１、ｈ２としたとき、ｄ
＝２００ｍｍ、ｗ＝２０ｍｍ、保持盤４４傾斜角度の微
調節量αが３×１０^-4ｒａｄであれば、軸受間隙の寸法
の変動量（ｈ１−ｈ２）／２は約３μｍとなるが、多孔
質パッド７ｐの間隙寸法は７μｍ、ラビリンスシールの
間隙寸法は１５μｍに設定されているためである。

【００４８】本実施形態では、保持盤（メインステー
ジ）のＸＹ方向（移動方向）への移動が、天板（サブス
テージ）のＸＹステージ（移動機構）によるＸＹ方向へ
の移動に対して位相遅れを生じないように、保持盤を天
板に対してＸＹ方向に非接触に支持するラジアル静圧軸
受（非接触軸受）と並列に設けたｘｙリニアモータ（非
接触アクチュエータ）により、ラジアル静圧軸受の見た
目の軸受剛性を調整することができる。軸受剛性を強く
設定すれば、天板からの力を位相遅れなく保持盤に伝達
でき、軸受剛性を弱く設定すれば、天板の移動方向に対
する振動を保持盤に伝達されにくくすることができる。
これにより、固有振動が励起されることなく、保持盤の
ＸＹ方向への位置決めの高速化および高精度化が可能と
なる。例えば、ｘｙリニアモータの駆動は、天板の加減
速時にはラジアル静圧軸受の見かけの軸受剛性が強くな
るように調整し、天板の停止時または定速走行時にはラ
ジアル静圧軸受の見かけの軸受剛性が弱くなるように調
整することが望ましい。

【００４９】本実施形態では、天板をＸＹ方向に駆動す
る移動機構としてリニアモータを有するＸＹステージを
用いたが、これに限るものではなく、天板をＸＹ方向に
所定の精度で駆動できるものであれば良く、例えばボー
ルネジやシリンダ等で駆動するＸＹステージでも良い。

【００５０】また、本実施形態では、天板から保持盤を
ＸＹ方向に支持するための静圧軸受として円筒形状のラ
ジアル静圧軸受を用いたが、これに限るものではなく、
Ｘ方向およびＹ方向に対して別々に静圧軸受を設けて支
持しても良い。さらに、本発明で用いられる軸受は、静
圧軸受に限られるものではなく、非接触な軸受ならば良
く、例えば、磁石等の反発力を利用した非接触軸受でも
良い。そして、天板による保持盤の支持は、保持盤が天
板に対して、Ｚ方向、Ｚ軸回りの回転方向およびチルト
方向（Ｚ軸に対する傾斜方向）に移動自在となっている
ことが望ましい。

【００５１】また、本実施形態では、天板と保持盤との
間で、ＸＹ方向に関して、軸受による支持力とｘｙリニ
アモータの駆動力とが並列に作用するように構成されて
いる。ここで「並列」とは、単に軸受とｘｙリニアモー
タとを並べて配置することを意味するだけでなく、実施
形態で示した通り、軸受とｘｙリニアモータのそれぞれ
が、天板と保持盤との間で力を伝達できるように構成さ
れていることを意味する。

【００５２】本実施形態では、保持盤に対するＺ方向の
支持力をラビリンスシールを有する予圧室によって発生
させていたが、これに限るものではなく、例えばゴム等
により予圧室を密閉させてＺ方向の支持力を発生させて
も良い。また、保持盤に対するＺ方向の支持力として磁
石等の反発力を利用しても良い。

【００５３】また、本実施形態では、保持盤の傾斜角度
の位置変化を、天板に配設された変位センサにより検出
していたが、これに限るものではなく、位置決め装置の
外部の基準部材から干渉系等により保持盤のＺ方向に関
する位置情報を計測しても良い。

【００５４】本実施形態のラジアル静圧軸受の軸受間隙
を広くとり、保持盤を天板に対してＸＹ方向に移動可能
としても良い。この場合、ｘｙリニアモータを天板に対
する保持盤の移動用アクチュエータとして用いれば、ｘ
ｙリニアモータにより保持盤の微動調整を行うことがで
きる。

【００５５】＜実施形態２＞図６〜図９は、本発明の第
２実施形態におけるＸＹステージの要部を示している。
図６は、ＸＹステージをＸ方向から見たときの正面図で
ある。図７は、図６のＡ−Ａ’断面図である。図８は、
Ｙステージの側面図である。図９は、図６のＸＹステー
ジの底面図である。

【００５６】図６において、５０は基準面を有する定盤
である。５４は、基準面上で静圧軸受により支持され、
定盤上に固定されたＹガイド５２により案内され、Ｙ方
向に移動可能なＹステージである。天板５１ａ、移動板
５１ｂおよび取付け板５１ｃは、一体に設けられ、Ｘス
テージ５１を形成している。

【００５７】５３ａ〜５３ｄは、静圧軸受であり、この
うち５３ａ（図７参照）はＸステージのＹ方向、５３ｂ
（図７、図９参照）はＸステージのＺ方向、５３ｃ（図
８、図９参照）はＹステージのＸ方向、５３ｄ（図６、
９）はＹステージのＺ方向をそれぞれ支持案内してい
る。

【００５８】５４ａはＹステージ５４のＸ方向およびＺ
方向の静圧軸受５３ｃ、５３ｄが取り付けられる取付け
板である。５４ｂはＸステージのＸ方向の案内部材であ
り、２つの取付け板５４ａを連結している連結部材でも
ある。

【００５９】Ｘステージ５１およびＹステージ５４を駆
動するためのリニアモータは、前述の従来のＸＹステー
ジと構成がほぼ同じであるので、図示および説明を省略
する。

【００６０】図８、図９において、５６は吸引力を発生
させる予圧機構であり、磁力手段として永久磁石とその
両側にヨークが設けられている。予圧機構により、静圧
軸受により形成された軸受間隙のバラツキを軽減させ、
Ｘステージ５１およびＹステージ５４が定盤５０および
Ｙガイド５２に対して姿勢を保つようにしている。予圧
機構は、磁気的に吸引力を発生させるものに限らず、例
えば真空吸引力や静電吸引力を発生させる機構を用いて
も良い。

【００６１】図６に示すように、ｘリニアモータ６０ｘ
が、Ｙステージの取付け板５４ａとＹガイド５２との間
で駆動力がＸ方向に働くように設けられている。ｘリニ
アモータ６０ｘの固定子は、Ｙガイド５２に固着されて
おり、Ｙステージ５４のストローク全域にわたってＹガ
イドにコイルが設けられている。ｘリニアモータ６０ｘ
の可動子は、Ｙステージの取付け板５４ａに設けられて
おり、前記コイルに対向するように磁石が設けられてい
る。ｘリニアモータ６０ｘに電流が供給されれば、Ｙス
テージにＸ方向の並進力が作用する。

【００６２】本実施形態のＸＹステージにおけるＸＹ方
向の駆動時の動作について、図１０に示すモデル図を用
いて詳細に説明を行う。同図における各構成要素は、図
６〜図９中の構成要素の番号と対応している。Ｙステー
ジの取付け板５４ａに設けられた静圧軸受５３ｃとＹガ
イドとの間で形成されている空気膜をバネで表わしてい
る。ＹステージとＹガイドがバネにより連結されている
が、実際は空気バネであり非接触である。ｘリニアモー
タ６０ｘと空気バネが並列に配置された構成になってお
り、共にＹステージとＹガイドとの間でＸ方向に関して
力を伝達している。

【００６３】同図において、Ｘステージ５１がＹステー
ジ５４に対してＸ方向に移動した場合、Ｘステージを駆
動する際に発生する反力がＹステージに対して−Ｘ方向
に作用する。ｘリニアモータ６０ｘの駆動を行わない場
合、Ｙステージに伝達された反力によって空気バネが縮
む（つまり空気膜の間隔が狭くなる）。そのため、Ｘス
テージ５１とＹステージ５４との間でＸステージを駆動
するための駆動力を発生させても、Ｘステージの移動に
位相差が生じてしまう。また、Ｙステージ５４とＹガイ
ド５２とが接触する可能性もある。一方、Ｘステージ５
１を駆動するときにｘリニアモータ６０ｘを駆動する
と、空気バネがほとんど縮むことなく、Ｙガイドに対す
るＹステージの姿勢を保つことができ、静圧軸受５３ｃ
の見た目の剛性を高くなる。そして、静圧軸受の剛性が
高くなるようにｘリニアモータ６０ｘを駆動すれば、Ｘ
ステージの移動の位相遅れを軽減することができる。つ
まり、Ｘステージ５１をＸ方向に駆動する際の位相遅れ
をｘリニアモータ６０ｘにより調整することができる。
また、静圧軸受５３ｃの軸受間隙を保つこともできるの
で、ＹステージとＹガイドとの接触をなくすことができ
る。ｘリニアモータ６０ｘにより発生する力は、位相遅
れなくＸステージ５１がＹステージ５４に対して移動で
きるように、駆動制御系にて所定値に調整される。その
ため、例えばＸステージの位置・速度・加速度等の移動
情報またはＸステージを駆動する駆動信号等の駆動情報
を利用してｘリニアモータ６０ｘの駆動信号を生成して
も良い。

【００６４】本実施形態では、Ｘステージ（メインステ
ージ）をＹステージ（サブステージ）に対してＸ方向に
駆動するリニアモータを作動させたときに、Ｘステージ
の移動に位相遅れが生じないように、ＹガイドとＹステ
ージとの間に静圧軸受と並列にリニアモータ（非接触ア
クチュエータ）を設け、ＹガイドとＹステージとの間の
静圧軸受の見た目の剛性を調整することができる。軸受
剛性を強く設定すれば、Ｙステージからの力を位相遅れ
なくＸステージに伝達でき、軸受剛性を弱く設定すれ
ば、定盤の移動方向に対する振動をＹステージに伝達さ
れにくくすることができる。これにより、固有振動が励
起されることなく、ＸステージのＸ方向への位置決めの
高速化および高精度化が可能となる。例えば、ｘリニア
モータの駆動は、Ｘステージの加減速時には静圧軸受の
見かけの軸受剛性が強くなるように調整し、Ｘステージ
の停止時または定速走行時には静圧軸受の見かけの軸受
剛性が弱くなるように調整することが望ましい。

【００６５】本実施形態では、定盤と一体であるＹガイ
ドとＹステージとの間でＸ方向の支持を行う静圧軸受５
３ｃの剛性を調整するために、静圧軸受５３ｃと並列に
ｘリニアモータ６０ｘが設けられていたが、これに限る
ものではなく、ＸステージとＹステージとの間でＹ方向
の支持を行う静圧軸受５３ａの剛性を調整するために、
ＸステージとＹステージとの間で駆動力を発生させるｙ
リニアモータを静圧軸受５３ａと並列に設けても良い。
つまりこの場合、Ｘステージ（メインステージ）とＹス
テージ（サブステージ）との間に静圧軸受とｙリニアモ
ータ（非接触アクチュエータ）を設けられており、ＸＹ
ステージのリニアモータ（移動機構）によりＹステージ
を定盤に対してＹ方向に駆動したときに、Ｘステージの
Ｙ方向の移動に位相遅れが生じないように、ｙリニアモ
ータを駆動することでＸステージとＹステージとの間の
静圧軸受の見た目の剛性を調整する。軸受剛性を強く設
定すれば、Ｙステージからの力を位相遅れなくＸステー
ジに伝達でき、軸受剛性を弱く設定すれば、Ｙステージ
のＹ方向に対する振動をＸステージに伝達されにくくす
ることができる。これにより、固有振動が励起されるこ
となく、ＸステージのＹ方向への位置決めの高速化およ
び高精度化が可能となる。例えば、ｙリニアモータの駆
動は、Ｙステージの加減速時には静圧軸受の見かけの軸
受剛性が強くなるように調整し、Ｙステージの停止時ま
たは定速走行時には静圧軸受の見かけの軸受剛性が弱く
なるように調整することが望ましい。

【００６６】本実施形態では、図８に示すように、Ｙス
テージとＹガイドとの間でＸ方向に駆動力を発生させる
ｘリニアモータをＹ方向に複数設ければ、Ｙステージと
Ｙガイドとの間の静圧軸受の見た目のモーメント剛性
（ヨーイング方向の剛性）を調整することができる。

【００６７】＜実施形態３＞次に前述した実施形態の位
置決め装置をウエハステージとして搭載した走査型露光
装置の実施形態を、図１１を用いて説明する。

【００６８】鏡筒定盤９６は床または基盤９１からダン
パ９８を介して支持されている。また鏡筒定盤９６は、
レチクル定盤９４を支持すると共に、レチクルステージ
９５とウエハステージ９３の間に位置する投影光学系９
７を支持している。

【００６９】ウエハステージは、床または基盤から支持
されたステージ定盤上に支持され、ウエハを載置して位
置決めを行う。また、レチクルステージは、鏡筒定盤に
支持されたレチクルステージ定盤上に支持され、回路パ
ターンが形成されたレチクルを搭載して移動可能であ
る。レチクルステージ９５上に搭載されたレチクルをウ
エハステージ９３上のウエハに露光する露光光は、照明
光学系９９から発生される。

【００７０】なお、ウエハステージ９３は、レチクルス
テージ９５と同期して走査される。レチクルステージ９
５とウエハステージ９３の走査中、両者の位置はそれぞ
れ干渉計によって継続的に検出され、レチクルステージ
９５とウエハステージ９３の駆動部にそれぞれフィード
バックされる。これによって、両者の走査開始位置を正
確に同期させるとともに、定速走査領域の走査速度を高
精度で制御することができる。投影光学系に対して両者
が走査している間に、ウエハ上にはレチクルパターンが
露光され、回路パターンが転写される。

【００７１】本実施形態では、前述の実施形態の位置決
め装置をウエハステージとして用いているため、ステー
ジが加減速移動するステップ移動時には前述の軸受の見
た目の剛性を強く調整し、ステージが定速移動するスキ
ャン露光時には前述の軸受の見た目の剛性を弱く調整す
ることが可能となり、高速・高精度な露光が可能とな
る。

【００７２】また、前述の実施形態のような静圧軸受と
リニアモータを並列に設けた位置決め装置をレチクルス
テージに用いて良い。

【００７３】＜実施形態４＞次に上記説明した露光装置
を利用した半導体デバイスの製造方法の実施例を説明す
る。図１２は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体
チップ、あるいは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造フロー
を示す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの
回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計
した回路パターンを形成したマスクを製作する。ステッ
プ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエ
ハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程
と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソ
グラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成す
る。ステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステッ
プ１４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ
化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボ
ンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の
工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップＳ７）される。

【００７４】図１３は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方
法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導
体デバイスを製造することができる。

【００７５】

【発明の効果】本発明の請求項１記載の位置決め装置に
よれば、サブステージの移動の影響を受けることになる
非接触軸受の見た目の剛性を、非接触軸受と並列に設け
た非接触アクチュエータにより変えることができる。

【００７６】また、請求項４記載の位置決め装置によれ
ば、サブステージの加減速時には位相遅れなくメインス
テージを駆動することができ、サブステージの停止時ま
たは定速走行時にはサブステージの振動をメインステー
ジに伝達しにくくすることができる。

【００７７】また、請求項５記載の位置決め装置によれ
ば、高速高精度にメインステージの位置決めを行うこと
ができる。

【００７８】また、本発明の請求項１９記載の位置決め
装置によれば、メインステージの移動の影響を受けるこ
とになる非接触軸受けの見た目の剛性を、非接触軸受と
並列に設けた非接触アクチュエータにより変えることが
できる。

【００７９】また、請求項２２記載の位置決め装置によ
れば、メインステージの加減速時には位相遅れなくメイ
ンステージを駆動することができ、メインステージの定
速時または定速走行時には定盤の振動をサブステージに
伝達しにくくすることができる。

【００８０】また、請求項２３記載の位置決め装置によ
れば、高速高精度にメインステージの位置決めを行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態の位置決め装置の平面図

【図２】第１実施形態の位置決め装置をＹ方向から見た
場合の一部断面図

【図３】第１実施形態の位置決め装置をＸ方向から見た
場合の一部断面図

【図４】第１実施形態の位置決め装置のモデル図

【図５】第１実施形態のラジアル静圧軸受の軸受隙間の
説明図

【図６】第２実施形態の位置決め装置をＸ方向から見た
ときの正面図

【図７】第２実施形態の図６のＡ−Ａ’断面図

【図８】第２実施形態のＹステージの側面図

【図９】第２実施形態のＸＹステージの底面図

【図１０】第２実施形態の位置決め装置のモデル図

【図１１】第３実施形態のスキャン露光装置の概略図

【図１２】半導体デバイス製造フロー図

【図１３】ウエハプロセスフロー図

【図１４】従来の６軸ウエハステージの斜視図

【図１５】従来のθＺＴステージの平面図

【図１６】従来のθＺＴステージの断面図

【図１７】従来の別の形態のθＺＴステージ

【符号の説明】

１ ＸＹステージ ２ 固定部材 ３ 案内部材 ４ 保持盤 ５ Ｚリニアモータ ６ リニアモータ ７ 静圧軸受 ８ 予圧室 ９ 変位センサ １０ 計測ミラー ５０ 定盤 ５１ Ｘステージ ５１ａ 天板 ５２ Ｙガイド ５３ 静圧軸受 ５４ Ｙステージ ５６ 予圧機構 ６０ｘ ｘリニアモータ ９１ 床・基盤 ９２ ステージ定盤 ９３ ウエハステージ ９４ レチクル定盤 ９５ レチクルステージ ９６ 鏡筒定盤 ９７ 投影光学系 ９８ ダンパ ９９ 照明光学系

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 CC17 DD03 FF55 FF61 PP00 PP12 5F046 BA05 CC01 CC02 CC03 CC05 CC06 CC16 CC18 DA08 DA11 DB04 DB14

Claims (35)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基準面を有する定盤と、 該定盤に対して移動可能なサブステージと、 該サブステージを該定盤に対して移動させる移動機構
   と、 該サブステージと共に該定盤に対して移動可能なメイン
   ステージとを備え、 該サブステージが移動する方向に対して該メインステー
   ジと該サブステージとを非接触で支持する非接触軸受
   と、該メインステージと該サブステージとの間で力を発
   生させる非接触アクチュエータとを並列に設けているこ
   とを特徴とする位置決め装置。
2. 【請求項２】 前記非接触アクチュエータは、前記非接
   触軸受が支持している方向とほぼ平行な方向に力を発生
   することを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
3. 【請求項３】 前記非接触アクチュエータは、前記非接
   触軸受の剛性を調整するように駆動されることを特徴と
   する請求項１または２記載の位置決め装置。
4. 【請求項４】 前記非接触アクチュエータによる軸受の
   剛性の調整は、サブステージの加減速時には前記非接触
   軸受の剛性が強くなるように調整し、サブステージの停
   止時または定速走行時には前記非接触軸受の剛性が弱く
   なるように調整することを特徴とする請求項３記載の位
   置決め装置。
5. 【請求項５】 前記メインステージ若しくは前記サブス
   テージの移動情報または前記移動機構の駆動情報を利用
   して前記非接触アクチュエータの駆動を行うことを特徴
   とする請求項１〜４いずれか記載の位置決め装置。
6. 【請求項６】 前記メインステージは、前記サブステー
   ジに対して、該サブステージが移動する方向と平行な方
   向に移動可能であることを特徴とする請求項１〜５いず
   れか記載の位置決め装置。
7. 【請求項７】 前記非接触アクチュエータにより、前記
   メインステージを前記サブステージに対して移動させる
   ことを特徴とする請求項６記載の位置決め装置。
8. 【請求項８】 前記メインステージは、前記サブステー
   ジ上に支持されていることを特徴とする請求項１〜７い
   ずれか記載の位置決め装置。
9. 【請求項９】 前記サブステージは、前記基準面と平行
   な面内に移動可能なＸＹステージであることを特徴とす
   る請求項１〜８いずれか記載の位置決め装置。
10. 【請求項１０】 前記メインステージは、前記定盤上に
    支持されていることを特徴とする請求項１〜７いずれか
    記載の位置決め装置。
11. 【請求項１１】 前記メインステージは、静圧軸受によ
    り定盤上に支持されていることを特徴とする請求項１０
    記載の位置決め装置。
12. 【請求項１２】 前記メインステージは、前記サブステ
    ージに対して、前記基準面と直交する方向および該直交
    する方向と傾斜する方向に移動可能であることを特徴と
    する請求項１〜１１いずれか記載の位置決め装置。
13. 【請求項１３】 前記メインステージは、前記サブステ
    ージに対して、前記基準面と平行な面内の回転方向に移
    動可能であることを特徴とする請求項１〜１２いずれか
    記載の位置決め装置。
14. 【請求項１４】 前記非接触軸受は、ラジアル軸受を有
    することを特徴とする請求項１〜１３いずれか記載の位
    置決め装置。
15. 【請求項１５】 前記サブステージは前記基準面と平行
    な第１方向に移動可能であり、前記メインステージは該
    サブステージに対して前記基準面と平行で前記第１方向
    と交わる第２方向に移動可能であることを特徴とする請
    求項１０または１１記載の位置決め装置。
16. 【請求項１６】 前記メインステージは、基準面と平行
    な方向に２次元移動可能であることを特徴とする請求項
    １５記載の位置決め装置。
17. 【請求項１７】 前記非接触軸受は、静圧軸受または磁
    気軸受のうちの少なくとも一方を有することを特徴とす
    る請求項１〜１６いずれか記載の位置決め装置。
18. 【請求項１８】 前記非接触アクチュエータは、リニア
    モータを有することを特徴とする請求項１〜１７いずれ
    か記載の位置決め装置。
19. 【請求項１９】 基準面を有する定盤と、 該基準面上を移動可能なメインステージと、 該メインステージを移動させる移動機構を有するサブス
    テージとを備え、 該メインステージの移動方向とほぼ平行な方向から該定
    盤と該サブステージとを非接触で支持する非接触軸受
    と、該定盤と該サブステージとの間で力を発生させる非
    接触アクチュエータとを並列に設けることを特徴とする
    位置決め装置。
20. 【請求項２０】 前記アクチュエータは、該非接触軸受
    が支持している方向とほぼ平行な方向に力を発生するこ
    とを特徴とする請求項１９記載の位置決め装置。
21. 【請求項２１】 前記非接触アクチュエータは、前記非
    接触軸受の剛性を調整するように駆動されることを特徴
    とする請求項１９または２０記載の位置決め装置。
22. 【請求項２２】 前記非接触アクチュエータによる軸受
    の剛性の調整は、メインステージの加減速時には前記非
    接触軸受の剛性が強くなるように調整し、メインステー
    ジの停止時または定速走行時には前記非接触軸受の剛性
    が弱くなるように調整することを特徴とする請求項２１
    記載の位置決め装置。
23. 【請求項２３】 前記メインステージの移動情報または
    前記移動機構の駆動情報を利用して前記非接触アクチュ
    エータの駆動を行うことを特徴とする請求項１９〜２２
    いずれか記載の位置決め装置。
24. 【請求項２４】 前記メインステージは、前記定盤上に
    支持されていることを特徴とする請求項１９〜２３いず
    れか記載の位置決め装置。
25. 【請求項２５】 前記メインステージは、静圧軸受によ
    り定盤上に支持されていることを特徴とする請求項２４
    記載の位置決め装置。
26. 【請求項２６】 前記サブステージは、前記定盤に対し
    て、前記メインステージの移動方向と交わる方向に移動
    可能であることを特徴とする請求項１９〜２５いずれか
    記載の位置決め装置。
27. 【請求項２７】 前記メインステージは、前記基準面と
    平行な２次元方向に移動可能であることを特徴とする請
    求項２６記載の位置決め装置。
28. 【請求項２８】 前記非接触軸受は、静圧軸受または磁
    気軸受のうちの少なくとも一方を有することを特徴とす
    る請求項１９〜２７いずれか記載の位置決め装置。
29. 【請求項２９】 前記非接触アクチュエータは、リニア
    モータを有することを特徴とする請求項１９〜２８いず
    れか記載の位置決め装置。
30. 【請求項３０】 前記非接触アクチュエータは、複数設
    けられていることを特徴とする請求項１〜２９いずれか
    記載の位置決め装置。
31. 【請求項３１】 請求項１〜３０いずれか記載の位置決
    め装置を備えたことを特徴とする露光装置。
32. 【請求項３２】 前記位置決め装置をウエハステージと
    して備えたことを特徴とする請求項３１記載の露光装
    置。
33. 【請求項３３】 パターンが形成されたレチクルとウエ
    ハステージ上のウエハを投影光学系に対して走査移動し
    ている間に該レチクルのパターンを該ウエハに露光する
    走査型露光装置であることを特徴とする請求項３１また
    は３２いずれか記載の露光装置。
34. 【請求項３４】 請求項３１〜３３いずれか記載の露光
    装置を用意する工程と、レチクルに形成されたパターン
    をウエハに露光する工程とを有することを特徴とするデ
    バイス製造方法。
35. 【請求項３５】 さらに、ウエハに感光剤を塗布する工
    程と、露光したウエハを現像する工程とを有することを
    特徴とする請求項３４記載のデバイス製造方法。