JPH08245202A - 高濃度オゾンの供給装置 - Google Patents
高濃度オゾンの供給装置Info
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- JPH08245202A JPH08245202A JP8015649A JP1564996A JPH08245202A JP H08245202 A JPH08245202 A JP H08245202A JP 8015649 A JP8015649 A JP 8015649A JP 1564996 A JP1564996 A JP 1564996A JP H08245202 A JPH08245202 A JP H08245202A
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- ozone
- oxygen
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 TSA法によりオゾンを濃縮するにあたり、
吸着剤の冷却を効率よく行うことができ、オゾン原料と
しての酸素を有効に利用することができる高濃度オゾン
の供給装置を提供する。 【解決手段】 低温酸素供給手段からの低温酸素を温度
変動式オゾン吸着手段14を冷却する寒冷源として供給
する経路と、温度変動式オゾン吸着手段14を冷却後の
酸素ガスをオゾン発生器11にオゾン原料として供給す
る経路と、オゾン発生器11で発生したオゾン・酸素混
合ガスを温度変動式オゾン吸着手段14に導入する経路
と、温度変動式オゾン吸着手段14から導出される酸素
ガスをオゾン発生器11にオゾン原料として循環供給す
る経路と、温度変動式オゾン吸着手段14に掃気ガス供
給手段13からの掃気ガスを導入する経路と、温度変動
式オゾン吸着手段14から脱着したオゾンを掃気ガスに
同伴させて供給する経路とを備えた。
吸着剤の冷却を効率よく行うことができ、オゾン原料と
しての酸素を有効に利用することができる高濃度オゾン
の供給装置を提供する。 【解決手段】 低温酸素供給手段からの低温酸素を温度
変動式オゾン吸着手段14を冷却する寒冷源として供給
する経路と、温度変動式オゾン吸着手段14を冷却後の
酸素ガスをオゾン発生器11にオゾン原料として供給す
る経路と、オゾン発生器11で発生したオゾン・酸素混
合ガスを温度変動式オゾン吸着手段14に導入する経路
と、温度変動式オゾン吸着手段14から導出される酸素
ガスをオゾン発生器11にオゾン原料として循環供給す
る経路と、温度変動式オゾン吸着手段14に掃気ガス供
給手段13からの掃気ガスを導入する経路と、温度変動
式オゾン吸着手段14から脱着したオゾンを掃気ガスに
同伴させて供給する経路とを備えた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高濃度オゾンの供給装
置に関し、詳しくは、パルプの漂白や水処理等、比較的
高濃度のオゾンを利用する設備に高濃度オゾンを供給す
るための装置に関する。
置に関し、詳しくは、パルプの漂白や水処理等、比較的
高濃度のオゾンを利用する設備に高濃度オゾンを供給す
るための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】オゾンは、空気,酸素富有ガスあるいは
酸素ガスを原料ガスとして、オゾン発生器での高電圧無
声放電により発生させている。しかしながら、高電圧無
声放電で得られるオゾン濃度は、酸素ガスを原料ガスと
して使用した場合でも15質量%以下であり、通常は、
効率を考慮して6〜7質量%、多くても10質量%程度
のオゾン濃度で使用先に供給されている。
酸素ガスを原料ガスとして、オゾン発生器での高電圧無
声放電により発生させている。しかしながら、高電圧無
声放電で得られるオゾン濃度は、酸素ガスを原料ガスと
して使用した場合でも15質量%以下であり、通常は、
効率を考慮して6〜7質量%、多くても10質量%程度
のオゾン濃度で使用先に供給されている。
【0003】一方、オゾンの使用先では、オゾンによる
処理の効率向上を図るため、より高濃度のオゾンが望ま
れている。このため、オゾン発生器で発生したオゾン含
有ガスを濃縮して高濃度でオゾンを供給する手段が提案
されている。
処理の効率向上を図るため、より高濃度のオゾンが望ま
れている。このため、オゾン発生器で発生したオゾン含
有ガスを濃縮して高濃度でオゾンを供給する手段が提案
されている。
【0004】例えば、オゾンは、シリカゲル等の吸着剤
に低温で吸着するという性質を有していることから、こ
の性質を利用して温度変動式吸着分離(TSA)法によ
りオゾンと酸素とを分離し、比較的高濃度のオゾンを得
る方法が行われている。
に低温で吸着するという性質を有していることから、こ
の性質を利用して温度変動式吸着分離(TSA)法によ
りオゾンと酸素とを分離し、比較的高濃度のオゾンを得
る方法が行われている。
【0005】上記TSA法によるオゾンの濃縮は、一般
に、シリカゲル等のオゾンを優先的に吸着する吸着剤を
充填した複数の吸着筒を用いて行われるもので、前記複
数の吸着筒を、吸着剤を液体窒素等で低温に冷却した吸
着筒にオゾン発生器から供給されるオゾン含有ガスを導
入して吸着剤にオゾンを吸着させる吸着工程と、吸着工
程終了後の吸着筒の吸着剤を加温してオゾンを脱着させ
るとともに、該吸着筒内に前記オゾン含有ガスとは逆方
向から掃気ガスを導入して脱着したオゾンを掃気ガスに
同伴させて導出する脱着工程と、該脱着工程終了後の吸
着筒の吸着剤を前記吸着工程温度に冷却する冷却工程と
に、順次切換えることにより行われている。
に、シリカゲル等のオゾンを優先的に吸着する吸着剤を
充填した複数の吸着筒を用いて行われるもので、前記複
数の吸着筒を、吸着剤を液体窒素等で低温に冷却した吸
着筒にオゾン発生器から供給されるオゾン含有ガスを導
入して吸着剤にオゾンを吸着させる吸着工程と、吸着工
程終了後の吸着筒の吸着剤を加温してオゾンを脱着させ
るとともに、該吸着筒内に前記オゾン含有ガスとは逆方
向から掃気ガスを導入して脱着したオゾンを掃気ガスに
同伴させて導出する脱着工程と、該脱着工程終了後の吸
着筒の吸着剤を前記吸着工程温度に冷却する冷却工程と
に、順次切換えることにより行われている。
【0006】また、上記吸着工程において、吸着剤に吸
着しない酸素を回収し、オゾン発生器に導入するオゾン
原料として再利用することにより、原料となる酸素の消
費量を低減させることも行われている。
着しない酸素を回収し、オゾン発生器に導入するオゾン
原料として再利用することにより、原料となる酸素の消
費量を低減させることも行われている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、空気や酸素富
有ガスあるいは圧力変動式(PSA)酸素発生装置で発
生させた酸素ガスをオゾン原料として使用し、かつ、回
収して再利用した場合は、回収するガス中に窒素やアル
ゴンが濃縮されるという問題があった。さらに、TSA
法によりオゾンを濃縮する場合は、吸着剤を極低温に冷
却しなければならないため、冷却に要するコストも多大
なものであった。
有ガスあるいは圧力変動式(PSA)酸素発生装置で発
生させた酸素ガスをオゾン原料として使用し、かつ、回
収して再利用した場合は、回収するガス中に窒素やアル
ゴンが濃縮されるという問題があった。さらに、TSA
法によりオゾンを濃縮する場合は、吸着剤を極低温に冷
却しなければならないため、冷却に要するコストも多大
なものであった。
【0008】そこで本発明は、TSA法によりオゾンを
濃縮するにあたり、吸着剤の冷却を効率よく行うことが
でき、オゾン原料としての酸素を有効に利用することが
できる高濃度オゾンの供給装置を提供することを目的と
している。
濃縮するにあたり、吸着剤の冷却を効率よく行うことが
でき、オゾン原料としての酸素を有効に利用することが
できる高濃度オゾンの供給装置を提供することを目的と
している。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の高濃度オゾンの供給装置は、オゾン発生器
と、液体酸素又は低温酸素ガスを供給する低温酸素供給
手段と、低温でオゾンを吸着し、昇温することによりオ
ゾンを脱着する温度変動式オゾン吸着分離手段と、掃気
ガス供給手段とを備えた高濃度オゾンの供給装置であっ
て、前記低温酸素供給手段からの低温酸素を前記温度変
動式オゾン吸着手段を冷却する寒冷源として供給する経
路と、該温度変動式オゾン吸着手段を冷却後の酸素ガス
を前記オゾン発生器にオゾン原料として供給する経路
と、該オゾン発生器で発生したオゾン・酸素混合ガスを
温度変動式オゾン吸着手段に導入する経路と、温度変動
式オゾン吸着手段から導出される酸素ガスを前記オゾン
発生器にオゾン原料として循環供給する経路と、前記温
度変動式オゾン吸着手段に前記掃気ガス供給手段からの
掃気ガスを導入する経路と、温度変動式オゾン吸着手段
から脱着したオゾンを前記掃気ガスに同伴させて供給す
る経路とを備えたことを特徴とし、さらに、前記掃気ガ
ス供給手段が、圧力変動式酸素発生手段であること、ま
た、前記温度変動式オゾン吸着手段から脱着したオゾン
を前記掃気ガスに同伴させて供給する経路に、オゾン濃
度安定器を設けたことを特徴としている。
め、本発明の高濃度オゾンの供給装置は、オゾン発生器
と、液体酸素又は低温酸素ガスを供給する低温酸素供給
手段と、低温でオゾンを吸着し、昇温することによりオ
ゾンを脱着する温度変動式オゾン吸着分離手段と、掃気
ガス供給手段とを備えた高濃度オゾンの供給装置であっ
て、前記低温酸素供給手段からの低温酸素を前記温度変
動式オゾン吸着手段を冷却する寒冷源として供給する経
路と、該温度変動式オゾン吸着手段を冷却後の酸素ガス
を前記オゾン発生器にオゾン原料として供給する経路
と、該オゾン発生器で発生したオゾン・酸素混合ガスを
温度変動式オゾン吸着手段に導入する経路と、温度変動
式オゾン吸着手段から導出される酸素ガスを前記オゾン
発生器にオゾン原料として循環供給する経路と、前記温
度変動式オゾン吸着手段に前記掃気ガス供給手段からの
掃気ガスを導入する経路と、温度変動式オゾン吸着手段
から脱着したオゾンを前記掃気ガスに同伴させて供給す
る経路とを備えたことを特徴とし、さらに、前記掃気ガ
ス供給手段が、圧力変動式酸素発生手段であること、ま
た、前記温度変動式オゾン吸着手段から脱着したオゾン
を前記掃気ガスに同伴させて供給する経路に、オゾン濃
度安定器を設けたことを特徴としている。
【0010】
【作 用】上記構成によれば、吸着剤の冷却源として低
温酸素供給手段からの低温酸素、例えば液体酸素を用い
ることにより、他の冷却源を不要にしたり、あるいはそ
の使用量を低減したりすることができる。さらに、冷却
源として使用した後の酸素をオゾン原料として用いるの
で無駄がなく、また、回収して再利用することもでき
る。
温酸素供給手段からの低温酸素、例えば液体酸素を用い
ることにより、他の冷却源を不要にしたり、あるいはそ
の使用量を低減したりすることができる。さらに、冷却
源として使用した後の酸素をオゾン原料として用いるの
で無駄がなく、また、回収して再利用することもでき
る。
【0011】
【実施例】以下、本発明を、図1に示す一実施例に基づ
いてさらに詳細に説明する。図1は、本発明を適用した
高濃度オゾン供給装置の一実施例を示すもので、酸素ガ
スをオゾン原料ガスとして高電圧無声放電によりオゾン
を発生させるオゾン発生器11と、液体酸素を供給する
ための低温酸素供給手段としての液体酸素貯槽12と、
掃気ガスを供給するための掃気ガス供給手段として、圧
力変動式吸着分離法により原料空気から酸素を得る圧力
変動式酸素発生手段(以下、酸素PSAという)13
と、シリカゲル等の吸着剤を充填した3基の吸着筒A,
B,Cを有する温度変動式オゾン吸着手段14と、供給
する濃縮オゾンの濃度を更に安定化させるために設けら
れたオゾン濃度安定器15とを備えている。
いてさらに詳細に説明する。図1は、本発明を適用した
高濃度オゾン供給装置の一実施例を示すもので、酸素ガ
スをオゾン原料ガスとして高電圧無声放電によりオゾン
を発生させるオゾン発生器11と、液体酸素を供給する
ための低温酸素供給手段としての液体酸素貯槽12と、
掃気ガスを供給するための掃気ガス供給手段として、圧
力変動式吸着分離法により原料空気から酸素を得る圧力
変動式酸素発生手段(以下、酸素PSAという)13
と、シリカゲル等の吸着剤を充填した3基の吸着筒A,
B,Cを有する温度変動式オゾン吸着手段14と、供給
する濃縮オゾンの濃度を更に安定化させるために設けら
れたオゾン濃度安定器15とを備えている。
【0012】さらに、配管経路として、液体酸素貯槽1
2の液体酸素を吸着筒A,B,C及びオゾン濃度安定器
15の冷却源として供給するための液体酸素供給系統2
1と、冷却源として使用して気化した酸素ガスをオゾン
原料ガスとしてオゾン発生器11に供給するためのオゾ
ン原料供給系統22と、オゾン発生器11で発生したオ
ゾン含有酸素ガスを吸着筒に導入するためのオゾン含有
酸素ガス導入系統23と、吸着筒から導出される酸素ガ
スを回収して送風機24aを介してオゾン発生器11に
導入するための酸素ガス回収系統24と、酸素PSA1
3で発生した酸素ガスを掃気ガスとして吸着筒に供給す
るための掃気ガス供給系統25と、掃気ガス中に濃縮さ
れたオゾンをオゾン濃度安定器15を介して使用先に供
給する濃縮オゾン供給系統26と、これらの配管経路と
吸着筒A,B,Cとを接続する配管及び各配管に設けら
れた工程切換用の切換弁等とを備えている。
2の液体酸素を吸着筒A,B,C及びオゾン濃度安定器
15の冷却源として供給するための液体酸素供給系統2
1と、冷却源として使用して気化した酸素ガスをオゾン
原料ガスとしてオゾン発生器11に供給するためのオゾ
ン原料供給系統22と、オゾン発生器11で発生したオ
ゾン含有酸素ガスを吸着筒に導入するためのオゾン含有
酸素ガス導入系統23と、吸着筒から導出される酸素ガ
スを回収して送風機24aを介してオゾン発生器11に
導入するための酸素ガス回収系統24と、酸素PSA1
3で発生した酸素ガスを掃気ガスとして吸着筒に供給す
るための掃気ガス供給系統25と、掃気ガス中に濃縮さ
れたオゾンをオゾン濃度安定器15を介して使用先に供
給する濃縮オゾン供給系統26と、これらの配管経路と
吸着筒A,B,Cとを接続する配管及び各配管に設けら
れた工程切換用の切換弁等とを備えている。
【0013】また、各吸着筒A,B,C及びオゾン濃度
安定器15には、それぞれ冷却ジャケット1a,1b,
1c,15aが設けられており、該冷却ジャケット内に
液体酸素を供給することにより、各吸着筒A,B,C及
びオゾン濃度安定器15を運転温度に冷却している。さ
らに、各吸着筒A,B,Cには、吸着筒を脱着操作温度
に加温するためのヒーター2a,2b,2cがそれぞれ
設けられている。
安定器15には、それぞれ冷却ジャケット1a,1b,
1c,15aが設けられており、該冷却ジャケット内に
液体酸素を供給することにより、各吸着筒A,B,C及
びオゾン濃度安定器15を運転温度に冷却している。さ
らに、各吸着筒A,B,Cには、吸着筒を脱着操作温度
に加温するためのヒーター2a,2b,2cがそれぞれ
設けられている。
【0014】各吸着筒A,B,Cには、その入口側(図
1において上部側)に、オゾン含有酸素ガス導入系統2
3に接続される入口経路3a,3b,3cと、オゾン濃
度安定器15を介して濃縮オゾン供給系統26に接続さ
れる濃縮オゾン導出経路4a,4b,4cとがそれぞれ
設けられるとともに、各吸着筒A,B,Cの出口側に
は、酸素ガス回収系統24に接続される出口経路5a,
5b,5cと、掃気ガス供給系統25に接続される掃気
ガス導入経路6a,6b,6cとがそれぞれ設けられて
おり、各経路には、各吸着筒A,B,Cの工程を切換え
るための切換弁31a,31b,31c,41a,41
b,41c,51a,51b,51c,61a,61
b,61cがそれぞれ設けられている。
1において上部側)に、オゾン含有酸素ガス導入系統2
3に接続される入口経路3a,3b,3cと、オゾン濃
度安定器15を介して濃縮オゾン供給系統26に接続さ
れる濃縮オゾン導出経路4a,4b,4cとがそれぞれ
設けられるとともに、各吸着筒A,B,Cの出口側に
は、酸素ガス回収系統24に接続される出口経路5a,
5b,5cと、掃気ガス供給系統25に接続される掃気
ガス導入経路6a,6b,6cとがそれぞれ設けられて
おり、各経路には、各吸着筒A,B,Cの工程を切換え
るための切換弁31a,31b,31c,41a,41
b,41c,51a,51b,51c,61a,61
b,61cがそれぞれ設けられている。
【0015】また、前記冷却ジャケット1a,1b,1
cには、それぞれ切換弁71a,71b,71cを介し
て液体酸素供給系統21に接続される液体酸素導入経路
7a,7b,7cと、オゾン原料供給系統22に接続さ
れる酸素ガス導出経路8a,8b,8cとが設けられ、
オゾン濃度安定器15の冷却ジャケット15aには弁1
5bを有する液体酸素導入経路15cと、オゾン原料供
給系統22に接続される酸素ガス導出経路15dとが設
けられている。さらに、オゾン原料供給系統22には、
酸素ガスの圧力を一定化するためのガスホルダー22a
と圧力調節弁22bとが設けられている。
cには、それぞれ切換弁71a,71b,71cを介し
て液体酸素供給系統21に接続される液体酸素導入経路
7a,7b,7cと、オゾン原料供給系統22に接続さ
れる酸素ガス導出経路8a,8b,8cとが設けられ、
オゾン濃度安定器15の冷却ジャケット15aには弁1
5bを有する液体酸素導入経路15cと、オゾン原料供
給系統22に接続される酸素ガス導出経路15dとが設
けられている。さらに、オゾン原料供給系統22には、
酸素ガスの圧力を一定化するためのガスホルダー22a
と圧力調節弁22bとが設けられている。
【0016】そして、液体酸素供給系統21と液体酸素
導入経路7a,7b,7c,15cとにより、液体酸素
貯槽12からの低温酸素を温度変動式オゾン吸着手段1
4内の各吸着筒及びオゾン濃度安定器15を冷却する寒
冷源として供給する経路を、酸素ガス導出経路8a,8
b,8c,15dとオゾン原料供給系統22とにより、
温度変動式オゾン吸着手段14内の各吸着筒及びオゾン
濃度安定器15を冷却後の酸素ガスをオゾン発生器11
にオゾン原料として供給する経路を、オゾン含有酸素ガ
ス導入系統23と入口経路3a,3b,3cとにより、
オゾン発生器11で発生したオゾン・酸素混合ガスを温
度変動式オゾン吸着手段内の各吸着筒に導入する経路
を、出口経路5a,5b,5cと酸素ガス回収系統24
とにより、温度変動式オゾン吸着手段14内の各吸着筒
から導出される酸素ガスをオゾン発生器11にオゾン原
料として循環供給する経路を、掃気ガス供給系統25と
掃気ガス導入経路6a,6b,6cとにより、温度変動
式オゾン吸着手段内の各吸着筒に酸素PSA13からの
掃気ガスを導入する経路を、濃縮オゾン導出経路4a,
4b,4cと濃縮オゾン供給系統26とにより、温度変
動式オゾン吸着手段14内の各吸着筒から脱着したオゾ
ンを掃気ガスに同伴させて供給する経路をそれぞれ構成
し、濃縮オゾン導出経路4a,4b,4cと濃縮オゾン
供給系統26とからなる経路に、オゾン濃度安定器15
を設けている。
導入経路7a,7b,7c,15cとにより、液体酸素
貯槽12からの低温酸素を温度変動式オゾン吸着手段1
4内の各吸着筒及びオゾン濃度安定器15を冷却する寒
冷源として供給する経路を、酸素ガス導出経路8a,8
b,8c,15dとオゾン原料供給系統22とにより、
温度変動式オゾン吸着手段14内の各吸着筒及びオゾン
濃度安定器15を冷却後の酸素ガスをオゾン発生器11
にオゾン原料として供給する経路を、オゾン含有酸素ガ
ス導入系統23と入口経路3a,3b,3cとにより、
オゾン発生器11で発生したオゾン・酸素混合ガスを温
度変動式オゾン吸着手段内の各吸着筒に導入する経路
を、出口経路5a,5b,5cと酸素ガス回収系統24
とにより、温度変動式オゾン吸着手段14内の各吸着筒
から導出される酸素ガスをオゾン発生器11にオゾン原
料として循環供給する経路を、掃気ガス供給系統25と
掃気ガス導入経路6a,6b,6cとにより、温度変動
式オゾン吸着手段内の各吸着筒に酸素PSA13からの
掃気ガスを導入する経路を、濃縮オゾン導出経路4a,
4b,4cと濃縮オゾン供給系統26とにより、温度変
動式オゾン吸着手段14内の各吸着筒から脱着したオゾ
ンを掃気ガスに同伴させて供給する経路をそれぞれ構成
し、濃縮オゾン導出経路4a,4b,4cと濃縮オゾン
供給系統26とからなる経路に、オゾン濃度安定器15
を設けている。
【0017】上記構成の高濃度オゾンの供給装置は、上
記切換弁を所定の順序で切換開閉するとともに、各吸着
筒を冷却又は加温することにより、前記3基の吸着筒
A,B,Cを、吸着剤を低温に保持してオゾン発生器1
1から供給されるオゾン含有酸素ガス中のオゾンを吸着
剤に吸着させる吸着工程と、吸着剤を加温して吸着剤か
らオゾンを脱着させるとともに、吸着筒内に一定量の掃
気ガスを導入して脱着したオゾンを掃気ガスに同伴させ
て導出する脱着工程と、脱着工程後の吸着剤を前記吸着
工程温度に冷却する冷却工程とに順次切換えて所定濃度
に濃縮したオゾンを供給する。
記切換弁を所定の順序で切換開閉するとともに、各吸着
筒を冷却又は加温することにより、前記3基の吸着筒
A,B,Cを、吸着剤を低温に保持してオゾン発生器1
1から供給されるオゾン含有酸素ガス中のオゾンを吸着
剤に吸着させる吸着工程と、吸着剤を加温して吸着剤か
らオゾンを脱着させるとともに、吸着筒内に一定量の掃
気ガスを導入して脱着したオゾンを掃気ガスに同伴させ
て導出する脱着工程と、脱着工程後の吸着剤を前記吸着
工程温度に冷却する冷却工程とに順次切換えて所定濃度
に濃縮したオゾンを供給する。
【0018】次に、オゾンを所定濃度に濃縮して供給す
る操作手順を説明する。なお、最初の段階では、吸着筒
Aが吸着工程、吸着筒Bが脱着工程、吸着筒Cが冷却工
程にあるものとする。このとき、吸着工程にある吸着筒
A及びその冷却ジャケット1aに付随する切換弁31
a,51a,71aが開、脱着工程にある吸着筒Bに付
随する切換弁41b,61bが開、冷却工程にある吸着
筒Cの冷却ジャケット1cに付随する切換弁71cが開
であり、その他の切換弁は全て閉じられている。また、
脱着工程にある吸着筒Bは、ヒーター2bにより所定温
度に加温されており、オゾン濃度安定器15の冷却ジャ
ケット15aに付随する弁15bは、オゾン濃度安定器
15を所定温度に保つため、適当な開度に設定されてい
る。
る操作手順を説明する。なお、最初の段階では、吸着筒
Aが吸着工程、吸着筒Bが脱着工程、吸着筒Cが冷却工
程にあるものとする。このとき、吸着工程にある吸着筒
A及びその冷却ジャケット1aに付随する切換弁31
a,51a,71aが開、脱着工程にある吸着筒Bに付
随する切換弁41b,61bが開、冷却工程にある吸着
筒Cの冷却ジャケット1cに付随する切換弁71cが開
であり、その他の切換弁は全て閉じられている。また、
脱着工程にある吸着筒Bは、ヒーター2bにより所定温
度に加温されており、オゾン濃度安定器15の冷却ジャ
ケット15aに付随する弁15bは、オゾン濃度安定器
15を所定温度に保つため、適当な開度に設定されてい
る。
【0019】まず、液体酸素貯槽12からの液体酸素
は、液体酸素供給系統21を通って、吸着工程にある吸
着筒Aの冷却ジャケット1a、冷却工程にある吸着筒C
の冷却ジャケット1c及びオゾン濃度安定器15の冷却
ジャケット15aに、それぞれの経路を介して供給され
る。これらの冷却ジャケットで吸着剤を冷却することに
より気化した酸素ガスと、脱着工程にある吸着筒Bをヒ
ーター2bで加温された冷却ジャケット1b内の残留酸
素ガスとは、各冷却ジャケットから各経路を介してオゾ
ン原料供給系統22に導出され、ガスホルダー22a及
び圧力調節弁22bにより所定の圧力に調節されてオゾ
ン発生器11にオゾン原料ガスとして導入される。
は、液体酸素供給系統21を通って、吸着工程にある吸
着筒Aの冷却ジャケット1a、冷却工程にある吸着筒C
の冷却ジャケット1c及びオゾン濃度安定器15の冷却
ジャケット15aに、それぞれの経路を介して供給され
る。これらの冷却ジャケットで吸着剤を冷却することに
より気化した酸素ガスと、脱着工程にある吸着筒Bをヒ
ーター2bで加温された冷却ジャケット1b内の残留酸
素ガスとは、各冷却ジャケットから各経路を介してオゾ
ン原料供給系統22に導出され、ガスホルダー22a及
び圧力調節弁22bにより所定の圧力に調節されてオゾ
ン発生器11にオゾン原料ガスとして導入される。
【0020】オゾン発生器11で発生したオゾン含有酸
素ガスは、オゾン含有酸素ガス導入系統23から入口経
路3a,弁31aを経て吸着工程にある吸着筒Aに導入
され、例えば−80℃に冷却保持されている吸着剤にオ
ゾンが吸着し、オゾンと酸素との分離が行われる。な
お、オゾン含有酸素ガスのオゾン濃度は任意であるが、
オゾン発生器11の効率を考慮すれば、通常は、6〜7
質量%が適当である。
素ガスは、オゾン含有酸素ガス導入系統23から入口経
路3a,弁31aを経て吸着工程にある吸着筒Aに導入
され、例えば−80℃に冷却保持されている吸着剤にオ
ゾンが吸着し、オゾンと酸素との分離が行われる。な
お、オゾン含有酸素ガスのオゾン濃度は任意であるが、
オゾン発生器11の効率を考慮すれば、通常は、6〜7
質量%が適当である。
【0021】吸着剤にほとんど吸着しない酸素ガスは、
出口経路5a,弁51aを経て酸素ガス回収系統24の
送風機24aに吸入され、該送風機24aで原料供給系
統22の酸素ガスと同じ圧力に昇圧された後、原料供給
系統22の酸素ガスに合流してオゾン発生器11に循環
供給される。
出口経路5a,弁51aを経て酸素ガス回収系統24の
送風機24aに吸入され、該送風機24aで原料供給系
統22の酸素ガスと同じ圧力に昇圧された後、原料供給
系統22の酸素ガスに合流してオゾン発生器11に循環
供給される。
【0022】また、脱着工程にある吸着筒Bでは、ヒー
ター2bにより吸着剤が所定温度に加温されるととも
に、掃気ガス供給系統25から掃気ガス導入経路6b,
切換弁61bを介して一定量の掃気ガスが導入されてお
り、吸着剤から脱着したオゾンは、掃気ガスに伴われて
濃縮オゾン導出経路4b,切換弁41bを経てオゾン濃
度安定器15に導出され、オゾン濃度安定器15を介し
て濃縮オゾン供給系統26から使用先に供給される。一
方、冷却工程にある吸着筒Cは、冷却ジャケット1c内
に供給される液体酸素により、前記吸着工程の操作温度
にまで冷却されつつある。
ター2bにより吸着剤が所定温度に加温されるととも
に、掃気ガス供給系統25から掃気ガス導入経路6b,
切換弁61bを介して一定量の掃気ガスが導入されてお
り、吸着剤から脱着したオゾンは、掃気ガスに伴われて
濃縮オゾン導出経路4b,切換弁41bを経てオゾン濃
度安定器15に導出され、オゾン濃度安定器15を介し
て濃縮オゾン供給系統26から使用先に供給される。一
方、冷却工程にある吸着筒Cは、冷却ジャケット1c内
に供給される液体酸素により、前記吸着工程の操作温度
にまで冷却されつつある。
【0023】そして、所定時間経過した後、吸着筒Aが
吸着工程から脱着工程に、吸着筒Bが脱着工程から冷却
工程に、吸着筒Cが冷却工程から吸着工程に、それぞれ
切換えられる。以下、各吸着筒を、吸着工程,脱着工
程,冷却工程の順に順次切換えて繰り返すことにより、
脱着工程にあるいずれかの吸着筒から連続的に濃縮オゾ
ンが導出される。
吸着工程から脱着工程に、吸着筒Bが脱着工程から冷却
工程に、吸着筒Cが冷却工程から吸着工程に、それぞれ
切換えられる。以下、各吸着筒を、吸着工程,脱着工
程,冷却工程の順に順次切換えて繰り返すことにより、
脱着工程にあるいずれかの吸着筒から連続的に濃縮オゾ
ンが導出される。
【0024】このようにして濃縮オゾンを発生させるに
あたり、吸着工程及び冷却工程にある吸着筒の冷却、及
び必要に応じて設けられたオゾン濃度安定器15の冷却
を液体酸素で行い、これらの寒冷源として用いることに
より気化蒸発した酸素ガスと、吸着工程で吸着筒を加温
する際に気化蒸発した酸素ガスとを、オゾン発生器に供
給するオゾン原料として使用することにより、他の寒冷
源、例えば液体窒素等を用意することなく運転すること
が可能となる。また、液体酸素は、酸素純度が高いた
め、空気や酸素富有ガスあるいは酸素PSAからの酸素
ガスを回収して利用する際に問題となる不純物の濃縮も
ない。
あたり、吸着工程及び冷却工程にある吸着筒の冷却、及
び必要に応じて設けられたオゾン濃度安定器15の冷却
を液体酸素で行い、これらの寒冷源として用いることに
より気化蒸発した酸素ガスと、吸着工程で吸着筒を加温
する際に気化蒸発した酸素ガスとを、オゾン発生器に供
給するオゾン原料として使用することにより、他の寒冷
源、例えば液体窒素等を用意することなく運転すること
が可能となる。また、液体酸素は、酸素純度が高いた
め、空気や酸素富有ガスあるいは酸素PSAからの酸素
ガスを回収して利用する際に問題となる不純物の濃縮も
ない。
【0025】なお、吸着剤を冷却する低温酸素供給手段
として、上記液体酸素に加えて液体窒素等の低温液化ガ
スや冷凍機等で発生させた低温冷媒等を補助的に用いる
ことができ、上記液体酸素を蒸発させた低温の酸素ガス
を用いることも可能である。また、加温する手段として
は、前記ヒーター以外に、所定温度の酸素ガスを冷却ジ
ャケット内に導入するなどの方法も採用することができ
る。さらに、掃気ガスとしては、酸素PSA以外のガス
供給手段、例えば適当な圧力の空気や窒素ガス等も使用
することができ、適当な圧力を有するガスを用いること
により、所望圧力のオゾン含有ガスを得ることができ
る。加えて、脱着工程時の吸着剤の加温をオゾンの脱着
量に応じて制御することにより、オゾンの濃度を安定化
させることができる。また、吸着剤の冷却及び加温の程
度は、吸着剤の種類や冷却及び加温に用いる方式に応じ
て適宜に設定することが可能であり、吸着筒の設置数も
3基に限るものではない。
として、上記液体酸素に加えて液体窒素等の低温液化ガ
スや冷凍機等で発生させた低温冷媒等を補助的に用いる
ことができ、上記液体酸素を蒸発させた低温の酸素ガス
を用いることも可能である。また、加温する手段として
は、前記ヒーター以外に、所定温度の酸素ガスを冷却ジ
ャケット内に導入するなどの方法も採用することができ
る。さらに、掃気ガスとしては、酸素PSA以外のガス
供給手段、例えば適当な圧力の空気や窒素ガス等も使用
することができ、適当な圧力を有するガスを用いること
により、所望圧力のオゾン含有ガスを得ることができ
る。加えて、脱着工程時の吸着剤の加温をオゾンの脱着
量に応じて制御することにより、オゾンの濃度を安定化
させることができる。また、吸着剤の冷却及び加温の程
度は、吸着剤の種類や冷却及び加温に用いる方式に応じ
て適宜に設定することが可能であり、吸着筒の設置数も
3基に限るものではない。
【0026】ここで、上述のように液体酸素を吸着剤冷
却用の寒冷源として用いた場合の熱収支を、一例とし
て、オゾン供給量1kg、温度変動幅5℃の場合で計算
した結果を示す。まず、計算の基となる数値は、以下の
通りである。なお、吸着剤はシリカゲルであり、吸着筒
の材料はステンレススチール(SUS304)である。
却用の寒冷源として用いた場合の熱収支を、一例とし
て、オゾン供給量1kg、温度変動幅5℃の場合で計算
した結果を示す。まず、計算の基となる数値は、以下の
通りである。なお、吸着剤はシリカゲルであり、吸着筒
の材料はステンレススチール(SUS304)である。
【0027】 液体酸素:使用量1kg,温度−183℃,蒸発熱50.9kcal/kg 吸着剤 :必要量12.5kg,比熱0.22kcal/kg℃ 吸着筒 :重量10kg,比熱0.12kcal/kg℃ オゾン :吸着熱20.8kcal/kg オゾン吸着のためには、吸着筒及び吸着剤を冷却し、オ
ゾン吸着熱を奪う必要がある。したがって、 吸着剤冷却 12.5kg×0.22kcal/kg℃×5℃=13.75kcal 吸着筒冷却 10kg×0.12kcal/kg℃×5℃ = 6kcal オゾン吸着熱 1kg×20.8kcal/kg =20.8kcal
ゾン吸着熱を奪う必要がある。したがって、 吸着剤冷却 12.5kg×0.22kcal/kg℃×5℃=13.75kcal 吸着筒冷却 10kg×0.12kcal/kg℃×5℃ = 6kcal オゾン吸着熱 1kg×20.8kcal/kg =20.8kcal
【0028】合計40.55kcal/kgの冷却熱が
必要となるが、液体酸素1kgの蒸発熱が50.9kc
al/kgであるため、液体酸素だけで装置の運転に必
要な寒冷を十分に賄うことが可能となる。また、温度変
動幅を大きくする場合は、液体酸素だけでは寒冷量が不
足するが、別の寒冷源を使用する場合でも、その使用量
を大幅に低減することができる。
必要となるが、液体酸素1kgの蒸発熱が50.9kc
al/kgであるため、液体酸素だけで装置の運転に必
要な寒冷を十分に賄うことが可能となる。また、温度変
動幅を大きくする場合は、液体酸素だけでは寒冷量が不
足するが、別の寒冷源を使用する場合でも、その使用量
を大幅に低減することができる。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の高濃度オ
ゾンの供給装置は、温度変動式オゾン吸着手段における
吸着剤冷却用の寒冷源として液体酸素を使用し、該液体
酸素から蒸発した酸素ガスをオゾン原料とするので、寒
冷源として別のガスを用いる場合に比べて運転コストを
低減でき、また、酸素ガスを回収して循環利用する場合
でも不純物の濃縮はほとんど生じることがない。したが
って、高濃度のオゾンを容易に、かつ、低コストで供給
することができる。
ゾンの供給装置は、温度変動式オゾン吸着手段における
吸着剤冷却用の寒冷源として液体酸素を使用し、該液体
酸素から蒸発した酸素ガスをオゾン原料とするので、寒
冷源として別のガスを用いる場合に比べて運転コストを
低減でき、また、酸素ガスを回収して循環利用する場合
でも不純物の濃縮はほとんど生じることがない。したが
って、高濃度のオゾンを容易に、かつ、低コストで供給
することができる。
【図1】 本発明の一実施例を示す高濃度オゾン供給装
置の系統図である。
置の系統図である。
A,B,C…吸着筒、1a,1b,1c,15a…冷却
ジャケット、11…オゾン発生器、12…液体酸素貯
槽、13…圧力変動式酸素発生手段(酸素PSA)、1
4…温度変動式オゾン吸着手段、15…オゾン濃度安定
器、21…液体酸素供給系統、22…オゾン原料供給系
統、23…オゾン含有酸素ガス導入系統、24…酸素ガ
ス回収系統、25…掃気ガス供給系統、26…濃縮オゾ
ン供給系統
ジャケット、11…オゾン発生器、12…液体酸素貯
槽、13…圧力変動式酸素発生手段(酸素PSA)、1
4…温度変動式オゾン吸着手段、15…オゾン濃度安定
器、21…液体酸素供給系統、22…オゾン原料供給系
統、23…オゾン含有酸素ガス導入系統、24…酸素ガ
ス回収系統、25…掃気ガス供給系統、26…濃縮オゾ
ン供給系統
Claims (3)
- 【請求項1】 オゾン発生器と、液体酸素又は低温酸素
ガスを供給する低温酸素供給手段と、低温でオゾンを吸
着し、昇温することによりオゾンを脱着する温度変動式
オゾン吸着分離手段と、掃気ガス供給手段とを備えた高
濃度オゾンの供給装置であって、前記低温酸素供給手段
からの低温酸素を前記温度変動式オゾン吸着手段を冷却
する寒冷源として供給する経路と、該温度変動式オゾン
吸着手段を冷却後の酸素ガスを前記オゾン発生器にオゾ
ン原料として供給する経路と、該オゾン発生器で発生し
たオゾン・酸素混合ガスを温度変動式オゾン吸着手段に
導入する経路と、温度変動式オゾン吸着手段から導出さ
れる酸素ガスを前記オゾン発生器にオゾン原料として循
環供給する経路と、前記温度変動式オゾン吸着手段に前
記掃気ガス供給手段からの掃気ガスを導入する経路と、
温度変動式オゾン吸着手段から脱着したオゾンを前記掃
気ガスに同伴させて供給する経路とを備えたことを特徴
とする高濃度オゾンの供給装置。 - 【請求項2】 前記掃気ガス供給手段は、圧力変動式酸
素発生手段であることを特徴とする請求項1記載の高濃
度オゾンの供給装置。 - 【請求項3】 前記温度変動式オゾン吸着手段から脱着
したオゾンを前記掃気ガスに同伴させて供給する経路
に、オゾン濃度安定器を設けたことを特徴とする請求項
1記載の高濃度オゾンの供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8015649A JPH08245202A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 高濃度オゾンの供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8015649A JPH08245202A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 高濃度オゾンの供給装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07043984 Division | 1995-02-06 | 1995-03-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08245202A true JPH08245202A (ja) | 1996-09-24 |
Family
ID=11894573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8015649A Pending JPH08245202A (ja) | 1996-01-31 | 1996-01-31 | 高濃度オゾンの供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08245202A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09142808A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン発生装置の制御方法 |
JPH09142807A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン濃縮貯蔵装置とその制御方法 |
JP2010285317A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルゴン精製方法、アルゴン精製装置、目的ガス精製方法、および目的ガス精製装置 |
-
1996
- 1996-01-31 JP JP8015649A patent/JPH08245202A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09142808A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン発生装置の制御方法 |
JPH09142807A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン濃縮貯蔵装置とその制御方法 |
JP2010285317A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルゴン精製方法、アルゴン精製装置、目的ガス精製方法、および目的ガス精製装置 |
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