JP6851283B2 - 画像処理装置、分析装置、および画像処理方法 - Google Patents
画像処理装置、分析装置、および画像処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6851283B2 JP6851283B2 JP2017147700A JP2017147700A JP6851283B2 JP 6851283 B2 JP6851283 B2 JP 6851283B2 JP 2017147700 A JP2017147700 A JP 2017147700A JP 2017147700 A JP2017147700 A JP 2017147700A JP 6851283 B2 JP6851283 B2 JP 6851283B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- energy
- graph
- ray
- image processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2209—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using wavelength dispersive spectroscopy [WDS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
- G01N23/2252—Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
- G06T11/20—Drawing from basic elements, e.g. lines or circles
- G06T11/206—Drawing of charts or graphs
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
分光特性が互いに異なる複数の分光素子を備えたX線分光器を用いて得られた、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルを取得するスペクトル取得部と、
前記複数のスペクトルを、第1軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であり、第2軸がX線強度に基づく軸である1つのグラフにするグラフ生成部と、
前記グラフ生成部が生成したグラフを表示部に表示する制御を行う表示制御部と、
を含む。
前記グラフ生成部は、
前記複数のスペクトルの各々を1つのエネルギー軸上に配置し、当該エネルギー軸をエネルギーのa乗根の軸に変換して、前記グラフを生成してもよい。
前記グラフ生成部は、
X線強度をIとし、分光素子の感度係数をAとし、X線発生源と分光素子との間の距離を表すL値をLとした場合に、
前記第2軸を、(I×A×L)1/b(ただしb≧2)の軸としてもよい。
前記グラフ生成部は、
X線強度をIとし、分光素子の感度係数をAとし、ブラッグ角をθとした場合に、
前記第2軸を、(I×A×sinθ)1/b(ただしb≧2)の軸としてもよい。
前記グラフ生成部は、
前記第2軸を、標準試料のX線強度に対するX線強度の比の軸としてもよい。
画像処理装置では、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルを視認性よく表示することができる。
X線分光器で試料から発生する特性X線を検出して得られたスペクトルを取得するスペクトル取得部と、
前記スペクトルを、第1軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であり、第2軸がX線強度に基づく軸であるグラフにするグラフ生成部と、
前記グラフ生成部が生成したグラフを表示部に表示する制御を行う表示制御部と、
を含む。
本発明に係る画像処理装置を含む。
分光特性が互いに異なる複数の分光素子を備えたX線分光器を用いて得られた、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルを取得する工程と、
前記複数のスペクトルを、第1軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であり、第2軸がX線強度に基づく軸である1つのグラフにする工程と、
前記グラフを表示部に表示する工程と、
を含む。
まず、本実施形態に係る画像処理装置について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る画像処理装置100を含む分析装置1の構成を示す図である。
次に、画像処理装置100の処理部30の処理について説明する。ここでは、画像処理装置100において、波長分散型X線分光器18を用いて1つの試料(鉱物試料)を測定して得られた、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルから1つのグラフを生成して表示部42に表示する場合について説明する。
部が含まれるエネルギー軸上に、5つのスペクトルを配置して1つのグラフ(スペクトル)とする。図4に示すグラフでは、横軸はエネルギー軸であり、縦軸はX線強度軸である。
成されたグラフでは、低エネルギー側ほどエネルギーの間隔が大きくなり、低エネルギー側のピークを見やすくできる。したがって、EDSのスペクトルを視認性よく表示することができる。
次に、画像処理装置100の変形例について説明する。なお、上述した画像処理装置100の例と異なる点について説明し、同様の点については説明を省略する。
まず、第1変形例について説明する。第1変形例では、グラフ生成部34が、縦軸を式(2)の軸に代えて、次式(5)の軸とする点で上記の実施形態と異なる。
次に、第2変形例について説明する。第2変形例では、グラフ生成部34が、縦軸を式(2)の軸に代えて、Kレシオ、すなわち標準試料のX線強度に対するX線強度の比の軸とする点で上記の実施形態と異なる。すなわち、本変形例では、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルを、横軸がエネルギーの平方根の軸であり、縦軸がKレシオ(標準試料のX線強度に対するX線強度の比)の軸である1つのグラフとする。
次に、第3変形例について説明する。第3変形例では、グラフ生成部34が、縦軸を式(2)の軸に代えて、標準感度曲線により求められる相対強度K(すなわちKレシオ)の軸とする点で上記の実施形態と異なる。すなわち、第2変形例では、式(6)を用いて相対強度(Kレシオ)を求めたが、第3変形例では、標準感度曲線により相対強度Kを求める。そのため、第3変形例では、第2変形例に比べて、より精度よく相対強度K(Kレシオ)を求めることができる。
次に、第4変形例について説明する。上述した実施形態では、生成されたグラフの横軸がエネルギーの平方根の軸であったが、横軸をエネルギー軸として表示する場合と、横軸をエネルギーの平方根の軸として表示する場合とが切り替え可能となっていてもよい。例えば、低エネルギー側にピークが集中していない場合は、横軸をエネルギー軸(E)として表示し、低エネルギー側にピークが集中している場合には、横軸をエネルギー軸の平方根の軸として表示してもよい。
次に、第5変形例について説明する。上述した実施形態では、グラフ生成部34は、横軸をエネルギーの平方根の軸としていたが、横軸は、エネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であってもよい。すなわち、グラフ生成部34は、複数のスペクトルを、横軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸である1つのグラフとしてもよい。
次に、第6変形例について説明する。上述した実施形態では、グラフ生成部34は、縦軸を式(2)で表される軸としていたが、縦軸は(I×A×L)1/b(ただしb≧2)の軸であってもよい。すなわち、グラフ生成部34は、複数のスペクトルを、横軸がエネルギーの平方根の軸であり、縦軸が(I×A×L)1/b(ただしb≧2)の軸である1つのグラフとしてもよい。
、L値、ブラッグ角θ、および波長λにも変換できるため、エネルギー軸には、単位をエネルギー(eV)とする軸の他に、単位をL値、ブラッグ角θ、波長λとする軸も含まれるものとする。
Claims (8)
- 分光特性が互いに異なる複数の分光素子を備えたX線分光器を用いて得られた、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルを取得するスペクトル取得部と、
前記複数のスペクトルを、第1軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であり、第2軸がX線強度に基づく軸である1つのグラフにするグラフ生成部と、
前記グラフ生成部が生成したグラフを表示部に表示する制御を行う表示制御部と、
を含む、画像処理装置。 - 請求項1において、
前記グラフ生成部は、
前記複数のスペクトルの各々を1つのエネルギー軸上に配置し、当該エネルギー軸をエネルギーのa乗根の軸に変換して、前記グラフを生成する、画像処理装置。 - 請求項1または2において、
前記グラフ生成部は、
X線強度をIとし、分光素子の感度係数をAとし、X線発生源と分光素子との間の距離を表すL値をLとした場合に、
前記第2軸を、(I×A×L)1/b(ただしb≧2)の軸とする、画像処理装置。 - 請求項1または2において、
前記グラフ生成部は、
X線強度をIとし、分光素子の感度係数をAとし、ブラッグ角をθとした場合に、
前記第2軸を、(I×A×sinθ)1/b(ただしb≧2)の軸とする、画像処理装置。 - 請求項1または2において、
前記グラフ生成部は、
前記第2軸を、標準試料のX線強度に対するX線強度の比の軸とする、画像処理装置。 - X線分光器で試料から発生する特性X線を検出して得られたスペクトルを取得するスペクトル取得部と、
前記スペクトルを、第1軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であり、第2軸がX線強度に基づく軸であるグラフにするグラフ生成部と、
前記グラフ生成部が生成したグラフを表示部に表示する制御を行う表示制御部と、
を含む、画像処理装置。 - 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の画像処理装置を含む、分析装置。
- 分光特性が互いに異なる複数の分光素子を備えたX線分光器を用いて得られた、測定エネルギー範囲およびエネルギー分解能が異なる複数のスペクトルを取得する工程と、
前記複数のスペクトルを、第1軸がエネルギーのa乗根(ただしa≧2)の軸であり、第2軸がX線強度に基づく軸である1つのグラフにする工程と、
前記グラフを表示部に表示する工程と、
を含む、画像処理方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017147700A JP6851283B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 画像処理装置、分析装置、および画像処理方法 |
US16/048,540 US10746675B2 (en) | 2017-07-31 | 2018-07-30 | Image processing device, analysis device, and image processing method for generating an X-ray spectrum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017147700A JP6851283B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 画像処理装置、分析装置、および画像処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019027931A JP2019027931A (ja) | 2019-02-21 |
JP6851283B2 true JP6851283B2 (ja) | 2021-03-31 |
Family
ID=65230269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017147700A Active JP6851283B2 (ja) | 2017-07-31 | 2017-07-31 | 画像処理装置、分析装置、および画像処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10746675B2 (ja) |
JP (1) | JP6851283B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6939135B2 (ja) * | 2017-06-23 | 2021-09-22 | カシオ計算機株式会社 | 電子機器、プログラム、サーバ、グラフ画像生成方法およびグラフ画像生成システム |
JP7380421B2 (ja) * | 2020-05-27 | 2023-11-15 | 株式会社島津製作所 | X線分析装置およびx線分析方法 |
JP2024066835A (ja) * | 2022-11-02 | 2024-05-16 | 日本電子株式会社 | 分析方法および分析装置 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2813812B2 (ja) * | 1989-06-30 | 1998-10-22 | コニカ株式会社 | 電子写真感光体およびその製造方法 |
JPH04364455A (ja) * | 1991-06-11 | 1992-12-16 | Shimadzu Corp | 表面分析方法 |
JP3162667B2 (ja) * | 1997-04-25 | 2001-05-08 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 蛍光x線分析装置 |
US6292532B1 (en) * | 1998-12-28 | 2001-09-18 | Rigaku Industrial Corporation | Fluorescent X-ray analyzer useable as wavelength dispersive type and energy dispersive type |
JP2004151045A (ja) * | 2002-11-01 | 2004-05-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡またはx線分析装置及び試料の分析方法 |
JP2009047586A (ja) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Jeol Ltd | 化学結合状態分析を行うx線分析装置 |
US8065094B2 (en) * | 2008-07-30 | 2011-11-22 | Oxford Instruments Nonotechnology Tools Unlimited | Method of calculating the structure of an inhomogeneous sample |
US7872221B2 (en) * | 2009-01-30 | 2011-01-18 | General Electric Company | Apparatus and methods for calibrating pixelated detectors |
US20100292584A1 (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-18 | Chih-Hsin Lee | Spectrum analytical method for quantifying heat-lung interaction |
JP2011038939A (ja) * | 2009-08-13 | 2011-02-24 | Jeol Ltd | エネルギー分散型x線分析装置のスペクトルの分類方法及び装置 |
JP5359681B2 (ja) * | 2009-08-21 | 2013-12-04 | 株式会社島津製作所 | X線スペクトル表示処理装置 |
US8094783B2 (en) * | 2009-10-02 | 2012-01-10 | Morpho Detection, Inc. | Method and system for performing materials analysis with reflected inelastic scatter |
JP5534046B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-06-25 | コニカミノルタ株式会社 | 分光特性測定装置、分光特性測定装置の補正方法、およびプログラム |
JP2013053873A (ja) * | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Jeol Ltd | スペクトル表示装置、スペクトル表示方法、およびプログラム |
CN103137133B (zh) * | 2011-11-29 | 2017-06-06 | 南京中兴软件有限责任公司 | 非激活音信号参数估计方法及舒适噪声产生方法及系统 |
CA2918793C (en) * | 2012-08-27 | 2018-10-09 | Philip A. Warrick | Method and apparatus for monitoring a fetus during labor |
JP2014192819A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-06 | Nec Corp | 光送信装置、光送信方法、及び光送信プログラム |
JP6249205B2 (ja) * | 2013-07-01 | 2017-12-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 給電装置及び給電装置の制御方法 |
US9282907B2 (en) * | 2013-07-23 | 2016-03-15 | Medtronic, Inc. | Identification of healthy versus unhealthy substrate for pacing from a multipolar lead |
US9945796B2 (en) * | 2013-10-15 | 2018-04-17 | Shimadzu Corporation | X-ray fluorescence analysis method and X-ray fluorescence analysis system |
JP2015138667A (ja) * | 2014-01-22 | 2015-07-30 | アルバック・ファイ株式会社 | イオン源、イオン銃、分析装置 |
JP6324501B2 (ja) * | 2014-05-29 | 2018-05-16 | 国立研究開発法人科学技術振興機構 | 逆光電子分光装置 |
KR101681290B1 (ko) * | 2015-07-27 | 2016-12-02 | 한국과학기술연구원 | 중성자 극소각 산란을 이용하여 비정질 금속의 균일도를 판단하는 방법 및 밀도를 측정하는 방법 |
-
2017
- 2017-07-31 JP JP2017147700A patent/JP6851283B2/ja active Active
-
2018
- 2018-07-30 US US16/048,540 patent/US10746675B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10746675B2 (en) | 2020-08-18 |
JP2019027931A (ja) | 2019-02-21 |
US20190041343A1 (en) | 2019-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5320807B2 (ja) | 波長分散型x線分光器 | |
CN110873725B (zh) | X射线分析装置 | |
US10896813B2 (en) | Analysis data processing method and device | |
JP4874697B2 (ja) | 電子プローブx線分析装置及びその動作方法 | |
US9752997B2 (en) | Charged-particle-beam analysis device and analysis method | |
JP6851283B2 (ja) | 画像処理装置、分析装置、および画像処理方法 | |
JP6009975B2 (ja) | 放射線検出装置および試料分析装置 | |
JP2018151179A (ja) | 分析装置および分析方法 | |
JP6576751B2 (ja) | 分析方法およびx線光電子分光装置 | |
JP6009963B2 (ja) | 試料分析方法および試料分析装置 | |
JP2009047586A (ja) | 化学結合状態分析を行うx線分析装置 | |
JP2011038939A (ja) | エネルギー分散型x線分析装置のスペクトルの分類方法及び装置 | |
JP6677571B2 (ja) | 電子分光装置および測定方法 | |
WO2018100873A1 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
EP3770589B1 (en) | Analyzer | |
JP6774813B2 (ja) | 画像処理装置、画像処理方法、および分析装置 | |
CN113655083A (zh) | X射线分析装置和峰搜索方法 | |
JP6318986B2 (ja) | 走査透過型電子顕微鏡像の取得方法及び走査透過型電子顕微鏡 | |
JP6808693B2 (ja) | X線分析装置および計数率の補正方法 | |
EP4148681A1 (en) | Scatter diagram display device, scatter diagram display method, and analyzer | |
JP6637306B2 (ja) | 分析方法および分光装置 | |
JP7153324B2 (ja) | 元素分析方法 | |
JP2002062270A (ja) | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 | |
CN112394079A (zh) | 电子束微区分析仪 | |
JP2018109574A (ja) | 組成分析方法及び組成分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200319 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201216 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6851283 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |