JPH09272714A - 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法 - Google Patents
末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法Info
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- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 title claims abstract description 98
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 38
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 142
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 67
- -1 halogenated sulfonyl compound Chemical class 0.000 claims abstract description 61
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims abstract description 61
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 43
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 42
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 33
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 15
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 75
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 54
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 48
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 35
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 24
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 5
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 claims description 5
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 claims description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052977 alkali metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 49
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 abstract 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 19
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 17
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 15
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 13
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 13
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 13
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 12
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 7
- RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(bromomethyl)benzene Chemical group BrCC1=CC=C(CBr)C=C1 RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 4
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GCYHRYNSUGLLMA-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethanol Chemical compound OCCOCC=C GCYHRYNSUGLLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCC=C ZCYIYBNDJKVCBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLGRTLMDMVAFNI-UHFFFAOYSA-N tributyl(prop-2-enyl)stannane Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(CCCC)CC=C YLGRTLMDMVAFNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzenedithiol Chemical compound SC1=CC=CC=C1S JRNVQLOKVMWBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZGMODDEIHYPRY-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropanoyl chloride Chemical compound CC(Br)C(Cl)=O OZGMODDEIHYPRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC(O)=O WXUAQHNMJWJLTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N allyl iodide Chemical compound ICC=C HFEHLDPGIKPNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000002928 artificial marble Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,4-triol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(O)=C1 GGNQRNBDZQJCCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2,2'-diol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1O IMHDGJOMLMDPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diol Chemical compound OC1CCCCC1O PFURGBBHAOXLIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCO GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- VJHGSLHHMIELQD-UHFFFAOYSA-N nona-1,8-diene Chemical compound C=CCCCCCC=C VJHGSLHHMIELQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HQHCYKULIHKCEB-UHFFFAOYSA-N tetradecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCCCC(O)=O HQHCYKULIHKCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorobenzoyl) 2,4-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical class ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDOGXHLESIJJK-UHFFFAOYSA-N (3-chlorobenzoyl) 3-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical class ClC1=CC=CC(C(=O)OOC(=O)C=2C=C(Cl)C=CC=2)=C1 XBDOGXHLESIJJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N (4-chlorobenzoyl) 4-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical class C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPCJOXGBLDJWRM-UHFFFAOYSA-N 1,2-diamino-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(N)CN OPCJOXGBLDJWRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-ethanedithiol Chemical compound SCCS VYMPLPIFKRHAAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRZXCOWFGPICGA-UHFFFAOYSA-N 1,6-Hexanedithiol Chemical compound SCCCCCCS SRZXCOWFGPICGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGTWZHXOSWQKCY-UHFFFAOYSA-N 1,8-Octanedithiol Chemical compound SCCCCCCCCS PGTWZHXOSWQKCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJRCLMJHPWCJEI-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanedithiol Chemical compound SCCCCCCCCCS GJRCLMJHPWCJEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVGXBYVKFQJQGN-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylperoxy-2-propan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1OOC(C)(C)C WVGXBYVKFQJQGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- DDHUNHGZUHZNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCC(C)(C)CN DDHUNHGZUHZNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWWSEEHCVDRRRI-UHFFFAOYSA-N 2,3-Butanedithiol Chemical compound CC(S)C(C)S TWWSEEHCVDRRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNDCQWGRLNGNNO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethoxy)ethanethiol Chemical compound SCCOCCS CNDCQWGRLNGNNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical group CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHMRPWPDDRGGGF-UHFFFAOYSA-N 2-bromoprop-1-ene Chemical compound CC(Br)=C PHMRPWPDDRGGGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNLQPWWBHXMFCA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-1-ene Chemical compound CC(Cl)=C PNLQPWWBHXMFCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- KWAHADSKPFGJQF-UHFFFAOYSA-N 2-iodoprop-1-ene Chemical compound CC(I)=C KWAHADSKPFGJQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IVKYUXHYUAMPMT-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enyl acetate Chemical compound CC(=C)COC(C)=O IVKYUXHYUAMPMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRGGWXIJSZOAKB-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethyl 2-bromopropanoate Chemical compound CC(Br)C(=O)OCCOCC=C KRGGWXIJSZOAKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHXAOPZTJOUYKM-UHFFFAOYSA-N 3-Chloro-2-methylpropene Chemical compound CC(=C)CCl OHXAOPZTJOUYKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBFHCPVZZSVFJL-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-hydroxyphenoxy)ethoxy]phenol Chemical compound OC1=CC=CC(OCCOC=2C=C(O)C=CC=2)=C1 DBFHCPVZZSVFJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USEGQJLHQSTGHW-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-2-methylprop-1-ene Chemical compound CC(=C)CBr USEGQJLHQSTGHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOTGLEGIDHZTIM-UHFFFAOYSA-N 3-bromobut-1-ene Chemical compound CC(Br)C=C XOTGLEGIDHZTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZGLVCFVUREVDP-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobut-1-ene Chemical compound CC(Cl)C=C VZGLVCFVUREVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOPRTYVWUFOIFE-UHFFFAOYSA-N 3-dimethoxysilylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OCCC([SiH](OC)OC)C FOPRTYVWUFOIFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVSJHYFLAANPJS-UHFFFAOYSA-N 3-iodo-2-methylprop-1-ene Chemical compound CC(=C)CI HVSJHYFLAANPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYQHSJSYYSBOJN-UHFFFAOYSA-N 3-iodobut-1-ene Chemical compound CC(I)C=C NYQHSJSYYSBOJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUQRJGODUZWXMF-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-2-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-3-prop-2-enylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=C(CC=C)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1CC=C PUQRJGODUZWXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMLJDYGYPFYICU-UHFFFAOYSA-N C(=CCCCC)OC(C(C)Br)=O Chemical compound C(=CCCCC)OC(C(C)Br)=O BMLJDYGYPFYICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical class CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100030361 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-3 gene Proteins 0.000 description 1
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000005700 Putrescine Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical group NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical group OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N [4-(sulfanylmethyl)phenyl]methanethiol Chemical compound SCC1=CC=C(CS)C=C1 IYPNRTQAOXLCQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOZXPZNPRQUDBS-UHFFFAOYSA-N [Li].C=C[Cu]C=C Chemical compound [Li].C=C[Cu]C=C DOZXPZNPRQUDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N allyl isocyanate Chemical compound C=CCN=C=O HXBPYFMVGFDZFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dithiol Chemical compound SC1=CC=C(S)C=C1 WYLQRHZSKIDFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N bromoethene Chemical compound BrC=C INLLPKCGLOXCIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- LYWCPTCPTWCZSZ-UHFFFAOYSA-N but-3-en-2-yl acetate Chemical compound C=CC(C)OC(C)=O LYWCPTCPTWCZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNOOHTVUSNIPCJ-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)C=C RNOOHTVUSNIPCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMTOKHQOVJRXLK-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-dithiol Chemical compound SCCCCS SMTOKHQOVJRXLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N cis-4-Hydroxy-L-proline Chemical compound O[C@@H]1CN[C@H](C(O)=O)C1 PMMYEEVYMWASQN-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M copper(1+);acetate Chemical compound [Cu+].CC([O-])=O RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N copper(i) cyanide Chemical compound [Cu+].N#[C-] DOBRDRYODQBAMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N copper;4-hydroxypent-3-en-2-one Chemical compound [Cu].CC(O)=CC(C)=O.CC(O)=CC(C)=O ZKXWKVVCCTZOLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 125000006841 cyclic skeleton Chemical group 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diamine Chemical compound NC1CCCC(N)C1 GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLMGYIOTPQVQJR-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diol Chemical compound OC1CCCC(O)C1 RLMGYIOTPQVQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- VKAAGRLEXPKJAI-UHFFFAOYSA-N cyclohexyltin Chemical compound [Sn]C1CCCCC1 VKAAGRLEXPKJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASJCSAKCMTWGAH-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC1C(O)=O ASJCSAKCMTWGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCVOSERVUCJNPR-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2-diol Chemical compound OC1CCCC1O VCVOSERVUCJNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,3-diol Chemical compound OC1CCC(O)C1 NUUPJBRGQCEZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N decyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C=C FWLDHHJLVGRRHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMPVESVJOFYWTB-UHFFFAOYSA-N dipropan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OC(C)C JMPVESVJOFYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N ethyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- GEAWFZNTIFJMHR-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-diene Chemical compound C=CCCCC=C GEAWFZNTIFJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diol Chemical compound OCCCCCCCO SXCBDZAEHILGLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVVRZLSZZKMJCB-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-dithiol Chemical compound SCCCCCCCS RVVRZLSZZKMJCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- GHXZPUGJZVBLGC-UHFFFAOYSA-N iodoethene Chemical compound IC=C GHXZPUGJZVBLGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- YDLNDBWQWOFTNJ-UHFFFAOYSA-L iron(2+);triphenylphosphane;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Fe+2].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YDLNDBWQWOFTNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- GLNWILHOFOBOFD-UHFFFAOYSA-N lithium sulfide Chemical compound [Li+].[Li+].[S-2] GLNWILHOFOBOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3-diol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC(O)=C21 XOOMNEFVDUTJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMHZSHHZIKJFIR-UHFFFAOYSA-N octyltin Chemical compound CCCCCCCC[Sn] ZMHZSHHZIKJFIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002734 organomagnesium group Chemical group 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLOBUAZSRIOKLN-UHFFFAOYSA-N pentane-1,4-diol Chemical compound CC(O)CCCO GLOBUAZSRIOKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTUBAIXCBHPIZ-UHFFFAOYSA-N pentane-1,5-dithiol Chemical compound SCCCCCS KMTUBAIXCBHPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTCCGKPBSJZVRZ-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)O GTCCGKPBSJZVRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005634 peroxydicarbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N potassium sulfide Chemical compound [S-2].[K+].[K+] DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIPLNCYPGHUSGF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-bromo-2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)(Br)C(=O)OCC=C WIPLNCYPGHUSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-dithiol Chemical compound SCCCS ZJLMKPKYJBQJNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 230000003797 telogen phase Effects 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical group CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- HEKQWIORQJRILW-UHFFFAOYSA-N tetrakis(prop-2-enyl) benzene-1,2,4,5-tetracarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC(C(=O)OCC=C)=C(C(=O)OCC=C)C=C1C(=O)OCC=C HEKQWIORQJRILW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVRKTAOFDKFAMI-UHFFFAOYSA-M tributylstannanylium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[Sn+](CCCC)CCCC FVRKTAOFDKFAMI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DXNCZXXFRKPEPY-UHFFFAOYSA-N tridecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCCC(O)=O DXNCZXXFRKPEPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYYAXTUFJCBGQP-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)CC=C IYYAXTUFJCBGQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/26—Removing halogen atoms or halogen-containing groups from the molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/42—Introducing metal atoms or metal-containing groups
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Abstract
どの架橋性官能基を高い官能化率で有する(メタ)アク
リル系重合体の製造法、ならびにそれらを用いた硬化性
組成物を提供すること。 【解決手段】有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スル
ホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる重合方法によって得られる、一般式1で示
す末端構造を有する(メタ)アクリル系重合体のハロゲ
ンをアルケニル基含有置換基、あるいは架橋性シリル基
を有する置換基に変換することにより、該重合体を得
る。 −CH2−C(R1)(CO2R2)(X) (1) (式中、R1は水素またはメチル基、R2は炭素数が1〜
20のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、
Xは塩素、臭素、またはヨウ素))
Description
体的には、アルケニル基あるいは架橋性シリル基を有す
る(メタ)アクリル系重合体の製造方法、ならびに、該
重合体を用いた硬化性組成物に関する。
の単独、あるいは適当な硬化剤と組み合わせることによ
って架橋し、耐熱性、耐久性等の優れた硬化物を与える
ことが知られている。中でも末端にアルケニル基、ある
いは架橋性シリル基を有する重合体はそれらの代表例で
ある。末端にアルケニル基を有する重合体はヒドロシリ
ル基含有化合物を硬化剤として用いることにより、ある
いは光反応を利用することにより架橋硬化する。また、
架橋性シリル基を末端に有する重合体は、適当な縮合触
媒の存在下、湿分を吸収することにより硬化物を与え
る。
シリル基を末端に有する重合体の主鎖骨格としては、ポ
リエチレンオキシドやポリプロピレンオキシド、ポリテ
トラメチレンオキシド等のポリエーテル系重合体、ポリ
ブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリ
イソブチレンあるいはそれらの水素添加物等の炭化水素
系重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリカプロラクトン等のポリエステル
系重合体等が例示され、主鎖骨格と架橋形式に基づき、
様々な用途に用いられている。
重合や縮重合で得られる重合体の一方で、ラジカル重合
で得られるビニル系の重合体で末端に官能基を有するも
のは、まだほとんど実用化されていない。ビニル系重合
体の中でも、(メタ)アクリル系重合体は、高い耐候
性、透明性等、上記のポリエーテル系重合体や炭化水素
系重合体、あるいはポリエステル系重合体では得られな
い特性を有しており、アルケニル基や架橋性シリル基を
側鎖に有するものは高耐候性の塗料等に利用されてい
る。
子鎖末端に有する(メタ)アクリル系重合体を簡便な方
法で得ることができれば、側鎖に架橋性基を有するもの
に比較して硬化物物性の優れた硬化物を得ることができ
る。従って、これまで多くの研究者によって、その製造
法が検討されてきたが、それらを工業的に製造すること
は容易ではない。
移動剤としてアルケニル基含有ジスルフィドを用いる、
両末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合
体の合成法が、また、特開平5−262808号公報に
は、ヒドロキシル基を有するジスルフィドを用いて、両
末端にヒドロキシル基を有する(メタ)アクリル系重合
体を合成し、さらにヒドロキシル基の反応性を利用して
両末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合
体の合成法が開示されているが、これらの方法で両末端
に確実にアルケニル基を導入することは容易ではない。
一方、特開昭59−168014号公報には連鎖移動剤
として、架橋性シリル基を有するジスルフィド化合物を
用いた両末端に架橋性シリル基を有する(メタ)アクリ
ル系重合体の製造法が、また、特開昭61−13320
1号公報には架橋性シリル基を有するヒドロシラン、ハ
ロゲン化シランを用いることによる、両末端に架橋性シ
リル基を有する(メタ)アクリル系重合体の製造法が開
示されているが、これらの方法においても、両末端に確
実に架橋性シリル基を導入することは困難であり、満足
な特性を有する硬化物を得ることはできない。末端に確
実に官能基を導入するためには、連鎖移動剤を大量に使
用しなければならず、製造工程上問題である。
ニル基あるいは架橋性シリル基を、従来の方法に比較し
て高い比率で有する(メタ)アクリル系重合体の製造法
ならびにそれらを用いた硬化性組成物を提供することを
課題とする。
アルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体は、有
機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を
開始剤、周期律表第8族、9族、10族、または11族
元素を中心金属とする金属錯体を触媒として用いる重合
方法によって得られる、一般式1で示す末端構造を有す
る(メタ)アクリル系重合体のハロゲンをアルケニル基
含有置換基に変換することにより得られる。 −CH2−C(R1)(CO2R2)(X) (1) (式中、R1は水素またはメチル基、R2は炭素数が1〜
20のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、
Xは塩素、臭素、またはヨウ素) このような製造法の具体例としては、有機ハロゲン化
物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤、周期
律表第8族、9族、10族、または11族元素を中心金
属とする金属錯体を触媒として用いる重合方法によって
一般式1で示す構造を有する(メタ)アクリル系重合体
を製造し、さらに、重合性のアルケニル基とそれ以外の
少なくとも1つのアルケニル基を併せ持つ化合物を反応
させる方法、あるいは、一般式1で示す末端構造を有す
る(メタ)アクリル系重合体に、アルケニル基を有する
有機金属化合物を反応させる方法、等が挙げられる。ま
た、アルケニル基を有するハロゲン化物、またはハロゲ
ン化スルホニル化合物を開始剤として用いて、片末端に
アルケニル基を有し、他の末端に式1の構造を有する
(メタ)アクリル系の重合体を製造し、その末端のハロ
ゲンをアルケニル基含有置換基に変換することによって
も、末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重
合体を得ることができる。
ニル基を有する(メタ)アクリル系重合体は、(A)末
端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体、
および(B)ヒドロシリル基含有化合物、を含有する硬
化性組成物に用いられる。末端に架橋性シリル基を有す
る(メタ)アクリル系重合体は、有機ハロゲン化物、ま
たはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤、周期律表第
8族、9族、10族、または11族元素を中心金属とす
る金属錯体を触媒として用いる重合方法によって得られ
る、一般式1で示す末端構造を有する(メタ)アクリル
系重合体のハロゲンを、架橋性シリル基含有置換基に変
換することにより製造することができる。このような製
造法の具体例としては、有機ハロゲン化物、またはハロ
ゲン化スルホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9
族、10族、または11族元素を中心金属とする金属錯
体を触媒として用いる重合方法によって一般式1で示す
末端構造を有する(メタ)アクリル系重合体を製造し、
さらに、重合性のアルケニル基と架橋性シリル基を併せ
持つ化合物を反応させる方法が挙げられる。また、架橋
性シリル基を有するハロゲン化物を開始剤として用い
て、片末端に架橋性シリル基を有し、他の末端に式1で
示される構造を有する(メタ)アクリル系重合体を製造
し、さらにその末端のハロゲンを架橋性シリル基含有置
換基に変換することによっても得ることができる。
タ)アクリル系重合体は、末端にアルケニル基を有する
(メタ)アクリル系重合体に、架橋性シリル基を有する
ヒドロシランを付加させることによっても製造すること
ができる。このようにして得られる末端に架橋性シリル
基を有する(メタ)アクリル系重合体は、硬化性組成物
として用いることができる。
能基を有する(メタ)アクリル系重合体は、分子量分布
が狭いという特徴も有する。
る(メタ)アクリル系重合体の製造法は、有機ハロゲン
化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤、周
期律表第8族、9族、10族、または11族元素を中心
金属とする金属錯体を触媒として用いる重合方法によっ
て得られる、一般式1で示す末端構造を有する(メタ)
アクリル系重合体のハロゲンをアルケニル基含有置換基
に変換することを特徴とする。 −CH2−C(R1)(CO2R2)(X) (1) (式中、R1は水素またはメチル基、R2は炭素数が1〜
20のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、
Xは塩素、臭素、またはヨウ素) 末端にハロゲンを有する(メタ)アクリル系重合体の製
造法としては例えば、ハロゲン化物を連鎖移動剤(テロ
ーゲン)として用いる重合において、四塩化炭素や四臭
化炭素、塩化メチレン、臭化メチレン等を用いる方法が
利用されてきた。しかしこの方法では両末端に確実にハ
ロゲンを導入することは困難である。
いるリビングラジカル重合を用いると、末端にハロゲン
が高い比率で導入される(例えば、Matyjasze
wskiら、J.Am.Chem.Soc.1995,
117,5614,Macromolecules 1
995,28,7901,Science 1996,
272,866、あるいはSawamotoら、Mac
romolecules 1995,28,1721を
参照)。これらの方法はラジカル重合でありながら重合
がリビング的に進行し、分子量分布の狭い(Mw/Mn
=1.1〜1.5)重合体が得られ、分子量はモノマー
と開始剤の仕込み比によって自由にコントロールするこ
とができる。
ゲン化物、特に、反応性の高い炭素−ハロゲン結合を有
する有機ハロゲン化物(例えば、α位にハロゲンを有す
るエステル化合物や、ベンジル位にハロゲンを有する化
合物)、あるいはハロゲン化スルホニル化合物が開始剤
として用いられる。触媒としては、周期律表第8族、9
族、10族、または11族元素を中心金属とする金属錯
体が用いられる。金属種としては特に1価の銅、2価の
ルテニウム、2価の鉄が好適である。具体的に例示する
ならば、塩化第一銅、臭化第一銅、ヨウ化第一銅、シア
ン化第一銅、酸化第一銅、酢酸第一銅、過塩素酸第一銅
等である。銅化合物を用いる場合、触媒活性を高めるた
めに2,2’−ビピリジル、およびその誘導体、1,1
0−フェナントロリン、およびその誘導体等の配位子が
添加される。また、二価の塩化ルテニウムのトリストリ
フェニルホスフィン錯体(RuCl2(PPh3)3)も
触媒として好適である。この触媒を使用するときは、そ
の活性を高めるためにトリアルコキシアルミニウム等の
アルミニウム化合物が添加される。さらに、二価の塩化
鉄のトリストリフェニルホスフィン錯体(FeCl
2(PPh3)3)も触媒として好適である。
リル系重合体を得るために、開始点を2個以上有する有
機ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物が
開始剤として用いられる。具体的に例示するならば、 o−,m−,p−XCH2−C6H4−CH2X、o−,m
−,p−CH3C(H)(X)−C6H4−C(H)
(X)CH3、o−,m−,p−(CH3)2C(X)−
C6H4−C(X)(CH3)2、 (ただし、上の化学式中、C6H4はフェニレン基、Xは
塩素、臭素、またはヨウ素) RO2C−C(H)(X)−(CH2)n−C(H)
(X)−CO2R、RO2C−C(CH3)(X)−(C
H2)n−C(CH3)(X)−CO2R、RC(O)−C
(H)(X)−(CH2)n−C(H)(X)−C(O)
R、RC(O)−C(CH3)(X)−(CH2)n−C
(CH3)(X)−C(O)R、 (式中、Rは炭素数1〜20のアルキル基、アリール
基、またはアラルキル基、nは0〜20の整数、Xは塩
素、臭素、またはヨウ素) XCH2C(O)CH2X、CH3C(H)(X)C
(O)C(H)(X)CH3、(CH3)2C(X)C
(O)C(X)(CH3)2、C6H5C(H)(X)−
(CH2)n−C(H)(X)C6H5、 (上の式中、Xは塩素、臭素、またはヨウ素、nは0〜
20の整数) XCH2CO2−(CH2)n−OCOCH2X、CH3C
(H)(X)CO2−(CH2)n−OCOC(H)
(X)CH3、(CH3)2C(X)CO2−(CH2)n−
OCOC(X)(CH3)2、 (上の式中、Xは塩素、臭素、ヨウ素、nは0〜20の
整数) XCH2C(O)C(O)CH2X、CH3C(H)
(X)C(O)C(O)C(H)(X)CH3、(C
H3)2C(X)C(O)C(O)C(X)(CH3)2、
o−,m−,p−XCH2CO2−C6H4−OCOCH2
X、o−,m−,p−CH3C(H)(X)CO2−C6
H4−OCOC(H)(X)CH3、o−,m−,p−
(CH3)2C(X)CO2−C6H4−OCOC(X)
(CH3)2、o−,m−,p−XSO2−C6H4−SO2
X、 (上の式中、Xは塩素、臭素、またはヨウ素) 等が挙げられる。
リル系のモノマーとしては特に制約はなく、各種のもの
を用いることができる。例示するならば、(メタ)アク
リル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)ア
クリル酸−n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロ
ピル、(メタ)アクリル酸−n−ブチル、(メタ)アク
リル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸−tert−ブ
チル、(メタ)アクリル酸−n−ペンチル、(メタ)ア
クリル酸−n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘ
キシル、(メタ)アクリル酸−n−ヘプチル、(メタ)
アクリル酸−n−オクチル、(メタ)アクリル酸−2−
エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)
アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メ
タ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸トルイ
ル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸
−2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸−3−メト
キシブチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチ
ル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル等で
ある。これらは単独で用いても2種以上を混合して用い
てもかまわない。また、必要に応じてスチレンやα−メ
チルスチレン、アクリロニトリル等の他のビニル系モノ
マーを共重合させることはなんら差し支えない。
とができる。また、重合は室温〜200℃の範囲で行う
ことができ、好ましくは50〜150℃である。末端に
アルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体は、上
記の重合で得られる、末端にハロゲンを有する(メタ)
アクリル系重合体のハロゲンを変換することによって得
ることができる。
により、一般式1で示す末端構造を有する(メタ)アク
リル系重合体を製造し、さらに、重合性のアルケニル基
とそれ以外の少なくとも1つのアルケニル基を併せ持つ
化合物を第2のモノマーとして反応させる方法が挙げら
れる。上記の重合では、重合末端は重合活性を保持して
おり、新たにビニル系モノマーを添加すれば、再び重合
が進行する。従って、重合性のアルケニル基とそれ以外
の少なくとも1つのアルケニル基を併せ持つビニル系モ
ノマーを添加すれば、重合活性なアルケニル基部分にラ
ジカル付加反応が起こり、他のアルケニル基は未反応の
まま残って、末端にアルケニル基を有する(メタ)アク
リル系重合体が得られるわけである。このような第2の
モノマーは、第1の重合が終了して重合体を単離してか
ら、触媒とともに添加して新たに反応させてもよいし、
重合の途中で(in−situ)添加して反応させても
よい。後者の場合、第1の重合のモノマー転化率は高い
ほどよく、好ましくは80%以上である。80%以下で
あると、アルケニル基が分子末端ではなく、側鎖に分布
し、硬化物の機械特性を損なうことになる。
とそれ以外の少なくとも1つのアルケニル基を併せ持つ
化合物は、重合末端の数(リビング重合であるので、開
始剤の開始点の数にほぼ等しい)と等しい量を添加すれ
ば、原理的にすべての末端に一つずつのアルケニル基が
導入されることになるが、全末端にアルケニル基を確実
に導入するためには、過剰量、具体的には、末端の数に
対し、1〜5倍用いるのがよい。5倍より多く用いると
重合体の末端に高密度でアルケニル基が導入されること
になり、硬化物物性上好ましくない。
とも1つのアルケニル基を併せ持つ化合物としては特に
制限はないが、例えば、一般式2 H2C=C(R3)−R4−R5−C(R6)=CH2 (2) (式中、R3、R6は水素またはメチル、R4は−C
(O)O−(エステル基)、またはo−、m−、p−フ
ェニレン基、R5は直接結合、または炭素数1〜20の
2価の有機基で1個以上のエーテル結合を含んでいても
よい。)で示される化合物が挙げられる。R4がエステ
ル基のものは(メタ)アクリレート系化合物、R4がフ
ェニレン基のものはスチレン系の化合物である。一般式
2におけるR5としては、メチレン、エチレン、プロピ
レン等のアルキレン基、o−,m−,p−フェニレン
基、ベンジル基等のアラルキル基、−CH2CH2−O−
CH2−や−O−CH2−等のエーテル結合を含むアルキ
レン基等が例示される。
点から、 H2C=C(H)C(O)O(CH2)n−CH=CH2、
H2C=C(CH3)C(O)O(CH2)n−CH=CH
2、 (上記の各式において、nは0〜20の整数) H2C=C(H)C(O)O(CH2)n−O−(CH2)
mCH=CH2、H2C=C(CH3)C(O)O(C
H2)n−O−(CH2)mCH=CH2、 (上記の各式において、nは1〜20の整数、mは0〜
20の整数) o−,m−,p−ジビニルベンゼン、o−,m−,p−
H2C=CH−C6H4−CH2CH=CH2、o−,m
−,p−H2C=CH−C6H4−CH2−C(CH3)=
CH2、o−,m−,p−H2C=CH−C6H4−CH2
CH2CH=CH2、o−,m−,p−H2C=CH−C6
H4−OCH2CH=CH2、o−,m−,p−H2C=C
H−C6H4−OCH2−C(CH3)=CH2、o−,m
−,p−H2C=CH−C6H4−OCH2CH2CH=C
H2o−,m−,p−H2C=C(CH 3)−C6H4−C
(CH3)=CH2、o−,m−,p−H2C=C(C
H3)−C6H4−CH2CH=CH2、o−,m−,p−
H2C=C(CH3)−C6H4−CH2C(CH3)=CH
2、o−,m−,p−H2C=C(CH3)−C6H4−C
H2CH2CH=CH2、o−,m−,p−H2C=C(C
H3)−C6H4−OCH2CH=CH2、o−,m−,p
−H2C=C(CH3)−C6H4−OCH2−C(CH3)
=CH2、o−,m−,p−H2C=C(CH3)−C6H
4−OCH2CH2CH=CH2 (ただし、上記化学式中、C6H4はフェニレン基を示
す。) が好ましい。
は、このほかに、式1で示される末端にハロゲンを有す
る重合体に対し、アルケニル基を有する各種の有機金属
化合物を作用させて、ハロゲンを直接置換する方法を用
いることもできる。このような有機金属化合物として
は、有機リチウム、有機ナトリウム、有機カリウム、有
機マグネシウム、有機錫、有機亜鉛、有機銅等が挙げら
れる。特に式1のハロゲンと選択的に反応し、カルボニ
ル基との反応性が低いという点で、有機錫、有機銅化合
物が好ましい。
は、特に制限はないが、一般式3で示される化合物が好
ましい。 H2C=C(R7)C(R8)(R9)Sn(R10)3 (3) (式中、R7、R8、R9は水素、または炭素数1〜10
のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基で互い
に同じでも異なっていてもよい。R10は、炭素数1〜1
0のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基) 式3の有機錫化合物の具体例を示すならば、アリルトリ
ブチル錫、アリルトリメチル錫、アリルトリ(n−オク
チル)錫、アリルトリ(シクロヘキシル)錫等が例示さ
れる。一般式3で示されるアルケニル基含有有機錫化合
物は、一般式1の末端ハロゲンとラジカル機構で反応す
るので、(メタ)アクリル系モノマーの重合途中で添加
してもよいし、一般式1の末端構造を有する(メタ)ア
クリル系重合体を一旦単離してからあらためて反応させ
てもよい。後者の場合、反応は加熱のみによっても進行
するが、反応を促進させるためにアゾビスイソブチロニ
トリル等のラジカル開始剤を加えてもよい。
は、ジビニル銅リチウム、ジアリル銅リチウム、ジイソ
プロペニル銅リチウム等が例示される。末端ハロゲン基
のアルケニル基への変換方法としては、さらに、ハロゲ
ンを末端に有する(メタ)アクリル系重合体に対し、金
属単体あるいは有機金属化合物を作用させてハロゲンを
メタル化し、しかる後に、アルケニル基を有する求電子
化合物と反応させる方法を用いることも可能である。
ム、カリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルシ
ウム等のアルカリ土類金属、アルミニウム、亜鉛等が挙
げられる。これらのうち、メタル化された部分(エノレ
ートアニオン)が他のエステル基を攻撃したり転移する
ような副反応が起こりにくいという点から亜鉛が特に好
ましい。有機金属化合物の具体例としては、有機リチウ
ム、有機ナトリウム、有機カリウム、Grignard
反応剤等の有機マグネシウム、有機アルミニウム、有機
亜鉛化合物等が挙げられる。ハロゲンを効率的にメタル
化させるためには、有機リチウム、有機マグネシウムを
用いるのが好ましい。
は各種のものを使用することができる。例えば、ハロゲ
ンやアセチル基のような脱離基を有するアルケニル基含
有化合物、アルケニル基を有するカルボニル化合物、ア
ルケニル基を有するイソシアネート化合物、アルケニル
基を有する酸ハロゲン化物等である。これらのうち、ハ
ロゲンやアセチル基のような脱離基を有するアルケニル
基含有化合物を用いると、主鎖にヘテロ原子が導入され
ず、(メタ)アクリル系重合体の本来の特徴である耐候
性が失われないので好ましい。
中でも、反応性が高いという理由で、塩化ビニル、臭化
ビニル、ヨウ化ビニル、塩化イソプロペニル、臭化イソ
プロペニル、ヨウ化イソプロペニル、塩化アリル、臭化
アリル、ヨウ化アリル、3−クロロ−1−ブテン、3−
ブロモ−1−ブテン、3−ヨード−1−ブテン、3−ク
ロロ−2−メチル−1−プロペン、3−ブロモ−2−メ
チル−1−プロペン、3−ヨード−2−メチル−1−プ
ロペン、アリルアセテート、3−アセトキシ−1−ブテ
ン、3−アセトキシ−2−メチル−1−プロペン、塩化
−4−ビニルベンジル、塩化−4−アリルベンジル、臭
化−4−ビニルベンジル、臭化−4−アリルベンジルが
好ましく、さらに入手が容易であるという点で塩化アリ
ル、臭化アリル、ヨウ化アリル、アリルアセテートが特
に好ましい。
たは有機金属化合物を作用させてメタル化し、さらにア
ルケニル基含有求電子化合物を反応させることを特徴と
する、末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系
重合体の製造方法において、好ましい反応剤の組み合わ
せは、金属として亜鉛を用い、求電子化合物として上記
のような、脱離基を有するアルケニル基含有化合物を使
用することである。この反応をより円滑に進めるために
各種の触媒を使用することができる。そのような触媒と
しては、例えば、一価の銅化合物(例えば塩化銅、臭化
銅)、二価の銅化合物(例えば銅アセチルアセトナー
ト)、0価のNi化合物(例えば、テトラキストリフェ
ニルホスフィンニッケル:Ni(PPh3)4)、0価の
Pd化合物(例えば、テトラキストリフェニルホスフィ
ンパラジウム:Pd(PPh3)4)等である。
て、さらに、一般式1に示すような末端にハロゲンを有
する(メタ)アクリル系重合体の末端をヒドロキシル基
含有置換基に変換し、しかる後に、ヒドロキシル基の反
応性を利用する方法が挙げられる。末端をヒドロキシル
基含有置換基に変換する方法としては各種の反応を利用
することが出来る。例えば、上記の重合法によって一般
式1で示す末端を有する(メタ)アクリル系重合体を製
造し、さらに重合性のアルケニル基と水酸基を併せ持つ
化合物を第2のモノマーとして反応させる方法、一般式
1で示すハロゲン末端を有する(メタ)アクリル系重合
体に対し、金属単体または有機金属化合物を作用させて
ハロゲンをメタル化し、アルデヒドあるいはケトン等の
カルボニル化合物と反応させる方法、ハロゲンを水酸化
ナトリウムや水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸
化物で直接置換する方法、ハロゲンをポリアルコールで
置換する方法等である。
てはこの他に、水酸基を有するハロゲン化物を開始剤、
周期律表第8族、9族、10族、または11族元素を中
心金属とする金属錯体を触媒として用いる重合により、
片末端に水酸基を有し他の末端に式1で示すハロゲンを
有する(メタ)アクリル系重合体を製造し、しかる後
に、ハロゲン末端を上述した方法で水酸基含有置換基に
変換する方法、さらにそれらハロゲンを置換することが
できる同一または異なった官能基を合計2個以上有する
化合物を用いて、ハロゲン末端どうしをカップリングす
る方法が挙げられる。
する(メタ)アクリル系重合体にアルケニル基を導入す
る方法としては、例えば、塩化アリルのようなアルケニ
ル基含有ハロゲン化物とナトリウムメトキシドのような
塩基を作用させる方法、アリルイソシアネート等のアル
ケニル基含有イソシアネート化合物を作用させる方法、
(メタ)アクリル酸クロリドのようなアルケニル基含有
酸ハロゲン化物をピリジン等の塩基の存在下に反応させ
る方法、(メタ)アクリル酸のようなアルケニル基含有
カルボン酸を脱水縮合触媒の存在下に反応させる方法等
が挙げられる。
ホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる(メタ)アクリル系重合体の製造法におい
て、アルケニル基を有する有機ハロゲン化物、またはハ
ロゲン化スルホニル化合物を開始剤として用いれば、開
始末端にアルケニル基を有し、停止末端が式1の構造を
有する(メタ)アクリル系重合体が得られる。このよう
にして得られる重合体の停止末端のハロゲンをアルケニ
ル基含有置換基に変換すれば、両末端にアルケニル基を
有する(メタ)アクリル系重合体を得ることができる。
しては特に制限はないが、例えば、一般式4に示す構造
を有するものが例示される。 R11R12C(X)−R13−R14−C(R1)=CH2 (4) (式中、R1は水素、またはメチル基、R11、R12は水
素、または、炭素数1〜20の1価のアルキル基、アリ
ール基、またはアラルキル、または他端において相互に
連結したもの、R13は、−C(O)O−(エステル
基)、−C(O)−(ケト基)、またはo−,m−,p
−フェニレン基、R14は直接結合、または炭素数1〜2
0の2価の有機基で1個以上のエーテル結合を含んでい
ても良い、Xは塩素、臭素、またはヨウ素) これらの化合物は、ハロゲンが結合している炭素がカル
ボニル基あるいはフェニル基と結合しており、炭素−ハ
ロゲン結合が活性化されて重合が開始する。
素、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げ
られる。R11とR12は他端において連結して環状骨格を
形成していてもよく、そのような場合、−R11−R12−
は例えば、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−
CH2CH2CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2CH
2−、等が例示される。
る有機ハロゲン化物の具体例としては、 XCH2C(O)O(CH2)nCH=CH2、H3CC
(H)(X)C(O)O(CH2)nCH=CH2、(H3
C)2C(X)C(O)O(CH2)nCH=CH2、CH
3CH2C(H)(X)C(O)O(CH2)nCH=CH
2、
またはヨウ素、nは0〜20の整数) XCH2C(O)O(CH2)nO(CH2)mCH=C
H2、H3CC(H)(X)C(O)O(CH2)nO(C
H2)mCH=CH2、(H3C)2C(X)C(O)O
(CH2)nO(CH2)mCH=CH2、CH3CH2C
(H)(X)C(O)O(CH2)nO(CH2)mCH=
CH2、
またはヨウ素、nは1〜20の整数、mは0〜20の整
数) o,m,p−XCH2−C6H4−(CH2)n−CH=C
H2、o,m,p−CH3C(H)(X)−C6H4−(C
H2)n−CH=CH2、o,m,p−CH3CH2C
(H)(X)−C6H4−(CH2)n−CH=CH2 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、nは0〜20の整数) o,m,p−XCH2−C6H4−(CH2)n−O−(C
H2)m−CH=CH2、o,m,p−CH3C(H)
(X)−C6H4−(CH2)n−O−(CH2)m−CH=
CH2、o,m,p−CH3CH2C(H)(X)−C6H
4−(CH2)n−O−(CH2)mCH=CH2 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、nは1〜20の整数、mは0〜20の整数) o,m,p−XCH2−C6H4−O−(CH2)n−CH
=CH2、o,m,p−CH3C(H)(X)−C6H4−
O−(CH2)n−CH=CH2、o,m,p−CH 3CH
2C(H)(X)−C6H4−O−(CH2)n−CH=C
H2, (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、nは0〜20の整数) o,m,p−XCH2−C6H4−O−(CH2)n−O−
(CH2)m−CH=CH2、 o,m,p−CH3C(H)(X)−C6H4−O−(C
H2)n−O−(CH2)m−CH=CH2、o,m,p−
CH3CH2C(H)(X)−C6H4−O−(CH2)n−
O−(CH2)m−CH=CH2, (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、nは1〜20の整数、mは0〜20の整数) アルケニル基を有する有機ハロゲン化物としてはさらに
一般式5で示される化合物が挙げられる。 H2C=C(R1)−R14−C(R11)(X)−R15−R12 (5) (式中、R1、R11、R12、R14、Xは上記に同じ、R
15は、直接結合、−C(O)O−(エステル基)、−C
(O)−(ケト基)、または、o−,m−,p−フェニ
レン基を表す) R14は直接結合、または炭素数1〜20の2価の有機基
(1個以上のエーテル結合を含んでいても良い)である
が、直接結合である場合は、ハロゲンの結合している炭
素にビニル基が結合しており、ハロゲン化アリル化物で
ある。この場合は、隣接ビニル基によって炭素−ハロゲ
ン結合が活性化されているので、R15としてC(O)O
基やフェニレン基等を有する必要は必ずしもなく、直接
結合であってもよい。R14が直接結合でない場合は、炭
素−ハロゲン結合を活性化するために、R15としてはC
(O)O基、C(O)基、フェニレン基が好ましい。式
5の化合物を具体的に例示するならば、 CH2=CHCH2X、CH2=C(CH3)CH2X、C
H2=CHC(H)(X)CH3、CH2=C(CH3)C
(H)(X)CH3、CH2=CHC(X)(CH3)2、
CH2=CHC(H)(X)C2H5、CH2=CHC
(H)(X)CH(CH3)2、CH2=CHC(H)
(X)C6H5、CH2=CHC(H)(X)CH2C
6H5、 CH2=CHCH2C(H)(X)−CO2R、CH2=C
H(CH2)2C(H)(X)−CO2R、CH2=CH
(CH2)3C(H)(X)−CO2R、CH2=CH(C
H2)8C(H)(X)−CO2R、CH2=CHCH2C
(H)(X)−C6H5、CH2=CH(CH2)2C
(H)(X)−C6H5、CH2=CH(CH2)3C
(H)(X)−C6H5、 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、Rは炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基) 等を挙げることができる。
ル化合物の具体例を挙げるならば、 o−,m−,p−CH2=CH−(CH2)n−C6H4−
SO2X、o−,m−,p−CH2=CH−(CH2)n−
O−C6H4−SO2X、 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、nは0〜20の整数) 等である。
またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤、周期律表
第8族、9族、10族、または11族元素を中心金属と
する金属錯体を触媒として用いる重合方法によって(メ
タ)アクリル系のモノマーを重合すると、片末端にアル
ケニル基を有し、他の末端には式1で示される構造を有
する(メタ)アクリル系重合体が得られる。式1のハロ
ゲン含有末端を、アルケニル基含有置換基に変換すれ
ば、両末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系
重合体が得られる。そのような変換方法としては特に制
限はなく、これまでに述べた方法をすべて用いることが
可能である。
またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤として用い
ると、片末端がアルケニル基、他の末端が式1で示され
るハロゲン末端である重合体が得られるが、この重合体
の式1のハロゲンを置換できる、同一または異なった官
能基を合計2個以上有する化合物を用いて、ハロゲン末
端どうしをカップリングさせることによっても、末端に
アルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体を得る
ことができる。
る、同一または異なった官能基を合計2個以上有するも
のとしては特に制限はないが、ポリオール、ポリアミ
ン、ポリカルボン酸、ポリチオール、およびそれらの
塩、アルカリ金属硫化物等が好ましい。これらの化合物
を具体的に例示するならば、エチレングリコール、1,
2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、2
−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジメチ
ル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,3−ブタンジオール、1,2−ブタンジオー
ル、2,3−ブタンジオール、ピナコール、1,5−ペ
ンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、2,4−
ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,7
−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,
9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,
12−ドデカンジオール、1,2−シクロペンタンジオ
ール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−シク
ロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオー
ル、1,4−シクロヘキサンジオール、グリセロール、
1,2,4−ブタントリオール、カテコール、レゾルシ
ノール、ヒドロキノン、1,2−ジヒドロキシナフタレ
ン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒド
ロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、
2,2’−ビフェノール、4,4’−ビフェノール、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4’−イソ
プロピリデンフェノール、3,3’−(エチレンジオキ
シ)ジフェノール、α,α’−ジヒドロキシ−p−キシ
レン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)
エタン、ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオー
ル、および、上記ポリオール化合物のアルカリ金属塩、
エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,2
−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,2
−ジアミノ−2−メチルプロパン、1,5−ジアミノペ
ンタン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミ
ン、1,6−ヘキサンジアミン、1,7−ヘプタンジア
ミン、1,8−オクタンジアミン、1,9−ジアミノノ
ナン、1,10−ジアミノデカン、1,12−ジアミノ
ドデカン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルア
ミン)、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジ
アミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、1,2−フェニレンジアミン、1,3−フェニレン
ジアミン、1,4−フェニレンジアミン、α,α’−ジ
アミノ−p−キシレン、および上記ポリアミン化合物の
アルカリ金属塩、シュウ酸、マロン酸、メチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、メチルコハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、1,7−ヘプタンジカルボン
酸、1,8−オクタンジカルボン酸、1,9−ノナンジ
カルボン酸、1,10−デカンジカルボン酸、1,11
−ウンデカンジカルボン酸、1,12−ドデカンジカル
ボン酸、1,2−シクロペンタンジカルボン酸、1,2
−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン
酸、1,3,5−シクロヘキサントリカルボン酸、フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,2,3−ベン
ゼントリカルボン酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラ
カルボン酸、および上記ポリカルボン酸のアルカリ金属
塩、1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチ
オール、1,4−ブタンジチオール、2,3−ブタンジ
チオール、1,5−ペンタンジチオール、1,6−ヘキ
サンジチオール、1,7−ヘプタンジチオール、1,8
−オクタンジチオール、1,9−ノナンジチオール、2
−メルカプトエチルエーテル、p−キシレン−α,α’
−ジチオール、1,2−ベンゼンジチオール、1,3−
ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、お
よび、上記ポリチオール化合物のアルカリ金属塩、硫化
リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、等である。
ボン酸、ポリチオールを用いる際は、置換反応を促進さ
せるために、塩基性化合物が併用され、その具体例とし
ては、リチウム、ナトリウム、カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムメ
トキシド、カリウムメトキシド、tert−ブトキシナ
トリウム、tert−ブトキシカリウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム等が挙げられる。
ケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体は、これを
主剤とする硬化性組成物にすることができる。この硬化
性組成物は、(A)上記のいずれかの方法により得られ
る、末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重
合体、および(B)ヒドロシリル基含有化合物、を含有
する硬化性組成物である。
(メタ)アクリル系重合体は単独で用いても、また、2
種類以上を混合して用いても良い。(A)成分の分子量
としては特に制限はないが、500〜50000の範囲
にあるのが好ましい。500以下であると、(メタ)ア
クリル系重合体の本来の特性が発現されにくく、500
00以上であると、非常に高粘度あるいは溶解性が低く
なり、取り扱いが困難になる。
しては特に制限はなく、各種のものを用いることができ
る。すなわち、一般式9または10で表される鎖状ポリ
シロキサン R18 3SiO−[Si(R18)2O]a−[Si(H)(R19)O]b−[Si(R 19 )(R20)O]c−SiR18 3 (9) HR18 2SiO−[Si(R18)2O]a−[Si(H)(R19)O]b−[Si( R19)(R20)O]c−SiR18 2H (10) (式中R18およびR19は炭素数1〜6のアルキル基、ま
たは、フェニル基、R20は炭素数1〜10のアルキル基
またはアラルキル基、aは0≦a≦100、bは2≦b
≦100、cは0≦c≦100の整数を示す)、一般式
11で表される環状シロキサン
ルキル基、または、フェニル基、R23は炭素数1〜10
のアルキル基またはアラルキル基、dは0≦d≦8、e
は2≦e≦10、fは0≦f≦8の整数を示し、かつ3
≦d+e+f≦10である)を用いることができる。こ
れらは単独で用いても2種以上を混合して用いてもかま
わない。これらのシロキサンの中でも(メタ)アクリル
系重合体との相溶性の観点から、フェニル基を有する、
一般式12、13で示される鎖状シロキサンや、一般式
14、15で示される環状シロキサンが好ましい。 (CH3)3SiO−[Si(H)(CH3)O]g−[Si(C6H5)2O]h−S i(CH3)3 (12) (CH3)3SiO−[Si(H)(CH3)O]g−[Si(CH3){CH2C( H)(R24)C6H5}O]h−Si(CH3)3 (13) (式中、R24は水素またはメチル基、gは2≦g≦10
0、hは0≦h≦100の整数、C6H5はフェニル基を
示す)
は2≦i≦10、jは0≦j≦8、かつ3≦i+j≦1
0である整数、C6H5はフェニル基) (B)成分の少なくとも2個以上のヒドロシリル基を有
する硬化剤としてはさらに、分子中に2個以上のアルケ
ニル基を有する低分子化合物に対し、式9〜15に示し
たヒドロシリル基含有化合物を、反応後にも一部のヒド
ロシリル基が残るようにして付加反応させて得られる化
合物を用いることもできる。分子中に2個以上のアルケ
ニル基を有する化合物としては、各種のものを用いるこ
とができる。例示するならば、1,4−ペンタジエン、
1,5−ヘキサジエン、1,6−ヘプタジエン、1,7
−オクタジエン、1,8−ノナジエン、1,9−デカジ
エン等の炭化水素系化合物、O,O’−ジアリルビスフ
ェノールA、3,3’−ジアリルビスフェノールA等の
エーテル系化合物、ジアリルフタレート、ジアリルイソ
フタレート、トリアリルトリメリテート、テトラアリル
ピロメリテート等のエステル系化合物、ジエチレングリ
コールジアリルカーボネート等のカーボネート系化合物
が挙げられる。
基含有化合物に対し、ヒドロシリル化触媒の存在下、上
に挙げたアルケニル基含有化合物をゆっくり滴下するこ
とにより該化合物を得ることができる。このような化合
物のうち、原料の入手容易性、過剰に用いたシロキサン
の除去のしやすさ、さらには(A)成分の重合体への相
溶性を考慮して、下記のものが好ましい。
で混合することができるが、硬化性の面から、アルケニ
ル基とヒドロシリル基のモル比が5〜0.2の範囲にあ
ることが好ましく、さらに、2.5〜0.4であること
が特に好ましい。モル比が5以上になると硬化が不十分
でべとつきのある強度の小さい硬化物しか得られず、ま
た、0.2より小さいと、硬化後も硬化物中に活性なヒ
ドロシリル基が大量に残るので、クラック、ボイドが発
生し、均一で強度のある硬化物が得られない。
は、2成分を混合して加熱することにより進行するが、
反応をより迅速に進めるために、ヒドロシリル化触媒が
添加される。このようなヒドロシリル化触媒としては、
有機過酸化物やアゾ化合物等のラジカル開始剤、および
遷移金属触媒が挙げられる。ラジカル開始剤としては特
に制限はなく各種のものを用いることができる。例示す
るならば、ジ−t−ブチルペルオキシド、2,5−ジメ
チル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキ
シ)−3−ヘキシン、ジクミルペルオキシド、t−ブチ
ルクミルペルオキシド、α,α’−ビス(t−ブチルペ
ルオキシ)イソプロピルベンゼンのようなジアルキルペ
ルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、p−クロロベン
ゾイルペルオキシド、m−クロロベンゾイルペルオキシ
ド、2,4−ジクロロベンゾイルペルオキシド、ラウロ
イルペルオキシドのようなジアシルペルオキシド、過安
息香酸−t−ブチルのような過酸エステル、過ジ炭酸ジ
イソプロピル、過ジ炭酸ジ−2−エチルヘキシルのよう
なペルオキシジカーボネート、1,1−ジ(t−ブチル
ペルオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチル
ペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン
のようなペルオキシケタール等が挙げられる。
金単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体
に白金固体を分散させたもの、塩化白金酸、塩化白金酸
とアルコール、アルデヒド、ケトン等との錯体、白金−
オレフィン錯体、白金(0)−ジビニルテトラメチルジ
シロキサン錯体が挙げられる。白金化合物以外の触媒の
例としては、RhCl(PPh3)3,RhCl3,Ru
Cl3,IrCl3,FeCl3,AlCl3,PdCl2
・H2O,NiCl2,TiCl4等が挙げられる。これ
らの触媒は単独で用いてもよく、2種類以上を併用して
もかまわない。触媒量としては特に制限はないが、
(A)成分のアルケニル基1molに対し、10-1〜1
0-8molの範囲で用いるのが良く、好ましくは10-3
〜10-6molの範囲で用いるのがよい。10-8mol
より少ないと硬化が十分に進行しない。またヒドロシリ
ル化触媒は高価であるので10-1mol以上用いないの
が好ましい。
要に応じてヒドロシリル化触媒を混合し硬化させれば、
発泡等の現象を伴うことなく、深部硬化性に優れた均一
な硬化物が得られる。硬化条件については特に制限はな
いが、一般に0℃〜200℃、好ましくは30℃〜15
0℃で10秒〜24時間硬化するのがよい。特に80℃
〜150℃の高温では10秒〜1時間程度の短時間で硬
化するものも得られる。硬化物の性状は用いる(A)成
分の重合体および(B)成分の硬化剤の主鎖骨格や分子
量に依存するが、ゴム状のものから樹脂状のものまで幅
広く作成することができる。本組成物から得られる硬化
物の具体的な用途を挙げるならば、シーリング材、接着
剤、粘着材、弾性接着剤、塗料、粉体塗料、発泡体、電
気電子用ポッティング材、フィルム、ガスケット、各種
成形材料、人工大理石等である。
(メタ)アクリル系重合体は、末端にアルケニル基を有
する(メタ)アクリル系重合体の製造法と同様に、有機
ハロゲン化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開
始剤、周期律表第8族、9族、10族、または11族元
素を中心金属とする金属錯体を触媒として用いる重合方
法により得られる、一般式1で示す末端にハロゲンを有
する(メタ)アクリル系重合体のハロゲンを変換するこ
とによって得ることができる。
化物、またはハロゲン化スルホニル化合物を開始剤、周
期律表第8族、9族、10族、または11族元素を中心
金属とする金属錯体を触媒として用いる重合方法によっ
て一般式1に示す末端構造を有する(メタ)アクリル系
重合体を製造し、さらに、重合性のアルケニル基と架橋
性シリル基を併せ持つ化合物を第2のモノマーとして反
応させる方法が挙げられる。この方法は、末端にアルケ
ニル基を有する(メタ)アクリル系重合体の製造法にお
いて例示した方法と同じ原理に基づくものである。この
場合も、第2のモノマーは、第1の重合が終了して重合
体を単離してから、触媒とともに添加して、新たに反応
させてもよいし、重合の途中で(in−situ)添加
して反応させてもよい。後者の場合、第1の重合のモノ
マー転化率は高いほどよく、好ましくは80%以上であ
る。80%以下であると、架橋性シリル基が分子末端で
はなく、側鎖に分布し、硬化物の機械特性を損なうこと
になる。このような重合性のアルケニル基と架橋性シリ
ル基を有する化合物は全末端の数に対し、等量添加すれ
ば原理的にすべての末端に架橋性シリル基が導入される
が、全末端に架橋性基を確実に導入するためには、過剰
量、具体的には、末端の数に対し、1〜5倍用いるのが
よい。5倍以上用いると重合体の末端に高密度で架橋性
基が導入されることになり、硬化物物性上好ましくな
い。
性シリル基を併せ有する化合物としては特に制限はない
が、具体的に例示するならば、一般式6 H2C=C(R3)−R4−R5−[Si(R16)2-b(Y)bO]m−Si(R17)3 -a (Y)a (6) (式中、R3、R4およびR5は、一般式2におけるR3、
R4、R5に同じ、R16およびR17は、いずれも炭素数1
〜20のアルキル基、アリール基、アラルキル基、また
は(R’)3SiO−(R’は炭素数1〜20の1価の
炭化水素基であって、3個のR’は同一であってもよ
く、異なっていてもよい)で示されるトリオルガノシロ
キシ基を示し、R16またはR17が2個以上存在すると
き、それらは同一であってもよく、異なっていてもよ
い。Yは水酸基または加水分解性基を示し、Yが2個以
上存在するときそれらは同一であってもよく、異なって
いてもよい。aは0,1,2,または3を、また、bは
0,1,または2を示す。mは0〜19の整数である。
ただし、a+mb≧1であることを満足するものとす
る。)で示される化合物が挙げられる。R4が−C
(O)O−(エステル基)の場合は(メタ)アクリレー
ト系の化合物であり、R4がフェニレン基である場合は
スチレン系の化合物である。
特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、
具体的には、水素、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシ
ルオキシ基、ケトキシメート基、アミノ基、アミド基、
酸アミド基、アミノオキシ基、メルカプト基、アルケニ
ルオキシ基等が挙げられ、加水分解性がマイルドで取り
扱いやすいという点から、アルコキシ基が特に好まし
い。該加水分解性基や水酸基は1個のケイ素原子に1〜
3個の範囲で結合することができ、a+mb、すなわ
ち、加水分解性基の総和は、1〜5の範囲が好ましい。
加水分解性基や水酸基が反応性ケイ素基中に2個以上結
合するときは、それらは同一であっても、異なっていて
もよい。架橋性ケイ素化合物を構成するケイ素原子は、
1個でもよく、2個以上であってもよいが、シロキサン
結合により連結されたケイ素原子の場合には20個程度
まであってもよい。
ては、例えば、メチル基やエチル基などのアルキル基、
シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、フェニル基な
どのアリール基、ベンジル基などのアラルキル基、R’
がメチル基やフェニル基等である(R’)3SiO−で
示されるトリオルガノシリル基等が挙げられる。これら
の中でも、加水分解性シリル基の反応性がマイルドで取
扱いやすく、また、入手が容易であるという点で、 H2C=C(H)CO2−(CH2)n−Si(OC
H3)3、H2C=C(H)CO2−(CH2)n−Si(C
H3)(OCH3)2、H2C=C(H)CO2−(CH2)
n−Si(OC2H5)3、H2C=C(H)CO2−(CH
2)n−Si(CH3)(OC2H5)2、H2C=C(H)
CO2−(CH2)n−Si(OC3H7)3、H2C=C
(H)CO2−(CH2)n−Si(CH3)(OC3H7)
2、H2C=C(CH 3)CO2−(CH2)n−Si(OC
H3)3、H2C=C(CH3)CO2−(CH2)n−Si
(CH3)(OCH3)2、H2C=C(CH3)CO2−
(CH2)n−Si(OC2H5)3、H2C=C(CH3)
CO2−(CH2)n−Si(CH3)(OC2H5)2、H2
C=C(CH3)CO2−(CH2)n−Si(OC3H7)
3、H2C=C(CH3)CO2−(CH2)n−Si(CH
3)(OC3H7)2、 (上記の各式中、nは2〜20の整数) H2C=C(H)CO2−(CH2)n−O−(CH2)m−
Si(OCH3)3、H2C=C(H)CO2−(CH2)n
−O−(CH2)m−Si(CH3)(OCH3)2、H2C
=C(H)CO2−(CH2)n−O−(CH2)m−Si
(OC2H5)3、H2C=C(H)CO2−(CH2)n−
O−(CH2)m−Si(CH3)(OC2H 5)2、H2C
=C(H)CO2−(CH2)n−O−(CH2)m−Si
(OC3H7) 3、H2C=C(H)CO2−(CH2)n−
O−(CH2)m−Si(CH3)(OC 3H7)2、H2C
=C(CH3)CO2−(CH2)n−O−(CH2)m−S
i(OCH3)3、H2C=C(CH3)CO2−(CH2)
n−O−(CH2)m−Si(CH3)(OCH3)2、H2
C=C(CH3)CO2−(CH2)n−O−(CH2)m−
Si(OC2H5)3、H2C=C(CH3)CO2−(CH
2)n−O−(CH2)m−Si(CH3)(OC2H5)2、
H2C=C(CH3)CO2−(CH2)n−O−(CH2)
m−Si(OC3H7)3、H2C=C(CH3)CO2−
(CH2)n−O−(CH2)m−Si(CH3)(OC3H
7)2、 (上記の各式中、nは1〜20の整数、mは2〜20の
整数) o−,m−,p−H2C=CH−C6H4−(CH2)n−
Si(OCH3)3、o−,m−,p−H2C=CH−C6
H4−(CH2)n−Si(CH3)(OCH3)2、o−,
m−,p−H2C=CH−C6H4−O−(CH2)n−S
i(OCH3)3、o−,m−,p−H2C=CH−C6H
4−O−(CH2)n−Si(CH3)(OCH3)2 (但し、上記化学式中、C6H4はフェニレン基、nは2
〜20の整数。) が好ましい。
ホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる(メタ)アクリル系重合体の製造法におい
て、架橋性シリル基を有する有機ハロゲン化物を開始剤
として用いれば、片末端に架橋性シリル基を有し、他の
末端が式1の構造を有する(メタ)アクリル系重合体が
得られる。このようにして得られる重合体の停止末端の
ハロゲンを架橋性シリル基含有置換基に変換すれば、両
末端に架橋性シリル基を有する(メタ)アクリル系重合
体を得ることができる。その変換方法としては、既に記
載した方法を使用することができる。
としては特に制限はないが、例えば一般式7に示す構造
を有するものが例示される。 R11R12C(X)−R13−R14−C(H)(R1)CH2−[Si(R16)2-b( Y)bO]m−Si(R17)3-a(Y)a (7) (式中、R1、R11、R12、R13、R14、R16、R17、
a、b、m、X、Yは上記に同じ) 式7の化合物を具体的に例示するならば、 XCH2C(O)O(CH2)nSi(OCH3)3、CH3
C(H)(X)C(O)O(CH2)nSi(OC
H3)3、(CH3)2C(X)C(O)O(CH2)nSi
(OCH3)3、XCH2C(O)O(CH2)nSi(C
H3)(OCH3)2、CH 3C(H)(X)C(O)O
(CH2)nSi(CH3)(OCH3)2、(CH3)2C
(X)C(O)O(CH2)nSi(CH3)(OCH3)
2、 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、ヨウ素、nは
0〜20の整数、) XCH2C(O)O(CH2)nO(CH2)mSi(OC
H3)3、H3CC(H)(X)C(O)O(CH2)nO
(CH2)mSi(OCH3)3、(H3C)2C(X)C
(O)O(CH2)nO(CH2)mSi(OCH3)3、C
H3CH2C(H)(X)C(O)O(CH2)nO(CH
2)mSi(OCH3)3、XCH2C(O)O(CH2)n
O(CH2)mSi(CH3)(OCH3)2、H3CC
(H)(X)C(O)O(CH2)nO(CH2)m−Si
(CH3)(OCH3)2、(H3C)2C(X)C(O)
O(CH2)nO(CH2)m−Si(CH3)(OCH3)
2、CH3CH 2C(H)(X)C(O)O(CH2)nO
(CH2)m−Si(CH3)(OCH3)2、 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、ヨウ素、nは
1〜20の整数、mは0〜20の整数) o,m,p−XCH2−C6H4−(CH2)2Si(OC
H3)3、o,m,p−CH3C(H)(X)−C6H4−
(CH2)2Si(OCH3)3、o,m,p−CH3CH2
C(H)(X)−C6H4−(CH2)2Si(OC
H3)3、o,m,p−XCH2−C6H4−(CH2)3S
i(OCH3)3、 o,m,p−CH3C(H)(X)−C6H4−(CH2)
3Si(OCH3)3、o,m,p−CH3CH2C(H)
(X)−C6H4−(CH2)3Si(OCH3)3、o,
m,p−XCH2−C6H4−(CH2)2−O−(CH2)
3Si(OCH3)3、o,m,p−CH3C(H)(X)
−C6H4−(CH2)2−O−(CH2)3Si(OC
H3)3、o,m,p−CH3CH2C(H)(X)−C6
H4−(CH2)2−O−(CH2)3Si(OCH3)3、
o,m,p−XCH2−C6H4−O−(CH2)3Si
(OCH3)3、o,m,p−CH3C(H)(X)−C6
H4−O−(CH2)3Si(OCH3)3、o,m,p−
CH3CH2C(H)(X)−C6H4−O−(CH2)3−
Si(OCH3)3、o,m,p−XCH2−C6H4−O
−(CH2)2−O−(CH2)3−Si(OCH3)3、
o,m,p−CH3C(H)(X)−C6H4−O−(C
H2)2−O−(CH2)3Si(OCH3)3、o,m,p
−CH3CH2C(H)(X)−C6H4−O−(CH2)2
−O−(CH2)3Si(OCH3)3、 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素) 等が挙げられる。
としてはさらに、一般式8で示される構造を有するもの
が例示される。 (R17)3-a(Y)aSi−[OSi(R16)2-b(Y)b]m−CH2−C(H)( R1)−R14−C(R11)(X)−R15−R12 (8) (式中、R1、R11、R12、R14、R15、R16、R17、
a、b、m、X、Yは上記に同じ) このような化合物を具体的に例示するならば、 (CH3O)3SiCH2CH2C(H)(X)C6H5、
(CH3O)2(CH3)SiCH2CH2C(H)(X)
C6H5、(CH3O)3Si(CH2)2C(H)(X)−
CO2R、(CH3O)2(CH3)Si(CH2)2C
(H)(X)−CO2R、(CH3O)3Si(CH2)3
C(H)(X)−CO2R、(CH3O)2(CH3)Si
(CH2)3C(H)(X)−CO2R、(CH3O)3S
i(CH2)4C(H)(X)−CO2R、(CH3O)2
(CH3)Si(CH2)4C(H)(X)−CO2R、
(CH3O)3Si(CH2)9C(H)(X)−CO
2R、(CH3O)2(CH3)Si(CH2)9C(H)
(X)−CO2R、(CH3O)3Si(CH2)3C
(H)(X)−C6H5、(CH3O)2(CH3)Si
(CH2)3C(H)(X)−C6H5、(CH3O)3Si
(CH2)4C(H)(X)−C6H5、(CH3O)2(C
H3)Si(CH2)4C(H)(X)−C6H5、 (上記の各式において、Xは塩素、臭素、またはヨウ
素、Rは炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基) 等が挙げられる。
を開始剤として用いると、片末端が架橋性シリル基、他
の末端が式1で示されるハロゲン末端である重合体が得
られるが、この重合体の式1のハロゲンを置換できる、
同一または異なった官能基を合計2個以上有する化合物
を用いて、ハロゲン末端どうしをカップリングさせるこ
とによっても、末端に架橋性シリル基を有する(メタ)
アクリル系重合体を得ることができる。この方法は、末
端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体の
製造法において説明した方法と同じ原理に基づくもので
あり、既に例示した、式1のハロゲンを置換できる官能
基を2個以上有する化合物をすべて用いることができ
る。
クリル系重合体の製造法としては、この他に、末端にア
ルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体に、架橋
性基を有するヒドロシラン化合物を付加させる方法が挙
げられる。末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリ
ル系重合体としては、既に説明した方法により得られる
ものをすべて好適に用いることができる。
いが、代表的なものを示すと、一般式16 H−[Si(R16)2-b(Y)bO]m−Si(R17)3-a(Y)a (16) (式中、R16、R17、Y、a、bは、一般式6における
それらと同じである。)で表される化合物が例示され
る。
16、R17の具体例としては、既に一般式6の説明で例示
したものと同様なものが挙げられる。これらヒドロシラ
ン化合物の中でも、特に一般式17 H−Si(R17)3-a(Y)a (17) (式中、R17、Y、aは前記と同じ。)で表される架橋
性基を有するヒドロシラン化合物が、入手容易な点から
好ましい。一般式16または17で示される架橋性基を
有するヒドロシラン化合物の具体例としては、 HSiCl3、HSi(CH3)Cl2、HSi(CH3)
2Cl、HSi(OCH3)3、HSi(CH3)(OCH
3)2、HSi(CH3)2OCH3、HSi(OC
2H5)3、HSi(CH3)(OC2H5)2、HSi(C
H3)2OC2H5、HSi(OC3H7)3、HSi(C2H
5)(OCH3)2、HSi(C2H5)2OCH3、HSi
(C6H5)(OCH3)2、HSi(C6H5)2(OC
H3)、HSi(CH3)(OC(O)CH3)2、HSi
(CH3)2O−[Si(CH3)2O]2−Si(CH3)
(OCH3)2、HSi(CH3)[O−N=C(CH3)
2]2 (但し、上記化学式中、C6H5はフェニル基を示す) 等が挙げられる。
シラン化合物を、末端にアルケニル基を有する(メタ)
アクリル系重合体に付加させる際には、ヒドロシリル化
触媒が使用され、既に述べたものをすべて用いることが
できる。上記のようにして得られた、末端に架橋性シリ
ル基を有する(メタ)アクリル系重合体は、これを主成
分とする硬化性組成物にすることができる。
は、単独で用いても、また、2種類以上を混合して用い
てもよい。また、その分子量については特に制限はない
が、500〜50000の範囲にあるのが好ましい。分
子量が500以下であると、(メタ)アクリル系重合体
の本来の特性が発現されにくく、また、50000以上
であると、ハンドリングが困難になる。
タ)アクリル系重合体は水分と接触すると架橋反応によ
り3次元化して硬化する。加水分解速度は温度、湿度、
加水分解性基の種類により変化するので、使用条件に応
じて適切な加水分解性基を選択しなければならない。ま
た、加水分解性シリル基を末端に有する(メタ)アクリ
ル系重合体は、保存時には水分との接触を可能な限り断
つ必要がある。
してもよい。触媒としては、アルキルチタン酸塩、有機
ケイ素チタン酸塩、オクチル酸錫やジブチル錫ジラウレ
ートのようなカルボン酸の金属塩、ジブチルアミン−2
−エチルヘキソエート等のアミン塩、ならびに他の酸性
触媒および塩基性触媒を使用しうる。使用量としては特
に制限はないが、末端に架橋性シリル基を有する(メ
タ)アクリル系重合体に対し、0.01〜5重量%用い
るのが好ましい。
る(メタ)アクリル系重合体に、必要に応じて縮合触媒
を混合し硬化させれば、均一な硬化物を得ることができ
る。硬化条件としては特に制限はないが、一般に0〜1
00℃、好ましくは10〜50℃で1時間〜1週間程度
である。硬化物の性状は用いる重合体の主鎖骨格や分子
量に依存するが、ゴム状のものから樹脂状のものまで幅
広く作成することができる。
な用途を挙げるならば、シーリング材、接着剤、粘着
材、弾性接着剤、塗料、粉体塗料、発泡体、電気電子用
ポッティング材、フィルム、成形材料、人工大理石等で
ある。
が、この発明は、下記実施例に限定されるものではな
い。
機、温度計、還流冷却管、ディーンスターク管を取り付
けた三つ口フラスコに、メタクリル酸(137.7g、
1.6mol)、エチレングリコールモノアリルエーテ
ル(80.7g、0.8mol)、p−トルエンスルホ
ン酸(0.76g、4.0mmol)、およびトルエン
(650mL)を仕込んだ。120℃で5時間反応させ
た後、p−トルエンスルホン酸を0.12g追加し、さ
らに同じ温度で6時間反応させ、p−トルエンスルホン
酸を0.1g追加した。同じ温度でさらに9時間反応さ
せて反応を終了した。この間、液体クロマトグラフィー
でメタクリル酸とエチレングリコールモノアリルエーテ
ルを追跡し、転化率は最終的に98%に達した。NaH
CO3水溶液を加えて中和し、2層を分離した。水層を
トルエンで1回抽出し、有機層をCaCl2で乾燥した
後、揮発分を減圧下留去した。粗生成物を減圧蒸留する
(60℃、2mmHg)ことにより、下式に示す2−ア
リロキシエチルメタクリレートを98.7g得た(収率
73%)。 H2C=C(CH3)CO2(CH2)2OCH2CH=CH2
ル酸ブチル(2.5mL、2.24g、17.45mm
ol)、α,α’−ジブロモ−p−キシレン(92.5
mg、0.35mmol)、臭化第一銅(50mg、
0.35mmol)、2,2’−ビピリジル(163m
g、1.05mmol)、および酢酸エチル(2m
L)、アセトニトリル(0.5mL)を仕込み、窒素ガ
スを10分間吹き込んで溶存酸素を除去した後、封管し
た。混合物を130℃に加熱し、1時間反応させた。室
温に冷却した後、製造例1で得られたアリロキシエチル
メタクリレート(600mg、3.5mmol)を窒素
ガス雰囲気下で添加して封管した。混合物を80℃に加
熱し、1時間反応させた。混合物を酢酸エチル(20m
L)で希釈し、生成した不溶固体をろ過した後、濾液を
希塩酸で2回、ブラインで1回洗浄した。有機層をNa
2SO4で乾燥し、揮発分を減圧下留去し、下式に示す両
末端にアルケニル基を有するポリアクリル酸ブチルを
1.97g得た(重合収率88%)。重合体の数平均分
子量はGPC測定(ポリスチレン換算)により670
0、分子量分布は1.60であった。また、オリゴマー
1分子当たりに導入されたアルケニル基は、1HNMR
分析より、5.4個であった。
わりにアクリル酸メチルを使用する以外は全く同様にし
て、下式の構造を有する両末端にアルケニル基を有する
ポリアクリル酸メチルを得た(収率93%)。重合体の
数平均分子量はGPC測定により(ポリスチレン換算)
により7900、分子量分布は2.0であった。また、
オリゴマー1分子当たりに導入されたアルケニル基は、
1H NMR分析より平均3.3個であった。
ル酸ブチル(10mL、8.94g、69.8mmo
l)、α,α’−ジブロモ−p−キシレン(370m
g、1.4mmol)、臭化第一銅(200mg、1.
4mmol)、2,2’−ビピリジル(433mg、
2.8mmol)、およびメチルイソブチルケトン(1
0mL)を仕込み、窒素ガスを10分間吹き込んで溶存
酸素を除去した後、封管した。混合物を130℃に加熱
し、20分反応させた。室温に冷却した後、混合物を酢
酸エチル(20mL)で希釈し、生成した不溶固体をろ
過した後、濾液を希塩酸で2回、ブラインで1回洗浄し
た。有機層をNa2SO4で乾燥し、揮発分を減圧下留去
し、両末端に臭素を有するポリ(アクリル酸ブチル)を
5.21g得た(58%)。重合体の数平均分子量はG
PC測定(ポリスチレン換算)により3700、分子量
分布は1.41であった。
うにして得られたポリ(アクリル酸ブチル)(2.0
g)、p−ジビニルベンゼン(281mg、2.16m
mol)、臭化第一銅(77mg、0.54mmo
l)、2,2’−ビピリジル(167mg、1.08m
mol)、およびメチルイソブチルケトン(4mL)を
仕込み、窒素ガスを10分間吹き込んで溶存酸素を除去
した後、封管した。混合物を130℃に加熱し、30分
反応させた。室温に冷却した後、混合物を酢酸エチル
(10mL)で希釈し、生成した不溶固体をろ過した
後、濾液を希塩酸で2回、ブラインで1回洗浄した。有
機層をNa2SO4で乾燥し、揮発分を減圧下留去し、下
式に示す両末端にアルケニル基を有するポリ(アクリル
酸ブチル)を2.11g得た。重合体の数平均分子量は
GPC測定(ポリスチレン換算)により7300、分子
量分布は2.47であった。また、オリゴマー1分子当
たりに導入されたアルケニル基は、1H NMR分析よ
り、2.1個であった。
ル酸ブチル(5mL、4.47g、34.9mmo
l)、α,α’−ジブロモ−p−キシレン(180m
g、0.69mmol)、臭化第一銅(98mg、0.
69mmol)、2,2’−ビピリジル(319g、
2.06mmol)、および酢酸エチル(4mL)、ア
セトニトリル(1ml)を仕込み、窒素ガスを10分間
吹き込んで溶存酸素を除去した後、封管した。混合物を
130℃に加熱し、1時間反応させた。混合物を冷却
後、窒素雰囲気下でアリルトリブチル錫(0.51m
L、1.64mmol)を添加し、100℃で1時間反
応させた。混合物を酢酸エチル(20mL)で希釈し、
生成した不溶固体をろ過した後、濾液を希塩酸で2回、
ブラインで1回洗浄した。有機層をNa2SO4で乾燥
し、揮発分を減圧下留去し、下式に示す両末端にアルケ
ニル基を有するポリアクリル酸ブチルとブロモトリブチ
ル錫の混合物を得た(収量4.48g)。重合体の数平
均分子量はGPC測定により(ポリスチレン換算)によ
り7700、分子量分布は1.33であった。また、オ
リゴマー1分子当たりに導入されたアルケニル基は、1
H NMR分析より、1.6個であった。
酸メチル(5mL、4.78g、55.6mmol)、
α,α’−ジブロモ−p−キシレン(292mg、1.
11mmol)、臭化第一銅(159mg、1.11m
mol)、2,2’−ビピリジル(518mg、3.3
mmol)、および酢酸エチル(4mL)、アセトニト
リル(1mL)を仕込み、真空脱揮を2回行って溶存酸
素を除去した後、封管した。混合物を130℃に加熱
し、2.7時間反応させた。室温に冷却した後、アリル
トリブチル錫(0.82mL、2.66mmol)を添
加し、80℃で6時間反応させた。混合物を酢酸エチル
(20mL)で希釈し、生成した不溶固体をろ過した
後、濾液を希塩酸で2回、ブラインで1回洗浄した。有
機層をNa2SO4で乾燥し、揮発分を減圧下留去した。
粗生成物を少量のアセトンに溶かし、ヘキサンで再沈殿
を2回行い、下式に示す両末端にアルケニル基を有する
ポリアクリル酸メチルを得た(収量2.80g)。重合
体の数平均分子量はGPC測定により(ポリスチレン換
算)により7000、分子量分布は1.26であった。
また、オリゴマー1分子当たりに導入されたアルケニル
基は、1H NMR分析より、1.7個であった。
0mLの2口フラスコを窒素置換し、2−アリルオキシ
エタノール(2.5mL、23.4mmol)、ピリジ
ン(3mL)、およびTHF(10mL)を仕込んだ。
溶液を0℃に冷却し、2−ブロモプロピオン酸クロライ
ド(2mL、19.52mmol)をゆっくり滴下し
た。そのままの温度で1時間撹拌を続けた後、酢酸エチ
ル(10mL)を加え、生成したピリジンの塩酸塩を濾
過により除去した。濾液を希塩酸(10mL)、NaH
CO3水溶液(10mL)、さらにブライン(10m
L)で洗浄した。有機層をNa2SO4で乾燥し、揮発分
を減圧化留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留するこ
とにより、下式に示すアリルオキシエチル−2−ブロモ
プロピオネートを得た。(78.5〜81℃(1.3m
mHg)、2.986g)。
CH2−O−CH2CH=CH2
0mLの2口フラスコを窒素置換し、5−ヘキセン−1
−オール(2.81mL、23.4mmol)、ピリジ
ン(3mL)、およびTHF(10mL)を仕込んだ。
溶液を0℃に冷却し、2−ブロモプロピオン酸クロライ
ド(2mL、19.52mmol)をゆっくり滴下し
た。そのままの温度で1時間撹拌を続けた後、酢酸エチ
ル(10mL)を加え、生成したピリジンの塩酸塩を濾
過により除去した。濾液を希塩酸(10mL)、NaH
CO3水溶液(10mL)、さらにブライン(10m
L)で洗浄した。有機層をNa2SO4で乾燥し、揮発分
を減圧化留去した。得られた粗生成物を減圧蒸留するこ
とにより、下式に示すヘキセニル−2−ブロモプロピオ
ネートを得た。(82〜83℃(2.3mmHg)、
3.101g)。 CH3C(H)(Br)C(O)O−(CH2)4−CH=CH2
ル酸ブチル(2.5mL、2.24g、17.45mm
ol)、製造例2で得られたアルケニル基を有する開始
剤(165mg、0.698mmol)、臭化第一銅
(100mg、0.698mmol)、2,2’−ビピ
リジル(218mg、1.40mmol)、アセトニト
リル(0.5mL)、酢酸エチル(2mL)を仕込み、
窒素ガスを10分間吹き込んで溶存酸素を除去した後、
封管した。混合物を130℃に加熱し、50分反応させ
た。室温に冷却した後、混合物を酢酸エチル(20m
L)で希釈し、生成した不溶固体をろ過した後、濾液を
希塩酸で2回、ブラインで1回洗浄した。有機層をNa
2SO4で乾燥し、揮発分を減圧下留去して、片末端にア
ルケニル基、他の末端には臭素を有するポリ(アクリル
酸ブチル)を1.90g得た(79%)。重合体の数平
均分子量はGPC測定により(ポリスチレン換算)によ
り3600、分子量分布は1.51であった。また、オ
リゴマー1分子当たりに導入されたアルケニル基は、1
H NMR分析より、0.75個であった。
Lの3つ口フラスコに、上記のようにして得られた重合
体(1.90g)、Na2S・9H2O(70.2mg、
0.293mmol)、およびエタノール(3mL)を
仕込み、還流温度で3時間撹拌した。室温に冷却した
後、酢酸エチル(10mL)、希塩酸(10mL)を加
え、2層を分離した。有機層を希塩酸とブラインで洗浄
し、Na2SO4で乾燥した後、揮発分を減圧下留去する
ことにより、下式に示す両末端にアルケニル基を有する
ポリ(アクリル酸)ブチルを1.69g得た。重合体の
数平均分子量はGPC測定により(ポリスチレン換算)
により5100、分子量分布は1.73であった。
ル酸メチル(5mL、4.78g、55.5mmo
l)、2−メチル−2−ブロモプロピオン酸アリル
(0.354mL、460mg、2.22mmol)、
臭化第一銅(318mg、2.22mmolmmo
l)、2,2’−ビピリジル(1.04g、6.66m
mol)、アセトニトリル(1mL)、酢酸エチル(4
mL)を仕込み、真空脱気を3回行って溶存酸素を除去
した後、封管した。混合物を80℃に加熱し、3時間反
応させた。室温に冷却した後、混合物を酢酸エチル(2
0mL)で希釈し、生成した不溶固体をろ過した後、濾
液を希塩酸で2回、ブラインで1回洗浄した。有機層を
Na2SO4で乾燥し、揮発分を減圧下留去して、片末端
にアルケニル基、他の末端には臭素を有するポリ(アク
リル酸ブチル)を3.93g得た(75%)。重合体の
数平均分子量はGPC測定(ポリスチレン換算)により
2700、分子量分布は1.48であった。また、オリ
ゴマー1分子当たりに導入されたアルケニル基は、1H
NMR分析より、0.81個であった。
Lの3つ口フラスコに、上記のようにして得られた重合
体(1.17g)、Na2S・9H2O(57.6mg、
0.240mmol)、およびエタノール(2mL)を
仕込み、還流温度で3時間撹拌した。室温に冷却した
後、酢酸エチル(10mL)、希塩酸(10mL)を加
え、2層を分離した。有機層を希塩酸とブラインで洗浄
し、Na2SO4で乾燥した後、揮発分を減圧下留去する
ことにより、下式に示す両末端にアルケニル基を有する
ポリ(アクリル酸)ブチルを1.11g得た。重合体の
数平均分子量はGPC測定により(ポリスチレン換算)
により4200、分子量分布は1.71であった。
リル酸ブチル(10mL、8.94g、69.8mmo
l)、製造例2で得られたアルケニル基を有する開始剤
(332mg、1.40mmol)、臭化第一銅(20
0mg、1.40mmol)、2,2’−ビピリジル
(433mg、2.80mmol)、アセトニトリル
(2mL)、および酢酸エチル(8mL)を仕込み、窒
素ガスを10分間吹き込んで溶存酸素を除去した後、封
管した。混合物を130℃に加熱し、1.5時間反応さ
せた。室温に冷却した後、p−ジビニルベンゼン(36
4mg、2.80mmol)を窒素ガス雰囲気下で添加
して封管した。混合物を100℃に加熱し、2時間反応
させた。混合物を酢酸エチル(30mL)で希釈し、生
成した不溶固体をろ過した後、濾液を希塩酸で2回、ブ
ラインで1回洗浄した。有機層をNa 2SO4で乾燥し、
揮発分を減圧下留去し、下式に示す両末端にアルケニル
基を有するポリアクリル酸ブチルを6.43g得た(6
9%)。重合体の数平均分子量はGPC測定(ポリスチ
レン換算)により3900、分子量分布は5.35であ
った。また、オリゴマー1分子当たりに導入されたアル
ケニル基は、1H NMR分析より、1.73個であっ
た。
ケニル基を有する重合体をトルエンに溶解し、重合体と
等量の珪酸アルミ(協和化学製:キョーワード700P
EL)を添加して1時間撹拌し、重合体中の微量不純物
を除去した。次に、精製されたポリ(アクリル酸エステ
ル)と、下式に示す多価ハイドロジェンシリコン化合
物、および、0価白金の1,1,3,3−テトラメチル
−1,3−ジビニルジシロキサン錯体(8.3×10-8
mol/Lキシレン溶液)をよく混合した。多価ハイド
ロジェンシリコン化合物の使用量は、重合体のアルケニ
ル基とハイドロジェンシリコン化合物のヒドロシリル基
がモル比で1/1.2となる量、また、白金触媒の使用
量は、重合体のアルケニル基に対して、モル比で10-4
〜10-3当量とした。
30℃のホットプレート上にて硬化試験を行い、ゲル化
時間を測定した。また、残りの組成物を減圧下に脱気
し、型枠に流し込んで加熱硬化させ、ゴム状の硬化物を
得た。硬化物をトルエンに24時間浸漬し、前後の重量
変化からそのゲル分率を測定した。結果を表1に示し
た。
リル酸ブチル(5mL、4.47g、34.9mmo
l)、α,α’−ジブロモ−p−キシレン(185m
g、0.70mmol)、臭化第一銅(100mg、
0.70mmol)、2,2’−ビピリジル(1.09
g、7.0mmol)、およびアセトニトリル(5m
L)を仕込み、真空脱揮を3回行って溶存酸素を除去し
た後、封管した。混合物を130℃に加熱し、6時間反
応させた。混合物を酢酸エチル(mL)で希釈し、生成
した不溶固体をろ過した後、濾液を希塩酸で3回、ブラ
インで1回洗浄した。有機層をNa2SO4で乾燥し、揮
発分を減圧下留去し、両末端に臭素を有するポリ(アク
リル酸ブチル)を得た(3.04g、重合収率68
%)。重合体の数平均分子量はGPC測定(ポリスチレ
ン換算)により5200、分子量分布は1.17であっ
た。次に、30mLの耐圧反応管に、上で得られた両末
端に臭素を有するポリ(アクリル酸ブチル)(1g)、
トリメトキシシリルプロピルメタクリレート(285m
g、1.15mmol)、臭化第一銅(27.6mg、
0.193mmol)、2,2’−ビピリジル(300
mg、1.93mmol)、および酢酸エチル(3m
L)を仕込み、130℃で6時間反応させたところ、下
式に示す末端にトリメトキシシリル基を有するポリ(ア
クリル酸ブチル)を得た。
リル酸ブチル(5mL、4.47g、34.9mmo
l)、α,α’−ジブロモ−p−キシレン(185m
g、0.70mmol)、臭化第一銅(100mg、
0.70mmol)、2,2’−ビピリジル(217m
g、1.40mmol)、酢酸エチル(4mL)、およ
びアセトニトリル(1mL)を仕込み、窒素バブリング
を10分間行って溶存酸素を除去した後、封管した。混
合物を130℃に加熱し、2時間反応させた。混合物を
冷却した後、メチルジメトキシシリルプロピルメタクリ
レート(650mg、2.8mmol)を添加し、10
0℃で2時間反応させた。混合物を冷却後、酢酸エチル
(20mL)で希釈し、生成した不溶固体をろ過した
後、濾液を塩化アンモニウム水溶液で2回、ブラインで
1回洗浄した。有機層をNa2SO4で乾燥し、揮発分を
減圧下留去し、下式に示す両末端にメチルジメトキシシ
リル基を有するポリ(アクリル酸ブチル)を4.78g
得た(90%)。重合体の数平均分子量はGPC測定
(ポリスチレン換算)により7100、分子量分布は
1.74であった。また、1H NMR分析により、一
分子あたりに導入されたシリル基は3.2個であった。
架橋性シリル基を有するポリ(アクリル酸ブチル)
(2.5g)と硬化触媒((株)日東化成製、U−22
0、75mg)をよく混合し、型枠に流し込んで、減圧
乾操器を用いて室温で脱泡した。室温に7日間放置する
ことにより、均一なゴム状硬化物が得られた。ゲル分率
は54%であった。
困難であった、末端にアルケニル基あるいは加水分解性
シリル基を高い比率で有する、(メタ)アクリル系重合
体を簡便に得ることができ、それらの官能基が確実に末
端に導入されているので、硬化特性の優れた硬化物を得
ることができる。
Claims (21)
- 【請求項1】有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スル
ホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる重合方法によって得られる、一般式1で示
す末端構造を有する(メタ)アクリル系重合体のハロゲ
ンをアルケニル基含有置換基に変換することを特徴とす
る、末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重
合体の製造方法。 −CH2−C(R1)(CO2R2)(X) (1) (式中、R1は水素またはメチル基、R2は炭素数が1〜
20のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基、
Xは塩素、臭素、またはヨウ素) - 【請求項2】有機ハロゲン化物、またはハロゲン化スル
ホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる重合方法によって一般式1で示す末端構造
を有する(メタ)アクリル系重合体を製造し、さらに、
重合性のアルケニル基とそれ以外の少なくとも1つのア
ルケニル基を併せ持つ化合物を反応させることを特徴と
する、請求項1記載の製造方法。 - 【請求項3】重合性のアルケニル基とそれ以外の少なく
とも1つのアルケニル基を併せ持つ化合物が一般式2で
示される化合物である請求項2記載の製造方法。 H2C=C(R3)−R4−R5−C(R6)=CH2 (2) (式中、R3、R6は水素またはメチル、R4は−C
(O)O−(エステル基)、またはo−、m−、p−フ
ェニレン基、R5は直接結合、または炭素数1〜20の
2価の有機基で1個以上のエーテル結合を含んでいても
よい。) - 【請求項4】一般式1で示す末端構造を有する(メタ)
アクリル系重合体に、アルケニル基を有する有機金属化
合物を反応させることを特徴とする請求項1記載の製造
方法。 - 【請求項5】アルケニル基を有する有機金属化合物が一
般式3で示される有機錫化合物であることを特徴とする
請求項4記載の製造方法。 H2C=C(R7)C(R8)(R9)Sn(R10)3 (3) (式中、R7、R8、R9は水素、または炭素数1〜10
のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基で互い
に同じでも異なっていてもよい。R10は、炭素数1〜1
0のアルキル基、アリール基、またはアラルキル基) - 【請求項6】開始剤である有機ハロゲン化物、またはハ
ロゲン化スルホニル化合物が、アルケニル基を有するハ
ロゲン化物であることを特徴とする請求項1〜5記載の
製造方法。 - 【請求項7】アルケニル基を有するハロゲン化物が一般
式4、または5で示される化合物である請求項6記載の
製造方法。 R11R12C(X)−R13−R14−C(R1)=CH2 (4) (式中、R1は水素、またはメチル基、R11、R12は水
素、または、炭素数1〜20の1価のアルキル基、アリ
ール基、またはアラルキル基、または他端において相互
に連結したもの、R13は、−C(O)O−(エステル
基)、−C(O)−(ケト基)、またはo−、m−、p
−フェニレン基、R14は直接結合、または炭素数1〜2
0の2価の有機基で1個以上のエーテル結合を含んでい
ても良い、Xは塩素、臭素、またはヨウ素) H2C=C(R1)−R14−C(R11)(X)−R15−R12 (5) (式中、R1、R11、R12、R14、Xは上記に同じ、R
15は、直接結合、−C(O)O−(エステル基)、−C
(O)−(ケト基)、または、o−,m−,p−フェニ
レン基) - 【請求項8】請求項6または7の方法により、片末端に
アルケニル基、他の末端に一般式1で示される構造を有
する(メタ)アクリル系重合体を製造し、さらに一般式
1のハロゲンを置換することのできる、同一または異な
った官能基を合計2個以上有する化合物を用いて、ハロ
ゲン末端どうしをカップリングすることを特徴とする、
末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系重合体
の製造方法。 - 【請求項9】一般式1のハロゲン末端どうしのカップリ
ング反応を、ポリオール、ポリアミン、ポリカルボン
酸、ポリチオール、およびそれらの塩、アルカリ金属硫
化物からなる群より選ばれる化合物を用いて行うことを
特徴とする請求項8記載の製造方法。 - 【請求項10】(A)請求項1〜9のいずれかの方法で
得られる末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル
系重合体、(B)ヒドロシリル基含有化合物、を含有す
る硬化性組成物。 - 【請求項11】(A)成分の末端にアルケニル基を有す
る(メタ)アクリル系重合体の分子量が500〜500
00の範囲にある請求項10記載の硬化性組成物。 - 【請求項12】有機ハロゲン化物、またはハロゲン化ス
ルホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる重合方法によって得られる、一般式1で示
す末端構造を有する(メタ)アクリル系重合体のハロゲ
ンを、架橋性シリル基含有置換基に変換することを特徴
とする、末端に架橋性シリル基を有する(メタ)アクリ
ル系重合体の製造方法。 - 【請求項13】有機ハロゲン化物、またはハロゲン化ス
ルホニル化合物を開始剤、周期律表第8族、9族、10
族、または11族元素を中心金属とする金属錯体を触媒
として用いる重合方法によって一般式1で示す(メタ)
アクリル系重合体を製造し、さらに、重合性のアルケニ
ル基と架橋性シリル基を併せ持つ化合物を反応させるこ
とを特徴とする、請求項12記載の製造方法。 - 【請求項14】重合性のアルケニル基と架橋性シリル基
を併せ持つ化合物が、一般式6で示される化合物である
請求項13記載の製造方法。 H2C=C(R3)−R4−R5−[Si(R16)2-b(Y)bO]m−Si(R17)3 -a (Y)a (6) (式中、R3、R4およびR5は、一般式2におけるR3、
R4、R5に同じ、R16およびR17は、いずれも炭素数1
〜20のアルキル基、アリール基、アラルキル基、また
は(R’)3SiO−(R’は炭素数1〜20の1価の
炭化水素基であって、3個のR’は同一であってもよ
く、異なっていてもよい)で示されるトリオルガノシロ
キシ基を示し、R16またはR17が2個以上存在すると
き、それらは同一であってもよく、異なっていてもよ
い。Yは水酸基または加水分解性基を示し、Yが2個以
上存在するときそれらは同一であってもよく、異なって
いてもよい。aは0,1,2,または3を、また、bは
0,1,または2を示す。mは0〜19の整数である。
ただし、a+mb≧1であることを満足するものとす
る。) - 【請求項15】開始剤である有機ハロゲン化物、または
ハロゲン化スルホニル化合物が架橋性シリル基を有する
ハロゲン化物である請求項12〜14記載の製造方法。 - 【請求項16】架橋性シリル基を有する有機ハロゲン化
物が一般式7または8で示される化合物である請求項1
5記載の製造方法。 R11R12C(X)−R13−R14−C(H)(R1)CH2−[Si(R16)2-b( Y)bO]m−Si(R17)3-a(Y)a (7) (式中、R1、R11、R12、R13、R14、R16、R17、
a、b、m、X、Yは上記に同じ) (R17)3-a(Y)aSi−[OSi(R16)2-b(Y)b]m−CH2−C(H)( R1)−R14−C(R11)(X)−R15−R12 (8) (式中、R1、R11、R12、R14、R15、R16、R17、
a、b、m、X、Yは上記に同じ) - 【請求項17】請求項15または16の方法により、片
末端に架橋性シリル基、他の末端に一般式1で示される
構造を有する(メタ)アクリル系重合体を製造し、さら
に一般式1のハロゲンを置換することのできる、同一ま
たは異なった官能基を合計2個以上有する化合物を用い
て、ハロゲン末端どうしをカップリングすることを特徴
とする、末端に架橋性シリル基を有する(メタ)アクリ
ル系重合体の製造方法。 - 【請求項18】一般式1のハロゲン末端どうしのカップ
リング反応を、ポリオール、ポリアミン、ポリカルボン
酸、ポリチオール、およびそれらの塩、アルカリ金属硫
化物からなる群より選ばれる化合物を用いて行うことを
特徴とする請求項17記載の製造方法。 - 【請求項19】請求項1〜9のいずれかの方法により得
られる末端にアルケニル基を有する(メタ)アクリル系
重合体に、架橋性シリル基を有するヒドロシランを付加
させることを特徴とする、末端に架橋性シリル基を有す
る(メタ)アクリル系重合体の製造方法。 - 【請求項20】請求項12〜19記載のいずれかの方法
により得られる、末端に架橋性シリル基を有する(メ
タ)アクリル系重合体を主成分とする硬化性組成物。 - 【請求項21】末端に架橋性シリル基を有する(メタ)
アクリル系重合体の分子量が500〜50000の範囲
にある請求項20記載の硬化性組成物。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32647596A JP3806475B2 (ja) | 1996-02-08 | 1996-12-06 | 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法 |
US08/798,034 US5986014A (en) | 1996-02-08 | 1997-02-06 | Processes for preparing (meth)acrylic polymers having functional groups at the chain ends |
EP97101970A EP0789036B1 (en) | 1996-02-08 | 1997-02-07 | (Meth)-acrylic polymers having functional groups at the chain ends |
DE69706077T DE69706077T2 (de) | 1996-02-08 | 1997-02-07 | (Meth)acrylpolymeren mit funktionellen Gruppen an den Kettenenden |
US09/356,515 US6420492B1 (en) | 1996-02-08 | 1999-07-19 | Processes for preparing (meth) acrylic polymers having functional groups at the chain ends |
US09/583,106 US6441101B1 (en) | 1996-02-08 | 1999-09-15 | Processes for preparing (METH) acrylic polymers having functional groups at the chain ends |
US10/142,877 US6667369B2 (en) | 1996-02-08 | 2002-05-13 | Processes for preparing (meth) acrylic polymers having functional groups at the chain ends |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-22233 | 1996-02-08 | ||
JP2223396 | 1996-02-08 | ||
JP32647596A JP3806475B2 (ja) | 1996-02-08 | 1996-12-06 | 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006026343A Division JP4231054B2 (ja) | 1996-02-08 | 2006-02-02 | 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09272714A true JPH09272714A (ja) | 1997-10-21 |
JP3806475B2 JP3806475B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=26359412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32647596A Expired - Fee Related JP3806475B2 (ja) | 1996-02-08 | 1996-12-06 | 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US5986014A (ja) |
EP (1) | EP0789036B1 (ja) |
JP (1) | JP3806475B2 (ja) |
DE (1) | DE69706077T2 (ja) |
Cited By (71)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000072816A (ja) * | 1998-02-27 | 2000-03-07 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 重合体及び硬化性組成物 |
JP2000154205A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-06-06 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 重合体、重合体の製造方法及び組成物 |
JP2000169505A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-20 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 星形重合体の製造方法 |
JP2002012621A (ja) * | 2000-04-27 | 2002-01-15 | Soken Chem & Eng Co Ltd | 分子末端に重合性不飽和基を有するアクリル系重合体 |
WO2004069923A1 (ja) | 2003-01-22 | 2004-08-19 | Kaneka Corporation | 重合体及び貯蔵安定性が改善された硬化性組成物 |
US6784240B2 (en) | 2000-01-28 | 2004-08-31 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2004074381A1 (ja) | 2003-02-24 | 2004-09-02 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
US6831130B2 (en) | 2000-05-24 | 2004-12-14 | Kaneka Corporation | Composition of crosslinkable polyether, crosslinkable vinyl polymer and compatibilizer |
WO2005042598A1 (ja) * | 2003-11-04 | 2005-05-12 | Kaneka Corporation | ポリオレフィン系グラフト共重合体、組成物およびその製造方法 |
EP1375531A4 (en) * | 2001-03-13 | 2006-02-08 | Kaneka Corp | METHOD FOR PRODUCING VINYL POLYMER WITH END-STANDING ALKENYL GROUP, VINYL POLYMER AND HARDENABLE COMPOSITION |
US7026397B2 (en) * | 2000-02-08 | 2006-04-11 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
EP1652884A1 (en) | 1998-10-08 | 2006-05-03 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
JP2006316287A (ja) * | 2002-11-01 | 2006-11-24 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
JP2007046067A (ja) * | 1998-06-01 | 2007-02-22 | Kaneka Corp | 重合体の製造方法、該重合体及び該重合体からなる硬化性組成物 |
US7186780B2 (en) | 2001-02-28 | 2007-03-06 | Kaneka Corporation | Polymer and liquid gasket for in-place forming |
WO2007029733A1 (ja) | 2005-09-08 | 2007-03-15 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2007037484A1 (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2007037485A1 (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
JP2007182590A (ja) * | 1998-10-08 | 2007-07-19 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
WO2007094273A1 (ja) | 2006-02-16 | 2007-08-23 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
JP2007254758A (ja) * | 1998-06-19 | 2007-10-04 | Kaneka Corp | 枝分かれした重合体の製造方法及び重合体 |
WO2007123167A1 (ja) | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
JP2007297642A (ja) * | 1998-09-02 | 2007-11-15 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
WO2008032539A1 (fr) | 2006-09-13 | 2008-03-20 | Kaneka Corporation | POLYMÈRE DURCISSABLE À L'HUMIDITÉ COMPORTANT UN GROUPE SiF ET COMPOSITION DURCISSABLE CONTENANT UN TEL POLYMÈRE |
WO2008041768A1 (fr) | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Kaneka Corporation | Composition durcissable |
WO2008053875A1 (fr) | 2006-11-01 | 2008-05-08 | Kaneka Corporation | Polymère organique durcissable, procédé de fabrication de celui-ci, et composition durcissable contenant le polymère |
JP2008111136A (ja) * | 1998-10-08 | 2008-05-15 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
WO2008062866A1 (fr) | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Kaneka Corporation | Composition durcissable et composition de catalyseur |
WO2008078654A1 (ja) | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2008084651A1 (ja) | 2007-01-12 | 2008-07-17 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
CN100410318C (zh) * | 1998-10-08 | 2008-08-13 | 钟渊化学工业株式会社 | 可固化的组合物 |
JP2008266658A (ja) * | 1998-06-01 | 2008-11-06 | Kaneka Corp | 星形重合体の製造方法 |
WO2009011329A1 (ja) | 2007-07-19 | 2009-01-22 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2010035820A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2010082488A1 (ja) | 2009-01-16 | 2010-07-22 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
EP2233532A1 (en) | 2002-11-01 | 2010-09-29 | Kaneka Corporation | Curable composition |
JP2010265399A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Toagosei Co Ltd | 硬化性組成物 |
JP2011074267A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Toagosei Co Ltd | 塗料用熱硬化性組成物 |
WO2011089878A1 (ja) | 2010-01-19 | 2011-07-28 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
US8003744B2 (en) | 2003-08-25 | 2011-08-23 | Kaneka Corporation | Curing composition with improved heat resistance |
EP2366733A2 (en) | 2005-09-30 | 2011-09-21 | Kaneka Corporation | Curable composition improved in curability and storage stability |
US8030427B2 (en) | 2004-06-09 | 2011-10-04 | Kaneka Corporation | Curable composition |
US8067520B2 (en) | 2005-01-11 | 2011-11-29 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2011152002A1 (ja) | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 株式会社カネカ | 湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物 |
WO2012033030A1 (ja) | 2010-09-09 | 2012-03-15 | 株式会社カネカ | 湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物 |
WO2012057092A1 (ja) | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
JP4959983B2 (ja) * | 2003-09-02 | 2012-06-27 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2012117902A1 (ja) | 2011-03-02 | 2012-09-07 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2012121288A1 (ja) | 2011-03-09 | 2012-09-13 | 株式会社カネカ | 接着剤組成物と木材からなる接着構造体 |
WO2012141281A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 株式会社カネカ | 建築用外装材 |
EP2546307A2 (en) | 2004-11-10 | 2013-01-16 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2013042702A1 (ja) | 2011-09-22 | 2013-03-28 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
JP2013536303A (ja) * | 2010-08-25 | 2013-09-19 | ヘンケル コーポレイション | 鎖末端近傍に湿気硬化性官能基クラスターを有する硬化性組成物 |
US8658738B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-02-25 | Kaneka Corporation | Curable resin composition |
WO2014050592A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 株式会社カネカ | 構造体 |
WO2014121007A2 (en) | 2013-02-01 | 2014-08-07 | 3M Innovative Properties Company | Coating compositions and articles made therefrom |
WO2015098998A1 (ja) | 2013-12-26 | 2015-07-02 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2015111577A1 (ja) | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2015126931A1 (en) | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Easy to apply air and water barrier articles |
WO2015183354A2 (en) | 2014-02-18 | 2015-12-03 | 3M Innovative Properties Company | Self sealing articles |
WO2016019248A1 (en) | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 3M Innovative Properties Company | Self sealing permeable air barrier compositions |
WO2016106273A1 (en) | 2014-12-22 | 2016-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Air and water barrier articles |
WO2017031359A1 (en) | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Air and water barrier article with porous layer and liner |
JP2018501383A (ja) * | 2015-01-08 | 2018-01-18 | ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 狭い多分散指数を有する高分子量ポリアクリレートの製造方法、および、それから製造された組成物 |
US9976028B2 (en) | 2015-02-23 | 2018-05-22 | King Industries | Curable coating compositions of silane functional polymers |
JPWO2017043373A1 (ja) * | 2015-09-09 | 2018-06-28 | 綜研化学株式会社 | 片末端に置換基を有する(メタ)アクリル系重合体の製造方法 |
JP2018162394A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 株式会社カネカ | 加水分解性シリル基を含有するポリ(メタ)アクリレートの製造方法 |
WO2019235034A1 (ja) | 2018-06-07 | 2019-12-12 | 株式会社カネカ | 発泡体用樹脂組成物、発泡体、及び発泡体の製造方法 |
WO2021024206A1 (en) | 2019-08-07 | 2021-02-11 | 3M Innovative Properties Company | Tape, article including tape and composite layer, and related methods |
WO2022270196A1 (ja) | 2021-06-22 | 2022-12-29 | 株式会社スリーボンド | 湿気硬化型樹脂組成物 |
WO2024071051A1 (ja) | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
Families Citing this family (77)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6541580B1 (en) | 1995-03-31 | 2003-04-01 | Carnegie Mellon University | Atom or group transfer radical polymerization |
US5763548A (en) | 1995-03-31 | 1998-06-09 | Carnegie-Mellon University | (Co)polymers and a novel polymerization process based on atom (or group) transfer radical polymerization |
US5807937A (en) | 1995-11-15 | 1998-09-15 | Carnegie Mellon University | Processes based on atom (or group) transfer radical polymerization and novel (co) polymers having useful structures and properties |
JP3806475B2 (ja) * | 1996-02-08 | 2006-08-09 | 株式会社カネカ | 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法 |
US5789487A (en) * | 1996-07-10 | 1998-08-04 | Carnegie-Mellon University | Preparation of novel homo- and copolymers using atom transfer radical polymerization |
US5910549A (en) * | 1996-08-22 | 1999-06-08 | Carnegie-Mellon University | Method for preparation of alkoxyamines from nitroxyl radicals |
DE69729843T2 (de) * | 1996-11-28 | 2005-08-25 | Kaneka Corp. | Verfahren zur Herstellung eines (Meth)acrylpolymers mit endständiger Hydroxylgruppe und dieses Polymer |
US7125938B2 (en) | 1997-03-11 | 2006-10-24 | Carnegie Mellon University | Atom or group transfer radical polymerization |
EP1637544A3 (en) * | 1997-04-18 | 2006-05-17 | Kaneka Corporation | Polymers, process for processing the same, and curable compositions produced therefrom |
DE69840831D1 (de) * | 1997-07-28 | 2009-06-25 | Kaneka Corp | Härtbare klebstoffzusammensetzung |
US6720395B2 (en) * | 1997-07-28 | 2004-04-13 | Kaneka Corporation | Method for producing a stellar polymer |
US6274688B1 (en) * | 1997-07-28 | 2001-08-14 | Kaneka Corporation | Functional groups-terminated vinyl polymers |
WO1999007803A1 (en) * | 1997-08-06 | 1999-02-18 | Kaneka Corporation | Self-adhesive composition |
DE69829063T2 (de) * | 1997-09-22 | 2006-03-23 | Kaneka Corp. | Polymer, verfahren zu dessen herstellung und härtbare zusammensetzung, die dieses polymer enthält |
DE69933544T2 (de) | 1998-02-27 | 2007-02-08 | Kaneka Corp. | Polymer und härtbare zusammensetzung |
US6649701B1 (en) | 1998-03-27 | 2003-11-18 | Kaneka Corporation | Polymer and process for producing polymer |
US6121371A (en) * | 1998-07-31 | 2000-09-19 | Carnegie Mellon University | Application of atom transfer radical polymerization to water-borne polymerization systems |
AU3643899A (en) * | 1998-04-20 | 1999-11-08 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Removal of halogens from polymerization product and the reduced halogen polymer and method |
WO1999055751A1 (fr) | 1998-04-28 | 1999-11-04 | Kaneka Corporation | Copolymere bloc |
CA2333925A1 (en) | 1998-06-01 | 1999-12-09 | Kaneka Corporation | Process for producing polymer, the polymer and curable composition comprising the polymer |
WO1999065963A1 (fr) | 1998-06-19 | 1999-12-23 | Kaneka Corporation | Procede de fabrication d'un polymere ramifie et polymere correspondant |
US6479584B1 (en) | 1998-08-20 | 2002-11-12 | Kaneka Corporation | Resin composition, polymer, and process for producing polymer |
EP1997835B1 (en) | 1998-08-20 | 2010-06-30 | Kaneka Corporation | Epoxy resin compositions |
EP1149870A4 (en) | 1998-08-20 | 2004-12-08 | Kaneka Corp | COMPOSITION FOR ROLLS AND ROLLS AS MADE |
CA2342872A1 (en) | 1998-09-02 | 2000-03-16 | Kaneka Corporation | Polymer, processes for producing polymer, and composition |
US6933350B1 (en) * | 1998-10-08 | 2005-08-23 | Kaneka Corporation | Polymers having reactive functional groups at terminus and curable compositions comprising the same |
WO2000024824A1 (fr) * | 1998-10-28 | 2000-05-04 | Kaneka Corporation | Composition de caoutchouc acrylique |
WO2000044796A1 (fr) * | 1999-01-28 | 2000-08-03 | Kaneka Corporation | Polymere, procede de preparation du polymere, et composition durcissable contenant le polymere |
CA2365605A1 (en) * | 1999-04-02 | 2000-10-12 | Kaneka Corporation | Method of treating polymer |
US20060128893A1 (en) * | 2000-02-08 | 2006-06-15 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
US6815010B2 (en) * | 2000-05-31 | 2004-11-09 | Rohm and Naas Company | Method of inhibiting the loss of solar reflectance over time of an exterior elastomeric |
US20040210019A1 (en) * | 2001-06-21 | 2004-10-21 | Nobuhiro Hasegawa | Quick curing compositions |
US6841641B2 (en) * | 2001-09-27 | 2005-01-11 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Copolymers comprising low surface tension (meth) acrylates |
WO2003033546A1 (fr) | 2001-10-17 | 2003-04-24 | Kaneka Corporation | Procede de production de polymere vinylique |
US7323519B2 (en) | 2002-01-21 | 2008-01-29 | Kaneka Corporation | Process for producing vinyl polymer, vinyl polymer, and curable composition |
JP2004059783A (ja) * | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 金型離型性を有する硬化性組成物 |
WO2004031316A1 (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-15 | Nok Corporation | 金属または樹脂一体型ガスケット |
JPWO2004031315A1 (ja) * | 2002-10-04 | 2006-02-02 | Nok株式会社 | シール材料 |
JP4024669B2 (ja) * | 2002-12-24 | 2007-12-19 | 株式会社カネカ | 末端に重合性炭素―炭素二重結合を持つ基を有するビニル系重合体の安定化方法 |
EP1616886A4 (en) * | 2003-02-18 | 2006-06-14 | Konishi Co Ltd | CURABLE RESIN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND CURABLE RESIN COMPOSITION |
WO2004099318A1 (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-18 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2005087819A1 (en) | 2004-03-05 | 2005-09-22 | Carnegie Mellon University | Atom transfer radical polymerization process |
US7795355B2 (en) | 2004-03-05 | 2010-09-14 | Carnegie Mellon University | Preparation of functional polymers |
CN100500740C (zh) * | 2004-03-30 | 2009-06-17 | 株式会社钟化 | 固化性组合物 |
DE602005001755T2 (de) | 2004-11-16 | 2008-04-30 | Bostik S.A. | Verfahren zur Abdichtung von Schiffsdecks |
EP1873208B2 (en) * | 2005-04-15 | 2024-10-09 | Kaneka Corporation | Curable composition and cured article excellent in transparency |
DE602006012336D1 (de) | 2005-08-23 | 2010-04-01 | Univ Carnegie Mellon | Radikalische atomtransfer-polymerisation in mikroemulsion und echte emulsionspolymerisation |
EP1943278B1 (en) | 2005-08-26 | 2010-10-06 | Carnegie Mellon University | Polymerization process with catalyst reactivation |
CN1986644A (zh) * | 2005-12-21 | 2007-06-27 | 汉高股份两合公司 | 稳定的硅烷化聚合物乳液及其制备方法和应用 |
WO2007077888A1 (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
EP2045014B8 (en) * | 2006-07-25 | 2014-02-26 | National University Corporation Hokkaido University | Polymer-supported metal complex catalyst |
WO2008057163A2 (en) | 2006-10-09 | 2008-05-15 | Carnegie Mellon University | Preparation of functional gel particles with a dual crosslink network |
CN101230138A (zh) | 2007-01-25 | 2008-07-30 | 汉高股份两合公司 | 水性硅烷化聚合物乳液及其制备方法和应用 |
US8525287B2 (en) | 2007-04-18 | 2013-09-03 | Invisage Technologies, Inc. | Materials, systems and methods for optoelectronic devices |
US20100044676A1 (en) | 2008-04-18 | 2010-02-25 | Invisage Technologies, Inc. | Photodetectors and Photovoltaics Based on Semiconductor Nanocrystals |
EP2667412A1 (en) | 2007-04-18 | 2013-11-27 | Invisage Technologies, INC. | Materials, systems and methods for optoelectronic devices |
GB2463198B (en) | 2007-05-23 | 2013-05-22 | Univ Carnegie Mellon | Hybrid particle composite structures with reduced scattering |
GB2463199B (en) | 2007-05-23 | 2012-09-26 | Univ Carnegie Mellon | Atom transfer dispersion polymerization |
CN101469125A (zh) * | 2007-12-26 | 2009-07-01 | 汉高股份两合公司 | 单组分自交联活性有机硅封端聚环氧丙烷乳液及其制备方法 |
US8203195B2 (en) | 2008-04-18 | 2012-06-19 | Invisage Technologies, Inc. | Materials, fabrication equipment, and methods for stable, sensitive photodetectors and image sensors made therefrom |
US8138297B2 (en) | 2009-02-09 | 2012-03-20 | Momentive Performance Materials Inc. | Moisture-curable silylated polymer possessing improved storage stability |
GB2481561B (en) | 2009-03-27 | 2013-12-11 | Univ Carnegie Mellon | Preparation of functional star macromolecules |
FR2948123B1 (fr) | 2009-07-20 | 2011-12-16 | Bostik Sa | Colle de reparation ou de fixation sans organoetain |
WO2011156507A1 (en) | 2010-06-08 | 2011-12-15 | Edward Hartley Sargent | Stable, sensitive photodetectors and image sensors including circuits, processes, and materials for enhanced imaging performance |
JP4672809B1 (ja) * | 2010-09-07 | 2011-04-20 | コニシ株式会社 | シーリング材組成物 |
US9644042B2 (en) | 2010-12-17 | 2017-05-09 | Carnegie Mellon University | Electrochemically mediated atom transfer radical polymerization |
US20140275420A1 (en) | 2011-08-22 | 2014-09-18 | Carnegie Mellon University | Atom transfer radical polymerization under biologically compatible conditions |
WO2013126745A2 (en) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | Carnegie Mellon University | Ligands designed to provide highly active catalyst complexes |
US8729179B1 (en) | 2012-08-20 | 2014-05-20 | Henkel US IP LLC | Moisture curable polyacrylates |
US9156981B2 (en) | 2013-07-24 | 2015-10-13 | Momentive Performance Materials Inc. | Moisture curable compositions with enhanced elongation and tear strength properties |
CN106459256A (zh) | 2014-06-27 | 2017-02-22 | 汉高知识产权控股有限责任公司 | 烷氧基化硅烷官能化的烃化合物、其中间体及其制备方法 |
US9982070B2 (en) | 2015-01-12 | 2018-05-29 | Carnegie Mellon University | Aqueous ATRP in the presence of an activator regenerator |
WO2018132582A1 (en) | 2017-01-12 | 2018-07-19 | Carnegie Mellon University | Surfactant assisted formation of a catalyst complex for emulsion atom transfer radical polymerization processes |
US11365328B2 (en) | 2017-02-23 | 2022-06-21 | 3M Innovative Properties Company | Air and water barrier article including inelastic porous layer |
CN107216788B (zh) * | 2017-05-24 | 2019-04-19 | 惠州市惠阳区嘉泰涂料有限公司 | 一种自交联丙烯酸酯乳液及其制备方法 |
JP7067229B2 (ja) * | 2018-04-17 | 2022-05-16 | 信越化学工業株式会社 | 反応性ケイ素含有基を有するポリマーおよびその製造方法 |
JP2023507605A (ja) | 2019-12-19 | 2023-02-24 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン | 湿気硬化性ポリアクリレート組成物およびその使用 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1495726A1 (de) * | 1963-07-03 | 1969-11-13 | Forschungsgesellschaft Kunstst | Verfahren zur Herstellung makromolekularer Verbindungen mit aethylenisch oder acetylenisch ungesaettigten Gruppen |
GB1127625A (en) * | 1964-09-28 | 1968-09-18 | Johnson & Johnson | Method of cross-linking polymers |
BE674141A (ja) * | 1964-12-22 | 1966-04-15 | ||
US3979354A (en) * | 1974-01-31 | 1976-09-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Non-polluting, antifouling composition and method |
DE2405806A1 (de) | 1974-02-07 | 1975-08-21 | Kieserling & Albrecht | Vorrichtung an einer werkzeugmaschine zur markierung von fehlerstellen |
US4126595A (en) * | 1975-06-17 | 1978-11-21 | Rohm And Haas Company | Aqueous coating compositions comprising acrylic oligomers, high molecular weight polymers and crosslinkers |
FR2412572A1 (fr) * | 1977-12-23 | 1979-07-20 | Poudres & Explosifs Ste Nale | Prepolymeres acryliques thermoplastiques reactifs et leur procede d'obtention |
JPS57179261A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-04 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Paint for metallic base |
DE3227552A1 (de) * | 1982-07-23 | 1984-01-26 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Copolymerisate mit ethylenisch ungesaettigten grundbausteinen und mehreren funktionellen gruppen |
JPS59168014A (ja) | 1983-03-15 | 1984-09-21 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 硬化性弾性組成物 |
JPS61133201A (ja) | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Sunstar Giken Kk | 室温硬化性弾性組成物 |
US4758631A (en) * | 1986-10-16 | 1988-07-19 | Dow Corning Corporation | Method of preparing allyl-terminated polyisobutylene |
DE3710343A1 (de) * | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Basf Lacke & Farben | Verzweigtes acrylatcopolymerisat mit polisierbaren doppelbindungen und verfahren zur herstellung des acrylatcopolymerisats |
JP2594402B2 (ja) | 1991-08-05 | 1997-03-26 | 株式会社日本触媒 | 重合体の製造方法 |
JPH05255415A (ja) | 1992-03-11 | 1993-10-05 | Takeda Chem Ind Ltd | 共重合体ラテックスの製造方法、共重合体ラテックスおよびそれを用いた紙塗工用組成物 |
US5773534A (en) * | 1992-05-22 | 1998-06-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparing crosslinkable polymers employing macromonomer chain transfer agents |
US6040009A (en) * | 1994-06-23 | 2000-03-21 | Mazda Motor Corporation | Low solvent content type-resin composition, coating composition containing such resin composition and process for coating such coating composition |
US5763548A (en) | 1995-03-31 | 1998-06-09 | Carnegie-Mellon University | (Co)polymers and a novel polymerization process based on atom (or group) transfer radical polymerization |
US5807937A (en) | 1995-11-15 | 1998-09-15 | Carnegie Mellon University | Processes based on atom (or group) transfer radical polymerization and novel (co) polymers having useful structures and properties |
JP3806475B2 (ja) * | 1996-02-08 | 2006-08-09 | 株式会社カネカ | 末端に官能基を有する(メタ)アクリル系重合体の 製造方法 |
US5789487A (en) | 1996-07-10 | 1998-08-04 | Carnegie-Mellon University | Preparation of novel homo- and copolymers using atom transfer radical polymerization |
-
1996
- 1996-12-06 JP JP32647596A patent/JP3806475B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-02-06 US US08/798,034 patent/US5986014A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-02-07 EP EP97101970A patent/EP0789036B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-02-07 DE DE69706077T patent/DE69706077T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-19 US US09/356,515 patent/US6420492B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-09-15 US US09/583,106 patent/US6441101B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-05-13 US US10/142,877 patent/US6667369B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (83)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000072816A (ja) * | 1998-02-27 | 2000-03-07 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 重合体及び硬化性組成物 |
JP2008266658A (ja) * | 1998-06-01 | 2008-11-06 | Kaneka Corp | 星形重合体の製造方法 |
JP2007046067A (ja) * | 1998-06-01 | 2007-02-22 | Kaneka Corp | 重合体の製造方法、該重合体及び該重合体からなる硬化性組成物 |
JP2007254758A (ja) * | 1998-06-19 | 2007-10-04 | Kaneka Corp | 枝分かれした重合体の製造方法及び重合体 |
JP2007297642A (ja) * | 1998-09-02 | 2007-11-15 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
JP2000154205A (ja) * | 1998-09-02 | 2000-06-06 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 重合体、重合体の製造方法及び組成物 |
JP2011094160A (ja) * | 1998-10-08 | 2011-05-12 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
JP2008111136A (ja) * | 1998-10-08 | 2008-05-15 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
US7601781B2 (en) | 1998-10-08 | 2009-10-13 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
JP2007182590A (ja) * | 1998-10-08 | 2007-07-19 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
EP1652884A1 (en) | 1998-10-08 | 2006-05-03 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
US7388038B2 (en) | 1998-10-08 | 2008-06-17 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
CN100410318C (zh) * | 1998-10-08 | 2008-08-13 | 钟渊化学工业株式会社 | 可固化的组合物 |
JP2000169505A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-20 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 星形重合体の製造方法 |
US6784240B2 (en) | 2000-01-28 | 2004-08-31 | Kaneka Corporation | Curable composition |
US7026397B2 (en) * | 2000-02-08 | 2006-04-11 | Kaneka Corporation | Curable compositions |
JP2002012621A (ja) * | 2000-04-27 | 2002-01-15 | Soken Chem & Eng Co Ltd | 分子末端に重合性不飽和基を有するアクリル系重合体 |
US6831130B2 (en) | 2000-05-24 | 2004-12-14 | Kaneka Corporation | Composition of crosslinkable polyether, crosslinkable vinyl polymer and compatibilizer |
US7186780B2 (en) | 2001-02-28 | 2007-03-06 | Kaneka Corporation | Polymer and liquid gasket for in-place forming |
US7511102B2 (en) | 2001-02-28 | 2009-03-31 | Kaneka Corporation | Polymer and liquid gasket for In-Place forming |
US7081503B2 (en) | 2001-03-13 | 2006-07-25 | Kaneka Corporation | Process producing vinyl polymer having alkenyl group at end, vinyl polymer, and curable composition |
EP1375531A4 (en) * | 2001-03-13 | 2006-02-08 | Kaneka Corp | METHOD FOR PRODUCING VINYL POLYMER WITH END-STANDING ALKENYL GROUP, VINYL POLYMER AND HARDENABLE COMPOSITION |
EP2233531A1 (en) | 2002-11-01 | 2010-09-29 | Kaneka Corporation | Curable composition |
JP2006316287A (ja) * | 2002-11-01 | 2006-11-24 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
US7910682B2 (en) | 2002-11-01 | 2011-03-22 | Kaneka Corporation | Curable composition and methods for improving recovery properties and creep properties |
EP2233532A1 (en) | 2002-11-01 | 2010-09-29 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2004069923A1 (ja) | 2003-01-22 | 2004-08-19 | Kaneka Corporation | 重合体及び貯蔵安定性が改善された硬化性組成物 |
WO2004074381A1 (ja) | 2003-02-24 | 2004-09-02 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
US8003744B2 (en) | 2003-08-25 | 2011-08-23 | Kaneka Corporation | Curing composition with improved heat resistance |
JP4959983B2 (ja) * | 2003-09-02 | 2012-06-27 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2005042598A1 (ja) * | 2003-11-04 | 2005-05-12 | Kaneka Corporation | ポリオレフィン系グラフト共重合体、組成物およびその製造方法 |
US8030427B2 (en) | 2004-06-09 | 2011-10-04 | Kaneka Corporation | Curable composition |
EP2546307A2 (en) | 2004-11-10 | 2013-01-16 | Kaneka Corporation | Curable composition |
EP2546308A2 (en) | 2004-11-10 | 2013-01-16 | Kaneka Corporation | Curable composition |
US8067520B2 (en) | 2005-01-11 | 2011-11-29 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2007029733A1 (ja) | 2005-09-08 | 2007-03-15 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2007037485A1 (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
EP2366733A2 (en) | 2005-09-30 | 2011-09-21 | Kaneka Corporation | Curable composition improved in curability and storage stability |
WO2007037484A1 (ja) | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2007094273A1 (ja) | 2006-02-16 | 2007-08-23 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2007123167A1 (ja) | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2008032539A1 (fr) | 2006-09-13 | 2008-03-20 | Kaneka Corporation | POLYMÈRE DURCISSABLE À L'HUMIDITÉ COMPORTANT UN GROUPE SiF ET COMPOSITION DURCISSABLE CONTENANT UN TEL POLYMÈRE |
WO2008041768A1 (fr) | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Kaneka Corporation | Composition durcissable |
US7977399B2 (en) | 2006-10-05 | 2011-07-12 | Kaneka Corporation | Curable composition |
WO2008053875A1 (fr) | 2006-11-01 | 2008-05-08 | Kaneka Corporation | Polymère organique durcissable, procédé de fabrication de celui-ci, et composition durcissable contenant le polymère |
WO2008062866A1 (fr) | 2006-11-22 | 2008-05-29 | Kaneka Corporation | Composition durcissable et composition de catalyseur |
EP2302000A1 (en) | 2006-11-22 | 2011-03-30 | Kaneka Corporation | Curable composition and catalyst composition |
WO2008078654A1 (ja) | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2008084651A1 (ja) | 2007-01-12 | 2008-07-17 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2009011329A1 (ja) | 2007-07-19 | 2009-01-22 | Kaneka Corporation | 硬化性組成物 |
WO2010035821A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2010035820A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2010082488A1 (ja) | 2009-01-16 | 2010-07-22 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
JP2010265399A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Toagosei Co Ltd | 硬化性組成物 |
US8658738B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-02-25 | Kaneka Corporation | Curable resin composition |
JP2011074267A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Toagosei Co Ltd | 塗料用熱硬化性組成物 |
WO2011089878A1 (ja) | 2010-01-19 | 2011-07-28 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2011152002A1 (ja) | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 株式会社カネカ | 湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物 |
JP2013536303A (ja) * | 2010-08-25 | 2013-09-19 | ヘンケル コーポレイション | 鎖末端近傍に湿気硬化性官能基クラスターを有する硬化性組成物 |
WO2012033030A1 (ja) | 2010-09-09 | 2012-03-15 | 株式会社カネカ | 湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤組成物 |
WO2012057092A1 (ja) | 2010-10-27 | 2012-05-03 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2012117902A1 (ja) | 2011-03-02 | 2012-09-07 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2012121288A1 (ja) | 2011-03-09 | 2012-09-13 | 株式会社カネカ | 接着剤組成物と木材からなる接着構造体 |
WO2012141281A1 (ja) | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 株式会社カネカ | 建築用外装材 |
WO2013042702A1 (ja) | 2011-09-22 | 2013-03-28 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2014050592A1 (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 株式会社カネカ | 構造体 |
WO2014121007A2 (en) | 2013-02-01 | 2014-08-07 | 3M Innovative Properties Company | Coating compositions and articles made therefrom |
WO2015098998A1 (ja) | 2013-12-26 | 2015-07-02 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2015111577A1 (ja) | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
WO2015183354A2 (en) | 2014-02-18 | 2015-12-03 | 3M Innovative Properties Company | Self sealing articles |
WO2015126931A1 (en) | 2014-02-18 | 2015-08-27 | 3M Innovative Properties Company | Easy to apply air and water barrier articles |
WO2016019248A1 (en) | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 3M Innovative Properties Company | Self sealing permeable air barrier compositions |
WO2016106273A1 (en) | 2014-12-22 | 2016-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Air and water barrier articles |
JP2018501383A (ja) * | 2015-01-08 | 2018-01-18 | ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 狭い多分散指数を有する高分子量ポリアクリレートの製造方法、および、それから製造された組成物 |
US10640641B2 (en) | 2015-02-23 | 2020-05-05 | King Industries | Curable coating compositions of silane functional polymers |
US9976028B2 (en) | 2015-02-23 | 2018-05-22 | King Industries | Curable coating compositions of silane functional polymers |
WO2017031359A1 (en) | 2015-08-18 | 2017-02-23 | 3M Innovative Properties Company | Air and water barrier article with porous layer and liner |
JPWO2017043373A1 (ja) * | 2015-09-09 | 2018-06-28 | 綜研化学株式会社 | 片末端に置換基を有する(メタ)アクリル系重合体の製造方法 |
JP2018162394A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 株式会社カネカ | 加水分解性シリル基を含有するポリ(メタ)アクリレートの製造方法 |
WO2019235034A1 (ja) | 2018-06-07 | 2019-12-12 | 株式会社カネカ | 発泡体用樹脂組成物、発泡体、及び発泡体の製造方法 |
WO2021024206A1 (en) | 2019-08-07 | 2021-02-11 | 3M Innovative Properties Company | Tape, article including tape and composite layer, and related methods |
WO2022270196A1 (ja) | 2021-06-22 | 2022-12-29 | 株式会社スリーボンド | 湿気硬化型樹脂組成物 |
WO2024071051A1 (ja) | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020177670A1 (en) | 2002-11-28 |
US6441101B1 (en) | 2002-08-27 |
EP0789036A2 (en) | 1997-08-13 |
JP3806475B2 (ja) | 2006-08-09 |
DE69706077D1 (de) | 2001-09-20 |
US5986014A (en) | 1999-11-16 |
DE69706077T2 (de) | 2002-04-18 |
US6420492B1 (en) | 2002-07-16 |
EP0789036A3 (en) | 1997-11-12 |
EP0789036B1 (en) | 2001-08-16 |
US6667369B2 (en) | 2003-12-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050708 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060418 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090519 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519 Year of fee payment: 7 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519 Year of fee payment: 7 |
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