JPH0282244A - 露光用マスクおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 露光用マスクおよびそれを半導体露光装置のマスクセッ
ト位置に固定して露光を行う半導体装置の製造方法に関
し、 マスクホルダーへのマスクのセット誤操作を防止できる
露光用マスクおよび半導体装置の製造方法を提供するこ
とを目的とし、 ほぼ正方形または円形の光透過性の基板と、該基板の一
面の中央部に形成された露光用パターンと、該基板の周
縁部に形成された非対称部分とを有することを特徴とす
る露光用マスクおよび、該露光用マスクの非対称部分に
対応する位置決めガイドを有するマスクホルダーを露光
装置に設け、該非対称部分を該ガイドに合致せしめて前
記マスクホルダーに該露光用マスクをセットして露光を
行うことを特徴とする半導体装置の製造方法を含み構成
する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、露光用マスクおよびそれを半導体露光装置の
マスクセット位置に固定して露光を行う半導体装置の製
造方法に関する。

〔従来の技術］ 従来、マスク・パターンをレジストを塗布したウェハ上
に転写するために、半導体露光装置が用いられる。この
半導体露光装置には、ウェハに原寸マスクを密着させて
露光する密着（コンタクト）露光装置、マスクとウェハ
の間に１０〜３０ｕｍ程度の間隔をとり露光する近接（
プロキシミティ）露光装置、光学系によりマスク・パタ
ーンをウェハ上に投影して露光する投影（プロジェクシ
ョン）露光装置などがある。

第４図は従来の反射型投影露光装置（例えば、キャノン
株式会社製のＭＰＡ−６００Ｆ＾なる商品名の装置）の
投影光学系および照明光学系の構成図である。同図にお
いて、１は超高圧水銀灯、２．３，４．５はミラー、６
はコンデンサレンズ、７は円弧スリット、８は輪帯球面
鏡、９はミラー、１０はディテクター、１１はフィルタ
ーシャッター、１２はミラー１３は輪帯球面鏡、１４は
接眼鏡、１５はマスク、１６はキャリッジ、１７は台形
ミラー、１８は凹面鏡、１９は凸面鏡、２０はウェハで
ある。この投影光学系において、凹面鏡１８と凸面鏡１
９は垂直に配置されている。そして、マスク１５とウェ
ハ２０は台形ミラー１７を挟んで上下に配置されており
、両者は球面鏡光軸方向に沿って直線走査され、マスク
１５のパターンがウェハ２０全面に転写されるようにな
っている。

このような投影露光装置では、マスク１５は第５図に示
す如きマスクホルダー２１にセットされる。

すなわち、マスクホルダー２１には、中央部にマスク１
５を真空吸着して固定するためのマスク吸着部２２が形
成され、かつマスク１５の周縁の２辺の３箇所を案内す
る位置決めピン２３が設けられている。

〔発明が解決しようとする課題〕

これらの露光装置において、マスクホルダー２１にマス
ク１５をセットする際に、従来のマスク１５は、左右上
下対称の形状をした正方形あるいは丸であるため、種々
のセット方法がある。例えば、正方形のマスクでは、第
６図に示す如く、表および裏毎にそれぞれ９０＠異なる
ように傾けた（１）〜（８）の８種類のセット方法があ
る。このセット方法のうち、（１）は正しいセット、（
２）〜（８）は誤ったセットを示している。また、丸の
マスクでは、第７図に示す如く、傾ける角度により（１
）〜（３）などのように無限大のセント方法がある。こ
のセット方法のうち、（１）以外は誤ったセットを示し
ている。

従って、従来の半導体露光装置においては、マスクホル
ダーへのマスクのセット方法が種々あるため、マスクセ
ット誤操作につながることがあった。

そこで本発明は、マスクホルダーへのマスクのセット誤
操作を防止できる露光用マスクおよび半導体装置の製造
方法を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段］ 上記目的は、ほぼ正方形または円形の光透過性の基板と
、該基板の一面の中央部に形成された露光用パターンと
、該基板の周縁部に形成された非対称部分とを有するこ
とを特徴とする露光用マスクおよび、該露光用マスクの
非対称部分に対応する位置決めガイドを有するマスクホ
ルダーを露光装置に設け、該非対称部分を該ガイドに合
致せしめて前記マスクホルダーに該露光用マスクをセッ
トして露光を行うことを特徴とする半導体装置の製造方
法により達成される。なお、本発明において、上記の非
対称部分とは、基板に裏返しと回転の移動を組合わせて
も移動前の状態にならない欠け、窪み、突起等の部分で
ある。

〔作用〕

本発明では、マスク基板の一部に形成した非対称部分が
、マスクホルダーに形成した位置決めガイドに案内され
るため、正しい位置へのセット方法が一通りになり、マ
スクホルダーへのマスクのセット誤操作が防止される。

〔実施例〕

以下、本発明を図示の一実施例により具体的に説明する
。

第１図は本発明実施例のマスクを示す図、第２図は本発
明実施例のマスクホルダーを示す図である。

第１図において、マスク基板３１は正方形に形成されて
おり、その周縁の一部に非対称部分３２が形成されてい
る。この非対称部分３２は、マスク基板３１の正方形の
一箇所の角部が寸法の異なるａ及びｂの大きさで切り欠
き部が形成されている。なお、図では省略しているが、
マスク基板３１の一面の中央部には露光用パターンが形
成されている。

第２図において、マスクホルダー３３は、上記マスクが
セットされるものであり、中央の丸型の部分がマスク吸
着部３４であり、また、このマスクホルダー３３には、
上記マスクが点線に示すように正しくセットされたとき
に、マスク基板３１周縁の正方形の２辺と角部の非対称
部分３２を案内するよう位置決めガイド３５が設けられ
ている。

上記構成のマスクとマスクホルダー３３によれば、マス
ク基板３１は非対称部分３２が形成され、かつマスクホ
ルダー３３は位置決めガイド３５が設けられているため
、マスク基板３１は、その非対称部分３２がマスクホル
ダー３３の位置決めガイド３５に案内され、正しい位置
へのセット方法がただ一通りのものになる。従って、マ
スクホルダー３３へのマスクのセット誤操作を防止でき
る。また、自動化の際に、マスクホルダー３３へのマス
クのセットの位置決めが可能になる。このようにマスク
をセットした後、露光が行われる。

第３図は他の実施例のマスクを示す図である。

同図において、マスク基板４１は丸に形成されており、
その周縁の一部に非対称部分４２が形成されている。こ
の非対称部分４２は、マスク４１の周縁の一箇所に寸法
の異なるａ及びｂの大きさで切り欠き部が形成されてい
る。

このようなマスク基板４１に対して、マスクホルダーに
非対称部分４２を案内するよう位置決めガイドを形成し
て、マスクを固定する。上記実施例と同様に正しい位置
へのセット方法が一通りになり、マスクのセット誤操作
を防止できる。

なお、本発明においては、マスク基板に少なくとも非対
称部分が形成され、かつマスクホルダーにこのマスク基
板の非対称部分を案内する位置決めガイドが形成されて
いればよく、その非対称部分の形状（ａおよびｂの寸法
）、位置なども実施例に限定されない。

また、マスクホルダーに形成する位置決めガイドは、マ
スクが正しい位置にセットされるときに、その非対称部
分を案内するものであればよく、任意の形状にすること
ができる。

さらに、露光装置も種々の形式のものに適用することが
可能である。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明実施例のマスクを示す図、第２図は本発
明実施例のマスクホルダーを示す図、 第３図は本発明の他実施例のマスクを示す図、第４図は
従来の反射型投影露光装置の投影光学系および照明光学
系の構成図、 第５図は従来のマスクホルダーを示す図、第６図は従来
の正方形マスクのセット方法を示す図、 第７図は従来の丸マスクのセット方法を示す図である。 〔発明の効果］ 以上説明した様に本発明によれば、マスク基板の一部に
非対称部分を形成し、かつマスクホルダーにマスクの非
対称部分を案内する位置決めガイドを形成することで、
マスクのマスクホルダーへの正しい位置へのセット方法
が一通りになり、セット誤操作が防止される。 図中、 ３１．４１はマスク基板、 ３２．４２は非対称部分、 ３３はマスクホルダー ３４はマスク吸着部、 ３５は位置決めガイド を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ほぼ正方形または円形の光透過性の基板と、該基
   板の一面の中央部に形成された露光用パターンと、 該基板の周縁部に形成された非対称部分とを有すること
   を特徴とする露光用マスク。
2. （２）該露光用マスクの非対称部分に対応する位置決め
   ガイドを有するマスクホルダーを露光装置に設け、 該非対称部分を該ガイドに合致せしめて前記マスクホル
   ダーに該露光用マスクをセットして露光を行うことを特
   徴とする半導体装置の製造方法。