JPH0251212A - 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法Info
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- JPH0251212A JPH0251212A JP20258888A JP20258888A JPH0251212A JP H0251212 A JPH0251212 A JP H0251212A JP 20258888 A JP20258888 A JP 20258888A JP 20258888 A JP20258888 A JP 20258888A JP H0251212 A JPH0251212 A JP H0251212A
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- Metal Rolling (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、エツチング特性が良好で且つ引張強度の高い
電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔及びその製造
方法に関するものである。
電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔及びその製造
方法に関するものである。
従来より、電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔として
は、純度99.98〜99.99%程度の高純度アルミ
ニウム箔が用いられてきた。このアルミニウム箔には、
高い静電容量を得るためエツチング特性に優れているこ
と、及び陽極箔とする際所定寸法に巻き取るために引張
強度が大きいこと、という性能が要求されている。 エツチング特性や引張強度は、アルミニウム箔のAl線
純度影響するところが大きい。即ち、^1純度を上げる
とエツチング状態は良好(微細な四部が多数形成される
)になり、静電容量は増大するが、一方エッチング速度
は低下する。逆に、Al線純度下げると、エツチング状
態が不良(微細な凹部が生じず、−個々々の凹部が大き
い)となり、静電容量の増大率は小さい。また、アルミ
ニウム箔のへ1純度を上げると、再結晶が起こり粗大粒
が生じ易く引張強度は低下する。逆に、^l線純度下げ
ると、微細粒が生じ引張強度は向上する。なお、ここで
説明したA1純度と引張強度等との関係は、At純度が
99.99%程度でのものである。 このようなことから、従来、良好なエツチング特性と大
きい引張強度とを兼ね備えた電解コンデンサ用陽極用ア
ルミニウム合金箔を提供することは困難であった。
は、純度99.98〜99.99%程度の高純度アルミ
ニウム箔が用いられてきた。このアルミニウム箔には、
高い静電容量を得るためエツチング特性に優れているこ
と、及び陽極箔とする際所定寸法に巻き取るために引張
強度が大きいこと、という性能が要求されている。 エツチング特性や引張強度は、アルミニウム箔のAl線
純度影響するところが大きい。即ち、^1純度を上げる
とエツチング状態は良好(微細な四部が多数形成される
)になり、静電容量は増大するが、一方エッチング速度
は低下する。逆に、Al線純度下げると、エツチング状
態が不良(微細な凹部が生じず、−個々々の凹部が大き
い)となり、静電容量の増大率は小さい。また、アルミ
ニウム箔のへ1純度を上げると、再結晶が起こり粗大粒
が生じ易く引張強度は低下する。逆に、^l線純度下げ
ると、微細粒が生じ引張強度は向上する。なお、ここで
説明したA1純度と引張強度等との関係は、At純度が
99.99%程度でのものである。 このようなことから、従来、良好なエツチング特性と大
きい引張強度とを兼ね備えた電解コンデンサ用陽極用ア
ルミニウム合金箔を提供することは困難であった。
そこで、本発明者は良好なエツチング特性と大きい引張
強度とを兼ね備えた電解コンデンサ用陽極用アルミニウ
ム合金箔を得るべく、種々検討した結果、ある特定の元
素を一定量含有させたアルミニウム合金箔が上記の二つ
の性能を兼ね備えていることを見出し、本発明に至った
のである。
強度とを兼ね備えた電解コンデンサ用陽極用アルミニウ
ム合金箔を得るべく、種々検討した結果、ある特定の元
素を一定量含有させたアルミニウム合金箔が上記の二つ
の性能を兼ね備えていることを見出し、本発明に至った
のである。
【課題を解決するための手段及び作用】即ち本発明は、
Fe0.0013〜0.0030%、Si0.0013
〜0.0030%、Cu0.0025〜0.0050%
、不可避不純物0.0030%以下、残部Alよりなる
電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔及びその製造
方法に関するものである。 本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔
の構成元素の組成範囲は、下記のとおりである。なお、
本発明において%はすべて重量%を表している。 Feは、0.0013〜0.0030%である。Feは
ボーキサイトに含まれているものである。三層電解法等
でアルミニウムを精製すると、Fe含有量は著しく低下
するが、本発明においては0゜0013〜0.0030
%含有されている必要がある。Feが0.0013未満
であると、At純度が上がり引張強度の大きいものが得
られないため、好ましくない。Feが0.0030%を
越えると、エツチング状態が不良となり静電容量が増大
しないため、好ましくない。 Siは、0.0013〜00030%である。Siもボ
ーキサイトに含まれているものである。三層電解法等で
アルミニウムを精製すると、Si含有星も著しく低下す
るが、本発明においては0.0013〜0.0030%
含有されている必要がある。Siが0.0013未満で
あると、At純度が上がり引張強度の大きいものが得ら
れないため、好ましくない。Stが0.0030%を越
えると、エツチング状態が不良となり静電容量が増大し
ないため、好ましくない。 Cuは、0.0025〜0.0050%である。Cuは
FeやSiに比較してボーキサイト中に微量しか含まれ
ていない。従って、本発明においては一般的にCuを積
極的に添加する必要がある。Cuが0.0025未満で
あると、A1純度が上がり引張強度の大きいものが得ら
れないため、好ましくない。Cuが0.0050%を越
えると、エツチング状態が不良となり静電容量が増大し
ないため、好ましくない。 不可避不純物は、0.0030%以下である。不可避不
純物としては、Mn、 Mg、 Zn、 Ga、 Ti
、 Ni等が混入してくる場合がある。これらの不可避
不純物が0.0030%を超えると、At純度が下がっ
てエツチング状態が不良となり、静電容量が増大しない
ため好ましくない。 次に、本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム
合金箔の製造方法について説明する。 本発明に係る製造方法は、Fe0.0013〜0.00
30%、Si0.0013〜0.0030%、Cu0.
0025〜0.0050%、不可避不純物0.0030
%以下、残部^lの鋳塊を、温度550〜600″Cで
均質化処理し、次いで熱間圧延及び冷間圧延して所定の
厚みの箔とした後、箔の表面を洗浄し、更に270〜3
80℃の温度で焼鈍を行うことを特徴とする電解コンデ
ンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法に関するもの
である。 本発明においては、まず三層電解法や偏折方等、で精製
したアルミニウム地金をtp備する。このアルミニウム
地金の成分元素の割合を測定し、必要に応じてFe、S
i、Cuを所定量添加して、特定の成分組成を持つ鋳塊
を作る。特定の成分組成にする理由は、前述したとおり
である。 この鋳塊を、温度550〜600℃1特に好ましくは5
60〜580℃で均質化処理する。時間は、−11C的
に採用されている時間でよく、具体的には3〜25時間
程度である。温度が550℃未満になると、得られた合
金箔がエツチング液中で過溶解し、エツチング状態が不
良となる傾向が生しる。温度が600℃を超えると、得
られた合金箔のエツチング速度が低下する傾向となる。 均質化処理した後、熱間圧延及び冷間圧延が施される。 これらの圧延は、従来周知の方法で行われる。 熱間圧延及び冷間圧延して得られた箔の表面を洗浄する
。洗浄は、湯水で洗ったり又は水酸化ナトリウム水溶液
で洗えばよい。洗浄しないと、箔の表面に酸化皮膜が残
っていたり、圧延油のカーボン残渣が残っていたりして
、エツチングむらが生じる傾向となる。 箔の表面を洗浄した後、270〜380℃の温度で焼鈍
を行う。270℃未満の温度で焼鈍すると、エツチング
液中で過溶解する傾向が生じたり、伸びが低下する恐れ
が生じる。焼鈍の温度が380℃を超えると、エツチン
グ速度が遅くなる傾向が生じたり、又は表面に酸化皮膜
が生じてエツチングむらが生じる恐れがある。 このようにして得られた電解コンデンサ陽極用アルミニ
ウム合金箔に、エツチング処理を施せば、高い静電容量
で引張強度の大きい陽極箔を得ることができる。
Fe0.0013〜0.0030%、Si0.0013
〜0.0030%、Cu0.0025〜0.0050%
、不可避不純物0.0030%以下、残部Alよりなる
電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔及びその製造
方法に関するものである。 本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔
の構成元素の組成範囲は、下記のとおりである。なお、
本発明において%はすべて重量%を表している。 Feは、0.0013〜0.0030%である。Feは
ボーキサイトに含まれているものである。三層電解法等
でアルミニウムを精製すると、Fe含有量は著しく低下
するが、本発明においては0゜0013〜0.0030
%含有されている必要がある。Feが0.0013未満
であると、At純度が上がり引張強度の大きいものが得
られないため、好ましくない。Feが0.0030%を
越えると、エツチング状態が不良となり静電容量が増大
しないため、好ましくない。 Siは、0.0013〜00030%である。Siもボ
ーキサイトに含まれているものである。三層電解法等で
アルミニウムを精製すると、Si含有星も著しく低下す
るが、本発明においては0.0013〜0.0030%
含有されている必要がある。Siが0.0013未満で
あると、At純度が上がり引張強度の大きいものが得ら
れないため、好ましくない。Stが0.0030%を越
えると、エツチング状態が不良となり静電容量が増大し
ないため、好ましくない。 Cuは、0.0025〜0.0050%である。Cuは
FeやSiに比較してボーキサイト中に微量しか含まれ
ていない。従って、本発明においては一般的にCuを積
極的に添加する必要がある。Cuが0.0025未満で
あると、A1純度が上がり引張強度の大きいものが得ら
れないため、好ましくない。Cuが0.0050%を越
えると、エツチング状態が不良となり静電容量が増大し
ないため、好ましくない。 不可避不純物は、0.0030%以下である。不可避不
純物としては、Mn、 Mg、 Zn、 Ga、 Ti
、 Ni等が混入してくる場合がある。これらの不可避
不純物が0.0030%を超えると、At純度が下がっ
てエツチング状態が不良となり、静電容量が増大しない
ため好ましくない。 次に、本発明に係る電解コンデンサ陽極用アルミニウム
合金箔の製造方法について説明する。 本発明に係る製造方法は、Fe0.0013〜0.00
30%、Si0.0013〜0.0030%、Cu0.
0025〜0.0050%、不可避不純物0.0030
%以下、残部^lの鋳塊を、温度550〜600″Cで
均質化処理し、次いで熱間圧延及び冷間圧延して所定の
厚みの箔とした後、箔の表面を洗浄し、更に270〜3
80℃の温度で焼鈍を行うことを特徴とする電解コンデ
ンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法に関するもの
である。 本発明においては、まず三層電解法や偏折方等、で精製
したアルミニウム地金をtp備する。このアルミニウム
地金の成分元素の割合を測定し、必要に応じてFe、S
i、Cuを所定量添加して、特定の成分組成を持つ鋳塊
を作る。特定の成分組成にする理由は、前述したとおり
である。 この鋳塊を、温度550〜600℃1特に好ましくは5
60〜580℃で均質化処理する。時間は、−11C的
に採用されている時間でよく、具体的には3〜25時間
程度である。温度が550℃未満になると、得られた合
金箔がエツチング液中で過溶解し、エツチング状態が不
良となる傾向が生しる。温度が600℃を超えると、得
られた合金箔のエツチング速度が低下する傾向となる。 均質化処理した後、熱間圧延及び冷間圧延が施される。 これらの圧延は、従来周知の方法で行われる。 熱間圧延及び冷間圧延して得られた箔の表面を洗浄する
。洗浄は、湯水で洗ったり又は水酸化ナトリウム水溶液
で洗えばよい。洗浄しないと、箔の表面に酸化皮膜が残
っていたり、圧延油のカーボン残渣が残っていたりして
、エツチングむらが生じる傾向となる。 箔の表面を洗浄した後、270〜380℃の温度で焼鈍
を行う。270℃未満の温度で焼鈍すると、エツチング
液中で過溶解する傾向が生じたり、伸びが低下する恐れ
が生じる。焼鈍の温度が380℃を超えると、エツチン
グ速度が遅くなる傾向が生じたり、又は表面に酸化皮膜
が生じてエツチングむらが生じる恐れがある。 このようにして得られた電解コンデンサ陽極用アルミニ
ウム合金箔に、エツチング処理を施せば、高い静電容量
で引張強度の大きい陽極箔を得ることができる。
三層電解法で精製された高純度アルミニウム地金に、所
定の元素を添加して第1表に示す組成の鋳塊(厚さ40
c+n)を得た。 この鋳塊を第2表に示す条件で均質化処理した後、熱間
圧延して厚さ5馴のアルミニウム板を得た。その後冷間
圧延を繰り返して厚さ90μのアルミニウム箔を得た。 リウム水溶液の中を約30秒間通過させて、洗浄処理を
行った。なお、比較例においては洗浄処理を行わない場
合、もある。 洗浄処理後、第2表に示す条件で、非酸化雰囲気中で焼
鈍した。 このようにして得られた電解コンデンサ陽極用アルミニ
ウム合金箔にエツチングを施した後、溶解量、静電容量
及び引張強度を測定して性能評価を行った。その結果を
第2表に示した。 なお、エツチングは、56℃のエツチング液(I+。 0:HCl:Cz)1zO(211□O):AlCl+
(6t(zO) =20:2.4:1:1)中にアルミ
ニウム合金箔を浸漬して、パルス電源30Hz±0.4
A/c111を4分間流して行った。溶解量第1表 第2表 (以下余白) (以下余白) (g)は、エンチング後の100+++m角のアルミニ
ウム合金箔を、80℃の15.5%HCI水溶液中に2
.5分浸漬後、その減量を測定して行った。静電容量(
μFrail)は、8.3%II N O3水溶液中で
キャパシタンスメーターを用いて0ν「で測定したもの
である。引張強度(kg/cm)は、エツチング後の1
cm幅のアルミニウム合金箔を引張試験したときの破断
荷重を測定したものである。 この結果より明らかなとおり、実施例のものは比較例の
ものに比べて、いずれも静電容量において優っている。 また、Fe及びSiの両者の割合の少ない比較例1は、
引張強度及び溶解量の点でも実施例のものより劣ってい
る。Fe及びSiのうちいずれかの割合の少ない比較例
2,3及び6は引張強度の点でも実施例のものより劣っ
ている。
定の元素を添加して第1表に示す組成の鋳塊(厚さ40
c+n)を得た。 この鋳塊を第2表に示す条件で均質化処理した後、熱間
圧延して厚さ5馴のアルミニウム板を得た。その後冷間
圧延を繰り返して厚さ90μのアルミニウム箔を得た。 リウム水溶液の中を約30秒間通過させて、洗浄処理を
行った。なお、比較例においては洗浄処理を行わない場
合、もある。 洗浄処理後、第2表に示す条件で、非酸化雰囲気中で焼
鈍した。 このようにして得られた電解コンデンサ陽極用アルミニ
ウム合金箔にエツチングを施した後、溶解量、静電容量
及び引張強度を測定して性能評価を行った。その結果を
第2表に示した。 なお、エツチングは、56℃のエツチング液(I+。 0:HCl:Cz)1zO(211□O):AlCl+
(6t(zO) =20:2.4:1:1)中にアルミ
ニウム合金箔を浸漬して、パルス電源30Hz±0.4
A/c111を4分間流して行った。溶解量第1表 第2表 (以下余白) (以下余白) (g)は、エンチング後の100+++m角のアルミニ
ウム合金箔を、80℃の15.5%HCI水溶液中に2
.5分浸漬後、その減量を測定して行った。静電容量(
μFrail)は、8.3%II N O3水溶液中で
キャパシタンスメーターを用いて0ν「で測定したもの
である。引張強度(kg/cm)は、エツチング後の1
cm幅のアルミニウム合金箔を引張試験したときの破断
荷重を測定したものである。 この結果より明らかなとおり、実施例のものは比較例の
ものに比べて、いずれも静電容量において優っている。 また、Fe及びSiの両者の割合の少ない比較例1は、
引張強度及び溶解量の点でも実施例のものより劣ってい
る。Fe及びSiのうちいずれかの割合の少ない比較例
2,3及び6は引張強度の点でも実施例のものより劣っ
ている。
以上説明したように、本発明に係る電解コンデンサ陽権
用アルミニウム合金箔は、Fe、Si及びCuの量を一
定範囲にしたので、エツチング処理した場合、静電容量
及び引張強度に優れた陽極箔が得られるという効果を奏
する。 また、本発明の製造方法によれば、上記の如き特性に優
れた電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔を確実に
得ることができるという効果を奏する。
用アルミニウム合金箔は、Fe、Si及びCuの量を一
定範囲にしたので、エツチング処理した場合、静電容量
及び引張強度に優れた陽極箔が得られるという効果を奏
する。 また、本発明の製造方法によれば、上記の如き特性に優
れた電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔を確実に
得ることができるという効果を奏する。
Claims (2)
- (1)Fe0.0013〜0.0030%、Si0.0
013〜0.0030%、Cu0.0025〜0.00
50%、不可避不純物0.0030%以下、残部Alよ
りなる電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔。 - (2)Fe0.0013〜0.0030%、Si0.0
013〜0.0030%、Cu0.0025〜0.00
50%、不可避不純物0.0030%以下、残部Alの
鋳塊を、温度550〜600℃で均質化処理し、次いで
熱間圧延及び冷間圧延して所定の厚みの箔とした後、箔
の表面を洗浄し、更に270〜380℃の温度で焼鈍を
行うことを特徴とする電解コンデンサ陽極用アルミニウ
ム合金箔の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63202588A JP2826590B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63202588A JP2826590B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0251212A true JPH0251212A (ja) | 1990-02-21 |
JP2826590B2 JP2826590B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=16459970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63202588A Expired - Lifetime JP2826590B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2826590B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06271962A (ja) * | 1993-01-21 | 1994-09-27 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | エッチング後の強度が高い電解コンデンサ用アルミニウム合金箔 |
WO2003093521A1 (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-13 | Applied Materials, Inc. | Halogen-resistant, anodized aluminum for use in semiconductor processing apparatus |
US7048814B2 (en) | 2002-02-08 | 2006-05-23 | Applied Materials, Inc. | Halogen-resistant, anodized aluminum for use in semiconductor processing apparatus |
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