JPH03197439A - 3‐フェノキシベンジル2‐(4‐ヒドロキシフェニル)‐2‐メチルプロピルエーテル類の製造法 - Google Patents
3‐フェノキシベンジル2‐(4‐ヒドロキシフェニル)‐2‐メチルプロピルエーテル類の製造法Info
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- JPH03197439A JPH03197439A JP33660289A JP33660289A JPH03197439A JP H03197439 A JPH03197439 A JP H03197439A JP 33660289 A JP33660289 A JP 33660289A JP 33660289 A JP33660289 A JP 33660289A JP H03197439 A JPH03197439 A JP H03197439A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
式(n)
〔式中、Xは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示し
、また、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシベン
ジル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル類にマグネシウムを作用させて、相当するフ
ェニルマグネシウムハライド化合物に変換した後、引続
き酸素と反応させることを特徴とする式(II)〔式中
、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子またはフッ
素原子を示す。]で表される3−フェノキシヘンシル2
−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロピルエ
ーテル類は、殺虫、殺ダニ剤として卓効を有する、式(
I) 〔式中、Rはメチル基、エチル基、ジフロロモノブロモ
メチル基、またはトリフロロメチル基等の低級アルキル
基を表し、R′およびR2はそれぞれ独立に水素原子ま
たはフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシヘ
ンシル2−(4−アルコキシフェニル)−2メヂルブロ
ビル工−テル誘導体を製造する際の中間体として、極め
て有用な化合物である。
、また、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシベン
ジル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル類にマグネシウムを作用させて、相当するフ
ェニルマグネシウムハライド化合物に変換した後、引続
き酸素と反応させることを特徴とする式(II)〔式中
、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子またはフッ
素原子を示す。]で表される3−フェノキシヘンシル2
−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロピルエ
ーテル類は、殺虫、殺ダニ剤として卓効を有する、式(
I) 〔式中、Rはメチル基、エチル基、ジフロロモノブロモ
メチル基、またはトリフロロメチル基等の低級アルキル
基を表し、R′およびR2はそれぞれ独立に水素原子ま
たはフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシヘ
ンシル2−(4−アルコキシフェニル)−2メヂルブロ
ビル工−テル誘導体を製造する際の中間体として、極め
て有用な化合物である。
本発明は、上記式(II)で示される3−フェノキシヘ
ンシル2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテル類の製造法に関する。
ンシル2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテル類の製造法に関する。
さらに詳しくは、弐(I)
近年、3−フェノキシヘンシルエーテル系の化合物が新
しい型の殺虫、殺ダニ剤として注目されてきている。
しい型の殺虫、殺ダニ剤として注目されてきている。
特に、その中でも式(I■)に示した構造を有する3フ
エノキシヘンシル2(4−アルコキシフェニル)−2−
メチルプロピルエーテル類は高い殺虫、殺ダニ活性を有
している。
エノキシヘンシル2(4−アルコキシフェニル)−2−
メチルプロピルエーテル類は高い殺虫、殺ダニ活性を有
している。
〔式中、Xば塩素原子、臭素原子または沃素原子を示し
、また、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシヘン
シル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル類を原料とする、前記式(■)で示した3−
フェノキシヘンシル2−(4−ヒドロキシフェニル)−
2−メチルプロピルエーテル類の新規な製造法に関する
ものである。
、また、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシヘン
シル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル類を原料とする、前記式(■)で示した3−
フェノキシヘンシル2−(4−ヒドロキシフェニル)−
2−メチルプロピルエーテル類の新規な製造法に関する
ものである。
(従来の技術及び発明が解決しようとする課題](式中
、Rはメチル基、エチル基、ジフルオロモノフロモメチ
ル基、または[・リフルオロメチル基等の低級アルキル
基を表し、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子ま
たはフッ素原子を示す。]この一般式(III)に示さ
れる3−フェノキシヘンシル2−(4−アルコキシフェ
ニル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法とし
ては、既に種々の方法が開示されている。
、Rはメチル基、エチル基、ジフルオロモノフロモメチ
ル基、または[・リフルオロメチル基等の低級アルキル
基を表し、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子ま
たはフッ素原子を示す。]この一般式(III)に示さ
れる3−フェノキシヘンシル2−(4−アルコキシフェ
ニル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法とし
ては、既に種々の方法が開示されている。
代表的なものとしては、
(I)4−アルコキシネオフィルハライドと3−フェノ
キシヘンシルアルコールよを縮合させる方法。
キシヘンシルアルコールよを縮合させる方法。
(2)3−ハロゲノ−4−アルコキシネオフィルハライ
ドと3−フェノキシヘンシルアルコールとを縮合させた
後に、脱ハロゲン化して製造する方法。
ドと3−フェノキシヘンシルアルコールとを縮合させた
後に、脱ハロゲン化して製造する方法。
(3) 4−アルコキシネオフィルアルコールと3−フ
ェノキシヘンシルハライドとを縮合させる方法。
ェノキシヘンシルハライドとを縮合させる方法。
などがある。
これらの製造方法の中で、(I)の方法は4−アルコキ
シネオフィルハライドを製造する際に、異性体である2
−アルコキシネオフィルハライドが多量に副生ずるため
にそれらの分離精製が困難であること、また、(3)の
方法については、現状において一方の原料である4−ア
ルコキシネオフィルアルコールの工業的に適した製造法
がないのが難点である。
シネオフィルハライドを製造する際に、異性体である2
−アルコキシネオフィルハライドが多量に副生ずるため
にそれらの分離精製が困難であること、また、(3)の
方法については、現状において一方の原料である4−ア
ルコキシネオフィルアルコールの工業的に適した製造法
がないのが難点である。
現在のとごろ、(2)の方法が工業的製法として適して
いると考えられる。(2)の方法に関しては特開昭64
−44号公報、特開昭60−45542号公報、特開昭
59−88.1140号公報、特開昭59−73535
号公報で3−ハロゲノ−4−アルコキシネオフィルハラ
イドの製造法、3−フェノキシヘンシルアルコールとの
縮合に関する方法、更にはその縮合反応生成物の水素化
脱ハロゲン化反応によって、一般弐(II)で示される
3−フェノキシヘンシル2−(4−アルコキシフェニル
)2−メチルプロピルエーテル類を製造する方法を↑π
イ共している。
いると考えられる。(2)の方法に関しては特開昭64
−44号公報、特開昭60−45542号公報、特開昭
59−88.1140号公報、特開昭59−73535
号公報で3−ハロゲノ−4−アルコキシネオフィルハラ
イドの製造法、3−フェノキシヘンシルアルコールとの
縮合に関する方法、更にはその縮合反応生成物の水素化
脱ハロゲン化反応によって、一般弐(II)で示される
3−フェノキシヘンシル2−(4−アルコキシフェニル
)2−メチルプロピルエーテル類を製造する方法を↑π
イ共している。
しかしながら、この(2)の方法についてもアルキル化
の際の保護基である3位のハロゲン原子は最終的に水素
化脱ハロゲン化しなくてはならず、製造工程面を考える
と必ずしも効率的な製造方法とは言い難い。
の際の保護基である3位のハロゲン原子は最終的に水素
化脱ハロゲン化しなくてはならず、製造工程面を考える
と必ずしも効率的な製造方法とは言い難い。
また、式(ITJ)で表される3−フェノキシヘンシル
2−(4−アルコキシフェニル)2−メチルプロピルエ
ーテル誘導体類の中でも、Rがハロゲノメチル基である
化合物の合成については、式(■1)で表される3−フ
ェノキシベンジル2−(4−ヒドロキシフェニル)−2
−メチルプロピルエーテル類を経なければならず、例え
ば特開昭62−212335号公報のような繁雑な操作
を行わなければならない。
2−(4−アルコキシフェニル)2−メチルプロピルエ
ーテル誘導体類の中でも、Rがハロゲノメチル基である
化合物の合成については、式(■1)で表される3−フ
ェノキシベンジル2−(4−ヒドロキシフェニル)−2
−メチルプロピルエーテル類を経なければならず、例え
ば特開昭62−212335号公報のような繁雑な操作
を行わなければならない。
本発明は、水素化脱ハロゲン化工程を省くとともに、弐
(I[[)で示される神々の3−フェノキシヘンジル2
−(4−アルコキシフェニル)−2−メチルプロピルエ
ーテル誘導体を容易に製造することができる中間体、即
ち、前記一般式(II)で示される3フェノキシヘンシ
ル2−(4−ヒドロキシフェニル)2−メチルプロピル
エーテル類の効率よい製造法を提供することを課題とす
る。
(I[[)で示される神々の3−フェノキシヘンジル2
−(4−アルコキシフェニル)−2−メチルプロピルエ
ーテル誘導体を容易に製造することができる中間体、即
ち、前記一般式(II)で示される3フェノキシヘンシ
ル2−(4−ヒドロキシフェニル)2−メチルプロピル
エーテル類の効率よい製造法を提供することを課題とす
る。
(発明を解決するだめの手段〕
本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた
結果、4−ハロゲノネオフィルハライドと3−フェノキ
シヘンシルアルコール類とを縮合させることにより得ら
れる、一般式(I) シウムハライド化合物に変換することが判り、また、さ
らにこのものに酸素を反応させることで高収率に式(I
I) C式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシベン
ジル2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロ
ピルエーテル類が生成することを見出し、本発明を完成
するに至った。
結果、4−ハロゲノネオフィルハライドと3−フェノキ
シヘンシルアルコール類とを縮合させることにより得ら
れる、一般式(I) シウムハライド化合物に変換することが判り、また、さ
らにこのものに酸素を反応させることで高収率に式(I
I) C式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシベン
ジル2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロ
ピルエーテル類が生成することを見出し、本発明を完成
するに至った。
即ち、本発明は反応式(IV)
〔式中、Xは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示し
、また、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。]で表される3−フェノキシヘン
シル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル類にマグネシウムを作用させることにより、
容易に相当するフェニルマグネ〔式中、Xは塩素原子、
臭素原子または沃素原子を示し、また、R1およびR2
はそれぞれ独立に水素原子またはフッ素原子を示す。〕
に示したように、前記式(I)の3−フェノキシヘンシ
ル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル類にマグネシウムを作用させ、相当するフェニ
ルマグネシウムハライド化合物類とした後に、酸素と反
応させることを特徴とする前記一般式(TI)で示した
3−フェノキシヘンシル2−(4−ヒドロキシフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法を提供す
るものである。
、また、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子また
はフッ素原子を示す。]で表される3−フェノキシヘン
シル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピ
ルエーテル類にマグネシウムを作用させることにより、
容易に相当するフェニルマグネ〔式中、Xは塩素原子、
臭素原子または沃素原子を示し、また、R1およびR2
はそれぞれ独立に水素原子またはフッ素原子を示す。〕
に示したように、前記式(I)の3−フェノキシヘンシ
ル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプロピル
エーテル類にマグネシウムを作用させ、相当するフェニ
ルマグネシウムハライド化合物類とした後に、酸素と反
応させることを特徴とする前記一般式(TI)で示した
3−フェノキシヘンシル2−(4−ヒドロキシフェニル
)−2−メチルプロピルエーテル類の製造方法を提供す
るものである。
本発明においては、反応は通常有機溶媒中で実施される
。使用される有機溶媒は、グリニヤール反応を行う際に
一般的に用いるテトラヒドロフラン、エーテル等の反応
溶媒が用いられる。
。使用される有機溶媒は、グリニヤール反応を行う際に
一般的に用いるテトラヒドロフラン、エーテル等の反応
溶媒が用いられる。
また、本発明において用いるマグネシウムの使用量は、
前記一般式(I)の化合物に対し1.0〜5.0モル倍
、好ましくは1.0〜1.5モル倍である。
前記一般式(I)の化合物に対し1.0〜5.0モル倍
、好ましくは1.0〜1.5モル倍である。
1.0モル倍未満では反応速度が低下し未反応成分が残
り適当ではない、また、5.0モル倍を越えて用いると
反応副生物が多量に副生ずることから望ましい使用量と
は言えない。
り適当ではない、また、5.0モル倍を越えて用いると
反応副生物が多量に副生ずることから望ましい使用量と
は言えない。
本発明においては、無触媒でも反応は進行するが、反応
速度を向上させる目的で触媒としてヨードまたはエチレ
ンプロミド等を用いることもできる。それらの使用量と
しては、前記一般式(I)で示した化合物に対して0.
01〜0.5モル倍、好ましくは0.05〜0.1モル
倍である。
速度を向上させる目的で触媒としてヨードまたはエチレ
ンプロミド等を用いることもできる。それらの使用量と
しては、前記一般式(I)で示した化合物に対して0.
01〜0.5モル倍、好ましくは0.05〜0.1モル
倍である。
触媒の使用量がo、oiモル倍未満の場合は、反応速度
の低下を招く。
の低下を招く。
反応温度は−10〜50°C1好ましくは0〜30’C
である。
である。
また、本発明中に用いる酸素ガスの使用量は前記一般式
(I)に示した化合物に対し、1.0〜5.0モル倍、
好ましくは1,3〜2,0モル倍であり、その導入速度
は、導入時間が5〜24時間、好ましくは5〜12時間
になるように調節する。酸素の使用量が1.0モル倍未
満の場合は1.反応速度の低下を招くこと、また、化合
物N)が未反応のまま回収されるので好ましくない。
(I)に示した化合物に対し、1.0〜5.0モル倍、
好ましくは1,3〜2,0モル倍であり、その導入速度
は、導入時間が5〜24時間、好ましくは5〜12時間
になるように調節する。酸素の使用量が1.0モル倍未
満の場合は1.反応速度の低下を招くこと、また、化合
物N)が未反応のまま回収されるので好ましくない。
(以下余白)
さらに、−形式(I)
例並びに実施例に限定されるものではない。
参考例1
[式中、Xはハロゲン原子を示し、R+およびR2は水
素原子またはフッ素原子を示す。]で表される3−フェ
ノキシヘンシル2−メチルプロピルエーテル類の中には
、3−フェノキシヘンシル基側にフッ素で核置換された
化合物も含まれるが、本発明の方法においては、フン素
原子は全く影響を受けずに安定であることも判った。
素原子またはフッ素原子を示す。]で表される3−フェ
ノキシヘンシル2−メチルプロピルエーテル類の中には
、3−フェノキシヘンシル基側にフッ素で核置換された
化合物も含まれるが、本発明の方法においては、フン素
原子は全く影響を受けずに安定であることも判った。
前記のような反応経路を経て、前記化合物(+)から−
形式(II)で表される3−フェノキンヘンシル2−(
4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテ
ル類を収率良く、しかも高純度で工業的に、しかも容易
に製造することが出来るようになった。
形式(II)で表される3−フェノキンヘンシル2−(
4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロピルエーテ
ル類を収率良く、しかも高純度で工業的に、しかも容易
に製造することが出来るようになった。
[実施例]
次に、参考例並びに実施例を示し、本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれらの参考/1 3−フェノキシヘンシル2−(4−ハロゲノフニニル)
2−メチルプロピルエーテル類の合成法の代表例として
以下に詳細に述べるが、これらの化合物の合成法は勿論
この参考例に限定されるものではない。
的に説明するが、本発明はこれらの参考/1 3−フェノキシヘンシル2−(4−ハロゲノフニニル)
2−メチルプロピルエーテル類の合成法の代表例として
以下に詳細に述べるが、これらの化合物の合成法は勿論
この参考例に限定されるものではない。
(I)ネオフィルクロリドの合成
1p、の四ツ目フラスコに攪拌機、温度計、滴下ロート
および空冷管を取り付け、このフラスコ内にヘンゼン2
50gを装入する。これをOo〔:まて冷却した後に、
98%硫酸17.3 gを10分間かけて注加する。濃
硫酸を装入し終えたら、0°Cにて100g(I,1モ
ル)のメタリルクロIJ l−を5時間を要し注加する
。この際の性別温度は0°Cを越えないように注意する
。メタリルクロリドを装入し終えたら、20’Cまで昇
温し、さらに20“Cにて7時間攪拌を行い熟成させ反
応を終える。
および空冷管を取り付け、このフラスコ内にヘンゼン2
50gを装入する。これをOo〔:まて冷却した後に、
98%硫酸17.3 gを10分間かけて注加する。濃
硫酸を装入し終えたら、0°Cにて100g(I,1モ
ル)のメタリルクロIJ l−を5時間を要し注加する
。この際の性別温度は0°Cを越えないように注意する
。メタリルクロリドを装入し終えたら、20’Cまで昇
温し、さらに20“Cにて7時間攪拌を行い熟成させ反
応を終える。
2
反応終了後1りの分液ロートに移液し、下層の硫酸層を
分液する。得られたヘンゼン層を200mnの水を用い
て3回(中性になるまで)水洗を行い、水洗後は500
雌の蒸留フラスコにヘンゼン層を移液し、減圧上蒸留を
行う。ネオフィルタロライドの主留部分は、10mmH
gの減圧下、98〜100°Cの沸点を有していた。収
量144.5 g (収率78.3%)(2)4−ブロ
モネオフィルクロリドの合成ネオフィルタロリド84.
3g (0,5モル)、ピリジン1滅を攪拌機、温度計
、滴下ロートおよび水冷コンデンサーを取り付けた30
0 mRの四ツ目フラスコに装入する。上記混合物を5
°C以下に冷却した後に、窒素気流下5°Cを保ちなが
ら臭素80.0g(0,5モル)を3時間を要し注加し
た。装入終了後20°Cにて12時間攪拌しながら熟成
させ反応を完結させる。
分液する。得られたヘンゼン層を200mnの水を用い
て3回(中性になるまで)水洗を行い、水洗後は500
雌の蒸留フラスコにヘンゼン層を移液し、減圧上蒸留を
行う。ネオフィルタロライドの主留部分は、10mmH
gの減圧下、98〜100°Cの沸点を有していた。収
量144.5 g (収率78.3%)(2)4−ブロ
モネオフィルクロリドの合成ネオフィルタロリド84.
3g (0,5モル)、ピリジン1滅を攪拌機、温度計
、滴下ロートおよび水冷コンデンサーを取り付けた30
0 mRの四ツ目フラスコに装入する。上記混合物を5
°C以下に冷却した後に、窒素気流下5°Cを保ちなが
ら臭素80.0g(0,5モル)を3時間を要し注加し
た。装入終了後20°Cにて12時間攪拌しながら熟成
させ反応を完結させる。
次に、ジエチルエーテル500成並びに水1℃を装入し
ている2Cの分液フラスコに、上記反応液を徐々に注加
し、攬釈する。水層を分液後、分離した水層部に500
mlのエーテルを加え抽出操作を行う。得られたたエ
ーテル層は、先に分液していたエーテル層と混ぜ合わせ
、この混合液を10%チオ硫酸ナトリウム水溶液500
m1を用いて洗浄後、さらに0.1 M水酸化すトリウ
l、水溶液500 mj!、次いで水500m1で洗浄
し、芒硝を用いて乾燥した。
ている2Cの分液フラスコに、上記反応液を徐々に注加
し、攬釈する。水層を分液後、分離した水層部に500
mlのエーテルを加え抽出操作を行う。得られたたエ
ーテル層は、先に分液していたエーテル層と混ぜ合わせ
、この混合液を10%チオ硫酸ナトリウム水溶液500
m1を用いて洗浄後、さらに0.1 M水酸化すトリウ
l、水溶液500 mj!、次いで水500m1で洗浄
し、芒硝を用いて乾燥した。
乾燥剤を濾別した後に、減圧下、濃縮および精製蒸留を
行い、目的化物である4−ブロモネオフィルクロリド1
12.7g (収率91.1%)を得た。
行い、目的化物である4−ブロモネオフィルクロリド1
12.7g (収率91.1%)を得た。
(3) 3−フェノキシヘンシル2−(4−ブロモフェ
ニル)2−メチルプロピルエーテルの合成 4−ブロモネオフィルクロリド49.5 g (0,2
モル)、3−フェノキシヘンシルアルコール40.0
g (0,2モル)水酸化カリウム11.2g (0,
2モル)およびジメチルスルホオキシド200gを30
0mp、の四ツロフラスコ中に装入し、窒素気流下に攪
拌しながら120°Cまで昇温し、120°Cにて8時
間攪拌した。
ニル)2−メチルプロピルエーテルの合成 4−ブロモネオフィルクロリド49.5 g (0,2
モル)、3−フェノキシヘンシルアルコール40.0
g (0,2モル)水酸化カリウム11.2g (0,
2モル)およびジメチルスルホオキシド200gを30
0mp、の四ツロフラスコ中に装入し、窒素気流下に攪
拌しながら120°Cまで昇温し、120°Cにて8時
間攪拌した。
反応混合物を室温まで冷却後、析出した無機塩を濾別し
、濾液について減圧上蒸留操作を行い、溶媒のジメチル
スルホオキシドを追い出した。蒸留釜残分について10
0mβの熱水で繰り返し3回水洗を行い、脱水し、反応
粗製物83.3gを得た。
、濾液について減圧上蒸留操作を行い、溶媒のジメチル
スルホオキシドを追い出した。蒸留釜残分について10
0mβの熱水で繰り返し3回水洗を行い、脱水し、反応
粗製物83.3gを得た。
この反応粗製物はガスクロマトグラフィーによる組成分
析の結果、目的物の3−フェノキシヘンシル2−(4−
ブロモフェニル)−2−メチルプロピルエーテル84.
5%、3−フェノキシヘンシルアルコール5.3%、4
−ブロモネオフィルタロリド8.4%、その他1.8%
を含んでいた。(収率85.5%)この反応粗製物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、3−フェノ
キシヘンシル2−(4−ブロモフェニル)−2−メチル
プロピルエーテルの精製品を得た。
析の結果、目的物の3−フェノキシヘンシル2−(4−
ブロモフェニル)−2−メチルプロピルエーテル84.
5%、3−フェノキシヘンシルアルコール5.3%、4
−ブロモネオフィルタロリド8.4%、その他1.8%
を含んでいた。(収率85.5%)この反応粗製物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに供し、3−フェノ
キシヘンシル2−(4−ブロモフェニル)−2−メチル
プロピルエーテルの精製品を得た。
NMR帰属
δCCL、 ; 1.25 (S、6H)、 3.2
2 (S、2)1)。
2 (S、2)1)。
4.24 (S、2B)、 6.2〜7.4 (
m、1311)ppm元素分析結果 Cz:+HzJr(h (M、W、411.3)実施
例1 200dの四ツ目フラスコにマグネシウム3.2g(0
,13モル)、ヨード2.6g (0,01モル)なら
びに無水テトロヒドロフラン100 mlを装入し、1
時間加熱還流させた後に室温まで冷却し、これに3フェ
ノキシベンジル2−(4−ブロモフェニル)−2−メチ
ルプロピルエーテル41.1g (0,1モル) ヲ添
加した。
m、1311)ppm元素分析結果 Cz:+HzJr(h (M、W、411.3)実施
例1 200dの四ツ目フラスコにマグネシウム3.2g(0
,13モル)、ヨード2.6g (0,01モル)なら
びに無水テトロヒドロフラン100 mlを装入し、1
時間加熱還流させた後に室温まで冷却し、これに3フェ
ノキシベンジル2−(4−ブロモフェニル)−2−メチ
ルプロピルエーテル41.1g (0,1モル) ヲ添
加した。
この際に反応による発熱が認められるが、反応系の温度
が室温から10°C以上の温度にならないように注意し
なから3−フェノキシベンジル2−(4−ブロモフェニ
ル)−2−メチルプロピルエーテルを添加する。
が室温から10°C以上の温度にならないように注意し
なから3−フェノキシベンジル2−(4−ブロモフェニ
ル)−2−メチルプロピルエーテルを添加する。
添加終了後、上記反応系を10時間加加熱流下攪拌を行
い、さらにO′Cまで冷却後、酸素ガスを10mR/m
inの流速で5時間反応系中に導入する。次いで、反応
系の温度を室温まで戻し、再び10mff1/minの
流速で5時間酸素ガスを導入した。
い、さらにO′Cまで冷却後、酸素ガスを10mR/m
inの流速で5時間反応系中に導入する。次いで、反応
系の温度を室温まで戻し、再び10mff1/minの
流速で5時間酸素ガスを導入した。
「5
酸素ガスの導入終了後、上記反応系中に塩化アンモニウ
ム飽和水溶液50m1を2時間かけ滴下ロートを用いて
添加し、さらに3時間攪拌を行った。
ム飽和水溶液50m1を2時間かけ滴下ロートを用いて
添加し、さらに3時間攪拌を行った。
上記混合液を減圧上溶媒を留去し、ジエチルエーテル1
00成で2回抽出操作を行い有機層を得た。
00成で2回抽出操作を行い有機層を得た。
抽出部を芒硝を用い乾燥後、減圧上濃縮を行い生成物3
2.8 gを得また。
2.8 gを得また。
反応生成物のガスクロマトグラフィーによる分析結果、
目的化合物である3−フェノキシヘンシル2−(4−ブ
ロモフェニル)−2−メチルプロピルエーテル98.9
%を含んでいた。(収率93.2%)上記反応生成物を
n−ヘキサン中で再結晶を行うことにより、精製するこ
とができた。
目的化合物である3−フェノキシヘンシル2−(4−ブ
ロモフェニル)−2−メチルプロピルエーテル98.9
%を含んでいた。(収率93.2%)上記反応生成物を
n−ヘキサン中で再結晶を行うことにより、精製するこ
とができた。
NMR帰属
δCDCL3 ; 1.00〜1.65 (4H,m
)、 1.21 (68,s)2.44 (21,t)
、 5.50 LH,br、s)6.55〜7.40
(I3H,m) 、 69.5〜70.3°C (以下余白) 融 点 6 元素分析結果
)、 1.21 (68,s)2.44 (21,t)
、 5.50 LH,br、s)6.55〜7.40
(I3H,m) 、 69.5〜70.3°C (以下余白) 融 点 6 元素分析結果
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Xは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示し
、また、R^1およびR^2はそれぞれ独立に水素原子
またはフッ素原子を示す。〕で表される3−フェノキシ
ベンジル2−(4−ハロゲノフェニル)−2−メチルプ
ロピルエーテル類にマグネシウムを作用させて、相当す
るフェニルマグネシウムハライド化合物に変換した後、
引続き酸素と反応させることを特徴とする式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で表される3−フェノキシベンジル2−(4−ヒドロキ
シフェニル)−2−メチルプロピルエーテル類の製造法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33660289A JPH03197439A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 3‐フェノキシベンジル2‐(4‐ヒドロキシフェニル)‐2‐メチルプロピルエーテル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33660289A JPH03197439A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 3‐フェノキシベンジル2‐(4‐ヒドロキシフェニル)‐2‐メチルプロピルエーテル類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03197439A true JPH03197439A (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=18300853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33660289A Pending JPH03197439A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 3‐フェノキシベンジル2‐(4‐ヒドロキシフェニル)‐2‐メチルプロピルエーテル類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03197439A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019069922A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | 高純度トリフルオロメチル基置換芳香族ケトンの製造方法 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP33660289A patent/JPH03197439A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019069922A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | 高純度トリフルオロメチル基置換芳香族ケトンの製造方法 |
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