JPH01228994A

JPH01228994A - γ−シリルアリルアルコール及びその製造法

Info

Publication number: JPH01228994A
Application number: JP63057017A
Authority: JP
Inventors: Fumie Satou; 史衛佐藤
Original assignee: Nissan Chemical Corp
Current assignee: Nissan Chemical Corp
Priority date: 1988-03-10
Filing date: 1988-03-10
Publication date: 1989-09-12

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】及栗上立■旦分互本発明は、それ自体生理活性物質として有用であると共
に、分子構造中に２級アリルアルコールの骨格を含む各
種生理活性物質、例えばリボキシン等の合成中間体とし
て有用な、γ位にシリル基を有すると共に分子内にエポ
キシ基を有する新規エポキシアリルアルコール及びγ位
にシリル基を有する新規ジアリルアルコール並びにその
製造法に関する。

従来の技術及び　■が解　しようとする課近年、分子構
造中に光学活性な２級アリルアルコールの骨格を含む各
種生理活性物質が広く知られるようになった。例えば、
アラキドン酸のりボキシゲナーゼ代謝産物であるロイコ
トリエンは、我々の生体内でさまざまな生物活性を示し
、生体を維持してゆく上で必須な化合物であるが、最近
、新しいロイコトリエンとしてリボキシンＡ、リボキシ
ンＢが発見された。しかし、これらリボキシンは、他の
ロイコトリエンと同様に自然界からは超微量しか単離で
きないため、合成法に頼らざるを得ない。

従来、リボキシンの合成法としては、ジェイ・ロカシ（
Ｊ　、　Ｒｏｋａｃｈ）らにより３種類の糖から得る方
法〔テトラヘドロン・レター（Ｔ　ｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎＬｅｔｔｅｒ）２６，１３９９（１９８５））やイー
・ジェイ・コレイ（Ｅ　、　Ｊ　、　Ｃｏｒｅｙ）らに
より１５−ＨＰＥＴＥ　（１５−ハイドロペルオキシ−
６，８゜１１．１４−エイコサテトラエンカルボン酸）
から得る方法〔テトラヘドロン・レター２６．１９１９
（１９ｓ　ｓ））が提案されているが、これらの方法は
かなりの多工程を要する問題があり、また後者の方法は
使用する１５−ＨＰＥＴＥが高価であるという問題も有
する。

このため、これらのフリルアルコールの骨格をその分子
構造中に含み、光学活性で複雑な構造の化合物の合成を
考えた場合、これらのものを有利に合成できる中間体と
して種々の反応操作が極めて容易に行なえる光学活性を
有するアリルアルコールが望まれている。

１１Ｉ」１友１６迭！８針１戊本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を進め
た結果、一般式（ＩＶ）（Ｒ１，Ｒ”、　Ｒ３は炭素数１〜１０の置換もしくは
未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェニル
基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよい（
以下同じ）。また、ＡはＬｉ又はＭｇＸで、Ｘはハロゲ
ン原子を示す（以下同じ）、）で表わされる化合物と一般式（Ｖ）ＨＣＯＯＲ（Ｖ）（Ｒは炭素数１〜１０の置換もしくは未置換のアルキル
基又は置換もしくは未置換のフェニル基を示す（以下同
じ）、）で表わされるギ酸エステルとを反応させることにより、一般式（ｍ）Ｈで表わされるγ位にシリル基を有する新規ジアリルアル
コールが得られること、更にこの（ｍ）式のジアリルア
ルコールをチタンテトラアルコキサイドおよび光学活性
酒石酸ジエステルの存在下にハイドロパーオキサイドで
酸化することにより、不斉エポキシ化反応が効率的に進
行し、上記酒石酸エステルの光学活性に応して光学的に
純粋なエポキシアルコールが得られること、即ち光学活
性酒石酸ジエステルとしてＤ−（−）−酒石酸ジエステ
ルを用いることに、より、一般式（１）で示される新規エポキシアルコールが得られると共に、
Ｌ−（＋）−酒石酸ジエステルを用いることにより、一般式（ｎ）で示される新規エポキシアルコールが得られること、そ
して、これらのγ位のシリル基を有する新規エポキシア
ルコールがリボキシンの合成中間体として有用であるこ
とを知見し、本発明を完成するに至ったものである。

即ち、本発明者らは先にγ位にシリル基又はスタニル基
を有するトランス型のアリルアルコールの不斉酸化反応
（特願昭６２−１８９２３４号）を提案したが、これを
対称型のγ位にシリル基を有するジアリルアルコールに
適用する（所謂メソトリック法）ことによって、効率の
高い光学活性なγ位にシリル基を有するエポキシアリル
アルコールの製造法を可能としたものである。

従って、本発明は式（１）、（ｎＬ更に式（ＩＩＩ）で
示される新規γ−シリルアリルアルコールを提供する。

また、本発明は式（ＩＩＩ）のγ−シリルジアリルアル
コールをチタンテトラアルコキサイド及びＤ−（−）−
又はＬ−（＋）−酒石酸ジエステルの存在下にハイドロ
パーオキサイドで酸化して式（１）又は式（ｎ）のγ−
シリルエポキシアルコールを製造する方法、更に式（Ｉ
Ｖ）で示される化合物と式（Ｖ）のギ酸エステルとを反
応させて式（ＩＩ［）のγ−シリルジアリルアルコール
を製造する方法を提供する。

以下、本発明につき更に詳しく説明する。

本発明に係る新規化合物は、上述したように、一般式〔
！〕及び一般式（＋’［）で表わされるγ位にシリル基を有するエポキシアリルア
ルコール並びに一般式（ＩＩＩ）で表わされるγ位にシ
リル基を有するジアリルアルコールである。

上記式（１）〜（ｍ）の化合物は、それ自体生理活性物
質として有効であると共に、式（ＩＩＩ）の化合物は式
（＋）、（ＩＩ）の化合物の合成中間体として、また式
（１）、（ｎ）の化合物はリボキシン等の合成中間体と
して有効である。

ここで、Ｒ”　、　Ｒ”　、　Ｒ３は炭素数１〜１０の
置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未Ｗ
１換のフェニル基で、具体的には、メチル、エチル、ｎ
−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、
ｔ−ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシル、フェニル、Ｐ−トリル、ｍ−クロロフ
ェニル、ｐ−メトキシフェニル等を挙げることができる
。なお、Ｒ”ｔＲ２、Ｒ３は互いに同一であっても異な
っていても良い。

次に、本発明に係る上記新規化合物の製造法について説
明すると、まず式（ｍ）の化合物を得る方法は各種考え
られるが、その−法として、下記反応式（、）に従って
式（ＩＶ）の化合物と式（Ｖ）のギ酸エステルとを反応
させる。

（ＩＶ）　　　　　　　　　（Ｖ）（ｍ）ここで、式（ＴＶ）の化合物において、Ｒ”、Ｒ２゜Ｒ
３は上記と同じ意味を示し、ＡはＬｉ又はＭｇＸで、Ｘ
はハロゲン原子である。また°、式（Ｖ）の化合物にお
いて、Ｒは、Ｒ１，Ｒ１，Ｒ″で説明した場合と同様の
炭素数１〜１０の置換もしくは未置換のアルキル基又は
置換もしくは未置換のフェニル基を示すが、ＲはＲ１，
Ｒ２，Ｒ３と同一であっても異なっていてもよい。

上記反応式（ａ）に従って式（ＩＩＩ）の化合物を得る
場合は、化合物（ＩＶ）は化合物（Ｖ）に対して２当量
以上用いることが好ましい。

また、反応は溶媒を用いることができるが、反応に用い
られる溶媒としては反応を阻害しないものであればよく
、例えばテトラヒドロフラン、ヘキサン、ペンタン、ジ
エチルエーテル等が挙げられる。

なお、反応温度は通常−１００〜５０’Ｃ１好ましくは
一８０〜０℃であり、反応時間は通常５分〜５０時間で
ある。

また、このようにして得られた化合物（ＩＩＩ）より式
［１）、（ｎ）のエポキシアルコールを合成する場合は
、式（ｍ）の化合物をチタンテトラアルコキサイド及び
光学活性酒石酸ジエステルの存在下にハイドロパーオキ
サイドで酸化するもので、本発明においては用いる光学
活性酒石酸ジエステルにより生成物の立体を規制してい
る。

即ち、Ｄ−（−）−酒石酸ジエステルを用いることによ
り、反応式（ｂ）に示すように式（１）の化合物を得る
。

（ｍ）（ｒ）また、Ｌ−（＋）−酒石酸ジエステルを用いることによ
り、反応式（ｃ）に示すように式〔■〕の化合物を得る
ものである。

返ぷり虹り虹ＬＣＩ［Ｉ］（ｎ）ここで用いる光学活性な酒石酸ジエステルとしては、Ｌ
−（＋）−酒石酸ジメチル、Ｌ　−（＋）−酒石酸ジエ
チル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジイソプロピル、Ｌ−（＋）
−酒石酸ジ−ｔ−ブチル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジステア
リル、Ｌ−（＋）−酒石酸ジフェニル及びこれらのＤ−
（−）一体が例として挙げられる。

この酒石酸ジエステルの使用量は、チタンアルコキサイ
ド１モル当り０．９〜２モル、特に１〜１．２モルが望
ましい。

本発明では上記（ｂ）、（ｃ）の反応にチタンテトラア
ルコキサイドを使用するが、チタンテトラアルコキサイ
ドとしては、具体的には、チタンテトラメトキシサイド
、チタンテトラエトキシサイド、チタンテトライソプロ
ポキサイド、チタンテトラブトキシサイド、チタンテト
ラｔ−ブトキサイド等が挙げられ、その１種又は２種以
上を使用することができる。その使用量は、化合物（Ｉ
［Ｉ）１モル当り０．０５〜１．５モルにすることが望
ましい。

また、酸化剤（ハイドロパーオキサイド）としては、通
常、脂肪族のハイドロパーオキサイドが使用され、例え
ばｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、α、α−ジメチ
ルへブチルハイドロパーオキサイド、ビス−イソブチル
−２，５−シバイドロバ−オキサイド、１−メチルシク
ロへキシルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパ
ーオキサイド及びシクロへキシルハイドロパーオキサイ
ド等を挙げることができる。その使用量は化合物（ｍ）
のジアリルアルコール３モル、特に０．５〜１．５モルが好ましい。

上記（ｂ）、（Ｃ）の反応においては溶媒を使用するこ
とが好ましく、溶媒としては不活性溶媒、特にハロゲン
化炭化水素溶媒が好適に用いられる。

具体的にはジクロロメタン、ジクロロエタン等を挙げる
ことができる。

反応温度は一８０〜８０℃の範囲が採用され、望ましく
は一３０〜３０℃である。また、反応時間は、反応基質
又は温度等により異なるが、通常１０分〜１００時間で
ある。

なお、反応系は水分を非常に嫌うので反応溶媒、反応基
質及び反応剤は全て極力脱水することが望ましい。また
、触媒量の酒石酸ジエステルを用いる場合は粉末化した
モレキュラーシーブ、水酸化力ルシュウム、シリカゲル
等を共存させて反応させても良い。

見匪夏処釆本発明によれば、式（ＩＶ）、（Ｖ）の化合物より効率
よく式（ＩＩＩ）の化合物が得られると共に、この式（
ｍ）の化合物をチタンテトラアルコキサイド及び光学活
性酒石酸ジエステルの存在下にハイドロパーオキサイド
で酸化することにより、式（ＩＩＩ）の化合物の不斉エ
ポキシ化反応が効率的に進行し、Ｄ−（−）−酒石酸ジ
エステルを用いることにより式（１）の、またＬ−（＋
）−酒石酸ジエステルを用いることにより式（ｎ）の光
学的に純粋なエポキシアルコールが高収率で得られるも
のである。

そして、上記式［Ｉ］の化合物は反応式（ｄ）に示すよ
うに、例えば式（１）の化合物を用い、その水酸基を保
護した後、選択的に脱シリル化すると式（２）の化合物
が得られ，これをＣｕＩの存在下にｎ−Ｃ４Ｈ，ＭｇＢ
ｒと反応させることにより式（３）の化合物が得られ、
更にこれに（Ｃ，Ｈ，）、　Ｓ　ｎ　Ｌ　ｉを反応させ
、生じたビニルスズ化合物にＰｄ”″の存在下に１，２
−ジクロロエチレンをカップリングすることにより、式
（４）で示されるリボキシンＢのフラグメントが得られ
る。

又皇犬ユエムまた、上記式〔■〕の化合物は、反応式（ｅ）に示すよ
うに、例えば式（１′）の化合物を用いることにより、
上記反応式（ｄ）と同様に、式（５）。

（６）の化合物を順次経由した後、式（４）の立体異性
体である式（７）の化合物が得られる．更に、反応式（
、ｆ）に示すように、式（８）、（９）の化合物を順次
経て式（１０）のリボキシンＡのフラグメントが合成で
きる。

返郭ＩＬＬ艷と ♀Ｈｈ）ＮａＯＨＹ４０％反応式（ｆ）（但し、反応式（ｄ）〜（ｆ）中、Ｍｅはメチル基、○
ＥＥはエトキシエチルオキシ基、０Ｍ０Ｍはメトキシメ
チルオキシ基を示す。）従って、上記式（１３，（ＩＩ）の化合物はリボキシン
の合成中間体として有効に使用されるものである。

以下、実施例を示す、なお、実施例中、Ｍｅはメチル基
、Ｅｔはエチル基、”Ｂｕはｎ−ブチル基を示す。

〔実施例１〕ＨＣＯＯＥｔ　＋　Ｍａ）Ｓｉ＼２＾＼１□（Ｅ）−Ｍ
ｅ、Ｓ　ｉ　ＣＨ＝ＣＨ８ｎｒｌＢ　ｕ、（１００ｇ　
、　２５７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０００
−）溶液に一７８℃でｎＢｕＬｉ　（１４６＋ｄ、２３
４ｍｍｏｌ、　１．６Ｍ）のヘキサン溶液を滴下した。

−３０℃で１時間撹拌し、Ｍｅ、Ｓｉ＼ンダ＼ｓＬｉを得た後、再び一７８℃に冷
却し、ＨＣＯＯＥｔ　（８，５０ｄ、１０５ｍｍｏｌ）
を滴下した。徐々に反応温度を上げ、２時間３０分で一
１０℃にした。反応液に飽和食塩水ならびにヘキサンを
加え３０分間撹拌した。エバポレーターで大部分の有機
溶媒を留去した後、ヘキサンを加え、３回抽出した。集
めた抽出液を乾燥（ＭｇＳＯ，）１．、、濃縮すると粗
生成物（１１）が得られた。この粗生成物（１１）をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、精製された化合物（１１）が１９．９ｇ　（収率８
３％）得られた。

化合物（１１）の特性値を下記に示す。

”　ＨＮＭＲ（Ｃ（Ｊ４）δ：　０．１４　（ｓ、　１
８Ｈ）、　２．３−２．６　（１１゜１８）、　４．３
７−４．５２　（ｍ、　ＩＨ）、　５．６１−６．１６
　　（鵬、２Ｈ）。

”　３ＣＮＭＲＣＣＤＣＱ３　）δニー１．４．７６．
９．１２９．７．１４６．４゜〔実施例２〕Ｍｇ　（１０，７４ｇ、０．４４２ｍｏｌ）のテトラヒ
ドロフラン（８００Ｉｄ）混合物に１，２−ジクロロエ
タン（約０．５ｍＱ）を加え、Ｍｇを予め活性化した。

この中にＭｅ、Ｓｉ”ｚ〆＼Ｂｒ（７２ｇ、０．４０２
＋＋ｏｌ）を室温で滴下した。発熱するので時々氷水に
つけて冷した。滴下終了後、室温で２時間撹拌するとＭｅ、Ｓｉｎ＼Ｍ　ｇ　Ｂ　ｒの０．５モル溶液が得ら
れた。

上で合成したＭｅ、ＳｉＸ４り＼、Ｍ　ｇ　Ｂ　ｒ（８
００ａＱ、０．４０ｍｏｌ、０．５Ｍ）のテトラヒドロ
フラン溶液にＨＣＯＯＥ　ｔ　（０，１６ｍｏｌ。

１２．９ｄ）を０℃で加え、１時間撹拌した。反応液を
飽和Ｎ　Ｈ，（Ｊ水溶液に注ぎ、ヘキサンで抽出した。

抽出液を乾燥（ＭｇＳＯ，）Ｌ、溶媒を留去して得た粗
生成物を減圧上蒸留することにより、化合物（１１）が
２５ｇ（収率６９％）得られた。

化合物（１１）の特性値は実施例１の通りである。

〔実施例３〕（１）　　　晶アルゴン雰囲気下にチタンテトライソプロポキサイド（
１，５６ｍＱ、　５．２６１１＋ｍｏｌ）　、モレキュ
ラーシーブ４　Ａ　（１、３２ｇ　）　、ＣＨｚ　Ｃら
（２３＋ｄ）の混合液を一１５℃に冷却後、Ｌ−（＋）
−酒石酸ジイソプロピル（ＤＩ’ＰＴ）（１，３３ｄ、
６．３１＋ｍｍｏｌ）を加え、２ｏ分間撹拌した。続い
て、化合物（１１）（５，９７ｇ、　２６．２ｍｍｏｌ
）のＣＨ２（Ｊ１２（１０ｄ）溶液を加え、更に３０分
撹拌した。続いて、混合液を一４０℃に冷却し、ｔ−ブ
チルハイドロパーオキサイドのＣＨ，（１１□溶液（１
１，２７ｍ１．３．５０Ｍ、　３９．４４ｍｍｏｌ）を
ゆっくり滴下した後、−２０℃で、３．５時間撹拌した
。ＴＬＣにより原料の消失を確認した後、（ＣＨ３）２
５（２，９ｍＮ、　３９．５ｍｍｏｌ）を加えて反応を
停止した。１時間後、１０％酒石酸水溶液（１ｍＱ）、
ＮａＦ　（３ｇ）、エチルエーテル（３０ｄ）を加え、
室温で約３時間撹拌後、セライトでγ濾過し、炉液を濃
縮し、油状物を得た。得られた組成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（１）（５
，９０ｇ、９２．３％）を得た。

化合物（１）の特性値を下記に示す。

（ＣＥ）Ｄ”＋２４．０４”（Ｃ１，３５，Ｃ）ＩｃＱ
、）’　ＨＮＭＲＣＣＤＣＱ、　）δ：　０．０１と０
．０２　（２ｓ、　９Ｈ）、　２．０５（ｄ、　Ｊ＝２
．５Ｈｚ、　ＩＨ）、　２．３２　（ｄ。

Ｊ＝３．６Ｈｚ、　ＬＨ）、　２．９１　（ｔ、　Ｊ：
３．６Ｈｚ、ＩＨ）、４．１８　４．３５　　（ｍ、１
）１）。

５．９９と６．０１　（２ｓ、　２Ｈ）。

”　３ＣＮＭＲ（ＣＤＣ１１３）δニー３．８．　−１
．４．４７．５．５７．７゜７２．３，１３２．２，１
４３．５゜Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　　　：３４２０．　１７０４．
１３３５．９２７ａｍ−”　。

〔実施例４〕アルゴン雰囲気下、モレキュラーシーブ４Ａ（５ｇ）を
含むＣＨ２ＣＱ□（１００ｄ）懸濁液にチタンテトライ
ソプロポキサイド（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）４＝７．３５ｄ、
２４．７ｍｍｏｌ、２．Ｏｍｏ１％〕を加えた。

溶液を一２０℃に冷却し、Ｄ−（−）−酒石酸ジイソプ
ロピルＣＤ−（−）−ＤＩ　ＰＴ、６．２３ｄ。

２９　、６ｍａ＋ｏｌ、　２４ｍｏ１％〕をゆっくり滴
下し、その温度で１０分間撹拌した。反応溶液を一３０
℃に冷却し、化合物（１１）（２０、７ｇ　、　１２３
ＱＩＩＩＯ１）を含むＣＨ，Ｃら（２０ｄ）をゆっくり
滴下し、−３０℃〜−２０℃で、２０分間撹拌した。再
び反応溶液を一３０℃に冷却し、ｔ−ブチルハイドロパ
ーオキサイド（ＴＢＨＰ、４２．５ｍＱ、塩化メチレン
中の濃度として４．３５Ｍ、　１８５ｍｍｏｌ。

６０ｍｏ１％）をゆっくり滴下した後、−２１℃で２．
５時間撹拌した。続いて（ＣＨ，）、Ｓ（１３，６ｍＱ
、　１８５ｍｍｏｌ、　）を滴下し、−２１℃で１時間
撹拌した後、反応器を室温に戻した。１０％酒石酸水溶
液（３ｍＱ）、エーテル（１００ａＱ）及びＮａＦ　（
Ｌｏｇ）を加え、そのまま３時間撹拌を続けた。この懸
濁液をセライトで濾過し、溶媒を減圧下に留去した。粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し
、化合物（１゛）を１９．３ｇ　（収率８７％）得た。

（αｇｏ”　　２４−０　’　（Ｃ＝１−３５　、ＣＨ
Ｃｆ１ａ）なお、化合物（１′）のその他の分析値は化
合物（１１）と同一である。

手続補正書（自発）昭和６３年５月１９日１、事件の表示昭和６３年特許願第５７０１７号２、発明の名称 γ−シリルアリルアルコール及びその製造法３、補正を
する者事件との関係　　　　　特許出願人性　　所　　東京都千代田区神田錦町３丁目７番地１氏
　　名　　（３９８）日産化学工業　株式会社代表者　
中井武夫４、代理人　〒１０４住　　所　　東京都中央区銀座３丁目１１番１４号ダパ
クリエートビルＳ階　電話（５４５）６４５４６、補正
の内容（１）明細書の第５頁第１７行目の「レター」の後に「
ズ」を挿入する。

（２）同第５頁第１８行目のｒＬｅｔｔｅｒ」の後に「
ｓ」を挿入する。

（３）同第６頁第２行目の「レター」の後に「ズ」を挿
入する。

（４）同第１５頁第２行目乃至第３行目に「チタンテト
ラブトキシサイド」とあるのを「チタンテトラブトキサ
イド」と訂正する。

（５）同第１８頁下から第２行目乃至最終行に（６）同
第２２頁第３行目にｒ（ｍ、２Ｈ）Ｊとあるのをｒ（ｍ
、４Ｈ）Ｊと訂正する。

（７）同第２３頁第１２行目乃至第１３行目に（１）　
　　ＯＨ（。

（８）同第２５頁第９行目乃至第１０行目に「「Ｍｅ、Ｓｉ　　　　　”　ＳｉＭｅ３ト訂正する。

（１）　　　ＯＨ」以上

Claims

【特許請求の範囲】１、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕及び一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕（Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は炭素数１〜１０の置換もし
くは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェ
ニル基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよ
い。）で表わされるγ位にシリル基を有するエポキシアリルア
ルコールから選ばれるγ−シリルアリルアルコール。２、一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕（Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は炭素数１〜１０の置換もし
くは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェ
ニル基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよ
い。）で表わされるγ位にシリル基を有するジアリルアルコー
ルから選ばれるγ−シリルアリルアルコール。３、一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕（Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は炭素数１〜１０の置換もし
くは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェ
ニル基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよ
い。）で表わされるジアリルアルコールをチタンテトラアルコ
キサイドおよびＤ−（−）−又はＬ−（＋）−酒石酸ジ
エステルの存在下にハイドロパーオキサイドで酸化して
、一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕又は一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕（Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は前記と同じ意味を示す）で
表わされるγ位にシリル基を有するエポキシアリルアル
コールを得ることを特徴とするγ−シリルアリルアルコ
ールの製造法。４、一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔IV〕（Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は炭素数１〜１０の置換もし
くは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェ
ニル基を示し、互いに同一であっても異なっていてもよ
い。また、ＡはＬｉ又はＭｇＸで、Ｘはハロゲン原子を
示す。）で表わされる化合物と、一般式〔Ｖ〕ＨＣＯＯＲ〔Ｖ〕（Ｒは炭素数１〜１０の置換もしくは未置換のアルキル
基又は置換もしくは未置換のフェニル基を示す。）で表わされるギ酸エステルとを反応させて、一般式〔I
II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕で表わされるγ位にシリル基を有するジアリルアルコー
ルを得ることを特徴とするγ−シリルアリルアルコール
の製造法。