JPH09279032A - ケイ素系化合物を主成分とする予備硬化物及びそれを用いた成形体の作製方法 - Google Patents
ケイ素系化合物を主成分とする予備硬化物及びそれを用いた成形体の作製方法Info
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】シルセスキオキサンラダーポリマーを含む組成
物の縮合反応とヒドロシリル化反応により硬化する新規
なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有すると考えら
れる成形体を与える溶融圧縮成形可能な予備硬化物、及
び任意の形状を持つ成形体の作製方法を提供すること。 【解決手段】シルセスキオキサンラダーポリマーを主成
分とするアルコキシシリル基の加水分解・縮合反応及び
/またはシラノール基の縮合反応により硬化する成分
と、分子量1000以下のケイ素化合物とヒドロシリル
化触媒からなるヒドロシリル化反応により硬化する成
分、とから構成される新規な予備硬化物、それを圧縮成
形してなる成形体の作製方法、および該成形体を後加熱
処理する硬化方法。
物の縮合反応とヒドロシリル化反応により硬化する新規
なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有すると考えら
れる成形体を与える溶融圧縮成形可能な予備硬化物、及
び任意の形状を持つ成形体の作製方法を提供すること。 【解決手段】シルセスキオキサンラダーポリマーを主成
分とするアルコキシシリル基の加水分解・縮合反応及び
/またはシラノール基の縮合反応により硬化する成分
と、分子量1000以下のケイ素化合物とヒドロシリル
化触媒からなるヒドロシリル化反応により硬化する成
分、とから構成される新規な予備硬化物、それを圧縮成
形してなる成形体の作製方法、および該成形体を後加熱
処理する硬化方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シルセスキオキサンラ
ダーポリマーを主成分とするアルコキシシリル基の加水
分解・縮合反応および/またはシラノール基の縮合反応
により硬化する成分と、分子内にSiH基及び/または
ビニル基を少なくとも2個有する分子量1000以下の
ケイ素化合物とヒドロシリル化触媒からなるヒドロシリ
ル化反応(付加反応)により硬化する成分とから構成さ
れる新規なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有する
と考えられる成形体を与える予備硬化物、及びその予備
硬化物を圧縮成形することにより任意の形状の成形体を
得る方法に関する。
ダーポリマーを主成分とするアルコキシシリル基の加水
分解・縮合反応および/またはシラノール基の縮合反応
により硬化する成分と、分子内にSiH基及び/または
ビニル基を少なくとも2個有する分子量1000以下の
ケイ素化合物とヒドロシリル化触媒からなるヒドロシリ
ル化反応(付加反応)により硬化する成分とから構成さ
れる新規なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有する
と考えられる成形体を与える予備硬化物、及びその予備
硬化物を圧縮成形することにより任意の形状の成形体を
得る方法に関する。
【0002】
【従来の技術】産業科学技術研究開発第2回ケイ素系高
分子材料シンポジウム予稿集(平成6年12月5日発
行)には、縮合反応と付加反応とをワンポットで同時に
収率良く行うことにより、シルセスキオキサンラダーポ
リマーとポリカルボシランからなるケイ素系相互侵入型
構造(IPN)を有する硬化物を与える硬化性組成物が
開示されている。その中で、硬化初期における両成分の
ゲル化速度が近いレベルにあるときに、透明度の高い硬
化物が得られることが明らかとなっている。
分子材料シンポジウム予稿集(平成6年12月5日発
行)には、縮合反応と付加反応とをワンポットで同時に
収率良く行うことにより、シルセスキオキサンラダーポ
リマーとポリカルボシランからなるケイ素系相互侵入型
構造(IPN)を有する硬化物を与える硬化性組成物が
開示されている。その中で、硬化初期における両成分の
ゲル化速度が近いレベルにあるときに、透明度の高い硬
化物が得られることが明らかとなっている。
【0003】しかし、硬化物作製方法が溶液キャスト法
のため、高厚サンプルの作製が困難であった。そのた
め、耐熱性構造材料として適用可能な物性を測定するた
めの、任意の形状を持った試験片作製が不可能であるこ
とが問題であった。
のため、高厚サンプルの作製が困難であった。そのた
め、耐熱性構造材料として適用可能な物性を測定するた
めの、任意の形状を持った試験片作製が不可能であるこ
とが問題であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、シル
セスキオキサンラダーポリマーを主成分とするアルコキ
シシリル基の加水分解・縮合反応及び/またはシラノー
ル基の縮合反応により硬化する成分と、分子中に少なく
とも2個のSiH基を有する分子量1000以下のケイ
素化合物と分子中に少なくとも2個のビニル基を有する
分子量1000以下のケイ素化合物とヒドロシリル化触
媒からなるヒドロシリル化(付加)反応により硬化する
成分とから構成される新規なケイ素系相互侵入型構造
(IPN)を有すると考えられる成形体を与える溶融圧
縮成形可能な予備硬化物、及び任意の形状を持つ成形体
の作製方法を提供することにある。
セスキオキサンラダーポリマーを主成分とするアルコキ
シシリル基の加水分解・縮合反応及び/またはシラノー
ル基の縮合反応により硬化する成分と、分子中に少なく
とも2個のSiH基を有する分子量1000以下のケイ
素化合物と分子中に少なくとも2個のビニル基を有する
分子量1000以下のケイ素化合物とヒドロシリル化触
媒からなるヒドロシリル化(付加)反応により硬化する
成分とから構成される新規なケイ素系相互侵入型構造
(IPN)を有すると考えられる成形体を与える溶融圧
縮成形可能な予備硬化物、及び任意の形状を持つ成形体
の作製方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、シルセ
スキオキサンラダーポリマーを主成分とするアルコキシ
シリル基の加水分解・縮合反応及び/またはシラノール
基の縮合反応により硬化する成分と、分子量1000以
下のケイ素化合物とヒドロシリル化触媒からなるヒドロ
シリル化(付加)反応により硬化する成分、とから構成
される新規なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有す
ると考えられる予備硬化物を圧縮成形、硬化させること
により達成された。予備硬化条件、成形条件を適正化
し、場合によってはシラノール縮合触媒、多官能性架橋
剤、水、あるいはシリカ系架橋剤を組み合わせた硬化性
組成物を構成することにより高耐熱性、高弾性率をもつ
成形体を作製することが出来た。すなわち、本発明は、
以下の構成である。
スキオキサンラダーポリマーを主成分とするアルコキシ
シリル基の加水分解・縮合反応及び/またはシラノール
基の縮合反応により硬化する成分と、分子量1000以
下のケイ素化合物とヒドロシリル化触媒からなるヒドロ
シリル化(付加)反応により硬化する成分、とから構成
される新規なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有す
ると考えられる予備硬化物を圧縮成形、硬化させること
により達成された。予備硬化条件、成形条件を適正化
し、場合によってはシラノール縮合触媒、多官能性架橋
剤、水、あるいはシリカ系架橋剤を組み合わせた硬化性
組成物を構成することにより高耐熱性、高弾性率をもつ
成形体を作製することが出来た。すなわち、本発明は、
以下の構成である。
【0006】1.(A)式(1)(R1 及びR2 は水素
原子または置換もしくは非置換の1価の有機基を表し、
互いに同一でも異なってもよい、R3 は水素原子または
置換もしくは非置換の1価の有機基を表し、l、m、n
は2≦l+m+nを満足する0または正の整数を表
す。)で表される数平均分子量500以上のシルセスキ
オキサンラダーポリマー 一般式(1)
原子または置換もしくは非置換の1価の有機基を表し、
互いに同一でも異なってもよい、R3 は水素原子または
置換もしくは非置換の1価の有機基を表し、l、m、n
は2≦l+m+nを満足する0または正の整数を表
す。)で表される数平均分子量500以上のシルセスキ
オキサンラダーポリマー 一般式(1)
【0007】
【化2】
【0008】(B)分子中に少なくとも2個のSiH基
を有する、分子量1000以下のケイ素化合物、(C)
分子中に少なくとも2個のビニルシリル基を有する、分
子量1000以下のケイ素化合物、(D)中性白金触媒
を必須成分とし、(A)〜(D)成分を、50〜300
℃に加熱して、アルコキシシリル基の加水分解・縮合反
応および/またはシラノール基の縮合反応とヒドロシリ
ル化反応とを同時進行的に行わせて得た予備硬化物で、
穴の直径1mm、長さ10mmのダイを用いた高化式フ
ローテスターによる流動性測定で、150℃、30秒〜
60秒間の予備加熱を行った後、100kgf/cm
2 、150℃の条件において、測定開始後30分間にお
けるある時点の流動性が10-1〜10-6cm3 /sであ
る、溶融圧縮成形可能な予備硬化物。
を有する、分子量1000以下のケイ素化合物、(C)
分子中に少なくとも2個のビニルシリル基を有する、分
子量1000以下のケイ素化合物、(D)中性白金触媒
を必須成分とし、(A)〜(D)成分を、50〜300
℃に加熱して、アルコキシシリル基の加水分解・縮合反
応および/またはシラノール基の縮合反応とヒドロシリ
ル化反応とを同時進行的に行わせて得た予備硬化物で、
穴の直径1mm、長さ10mmのダイを用いた高化式フ
ローテスターによる流動性測定で、150℃、30秒〜
60秒間の予備加熱を行った後、100kgf/cm
2 、150℃の条件において、測定開始後30分間にお
けるある時点の流動性が10-1〜10-6cm3 /sであ
る、溶融圧縮成形可能な予備硬化物。
【0009】2.前記1記載の流動性測定において、測
定開始後0〜30分間の時間範囲における最大流動性が
10-1〜10-6cm3 /sである前記1記載の予備硬化
物。 3.(E)成分としてシラノール縮合触媒を必須成分と
して含むことを特徴とする前記1または2記載の予備硬
化物。 4.(E)成分のシラノール縮合触媒が中性の有機金属
化合物である前記3記載の予備硬化物。
定開始後0〜30分間の時間範囲における最大流動性が
10-1〜10-6cm3 /sである前記1記載の予備硬化
物。 3.(E)成分としてシラノール縮合触媒を必須成分と
して含むことを特徴とする前記1または2記載の予備硬
化物。 4.(E)成分のシラノール縮合触媒が中性の有機金属
化合物である前記3記載の予備硬化物。
【0010】5.(E)成分のシラノール縮合触媒がチ
タン系化合物である前記3記載の予備硬化物。 6.(F)成分として、加水分解・縮合反応可能な多官
能性ケイ素化合物、シラノール化合物、水、およびシリ
カ系架橋剤からなる群より選ばれる少なくとも1種以上
の成分を必須成分として含むことを特徴とする前記1ま
たは2記載の予備硬化物。
タン系化合物である前記3記載の予備硬化物。 6.(F)成分として、加水分解・縮合反応可能な多官
能性ケイ素化合物、シラノール化合物、水、およびシリ
カ系架橋剤からなる群より選ばれる少なくとも1種以上
の成分を必須成分として含むことを特徴とする前記1ま
たは2記載の予備硬化物。
【0011】7.前記3記載の(E)成分と前記6記載
の(F)成分とを必須成分として含むことを特徴とする
前記1、2、4または5記載の予備硬化物。 8.前記1〜7の何れか1項に記載の予備硬化物を、5
0〜500℃、1〜500kgf/cm2 の条件で圧縮
成形することを特徴とする成形体の作製方法。 9.前記1〜7の何れか1項に記載の予備硬化物を前記
8に記載した方法で成形した成形体を50〜500℃で
後加熱処理することを特徴とする成形体の硬化方法。
の(F)成分とを必須成分として含むことを特徴とする
前記1、2、4または5記載の予備硬化物。 8.前記1〜7の何れか1項に記載の予備硬化物を、5
0〜500℃、1〜500kgf/cm2 の条件で圧縮
成形することを特徴とする成形体の作製方法。 9.前記1〜7の何れか1項に記載の予備硬化物を前記
8に記載した方法で成形した成形体を50〜500℃で
後加熱処理することを特徴とする成形体の硬化方法。
【0012】以下、本発明について詳しく説明する。先
ず、本発明の第1の発明である予備硬化物について説明
する。本発明の(A)成分であるシルセスキオキサンラ
ダーポリマーは式(1)で表される構造を有し、その数
平均分子量は500以上である。融解性また溶媒への溶
解性が良好であることから数平均分子量は500以上1
0000以下が好ましく、さらに好ましくは500以上
5000以下であり、特に好ましくは500以上200
0以下が好ましい。
ず、本発明の第1の発明である予備硬化物について説明
する。本発明の(A)成分であるシルセスキオキサンラ
ダーポリマーは式(1)で表される構造を有し、その数
平均分子量は500以上である。融解性また溶媒への溶
解性が良好であることから数平均分子量は500以上1
0000以下が好ましく、さらに好ましくは500以上
5000以下であり、特に好ましくは500以上200
0以下が好ましい。
【0013】式中、R1 およびR2 は水素原子または置
換もしくは非置換の1価の有機基であり、互いに同一で
も異なってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等のアル
キル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリー
ル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基
等のアルケニル基;クロロメチル基、トリクロロエチル
基、クロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基等が
例示される。R1 は好ましくはメチル基であり、R2 は
好ましくはフェニル基である。 R3 は水素原子または
置換もしくは非置換の1価の有機基であり、具体的に
は、水素原子またはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基等のアルキル基;フェニル基、トリ
ル基、キシリル基等のアリール基;ビニル基、アリル
基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;クロ
ロメチル基、トリクロロエチル基、クロロプロピル基等
のハロゲン置換アルキル基等が例示される。また、R3
としては−COCH3 、−N=C(Me)(Et)、−
C(CH3 )=CH2 等の高活性な加水分解性基も好適
に利用できる。ここで、好ましくは水素原子、メチル基
またはエチル基である。
換もしくは非置換の1価の有機基であり、互いに同一で
も異なってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、n−
ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等のアル
キル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のアリー
ル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基
等のアルケニル基;クロロメチル基、トリクロロエチル
基、クロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基等が
例示される。R1 は好ましくはメチル基であり、R2 は
好ましくはフェニル基である。 R3 は水素原子または
置換もしくは非置換の1価の有機基であり、具体的に
は、水素原子またはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基等のアルキル基;フェニル基、トリ
ル基、キシリル基等のアリール基;ビニル基、アリル
基、ブテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;クロ
ロメチル基、トリクロロエチル基、クロロプロピル基等
のハロゲン置換アルキル基等が例示される。また、R3
としては−COCH3 、−N=C(Me)(Et)、−
C(CH3 )=CH2 等の高活性な加水分解性基も好適
に利用できる。ここで、好ましくは水素原子、メチル基
またはエチル基である。
【0014】l、m、nは2≦l+m+nを満足する0
または正の整数である。式(1)において、l個の繰り
返し単位(以下、この単位をl単位という)におけるR
1 とR2 はl単位毎に同一でも異なっていてもよい。こ
のことはm個の繰り返し単位(以下、この単位をm単位
という)のR1 についても同様であり、n個の繰り返し
単位(以下、この単位をn単位という)のR2 について
も同様である。また、l単位、m単位およびn単位はブ
ロックであってもこれらが混在したランダムであっても
よい。
または正の整数である。式(1)において、l個の繰り
返し単位(以下、この単位をl単位という)におけるR
1 とR2 はl単位毎に同一でも異なっていてもよい。こ
のことはm個の繰り返し単位(以下、この単位をm単位
という)のR1 についても同様であり、n個の繰り返し
単位(以下、この単位をn単位という)のR2 について
も同様である。また、l単位、m単位およびn単位はブ
ロックであってもこれらが混在したランダムであっても
よい。
【0015】シルセスキオキサンラダーポリマーのラダ
ー構造は、その中にラダー構造以外の不規則構造が含ま
れていても良い。不規則構造としては、次に示すように
ラダーすなわち梯子構造を形成する2本の柱部分に結合
欠損があるもの、該2本柱を結ぶ横棒部分に結合欠損が
あるものが挙げられる。該欠損部分はシラノール基およ
び/またはアルコキシ基が結合した形になっている。
ー構造は、その中にラダー構造以外の不規則構造が含ま
れていても良い。不規則構造としては、次に示すように
ラダーすなわち梯子構造を形成する2本の柱部分に結合
欠損があるもの、該2本柱を結ぶ横棒部分に結合欠損が
あるものが挙げられる。該欠損部分はシラノール基およ
び/またはアルコキシ基が結合した形になっている。
【0016】
【化3】
【0017】また、該欠損部分からさらに不規則な分岐
構造が発達した次に示す構造を挙げることができる。
構造が発達した次に示す構造を挙げることができる。
【0018】
【化4】
【0019】式中、Rは水素原子または置換もしくは非
置換の1価の有機基であり、互いに同一でも異なっても
よく、具体的には、水素原子またはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等の
アルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のア
リール基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニ
ル基等のアルケニル基;クロロメチル基、トリクロロエ
チル基、クロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基
等が例示される。
置換の1価の有機基であり、互いに同一でも異なっても
よく、具体的には、水素原子またはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等の
アルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基等のア
リール基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニ
ル基等のアルケニル基;クロロメチル基、トリクロロエ
チル基、クロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基
等が例示される。
【0020】R3 は水素原子または置換もしくは非置換
の1価の有機基であり、具体的には、水素原子またはメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−
オクチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キ
シリル基等のアリール基;ビニル基、アリル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;クロロメチル
基、トリクロロエチル基、クロロプロピル基等のハロゲ
ン置換アルキル基等が例示される。また、R3 としては
−COCH3 、−N=C(Me)(Et)、−C(CH
3 )=CH2 等の高活性な加水分解性基も好適に利用で
きる。ここで、好ましくは水素原子、メチル基またはエ
チル基である。
の1価の有機基であり、具体的には、水素原子またはメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、
n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−
オクチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キ
シリル基等のアリール基;ビニル基、アリル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;クロロメチル
基、トリクロロエチル基、クロロプロピル基等のハロゲ
ン置換アルキル基等が例示される。また、R3 としては
−COCH3 、−N=C(Me)(Et)、−C(CH
3 )=CH2 等の高活性な加水分解性基も好適に利用で
きる。ここで、好ましくは水素原子、メチル基またはエ
チル基である。
【0021】不規則構造は式(1)の化合物(不規則構
造は除く)中80重量%以下含むことができる。また、
式(1)の化合物は、部分硬化物であってもよい。ここ
で、部分硬化とは前記したように以下に示すラダー構造
中の欠損部分から不規則な分岐構造が発達した構造であ
り、例えばゲル分率(実施例1にて定義した方法で測
定)が5%から30%の化合物である。
造は除く)中80重量%以下含むことができる。また、
式(1)の化合物は、部分硬化物であってもよい。ここ
で、部分硬化とは前記したように以下に示すラダー構造
中の欠損部分から不規則な分岐構造が発達した構造であ
り、例えばゲル分率(実施例1にて定義した方法で測
定)が5%から30%の化合物である。
【0022】
【化5】
【0023】次に、本発明で用いるヒドロシリル化反応
によって硬化する(B)成分、(C)成分及び(D)成
分について説明する。本発明で使用する(B)成分は、
分子中に少なくとも2個のSiH基を有する、分子量1
000以下のケイ素化合物であれば特に制限なく用いる
ことができる。具体的には式: HSiR2 −X−Si−R2 H(2) HSiR2 H(3) Ha SiR(4-a) (4) H(a-1) SiR(4-a) −(X)m (SiRH)n SiR(4-a) H(a-1) (5) R’−(X)m (SiRH)(n+2) −R’(6) [X−SiR(4-a) H(a-2) ](n+2) (7) (式中、Rは炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表
し、R’は水素又は1価の有機基を表し、Xは2価の基
を表し、aは3又は4の整数、nは0〜30の整数を表
す。)で表されるヒドロシラン、または芳香環上の3個
以上の水素がSiR2 H、SiRH2 、SiH3 (Rは
炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。)で置換さ
れた芳香環と該置換基からなるヒドロシランなどを好ま
しく使用することができる。これらの化合物は1種類で
も2種類以上用いても良い。式(2)〜(7)中の炭素
数1〜20の1価の炭化水素基としては、例えばメチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、t-ブ
チル、イソアミル、n-オクチル、n-ノニル、フェニル
基、クロル基、トリメチルシロキシ基等が挙げられ、メ
チル基とフェニル基が好ましい。式(2)、(5)、
(6)、(7)中の2価の基:Xは具体的には下記に示
す構造が挙げられる。
によって硬化する(B)成分、(C)成分及び(D)成
分について説明する。本発明で使用する(B)成分は、
分子中に少なくとも2個のSiH基を有する、分子量1
000以下のケイ素化合物であれば特に制限なく用いる
ことができる。具体的には式: HSiR2 −X−Si−R2 H(2) HSiR2 H(3) Ha SiR(4-a) (4) H(a-1) SiR(4-a) −(X)m (SiRH)n SiR(4-a) H(a-1) (5) R’−(X)m (SiRH)(n+2) −R’(6) [X−SiR(4-a) H(a-2) ](n+2) (7) (式中、Rは炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表
し、R’は水素又は1価の有機基を表し、Xは2価の基
を表し、aは3又は4の整数、nは0〜30の整数を表
す。)で表されるヒドロシラン、または芳香環上の3個
以上の水素がSiR2 H、SiRH2 、SiH3 (Rは
炭素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。)で置換さ
れた芳香環と該置換基からなるヒドロシランなどを好ま
しく使用することができる。これらの化合物は1種類で
も2種類以上用いても良い。式(2)〜(7)中の炭素
数1〜20の1価の炭化水素基としては、例えばメチ
ル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、t-ブ
チル、イソアミル、n-オクチル、n-ノニル、フェニル
基、クロル基、トリメチルシロキシ基等が挙げられ、メ
チル基とフェニル基が好ましい。式(2)、(5)、
(6)、(7)中の2価の基:Xは具体的には下記に示
す構造が挙げられる。
【0024】
【化6】
【0025】(式中、nは1〜4の整数を表す。)これ
らのうちで、
らのうちで、
【0026】
【化7】
【0027】(式中、Meはメチル基を表し、nは前記
と同じ。)が好ましい。さらには、
と同じ。)が好ましい。さらには、
【0028】
【化8】
【0029】(式中、nは前記と同じ。)が特に好まし
い。式(6)中の水素または1価の有機基:R’は、具
体的には水素、メチル、エチル、フェニル、トリメチル
シロキシ基などであり、特に水素が好ましい。B成分の
好ましい具体例として、
い。式(6)中の水素または1価の有機基:R’は、具
体的には水素、メチル、エチル、フェニル、トリメチル
シロキシ基などであり、特に水素が好ましい。B成分の
好ましい具体例として、
【0030】
【化9】
【0031】(式中、Meは前記と同じ、Phはフェニ
ル基、nは3〜5の整数を表す。)で示される構造を挙
げることができる。本発明で用いる(C)成分は、分子
中に少なくとも2個のビニルシリル基を有する、分子量
1000以下のケイ素化合物であれば特に制限無く用い
ることができる。具体的には式: CH2 =CR’−SiR2 −X−SiR2 −CR’=CH2 (8) CH2 =CR’−SiR2 −CR’=CH2 (9) (CH2 =CH)a SiR(4-a) (10) (CH2 =CH)(a-2) SiR(4-a) −(X)m −SiR(4-a) (CH=CH2 )(a-1) (11) R’−(X)m [SiR(CH=CH2 )](n+2) −R’(12) [X−SiR(4-a) (CH=CH2 )(a-2) ](n+2) (13) (式中、R、X、a及びR’は式(2)〜(7)中の
R、X、a及びR’と同じであり、また好ましい構造も
同じである。mは1〜31の整数、nは0〜30の整数
を表す。)で表されるビニルシラン、または芳香環上の
3個以上の水素がSiR2 (CH=CH2 )、SiR
(CH=CH2 )2 、Si(CH=CH2 )3 (Rは炭
素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。)で置換され
た芳香環と該置換基からなるビニルシランなどを好まし
く使用することができる。これらの化合物は1種類でも
2種類以上用いても良い。(C)成分としては、
ル基、nは3〜5の整数を表す。)で示される構造を挙
げることができる。本発明で用いる(C)成分は、分子
中に少なくとも2個のビニルシリル基を有する、分子量
1000以下のケイ素化合物であれば特に制限無く用い
ることができる。具体的には式: CH2 =CR’−SiR2 −X−SiR2 −CR’=CH2 (8) CH2 =CR’−SiR2 −CR’=CH2 (9) (CH2 =CH)a SiR(4-a) (10) (CH2 =CH)(a-2) SiR(4-a) −(X)m −SiR(4-a) (CH=CH2 )(a-1) (11) R’−(X)m [SiR(CH=CH2 )](n+2) −R’(12) [X−SiR(4-a) (CH=CH2 )(a-2) ](n+2) (13) (式中、R、X、a及びR’は式(2)〜(7)中の
R、X、a及びR’と同じであり、また好ましい構造も
同じである。mは1〜31の整数、nは0〜30の整数
を表す。)で表されるビニルシラン、または芳香環上の
3個以上の水素がSiR2 (CH=CH2 )、SiR
(CH=CH2 )2 、Si(CH=CH2 )3 (Rは炭
素数1〜20の1価の炭化水素基を表す。)で置換され
た芳香環と該置換基からなるビニルシランなどを好まし
く使用することができる。これらの化合物は1種類でも
2種類以上用いても良い。(C)成分としては、
【0032】
【化10】
【0033】(式中、Me、Phは前記と同じ、nは3
〜5の整数を表す。)で示される構造が好ましい。本発
明では、付加反応で硬化できる(B)及び(C)成分に
加えて、使用目的に応じて、分子中にSiH基とビニル
シリル基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有する、分子量
1000以下の有機ケイ素化合物を用いることができ
る。具体的には、次の化合物:
〜5の整数を表す。)で示される構造が好ましい。本発
明では、付加反応で硬化できる(B)及び(C)成分に
加えて、使用目的に応じて、分子中にSiH基とビニル
シリル基をそれぞれ少なくとも1個ずつ有する、分子量
1000以下の有機ケイ素化合物を用いることができ
る。具体的には、次の化合物:
【0034】
【化11】
【0035】(式中、Meは前記と同じ。)を挙げるこ
とができる。本発明の(D)成分である中性白金触媒
は、望ましない副生成物の形成を生ぜずにヒドロシリル
化反応、アルコキシシランの加水分解・縮合反応をワン
ポットで収率良く進行させるものが好ましい。中性白金
触媒としては、白金―有機化合物錯体、白金―有機官能
性シロキサン錯体、白金―ジオレフィン化合物錯体等が
使用できる。好ましくは、白金―ビニルシロキサン錯
体、白金―アセチルアセトナート錯体、白金―デカジエ
ン錯体等が良い。特に好ましくは、カールシュテット
(Karrstedt)の米国特許3715334、3
775452、および3814730号明細書中に開示
されている白金―ビニルシロキサン錯体である。触媒量
としてはとくに制限はないが、SiH基1molに対し
て、10-1〜10-8molの範囲で用いるのがよい。さ
らには10-3〜10-6molの範囲で用いるのが良い。
とができる。本発明の(D)成分である中性白金触媒
は、望ましない副生成物の形成を生ぜずにヒドロシリル
化反応、アルコキシシランの加水分解・縮合反応をワン
ポットで収率良く進行させるものが好ましい。中性白金
触媒としては、白金―有機化合物錯体、白金―有機官能
性シロキサン錯体、白金―ジオレフィン化合物錯体等が
使用できる。好ましくは、白金―ビニルシロキサン錯
体、白金―アセチルアセトナート錯体、白金―デカジエ
ン錯体等が良い。特に好ましくは、カールシュテット
(Karrstedt)の米国特許3715334、3
775452、および3814730号明細書中に開示
されている白金―ビニルシロキサン錯体である。触媒量
としてはとくに制限はないが、SiH基1molに対し
て、10-1〜10-8molの範囲で用いるのがよい。さ
らには10-3〜10-6molの範囲で用いるのが良い。
【0036】(D)成分である中性白金触媒に加えて、
場合によっては硬化抑制剤との組み合わせによりヒドロ
シリル化反応の反応速度を制御することが可能であり、
ヒドロシリル化反応とアルコキシシランの加水分解・縮
合反応を同時進行的に進めることが可能となる。該硬化
抑制剤は、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リ
ン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系
化合物、有機過酸化物等が使用できる。脂肪族不飽和結
合を含有する化合物として、プロパギルアルコール、エ
ン−イン化合物、ジメチルマレートなどのマレイン酸エ
ステル等が例示される。有機リン化合物としては、トリ
オルガノフォスフィン、ジオルガノフォスフィン、オル
ガノフォスフォン、トリオルガノフォスファイト等が例
示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカ
プタン、ジオルガノスルフィド、硫化水素、ベンゾチア
ゾール、ベンゾチアゾールジサルファイト等が例示され
る。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級ア
ルキルアミン、アリールアミン、尿素、ヒドラジン等が
例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一ス
ズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機
過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香
酸t−ブチル等が挙げられる。
場合によっては硬化抑制剤との組み合わせによりヒドロ
シリル化反応の反応速度を制御することが可能であり、
ヒドロシリル化反応とアルコキシシランの加水分解・縮
合反応を同時進行的に進めることが可能となる。該硬化
抑制剤は、脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リ
ン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系
化合物、有機過酸化物等が使用できる。脂肪族不飽和結
合を含有する化合物として、プロパギルアルコール、エ
ン−イン化合物、ジメチルマレートなどのマレイン酸エ
ステル等が例示される。有機リン化合物としては、トリ
オルガノフォスフィン、ジオルガノフォスフィン、オル
ガノフォスフォン、トリオルガノフォスファイト等が例
示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカ
プタン、ジオルガノスルフィド、硫化水素、ベンゾチア
ゾール、ベンゾチアゾールジサルファイト等が例示され
る。窒素含有化合物としては、アンモニア、1〜3級ア
ルキルアミン、アリールアミン、尿素、ヒドラジン等が
例示される。スズ系化合物としては、ハロゲン化第一ス
ズ2水和物、カルボン酸第一スズ等が例示される。有機
過酸化物としては、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジク
ミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、過安息香
酸t−ブチル等が挙げられる。
【0037】(E)成分のシラノール縮合触媒は、式
(1)で表される(A)成分のシルセスキオキサンラダ
ーポリマーの末端官能基SiOR3 の加水分解・縮合反
応を促進させるために用いることができる。請求項3に
おいて、(E)成分を必須成分として含むとは、(A)
〜(D)の予備硬化物の生成前、該予備硬化物の生成
中、および該予備硬化物の生成後であって予備硬化物の
圧縮成形前の何れかから選択される少なくとも1以上の
時点にこれら成分および/または予備硬化物に混合する
ことを指す。
(1)で表される(A)成分のシルセスキオキサンラダ
ーポリマーの末端官能基SiOR3 の加水分解・縮合反
応を促進させるために用いることができる。請求項3に
おいて、(E)成分を必須成分として含むとは、(A)
〜(D)の予備硬化物の生成前、該予備硬化物の生成
中、および該予備硬化物の生成後であって予備硬化物の
圧縮成形前の何れかから選択される少なくとも1以上の
時点にこれら成分および/または予備硬化物に混合する
ことを指す。
【0038】(E)成分としては、各種酸触媒、アルカ
リ触媒、あるいは有機金属化合物などの従来公知のもの
を広く使用することができ、特に制限されないが、その
具体例としては、酸触媒として例えば塩酸、硫酸、硝
酸、酢酸、リン酸、活性白土、塩化鉄、ホウ酸、トリフ
ルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルフォン酸、p−ト
ルエンスルフォン酸などが挙げられる。アルカリ触媒と
しては例えばアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の
水酸化物、アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属のア
ルコキシド、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラアルキルフォスフォニウムヒドロキシド、ア
ミン化合物などが挙げられる。アミン化合物としては、
例えばピリジン、ピコリン、ルチジン、ピラジン、ピペ
リドン、ピペリジン、ピペラジン、ピラゾール、ピリダ
ジン、ピリミジン、ピロリジン、ブチルアミン、オクチ
ルアミン、ラウリルアミン、ジブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミ
ン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチル
アミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、トリエチ
レンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、
2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、モルホリン、N−メチルモルホリン、2−エチル−
4−メチルイミダゾール、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、あるいはこ
れらアミン系化合物のカルボン酸などとの塩、過剰のポ
リアミンと多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド
樹脂、過剰のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成
物、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β
−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ンなどのアミノ基を有するシランカップリング剤などが
挙げられる。また、テトラブチルアンモニウムフルオラ
イド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどのフッ素
系化合物なども用いることができる。有機金属化合物触
媒には、錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、チタン、アルミ
ニウム、ジルコニウム、ホウ素などの有機酸塩、アルコ
キシド、キレートがある。
リ触媒、あるいは有機金属化合物などの従来公知のもの
を広く使用することができ、特に制限されないが、その
具体例としては、酸触媒として例えば塩酸、硫酸、硝
酸、酢酸、リン酸、活性白土、塩化鉄、ホウ酸、トリフ
ルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルフォン酸、p−ト
ルエンスルフォン酸などが挙げられる。アルカリ触媒と
しては例えばアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の
水酸化物、アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属のア
ルコキシド、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラアルキルフォスフォニウムヒドロキシド、ア
ミン化合物などが挙げられる。アミン化合物としては、
例えばピリジン、ピコリン、ルチジン、ピラジン、ピペ
リドン、ピペリジン、ピペラジン、ピラゾール、ピリダ
ジン、ピリミジン、ピロリジン、ブチルアミン、オクチ
ルアミン、ラウリルアミン、ジブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、トリエチレンテトラミン、オレイルアミ
ン、シクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ジエチル
アミノプロピルアミン、キシリレンジアミン、トリエチ
レンジアミン、グアニジン、ジフェニルグアニジン、
2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノー
ル、モルホリン、N−メチルモルホリン、2−エチル−
4−メチルイミダゾール、1,8−ジアザビシクロ
[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、あるいはこ
れらアミン系化合物のカルボン酸などとの塩、過剰のポ
リアミンと多塩基酸とから得られる低分子量ポリアミド
樹脂、過剰のポリアミンとエポキシ化合物との反応生成
物、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(β
−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ンなどのアミノ基を有するシランカップリング剤などが
挙げられる。また、テトラブチルアンモニウムフルオラ
イド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどのフッ素
系化合物なども用いることができる。有機金属化合物触
媒には、錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、チタン、アルミ
ニウム、ジルコニウム、ホウ素などの有機酸塩、アルコ
キシド、キレートがある。
【0039】本発明で使用する錫系触媒の具体例として
は、例えば一般式(14)
は、例えば一般式(14)
【0040】
【化12】
【0041】(R5 は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基など
のような置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのよ
うなアルケニル基、フェニル基、トリル基などのような
アリール基などが挙げられる。Y1 、Y2 は炭素数が1
から8のアルキル基、アルコキシ基、dは0、1、また
は2)で示される。あるいは例えば一般式(15)
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基など
のような置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのよ
うなアルケニル基、フェニル基、トリル基などのような
アリール基などが挙げられる。Y1 、Y2 は炭素数が1
から8のアルキル基、アルコキシ基、dは0、1、また
は2)で示される。あるいは例えば一般式(15)
【0042】
【化13】
【0043】(R6 は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。例えば、錫(II)メト
キシド、錫(II)エトキシド、錫(II)2,4−ペンタ
ンジオネート、錫(II)オクトエート、酢酸錫(II)、
ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレート、ジブチ
ル錫ジアセテート、ナフテン酸錫、ジブチル錫オキサイ
ドとフタル酸エステルとの反応物、ジブチル錫ジアセチ
ルアセトナートなどが挙げられる。本発明で使用する鉛
触媒の具体例としては、例えば一般式(16)
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。例えば、錫(II)メト
キシド、錫(II)エトキシド、錫(II)2,4−ペンタ
ンジオネート、錫(II)オクトエート、酢酸錫(II)、
ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレート、ジブチ
ル錫ジアセテート、ナフテン酸錫、ジブチル錫オキサイ
ドとフタル酸エステルとの反応物、ジブチル錫ジアセチ
ルアセトナートなどが挙げられる。本発明で使用する鉛
触媒の具体例としては、例えば一般式(16)
【0044】
【化14】
【0045】(Y3 、Y4 は置換または非置換の炭素数
が1から8のアルキル基、アルコキシ基である)で示さ
れる。例えば、鉛(II)ヘキサフルオロペンタンジオネー
ト、鉛(II)2,4−ペンタンジオネート、鉛(II)2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネー
ト、オクチル酸鉛などが挙げられる。本発明で使用する
亜鉛系触媒の具体例としては、例えば一般式(17)
が1から8のアルキル基、アルコキシ基である)で示さ
れる。例えば、鉛(II)ヘキサフルオロペンタンジオネー
ト、鉛(II)2,4−ペンタンジオネート、鉛(II)2,
2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネー
ト、オクチル酸鉛などが挙げられる。本発明で使用する
亜鉛系触媒の具体例としては、例えば一般式(17)
【0046】
【化15】
【0047】(R7 は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる。Y5 、Y6は炭素数が1から8のア
ルキル基、アルコキシ基、eは0、1、または2)で示
される。あるいは例えば一般式(18)
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる。Y5 、Y6は炭素数が1から8のア
ルキル基、アルコキシ基、eは0、1、または2)で示
される。あるいは例えば一般式(18)
【0048】
【化16】
【0049】(R8 は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。例えば、ジメトキシ亜
鉛、ジエトキシ亜鉛、亜鉛メトキシエトキシド、亜鉛
2,4−ペンタンジオネート、酢酸亜鉛、亜鉛2−エチ
ルヘキサノエート、ギ酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛、亜鉛
ネオデカノエート、ウンデシレン酸亜鉛、オクチル酸亜
鉛などが挙げられる。
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。例えば、ジメトキシ亜
鉛、ジエトキシ亜鉛、亜鉛メトキシエトキシド、亜鉛
2,4−ペンタンジオネート、酢酸亜鉛、亜鉛2−エチ
ルヘキサノエート、ギ酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛、亜鉛
ネオデカノエート、ウンデシレン酸亜鉛、オクチル酸亜
鉛などが挙げられる。
【0050】本発明において用いられる鉄触媒の具体例
としては、例えば一般式(19)
としては、例えば一般式(19)
【0051】
【化17】
【0052】(R9 は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる。Y7 、Y8は置換または非置換の炭
素数が1から8のアルキル基、アルコキシ基、fは0、
1、2、または3)で示される。例えば、鉄(III )ベ
ンゾイルアセトネート、鉄(III )エトキサイド、鉄
(III )2,4−ペンタンジオネート、鉄(III )トリ
フルオロペンタンジオネート、オクチル酸鉄などが挙げ
られる。
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる。Y7 、Y8は置換または非置換の炭
素数が1から8のアルキル基、アルコキシ基、fは0、
1、2、または3)で示される。例えば、鉄(III )ベ
ンゾイルアセトネート、鉄(III )エトキサイド、鉄
(III )2,4−ペンタンジオネート、鉄(III )トリ
フルオロペンタンジオネート、オクチル酸鉄などが挙げ
られる。
【0053】本発明で使用するコバルト系触媒の具体例
としては、例えば一般式(20)
としては、例えば一般式(20)
【0054】
【化18】
【0055】(Y9 、Y10は置換または非置換の炭素数
が1から8のアルキル基、アルコキシ基、gは2または
3)で示される。例えば、コバルト(II)2,4−ペン
タンジオネート、コバルト(III )2,4−ペンタンジ
オネートなどが挙げられる。本発明で使用するチタン系
触媒の具体例としては、例えばテトラアルキルオルソチ
タネートやチタンキレートなどがある。テトラアルキル
オルソチタネートは、例えば一般式(21)
が1から8のアルキル基、アルコキシ基、gは2または
3)で示される。例えば、コバルト(II)2,4−ペン
タンジオネート、コバルト(III )2,4−ペンタンジ
オネートなどが挙げられる。本発明で使用するチタン系
触媒の具体例としては、例えばテトラアルキルオルソチ
タネートやチタンキレートなどがある。テトラアルキル
オルソチタネートは、例えば一般式(21)
【0056】
【化19】
【0057】(式中、R10は置換または非置換の1価の
炭化水素基、好ましくは炭素数1から4の炭化水素基で
ある)で表される。このような1価の炭化水素基として
は、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基などが挙げられる。チタンキ
レートは、例えば一般式(22)
炭化水素基、好ましくは炭素数1から4の炭化水素基で
ある)で表される。このような1価の炭化水素基として
は、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基などが挙げられる。チタンキ
レートは、例えば一般式(22)
【0058】
【化20】
【0059】(式中、R11、R12、R14は1価の炭化水
素基を表し、R13は水素原子または1価の炭化水素基を
表す)で示される。このようなチタンキレートとして
は、例えばジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)
チタン、ジイソプロポキシビス(アセト酢酸メチル)チ
タン、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトン)チタ
ン、ジブトキシビス(アセト酢酸エチル)チタンなどが
挙げられる。本発明において触媒として用いられるアル
ミニウムアルコキシドの具体例としては、例えば一般式
(23)
素基を表し、R13は水素原子または1価の炭化水素基を
表す)で示される。このようなチタンキレートとして
は、例えばジイソプロポキシビス(アセト酢酸エチル)
チタン、ジイソプロポキシビス(アセト酢酸メチル)チ
タン、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトン)チタ
ン、ジブトキシビス(アセト酢酸エチル)チタンなどが
挙げられる。本発明において触媒として用いられるアル
ミニウムアルコキシドの具体例としては、例えば一般式
(23)
【0060】
【化21】
【0061】(式中、R15は置換または非置換アルキル
基、Xはアルコキシ基以外の1価の陰性基、hは0、
1、2、または3を示す)で示される。最も好ましいア
ルミニウムアルコキシドは、一般式(23)においてh
が3の場合であるアルミニウムトリアルコキシドである
が、アルコキシ基の一部がXなどで置換された化合物を
用いてもよい。Xとしては、F- 、Cl- 、Br- など
のハロゲン原子や、一般式(24)
基、Xはアルコキシ基以外の1価の陰性基、hは0、
1、2、または3を示す)で示される。最も好ましいア
ルミニウムアルコキシドは、一般式(23)においてh
が3の場合であるアルミニウムトリアルコキシドである
が、アルコキシ基の一部がXなどで置換された化合物を
用いてもよい。Xとしては、F- 、Cl- 、Br- など
のハロゲン原子や、一般式(24)
【0062】
【化22】
【0063】(Y11およびY12は、炭素数が1〜8まで
のアルキル基またはアルコキシ基を示す)で表される陰
性基が好ましい。具体的には、アルミニウムトリイソプ
ロポキシド、アルミニウムトリ第2ブトキシド、アルミ
ニウムジイソプロポキシ第2ブトキシド、アルミニウム
ジイソプロポキシドアセチルアセトナート、アルミニウ
ムジ第2ブトキシドアセチルアセトナート、アルミニウ
ムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムジ第2ブトキシドエチルアセトアセテートなどが
挙げられる。本発明において触媒として用いられるジル
コニウムアルコキシドまたはキレートの具体例として
は、例えば一般式(25)
のアルキル基またはアルコキシ基を示す)で表される陰
性基が好ましい。具体的には、アルミニウムトリイソプ
ロポキシド、アルミニウムトリ第2ブトキシド、アルミ
ニウムジイソプロポキシ第2ブトキシド、アルミニウム
ジイソプロポキシドアセチルアセトナート、アルミニウ
ムジ第2ブトキシドアセチルアセトナート、アルミニウ
ムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミ
ニウムジ第2ブトキシドエチルアセトアセテートなどが
挙げられる。本発明において触媒として用いられるジル
コニウムアルコキシドまたはキレートの具体例として
は、例えば一般式(25)
【0064】
【化23】
【0065】(R16は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる。Y13、Y14は炭素数が1から8のア
ルキル基、アルコキシ基、iは0、1、2、3、または
4)で示される。具体的には、ジルコニウムテトラブト
キシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコ
ニウムテトラメトキシド、ジルコニウムトリブトキシド
モノアセチルアセトナート、ジルコニウムジブトキシド
ビスアセチルアセトナート、ジルコニウムモノブトキシ
ドトリスアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブト
キシドモノエチルアセトアセテート、ジルコニウムジブ
トキシドビスエチルアセトアセテート、ジルコニウムモ
ノブトキシドトリスエチルアセトアセテート、ジルコニ
ウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムテトラ
エチルアセトアセテートなどが挙げられる。
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる。Y13、Y14は炭素数が1から8のア
ルキル基、アルコキシ基、iは0、1、2、3、または
4)で示される。具体的には、ジルコニウムテトラブト
キシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコ
ニウムテトラメトキシド、ジルコニウムトリブトキシド
モノアセチルアセトナート、ジルコニウムジブトキシド
ビスアセチルアセトナート、ジルコニウムモノブトキシ
ドトリスアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブト
キシドモノエチルアセトアセテート、ジルコニウムジブ
トキシドビスエチルアセトアセテート、ジルコニウムモ
ノブトキシドトリスエチルアセトアセテート、ジルコニ
ウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムテトラ
エチルアセトアセテートなどが挙げられる。
【0066】本発明で使用するホウ素アルコキシド触媒
の具体例としては、例えば一般式(26)
の具体例としては、例えば一般式(26)
【0067】
【化24】
【0068】(R17は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。例えば、ホウ素メトキ
シド、ホウ素エトキシド、ホウ素n−ブトキシドなどが
挙げられる。これらの触媒は1種類を単独で用いてもよ
く、また差し支えなければ2種以上を併用してもよい。
好ましい触媒は中性の有機金属化合物であり、さらに好
ましくはチタン系およびアルミニウム系触媒であり、特
に好ましい触媒はチタン系触媒である。触媒の使用量は
シルセスキオキサンラダーポリマー100重量部に対し
て0.01〜20重量部であり、好ましくは0.3〜1
0で、最も好ましくは0.5〜6重量部である。
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。例えば、ホウ素メトキ
シド、ホウ素エトキシド、ホウ素n−ブトキシドなどが
挙げられる。これらの触媒は1種類を単独で用いてもよ
く、また差し支えなければ2種以上を併用してもよい。
好ましい触媒は中性の有機金属化合物であり、さらに好
ましくはチタン系およびアルミニウム系触媒であり、特
に好ましい触媒はチタン系触媒である。触媒の使用量は
シルセスキオキサンラダーポリマー100重量部に対し
て0.01〜20重量部であり、好ましくは0.3〜1
0で、最も好ましくは0.5〜6重量部である。
【0069】また、本発明における(F)成分である加
水分解・縮合反応可能な多官能性ケイ素化合物、シラノ
ール化合物、水、およびシリカ系架橋剤からなる群から
1種以上を選択して使用する場合には、それらに含有さ
れるアルコキシ基やシラノール基、もしくは加水分解に
よって生成するシラノール基間での縮合反応、あるいは
該官能基と式(1)で表されるシルセスキオキサンラダ
ーポリマーの末端官能基SiOR3 の縮合反応を促進さ
せることが可能である。
水分解・縮合反応可能な多官能性ケイ素化合物、シラノ
ール化合物、水、およびシリカ系架橋剤からなる群から
1種以上を選択して使用する場合には、それらに含有さ
れるアルコキシ基やシラノール基、もしくは加水分解に
よって生成するシラノール基間での縮合反応、あるいは
該官能基と式(1)で表されるシルセスキオキサンラダ
ーポリマーの末端官能基SiOR3 の縮合反応を促進さ
せることが可能である。
【0070】請求項6において、(F)成分を必須成分
として含むとは、(A)〜(D)の予備硬化物の生成
前、該予備硬化物の生成中、および該予備硬化物の生成
後であって予備硬化物の圧縮成形前の何れかから選択さ
れる少なくとも1以上の時点にこれら成分および/また
は予備硬化物に混合することを指す。また、請求項7に
おいて、(E)成分と(F)成分を必須成分として含む
ということも前記と同じ意味である。
として含むとは、(A)〜(D)の予備硬化物の生成
前、該予備硬化物の生成中、および該予備硬化物の生成
後であって予備硬化物の圧縮成形前の何れかから選択さ
れる少なくとも1以上の時点にこれら成分および/また
は予備硬化物に混合することを指す。また、請求項7に
おいて、(E)成分と(F)成分を必須成分として含む
ということも前記と同じ意味である。
【0071】本発明における(F)成分の1つである多
官能性ケイ素化合物は式(27)で表される化合物を好
ましく用いることができる。
官能性ケイ素化合物は式(27)で表される化合物を好
ましく用いることができる。
【0072】
【化25】
【0073】(R18は置換または非置換の1価の炭化水
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。好ましくは、水素原
子、メチル基であり、kは1≦k≦ 10 を満足する正の
整数で、好ましくは平均4である。例えば、Si(OM
e)4 、Si(OEt) 4 、Si(OAc)4 、MeO
{Si(OMe)2 O}n Me(n=平均3〜6)、E
tO{Si(OEt)2 O}n Et(n=平均3〜6)
等を挙げることが出来る。式(27)で示される以外の
化合物としては、MeSi(OMe)3 、MeSi(O
Et)3 、MeSi(OAc)3 、MeSi(OC(C
H3 )=CH2 )3 、MeSi(ON=CMeEt)
3 、Me2 Si(N(Et)CO(Me))2 、Me2
Si(N(Me)CO(Me))3 等を挙げることが出
来る。この多官能性架橋剤の使用量はシルセスキオキサ
ンラダーポリマー100重量部に対して1〜50重量部
であり、好ましくは10〜50重量部である。
素基を表す。例えば、アルキル基、クロロメチル基のよ
うな置換アルキル基、ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基、フェニル基、トリル基などのようなアリール基
などが挙げられる)で示される。好ましくは、水素原
子、メチル基であり、kは1≦k≦ 10 を満足する正の
整数で、好ましくは平均4である。例えば、Si(OM
e)4 、Si(OEt) 4 、Si(OAc)4 、MeO
{Si(OMe)2 O}n Me(n=平均3〜6)、E
tO{Si(OEt)2 O}n Et(n=平均3〜6)
等を挙げることが出来る。式(27)で示される以外の
化合物としては、MeSi(OMe)3 、MeSi(O
Et)3 、MeSi(OAc)3 、MeSi(OC(C
H3 )=CH2 )3 、MeSi(ON=CMeEt)
3 、Me2 Si(N(Et)CO(Me))2 、Me2
Si(N(Me)CO(Me))3 等を挙げることが出
来る。この多官能性架橋剤の使用量はシルセスキオキサ
ンラダーポリマー100重量部に対して1〜50重量部
であり、好ましくは10〜50重量部である。
【0074】本発明の(F)成分のひとつとして、シラ
ノール化合物を用いることが出来る。具体的に例示する
ならば、Ph2 Si(OH)2 、PhMe2 SiOH、
Ph 2 MeSiOH、PhSi(OH)3 及びその低分
子量オリゴマーなどを挙げることが出来る。また、HO
Si(Me)2 −p−C6 H4 −Si(Me)2 OH、
HOSi(Me)2 −m−C6 H4 −Si(Me)2 O
H、(HO)2 SiMe−p−C6 H4 −SiMe(O
H)2 、(HO)2 SiMe−m−C6 H4 −SiMe
(OH)2 等も例示される。
ノール化合物を用いることが出来る。具体的に例示する
ならば、Ph2 Si(OH)2 、PhMe2 SiOH、
Ph 2 MeSiOH、PhSi(OH)3 及びその低分
子量オリゴマーなどを挙げることが出来る。また、HO
Si(Me)2 −p−C6 H4 −Si(Me)2 OH、
HOSi(Me)2 −m−C6 H4 −Si(Me)2 O
H、(HO)2 SiMe−p−C6 H4 −SiMe(O
H)2 、(HO)2 SiMe−m−C6 H4 −SiMe
(OH)2 等も例示される。
【0075】このシラノール化合物の使用量はシルセス
キオキサンラダーポリマー100重量部に対して1〜5
0重量部であり、好ましくは10〜50重量部である。
また、本発明の(F)成分のひとつとして、水を添加し
て用いることができる。水の添加量は任意であるが、
(A)成分であるシルセスキオキサンラダーポリマーの
末端アルコキシ基に対して5〜100mol%が好まし
い。また水を上記の加水分解・縮合反応可能な多官能性
ケイ素化合物と併用するとより効果的である。この場合
にも水の添加量は任意であるが、該成分及び(A)成分
の全てのアルコキシ基に対して5〜100mol%が好
ましい。
キオキサンラダーポリマー100重量部に対して1〜5
0重量部であり、好ましくは10〜50重量部である。
また、本発明の(F)成分のひとつとして、水を添加し
て用いることができる。水の添加量は任意であるが、
(A)成分であるシルセスキオキサンラダーポリマーの
末端アルコキシ基に対して5〜100mol%が好まし
い。また水を上記の加水分解・縮合反応可能な多官能性
ケイ素化合物と併用するとより効果的である。この場合
にも水の添加量は任意であるが、該成分及び(A)成分
の全てのアルコキシ基に対して5〜100mol%が好
ましい。
【0076】本発明で使用することができる(F)成分
のシリカ系架橋剤は、微粉末の含水シリカあるいは無水
シリカ、あるいは各種表面処理剤で処理されたシリカ粉
末などを挙げることが出来る。これらのシラノール基あ
るいは吸着した水が式(1)で表されるシルセスキオキ
サンラダーポリマーの末端官能基SiOR3 の縮合反応
に関与し、得られる硬化物の物性を改善することができ
る。シリカ系架橋剤の使用量は、シルセスキオキサンラ
ダーポリマー100重量部に対して5〜30重量部が好
ましい。これらのシリカ系架橋剤は上記の加水分解・縮
合反応可能な多官能性ケイ素化合物、シラノール化合
物、水と併用しても構わない。
のシリカ系架橋剤は、微粉末の含水シリカあるいは無水
シリカ、あるいは各種表面処理剤で処理されたシリカ粉
末などを挙げることが出来る。これらのシラノール基あ
るいは吸着した水が式(1)で表されるシルセスキオキ
サンラダーポリマーの末端官能基SiOR3 の縮合反応
に関与し、得られる硬化物の物性を改善することができ
る。シリカ系架橋剤の使用量は、シルセスキオキサンラ
ダーポリマー100重量部に対して5〜30重量部が好
ましい。これらのシリカ系架橋剤は上記の加水分解・縮
合反応可能な多官能性ケイ素化合物、シラノール化合
物、水と併用しても構わない。
【0077】さらに上記のような各成分を均一に混合す
るために有機溶媒を使用することができる。例えば、ベ
ンゼン、ヘキサン、トルエン、ヘプタンなどの炭化水素
系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン系溶媒、クロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒を好適に用いることが
出来る。溶媒は2種類以上の混合溶媒としても用いるこ
とが出来る。溶媒としては、テトラヒドロフラン、トル
エン、クロロホルムが好ましい。さらに好ましくはテト
ラヒドロフランである。有機溶媒の使用量は、シルセス
キオキサン100gに対して1〜200mLであり、好
ましくは50〜150mLであり、さらに好ましくは8
0〜120mLである。
るために有機溶媒を使用することができる。例えば、ベ
ンゼン、ヘキサン、トルエン、ヘプタンなどの炭化水素
系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジ
エチルエーテルなどのエーテル系溶媒、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン系溶媒、クロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン系溶媒を好適に用いることが
出来る。溶媒は2種類以上の混合溶媒としても用いるこ
とが出来る。溶媒としては、テトラヒドロフラン、トル
エン、クロロホルムが好ましい。さらに好ましくはテト
ラヒドロフランである。有機溶媒の使用量は、シルセス
キオキサン100gに対して1〜200mLであり、好
ましくは50〜150mLであり、さらに好ましくは8
0〜120mLである。
【0078】このように、本発明ではシルセスキオキサ
ンラダーポリマーおよびその部分硬化物、各種触媒、有
機溶媒、加水分解・縮合反応可能な多官能性ケイ素化合
物、シラノール化合物、水、シリカ系架橋剤を混合して
用いることができる。本発明においては、(A)〜
(F)成分以外にその目的に応じて種々の成分を添加す
ることができる。例えば、力学的機能を向上する目的
で、グラスファイバー、カーボンファイバー、シリコー
ンカーバイドファイバー、シリコーンナイトライドファ
イバー、チタンファイバーあるいはアラミドなどの有機
質繊維、チタン酸カリウムウィスカー、マイカ、ガラス
フレーク、黒鉛、硫化モリブデン等を添加できる。電気
的性能を向上する目的で、金属粉、金属コーティングフ
ィラーを用いることができる。また熱的特性向上にため
には水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、三酸化
アンチモンなどを用いることができる。
ンラダーポリマーおよびその部分硬化物、各種触媒、有
機溶媒、加水分解・縮合反応可能な多官能性ケイ素化合
物、シラノール化合物、水、シリカ系架橋剤を混合して
用いることができる。本発明においては、(A)〜
(F)成分以外にその目的に応じて種々の成分を添加す
ることができる。例えば、力学的機能を向上する目的
で、グラスファイバー、カーボンファイバー、シリコー
ンカーバイドファイバー、シリコーンナイトライドファ
イバー、チタンファイバーあるいはアラミドなどの有機
質繊維、チタン酸カリウムウィスカー、マイカ、ガラス
フレーク、黒鉛、硫化モリブデン等を添加できる。電気
的性能を向上する目的で、金属粉、金属コーティングフ
ィラーを用いることができる。また熱的特性向上にため
には水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、三酸化
アンチモンなどを用いることができる。
【0079】本発明の予備硬化物は、(A)〜(D)成
分あるいはこれら成分に(E)成分更には(F)成分を
50〜300℃に加熱して各成分間の反応を適度に、即
ち、穴の直径1mm、長さ10mmのダイを用いた高化
式フローテスターによる流動性測定で、150℃、30
秒〜60秒間の予備加熱を行った後、100kgf/c
m2 、150℃の条件において、測定開始後30分間に
おけるある時点の流動性が10-1〜10-6cm3 /sと
なるように行わせればよい。ここで反応とは、成分中の
アルコキシシリル基および/またはシラノール基の加水
分解・縮合反応、及びヒドロシリル化反応とが同時進行
的に行われるものである。
分あるいはこれら成分に(E)成分更には(F)成分を
50〜300℃に加熱して各成分間の反応を適度に、即
ち、穴の直径1mm、長さ10mmのダイを用いた高化
式フローテスターによる流動性測定で、150℃、30
秒〜60秒間の予備加熱を行った後、100kgf/c
m2 、150℃の条件において、測定開始後30分間に
おけるある時点の流動性が10-1〜10-6cm3 /sと
なるように行わせればよい。ここで反応とは、成分中の
アルコキシシリル基および/またはシラノール基の加水
分解・縮合反応、及びヒドロシリル化反応とが同時進行
的に行われるものである。
【0080】本発明における流動性の測定開始後30分
間におけるある時点において、上記本発明の範囲を外れ
る予備硬化物は、以下に示す不都合を生じる。予備硬化
が不十分だと測定時間内での流動性が10-1cm3 /s
を越えてしまい、流れすぎて型枠からはみ出してしまう
など作業性が損なわれる。また、予備硬化しすぎると最
大流動性が10-6cm3 /sに達せず均一な溶融圧縮成
形体が得られない(図1参照)。
間におけるある時点において、上記本発明の範囲を外れ
る予備硬化物は、以下に示す不都合を生じる。予備硬化
が不十分だと測定時間内での流動性が10-1cm3 /s
を越えてしまい、流れすぎて型枠からはみ出してしまう
など作業性が損なわれる。また、予備硬化しすぎると最
大流動性が10-6cm3 /sに達せず均一な溶融圧縮成
形体が得られない(図1参照)。
【0081】本発明の予備硬化物を得るための具体的方
法としては、上記各成分を金属やガラスなどの型枠に直
接、あるいはポリイミドフィルムやアルミホイルなどを
敷いて入れ、オーブンを用いて50〜300℃に加熱す
る。あるいは熱ロール、ニーダーなどの加熱可能な混練
装置を用いる。高周波加熱装置を用いることも可能であ
る。温度は一定に保っても良いし、段階的あるいは連続
的に昇温させてもよい。加熱することによって、縮合成
分と付加成分の反応の進行をバランス良く行わせて、硬
化を進行させ、成形時に流動性を持った予備硬化物を得
ることが出来る。加熱温度と加熱時間は材料の種類によ
るが、概ね50〜200℃で数分〜5時間程度の条件が
好ましい。混合・分散を確実・迅速に行うために有機溶
媒を使用してもよい。有機溶媒の使用量は、シルセスキ
オキサン100gに対して1〜200mLであり、好ま
しくは50〜150mLであり、さらに好ましくは80
〜120mLである。また、(A)〜(F)成分と各種
繊維、金属粉、及び充填剤の混合には乳鉢、冷凍粉砕
機、各種ミル・ニーダー・ロール・ホモジナイザー・攪
拌装置などを用いることができる。加熱しながら溶融状
態で混合を行うとより効果的である。このようにして予
備硬化されたサンプルを粉末状、顆粒状、フレーク状、
ペレット状、タブレット状にすることが出来る。
法としては、上記各成分を金属やガラスなどの型枠に直
接、あるいはポリイミドフィルムやアルミホイルなどを
敷いて入れ、オーブンを用いて50〜300℃に加熱す
る。あるいは熱ロール、ニーダーなどの加熱可能な混練
装置を用いる。高周波加熱装置を用いることも可能であ
る。温度は一定に保っても良いし、段階的あるいは連続
的に昇温させてもよい。加熱することによって、縮合成
分と付加成分の反応の進行をバランス良く行わせて、硬
化を進行させ、成形時に流動性を持った予備硬化物を得
ることが出来る。加熱温度と加熱時間は材料の種類によ
るが、概ね50〜200℃で数分〜5時間程度の条件が
好ましい。混合・分散を確実・迅速に行うために有機溶
媒を使用してもよい。有機溶媒の使用量は、シルセスキ
オキサン100gに対して1〜200mLであり、好ま
しくは50〜150mLであり、さらに好ましくは80
〜120mLである。また、(A)〜(F)成分と各種
繊維、金属粉、及び充填剤の混合には乳鉢、冷凍粉砕
機、各種ミル・ニーダー・ロール・ホモジナイザー・攪
拌装置などを用いることができる。加熱しながら溶融状
態で混合を行うとより効果的である。このようにして予
備硬化されたサンプルを粉末状、顆粒状、フレーク状、
ペレット状、タブレット状にすることが出来る。
【0082】予備硬化物の流動性の評価は、高化式フロ
ーテスターを用いるが、例えば島津製作所製のものが挙
げられる。高化式フローテスターは、シリンダー内に投
入した樹脂を、ある温度に加熱して溶融させ、ピストン
に一定の圧力Pを加えて、ダイの穴N(直径D、長さ
L)から樹脂を流出させ、樹脂の流出量Qとその時間変
化により、樹脂の流動性と硬化挙動を知ることが出来る
装置である。本発明の予備硬化物は、穴の直径1mm、
長さ10mmのダイを用いた高化式フローテスターによ
る流動性測定で、150℃、30秒〜60秒間の予備加
熱を行った後、100kgf/cm2 、150℃の条件
において、測定開始後30分間におけるある時点の流動
性が、10-1〜10-6cm3 /s、好ましくは10-2〜
10-5cm 3 /s、最も好ましくは10-3〜10-4cm
3 /sを示す予備硬化物であり、好ましい態様は、同様
の流動性測定で、測定開始後0〜30分間における最大
流動性が、10-1〜10-6cm3 /s、好ましくは10
-2〜10-5cm3 /s、最も好ましくは10-3〜10-4
cm3 /sを示す予備硬化物である。最大流動性が10
-1cm3 /sを越える予備硬化物は、予備硬化が不十分
であり、流れすぎて型枠からはみ出してしまうなど作業
性が損なわれる。また、最大流動性が10-6cm3 /s
を越えない予備硬化物は、予備硬化過多であり均一な溶
融圧縮成形体が得られないといった不都合が生じる。
ーテスターを用いるが、例えば島津製作所製のものが挙
げられる。高化式フローテスターは、シリンダー内に投
入した樹脂を、ある温度に加熱して溶融させ、ピストン
に一定の圧力Pを加えて、ダイの穴N(直径D、長さ
L)から樹脂を流出させ、樹脂の流出量Qとその時間変
化により、樹脂の流動性と硬化挙動を知ることが出来る
装置である。本発明の予備硬化物は、穴の直径1mm、
長さ10mmのダイを用いた高化式フローテスターによ
る流動性測定で、150℃、30秒〜60秒間の予備加
熱を行った後、100kgf/cm2 、150℃の条件
において、測定開始後30分間におけるある時点の流動
性が、10-1〜10-6cm3 /s、好ましくは10-2〜
10-5cm 3 /s、最も好ましくは10-3〜10-4cm
3 /sを示す予備硬化物であり、好ましい態様は、同様
の流動性測定で、測定開始後0〜30分間における最大
流動性が、10-1〜10-6cm3 /s、好ましくは10
-2〜10-5cm3 /s、最も好ましくは10-3〜10-4
cm3 /sを示す予備硬化物である。最大流動性が10
-1cm3 /sを越える予備硬化物は、予備硬化が不十分
であり、流れすぎて型枠からはみ出してしまうなど作業
性が損なわれる。また、最大流動性が10-6cm3 /s
を越えない予備硬化物は、予備硬化過多であり均一な溶
融圧縮成形体が得られないといった不都合が生じる。
【0083】本発明の第2の発明である成形体の作製方
法について説明する。本発明の成形方法は、予備硬化物
を50〜500℃、1〜500kgf/cm2 の条件で
圧縮成形するものであるが、硬化時に縮合成分を生成す
るという点で、同じ硬化形式であるフェノール樹脂の成
形方法(予備硬化→粉砕→粉末化→溶融圧縮成形)に準
じて検討を行い、形状保持された試験片が得られた。以
下具体的にその方法について説明する。
法について説明する。本発明の成形方法は、予備硬化物
を50〜500℃、1〜500kgf/cm2 の条件で
圧縮成形するものであるが、硬化時に縮合成分を生成す
るという点で、同じ硬化形式であるフェノール樹脂の成
形方法(予備硬化→粉砕→粉末化→溶融圧縮成形)に準
じて検討を行い、形状保持された試験片が得られた。以
下具体的にその方法について説明する。
【0084】粉末状・顆粒状・フレーク状・ペレット状
・タブレット状などにした本発明の第1の発明である予
備硬化物を金型に入れ、50〜500℃に加熱し、1〜
500kgf/cm2 の圧力を加えて成形する。加圧前
にオーブンや高周波余熱装置などの加熱装置を用いて成
形材料を予備加熱することにより、成形時間を短縮し、
能率を向上させることができる。予備加熱温度は50〜
200℃、時間は数秒から10分程度が好ましい。圧縮
成形の温度は予備硬化されたサンプルが溶融する程度が
好ましい。成形圧力は1〜500kgf/cm2 の範囲
であり、50〜300kgf/cm2 が好ましく、10
〜200kgf/cm2 がさらに好ましい。成形時間は
サンプル量や予備硬化の度合い、金型の形状などに応じ
て最適化させる必要があるが、標準的な処方では、成形
品の投影面積が1×10cm2 のサンプルを用いた場
合、成形体の厚み4mm当たり、1分〜10時間程度が
好ましい。さらには、10分から1時間程度が好まし
い。
・タブレット状などにした本発明の第1の発明である予
備硬化物を金型に入れ、50〜500℃に加熱し、1〜
500kgf/cm2 の圧力を加えて成形する。加圧前
にオーブンや高周波余熱装置などの加熱装置を用いて成
形材料を予備加熱することにより、成形時間を短縮し、
能率を向上させることができる。予備加熱温度は50〜
200℃、時間は数秒から10分程度が好ましい。圧縮
成形の温度は予備硬化されたサンプルが溶融する程度が
好ましい。成形圧力は1〜500kgf/cm2 の範囲
であり、50〜300kgf/cm2 が好ましく、10
〜200kgf/cm2 がさらに好ましい。成形時間は
サンプル量や予備硬化の度合い、金型の形状などに応じ
て最適化させる必要があるが、標準的な処方では、成形
品の投影面積が1×10cm2 のサンプルを用いた場
合、成形体の厚み4mm当たり、1分〜10時間程度が
好ましい。さらには、10分から1時間程度が好まし
い。
【0085】圧縮成形後の成形体を50〜500℃で一
定時間、通常、1時間〜24時間、好ましくは5時間〜
10時間、後加熱処理することにより、内部応力を低減
させ、また耐熱性を向上させ得る。このようなアフター
キュアの条件は成形体材料の形状や成形条件に依存する
が、一般に成形温度よりも若干低めの温度から加熱して
徐々に昇温する方法が好ましい。アフターキュアを不活
性ガス雰囲気や真空脱気条件で行うことにより材料の劣
化を防止することが可能である。このようにして、任意
の形状の成形体を作製することができる。
定時間、通常、1時間〜24時間、好ましくは5時間〜
10時間、後加熱処理することにより、内部応力を低減
させ、また耐熱性を向上させ得る。このようなアフター
キュアの条件は成形体材料の形状や成形条件に依存する
が、一般に成形温度よりも若干低めの温度から加熱して
徐々に昇温する方法が好ましい。アフターキュアを不活
性ガス雰囲気や真空脱気条件で行うことにより材料の劣
化を防止することが可能である。このようにして、任意
の形状の成形体を作製することができる。
【0086】本発明の予備硬化物及びその成形体は、塗
料・保護コーティング材料として用いることができる。
また、本発明の予備硬化物及びその成形体は、粘着剤、
接着剤及びコンタクト接着剤として用いることができ
る。また、種々の熱硬化性樹脂もしくは熱硬化性樹脂の
改質剤として用いることができる。本発明の予備硬化物
及びその成形体は、電子・電気材料として用いることが
できる。具体的には、半導体実装用のリジッド配線板、
フレキシブルプリント配線板、半導体実装用接着材料、
フレキシブルプリント配線板用接着剤、半導体封止用樹
脂、電気・電子部品回りの封止剤、半導体用絶縁膜、フ
レキシブルプリント回路保護用カバーレイフィルム、樹
脂の改質剤、配線被覆用コーティング剤等に用いること
ができる。また、該予備硬化物及びその成形体は、土木
・建築材料として用いることができる。具体的には、シ
ーリング剤、制震・防震材料、塗料、接着剤、コーティ
ング剤吹付剤、防水剤、構造用部材等である。また、自
動車・航空機用材料として用いることができる。具体的
には、密封剤、摺動部材、コーティング剤、構造用部
材、接着剤、型取り用材料等である。光学材料として
は、光ファイバー用コア材及びクラッド材、プラスチッ
クレンズの耐磨耗性コーティング剤である。医療材料と
しては、人工骨等に用いることができる。本発明の予備
硬化物及びその成形体の利用分野、用途は上述した分野
に限られるものではない。
料・保護コーティング材料として用いることができる。
また、本発明の予備硬化物及びその成形体は、粘着剤、
接着剤及びコンタクト接着剤として用いることができ
る。また、種々の熱硬化性樹脂もしくは熱硬化性樹脂の
改質剤として用いることができる。本発明の予備硬化物
及びその成形体は、電子・電気材料として用いることが
できる。具体的には、半導体実装用のリジッド配線板、
フレキシブルプリント配線板、半導体実装用接着材料、
フレキシブルプリント配線板用接着剤、半導体封止用樹
脂、電気・電子部品回りの封止剤、半導体用絶縁膜、フ
レキシブルプリント回路保護用カバーレイフィルム、樹
脂の改質剤、配線被覆用コーティング剤等に用いること
ができる。また、該予備硬化物及びその成形体は、土木
・建築材料として用いることができる。具体的には、シ
ーリング剤、制震・防震材料、塗料、接着剤、コーティ
ング剤吹付剤、防水剤、構造用部材等である。また、自
動車・航空機用材料として用いることができる。具体的
には、密封剤、摺動部材、コーティング剤、構造用部
材、接着剤、型取り用材料等である。光学材料として
は、光ファイバー用コア材及びクラッド材、プラスチッ
クレンズの耐磨耗性コーティング剤である。医療材料と
しては、人工骨等に用いることができる。本発明の予備
硬化物及びその成形体の利用分野、用途は上述した分野
に限られるものではない。
【0087】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではな
い。シルセスキオキサンラダーポリマーとしては、昭和
電工(株)のグラスレジン(商品名)で、ケイ素上の置
換基の比がメチル基/フェニル基=2/1のGR−10
0(Mw/Mn=7210/1260)及びメチル基/
フェニル基=0/1のGR−950(Mw/Mn=10
80/690)を用いた。触媒であるジイソプロポキシ
ビス(アセチルアセトン)チタンは、日本遭達(株)製
のT−50(イソプロピルアルコール溶液(75%))
を使用した。 (実施例1)100mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R100を32.5gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を33mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 (i−P
r;イソプロピル、acac;アセチルアセトナト)を
974mg、水を1.24g加えた。別の30mLのサ
ンプル管に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベ
ンゼン5.25g(21.3mmol)、1,3,5,
7−テトラメチルシクロテトラシロキサン2.56g
(10.7mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であ
るジメチルマレートの1wt%THF溶液を61mg
(白金触媒に対して10当量)加え、軽く振って混合し
た。このカルボシラン溶液とシルセスキオキサンポリマ
ー溶液とを混合し(シルセスキオキサンポリマー成分/
カルボシラン成分=8/2(重量比))、Pt−ビニル
シロキサン錯体(H2 PtCl6・6H2 O/[Me2
(CH2 =CH)Si]2 O/NaHCO3 /トルエン
より合成、9.71×10-6mmol/mg)を64m
g加えた(Si−ビニル基に対して1×10-5)。
するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではな
い。シルセスキオキサンラダーポリマーとしては、昭和
電工(株)のグラスレジン(商品名)で、ケイ素上の置
換基の比がメチル基/フェニル基=2/1のGR−10
0(Mw/Mn=7210/1260)及びメチル基/
フェニル基=0/1のGR−950(Mw/Mn=10
80/690)を用いた。触媒であるジイソプロポキシ
ビス(アセチルアセトン)チタンは、日本遭達(株)製
のT−50(イソプロピルアルコール溶液(75%))
を使用した。 (実施例1)100mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R100を32.5gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を33mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 (i−P
r;イソプロピル、acac;アセチルアセトナト)を
974mg、水を1.24g加えた。別の30mLのサ
ンプル管に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベ
ンゼン5.25g(21.3mmol)、1,3,5,
7−テトラメチルシクロテトラシロキサン2.56g
(10.7mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であ
るジメチルマレートの1wt%THF溶液を61mg
(白金触媒に対して10当量)加え、軽く振って混合し
た。このカルボシラン溶液とシルセスキオキサンポリマ
ー溶液とを混合し(シルセスキオキサンポリマー成分/
カルボシラン成分=8/2(重量比))、Pt−ビニル
シロキサン錯体(H2 PtCl6・6H2 O/[Me2
(CH2 =CH)Si]2 O/NaHCO3 /トルエン
より合成、9.71×10-6mmol/mg)を64m
g加えた(Si−ビニル基に対して1×10-5)。
【0088】あらかじめ、厚さ25μmのポリイミドフ
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が13×17c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で12時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゴム状固体をドライアイスを用いて冷却後、
乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で3.5
時間かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色粉末状
であり、そのゲル分率は54%であった。得られた予備
硬化物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価し
た。測定は、径1mm−高さ10mmのダイを用い、1
50℃で60秒間予備加熱した後、150℃、100k
gf/cm2 の条件で評価した。その結果を図1に示し
た。図1中、横軸は予備加熱(60sec)を含む経過
時間を示し、縦軸に予備硬化物(樹脂)の流動性(cm
3 /s)を示す。
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が13×17c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で12時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゴム状固体をドライアイスを用いて冷却後、
乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で3.5
時間かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色粉末状
であり、そのゲル分率は54%であった。得られた予備
硬化物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価し
た。測定は、径1mm−高さ10mmのダイを用い、1
50℃で60秒間予備加熱した後、150℃、100k
gf/cm2 の条件で評価した。その結果を図1に示し
た。図1中、横軸は予備加熱(60sec)を含む経過
時間を示し、縦軸に予備硬化物(樹脂)の流動性(cm
3 /s)を示す。
【0089】また、ゲル分率は以下により求めた(以下
同様)。ゲル分率は以下の手順で測定を行った。金網に
樹脂約100mgを入れ、テトラヒドロフラン50mL
中にそれを12時間浸せきした。網を取り出して90℃
で2時間乾燥した。ゲル分率は以下の式により算出し
た。 ゲル分率(%)=(抽出後の全体の重量−網の重量)/
(抽出前の全体の重量−網の重量)×100 (実施例2)200mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R100を74.8gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を75mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を2.37
g、水を2.84g加えた。別の50mLのサンプル管
に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン1
2.07g(50.0mmol)、1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン5.89g(24.
5mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチ
ルマレートの1wt%THF溶液を141mg(白金触
媒に対して10当量)加え、軽く振って混合した。この
カルボシラン溶液とシルセスキオキサンポリマー溶液と
を混合し(シルセスキオキサンポリマー成分/カルボシ
ラン成分=8/2(重量比))、Pt−ビニルシロキサ
ン錯体(H2 PtCl6 ・6H2 O/[Me2 (CH2
=CH)Si]2 O/NaHCO3 /トルエンより合
成、9.71×10-6mmol/mg)を110mg加
えた(Si−ビニル基に対して1×10-5)。
同様)。ゲル分率は以下の手順で測定を行った。金網に
樹脂約100mgを入れ、テトラヒドロフラン50mL
中にそれを12時間浸せきした。網を取り出して90℃
で2時間乾燥した。ゲル分率は以下の式により算出し
た。 ゲル分率(%)=(抽出後の全体の重量−網の重量)/
(抽出前の全体の重量−網の重量)×100 (実施例2)200mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R100を74.8gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を75mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を2.37
g、水を2.84g加えた。別の50mLのサンプル管
に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン1
2.07g(50.0mmol)、1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン5.89g(24.
5mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチ
ルマレートの1wt%THF溶液を141mg(白金触
媒に対して10当量)加え、軽く振って混合した。この
カルボシラン溶液とシルセスキオキサンポリマー溶液と
を混合し(シルセスキオキサンポリマー成分/カルボシ
ラン成分=8/2(重量比))、Pt−ビニルシロキサ
ン錯体(H2 PtCl6 ・6H2 O/[Me2 (CH2
=CH)Si]2 O/NaHCO3 /トルエンより合
成、9.71×10-6mmol/mg)を110mg加
えた(Si−ビニル基に対して1×10-5)。
【0090】あらかじめ、厚さ25μmのポリイミドフ
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が19×27c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で12時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゴム状固体をドライアイスを用いて冷却後、
乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で6時間
かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色粉末状であ
り、そのゲル分率は57%であった。得られた予備硬化
物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価した。
条件は実施例1に記載したものと同一である。その結果
を図1と同様に図2に示した。 (実施例3)実施例1で得られた予備硬化物約5gをあ
らかじめ150℃に加熱した金型(1×10cm)に入
れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した後、
150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で一次
加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、150℃
/100kgf/cm2 /60minの条件で二次加圧
を行った。成形体を金型から取り出した後、150℃/
4h/常圧→180℃/5h/真空中の条件で後加熱を
行った。黄色透明棒状成形体(3.5×9.8×97.
2mm)を得た。JIS−K7203に準じて測定した
機械特性は、曲げ弾性率1.92GPa、最大強度4
1.9MPa、最大伸び2.7%であった。また5%重
量減少温度は545℃、500℃における重量減少率は
3.4%であった。 (実施例4)実施例1で得られた予備硬化物約5gをあ
らかじめ150℃に加熱した金型(1×10cm)に入
れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した後、
150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で一次
加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、150℃
/100kgf/cm2 /60minの条件で二次加圧
を行った。成形体を金型から取り出した後、150℃/
4h/常圧→180℃/5h/真空中の条件で後加熱を
行った。黄色透明棒状成形体(3.1×9.7×97.
2mm)を得た。JIS−K7110に準じて成形体の
耐衝撃性を評価した。Izod衝撃値2.7kJ/m2
であった。5%重量減少温度は560℃、500℃にお
ける重量減少率は2.9%であった。また、比重は1.
2299g/cm3 であった。 (実施例5)実施例2で得られた予備硬化物約6gをあ
らかじめ150℃に加熱した金型(1×12cm)に入
れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した後、
150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で一次
加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、150℃
/100kgf/cm2 /15minの条件で二次加圧
を行った。成形体を金型から取り出した後、150℃/
16h/常圧で後加熱を行った後、図3に示した温度履
歴で後加熱を行った。図3中、横軸は経過時間、縦軸は
温度を示した。また、初期30分は窒素を50L/分、
その後の9時間は窒素を10L/分、昇温可能乾燥機中
に静置した成形体に循環供給させることにより行った。
黄色透明棒状成形体(4.2×9.7×116.9m
m)を得た。JIS−K7207に準じて荷重たわみ温
度(HDT)を測定した(荷重:18.5kgf/cm
2 )。HDT>280℃以上であった。 (実施例6)実施例2で得られた予備硬化物約2.5g
をあらかじめ150℃に加熱した金型(0.65×10
cm)に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加
熱した後、150℃/50kgf/cm2 /1minの
条件で一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行
い、150℃/100kgf/cm2 /15minの条
件で二次加圧を行った。成形体を金型から取り出した
後、150℃/16h/常圧で後加熱を行った後、図3
に示した温度履歴で後加熱を行った。黄色透明棒状成形
体(2.8×6.5×97.8mm)を得た。JIS−
K7201に準じて測定した酸素指数は51.5〜5
3.5の値を示した。 (実施例7)200mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R100を50.0gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を50mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を1.50
g、水を1.89g加えた。別の50mLのサンプル管
に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン3
1.23g(127mmol)、1,3,5,7−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン15.27g(63.
5mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチ
ルマレートを183mg(白金触媒に対して500当
量)加え、軽く振って混合した。このカルボシラン溶液
とシルセスキオキサンポリマー溶液とを混合し(シルセ
スキオキサンポリマー成分/カルボシラン成分=5/5
(重量比))、Pt−ビニルシロキサン錯体(H2 Pt
Cl 6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =CH)Si]2
O/NaHCO3 /トルエンより合成、9.71×10
-6mmol/mg)を260mg加えた(Si−ビニル
基に対して1×10-5)。
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が19×27c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で12時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゴム状固体をドライアイスを用いて冷却後、
乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で6時間
かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色粉末状であ
り、そのゲル分率は57%であった。得られた予備硬化
物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価した。
条件は実施例1に記載したものと同一である。その結果
を図1と同様に図2に示した。 (実施例3)実施例1で得られた予備硬化物約5gをあ
らかじめ150℃に加熱した金型(1×10cm)に入
れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した後、
150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で一次
加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、150℃
/100kgf/cm2 /60minの条件で二次加圧
を行った。成形体を金型から取り出した後、150℃/
4h/常圧→180℃/5h/真空中の条件で後加熱を
行った。黄色透明棒状成形体(3.5×9.8×97.
2mm)を得た。JIS−K7203に準じて測定した
機械特性は、曲げ弾性率1.92GPa、最大強度4
1.9MPa、最大伸び2.7%であった。また5%重
量減少温度は545℃、500℃における重量減少率は
3.4%であった。 (実施例4)実施例1で得られた予備硬化物約5gをあ
らかじめ150℃に加熱した金型(1×10cm)に入
れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した後、
150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で一次
加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、150℃
/100kgf/cm2 /60minの条件で二次加圧
を行った。成形体を金型から取り出した後、150℃/
4h/常圧→180℃/5h/真空中の条件で後加熱を
行った。黄色透明棒状成形体(3.1×9.7×97.
2mm)を得た。JIS−K7110に準じて成形体の
耐衝撃性を評価した。Izod衝撃値2.7kJ/m2
であった。5%重量減少温度は560℃、500℃にお
ける重量減少率は2.9%であった。また、比重は1.
2299g/cm3 であった。 (実施例5)実施例2で得られた予備硬化物約6gをあ
らかじめ150℃に加熱した金型(1×12cm)に入
れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した後、
150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で一次
加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、150℃
/100kgf/cm2 /15minの条件で二次加圧
を行った。成形体を金型から取り出した後、150℃/
16h/常圧で後加熱を行った後、図3に示した温度履
歴で後加熱を行った。図3中、横軸は経過時間、縦軸は
温度を示した。また、初期30分は窒素を50L/分、
その後の9時間は窒素を10L/分、昇温可能乾燥機中
に静置した成形体に循環供給させることにより行った。
黄色透明棒状成形体(4.2×9.7×116.9m
m)を得た。JIS−K7207に準じて荷重たわみ温
度(HDT)を測定した(荷重:18.5kgf/cm
2 )。HDT>280℃以上であった。 (実施例6)実施例2で得られた予備硬化物約2.5g
をあらかじめ150℃に加熱した金型(0.65×10
cm)に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加
熱した後、150℃/50kgf/cm2 /1minの
条件で一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行
い、150℃/100kgf/cm2 /15minの条
件で二次加圧を行った。成形体を金型から取り出した
後、150℃/16h/常圧で後加熱を行った後、図3
に示した温度履歴で後加熱を行った。黄色透明棒状成形
体(2.8×6.5×97.8mm)を得た。JIS−
K7201に準じて測定した酸素指数は51.5〜5
3.5の値を示した。 (実施例7)200mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R100を50.0gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を50mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を1.50
g、水を1.89g加えた。別の50mLのサンプル管
に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン3
1.23g(127mmol)、1,3,5,7−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン15.27g(63.
5mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチ
ルマレートを183mg(白金触媒に対して500当
量)加え、軽く振って混合した。このカルボシラン溶液
とシルセスキオキサンポリマー溶液とを混合し(シルセ
スキオキサンポリマー成分/カルボシラン成分=5/5
(重量比))、Pt−ビニルシロキサン錯体(H2 Pt
Cl 6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =CH)Si]2
O/NaHCO3 /トルエンより合成、9.71×10
-6mmol/mg)を260mg加えた(Si−ビニル
基に対して1×10-5)。
【0091】あらかじめ、厚さ25μmのポリイミドフ
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が16×23c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で13時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゼリー状固体をドライアイスを用いて冷却
後、乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で
7.5時間かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色
固体であり、そのゲル分率は61%であった。得られた
予備硬化物の流動性を高化式フローテスターを用いて評
価した。条件は実施例1に記載したものと同一である。
その結果を図1と同様に図4に示した。 (実施例8)実施例7で得られた予備硬化物約2.5g
をあらかじめ150℃に加熱した金型(0.65×10
cm)に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加
熱した後、150℃/50kgf/cm2 /1minの
条件で一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行っ
た。150℃で2分間かけて徐々に100kgf/cm
2 まで加圧し、その後圧力を保持したまま30分間二次
加圧を行った。成形体を金型から取り出した後、150
℃/16h/常圧で後加熱を行った後、図3に示した温
度履歴で後加熱を行った。黄色透明棒状成形体(3.2
×6.5×97.5mm)を得た。JIS−K7201
に準じて測定した酸素指数は36.1〜36.4の値を
示した。 (実施例9)GR100を150gを100℃に加熱し
たニーダー(入江商会製卓上型ニーダー、PBV−0.
3型)に入れて14分間混練して溶融させた。1,4−
ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン24.14g
(100mmol)、1,3,5,7−テトラメチルシ
クロテトラシロキサン11.78g(49.0mmo
l)を混合しカルボシラン溶液とした。前記カルボシラ
ン溶液を混練開始14分後から添加した(シルセスキオ
キサンポリマー成分/カルボシラン成分=8/2(重量
比))。縮合触媒であるTi(O−i−Pr)2 (ac
ac)2 を4.74g、水を5.68g、Pt−ビニル
シロキサン錯体(H2 PtCl6 ・6H2 O/[Me2
(CH2 =CH)Si]2 O/NaHCO3 /トルエン
より合成、9.71×10-6mmol/mg)を220
mg(Si−ビニル基に対して1×10-5)、硬化抑制
剤であるジメチルマレートの1wt%THF溶液を28
2mgを混合し触媒溶液とした。前記触媒溶液を混練開
始後18分後から、カルボシラン溶液とともに添加し
た。カルボシラン溶液は40分後に添加終了し、触媒溶
液は45分後に添加終了した。その5分後に得られた予
備硬化物を取り出した。
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が16×23c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で13時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゼリー状固体をドライアイスを用いて冷却
後、乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で
7.5時間かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色
固体であり、そのゲル分率は61%であった。得られた
予備硬化物の流動性を高化式フローテスターを用いて評
価した。条件は実施例1に記載したものと同一である。
その結果を図1と同様に図4に示した。 (実施例8)実施例7で得られた予備硬化物約2.5g
をあらかじめ150℃に加熱した金型(0.65×10
cm)に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加
熱した後、150℃/50kgf/cm2 /1minの
条件で一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行っ
た。150℃で2分間かけて徐々に100kgf/cm
2 まで加圧し、その後圧力を保持したまま30分間二次
加圧を行った。成形体を金型から取り出した後、150
℃/16h/常圧で後加熱を行った後、図3に示した温
度履歴で後加熱を行った。黄色透明棒状成形体(3.2
×6.5×97.5mm)を得た。JIS−K7201
に準じて測定した酸素指数は36.1〜36.4の値を
示した。 (実施例9)GR100を150gを100℃に加熱し
たニーダー(入江商会製卓上型ニーダー、PBV−0.
3型)に入れて14分間混練して溶融させた。1,4−
ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン24.14g
(100mmol)、1,3,5,7−テトラメチルシ
クロテトラシロキサン11.78g(49.0mmo
l)を混合しカルボシラン溶液とした。前記カルボシラ
ン溶液を混練開始14分後から添加した(シルセスキオ
キサンポリマー成分/カルボシラン成分=8/2(重量
比))。縮合触媒であるTi(O−i−Pr)2 (ac
ac)2 を4.74g、水を5.68g、Pt−ビニル
シロキサン錯体(H2 PtCl6 ・6H2 O/[Me2
(CH2 =CH)Si]2 O/NaHCO3 /トルエン
より合成、9.71×10-6mmol/mg)を220
mg(Si−ビニル基に対して1×10-5)、硬化抑制
剤であるジメチルマレートの1wt%THF溶液を28
2mgを混合し触媒溶液とした。前記触媒溶液を混練開
始後18分後から、カルボシラン溶液とともに添加し
た。カルボシラン溶液は40分後に添加終了し、触媒溶
液は45分後に添加終了した。その5分後に得られた予
備硬化物を取り出した。
【0092】得られた予備硬化物を乳鉢を用いて粉砕し
た。そのゲル分率は58%であった。得られた予備硬化
物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価した。
条件は実施例1に記載したものと同一である。測定開始
後0〜30分間における最大流動性は4×10-3cm3
/sであった。 (実施例10)実施例9で得られた予備硬化物約2.5
gをあらかじめ150℃に加熱した金型(0.65×1
0cm)に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備
加熱した後、150℃/50kgf/cm2 /1min
の条件で一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行
い、150℃/100kgf/cm2 /15minの条
件で二次加圧を行った。成形体を金型から取り出した
後、150℃/16h/常圧で後加熱を行った後、図3
に示した温度履歴で後加熱を行った。黄色半透明棒状成
形体(2.7×6.4×97.6mm)を得た。JIS
−K7201に準じて測定した酸素指数は52.0〜5
2.5の値を示した。また、5%重量減少温度は555
℃、500℃における重量減少率は1.5%であった。 (実施例11)50mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R950を16.3gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を16mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を487m
g、水を0.62g加えた。別の10mLのサンプル管
に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン
2.63g(10.7mmol)、1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン1.28g(5.4
mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチル
マレートの1wt%THF溶液を30mg(白金触媒に
対して10当量)加え、軽く振って混合した。このカル
ボシラン溶液とシルセスキオキサンポリマー溶液とを混
合し(シルセスキオキサンポリマー成分/カルボシラン
成分=8/2(重量比))、Pt−ビニルシロキサン錯
体(H 2 PtCl6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =C
H)Si]2 O/NaHCO3/トルエンより合成、
9.71×10-6mmol/mg)を32mg加えた
(Si−ビニル基に対して1×10-5)。
た。そのゲル分率は58%であった。得られた予備硬化
物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価した。
条件は実施例1に記載したものと同一である。測定開始
後0〜30分間における最大流動性は4×10-3cm3
/sであった。 (実施例10)実施例9で得られた予備硬化物約2.5
gをあらかじめ150℃に加熱した金型(0.65×1
0cm)に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備
加熱した後、150℃/50kgf/cm2 /1min
の条件で一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行
い、150℃/100kgf/cm2 /15minの条
件で二次加圧を行った。成形体を金型から取り出した
後、150℃/16h/常圧で後加熱を行った後、図3
に示した温度履歴で後加熱を行った。黄色半透明棒状成
形体(2.7×6.4×97.6mm)を得た。JIS
−K7201に準じて測定した酸素指数は52.0〜5
2.5の値を示した。また、5%重量減少温度は555
℃、500℃における重量減少率は1.5%であった。 (実施例11)50mLのガラス製のサンプル瓶に、G
R950を16.3gを秤量して入れた。そこに、溶媒
としてテトラヒドロフラン(THF)を16mL加えた
後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解さ
せた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒で
あるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を487m
g、水を0.62g加えた。別の10mLのサンプル管
に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン
2.63g(10.7mmol)、1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン1.28g(5.4
mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチル
マレートの1wt%THF溶液を30mg(白金触媒に
対して10当量)加え、軽く振って混合した。このカル
ボシラン溶液とシルセスキオキサンポリマー溶液とを混
合し(シルセスキオキサンポリマー成分/カルボシラン
成分=8/2(重量比))、Pt−ビニルシロキサン錯
体(H 2 PtCl6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =C
H)Si]2 O/NaHCO3/トルエンより合成、
9.71×10-6mmol/mg)を32mg加えた
(Si−ビニル基に対して1×10-5)。
【0093】あらかじめ、厚さ25μmのポリイミドフ
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が7×8cmの
金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の手順
で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をアルミ
ホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調整し
た熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その後、5
0℃で12時間加熱し予備硬化を行った。得られた黄色
透明ゴム状固体をドライアイスを用いて冷却後、乳鉢を
用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で3.5時間か
けて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色粉末状であ
り、そのゲル分率は58%であった。得られた予備硬化
物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価した。
条件は実施例1に記載したものと同一である。測定開始
後0〜30分間における最大流動性は8×10-3cm3
/sであった。 (実施例12)実施例11で得られた予備硬化物約5g
をあらかじめ150℃に加熱した金型(1×10cm)
に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した
後、150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で
一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、15
0℃/100kgf/cm2 /60minの条件で二次
加圧を行った。成形体を金型から取り出した後、150
℃/4h/常圧→180℃/5h/真空中の条件で後加
熱を行った。黄色透明棒状成形体(3.2×9.8×9
7.3mm)を得た。JIS−K7203に準じて測定
した機械特性は、曲げ弾性率2.30GPa、最大強度
30.9MPa、最大伸び1.8%であった。また5%
重量減少温度は535℃、500℃における重量減少率
は3.1%であった。 (実施例13)100mLのガラス製のサンプル瓶に、
GR100を20.0gを秤量して入れた。そこに、溶
媒としてテトラヒドロフラン(THF)を20mL加え
た後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解
させた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒
であるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を0.6
0g、水を0.71g加えた。別の100mLのサンプ
ル管に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼ
ン49.6g(201mmol)、1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン24.4g(101
mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチル
マレートを296mg(白金触媒に対して500当量)
加え、軽く振って混合した。このカルボシラン溶液とシ
ルセスキオキサンポリマー溶液とを混合し(シルセスキ
オキサンポリマー成分/カルボシラン成分=2/8(重
量比))、Pt−ビニルシロキサン錯体(H2 PtCl
6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =CH)Si]2 O/
NaHCO3 /トルエンより合成、9.71×10-6m
mol/mg)を408mg加えた(Si−ビニル基に
対して1×10-5)。
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が7×8cmの
金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の手順
で調整した溶液を静かに流し込んだ。この容器をアルミ
ホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調整し
た熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その後、5
0℃で12時間加熱し予備硬化を行った。得られた黄色
透明ゴム状固体をドライアイスを用いて冷却後、乳鉢を
用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で3.5時間か
けて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色粉末状であ
り、そのゲル分率は58%であった。得られた予備硬化
物の流動性を高化式フローテスターを用いて評価した。
条件は実施例1に記載したものと同一である。測定開始
後0〜30分間における最大流動性は8×10-3cm3
/sであった。 (実施例12)実施例11で得られた予備硬化物約5g
をあらかじめ150℃に加熱した金型(1×10cm)
に入れ、150℃の熱風乾燥機中で1分間予備加熱した
後、150℃/50kgf/cm2 /1minの条件で
一次加圧を行った。その後、ガス抜きを1回行い、15
0℃/100kgf/cm2 /60minの条件で二次
加圧を行った。成形体を金型から取り出した後、150
℃/4h/常圧→180℃/5h/真空中の条件で後加
熱を行った。黄色透明棒状成形体(3.2×9.8×9
7.3mm)を得た。JIS−K7203に準じて測定
した機械特性は、曲げ弾性率2.30GPa、最大強度
30.9MPa、最大伸び1.8%であった。また5%
重量減少温度は535℃、500℃における重量減少率
は3.1%であった。 (実施例13)100mLのガラス製のサンプル瓶に、
GR100を20.0gを秤量して入れた。そこに、溶
媒としてテトラヒドロフラン(THF)を20mL加え
た後、超音波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解
させた。グラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒
であるTi(O−i−Pr)2 (acac)2 を0.6
0g、水を0.71g加えた。別の100mLのサンプ
ル管に、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼ
ン49.6g(201mmol)、1,3,5,7−テ
トラメチルシクロテトラシロキサン24.4g(101
mmol)を秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチル
マレートを296mg(白金触媒に対して500当量)
加え、軽く振って混合した。このカルボシラン溶液とシ
ルセスキオキサンポリマー溶液とを混合し(シルセスキ
オキサンポリマー成分/カルボシラン成分=2/8(重
量比))、Pt−ビニルシロキサン錯体(H2 PtCl
6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =CH)Si]2 O/
NaHCO3 /トルエンより合成、9.71×10-6m
mol/mg)を408mg加えた(Si−ビニル基に
対して1×10-5)。
【0094】あらかじめ、厚さ25μmのポリイミドフ
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が16×23c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調製した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で13時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゼリー状固体をドライアイスを用いて冷却
後、乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で
7.5時間かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色
固体であり、そのゲル分率は53%であった。得られた
予備硬化物の流動性を高化式フローテスターを用いて評
価した。条件は実施例1に記載したものと同一である。
測定開始後0〜30分間における最大流動性は2×10
-3cm3 /sであった。 (比較例)30mLのガラス製のサンプル瓶に、GR1
00を5.0gを秤量して入れた。そこに、溶媒として
テトラヒドロフラン(THF)を5mL加えた後、超音
波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解させた。グ
ラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒であるTi
(O−i−Pr)2 (acac)2 を151mg、水を
191mg加えた。別の10mLのサンプル管に、1,
4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン807mg
(3.3mmol)、1,3,5,7−テトラメチルシ
クロテトラシロキサン397mg(1.6mmol)を
秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチルマレートの1
wt%THF溶液を9mg(白金触媒に対して10当
量)加え、軽く振って混合した。このカルボシラン溶液
とシルセスキオキサンポリマー溶液とを混合し(シルセ
スキオキサンポリマー成分/カルボシラン成分=8/2
(重量比))、Pt−ビニルシロキサン錯体(H2 Pt
Cl6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =CH)Si]2
O/NaHCO3 /トルエンより合成、9.71×10
-7mmol/mg)を64mg加えた(Si−ビニル基
に対して1×10-5)。
ィルムを両面テープを用いて敷いた底面が16×23c
mの金属製の容器を用意しておいた。この中に、上記の
手順で調製した溶液を静かに流し込んだ。この容器をア
ルミホイルを用いて蓋をした後、あらかじめ50℃に調
整した熱風乾燥機中に水平となるよう静置した。その
後、50℃で13時間加熱し予備硬化を行った。得られ
た黄色透明ゼリー状固体をドライアイスを用いて冷却
後、乳鉢を用いて粉砕し、真空ポンプを用いて室温で
7.5時間かけて乾燥した。得られた予備硬化物は黄色
固体であり、そのゲル分率は53%であった。得られた
予備硬化物の流動性を高化式フローテスターを用いて評
価した。条件は実施例1に記載したものと同一である。
測定開始後0〜30分間における最大流動性は2×10
-3cm3 /sであった。 (比較例)30mLのガラス製のサンプル瓶に、GR1
00を5.0gを秤量して入れた。そこに、溶媒として
テトラヒドロフラン(THF)を5mL加えた後、超音
波洗浄器を用いてグラスレジンを完全に溶解させた。グ
ラスレジンが完全に溶解したのち、縮合触媒であるTi
(O−i−Pr)2 (acac)2 を151mg、水を
191mg加えた。別の10mLのサンプル管に、1,
4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン807mg
(3.3mmol)、1,3,5,7−テトラメチルシ
クロテトラシロキサン397mg(1.6mmol)を
秤量し、そこに硬化抑制剤であるジメチルマレートの1
wt%THF溶液を9mg(白金触媒に対して10当
量)加え、軽く振って混合した。このカルボシラン溶液
とシルセスキオキサンポリマー溶液とを混合し(シルセ
スキオキサンポリマー成分/カルボシラン成分=8/2
(重量比))、Pt−ビニルシロキサン錯体(H2 Pt
Cl6 ・6H2 O/[Me2 (CH2 =CH)Si]2
O/NaHCO3 /トルエンより合成、9.71×10
-7mmol/mg)を64mg加えた(Si−ビニル基
に対して1×10-5)。
【0095】予め、厚さ25μmのポリイミドフィルムを
両面テープを用いて敷いたφ6.7 cmの軟膏缶を用意し
ておいた。この中に、上記の手順で調製した溶液を静か
に流し込んだ。この軟膏缶を熱風乾燥器中に水平となる
ように置いた後ふたをして静置した。その後、50℃/
18h→80℃/9h→100℃/14h→150℃/
22hかけて加熱硬化させた。厚さ3mmの茶色透明な
固体が得られたが湾曲が大きく、また硬化物内部にボイ
ドが発生しており物性測定には不適当であった。
両面テープを用いて敷いたφ6.7 cmの軟膏缶を用意し
ておいた。この中に、上記の手順で調製した溶液を静か
に流し込んだ。この軟膏缶を熱風乾燥器中に水平となる
ように置いた後ふたをして静置した。その後、50℃/
18h→80℃/9h→100℃/14h→150℃/
22hかけて加熱硬化させた。厚さ3mmの茶色透明な
固体が得られたが湾曲が大きく、また硬化物内部にボイ
ドが発生しており物性測定には不適当であった。
【0096】
【発明の効果】本発明によりシルセスキオキサン成分と
カルボシラン成分とから構成される、高耐熱性、高弾性
率を持つ新規なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有
すると考えられる、従来では困難な任意形状の成形体を
容易に製造することができる。
カルボシラン成分とから構成される、高耐熱性、高弾性
率を持つ新規なケイ素系相互侵入型構造(IPN)を有
すると考えられる、従来では困難な任意形状の成形体を
容易に製造することができる。
【図1】本発明における予備硬化物の流動性と圧縮成形
可能性の関係を示すグラフである。
可能性の関係を示すグラフである。
【図2】実施例1で得られた予備硬化物の高化式フロー
テスターによる流動性測定の結果を示すグラフである。
テスターによる流動性測定の結果を示すグラフである。
【図3】実施例2で得られた予備硬化物の高化式フロー
テスターによる流動性測定の結果を示すグラフである。
テスターによる流動性測定の結果を示すグラフである。
【図4】実施例5における後加熱処理の温度履歴を示す
グラフである。
グラフである。
【図5】実施例7で得られた予備硬化物の高化式フロー
テスターによる流動性測定の結果を示すグラフである。
テスターによる流動性測定の結果を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C08G 77/44 NUK C08G 77/44 NUK
Claims (9)
- 【請求項1】(A)式(1)(R1 及びR2 は水素原子
または置換もしくは非置換の1価の有機基を表し、互い
に同一でも異なってもよい、R3 は水素原子または置換
もしくは非置換の1価の有機基を表し、l、m、nは2
≦l+m+nを満足する0または正の整数を表す。)で
表される数平均分子量500以上のシルセスキオキサン
ラダーポリマー 一般式(1) 【化1】 (B)分子中に少なくとも2個のSiH基を有する、分
子量1000以下のケイ素化合物、(C)分子中に少な
くとも2個のビニルシリル基を有する、分子量1000
以下のケイ素化合物、(D)中性白金触媒を必須成分と
し、(A)〜(D)成分を、50〜300℃に加熱して
得た予備硬化物で、穴の直径1mm、長さ10mmのダ
イを用いた高化式フローテスターによる流動性測定で、
150℃、30秒〜60秒間の予備加熱を行った後、1
00kgf/cm2 、150℃の条件において、測定開
始後30分間におけるある時点の流動性が10-1〜10
-6cm3 /sである、溶融圧縮成形可能な予備硬化物。 - 【請求項2】 請求項1記載の流動性測定において、測
定開始後0〜30分間の時間範囲における最大流動性が
10-1〜10-6cm3 /sである請求項1記載の予備硬
化物。 - 【請求項3】 (E)成分としてシラノール縮合触媒を
必須成分として含むことを特徴とする請求項1または2
記載の予備硬化物。 - 【請求項4】 (E)成分のシラノール縮合触媒が中性
の有機金属化合物である請求項3記載の予備硬化物。 - 【請求項5】 (E)成分のシラノール縮合触媒がチタ
ン系化合物である請求項3記載の予備硬化物。 - 【請求項6】 (F)成分として、加水分解・縮合反応
可能な多官能性ケイ素化合物、シラノール化合物、水、
およびシリカ系架橋剤からなる群より選ばれる少なくと
も1種以上の成分を必須成分として含むことを特徴とす
る請求項1または2記載の予備硬化物。 - 【請求項7】 請求項3記載の(E)成分と請求項6記
載の(F)成分とを必須成分として含むことを特徴とす
る請求項1、2、4または5記載の予備硬化物。 - 【請求項8】 請求項1〜7の何れか1項に記載の予備
硬化物を、50〜500℃、1〜500kgf/cm2
の条件で圧縮成形することを特徴とする成形体の作製方
法。 - 【請求項9】 請求項1〜7の何れか1項に記載の予備
硬化物を請求項8に記載した方法で成形した成形体を5
0〜500℃で後加熱処理することを特徴とする成形体
の硬化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03065397A JP3499393B2 (ja) | 1996-02-16 | 1997-02-14 | ケイ素系化合物を主成分とする予備硬化物及びそれを用いた成形体の作製方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-52645 | 1996-02-16 | ||
JP5264596 | 1996-02-16 | ||
JP03065397A JP3499393B2 (ja) | 1996-02-16 | 1997-02-14 | ケイ素系化合物を主成分とする予備硬化物及びそれを用いた成形体の作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09279032A true JPH09279032A (ja) | 1997-10-28 |
JP3499393B2 JP3499393B2 (ja) | 2004-02-23 |
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ID=26369045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP03065397A Expired - Fee Related JP3499393B2 (ja) | 1996-02-16 | 1997-02-14 | ケイ素系化合物を主成分とする予備硬化物及びそれを用いた成形体の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3499393B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026717A (ja) * | 1999-07-01 | 2001-01-30 | Dow Corning Corp | 高い強度及び耐破壊性を有するシルセスキオキサン樹脂並びにそれらの調製方法 |
EP1213053A2 (de) * | 2000-12-07 | 2002-06-12 | Creavis Gesellschaft für Technologie und Innovation mbH | Katalysatorsystem auf Basis von Silasesquioxan-Metallkomplexe aufweisenden Polymerverbindungen |
JP2002194122A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | シルセスキオキサンポリマーおよびポリカルボシラン複合系プリプレグ及びそれを用いた積層板 |
JP2002284998A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Fujitsu Ltd | シリコン系組成物、低誘電率膜、半導体装置および低誘電率膜の製造方法 |
JP2002327077A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ポリカルボシランプリプレグ及びそれを用いた積層板 |
JP2005529986A (ja) * | 2002-03-05 | 2005-10-06 | マサチューセッツ・インスティチュート・オブ・テクノロジー | 高破壊靱性のヒドロシリル化反応硬化性シリコーン樹脂 |
JP2007517076A (ja) * | 2003-07-04 | 2007-06-28 | ナノン アクティーゼルスカブ | 相互侵入高分子網目の製法、相互侵入高分子網目及びその使用 |
JP2011506742A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | ブルースター・シリコーン・フランス・エスアエス | エラストマーに室温加硫できるオルガノポリシロキサン組成物及び新規オルガノポリシロキサン重縮合触媒 |
WO2020196704A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | リンテック株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、及び、硬化性組成物の使用方法 |
-
1997
- 1997-02-14 JP JP03065397A patent/JP3499393B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026717A (ja) * | 1999-07-01 | 2001-01-30 | Dow Corning Corp | 高い強度及び耐破壊性を有するシルセスキオキサン樹脂並びにそれらの調製方法 |
JP2012144748A (ja) * | 1999-07-01 | 2012-08-02 | Dow Corning Corp | 高い強度及び耐破壊性を有するシルセスキオキサン樹脂並びにそれらの調製方法 |
EP1213053A2 (de) * | 2000-12-07 | 2002-06-12 | Creavis Gesellschaft für Technologie und Innovation mbH | Katalysatorsystem auf Basis von Silasesquioxan-Metallkomplexe aufweisenden Polymerverbindungen |
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JP2002194122A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | シルセスキオキサンポリマーおよびポリカルボシラン複合系プリプレグ及びそれを用いた積層板 |
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JP2002327077A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ポリカルボシランプリプレグ及びそれを用いた積層板 |
JP2005529986A (ja) * | 2002-03-05 | 2005-10-06 | マサチューセッツ・インスティチュート・オブ・テクノロジー | 高破壊靱性のヒドロシリル化反応硬化性シリコーン樹脂 |
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WO2020196704A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | リンテック株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、及び、硬化性組成物の使用方法 |
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