JPH08196B2 - 燃焼排ガスの窒素酸化物含有量を減少させる触媒 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の要約］ 金属Ti、Zr、Ｖ、Ｗ、MoもしくはCeの少なくとも１種
をその酸化物の１種もしくはそれ以上として、三層構造
を有するシリケート（三層シリケート）と組合せて含有
する燃焼排ガスの窒素酸化物含有量を減少させる触媒に
つき開示し、この触媒は （ａ）三層シリケートがタルクを必須成分としまたは含
有する、好ましくはその結晶層構造をまだ実質的に維持
している酸活性化されかつまだＸ線非晶質でないタルク
であり、 （ｂ）タルク中に含有される珪素と酸化物中に含有され
る金属との間の原子比が0.2〜50、好ましくは0.4〜25で
あり、 （ｃ）酸活性化したタルクのBET表面積が酸活性化前の
タルクのBET表面積に対し少なくとも15％、好ましくは
少なくとも50％増大していることを特徴とする。

［産業上の利用分野］ 本発明は、燃焼排ガスの窒素酸化物含有量を減少させ
る触媒に関するものである。

［従来の技術］ 化石燃料を燃焼させる際、窒素含有成分からも空気窒
素からも窒素酸化物（NO_X）が形成されて大気中に達
し、重大な環境汚染をもたらす。

窒素酸化物をNH₃によりN₂とH₂Oとに変換することがで
き、かつこの反応は広い温度範囲にわたりかなり選択的
であり、すなわち一般に燃焼排ガス中に存在するような
大過剰の酸素の存在下で殆んど酸化によるアンモニアの
損失なしに進行し、したがって比較的少量の還元剤しか
必要とされないことが知られている。さらに、アンモニ
アによるNO_x還元には種々の触媒が既に知られている。

たとえば、ドイツ公告公報第24 10 175号からバナジ
ウム、モリブデンおよび／またはタングステンの化学量
論比V12_-x-yMo_xW_y（ここでｘ及びｙは０ｘ８、０
ｙ５かつ0.3（ｘ＋ｙ）８に設定される）の酸化
物よりなるこの種の触媒が知られている。

さらに、ドイツ特許第24 58 888号公報から排ガス中
の窒素酸化物の還元分解方法も知られてあり、この場合
窒素酸化物と分子状酸素とアンモニアとを含有するガス
混合物を触媒組成物と接触させ、この触媒組成物は必須
成分（Ａ）酸化物としてのチタンを（Ｂ）酸化物として
の鉄もしくはバナジウムと共に緊密混合物として含有す
る。

これらの触媒は、触媒活性成分として含有する比較的
高価な遷移金属化合物がその最適でない配分のため僅か
な程度しか利用されないという欠点を有する。活性成分
は不活性の固体担体に展延してその経済性を明らかに改
善することもできるが、不活性物質による希釈に際し触
媒活性が著しく低下するという危険が生ずる。これらの
触媒は、煙道ガス中にしばしば含有されるSO₂をSO₃まで
酸化し、その結果たとえば後続の装置に塩沈着をもたら
しうるという欠点を有する。

さらに、ドイツ公開公報第34 38 367号からも選択的
還元により燃焼排ガスの窒素酸化物含有量を減少させる
触媒が知られており、この触媒は特に（Ａ）チタンまた
は珪素の水性酸化化合物の熱処理により得られた硫黄酸
化物含有の触媒酸化物80〜95重量％と、（Ｂ）酸化バナ
ジウムを含有する触媒酸化物０〜５重量％と、（Ｃ）た
とえばタングステンの触媒酸化物１〜15重量％とから構
成されている。

この種の触媒に本質的なことは、SiO₂とTiO₂とから構
成された固体酸が形成され、その酸性度が硫酸または硫
酸アンモニウムでの処理により改変されることである。
この固定酸の分配は触媒表面に対するNH₃吸着を制御す
るのに決定的であると思われ、したがって触媒活性の改
善に必須であると思われる。

その際、SiO₂は珪酸ゾルとして使用される。周知のよ
うに、SiO₂ゾルから珪酸ゲルが生じ、これはその高BET
表面積と同時に高度の多孔性とを特徴とするが巨孔質割
合が低く、その結果物質移動に対する作用も低く、した
がって触媒効果も貧弱である。

さらに、ドイツ公開公報第27 48 471号から、特に燃
焼排ガスの窒素酸化物含有量を減少させるためアンモニ
アによる窒素酸化物の気相還元にて使用する触媒材料も
知られており、この触媒は実質的に金属銅、バナジウ
ム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄
もしくはセリウムの酸化物もしくは硫酸塩を平均粒子寸
法0.1〜100μｍのチタン酸化物および粘土鉱物を含有す
る成形担体に担持して構成されている。特に、三層シリ
ケートの種類の粘土鉱物を使用することができる。この
粘土鉱物を15重量％までの量で使用しても、触媒の強度
が僅かしか増大しない。それより多量ではこの点に関し
マイナスの作用さえ生じ、さらにSO_x含有排ガスに対し
触媒の耐性を低下させる。

今回、好ましくは所定の方法で改質したタルクを使用
すれば、他の酸化触媒成分により相乗交換作用をもたら
し、活性が向上し、かつ燃焼排ガスの窒素酸化物含有量
を特に高価な酸化触媒成分と還元剤との経済的利用によ
り充分除去しうるような前記種類の触媒が得られること
を突き止めた。さらに、より高度のSO_x耐性も得られる
ことが判明した。

［発明が解決しようとする問題点］ したがって、本発明の目的は、少なくとも１種の金属
Ti、Zr、Ｖ、Ｗ、MoもしくはCeを１種もしくはそれ以上
のその酸化物として、三層構造のシリケート（三層シリ
ケート）と組合せて含有する燃焼排ガスの窒素酸化物含
有量を減少させれる触媒を提供することである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明によれば、この触媒は次の特徴を有する： （ａ）三層シリケートは必須成分としてタルクからなり
またはタルクを含有し、 （ｂ）タルク中に含有される珪素と酸化物中に含有され
る金属との間の原子比は0.2〜50、好ましくは0.4〜25で
ある。

好ましくは、三層シリケートは、その結晶構造をまだ
実質的に維持すると共にそのそのBET表面積が酸活性化
前の三層シリケートのBET−表面積に対し少なくとも15
％、好ましくは少なくとも50％増大している酸活性化さ
れかつまだＸ線非晶質でないタルクである。また、酸性
化により一方では触媒活性が向上しかつ他方ではSO₂に
対する耐性が改善される。

酸活性化は恐らく、シリケート層をその縁部から浸蝕
しかつイオンを八面相から溶出させると思われる。残存
するSiO₄−四面相は特に乾燥の際に或る種の楔作用およ
び立体障害により層の配向変化をもたらす。しかしなが
ら、この場合、結晶の層構造は実質的に破壊されない。
未処理タルクの結晶構造と、非晶質珪酸の充分破壊した
結晶構造との間の中間状態に達する。

酸活性化は、一般にBET法で測定される比表面積を高
める。得られる高比表面積は、酸活性化タルクと触媒の
酸化成分との緊密混合の後にも、たとえこれら成分を多
量に使用した場合でさえ得られる。他方、上記したよう
に、酸活性化は非晶質珪酸のみが残存する程進行させて
はならない。何故なら、この場合触媒の酸化成分に対す
る交換作用がもはや生じないことが明らかであり、珪酸
含有量の増加と共に触媒活性の著しい低下が認められる
からである。

この種の酸活性化タルクを使用すれば特に活性の大き
い触媒が得られる理由は詳細にはまだ明らかでないが、
この物質の特に有利な結晶構造に基づくものと思われ
る。これは金属酸化物と共に相乗交換作用を示す。しか
しながら、現在までこの交換作用に対する明確な作用メ
カニズムの説明は示しえないが、酸活性化を介し際配向
したシリケート層構造の存在が必須の前提となると思わ
れる。すなわち、酸化金属成分と反応させるために、本
発明による酸活性化シリケートの代りに、たとえば同等
のBET表面積を有する珪酸ゲルを使用すれば、明らかに
触媒活性の低下が生ずる。

本発明で使用する酸活性化タルクの比表面積は、好ま
しくは約５〜100m²/gの範囲である。

酸溶解は一般に、タルクのSiO₂含有量が出発材料より
も少なくとも２％、好ましくは少なくとも５％増大する
まで行なわれる。出発物質に応じてSiO₂含有量は50〜90
重量％となる。この場合、酸溶解は、Ｘ線非晶質のSiO₂
のみが残存するまで行なわない。酸活性化シリケートの
所定の結晶度が存在するまで、すなわち抽出可能なシリ
ケートの45％以下の割合が存在する際、酸溶解を中断す
る。抽出可能なシリケートの割合は、酸溶解を行なった
後に得られる洗浄しかつ乾燥した濾過ケーキをソーダ溶
液で処理して決定される［Y.オーツボ、日本化学会誌、
第72巻（1951）、第573頁参照］。

好ましくは、＞80nmの直径を有する巨孔質に相当する
気孔容積の割合は、好ましくは少なくとも25％である。
この場合、気孔容積は、水銀気孔測定法によって決定さ
れる。

タルクを含有する出発物質の酸活性化はそれ自体公知
の方法で行なうことができ、好ましくはたとえば塩酸も
しくは硫酸のような水性無機酸が使用される。しかしな
がら、たとえば蟻酸および酢酸などの有機酸も使用する
ことができる。酸濃度は乾燥物含有量に対し１〜60重量
％の範囲、好ましくは10〜40重量％の範囲である。原料
の事前の湿式選別も有利であると判明した。酸処理され
た物質を、必要に応じて酸性化した水で洗浄しかつ濾過
する。

酸活性化タルクの使用により得られる本発明による触
媒は、さらに硫黄酸化物または硫酸に対する特に高度の
耐性をも特徴とする。

他方、非晶質珪酸を用いて製造された触媒は硫黄酸化
物および硫酸に対し耐性ではあるが、そのNO_x活性は明
らかに貧弱である。

本発明による触媒の金属酸化物成分に対する出発化合
物としては、一方では対応の金属酸化物また他方では金
属酸化物に変換しうる物質たとえば金属、水酸化物およ
び特に塩類、錯化合物および／または酸素酸もしくはこ
れらの酸により誘導される塩類が使用される。これら
は、必要に応じ還元剤および／または錯体形成剤として
作用する添加物と一緒に使用することができる。

セリウムはたとえばCe₂O₃、CeO₂、Ce（SO₄）_２および
Ce₂（C₂O₄）_３から出発して用いることができる。酸化
ジルコンの適する出発物質は酸化水和物の他にたとえば
ジルコン塩、ジルコニル塩たとえばZr（SO₄）_２、ZrC
l₄、ZrOCl₂およびZr（C₂O₄）_２である。

タングステン成分の出発物質としてはたとえば酸化タ
ングステン（たとえばWO₃、W₁₀O₂₉、W₄O₁₁、WO₂）、モ
ノ−およびポリ−タングステン酸、ヘテロポリ酸、タン
グステン酸塩、ハロゲン化タングステンおよびオキシハ
ロゲン化タングステンが適している。これらタングステ
ン化合物の代りに対応のモリブデン化合物も使用するこ
とができる。バナジウムについては特にV₂O₅、VO₂、V₂O
₃およびVOが適する出発化合物であり、さらにオルト−
およびポリ−バナジン酸或いはバナジン酸塩、ハロゲン
化バナジウムおよびオキシハロゲン化バナジウム（たと
えばVOCl₃）、種々のバナジウム塩もしくはバナジル塩
も適している。

適するチタン化合物は、酸化物および酸化水和物の他
にチタン塩もしくはチタニル塩、特にハロゲン化物およ
び硫酸塩である。好ましくは、チタニル硫酸が使用され
る。金属有機化合物、たとえばイソプロピルチタン酸エ
ステルのようなチタン酸のエステルも使用することがで
きる。

金属酸化物を個々に次の濃度範囲： TiO₂＝10−80重量％ WO₃および／またはMoO₃＝１−25重量％ V₂O₅＝0.1−25重量％ CeO₂＝１−25重量％ で存在させ、タルクが有効成分の残部を占めれば、特に
有利な結果が得られることが判明した。

好適触媒の場合、金属酸化物は二成分組合せまたは特
に三成分組合せとして存在する。

三成分組合せの場合、金属酸化物は次の好適量の割
合： （ａ）（TiO₂＋WO₃および／またはMoO₃＋V₂O₅）＝10−8
0重量％ （ｂ）（TiO₂＋CeO₂＋V₂O₅）＝10−80重量％ （ｃ）（TiO₂＋ZrO₂＋V₂O₅）＝10−80重量％ （ｄ）（WO₃および／またはMoO₃＋CeO₂＋V₂O₅）＝10−2
5重量％ （ｅ）（WO₃および／またはMoO₃＋ZrO₂＋V₂O₅）＝10−2
5重量％ で存在し、タルクがそれぞれ有効成分の残部を占める。

三成分組合せにおける金属酸化物間の重量比は、好ま
しくはそれぞれ次の範囲を含む： （ａ）WO₃および／またはMoO₃/TiO₂＝0.01−0.25 V₂O₅/TiO₂＝0.01−0.11 （ｂ）CeO₂/TiO₂＝0.05−0.23 V₂O₅/TiO₂＝0.01−0.11 （ｃ）ZrO₂/TiO₂＝0.01−0.24 V₂O₅/TiO₂＝0.01−0.11 （ｄ）CeO₂/WO₃および／またはMoO₃＝0.1−5.0 V₂O₅/WO₃および／またはMoO₃＝0.1−2.5 （ｅ）V₂O₅/WO₃および／またはMoO₃＝0.1−2.5 ZrO₂/WO₃および／またはMoO₃＝0.1−10。

本発明による触媒は、たとえば（部分酸活性化）タル
クに上記金属の１種もしくはそれ以上を塩類および／ま
たは錯化合物として含有する溶液を含浸させ、次いで焼
成することにより得られる。

他の変法によれば、触媒は、タルクを上記金属の１種
もしくはそれ以上の酸化物または塩と機械混合し（たと
えば、ボールミルにおける磨砕により）、次いでこの混
合物を必要に応じ上記金属の１種もしくはそれ以上を塩
類および／または錯化合物として含有する溶液で含浸
し、次いで焼成することにより得られる。

さらに、本発明による触媒は、上記金属の１種もしく
はそれ以上を含有する化合物の少なくとも１種をタルク
の存在下で沈澱させまたは再沈澱させ、異種イオンを洗
浄除去し、次いで焼成して得ることもできる。

上記金属の１種もしくはそれ以上を含有する化合物の
沈澱または再沈澱は、タルクと上記金属の１種もしくは
それ以上の酸化物もしくは塩類との混合懸濁物の存在下
で行なうこともできる。異種イオンを洗浄除去した後、
再び焼成する。

このようにして、酸化金属成分とタルクとのほぼ最適
な緊密混合が達成される。

酸化金属成分が複数の金属酸化物から構成される場
合、各出発化合物を一緒に或いは複数の工程で順次に沈
澱させることができ、沈澱工程の順序は一般に触媒活性
に影響を及ぼし、個々の場合につき最適化せねばならな
い。勿論、タルクには必要に応じ１回もしくはそれ以上
の沈澱工程の後に対応する遷移金属化合物の溶液を含浸
させることも合理的である。その際、含浸は触媒の成形
および焼成の前または後のいずれに行なってもよい。

本発明による触媒は、さらに不活性担持物質をも含有
することができる。一般に、触媒は成形体として存在
し、特に球体、タブレット、押出物、長形もしくは扁平
蜂巣体（これは「チャンネル格子」とも呼ばれる）、棒
体、チューブ、リング、車輪または鞍状体として存在す
る。

これら成形体は、たとえば触媒材料をタブレット化し
或いは押出プレスして得ることができ、必要に応じ成形
性を向上させる添加物を混合することもできる。この種
の添加物は、たとえばグラファイトまたはステアリン酸
アルミニウムである。さらに、表面構造を改善する添加
物も混合することができる。この場合、たとえばその後
の焼成に際し気孔構造を残存させながら燃焼するような
有機物質が挙げられる。

成形性を向上させる添加物の使用は必ずしも必要でな
い。何故なら、出発物質は金属成分との緊密混合の際に
存在したとしても可塑成形性を有するからである。しか
しながら、たとえばカオリンまたはセメントなどの中性
ベントナイト或いは他の結合剤を添加することもでき
る。成形は一般に水または有機溶剤、たとえば一価もし
くは多価アルコールを添加して行なわれる。

本発明による触媒は一般に成形を行なった後に乾燥さ
れ、かつ約200〜700℃、好ましくは300〜550℃の温度で
焼成される。さらに、強度を高めるため、無機繊維材料
を成形前に添加することもできる。焼成により触媒は活
性化され、特に上記の所定温度範囲で得られた場合には
その好適な性質が達成される。

本発明による触媒の構造における典型的な操作手順に
ついては後記実施例に記載する。

本発明はさらに、一般適な排ガス成分の他に硫黄酸化
物（SO_x）をも含有する燃焼排ガスの窒素酸化物含有量
を還元減少させるため還元剤としてNH₃を使用する本発
明による触媒の使用にも関するものである。

NH₃での還元の場合、燃焼排ガスの窒素酸化物含有量
は、N₂およびH₂Oを形成することにより減少する。窒素
酸化物（NO_x）としては窒素の各種の酸素化合物が挙げ
られ、たとえばNO、N₂O₃、NO₂、N₂O₅が挙げられるが、
主としてNOおよびNO₂、特にNOが重要である。

精製すべき排ガスのNO_x濃度は広範囲で変化すること
ができ、一般に100容量ppm〜５容量％の範囲である。NH
₃:NOxのモル比は一般に0.3〜３、好ましくは0.6〜1.5で
あり、制御技術手段によってできるだけ低いNH₃消費に
て最大のNO_x変換が得られるよう設定することができ
る。NH₃は気体状でも水溶液としても投与することがで
きる。

本発明による触媒は、公知触媒に比べ窒素酸化物の還
元につき好適に使用されるアンモニアの極めて選択的な
変換を特徴とする。公知方法の場合、特に高い操作温度
に際し、アンモニアの相当な部分が所望のNO_x除去のた
めに消費されず、排ガス中に存在する酸素によって酸化
される。これは付加的な窒素形成をもたらし、或いは反
応器の入口と出口との間で観察されるNO_x変換を低下さ
せると共に、不必要なNH₃消費をもたらす。

脱窒素反応には一般に、全体として反応器の構造上の
特徴が高煙道ガス容積に相当する処理量に適する限り、
原理的には不均質触媒気相反応につき使用される反応器
が適している。許容しうる空時速度（RG）は触媒１当
り毎時500〜20000のガス、好ましくは1000〜15000
のガスの範囲であり、この空時速度は０℃かつ１バール
のガスにつき計算される。以下、空時速度を簡略のため
h^-1のジメンションで示す。適する反応温度は約200〜60
0℃、好ましくは250〜430℃の範囲である。それよりか
なり高い温度においては排ガス中に存在する酸素による
アンモニアの酸化が生じ、これによりアンモニアが窒素
酸化物との反応を受け、その結果脱窒素程度が低下す
る。しかしながら、この望ましくない作用は、本発明の
触媒の場合、公知触媒よりも大きくない。

［実 施 例］ 以下、本発明による触媒の製造および使用につき典型
的実施例を説明する。

特に、酸素および硫黄酸化物をも含有するガス混合物
からの窒素酸化物の除去に関し触媒の効果を触媒とガス
流との接触によって決定し、その際ガス流をバラ積みと
してこの触媒を含有する外部電気加熱式チューブに通し
た。使用したガス混合物は次の組成を有する： O₂ 3容量％ H₂O 10容量％ NO 750容量ppm NO₂ 50容量ppm NH₃ 800容量ppm SO₂ 950容量ppm SO₃ 50容量ppm N₂ 100容量％に対する残部。

ガス混合物における成分NOおよびNO₂の濃度は、触媒
バラ積み層を通過する前後に、検定した分析器によって
連続的に測定した（化学発光法）。窒素酸化物の還元に
関する触媒の効果の尺度としては、静止状態に達した後
の成分NO_xの変換率を使用し、次式によって規定する： 式中、記号 はNOおよびNO₂の濃度を示し、上付文字ＥおよびＡは触
媒を通過する前後のガス混合物の状態を示す。

例 １ （ａ）5m²/gのBET表面積と第Ｉ表に示した化学組成と
を有する2kgのタルクを８のHCl水溶液と共に80℃にて
６時間攪拌した。HCl含有量は乾燥物質に対し約20重量
％であった。吸引濾過しかつこの濾過ケーキを酸性化し
た水（HClによりpH値3.5に調整）で充分洗浄した。得ら
れた酸活性化したタルク（以下、SATと呼ぶ）は、200℃
にて乾燥した後に33m²/gのBET表面積を有した。その化
学組成も同様に第Ｉ表に示す。

（ｂ）工程（ａ）で得られたSAT400gの懸濁物に180gのT
iOSO₄（チタニル硫酸）を攪拌しながら浸漬し、アンモ
ニアを添加して中和した。固体を吸引濾過し、硫酸塩が
なくなるまで洗浄し、120℃にて15時間乾燥し、9.7gの
アンモニアアルカリ性タングステン酸溶液としてのW
O₃、並びに1.3gのバナジン酸アンモニウムを1.6倍過剰
の修酸二水塩で還元して得られた溶液と共に混練した。
溶液量は、容易に混練しうるペースト状材料が得られる
よう選択した。

＞80nmの直径を有する巨孔質に相当するHg−気孔測定
法により測定した気孔容積の割合は77.1％であった。

例 ２ 例１に出発物質として使用したタルク100gを、チタニ
ル硫酸による工程（ｂ）の操作手順に相当する酸活性化
なしに、アンモニアアルカリ性タングステン酸溶液およ
びバナジン酸アンモニウムに露出させた。

触媒の組成、反応温度および6400h^-1の空時速度にお
けるNO_x変換率を第II表に示す。反応の実施には前記ガ
ス混合物を使用し、NO_x変換率は前記式にしたがって計
算した。

［発明の効果］ 本発明によれば、部分酸活性化したタルクの使用によ
り充分高い活性を有し、還元剤として使用するアンモニ
アの損失なしに燃焼排ガス中の窒素酸化物含有量をより
効果的に減少させる触媒が得られる。

フロントページの続き (72)発明者 ゲルト マレッツ ドイツ連邦共和国、8300 ランドシュッ ト、インネーレ レーゲンスブルゲル シ ュトラーセ ９アー番 (56)参考文献 特開 昭62−45340（ＪＰ，Ａ)

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】金属Ti、ＶおよびＷをその酸化物として、
   三層構造を有するシリケート（三層シリケート）と組合
   せて含有する燃焼排ガスの窒素酸化物含有量を減少させ
   る触媒において、 （ａ）三層シリケートが必須成分としてタルクからなり
   またはタルクを含有し、 （ｂ）タルク中に含有される珪素と酸化物中に含有され
   る金属との間の原子比が0.2〜50である ことを特徴とする燃焼排ガスの窒素酸化物含有量の減少
   用触媒。
2. 【請求項２】タルク中に含有さまれる珪素と酸化物中に
   含有される金属との間の原子比が0.4〜25であることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の触媒。
3. 【請求項３】三層シリケートは、その結晶構造を実質的
   に維持しかつそのBEF表面積を酸活性化前のBEF表面積に
   対し少なくとも15％増大している酸活性化されかつまだ
   Ｘ線非晶質でないタルクであることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項または第２項記載の触媒。
4. 【請求項４】BEF表面積を酸活性化前のBEF表面積に対し
   少なくとも50％増大している酸活性化されかつまだＸ線
   非晶質でないタルクであることを特徴とする特許請求の
   範囲第３項記載の触媒。
5. 【請求項５】酸活性化タルクのSiO₂含有量が出発材料に
   対し少なくとも２％増大していることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項乃至第４項記載の触媒。
6. 【請求項６】酸活性化タルクのSiO₂含有量が出発材料に
   対し少なくとも５％増大していることを特徴とする特許
   請求の範囲第５項記載の触媒。
7. 【請求項７】＞80nmの直径を有する巨孔に相当する気孔
   容積の割合が少なくとも25％であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれかに記載の触
   媒。
8. 【請求項８】金属酸化物が個々に次の濃度範囲： TiO₂＝10−80重量％ WO₃＝１−25重量％ V₂O₅＝0.1−25重量％ であり、タルクが有効成分の残部を占めることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項乃至第７項のいずれかに記載
   の触媒。
9. 【請求項９】三成分組合せの金属酸化物間における重量
   比が次の範囲： WO₃/TiO₂＝0.01−0.25 を含むことを特徴とする特許請求の範囲第８項記載の触
   媒。
10. 【請求項１０】成形体として特に球体、タブレット、押
    出物、長形もしくは扁平蜂巣体、プレート、棒体、チュ
    ーブ、リング、車輪または鞍状体の形態で存在すること
    を特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第９項のいずれ
    かに記載の触媒。
11. 【請求項１１】タルクに対し１種もしくはそれ以上の前
    記金属を塩類および／または錯体化合物として含有する
    溶液を含浸させ、次いで焼成することにより得られたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第10項のいず
    れかに記載の触媒。
12. 【請求項１２】タルクを前記金属の１種もしくはそれ以
    上の酸化物もしくは塩と機械混合し、次いで前記金属の
    １種もしくはそれ以上を塩類および／または錯体化合物
    として含有する溶液を含浸させ、次いで焼成することに
    より得られたことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃
    至第10項のいずれかに記載の触媒。
13. 【請求項１３】前記金属の１種もしくはそれ以上を含有
    する少なくとも１種の化合物を、タルクの懸濁物の存在
    下に沈澱させまたは再沈澱させ、異種イオンを洗浄除去
    し、次いで焼成することにより得られたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項乃至第10項のいずれかに記載の
    触媒。
14. 【請求項１４】前記金属の１種もしくはそれ以上を含有
    する化合物の少なくとも１種を、タルクと前記金属の１
    種もしくはそれ以上の酸化物もしくは塩類との混合懸濁
    物の存在下に沈澱させまたは再沈澱させ、異種イオンを
    洗浄除去し、次いで焼成することにより得られたことを
    特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第10項のいずれか
    に記載の触媒。
15. 【請求項１５】一般的排ガス成分の他に硫黄酸化物をも
    含有する燃焼排ガスの窒素酸化物含有量を還元減少させ
    るため、還元剤としてNH₃を使用することを特徴とする
    特許請求の範囲第１項乃至第14項のいずれかに記載の触
    媒。
16. 【請求項１６】200〜600℃の温度範囲かつ触媒１当り
    毎時500〜20000燃焼排ガスの範囲の空時速度で使用す
    る特許請求の範囲第15項記載の触媒。
17. 【請求項１７】温度範囲が250〜430℃である特許請求の
    範囲第16項記載の触媒。