JP2615031B2 - 電子写真用感光体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、電子写真感光体に関し、詳しくは、共晶錯
体感光層中に特定の光を有する物質を添加した電子写真
用感光体に関する。

〔従来技術〕

ピリリウム系染料と電気絶縁性重合体とからなる共晶
錯体及び必要あればトリフエニルメタン系増感剤を加え
た組成物を光導電層とした電子写真用感光体は公知であ
る（例えば特公昭46−22518号公報、同46−22519号公
報、同51−1129号公報、特開昭47−10785号公報、同51
−88226号公報、同51−93324号公報、同53−87227号公
報等）。

これらの感光体は、実用上、差支えない程度の電子写
真感度を持ってはいるが、未だ充分満足するまでには到
っていない。

〔目的〕

本発明は、優れた電子写真感度殊に正帯電時において
優れた電子写真感度を有する電子写真用感光体を提供す
ることを目的とする。

〔構成〕

本発明者らは、導電性基体上にピリリウム系染料、電
気絶縁性重合体、および下記一般式（Ｉ） （式中、R¹は置換もしくは無置換のアルキル基、置換も
しくは無置換のアリール基を表し、R²、R³およびR⁴は水
素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
は無置換のアリール基を表し、Ar¹は置換又は無置換の
アリール基を表し、Ar²は置換又は無置換のアリーレン
基を表し、Ar¹とR¹は共同で環を形成してもよく、また
ｎは０又は１の整数である。）で示される化合物を主成
分とする光導電層が設けられてなる電子写真用感光体で
あって、該光導電層中に前記ピリリウム系染料と前記電
気絶縁性重合体を主成分とする共晶錯体からなる相が形
成されてなることを特徴とする電子写真用感光体は、極
めて優れた電子写真感度が得られることを見い出し、本
発明に到った。

従って、本発明の電子写真用感光体は、ピリリウム系
染料、電気絶縁性重合体および、一般式（Ｉ）で示され
る化合物を主成分とする光導電層（共晶錯体感光層）
が、導電性基板上に設けられていることを特徴とするも
のである。

以下、図面にそって、本発明をさらに説明する。

第１図は、本発明の電子写真用感光体の構成例を示す
断面図であり、導電性基体11上に、共晶錯体感光層15が
設けられている。

第２図は、本発明の別の構成例であり、導電性基体と
共晶錯体感光層との間に下引層14を設けたものである。

また、第３図に、本発明の応用として電子写真用複合
感光体を示す。導電性基体上に、共晶錯体感光層を透過
する光に対して感度を有する感光層12（以下、第２感光
層という）を設け、さらにその上に共晶錯体感光層を設
けたものである。

第４図は、電子写真用複合感光体の別の構成例を示す
ものであり、第２感光層と、共晶錯体感光層の間に中間
層13を、設けてなるものである。

導電性基体11としては、体積抵抗10¹⁰Ωcm以下の導電
性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化ス
ズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はスパ
ッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラス
チック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、
アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板および
それらをD.I.,I.I.,押打し、引抜き等の工法で素管化
後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理した管等を使用
することができる。

前述した様に、共晶錯体感光層15は、共晶錯体と、一
般式（Ｉ）で示される導電性物質を主成分として形成さ
れている。この共晶錯体は、ピリリウム系染料と、電気
絶縁性重合体とからつくられるものである。

ピリリウム系染料には、ピリリウム塩、チアピリリウ
ム塩及びセレナピリリウム塩の３種があり、下記一般式
を有している。

上式においてR^a,R^b,R^c,R^d及びR^eは夫々、 （ａ）水素原子 （ｂ）アルキル基、代表的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシルなどの
C₁〜C₁₅のアルキル基 （ｃ）メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ア
ミロキシ、ヘキソキシ、オクトキシなどのアルコキシ基 （ｄ）フェニル、４−ジフェニル、４−エチルフェニ
ル、４−プロピルフェニルなどのアルキルフェニル類;4
−エトキシフェニル、４−メトキシフェニル、４−アミ
ロキシフェニル、２−ヘキソキシフェニル、２−メトキ
シフェニル、3,4−ジメトキシフェニルなどのアルコキ
シフェニル類;2−ヒドロキシエトキシフェニル、３−ヒ
ドロキシエトキシフェニルなどのβ−ヒドロキシアルコ
キシフェニル類;4−ヒドロキシフェニル、2,4−ジクロ
ロフェニル、3,4−ジブロモフェニル、４−クロロフェ
ニル、3,4−ジクロロフェニルなどのハロフェニル類；
アジドフェニル、ニトロフェニル、４−ジエチルアミノ
フェニル、４−ジメチルアミノフェニルなどのアミノフ
ェニル類；ナフチル、スチリル、メトキシスチリル、ジ
エトキシスチリル、ジメチルアミノスチリル、１−ブチ
ル−４−Ｐ−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジェ
ニル、β−エチル−４−ジメチルアミノスチリル等のビ
ニル置換アリール基のような置換アリール基を含めたア
リール基、 を表わし、Ｘは硫黄、酸素又はセレン原子であり、また
Ｚ はパークロレート、フルオロボレート、沃化物、塩
化物、臭化物、硫酸塩、過沃化物、Ｐ−トルエンスルホ
ネート、ヘキサフルオロホスフエートなどの陰イオン官
能基である。

更にR^a,R^b,R^c,R^d及びR^eは共同してピリリウム核に融
合したアリール環を完成するに必要な原子であってもよ
い。

このようなピリリウム系染料の代表例を下記に示す。 化合物No. 化 合 物 名 1 ４−〔４−ビス−２（クロロエチル）アミ ノフェニル〕−２・６−ジフェニルチアピ リリウムパークロレート 2 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルチアピリリウムパークロレ ート 3 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルチアピリリウムフルオロボ レート 4 ４−（４−ジメチルアミノ−２−メチルフ ェニル）−２・６−ジフェニルピリリウム パークロレート 5 ４−〔４−ビス（２−クロロエチル）アミ ノフェニル〕−２−（４−メトキシフェニ ル）−６−フェニルチアピリリウムパーク ロレート 6 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルチアピリリウムサルフエー ト 7 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルチアピリリウムＰ−トルエ ンスルホネート 8 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）２・ ６−ジフェニルピリリウム−Ｐ−トルエン スルホネート 9 ２−（２・４−ジメトキシフェニル）−４ −（４−ジメチルアミノフェニル）−ベン ゾ（ｂ）ピリリウムパークロレート 10 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −（４−ジメチルアミノフェニル）チアピ リリウムパークロレート 11 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −（４−メトキシフェニル）−６−フェニ ルチアピリリウムパークロレート 12 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −（４−エトキシフェニル）−６−フェニ ルチアピリリウムパークロレート 13 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −（４−メトキシフェニル）−６−（４− メチルフェニル）−ピリリウムパークロレ ート 14 ４−（４−ジフェニルアミノフェニル）− ２・６−ジフェニルチアピリリウムパーク ロレート 15 ２−４−６−トリフェニルピリリウムパー クロレート 16 ４−（４−メトキシフェニル）−２・６− ジフェニルピリリウムパークロレート 17 ４−（２・４−ジクロロフェニル）−２・ ６−ジフェニルピリリウムパークロレート 18 ４−（３・４−ジクロロフェニル）−２・ ６−ジフェニルピリリウムパークロレート 19 ２−６−ビス（４−メトキシフェニル）− ４−フェニルピリリウムパークロレート 20 ６−（４−メトキシフェニル）−２・４− ジフェニルピリリウムパークロレート 21 ２−（３・４−ジクロロフェニル）−４− （４−メトキシフェニル）−６−フェニル ピリリウムパークロレート 22 ４−（４−アミロキシフェニル）−２・６ −ビス（４−エチルフェニル）ピリリウム パークロレート 23 ４−（４−アミロキシフェニル）−２・６ −ビス（４−メトキシフェニル）ピリリウ ムパークロレート 24 ２・４・６−トリフェニルピリリウムフル オロボレート 25 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −（４−メトキシフェニルピリリウムパー クロレート 26 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −（４−メトキシフェニル）ピリリウムフ ルオロボレート 27 ６−(３・４−ジエトキシスチリル)−２・ ４・ジフェニルピリリウムパークロレート 28 ６−（３・４−ジエトキシ−β−アミルス チリル）−２・４−ジフェニルピリリウム フルオロボレート 29 ６−（４−ジメチルアミノ−β−エチルス チリル）−２・４−ジフェニルピリリウム フルオロボレート 30 ６−（１−ｎ−アミル−４−ｐ−ジメチル アミノフェニル−１・３−ブタジエニル） −２・４−ジフェニルピリリウムフルオロ ボレート 31 ６−(４−ジメチルアミノスチリル)−２・ ４・ジフェニルピリリウムフルオロボレー ト 32 ６−〔α−エチル−β・β−ビス（ジメチ ルアミノフェニル）ビニレン〕−２・４− ジフェニルピリリウムフルオロボレート 33 ６−（１−ブチル−４−ｐ−ジメチルアミ ノフェニル−１・３−ブタジエニル)-２・ ４−ジフェニルピリリウムフルオロボレー ト 34 ５−(４−ジメチルアミノスチリル)−２・ ４−ジフェニルピリリウムパークロレート 35 ６−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノ フェニル）ビニレン〕−２・４−ジフェニ ルピリリウムパークロレート 36 ２・６−ビス（４−ジメチルアミノスチリ ル）−４−フェニルピリリウムパークロレ ート 37 ６−（β−メチル−４−ジメチルアミノス チリル）−２・４−ジフェニルピリリウム フルオロボレート 38 ６−〔１−エチル−４−（４−ジメチルア ミノフェニル）−１・３−ブタジエニル〕 −２・４−ジエニルピリリウムフルオロボ レート 39 ６−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノ フェニル）ビニレン〕−２・４−ジフェニ ルピリリウムフルオロボレート 40 ６−〔１−メチル−４−（４−ジメチルア ミノフェニル−１・３−ブタジエニル〕− ２・４−ジフェルピリリウムフルオロボレ ート 41 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルピリリウムパークロレート 42 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −フェニルピリリウムパークロレート 43 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −メトキシフェニルチアピリリウムフルオ ロボレート 44 ２・４・６−トリフェニルチアピリリウム パークロレート 45 ４−（４−メトキシフェニル）−２・６− ジフェニルチアピリリウムパークロレート 46 ６−（４−メトキシフェニル）−２・４− ジフェニルチアピリリウムパークロレート 47 ２−６−ビス（４−メトキシフェニル）− ４−フェニルチアピリリウムパークロレー ト 48 ４−（２・４−ジクロロフェニル）−２・ ６−ジフェニルチアピリリウムパークロレ ート 49 ２・４・６−トリ（４−メトキシフェニル チアピリリウムパークロレート 50 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −フェニルチアピリリウムパークロレート 51 ４−（４−アミルオキシフェニル）−２・ ６−ビス（４−エチルフェニル）チアピリ リウムパークロレート 52 ６−(４−ジメチルアミノスチリル)−２・ ４−ジフェニルチアピリリウムパークロレ ート 53 ２・４・６−トリフェニルチアピリリウム フルオロボレート 54 ２・４・６−トリフェニルチアピリリウム サルフェート 55 ４−（４−メトキシフェニル）−２・６− ジフェニルチアピリリウムフルオロポレー ト 56 ２・４・６−トリフェニルチアピリリウム クロライド 57 ２−（４−アミルオキシフェニル）−４・ ６−ジフェニルチアピリリウムフルオロポ レート 58 ４−（４−アミルオキシフェニル）−２・ ６−ビス（４−メトキシフェニル）チアピ リリウムパークロレート 59 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −（４−メトキシフェニル）チアピリリウ ムパークロレート 60 ４−アニシル−２・６−ビス（４−ｎ−ア ミルオキシフェニル）チアピリリウムクロ ライド 61 ２−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノ フェニル）ビニレン〕−４・６−ジフェニ ルチアピリリウムパークロレート 62 ６−（β−エチル−４−ジメチルアミノス チリル）−２・４−ジフェニルチアピリリ ウムパークロレート 63 ２−(３・４−ジエトキシスチリル)−４・ ６−ジフェニルチアピリリウムパークロレ ート 64 ２・４・６−トリアニシルチアピリリウム パークロレート 65 ６−エチル−２・４−ジフェニルピリリウ ムフルオロボレート 66 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −（４−メトキシフェニル）チアピリリウ ムクロライド 67 ６−〔β・β−ビス（４−ジメチルアミノ フェニル）ビニレン〕−２・４−ジ（４− エチルフェニル）ピリリウムパークロレー ト 68 ２・６−ビス(４−アミルオキシフェニル) −４−（４−メトキシフェニル）チアピリ リウムパークロレート） 69 ６−（３・４−ジエトキシ−β−エチルス チリル）−２・４−ジフェニルピリリウム フルオロボレート 70 ６−(４−メトキシ−β−エチルスチリル) −２・４−ジフェニルピリリウムフルオロ ボレート 71 ２−（４−エチルフェニル）−４・６−ジ フェニルチアピリリウムパークロレート 72 ２・６−ジフェニル−４−（４−メトキシ フェニル）チアピリリウムパークロレート 73 ２・６−ジフェニル−４−（４−メトキシ フェニル）チアピリリウムフルオロボレー ト 74 ２・６−ビス（４−エチルフェニル）−４ −（４−ｎ−アミルオキシフェニル）チア ピリリウムパークロレート 75 ２・６−ビス（４−メトキシフェニル）４ −（４−ｎ−アミルオキシフェニル）チア ピリリウムパークロレート 76 ２・４・６−トリス（４−メトキシフェニ ル）チアピリリウムフルオロボレート 77 ２・４−ジフェニル−６−（３・４−ジエ トキシスチリル）ピリリウムパークロレー ト 78 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −フェニルベンゾ（ｂ）セレナピリリウム パークロレート 79 ２−（２・４−ジメトキシフェニル）−４ −（４−ジメチルアミノフェニル）−ベン ゾ（ｂ）セレナピリリウムパークロレート 80 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルセレナピリリウムパークロ レート 81 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −（４−エトキシフェニル）−６−フェニ ルセレナピリリウムパークロレート 82 ４−〔４−ビス（２−クロロエチル）アミ ノフェニル〕−２・６−ジフェニルセレナ ピリリウムパークロレート 83 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ビス（４−エチルフェニル）−セレナ ピリリウムパークロレート 84 ４−（４−ジメチルアミノ−２−メチルフ ェニル）−２・６−ジフェニルセレナピリ リウムパークロレート 85 ３−（４−ジメチルアミノフェニル）ナフ ト（２・１−ｂ）セレナピリリウムパーク ロレート 86 ４−（４−ジメチルアミノスチリル）−２ −（４−メトキシフェニル）ベンゾ（ｂ） セレナピリリウムパークロレート 87 ２・６−ジ(４−ジエチルアミノフェニル) −４−フェニルセレナピリリウムパークロ レート 88 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−２ −（４−エトキシフェニル）−６−フェニ ルチアピリリウムフルオロボレート 89 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルピリリウムヘキサフルオロ フォスフェート 90 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルチアピリリウムヘキサフル オロフォスフェート 91 ４−(４−ジメチルアミノフェニル)−２・ ６−ジフェニルセレナピリリウムヘキサフ ルオロフォスフェート 特に有用なピリリウム染料は下記一般式を有するもの
である。

式中R₁及びR₂はC₁〜C₆のアルキル基及びC₁〜C₆のアル
コキシ基から選ばれた少なくとも１つの置換基を有する
置換フェニル基のようなアリール基であり、R₃はアルキ
ル部分がC₁〜C₆のアルキルアミノ置換フェニル基で、ジ
アルキルアミノ置換及びハロアルキルアミノ置換フェニ
ル基でもよい。Ｘは酸素又は硫黄原子、Ｚ は前述の通
りである。

電気絶縁性重合体としては主鎖（繰返し単位）中に下
記式で示されるアルキリデンジアリーレン部分を有する
ものが特に有用である。

式中R₄及びR₅は夫々、水素原子、トリフルオロメチル
のような置換アルキル基を含むメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどのア
ルキル基、ハロゲン、C₁〜C₅のアルキル基のような置換
基を有する置換アリール基を含むフェニル及びナフチル
などのアリール基であり、またR₄とR₅とは共同してシク
ロヘキシルのようなシクロアルカン類及びノルボルニル
のようなポリシクロアルカン類を含む環式炭化水素基を
形成するに必要な炭素原子であってもよい。R₅及びR₇は
水素、C₁〜C₆のアルキル基又はクロル、ブロム、沃素な
どのハロゲンであり、またR₈は よりなる群から選択された２価の基である。

また下記式の繰返し単位からなる疎水性炭酸塩集合体
類（ポリカーボネート）も有用で好ましいものである。

式中、Ｒはハロゲン置換フェニレン基類及びアルキル
置換フェニレン基類を含むフェニレン基であり、またR₄
及びR₅は前述の通りである。これらの重合体はUSP3,02
8,365号、同3,317,466号に開示されている。好ましく
は、ビスフェノールＡから製造されるような、繰返し単
位にアルキリデンジアリーレン部分を含有しジフェニル
カーボネートと2,2−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパンとの間のエステル交換によって生成した重合体
を含むポリカーボネート類が有用である。このような重
合体はUSP2,999,750号、同3,038,874号、同3,038,880
号、同3,106,544号、同3,106,545号、同3,106,546号等
に開示されている。いずれにしてもフィルム形成性ポリ
カーボネート樹脂類は広範囲に使用できる。特に約0.5
〜1.8の固有粘度を有するものを使用すると、満足し得
る結果が得られる。

電気絶縁性重合体の具体例は下記の通りである。番号 重 合 体 材 料 1 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −CO−1,4−シクロヘキシル−ジメチルカーボ ネート） 2 ポリ（3,3′−エチレンジオキシフェニレンチ オカーボネート） 3 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン カーボネート−CO−テレフタレート） 4 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン カーボネート） 5 ポリ（4,4′−イソプロピリデンフェニレンチ オカーボネート 6 ポリ（2,2−ブタンビス−４−フェニレンカー ボネート） 7 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン カーボネート−ブロック−エチレンオキシド） 8 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン カーボネート−ブロック−テトラメチレンオキシ ド） 9 ポリ〔4,4′−イソプロピリデンビス（２−メ チルフェニレン）カーボネート〕 10 ポリ（4,4′−イソプロピリデンフェニレン− CO−1,4−フェニレンカーボネート） 11 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −CO−1,3−フェニレンカーボネート） 12 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −CO−4,4′−ジフェニレンカーボネート） 13 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −CO−4,4′−オキシジフェニレンカーボネー ト） 14 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −CO−4,4′−カルポニル−ジフェニレンカー ボネート） 15 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −CO−4,4′−エチレンジフェニレンカーボネ ート） 16 ポリ〔4,4′−メチレンビス（２−メチルフェ ニレン）カーボネート〕 17 ポリ〔1,1−（Ｐ−ブロモフェニルエタン）− ビス（４−フェニレン）カーボンネート〕 18 ポリ〔4,4′−イソプロピリテンジフェニレン −CO−スルホニル−ビス（４−フェニレン）カー ボネート〕 19 ポリ〔1,1−シクロヘキサンビス（４−フェニ レン）カーボネート〕 20 ポリ〔4,4′−イソプロピリデンビス（２−ク ロロフェニレン）カーボネート〕 21 ポリ（ヘキサフルオロイソプロビリデンジ−４− フェニレンカーボネート） 22 ポリ〔4,4′−イソプロピリデンジフェニレン −4,4′−イソプロピリデンベンゾエート） 23 ポリ（4,4′−イソプロピリテンジベンジル− 4,4′−イソプロピリテンジベンゾエート） 24 ポリ〔2,2−（３−メチルブタン）ビス−４− フェニレンカーボネート） 25 ポリ〔2,2−（3,3−ジメチルブタン）ビス −４−フェニレンカーボネート〕 26 ポリ｛1,1−〔１−（１−ナフチル）〕ビス −４−フェニレンカーボネート｝ 27 ポリ〔2,2−（４−メチルペンタン）ビス−４ −フェニレンカーボネート〕 28 ポリ〔4,4′−（２−ノルボルニリデン）ジフ ェニレンカーボネート〕 29 ポリ〔4,4′−（ヘキサヒドロ−4,7−メタ ノインタン−５−イリデン）−ジフェニレンカー ボネート〕 30 ポリ（4,4′−イソプロピリデンジフェニレン カーボネート−ブロック−オキシテトラメチレ
ン） また一、般式（Ｉ）で示される化合物の代表例を、下
記に示す。

本発明の共晶錯体感光層15をつくるには、上記のピリ
リウム系染料、電気絶縁性重合体、および一般式（Ｉ）
で示される化合物を適当な溶媒、例えば、テトラヒドロ
フラン、トルエン、1,2−ジクロルエタン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、モノクロルベンゼン、ジクロルベン
ゼン、ベンゼンなどに溶解し、これを導電性基体11上に
塗布し、50〜130℃で乾燥して、膜厚５〜50μｍの光導
電層（共晶錯体感光層）15を形成すればよい。

塗布は、浸漬塗工法、ビードコート法、スプレーコー
ト法や、ワイヤーブレード、ドクターブレード、エアー
ナイフなどを用いて行なえる。

この塗布乾燥がなされる間に、ピリリウム系染料と電
気絶縁性重合体とで共晶錯体を形成する。

共晶錯体感光層15における各成分の割合は、ピリリウ
ム系染料１重量部に対して、電気絶縁性重合体５〜80重
量部、一般式（Ｉ）で示される化合物１〜50重量部が適
当である。

また、この層15を形成する際に、シリコーンオイルな
どのレベリング剤を塗工液に添加してもよい。その使用
量は、電気絶縁性重合体に対して０〜１重量％程度が適
当である。

さらに、層15を設けるに際して、結着剤が必要により
使用されてもよい。

ここでの結着剤材料としてはポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合
体、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重
合体及び共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エポキ
シ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルキッド樹
脂、セルロース系樹脂やポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
及びその誘導体（例えばカルバゾール骨格に塩素、臭素
などのハロゲン、メチル基、アミノ基などの置換基を有
するもの）、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセ
ン、ピレン−ホルムアルデヒド縮重合体及びその誘導体
（例えばピレン骨格に臭素などのハロゲン、ニトロ基な
どの置換基を有するもの）、ポリ−γ−カルバゾリルエ
チル−Ｌ−ダルタメート、スチロール樹脂、塩素化ポリ
エチレン、アセタール樹脂、メラミン樹脂などがあげら
れる。

この結着材には、可塑材を併用することができる。可
塑材としてはジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
トなど、一般に樹脂の可塑材として使用されているもの
がそのまま使用できる。

その使用量は、樹脂結着材に対して０〜30重量％程度
が適当である。

なお、本発明の共晶錯体感光層15を形成するに際して
は、塗工液を重ね塗り方法（特開昭56−40837号公報）
や、既に設けた電気絶縁性重合体層をピリリウム系染料
に浸漬後、乾燥する方法（特開昭56−80052号公報）を
用いてもよく、また層15中のピリリウム系染料の濃度を
導電性基体側と、表面付近で異にするように形成（特開
昭56−121042号公報）してもよい。

本発明において、第２図に示されるように導電性基体
と、共晶錯体感光層の間に、下引層14を設けることによ
り、帯電性、接着性を改良することができる。

下引層14には、SiO、Al₂O₃等の無機材料を蒸着、スパ
ッタリング、陽極酸化などの方法で設けたものや、ポリ
アミド樹脂、アルコール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂な
どの樹脂層を用いることができる。

また、上記樹脂下引層にZnO、TiO₂、ZnS等の顔料粒子
を分散したものも、下引層として用いることができる。

更に、本発明の下引層14として、シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を
使用することもできる。

下引層14の膜厚は０〜５μｍが適当である。

また、本発明において、共晶錯体感光層15上に保護層
や絶縁層を設けることも可能である。

本発明の応用例として、第３図、第４図に示す様な電
子写真用複合感光体が挙られる。

第２感光層12および中間層13には、公知の材料（例え
ば特開昭56−121044号公報）を用いることができ、第１
感光層には、前述した共晶錯体感光層15を用いることが
できる。

この様にしてなる電子写真用複合体には、公知のプロ
セス（例えば特開昭56−121044）を適用して画像形成す
ることができる。

〔効果〕

本発明の電子写真用感光体は、前記構成からなり、光
導電性層として、ピリリウム系染料、電気絶縁性重合体
及び前記一般式（Ｉ）で示される化合物を用いたことか
ら、従来のものとは異なり、正帯電時において優れた電
子写真感度を有するので、鮮明な電子写真画像を作成す
ることができる。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。

実施例−１ ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−2,6−ジフェニ
ルチアピリリウムパークロレート ３重量部 ポリカーボネート 28重量部 （帝人化成（株）パンライトＬ−1250） 塩化メチレン 650重量部 下記構造式で示される（Ｉ）式の化合物 の組成よりなる塗工液を、Alを蒸着したポリエチレンテ
レフタレート・フィルム上に塗布・乾燥し、乾燥膜厚16
μｍの共晶錯体感光層を形成した。

比較例−１ 実施例−１、における（Ｉ）式の化合物の代りに、下
記構造式の化合物を使用した他は、すべて実施例−１と
同様にして、感光層を形成した。

以上の様にした得られた感光体を、エレクトロスタテ
ィック・ペーパーアナライザ〔SP−428（株）川口電機
製作所製〕に取りつけ、コロナ放電々圧−5.5kV又は、
＋6.0kVで帯電10秒後の電位Vm（Ｖ）、暗減衰10秒後の
電位Vo（Ｖ）、強度10luxでの露光15秒後の残留電位Vr
（Ｖ）、さらに電位Voを1/5に減衰させるのに必要な露
光量E1/5〔lux.sec〕を測定した。

電位保持率を次の様に定義する。

また、上記条件の帯電と露光を同時に連続１時間行な
って、感光体を疲労させた後、さらに上記と同様にして
感光体特性を測定した。

結果を表１に示す。

実施例２〜６、比較例２ 実施例−１における（Ｉ）式の化合物の代りに表２に
示す化合物を用いた他は、すべて実施例−１と同様にし
て、感光層を形成した。感光体特性の測定結果を表２に
示す。なお、比較例２で用いた化合物は公知化合物であ
り、 で表わされる化合物である。

実施例７〜12 厚さ0.2mmのAl板上に、以下の組成の下引層塗工液お
よび共晶錯体感光層塗工液を塗布、乾燥し、下引層（膜
厚0.3μｍ）および共晶錯体感光層（膜厚15μｍ）を形
成して、第２図に示される電子写真感光体を作成した。

（１）下引層塗工液 アルコール可溶性ナイロン ３重量部 （東レ（株）製アミランCM−8000） エタノール 300重量部 （２）共晶錯体感光層塗工液 ４−（４−ジメチルアミノフェニル）−2.6−ジフェニ
ルチアピリリウムヘキサフルオロフォスフェート１重量
部 ポリカーボネート 25重量部 （GE社製レキサン−141） 表−３に示す（Ｉ）式の化合物 25重量部 塩化メチレン 500重量部 クロロホルム 150重量部 比較例３ 実施例７〜12における（Ｉ）式の化合物の代りに公知
化合物である構造式 で示される化合物を使用した他は、すべて、実施例７〜
12と同様にして感光体を作成した感光体の特性の測定結
果を表−３に示す。

比較例−４ 実施例８〜14における（Ｉ）式の化合物の代りに比較
例−１で用いたトリフェニルメタン化合物を使用した他
は、すべて、実施例８〜14と同様にして感光体を作成し
た。

感光体特性の測定結果を表−３に示す。

実施例13〜24 実施例１〜12の感光層に関し、連続３時間にわたり帯
電露光を繰り返し、電位保持率（Vo/Vm）、電位Voを1/5
に減衰させるのに必要な露光量Ｅ_1/5〔ｌ・sec〕、電位
Voを測定した。結果を表−４のとおりである。

なお、ピリリウム系染料を増感色素として用いた色素
増感型電子写真感光体の場合（特開昭60−98437号公
報、実施例30）について、前記と同じ方法によりＥ_1/5
を測定した。結果は次の表−５のとおりである。

【図面の簡単な説明】 第１図〜第４図は、本発明の電子写真用感光体構成例を
示す模式断面図である。 11……導電性基体 12……第２感光層 13……中間層 14……下引層 15……共晶錯体感光層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷口 淑 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (72)発明者 横山 佳代子 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 昭62−10652（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−87227（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−98437（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】導電性基体上にピリリウム系染料、電気絶
   縁性重合体、および下記一般式（Ｉ）で示される化合物
   を主成分とする光導電層が設けられた電子写真用感光体
   であって、該光導電層中に前記ピリリウム系染料と前記
   電気絶縁性重合体を主成分とする共晶錯体からなる相が
   形成されてなることを特徴とする電子写真用感光体。 （式中、R¹は置換もしくは無置換のアルキル基、置換も
   しくは無置換のアリール基を表し、R²、R³およびR⁴は水
   素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしく
   は無置換のアリール基を表し、Ar¹は置換又は無置換の
   アリール基を表し、Ar²は置換又は無置換のアリーレン
   基を表し、Ar¹とR¹は共同で環を形成してもよく、また
   ｎは０又は１の整数である。）