JPH01252582A - 電気抵抗率バラツキの少ないセラミックス導電材料 - Google Patents
電気抵抗率バラツキの少ないセラミックス導電材料Info
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- JPH01252582A JPH01252582A JP63238281A JP23828188A JPH01252582A JP H01252582 A JPH01252582 A JP H01252582A JP 63238281 A JP63238281 A JP 63238281A JP 23828188 A JP23828188 A JP 23828188A JP H01252582 A JPH01252582 A JP H01252582A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電気抵抗率の異なる2種類の導電性物質を含
み、残部が主として窒化珪素および/またはサイアロン
からなる導電性セラミックス焼結体に関するものである
。
み、残部が主として窒化珪素および/またはサイアロン
からなる導電性セラミックス焼結体に関するものである
。
αまたはβSi3N4を主成分とする窒化珪素、Si、
、A1.O,N、−、(0(z≦4.2)で示されるβ
サイアロン、Mx(SilAl)1!(OtN)tl(
X<2!MはLi、Mg、Ca*Ytam類元素(La
、Ce除く)〕で示されるαサイアロン、およびこれら
の複合した窒化珪素系のセラミックスは、高温強度およ
び耐酸化性に優れ、熱膨張係数が小さく耐熱衝撃性が非
常に良いため、近年種々の分野において利用されている
。また一方で、これらは極めて難加工性材料でもあるた
め、その対策として放電加工を可能とするために導電性
を付与するとの提案もなされている(特開昭57−18
8453号公報、特開昭57−200265号公報、特
開昭59−207881号公報、特開昭60−3326
5号公報など)、また、これらをヒーター材として用い
るとの提案もなされている(特開昭60−60983号
公報、特開昭62−140386号公報など)。
、A1.O,N、−、(0(z≦4.2)で示されるβ
サイアロン、Mx(SilAl)1!(OtN)tl(
X<2!MはLi、Mg、Ca*Ytam類元素(La
、Ce除く)〕で示されるαサイアロン、およびこれら
の複合した窒化珪素系のセラミックスは、高温強度およ
び耐酸化性に優れ、熱膨張係数が小さく耐熱衝撃性が非
常に良いため、近年種々の分野において利用されている
。また一方で、これらは極めて難加工性材料でもあるた
め、その対策として放電加工を可能とするために導電性
を付与するとの提案もなされている(特開昭57−18
8453号公報、特開昭57−200265号公報、特
開昭59−207881号公報、特開昭60−3326
5号公報など)、また、これらをヒーター材として用い
るとの提案もなされている(特開昭60−60983号
公報、特開昭62−140386号公報など)。
上記の導電性を有する窒化珪素またはサイアロンは導電
性物質としてIVa、Va、VIa族の遷移金属元素の
炭化物、窒化物などを使用する。
性物質としてIVa、Va、VIa族の遷移金属元素の
炭化物、窒化物などを使用する。
ところが、これら導電性物質の多くは電気抵抗率が10
″sΩ・ロオーダーであり(例えばTiN 4,0×1
04Ω”(m、 ’ric 1.6X104Ω・am、
ZrN 1.8XlO−5Ω・])、このため例えば第
3図にβサイアロン中のTiN含有量と焼結体の電気抵
抗率の関係を示すが、10−3Ω・(2)以上の高い電
気抵抗率を有する材料を得ようとした場合、導電性物質
の量を少なくする必要がある。しかし、このようにする
と導電経路が十分に確保されないため、導電性物質のわ
ずかな含有量の変化により電気抵抗率が急激に変化し、
安定したバラツキの少ない電気抵抗率の値を得ることは
極めて困菫である。
″sΩ・ロオーダーであり(例えばTiN 4,0×1
04Ω”(m、 ’ric 1.6X104Ω・am、
ZrN 1.8XlO−5Ω・])、このため例えば第
3図にβサイアロン中のTiN含有量と焼結体の電気抵
抗率の関係を示すが、10−3Ω・(2)以上の高い電
気抵抗率を有する材料を得ようとした場合、導電性物質
の量を少なくする必要がある。しかし、このようにする
と導電経路が十分に確保されないため、導電性物質のわ
ずかな含有量の変化により電気抵抗率が急激に変化し、
安定したバラツキの少ない電気抵抗率の値を得ることは
極めて困菫である。
(なおバラツキとは、製造ロット間のバラツキ。
焼結体間のバラツキ、焼結体内部での組成変化によるバ
ラツキを言う、) 前記特開昭57−188453号公報、特開昭57−2
00265号公報、特開昭59−207881号公報、
特開昭60−33265号公報に開示されたセラミック
ス焼結体は、いずれもこの高電気抵抗域における電気抵
抗率のバラツキを有し、かつそのバラツキを少なくする
解決策は提案されていない。
ラツキを言う、) 前記特開昭57−188453号公報、特開昭57−2
00265号公報、特開昭59−207881号公報、
特開昭60−33265号公報に開示されたセラミック
ス焼結体は、いずれもこの高電気抵抗域における電気抵
抗率のバラツキを有し、かつそのバラツキを少なくする
解決策は提案されていない。
一方、■a、Va、VIa族の遷移金属元素の炭化物、
窒化物等の導電性化合物は一般に高融点であるため、高
温での焼結においても変質することは少ない、しかし、
これらの化合物は、窒化珪素またはサイアロンに比べ耐
酸化性が劣るという問題点があり、これにより最高使用
温度が制限される場合もある。
窒化物等の導電性化合物は一般に高融点であるため、高
温での焼結においても変質することは少ない、しかし、
これらの化合物は、窒化珪素またはサイアロンに比べ耐
酸化性が劣るという問題点があり、これにより最高使用
温度が制限される場合もある。
以上のように、従来提案されている導電性を有する窒化
珪素またはサイアロンは優れた材料ではあるが、上記の
ような問題点を有しているものである。
珪素またはサイアロンは優れた材料ではあるが、上記の
ような問題点を有しているものである。
本発明は、以上の問題点に鑑み高電気抵抗域における抵
抗率のバラツキが少なく、かつ耐酸化性に優れた導電性
セラミックス焼結体の提供を目的とする。
抗率のバラツキが少なく、かつ耐酸化性に優れた導電性
セラミックス焼結体の提供を目的とする。
前記問題点、特に高電気抵抗域における電気抵抗率のバ
ラツキを低減するためには、高い電気抵抗率を導電性物
質の含有量が高いレベルで維持できるような導電性物質
を採用することが必要条件となるが、前述の如(IVa
、Va、VIa族の遷移金属元素の炭化物、窒化物等の
化合物を導電性物質とした場合には前記必要条件を満足
しない。
ラツキを低減するためには、高い電気抵抗率を導電性物
質の含有量が高いレベルで維持できるような導電性物質
を採用することが必要条件となるが、前述の如(IVa
、Va、VIa族の遷移金属元素の炭化物、窒化物等の
化合物を導電性物質とした場合には前記必要条件を満足
しない。
そこで本発明者は、IVa、Va、VIa族の遷移金屑
元素の炭化物、窒化物等の導電性物質に、これよりも電
気抵抗率の高い導電性物質を複合添加することにより前
記必要条件を満足することが出来るのではないかとの推
測に基づき種々の導電性化合物について検討を行なった
結果、It/a、VaおよびVIa族の酸化物、窒化物
等からなる導電性化合物にSiCを複合添加することに
より、高電気抵抗域における電気抵抗率のバラツキを改
善し、更に耐酸化性をも向上し得ることを知見し、本発
明を完成するに至った。
元素の炭化物、窒化物等の導電性物質に、これよりも電
気抵抗率の高い導電性物質を複合添加することにより前
記必要条件を満足することが出来るのではないかとの推
測に基づき種々の導電性化合物について検討を行なった
結果、It/a、VaおよびVIa族の酸化物、窒化物
等からなる導電性化合物にSiCを複合添加することに
より、高電気抵抗域における電気抵抗率のバラツキを改
善し、更に耐酸化性をも向上し得ることを知見し、本発
明を完成するに至った。
すなわち本発明は、窒化珪素系セラミックスを母材とし
、第1の導電性物質としてIVa、VaおよびVIa族
の遷移金属元素の炭化物、窒化物、酸化物およびこれら
化合物から形成される複化合物の1種または2種以上の
導電性化合物を10〜70vol%、ならびに第2の導
電性物質としてSiCを0.1〜50vc1%含有し、
前記第1の導電性物質および前記第2の導電性物質とに
より導電経路が形成されていることを特徴とする導電性
セラミックス焼結体である。
、第1の導電性物質としてIVa、VaおよびVIa族
の遷移金属元素の炭化物、窒化物、酸化物およびこれら
化合物から形成される複化合物の1種または2種以上の
導電性化合物を10〜70vol%、ならびに第2の導
電性物質としてSiCを0.1〜50vc1%含有し、
前記第1の導電性物質および前記第2の導電性物質とに
より導電経路が形成されていることを特徴とする導電性
セラミックス焼結体である。
以下本発明の詳細な説明する。
後述の実施例5で製造した焼結体のうちの1つであるT
iN 20voi%、 S i C20voi%を添加
した焼結体につき、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微
鏡により組織f7R祭を行なった。その組織を第1図(
走査型倍率12,000倍)、および第2図(透過型倍
率40,000倍)に示す。
iN 20voi%、 S i C20voi%を添加
した焼結体につき、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微
鏡により組織f7R祭を行なった。その組織を第1図(
走査型倍率12,000倍)、および第2図(透過型倍
率40,000倍)に示す。
第1′@および第2図から、SiC粒子はサイアロン粒
子、TiN粒子と反応せずに独立に存在し、本焼結体に
はTiN/TiNの接触点の他に、TiN/SiC,S
iC/SiCの接触点があり、これらが導電経路を形成
することがわかる。
子、TiN粒子と反応せずに独立に存在し、本焼結体に
はTiN/TiNの接触点の他に、TiN/SiC,S
iC/SiCの接触点があり、これらが導電経路を形成
することがわかる。
このようにSiCとTiNを複合添加することにより、
TiN/TiNの接触に加えてTiN/5iC1SiC
/SiCの接触による導電経路が形成されるために導電
経路のネットワークが密になり、電気抵抗率のバラツキ
が低減されるものと考えられる。
TiN/TiNの接触に加えてTiN/5iC1SiC
/SiCの接触による導電経路が形成されるために導電
経路のネットワークが密になり、電気抵抗率のバラツキ
が低減されるものと考えられる。
そして、この場合SiCの電気抵抗率は10”−IQ’
Ω・■程度と■a、VaおよびVIa族の遷移金属元素
の炭化物、窒化物等と比べ著しく高いため、Na、Va
およびVIa族の遷移金属元素の炭化物、窒化物等とS
iCの複合添加により導電性物質の含有量は増大するこ
とになるが焼結体全体の電気抵抗率の低下は少ない。
Ω・■程度と■a、VaおよびVIa族の遷移金属元素
の炭化物、窒化物等と比べ著しく高いため、Na、Va
およびVIa族の遷移金属元素の炭化物、窒化物等とS
iCの複合添加により導電性物質の含有量は増大するこ
とになるが焼結体全体の電気抵抗率の低下は少ない。
したがって、高電気抵抗率でしかも電気抵抗率のバラツ
キの少ない焼結体を得ることができるものと考える。
キの少ない焼結体を得ることができるものと考える。
第3図にTiN(25vol%一定)とSiCを複合添
加した焼結体のTiN+SiC添加量と電気抵抗率の関
係を示すが、TiN単独添加の焼結体と比べ、TiN/
SiCの添加量が多くなっても電気抵抗率は高く、また
添加量による電気抵抗率の変化は小さい、すなわち、電
気抵抗率のバラツキの少ない焼結体が得られることがわ
かる。
加した焼結体のTiN+SiC添加量と電気抵抗率の関
係を示すが、TiN単独添加の焼結体と比べ、TiN/
SiCの添加量が多くなっても電気抵抗率は高く、また
添加量による電気抵抗率の変化は小さい、すなわち、電
気抵抗率のバラツキの少ない焼結体が得られることがわ
かる。
また、SiCは耐酸化性に極めて優れた材料であり、こ
れを■a、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭化物
等に複合添加することにより焼結体の耐酸化性を改善す
ることが可能となる。
れを■a、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭化物
等に複合添加することにより焼結体の耐酸化性を改善す
ることが可能となる。
本発明は窒化珪素、サイアロンに広く適用できるもので
あり、具体的には αまたはβSi、N4を主成分とする窒化珪素焼結体 Si、、Al、○zNs−z(0< z≦4.2)で示
されるβサイアロン焼結体、 Mx(Si、Al)1i(OtN)ts(x<2iMは
Li、Mg。
あり、具体的には αまたはβSi、N4を主成分とする窒化珪素焼結体 Si、、Al、○zNs−z(0< z≦4.2)で示
されるβサイアロン焼結体、 Mx(Si、Al)1i(OtN)ts(x<2iMは
Li、Mg。
Ca、 Y 、希土類元素(La、Ce除<))で示さ
れるαサイアロン焼結体、 およびこれらの複合した窒化珪素系セラミックス焼結体 のいずれであっても所定の効果を得ることができる。な
お、βサイアロンにあっては、z<1の場合には常温、
高温強度が優れ、硬さ、靭性も高いものとなるので望ま
しい。
れるαサイアロン焼結体、 およびこれらの複合した窒化珪素系セラミックス焼結体 のいずれであっても所定の効果を得ることができる。な
お、βサイアロンにあっては、z<1の場合には常温、
高温強度が優れ、硬さ、靭性も高いものとなるので望ま
しい。
IVa、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭化物。
窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成される複化
合物の1種または2種以上の導電性化合物としては、種
々のものを選択することが可能であるが、TiNを選択
した場合には、焼結性、強度。
合物の1種または2種以上の導電性化合物としては、種
々のものを選択することが可能であるが、TiNを選択
した場合には、焼結性、強度。
耐酸化性等の面から好ましい結果が得られる。
また、前記複化合物とは炭窒化物、酸窒化物等、さらに
複窒化物、複炭化物等を言う。
複窒化物、複炭化物等を言う。
IVa、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭化物、
窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成される複化
合物の1種または2種以上の導電性化合物の量を10〜
70vol%とするのは、 10vol%未満では十分
な導電性を得ることができず、また70vol%を越え
ると焼結性が低下し、また窒化珪素およびサイアロンの
本来持つ特性である高温特性が低下するためであり、さ
らに好ましくは15〜50vol%である。
窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成される複化
合物の1種または2種以上の導電性化合物の量を10〜
70vol%とするのは、 10vol%未満では十分
な導電性を得ることができず、また70vol%を越え
ると焼結性が低下し、また窒化珪素およびサイアロンの
本来持つ特性である高温特性が低下するためであり、さ
らに好ましくは15〜50vol%である。
SiCの添加量をO,l−50vol%とするのは、0
.1vol%未満では本発明の効果が期待できず、50
vol%を越えると焼結性が低下し、緻密な焼結体を得
ることが困難となるからである。さらに望ましいSiC
の添加量は3〜30vol%である。
.1vol%未満では本発明の効果が期待できず、50
vol%を越えると焼結性が低下し、緻密な焼結体を得
ることが困難となるからである。さらに望ましいSiC
の添加量は3〜30vol%である。
上記の本発明導電性セラミックス焼結体は、次のような
製造方法により得ることができる。
製造方法により得ることができる。
すなわちSi、N4粉末、Al、O,粉末、AIN粉末
、ma族元素(希土類元素を含む)の酸化物粉末。
、ma族元素(希土類元素を含む)の酸化物粉末。
MgO粉末等を所定の窒化珪素および/またはサイアロ
ンとなるように配合し、これらに対し第1の導電性物質
であるIVa、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭
化物、窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成され
る複化合物の1種または2種以上の粉末と第2の導電性
物質であるSiC粉末を所定量添加し、混合、成形の後
、非酸化性雰囲気中で焼結する。ここで焼結は常圧焼結
、ガス圧焼結、HIP焼結(熱間静水圧プレス)、ホッ
トプレス等の各種方法を選ぶことができる。焼結の雰囲
気は非酸化性雰囲気で行なうことが好ましく、N2ガス
雰囲気、加圧N2ガス雰囲気、減圧N2ガス雰囲気、N
2を含む不活性ガス雰囲気等必要に応じ各種の条件で焼
結を行なうことが可能である。
ンとなるように配合し、これらに対し第1の導電性物質
であるIVa、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭
化物、窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成され
る複化合物の1種または2種以上の粉末と第2の導電性
物質であるSiC粉末を所定量添加し、混合、成形の後
、非酸化性雰囲気中で焼結する。ここで焼結は常圧焼結
、ガス圧焼結、HIP焼結(熱間静水圧プレス)、ホッ
トプレス等の各種方法を選ぶことができる。焼結の雰囲
気は非酸化性雰囲気で行なうことが好ましく、N2ガス
雰囲気、加圧N2ガス雰囲気、減圧N2ガス雰囲気、N
2を含む不活性ガス雰囲気等必要に応じ各種の条件で焼
結を行なうことが可能である。
なお、IVa、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭
化物、窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成され
る複化合物は、焼結中にそれぞれそれらの化合物に変化
するものを原料として用いることもできる。
化物、窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成され
る複化合物は、焼結中にそれぞれそれらの化合物に変化
するものを原料として用いることもできる。
また、焼結後にHIP(熱間静水圧プレス)処理により
さらに特性の向上を図ったり、熱処理を行ない粒界相を
結晶化させたりすることも可能である。
さらに特性の向上を図ったり、熱処理を行ない粒界相を
結晶化させたりすることも可能である。
以下1本発明を実施例に基づいてさらに詳しく説明する
。
。
実施例I
Si3N4粉末(粒度0.1prx、a化率93幻、Y
2O。
2O。
粉末(粒度Lprx、純度99.99%)、AIN粉末
(粒度1μm)、ALO,粉末(粒度0.5 p 蒙、
純度99.5%)を用い、2の値が0.4のβサイアロ
ンとなるような組成に配合した(Y20□量は6vt%
)、これに対し、TiN粉末を2O−30vol%とS
iC粉末を0−20vol%添加したものを原料粉末と
し、混合、成形の後、1気圧窒素雰囲気中で1750℃
×3時間焼結した。得られた焼結体の相対密度、電気抵
抗率および電気抵抗率のバラツキを第1表に示す。
(粒度1μm)、ALO,粉末(粒度0.5 p 蒙、
純度99.5%)を用い、2の値が0.4のβサイアロ
ンとなるような組成に配合した(Y20□量は6vt%
)、これに対し、TiN粉末を2O−30vol%とS
iC粉末を0−20vol%添加したものを原料粉末と
し、混合、成形の後、1気圧窒素雰囲気中で1750℃
×3時間焼結した。得られた焼結体の相対密度、電気抵
抗率および電気抵抗率のバラツキを第1表に示す。
ここで電気抵抗率および電気抵抗率のバラツキは、多数
の粉末ロットからとった20個の焼結体の最大電気抵抗
率をρwax、最小電気抵抗率をρ@inとすると下記
式によって求めた。以下の実施例も同様である。
の粉末ロットからとった20個の焼結体の最大電気抵抗
率をρwax、最小電気抵抗率をρ@inとすると下記
式によって求めた。以下の実施例も同様である。
(1) max+ p m1n)
電気抵抗率:□(Ω・Ca1)
また、電気抵抗率は焼結体表面より10mmを研削によ
り除去した面を測定した。
り除去した面を測定した。
第1表より、本発明によれば各焼結体間の電気抵抗率の
バラツキを著しく低減することができることがわかる。
バラツキを著しく低減することができることがわかる。
実施例2
実施例1と同様粉末を用い、Z=0.3のβサイアロン
となるような組成に配合したサイアロン粉末(y、o、
量は7wt%)58−78vol%とTiN粉末22v
ol%とSiC粉末O〜20vol%とを原料粉末とし
、混合、成形の後、1気圧の窒素雰囲気中で1750℃
×7時間焼結した。焼結体寸法は、 17X17X17
wmとし、各条件につき30ケの焼結体を製作した。M
給体を中心より切断し、中心部の電気抵抗率を測定し、
バラツキを求めた。
となるような組成に配合したサイアロン粉末(y、o、
量は7wt%)58−78vol%とTiN粉末22v
ol%とSiC粉末O〜20vol%とを原料粉末とし
、混合、成形の後、1気圧の窒素雰囲気中で1750℃
×7時間焼結した。焼結体寸法は、 17X17X17
wmとし、各条件につき30ケの焼結体を製作した。M
給体を中心より切断し、中心部の電気抵抗率を測定し、
バラツキを求めた。
組成、密度、電気抵抗率およびバラツキを第2表に示す
。
。
これより、電気抵抗率が10−1Ω・1のオーダーと高
い領域においてもTiNとSiCの適正量の複合添加に
より、電気抵抗率のバラツキが著しく低減可能であるこ
とがわかる。
い領域においてもTiNとSiCの適正量の複合添加に
より、電気抵抗率のバラツキが著しく低減可能であるこ
とがわかる。
実施例3
本実施例は、焼結体内部の各部位における電気抵抗率の
変化を調査する目的で行なったものである。
変化を調査する目的で行なったものである。
実施例1と同様の組成の原料粉末を用い、混合、成形の
後、5気圧の窒素ガス中で1850℃×5時間焼結した
。
後、5気圧の窒素ガス中で1850℃×5時間焼結した
。
得られた焼結体につき、表面からの研削深さ(閣)と電
気抵抗率(Ω・c−)との関係を調べた。結果を第3表
に示す。
気抵抗率(Ω・c−)との関係を調べた。結果を第3表
に示す。
これより、TiNとTiCの適正量の複合添加により、
焼結体内部の電気抵抗率の変化が極めて小さいことがわ
かる。
焼結体内部の電気抵抗率の変化が極めて小さいことがわ
かる。
実施例4
Si3N4粉末(粒度0.1pra、a化率93%)、
y、o。
y、o。
粉末(粒度1μ璽、純度99.99%)、AIN粉末(
粒度1μI+)、A1.O,粉末(粒度0.5 p m
、純度99.5%)を用い、焼結体の2の値が0.4と
なるように配合した。
粒度1μI+)、A1.O,粉末(粒度0.5 p m
、純度99.5%)を用い、焼結体の2の値が0.4と
なるように配合した。
ここでY、O,量は6wt%一定とした。これに対し、
TiN粉末(粒度1.5μm)を25vol%添加し、
さらにSiC粉末(粒度0.7μm)を0−60vol
%添加し、原料粉末とした。
TiN粉末(粒度1.5μm)を25vol%添加し、
さらにSiC粉末(粒度0.7μm)を0−60vol
%添加し、原料粉末とした。
これらを混合成形の後、1気圧窒素中で1750℃、5
時間焼結した。得られた焼結体の特性を第4表に示す。
時間焼結した。得られた焼結体の特性を第4表に示す。
第4表よりSiCの添加により耐酸化性が向上すること
がわかる。また、SiC添加量が50vol%を越えた
場合には焼結性が低下し、相対密度が低くなる。
がわかる。また、SiC添加量が50vol%を越えた
場合には焼結性が低下し、相対密度が低くなる。
実施例5
実施例1と同様の粉末を用い、Si、N4粉末に対しY
、O,粉末とAIN粉末を(Y 20 a + 9 A
I N )が20mo1%となるように添加した。こ
れに対しいずれもSiCを20vol%添加し、さらに
TiNを5−80v。
、O,粉末とAIN粉末を(Y 20 a + 9 A
I N )が20mo1%となるように添加した。こ
れに対しいずれもSiCを20vol%添加し、さらに
TiNを5−80v。
11添加したものを原料粉末とした。これらを混合成形
の後、5気圧窒素中で1730℃、4時間焼結した。
の後、5気圧窒素中で1730℃、4時間焼結した。
得られた焼結体の特性を第5表に示す。
第5表よりTiN添加量が、5vol%であると電気抵
抗率が大きくなり過ぎると、80vol%であると高温
強度が劣化すること、および本発明範囲においてはいず
れの特性もバランスがとれた良好な特性が得られること
がわかる。
抗率が大きくなり過ぎると、80vol%であると高温
強度が劣化すること、および本発明範囲においてはいず
れの特性もバランスがとれた良好な特性が得られること
がわかる。
実施例6
本実施例は、各種SL、Nいサイアロンを母材とした場
合の本発明の効果を確認すべく行なったものである。
合の本発明の効果を確認すべく行なったものである。
実施例1と同様の粉末およびMgO粉末(平均粒径1.
0μ@)を用いて各種組成のSi3N、、サイアロンを
配合した。これら粉末を60vol%としSiC15v
ol%とT i N 25vol%を加え(ただし従来
例は、 TiN 25vol%のみ)、これを原料粉末
とした。これらを混合成形の後、各種焼結条件にて焼結
した。得られた焼結体の特性を第6表に示すが、本発明
が各種Si3N4、サイアロンで実施可能であることが
わかる。
0μ@)を用いて各種組成のSi3N、、サイアロンを
配合した。これら粉末を60vol%としSiC15v
ol%とT i N 25vol%を加え(ただし従来
例は、 TiN 25vol%のみ)、これを原料粉末
とした。これらを混合成形の後、各種焼結条件にて焼結
した。得られた焼結体の特性を第6表に示すが、本発明
が各種Si3N4、サイアロンで実施可能であることが
わかる。
実施例7
本実施例は、各種導電性化合物を用い本発明の効果を確
認すべく行なったものである。
認すべく行なったものである。
実施例1と同様の粉末および■a、Va、VIa族の遷
移金属元素の炭化物、窒化物等の粉末(平均粒径1.5
〜3.0μ、)を用い、Z=0.5のβサイアロンとな
るような組成に配合した( y s o a量は7mo
1%)。
移金属元素の炭化物、窒化物等の粉末(平均粒径1.5
〜3.0μ、)を用い、Z=0.5のβサイアロンとな
るような組成に配合した( y s o a量は7mo
1%)。
これら粉末を55vol%とし、各種導電性化合物粉末
を30volヌ添加し、さらにSiC粉末を15vol
ヌ添加し、これを原料粉末とした。これらを混合、成形
の後、1気圧窒素雰囲気中で1700〜1800℃、3
〜6時間焼結した。得られた焼結体の特性を第7表に示
すが、本発明が各種導電性化合物で実施可能であること
がわかる。
を30volヌ添加し、さらにSiC粉末を15vol
ヌ添加し、これを原料粉末とした。これらを混合、成形
の後、1気圧窒素雰囲気中で1700〜1800℃、3
〜6時間焼結した。得られた焼結体の特性を第7表に示
すが、本発明が各種導電性化合物で実施可能であること
がわかる。
以上の実施例により、IVa、VaおよびVIa族の遷
移金属元素の炭化物、窒化物、酸化物およびこれら化合
物から形成される複化合物とSiCを複合添加した導電
性を有する窒化珪素系焼結体は、SiCを添加しない従
来の焼結体に比べ、高抵抗域での電気抵抗率のバラツキ
の抑制が可能であり。
移金属元素の炭化物、窒化物、酸化物およびこれら化合
物から形成される複化合物とSiCを複合添加した導電
性を有する窒化珪素系焼結体は、SiCを添加しない従
来の焼結体に比べ、高抵抗域での電気抵抗率のバラツキ
の抑制が可能であり。
かつ耐酸化性の改善が可能となることがわかる。
本発明により、従来の導電性を有する窒化珪素。
サイアロン焼結体において最大の問題であった。
高抵抗域での電気抵抗率のバラツキを著しく改善し、か
つ耐酸化性を向上することが可能となった。
つ耐酸化性を向上することが可能となった。
これにより、高抵抗域での電気的性質を利用したヒータ
ー等の分野への適用が可能となる他従来材では困難であ
った高温用途への適用が可能となる。
ー等の分野への適用が可能となる他従来材では困難であ
った高温用途への適用が可能となる。
!
真(倍率12,000倍)、第2図はT i N 20
voJ% tS i C20vol%を添加した焼結体
の透過型電子顕微び第3図は焼結体中のTiN添加量と
電気抵抗率第 1 区 (@率40,00(1倍) 図面の浄占(内容に変更なし) 第3図 導電性物質のffi (vol%) 手続補正書(ヵよ、
voJ% tS i C20vol%を添加した焼結体
の透過型電子顕微び第3図は焼結体中のTiN添加量と
電気抵抗率第 1 区 (@率40,00(1倍) 図面の浄占(内容に変更なし) 第3図 導電性物質のffi (vol%) 手続補正書(ヵよ、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 窒化珪素系セラミックスを母材とし、第1の導電性
物質としてIVa、VaおよびVIa族の遷移金属元素の炭
化物、窒化物、酸化物およびこれら化合物から形成され
る複化合物の1種または2種以上の導電性化合物を10
〜70vol%、ならびに第2の導電性物質としてSi
Cを0.1〜50vol%含有し、前記第1の導電性物
質および前記第2の導電性物質とにより導電経路が形成
されていることを特徴とする導電性セラミックス焼結体
。 2 窒化珪素系セラミックスがαまたはβ Si_3N_4を主体とする窒化珪素である特許請求の
範囲第1項記載の導電性セラミックス焼結体。 3 窒化珪素系セラミックスがサイアロンである特許請
求の範囲第1項記載の導電性セラミックス焼結体。 4 サイアロンがβサイアロンで、Si_■_−_zA
l_zO_zN_■_−_zにおけるz値がz<1であ
る特許請求の範囲第3項に記載の導電性セラミックス焼
結体。 5 第1の導電性物質がTiNである特許請求の範囲第
1項ないし第3項いずれかに記載の導電性セラミックス
焼結体。 6 導電経路が第1の導電性物質相互の接触、第2の導
電性物質相互の接触、および第1の導電性物質と第2の
導電性物質との接触により形成されている特許請求の範
囲第1項ないし第5項いずれかに記載の導電性セラミッ
クス焼結体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63238281A JP2556888B2 (ja) | 1987-12-24 | 1988-09-22 | 電気抵抗率バラツキの少ないセラミックス導電材料 |
US07/286,009 US5066423A (en) | 1987-12-24 | 1988-12-19 | Conductive ceramic sintered body |
EP88121437A EP0322745B1 (en) | 1987-12-24 | 1988-12-21 | Conductive ceramic sintered body |
DE8888121437T DE3875331T2 (de) | 1987-12-24 | 1988-12-21 | Leitender, gesinterter keramikkoerper. |
KR1019880017220A KR910003208B1 (ko) | 1987-12-24 | 1988-12-22 | 도전 세라믹 소결체 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-328127 | 1987-12-24 | ||
JP32812787 | 1987-12-24 | ||
JP63238281A JP2556888B2 (ja) | 1987-12-24 | 1988-09-22 | 電気抵抗率バラツキの少ないセラミックス導電材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01252582A true JPH01252582A (ja) | 1989-10-09 |
JP2556888B2 JP2556888B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=26533626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63238281A Expired - Lifetime JP2556888B2 (ja) | 1987-12-24 | 1988-09-22 | 電気抵抗率バラツキの少ないセラミックス導電材料 |
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---|---|
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EP (1) | EP0322745B1 (ja) |
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DE (1) | DE3875331T2 (ja) |
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