JPH0358054A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は，電子写真感光体に関し、詳しくは、共晶錯体
感光層中に特定の構造を有する物質を添加した電子写真
感光体及び前記感光層（第１感光層）を他の第２感光層
と積層してなる電子写真用複合感光体（２色プロセス用
）に関する。

〔従来技術〕

ピリリウム系染料と電気１＃＠林性重合体とからなる共
晶錯体及び必要あればトリフェニルメタン系増感剤を加
えた組成物を光導電層とした電子写真用感光体は公知で
ある（例えば特公昭４６−２２５１８号公報、同４６−
２２５１９号公報，同５１−１１２９号公報、特開昭４
７−１０７８５号公報，同５１−８８２２６号公報、同
５１−９３３２４号公報、同５３−８７２２７号公報等
）。

これらの感光体は、実用上差支えない程度の電子写真感
度を持ってはいるが、未だ充分満足するまでには到って
いない。

〔目　　的〕

本発明の目的は極めて優れた電子写真感度を有する共晶
錯体感光層を形威した感光体を提供することにある。

更に詳しくは，正′ｔｒ電時に特に優れた電子写真感度
を有する共晶錯体感光層を形或した感光体を提供するこ
とにある。

本発明の他の目的は、容易にＨ造できる電子写真感光体
を提供することにある。

〔構　　成〕

本発明者らは、ピリリウム系染料および電気絶縁性重合
体（電気絶縁性フィルム形或性重合体物質）からなる共
晶錯体に下記一般式（１）で示される化合物 （式中、Ｒ１．　Ｒ３及びＲ４は水素原子、アミノ基、
アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、
メチレンジオキシ基、置換もしくは無置換のアルキル基
、ハロゲン原子又は置換もしくは無置換のアリール基を
、Ｒ２は水素原子、アルコキシ基、置換もしくは無置換
のアルキル基又はハロゲンを表わす。

但し、Ｒｉ．　Ｒ２，Ｒ３およびＲ４がすべて水素原子
である場合は除く。またｋ，１２，ｍ及びｎは１，２，
３又は４の整数であり、各々が２、３又は４の整数の時
は前記Ｒ”，Ｒ”Ｒ３及びＲ４は同一でも異なっていて
もよい。）を添加することによって、極めて優れた電子
写真感度が得られることを見い出し、本発明に到った。

従って、本発明の電子写真感光体はピリリウム系染料、
電気絶縁性重合体および前記一般式（１）で示される化
合物を主成分とする光導電層（共晶錯体感光層）が導電
性基体上に設けられていることを特徴とするものである
。

以下，図面にそって、本発明をさらに説明する。

第１図は、本発明の電子写真感光体の構或例を示す断面
図であり、導電性基体１１上に，共晶錯体感光，Ｉｉｌ
５が設けられている。

第２図は、本発明の別の構成例であり、導電性基体と共
晶錯体感光層との間に下引層ｌ４を設けたものである。

また第３図ａに、本発明の電子写真用複合感光体を示す
．導電性基体上に、共晶錯体感光層を透過する光に対し
て感度を有する感光層１２（以下、第２感光層という）
を設け、さらにその上に共晶錯体感光層を設けたもので
ある。

第３図ｂは、電子写真用複合感光体の別の構成例を示す
ものであり、第２感光層と、共晶錯体感光層の間に中間
１′Ｉ１３を、設けてなるものである。

導体性基体１１としては、体積抵抗１０１ｏΩｃＩ１以
下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケ
ル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、
酸化スズ，酸化インジウムなどの金ｉｉ．．ｍ化物を、
蒸着又は、スパッタリングにより、フィルム状もしくは
円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの，あるいは、
アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレ
ス等の板およびそれらをＤ．Ｉ。、Ｉ．Ｉ。、押出し、
引抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で
表面処理した管等を使用することができる， 前述した様に、共晶錯体感光層ｌ５は、共晶錯体と、前
記一般式（１）で示される導電性物質を主或分として形
或されている，ここでの共晶錯体は、ピリリウム系染料
と、電気絶縁性重合体とからつくられるものである。

ピリリウム系染料には、ピリリウム塩、チアピリリウム
塩及びセ１ノナピリリウム塩の３種があり、下記一般式
を有している。

ａｂｅｄ 上式において、Ｒ　　，Ｒ　　．Ｒ　　，Ｒ　　及びｅ Ｒ　は各々下記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の
群から選択される基であり、 （ａ）：　水素原子、 （ｂ）；　アルキル基，代表的にはメチル、エチル、プ
ロビル、イソプロビル、ブチル、ｔ−ブチル、アミル，
イソアミル、ヘキシル、オクチル、ノニル，ドデシルな
どの０１〜Ｃよ，のアルキル基、 （Ｃ）；　メトキシ、エトキシ，プロポキシ、ブトキシ
、アミロキシ、ヘキソキシ、オクトキシなどのアルコキ
シ基、 （ｄ）；　　フェニル、４−ジフエニル、４−エチルフ
エニル、４−プロビルフェニルなどのアルキルフェニル
類；４−エトキシフェニル、４−メトキシフェニル，４
−アミ口キシフェニル、２−ヘキソキシフェニル、２−
メトキシフェニル、３，４一ジメトキシフェニルなどの
アルコキシフェニル類；２−ヒドロキシェトキシフェ二
ル、３−ヒドロキシエトキシフェニルなどのβ−ヒドロ
キシアルコキシフェニル類；４−ヒドロキシフェニル、
２，４一ジクロロフェニル、３．４−ジブロモフェニル
、４−クロロフェニル、３，４一ジクロロフェニルなど
のハロフェニル類；アジドフェニル、ニトロフェニル，
４−ジエチルアミノフェニル、４−ジメチルアミノフェ
ニルなどのアミノフェニル類；ナフチル，スチリル、メ
トキシスチリル．ジエトキシスチリル、ジメチルアミノ
スチリル，１−ブチル−４−ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル−１，３−ブタジエニル、β一エチル−４−ジメチル
アミノスチリル等のビニル置換アリール基のような置換
アリール基を含めたアリール基、 を表わし，Ｘは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
Ｚ一はバークロレート，フルオロボレート、沃化物，塩
化物，臭化物、硫酸塩、過沃化物、ｐ一トルエンスルホ
ネート、ヘキサフルオロホスフェートなどの陰イオン官
能基である。

更にＲａｌ　Ｒｂ＃　Ｒ０１　Ｒｄ、及びＲ　は共同し
てピリリウム核に融合したアリール環を完成するに必要
な原子であってもよい． このようなピリリウム系染料の代表例を下記に示す。

ロレート エート ェニルヒリリワムバーク口レート クレート ト ２８ ６−（３・４−ジエトキシーβ−アミルスチート レート 一ト チリル）−２・４−シフェニルピリリウムフルオロボレ
ート 一ト 一ト ート −ト ロレート サルフェート 一ト ビス（４−メトキシフェニル）テアビリリウムパーク口
レート レート 一ト リウムパークロレート ロポレート ート −ト （ｂ）セレナピリリウムパークロレー ト クロレート クロレート ８９ ４−（４−ジメチルアミノフエニル）−２・６一ジフェ
ニルピリリウムへキサフル オロフオスフェート 特に有用なピリリウム染料は下記一般式を有するもので
ある。

Ｒ， 式中Ｒエ及びＲ３はＣエ〜Ｃ６のアルキル基及びＣ〜Ｃ
６のアルコキシ基から選ばれた少なくとも１つの置換基
を有する置換フエニル基のようなアリール基であり、Ｒ
３はアルキル部分がＣエ〜Ｃ６のアルキルアミノ置換フ
エニル基で、ジアルキルアミノ置換及びハロアルキルア
ミノ置換フェニル基でもよい，Ｘは酸素、硫黄又はセレ
ン原子、Ｚ−は前述の通りである。

電気絶縁性重合体としては主鎖（繰返し単位）中に下記
式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有するも
のが特に有用である．Ｒ， 式中Ｒ４及びＲ，は夫々、水素原子、トリフルオロメチ
ルのような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プロ
ビル、イソプロビル、プチル、ｔ一ブチル、ベンチル，
ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどの
アルキル基、ハロゲン、Ｃｉ〜Ｃ，のアルキル基のよう
な置換基を有する置換アリール基を含むフェニル及びナ
フチルなどのアリール基であり、またＲ４とＲ，とは共
同してシクロヘキシルのようなシクロアルカン類及びノ
ルボルニルのようなポリシクロアルカン類を含む環式炭
化水素基を形或するに必要な炭素原子であってもよい．
Ｒ６及びＲ７は水素、０１〜Ｃ１のアルキル基又はクロ
ル、ブロム、 沃素などのハロゲンであり、 またＲ，は ＯＳ 一ｏ−ｃ−ｏ−　　−ｏ−ｃ−ｏ− ０ −Ｃ−Ｏ− ０ Ｉ１ −Ｃ−０−ＣＨ，− Ｏ Ｏ　　　　ＣＨ３ ［１１ −Ｃ−０−ＣＨ− ０ よりなる群から選択された２価の基である。

また下記式の繰返し単位からなる疎水性炭酸塩重合体類
（ポリカーボネー１−）も有用で好ましいものである。

Ｒ４０ １１ −Ｒ−Ｃ−Ｒ−０−Ｃ−０− １ Ｒ． 式中、Ｒはハロ置換フェニレン基類及びアルキル置換フ
ェニレン基類を含むフェニレン基であり、またＲ．及び
Ｒ５は前述の通りである。これらの重合体はｔＪｓＰ３
，０２８，３６５号、同３，３１７，４６６号に開示さ
れている．好ましくは、ビスフェノールＡから製造され
るような、繰返し単位に７ルキリデンジアリーレン部分
を含有しジフェニルカーボネートと２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパンとの間のエステル交換に
よって生成した重合体を含むポリカーボネート類が有用
である．このような重合体はＵＳＰ２，９９９，７５０
号、同３，０３８，８７４号、同３，０３８，８８０号
、同３，１０６，５４４号、同３，１０６，５４５号、
同３，１０６，５４６号等に開示されている。いずれに
してもフィルム形或性ボリカーボネート樹脂類は広範囲
に使用できる。特に約０．５〜１．８の固有粘度を有す
るものを使用すると、満足し得る結果が得られる．電気
絶縁性重合体の具体例は下記の通りである。

３ ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニレンカーボ
ネートーｃｏ−テレフタ１ノート）ｌ５ ポリ（４．４’−イソプロビリデンジフェニレェニレン
力ボネート』 （以下余白） また一般式（Ｉ） で示される化合物の代表例 を下記に示す。

本発明の共晶錯体感光ＮＩ１５をつくるには、上記のピ
リリウム系染料、電気絶縁性重合体、および一般式（１
）で示される化合物を適当な溶媒例えば、テトラヒドロ
フラン、トルエン、１，２−ジクロルエタン、塩化メチ
レン、クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベ
ンゼン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体１１
上に塗布し、５０〜１３０℃で乾燥して、膜厚５〜５０
μｍの光導電層（共晶錯体感光層）１５を形或すればよ
い． 塗布は浸漬塗工法、ビードコート法、スプレーコート法
や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアーナイ
フなどを用いて行なえる．この塗布乾燥がなされる間に
、ピリリウム系染料と電気絶縁性重合体とで共晶錯体を
形成する。

共晶錯体感光層１５における各或分の割合は、ピリリウ
ム系染料１重量部に対して、電気絶縁性重合体５〜８０
重量部，好ましくは７〜４０重量部、前記一般式（１）
で示される化合物１〜５０重量部、好ましくは３〜３０
重量部が適当である。

また、この１１５を形或する際に、シリコーンオイルな
どのレベリング剤を、塗工液に添加してもよい。その使
用量は、電気絶縁性重合体に対してＯ〜１重量％程度が
適当である。

さらに、層ｌ５を設けるに際して，結着剤が必要により
使用されてもよい。

ここでの結着剤材料としてはポリエチレン、ポリスチレ
ン，ポリブタジェン、スチレンーブタジエン共重合体、
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体
及び共重合体、ポリエステル，ポリアミド、エポキシ樹
脂，ウレタン樹脂，シリコン樹脂、アルキッド樹脂、セ
ルロース系樹脂やポリーＮ−ビニル力ルバゾール及びそ
の誘導体（例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素などの
ハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有するも
の），ポリビニルビレン、ポリビニルアントラセン、ビ
レンーホルムアルテヒド縮重合体及びその誘導体（例え
ばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基などの置
換基を有するもの），ポリーγ一カルバゾリルエチルー
Ｌ−ダルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリエチレ
ン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげられる。

この結着剤には，可塑剤を併用することができる。可塑
剤としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレート
など一般に樹脂の可塑剤として使用されているものが、
そのまま使用できる。

その使用量は，樹脂結着剤に対してＯ〜３０重量％程度
が適当である。

なお、本発明の共晶錯体感光層ｌ５を形或するに際して
は、塗工液を重ね塗り方法（特開昭５６−４０８３７号
公報）や、既に設けた電気絶縁性重合体層をピリリウム
系染料に浸漬後、乾燥する方法（特開昭５６−８００５
２号公報）を用いてもよく、また、層１５中のピリリウ
ム系染料の濃度を導電性基体側と、表面付近で異にする
ように形成（特開昭５６−１２１０４２号公報）しても
よい。

本・発明において第２図トこ示されるように導電性基体
と、共晶錯体感光層の間に下引層ｌ４を設けることによ
り、帯電性、接着性を改良することができる。

下引層１４には、Ｓｉｎ，Ａｎ８０，等の無機材料を蒸
着、スパッタリング、陽極酸化などの方法で設けたもの
や、ポリアミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂，
水溶性ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂などの樹脂層を用いることもできる。

また、上記樹脂下引層にＺｎＯ＋　ＴｉＯ．ＺｎＳ等の
顔料粒子を分散したものも、下引層として用いることが
できる。

更に、本発明の下引，１１！Ｆ１４として、シランカッ
プリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリン
グ剤等を使用することもできる。

下引層１４の膜厚はＯ〜５μｍが適当である。

また、本発明において、共晶錯体感光層１５上に保護層
や絶縁層を設けることも可能である。

保護層は感光体の表面保護の目的で設けられ、これに使
用される材料としてはＡＢＳ樹脂、ＡＣＳｍ脂、オレフ
ィン〜ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、
アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ボリア
ミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリアリ
ルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフタ１ノ
ート，ポリカーボネート，ポリエーテルスルホン、ポリ
エチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド，
アクリル樹脂、ポリメチルベンテン，ボリプロビレン，
ポリフェニレンオキシド、ボリスルホン、ポリスチレン
、ＡＳ樹脂、ブタジエンースチレン共重合体、ポリウレ
タン，ポリ塩化ビニル，ポリ塩化ビニリデン、エポキシ
樹脂等の樹脂が挙げられる．保護層にはその他、耐摩耗
性を向上する目的でポリテトラフルオ口エチレンのよう
なフッ素樹脂，シリコーン樹脂及びこれら樹脂に酸化チ
タン、酸化錫、チタン酸カリウム等の無機材料を分散し
たもの等を添加することができる。保護層の形成法とし
ては通常の塗布法が採用される。なお保護層の厚さは０
．５〜１０μｍ程度が適当である．絶縁層には、先に挙
げた共晶錯体感光層に使用してもよい結着剤材料がその
まま使用でき、結着剤材料を含んだ溶液を塗布し，もう
けることができる。この他、ポリ塩化ビニル、ポリプロ
ピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロンなどの熱収縮
フィルムもしくはチューブを用いることもできる。

本発明の例として、第３図ａ、第３図ｂに示す様な電子
写真用複合感光体が挙げられる。

第２感光層１２および中間層１３には、公知の材料（例
えば、特開昭５６−１２１０４４号公報）を用いること
ができ、第１感光層には、前述した共晶錯体感光層１５
を用いることができる。

この様にしてなる電子写真用複合感光体には、公知のプ
ロセス（例えば特開昭５６−１２１０４４号）を適用し
て画像形或することができる。

〔実施例〕

塩化メチレン ６５０重量部 の組或よりなる塗工液を、ＡＩ２を蒸着したポリエチレ
ンテレフタレート・フィルム上に塗布・乾燥し、乾燥膜
厚１６μｍの共晶錯体感光層を形威した。

止ＪＪＬ二Ｌ 実施例−１における（１）式の化合物の代りに，下記構
造式（ｎ）のトリフェニルメタン化合物を使用した他は
、すべて実施例−１と同様にして、感光層を形威した。

以上の様にして得られた感光体を、エレクトロスタティ
ック・ペーパーアナライザ（ＳＰ−４２８（株）川口電
機製作所製〕に取りつけ，コロナ放電々圧−５　．　５
ｋｖまたは、＋６．Ｏｋｖで帯電１０秒後の電位Ｖａ（
Ｖ）、暗減衰１０秒後の電位Ｖｏ（Ｖ）、強度１０１２
ｕｘでの露光１５秒後の残留電気ｖｍ（ｖ）、さらに電
位Ｖｏを１７５に減衰させるのに必要な露光量Ｅ　１／
５（息ｕｘ−ｓａｃ）を測定した．電位保持率を次の様
に定義する。

Ｖｍ また上記条件のＩＦｍ！と露光を同時に連続１時間行な
って，感光体を疲労させた後、さらに上記と同様にして
感光体特性を測定した。

結果を表−１に示す。

（以下余白） 表−１ 実施例−１における一般式（１）の化合物の代りに表−
２に示す化合物を用いた他はすべて実施例−１と同様に
して、感光層を形成した。

感光体特性の測定結果を表−２に示す。

（以下余白） 表−２ 叉遣１二Ｕ 厚さ０　．　２ｍｏ＋のＡＩ２板上に、以下の組成の下
引層塗工液および共晶錯体感光層塗工液を塗布、乾燥し
，下引Ｍ（膜厚０．３μｍ）および共晶錯体感光層（膜
厚ｌ５μｍ）を形成して，第２図に示される電子写真感
光体を作成した。

（１）下引層塗工液 エタノール　　　　　　　　　　３００重量部（２）共
晶錯体感光層塗工液 表−３に示す一般式（１）の化合物　２５重量部塩化メ
チレン　　　　　　　　　ＳＯＯ重量部クロロホルム　
　　　　　　　　１５０ｉｉ量部裏艶量二主 実施例８〜ｌ４における一般式（１）の化合物の代りに
比較例−１で用いた構造式（ｎ）のトリフェニルメタン
化合物を使用した他は、すべて、実施例＆〜１４と、同
様にして感光体を作成した。

感光体特性の測定結果を表−３に示す。

（以下余白） １３６９ 表−３ 〔効　　果〕 本発明により、優れた電子写真感度（正Ｓ電時において
特に優れた電子写真感度）を有する共晶錯体感光層から
成る電子写真感光体及び２色プロセス用の電子写真用複
合感光体を提供することができる．

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の電子写真感光体の断面図、第２図は
、本発明の他の電子写真感光体の断面図、第３図ａは、
本発明の電子写真複合感光体の断面図、第３図ｂは，本
発明の他の電子写真用複合感光体の断面図である。 １ｌ・・・導電性基体　　１２・・・感光Ｎ（第２感光
層）Ｌ３・・・中間層　　　　１４・・・下引層１５・
・・感光層（共晶錯体）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、導電性基体上にピリリウム系染料、電気絶縁性重合
   体および下記一般式（ I ）で示される化合物を主成分
   とする光導電層が設けられていることを特徴とする電子
   写真感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３及びＲ＾４は水素原子、アミノ
   基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、 アリールオキシ基、メチレンジオキシ基、置換もしくは
   無置換のアルキル基、ハロゲン原子又は置換もしくは無
   置換のアリール基を、Ｒ＾２は水素原子、アルコキシ基
   、置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲンを表わ
   す。但し、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４がすべ
   て水素原子である場合は除く。 またｋ、ｌ、ｍ及びｎは１、２、３又は４の整数であり
   、各々が２、３又は４の整数の時は前記Ｒ＾１、Ｒ＾２
   、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一でも異なっていてもよい。）