JP6113794B2 - 低放射コーティングを包含する被覆物品、被覆物品を包含する断熱ガラスユニット、及び／又はそれらの製造方法 - Google Patents

Description

本出願は、米国出願番号13/064,066（弁護士事務所書類番号3691-2319）、発明の名称「低放射コーティングを包含する被覆物品、被覆物品を包含する断熱ガラスユニット及び／又はそれらの製造方法（Coated Article Including Low-Emissivity Coating, Insulating Glass Unit Including Coated article, and/or Methods of Making the Same）」、並びに米国出願番号13/064,064（弁護士事務所書類番号3691-2315）、発明の名称「Ｎｉ含有三元合金を含むバリア層、バリア層を包含する被覆物品及びそれらの製造方法（Barrier Layers Comprising Ni-Inclusive Ternary Alloys, Coated Articles Including Barrier Layers, and Methods of Making the Same）」の内容を全て参照として組み込む。

本出願の特定の実施態様例は、低Ｅ（low-E）コーティング内に銀等の材料からなる少なくとも１層の赤外線（infrared、ＩＲ）反射層を包含する被覆物品に関する。特定の実施態様では、前記コーティングのうち少なくとも１層は、ニッケル及び／又はチタン（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ等）からなるか或いはそれらを包含する。特定の実施態様例では、ニッケルチタン及び／又はその酸化物を含む層を供給することで、ＩＲ反射層への良好な接着力と低い可視光吸光度とを有する層を使用できる（その結果、更に可視透過率の高い被覆物品となる）可能性がある。特定の実施態様例では、ニッケルチタン酸化物を含む層を（例えば、バリア層として）ＩＲ反射層の上に及び／又はその下に直接供給すると、化学的及び力学的な耐久性が改善できる可能性もある。したがって、特定の実施態様例では、可視透過率が必要に応じて改善されると同時に、耐久性への影響が小さくなる可能性がある。本明細書における被覆物品は、断熱ガラス（insulating glass、ＩＧ）窓ユニット、自動車の窓、又は単枚ガラス窓用途、積層窓等のような他の好適な用途に使用することができる。

断熱ガラス（ＩＧ）窓ユニット、自動車の窓、単枚ガラス窓等のような窓用途に使用するための被覆物品は当該技術分野において公知である。特定の実施例では、被覆物品の設計者は多くの場合、高い可視透過率、低放射（又は低放射率）及び／又は低いシート抵抗（Ｒ_Ｓ）の組み合わせを得ようと努力している。高い可視透過率は、例えば建築用又は自動車の窓用途のような前記特性が求められる用途において被覆物品を使用可能にするのに対し、低放射（低Ｅ）と低いシート抵抗特性は、例えば自動車又は建物内部の望ましくない加熱を抑制するように前記被覆物品がかなりの量のＩＲ放射を遮断するのを可能にする。したがって、一般に、かなりの量のＩＲ放射を遮断する建築用ガラスに使用されるコーティングには、高い可視スペクトル透過率が求められることが多い。

低Ｅコーティング中のＩＲ反射層はコーティング全体に影響を及ぼすものであり、場合によっては、ＩＲ反射層はスタック中で最も感度の高い層である。残念なことに、銀を含むＩＲ反射層は、堆積プロセスやその後の大気中でのプロセス及び／又は熱処理によって損傷を受ける可能性がある。ある場合では、他の層は銀をベースとする層の上に堆積している間、低Ｅコーティング中の銀をベースとする層を酸素の存在から保護しなければならないこともある。コーティング中のＩＲ反射層が十分に保護されていないと、被覆物品の耐久性、可視透過率及び／又は他の光学特性が影響を受ける可能性がある。

したがって、高い耐久性と高い光学特性又は実質上不変の光学特性とを併せ持つ低Ｅコーティングが必要であることが当業者には分かるであろう。

本発明の特定の実施態様例は、銀を含むＩＲ反射層に関連して使用される改善されたバリア層材料に関する。場合により、改善されたバリア層材料は、被覆物品の耐久性を改善できる可能性がある。

特定の実施態様例は、被覆物品の製造方法に関する。ガラス基板の上に第１誘電体層を配置する。第１誘電体層の上に下部コンタクト層を配置する。第１コンタクト層の上にそれと接触させて赤外線（ＩＲ）反射層を配置する。ＩＲ反射層の上にそれと接触させてＮｉ及びＴｉの酸化物を含む上部コンタクト層を配置する。コーティングの最外層として上部コンタクト層の上に酸化ケイ素及び窒化ケイ素を含む層を配置する。

特定の実施態様例特定の実施態様例は、被覆物品の製造方法に関する。ガラス基板の上に第１誘電体層を配置する。第１誘電体層の上に下部コンタクト層を配置する。下部コンタクト層の上にそれと接触させて赤外線（ＩＲ）反射層を配置する。上部コンタクト層は、ＩＲ反射層の上にそれと接触させて、コーティングの作製中、約１〜５０（重量）％のＮｉおよび約５０〜９９（重量）％のＴｉで構成されるターゲットからニッケル及びチタンをスパッタリングすることにより形成される。

さらに、特定の実施態様例は、前記方法及び／又は他の方法のうちいずれかによって製造された被覆物品及び／又はＩＧユニットにも関する。

本発明の実施態様例による被覆物品の断面図である。 本発明の別の実施態様例による被覆物品の断面図である。 本発明の追加実施態様による被覆物品の断面図である。 本発明のさらに別の実施態様例による被覆物品の断面図である。 本発明のまた別の実施態様例による被覆物品の断面図である。

以下に、図面について詳細に述べるが、いくつかの図面を通して同様の符号は同様の要素を表す。

本明細書における被覆物品は、単枚ガラス窓、ＩＧ窓ユニット、自動車の窓、及び／又はガラス基板のような一枚の若しくは複数枚の基板を包含する他の好適な用途のような被覆物品用途に使用することができる。

前述の通り、ある場合では、低Ｅコーティング中の銀をベースとする層は、後続プロセスの間中保護しなければならない可能性がある。例えば、後続の層を堆積するのに用いられるプラズマ中の酸素を高度にイオン化して、銀をベースとする層を保護しなければならないことがある。また、堆積後の「大気下でのプロセス」では、銀をベースとする層が酸素、水分、酸及び／又は塩基等から攻撃を受け易い可能性もある。このことは、銀をベースとする層と大気との間に位置する層に欠陥があるために、銀をベースとする層が完全に覆われていない場合（例えば、引っ掻き傷、ピンホール等）に特に当てはまる。

さらに、特定の実施態様例では熱処理中に問題が生じる可能性もある。この場合、酸素が銀をベースとする層に拡散する可能性がある。特定の実施態様例では、銀をベースとする層に達した酸素は、シート抵抗を低下させる、放射に影響を与える及び／又は曇りを生じさせる等によって当該層の特性に影響を及ぼして、層スタックによる性能を低下させる可能性もある。

そのため、特定の実施態様例では、低Ｅコーティング中の銀をベースとする層とバリア層とを併用することで、前記の問題及び／又はその他の問題のうち一部又は全ての発生を抑制することがある。

従来、バリア層材料は、場合により、後続の酸化プロセス中に酸化されたＡｌ等の金属薄層で構成されていた。別の場合では、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）をベースとする層も使用した。しかし、このような場合、これらの材料によって層スタック全体の光学特性及び／又は耐久性が損なわれる可能性がある。

ある場合、特に建築業界で使用される低Ｅコーティングを有する被覆物品では、バリア層にクロム等の材料を使用することもある。しかし、特定の実施態様例では、クロムはかなりの量の可視光を吸収する可能性がある。クロムの５５０ｎｍにおける吸光度ｋは０．０３３９４２である。そのため、クロムを含む層が非常に厚い場合及び／又は十分に酸化されていない場合、被覆物品の可視透過率は低下する可能性がある。すなわち、バリアの厚さが不十分な場合、銀を含む層が完全に保護されない可能性がある。

使用できる別のバリア材料はチタンである（例えば、ＴｉＯｘ）。しかし、チタンはＩＲ反射層、特に銀を含むＩＲ反射層との接着力が不足している。そのため、Ｔｉ及び／若しくはその酸化物からなる材料又はそれらから本質的になる材料をバリア層として用いて銀を含む層を保護すると、被覆物品の耐久性が損なわれる及び／又は低下する可能性もある。

以上のことから、銀（及び／又はＩＲ反射層）とバリア材料との間の界面で十分な接着力を発揮する材料を含むバリア層を供給することは、バリア材料の酸化物の可視スペクトル域での吸光度が低い場合に有利であると考えられる。

本発明の特定の実施態様は、コーティングを支持する少なくとも１枚のガラス基材を包含する被覆物品に関する。コーティングは一般に、少なくとも一部のＩＲ放射を反射及び／又は遮断する少なくとも１層の赤外線（ＩＲ）反射層を有する。本発明の別の実施態様では、ＩＲ反射層は銀、金、ＮｉＣr等のような材料であってもよく、又は前記材料を包含していてもよい。多くの場合、ＩＲ反射層はコーティングの少なくとも第１コンタクト層と第２コンタクト層との間に挟持されている。

本発明の特定の実施態様例では、驚くことに、ニッケルチタン及び／又はその酸化物（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ等）から本質的になる層又はそれを含む層を前記コーティング中にコンタクト層として（例えば、ＩＲ反射層と接触させて）供給することで、予想外にも、可視透過率及び／又は色等の被覆物品の他の光学特性をほとんど低下させない形でコーティングの力学的及び化学的な耐久性を改善することが分かった。本発明の別の実施態様では、ニッケル及び／又はチタンを包含する層（特定の実施態様例では、酸化されていてもよい）のうち１層以上を特定のコーティングに供給してもよい。しかも、ニッケル及び／又はチタンを包含する層は、本発明の別の実施態様では（例えば、コンタクト層として）日射調整コーティング又は低Ｅ（低放射又は低放射率）コーティングのどちらのタイプで供給されてもよく、また、本明細書に記載の特定の低Ｅコーティングは、特許請求の範囲に規定していない限り、単に例示を目的とするものである。特定の実施態様例では、ニッケルチタン酸化物を含む層を被覆物品の上部コンタクト層として（例えば、銀をベースとするＩＲ反射層の上に）供給すると、化学的及び力学的な耐久性が改善される。この点における（例えば、コンタクト層としての）ニッケルチタン酸化物層の使用は、驚くことに、被覆物品の化学的及び力学的な耐久性を改善することが分かり、また、被覆物品の可視透過率をも改善する（又は少なくともほとんど低下させない）ことも分かった。

特定の実施態様例では、ニッケルチタン及び／又はその酸化物を含むバリア層を供給してよい。このＮｉとＴｉの組み合わせは、良好な接着力と併せて低い吸光度をも付与する可能性があり、これらは特定の実施態様例ではいずれも低Ｅコーティングにとって好ましい品質である。有利なことに、ニッケルチタン及び／又はその酸化物（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ等）を含むバリア層を提供することで、ＩＲ反射層が十分に保護されていないせいでコーティング特性が劣化することなく、単一ＩＲ放射層（例えば、銀）を含む耐久性のある一体型被覆物品の利用を可能にできる。

図１は、本発明の実施態様例による被覆物品の断面図である。特定の実施態様例では、図１に示す被覆物品は、表面１及び／又は表面２に低Ｅコーティングを有する単枚ガラス窓として使用されてよく、低ＥコーティングにはＩＲ反射層が1層のみ備わっている。しかし、別の実施態様例では、図１の被覆物品は追加の層を含んでいてもよい。さらに、本明細書に記載の実施態様例にしたがって製造された被覆物品は、別の実施態様例及び応用例によれば、表面１、表面２、表面３及び／又は表面４上にコーティングを有する断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）に使用されてもよく、表面２及び／若しくは表面３上に中間層寄りに組み込まれたコーティング又は表面４に暴露されたコーティングを有する一体型積層板に使用されてもよく、表面２及び／若しくは表面３上に中間層寄りに組み込まれたコーティング又は表面４に暴露されたコーティングを有する積層アウトボードを積層したＩＧＵに使用されてもよく、表面３及び／若しくは表面６に暴露された被覆物又は表面４及び／若しくは表面５に組み込まれた被覆物を有する積層インボードを積層したＩＧＵに使用されてもよい。言い換えれば、このコーティングは、一体構造として使用されてもよく、２枚以上の基板を備えたＩＧユニットに使用されてもよく、或いはガラスユニットに２回以上使用されてもよく、また、別の実施態様例では、ユニットのどの表面に供給されてもよい。

被覆物品は、ガラス基板１（例えば、透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の、厚さ１．０〜１０．０ｍｍ、より好ましくは厚さ約１．０ｍｍ〜６．０ｍｍのガラス基板）と、前記基板に直接的に又は間接的に供給された多層コーティング３５（又は層システム）と、を包含する。

図１に示すように、コーティング３５は、任意の誘電体層３及び／又は５と、下部コンタクト層７であって、ニッケル及び／若しくはチタン及び／若しくはそれらの酸化物（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ等）からなっていてよいか又はそれらを包含していてよいもの或いはＺｎ、Ｎｉ、Ｃｒの酸化物及び／若しくは窒化物及び／若しくはこれらの組み合わせ等のような他の好適なコンタクト層からなっていてよいものと、銀、金等のうち１種以上を包含するＩＲ反射層９と、ニッケル及び／若しくはチタン及び／若しくはそれらの酸化物（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ等）或いは別の好適なコンタクト層材料からなる又はそれらを包含する上部コンタクト層１１と、任意の誘電体層１３及び／又は１５と、酸化ケイ素、窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化ジルコニウム、オキシ窒化ジルコニウム又はオキシ窒化ジルコニウムシリコン等の材料からなる又はそれらを包含する誘電体層１６であって、特定の実施例では保護オーバーコートであってよいものと、を備えている。本発明の特定の実施態様例では、他の層及び／又は他の材料を供給してもよく、また、特定の実施例では、特定の各層を削除又は分割してもよい。層１６は、別の実施態様例に従って供給してもよく、又は供給しなくてもよい。

任意の誘電体層３及び／又は５は、窒化ケイ素、酸化チタン、酸化スズ、酸化ケイ素、オキシ窒化ケイ素及び／又は別の実施態様例による他の誘電体材料を含んでいてもよい。

赤外線（ＩＲ）反射層９は、好ましくは実質上又は完全に金属及び／又は導電性であり、銀（Ａｇ）、金又は他の好適なＩＲ反射材料を含んでよく、又は本質的にそれからなってもよい。ＩＲ反射層９は、コーティングに低放射率や低シート抵抗等のような低Ｅ特性及び／又は良好な日射調整特性を発揮させるのに役立つ。しかし、本発明の特定の実施態様では、ＩＲ反射層９は僅かに酸化されていてもよい。

別の実施態様例では、図１に示しかつ本明細書に記載のＩＲ反射層は銀を含んでもよく、又は本質的に銀からなってよい。そのため、特定の実施態様例には銀合金が包含されてもよいことも分かるであろう。このような場合、Ａｇは、好適な量のＺｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｐｄ及び／又はこれらの組み合わせとの合金であってもよい。特定の実施態様例では、Ａｇは、ＰｄとＣｕをそれぞれ約０．５〜２％（重量％又は原子濃度）含む、ＰｄとＣｕとの合金であってよい。他の考えられる合金には、Ａｇと、Ｃｏ、Ｃ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｗ、ＮｉＭｇ、ＰｄＧａ、ＣｏＷ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｖ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｉｒ、Ｒｈ及び／又はＭｏのうち１種以上と、が包含される。一般に、ドーパント濃度は０．２〜５％（重量％又は原子濃度）の範囲、より好ましくは０．２〜２．５％の範囲であってよい。前記範囲内で操作することにより、銀が、そうでなければ合金化によって失われる可能性のあるＡｇをベースとする層の好ましい光学特性を保持するのに役立ち、その結果、スタックの光学特性全体を維持するのに役立つと同時に、化学的耐久性、腐食耐久性及び／又は力学的耐久性を高めるのにも役立つ可能性がある。本明細書で特定される代表的なＡｇ合金ターゲット材料は、単一のターゲットを用いてスパッタリングされてもよく、２種（以上のターゲット）を用いた同時スパッタ法等によって堆積されてもよい。場合により、高い耐食性を付与することに加えてＡｇ合金を使用することにより、高温での銀拡散性を低減するのに役立つと同時に、層スタック内で酸素の移動量を減少させる又は阻止するのに役立つ可能性がある。これにより、銀拡散性が更に向上し、好ましくない耐久性の原因となり得る前記Ａｇの成長特性及び構造特性を変える可能性もある。

上部コンタクト層７及び下部コンタクト層１１は、Ｎｉ及び／若しくはＴｉ並びに／又はそれらの酸化物及び／若しくは窒化物からなっていてもよく、それらを包含していてもよい。特定の実施態様例では、上部コンタクト層７及び下部コンタクト層１１はニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケルチタン（ＮｉＴｉ）及び／又はニッケルクロム（例えば、ＮｉＣr）等のニッケル合金、Haynes合金、亜鉛、又はこれらのうちいずれかの酸化物、窒化物若しくはオキシ窒化物（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ）或いは他の好適な材料からなっていてもよく、それらを包含していてもよい。例えば、前記層のうちの１層は、ＮｉＴｉ（及び／又はその酸化物）の代わりに酸化亜鉛からなっていてもよく、それらの代わりに酸化亜鉛を包含していてもよい。

例えば、特定の実施例では、前記層にＮｉ_ｘＴｉ_ｙ及び／又はＮｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚを使用することによって被覆物品の耐久性及び／又は可視透過率を改善することができる。特定の実施態様例では、完全に酸化されたＮｉＣｒＯｘ層であっても、ＣｒＯｘの吸光度ｋ（５５０ｎｍ）が０．０３３９４２であるために、比較的高い残留吸光度を有する可能性がある。しかし有利なことに、ＴｉＯｘはＣｒＯｘよりも吸光度がかなり低いので、特定の実施態様例では、バリア層にＴｉＯｘを包含することで被覆物品の可視透過率を増加できることも分かった。例えば、ＴｉＯｘの５５０ｎｍでの吸光度は０．００４８０６であるが、これはＣｒＯｘの吸光度の約１０分の１である。そのため、ＣｒＯｘよりも吸光度の低い金属又は金属酸化物をバリア層に使用すると、被覆物品の可視透過率が改善される可能性がある。

しかし、特定の実施態様例では、ＴｉＯｘを含むバリア層はＩＲ反射層に十分に接着しない可能性がある。そのため、ＴｉＯｘのみからなるバリア層を使用すると、被覆物品の耐久性が損害を受ける可能性がある。有利なことに、ＩＲ反射層と十分に接着する材料を包含する合金をＴｉ及び／又はＴｉＯｘと併用することで、Ｔｉ及び／又はＴｉＯｘ（又は吸光度の比較的低い任意の材料）をＣｒ及び／又はＣｒＯｘの代わりに用いても被覆物品の耐久性を損傷しないことが分かった。有利なことに、ＮｉはＩＲ反射層と十分に接着するものと考えられる。そのため、Ｎｉ及びＴｉ並びにそれらの酸化物及び／又は窒化物を包含するバリア層の使用は、有利なことに、改善された可視透過率と好適な耐久性とを有する被覆物品をもたらす可能性がある。

本発明の別の実施態様では、コンタクト層７及びコンタクト層１１（例えば、Ｎｉ及び／又はＴｉからなるか又はそれらを包含するもの）は、ＩＲ反射層全体にわたって連続的であってもよく、又は連続的でなくてもよい。特定の実施態様例では、ＮｉＴｉ層７とＮｉＴｉ層１１の一方又は両方は、Ｎｉを約１〜５０％包含し、また、Ｔｉを約５０〜９９％包含する。一例はＴｉが８０％及びＮｉが２０％である。特定の実施態様例では、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙを含む層は完全に及び／又は部分的に酸化されていてもよい。この酸化は、当該層を堆積したために生じることがあり、又はコンタクト層の堆積後に行われるプロセス、例えば酸素存在下での後続層の堆積や熱処理等が原因である可能性がある。

ただし、Ｎｉ及びＴｉは、酸素の存在にかかわらず前述と同じ比率で含まれていてよい。例えば、ニッケルチタン酸化物を含む層でもやはり、ＮｉとＴｉとの比は約１：９９〜５０：５０であってよい（Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙの割合及び比率は重量基準で示す）。

前述の通り、本発明の特定の態様では、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ層７及び／又はＮｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ層１１は完全に（例えば、完全に化学量論的に）酸化されてもよく、或いは（任意のＨＴ前及び／又はＨＴ後に）部分的にのみ酸化されていてもよい（例えば、準化学量論的であってよい）。他の事例では、層７及び／又は層１１は、金属層として堆積されてもよく、また、酸素存在下での後続層の堆積や熱処理等のような堆積後のプロセス中に完全に又は部分的に酸化されてもよい。場合により、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙ層７及び／又はＮｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ層１１は少なくとも約５０％酸化されてよい。

本発明の別の実施態様では、コンタクト層７及び／又はコンタクト層１１（例えば、Ｎｉ及び／又はＴｉからなるか又はそれらを包含するもの）は酸化勾配がついていてもよく、或いは酸化勾配が付いていなくてもよい。当該技術分野で既知のように、酸化勾配とは層の厚さ方向で酸化度合いが変化することを含むことであるため、例えばコンタクト層では、ＩＲ反射層９と直接隣接する接触界面の方が、直接隣接するＩＲ反射層から一層又は更に／最も離れた部分よりも酸化度合いが低くなるように勾配をつけることもできる。様々な酸化勾配のついたコンタクト層についての記載は、米国特許第6,576,349号に示されており、これにより前記特許の開示内容を参照により本明細書に組み込む。本発明の別の実施多様では、コンタクト層７やコンタクト層１１（例えば、Ｎｉ及び／又はＴｉの酸化物からなるか又はそれらを包含するもの）は、ＩＲ反射層９全体にわたって連続的であってもよく、又は連続的でなくてもよい。

他の実施態様例では、ＩＲ反射層の下位にあるコンタクト層（例えば、下部コンタクト層７）は、亜鉛及び／又はその酸化物からなってもよく、或いはそれらを包含していてもよい。

本発明の特定の実施態様例では、任意の誘電体層１３及び／又は任意の誘電体層１５は、窒化ケイ素（例えば、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ）、或いは酸化チタン、酸化スズ、オキシ窒化ケイ素及び／又は酸化ケイ素等の任意の他の好適な材料からなっていてもよく、又はそれを包含してもよい。前記層は、耐久性問題に役立つか及び／又は下位の層を保護する可能性があり、しかも場合によっては、任意に反射防止目的で保護する可能性もある。

例えば、酸化ジルコニウムを包含する任意のオーバーコート層１６が包含されていてもよい。米国出願番号12/213,879には、オーバーコートとして酸化ジルコニウムを使用する利点が記載されており、前記出願を参照により本明細書に組み込む。他の実施態様例では、任意のオーバーコート層１６は窒化ケイ素、酸化ケイ素及び／又はオキシ窒化ケイ素からなってもよく、或いはこれらを包含していてもよい。また、更に別の実施態様例では、任意のオーバーコート１６が他のジルコニウム含有化合物を包含していてもよい。

特定の実施態様例では、図１に示す被覆物品は、単一のＩＲ反射層を含む低Ｅコーティングを有する単枚ガラス窓として使用されてよい。また一方、他の実施態様例では、本明細書に記載の被覆物品はＩＲ反射層を何層使用してもよく、ガラス基板を何枚組み合わせて積層型ガラスユニット及び／又は断熱ガラスユニットを形成してもよい。別の実施態様例によれば、前記コーティングはＩＧＵ、ＶＩＧ、自動車のガラス及び他の用途と関連して使用することも可能である。

図２は、単一のＩＲ反射層を含む低Ｅコーティング３５'の別の実施態様例である。図２の実施態様では、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚをベースとする層を上部コンタクト層及び下部コンタクト層として使用している。さらに図２では、窒化ケイ素をベースとする層を誘電体層３として使用しているが、誘電体層５は含まれていない。図２の実施態様では、誘電体層１３は窒化ケイ素を含み、そしてオーバーコート層１６は、誘電体層１３が（例えば、下位の層を保護する等によって）オーバーコート層目的を果たすのに役立つ可能性があるので含まれていない。特定の実施態様例では、図２の被覆物品は、可視透過率が改善された可能性があり、また、化学的耐久性及び力学的耐久性も改善された並びに／又は実質上影響を受けなかった可能性がある。

特定の実施例では、図２の実施態様例のシート抵抗は約１１．１５Ω／平方であってよい。しかし、当業者には周知の通り、シート抵抗及び／又は放射率は、特に、Ａｇをベースとする層の厚さを調節することによって調節してもよい。

言い換えると、特定の実施態様例では、一層のＩＲ反射層を有する一体型被覆物品の堆積直後の可視透過率は少なくとも約５５％、好ましくは少なくとも約６０％、更に好ましくは少なくとも約６５％であってよく、場合により少なくとも約６７％であってもよい。熱処理後の一体型被覆物品の可視透過率はそれよりも高い可能性があり、例えば、少なくとも約６０％、より好ましくは約６５％以上であってよく、透過率の一例としては約７０％であってもよい。

特定の実施態様例では、コーティング直後の前記物品は、ａ^＊値が約０〜５、更に好ましくは約１〜４、一例として約３．５のガラス面を有していてよい。特定の実施態様例では、コーティング直後の前記物品は、ｂ^＊値が約０〜１０、更に好ましくは約１〜７、一例として約６．７のガラス面を有していてよい。場合により、コーティング直後の物品は、ａ^＊値が約０〜５、更に好ましくは約１〜４、一例として約３．７のフィルム面を有していてよい。他の実施態様例では、物品は、ｂ^＊値が約−１０〜１、更に好ましくは約−８〜−２、一例として約−７．１８のフィルム面を有していてもよい。

特定の実施態様例では、熱処理（表２中、「ＨＴ」で示す）後の前記物品は、ａ^＊値が約０〜１０、更に好ましくは約１〜８、一例として約７．２５のガラス面を有していてよい。コーティング直後の前記物品は、ｂ^＊値が約０〜１０、更に好ましくは約１〜９、一例として約８．１４のガラス面を有していてよい。場合により、コーティング直後の物品は、ａ^＊値が約０〜８、更に好ましくは約１〜６、一例として約５．９２のフィルム面を有していてもよい。他の実施態様例では、物品は、ｂ^＊値が約−８〜１、更に好ましくは約−６〜−２、一例として約−４．９のフィルム面を有していてもよい。

図３は、単一のＩＲ反射層を含む低Ｅコーティング３５"の別の実施態様例である。図３は図１及び図２の実施態様と同様であるが、図３の実施態様ではＮｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚをベースとする層を上部コンタクト層１１として使用し、また、酸化亜鉛をベースとする層を下部コンタクト層７として使用している。さらに図３では、窒化ケイ素をベースとする層を誘電体層３として使用しているが、誘電体層５は含まれていない。図３の実施態様では、誘電体層１３は窒化ケイ素を含む。特定の実施態様例では、図３の被覆物品は、化学的及び力学的耐久性が改善した及び／又は影響を受けていない可能性があり、しかも可視透過率が向上した可能性もある。

図４は、本発明の実施態様例による被覆物品の断面図である。特定の実施態様例では、図４に示す被覆物品は、２枚のＩＲ反射層を含む低Ｅコーティングを有する単枚ガラス窓として使用してよい。被覆物品は、ガラス基板１（例えば、透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の、厚さ１．０〜１０．０ｍｍ、好ましくは厚さ約１．０ｍｍ〜６．０ｍｍのガラス基板）と、前記基板に直接的に又は間接的に供給された多層コーティング（又は層システム）と、を包含する。図１と同様に、図４のコーティング４５は、任意の誘電体層３及び／又は誘電体層５と、第１下部コンタクト層７と、銀又は金等を包含する又はこれらからなる第１ＩＲ反射層９と、ニッケルチタン酸化物（例えば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚ）からなる又はこれを包含する第１上部コンタクト層１１と、任意の誘電体層１３及び／又は任意の誘電体層１５（例えば、窒化ケイ素からなる又はこれを包含するもの）と、第２下部コンタクト層１７と、第２ＩＲ反射層１９と、第２上部コンタクト層２１と、任意の誘電体層２３及び／又は任意の誘電体層２５と、特定の実施例では保護オーバーコートであり得る窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化ジルコニウム、オキシ窒化ジルコニウム若しくはオキシ窒化ジルコニウムシリコンのような材料からなる又はこれを包含する任意の誘電体層１６と、を含んでいる。本発明の特定の実施態様例では、他の層及び／又は他の材料を供給してもよく、また、特定の実施例では、特定の層を削除又は分割してもよい。

特定の実施態様例では、コンタクト層７、コンタクト層１１、コンタクト層１７及びコンタクト層２１のうちの１層だけがニッケルチタン並びに／又はその酸化物及び／若しくは窒化物を含んでいてもよい。更なる実施態様性では、上部コンタクト層はＮｉ_ｘＴｉ_ｙ及び／又はＮｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚからなっても又はそれらを包含していてもよく、また一方、下部コンタクト層は亜鉛、ニッケル、クロム、チタンの酸化物及び／若しくは窒化物並びに／又はこれら材料の組み合わせからなっても或いはこれらを包含していてもよい。しかし他の実施態様例では、コンタクト層のうち２層以上或いは全てがニッケルチタン並びに／又はその酸化物及び／若しくは窒化物からなっても或いはこれらを含んでいてもよい。

図５は、本発明の更に別の実施態様例による被覆物品の断面図である。特定の実施態様例では、図５に示す被覆物品は３層のＩＲ反射層（例えば、３重銀層スタック）を包含していてよい。被覆物品は、ガラス基板１（例えば、透明な、緑色の、ブロンズ色の又は青緑色の、厚さ１．０〜１０．０ｍｍ、好ましくは厚さ約１．０ｍｍ〜６．０ｍｍのガラス基板）と、前記基板に直接的に又は間接的に供給された多層コーティング５５（又は層システム）と、を包含する。

特定の実施態様例では、図５のコーティング５５は、窒化ケイ素からなる又はそれを包含する任意の誘電体層３と、酸化チタンからなる又はそれを包含する任意の誘電体層５と、亜鉛酸化物からなる又はこれを包含する下部コンタクト層７と、銀からなる又はこれを包含するＩＲ反射層９と、Ｎｉ及び／若しくはＣｒ又はそれらの酸化物からなる或いはこれを包含する上部コンタクト層１１と、酸化チタンからなる又はこれを包含する任意の誘電体層１２と、酸化スズからなる又はこれを包含する任意の誘電体層１３と、窒化ケイ素（或いは他のケイ素含有材料又は他の材料）からなる或いはこれを包含する誘電体層１４と、酸化スズからなる又はこれを包含する誘電体層１５と、酸化亜鉛からなる又はこれを包含する第２の下部コンタクト層１７と、銀からなる又はこれを包含する第２のＩＲ反射層１９と、ニッケル及び／若しくはチタン又はそれらの酸化物からなる或いはこれらを包含する第２の上部コンタクト層２１と、酸化スズからなる又はこれを包含する誘電体層２３と、窒化ケイ素（或いは他のケイ素含有材料又は他の材料）からなる或いはこれを包含する誘電体層２４と、酸化スズからなる又はこれを包含する誘電体層２４と、酸化亜鉛からなる又はこれを包含する第３の下部コンタクト層２７と、銀からなる又はこれを包含する第３のＩＲ反射層２９と、Ｎｉ及び／若しくはＴｉ又はこれらの酸化物からなる或いはこれを包含する第３の上部コンタクト層３１と、酸化スズからなる又はそれを包含する誘電体層３２と、窒化ケイ素からなる又はそれを包含する誘電体層１６であって、特定の実施例では保護オーバーコートであり得るものと、を含んでいてよい。本発明の特定の実施態様例では、他の層及び／又は材料を供給してもよく、また、特定の実施例では、特定の層を削除又は分割してもよいと考えられる。さらに、他の実施態様例では、上部コンタクト層１１、上部コンタクト層２１及び／又は上部コンタクト層３１のうち１層以上は、ニッケルチタン酸化物よりもむしろニッケルクロム及び／又はその酸化物を含んでいてよい。その上、層７、層１１、層１７、層２１、層２７及び／又は層３１はいずれも、ニッケル、チタン、クロム、亜鉛、これらの組み合わせ／合金からなっていても又はこれらを包含していてもよく、しかも酸素及び／又は窒素を包含していてもよい。したがって、本発明の別の実施態様では、上部コンタクト層１１、上部コンタクト層２１及び／又は上部コンタクト層３１のうちいずれか又は全てがＮｉ及び／又はＴｉを包含する層（例えば、ＮｉＴｉＯｘを含む層）であってよい。

ＮｉＴｉＯｘを含む層は、ＮｉＴｉＯｘが良好な銀品質を保持しながら総放射率の低下に役立つ可能性があるので、高性能コーティングの供給に役立つ可能性がある。さらに、先に示唆した通り、前記層中のＮｉは耐久性問題に役立つ可能性があり、また一方、Ｔｉは透過率に役立つ可能性がある。特定の実施態様例ではＮｉＴｉＯｘをＴｉ金属又はＴｉＯｘに置き換えてもよいことに注意する。

特定の実施態様例では、ＮｉＴｉＯｘを含む層は、堆積されて僅かに酸化された金属又は金属であってよく、またその後、後続の処理によって（例えば、後続の堆積層のスパッタリング中に）後で実質上完全に酸化されてもよい。特定の実施態様例では、ＮｉＴｉＯｘもまた堆積直後の状態のまま勾配がついていてもよい。
厚さの例

特定の実施態様例では、最上部のＡｇをベースとする層が層スタックの中で最も厚い。この配置はコーティングの放射率を高めるのに役立つことが分かった。また、特定の実施態様例では、中間のＡｇをベースとする層は最上部のＡｇをベースとする層よりも薄いが、これは、改善された放射率を維持するのに役立つと同時に、それ自体が軸外の色彩安定性を改善することで高い可視透過率を付与するのに役立つことも分かった。

驚くことに、しかも予想外のことに、酸化チタンを含む第２の層１２を中間の下部誘電体層スタックに導入すると、下位のＡｇをベースとする層９の品質が改善されることが分かった。これは、Ａｇをベースとする第１の層９に直接隣接する下位の第１コンタクト層１１の妨げとなる酸化スズが、層１３からほとんど生じないためであると考えられる。

さらに、本発明の特定の積層実施態様例では、倍強化又は焼き戻し処理を行うのに十分な程度まで任意に熱処理し、しかも別のガラス基板と結合してＩＧユニットを形成した本明細書の被覆物品は、以下のＩＧユニット光学／日射特性を有する可能性がある。

ＩＧユニットにおいて、例えばＮｉＴｉＯｘを使用すると、有利なことに、高いＬＳＧ値を得ることができる。例えば、特定の実施例では、２．１５以上のＬＳＧが得られるが、ＮｉＴｉＯｘを包含する層を併用せずにＮｉＣｒをベースとする層のみを使用すると、ＬＳＧ値は約２．１以下となる可能性がある。当業者には分かるように、高いＬＳＧ値は好都合である。というのも、低いＳＨＧＣと関連して高い可視透過率につながり、その結果、熱を遮断しかつ光を通すためである。

図５の実施態様例は、焼きなまし処理後の製品に使用するのに特に最適である。熱処理可能な実施態様では、改良を加えてもよく、又は改良しなくてもよい。例えば、熱処理可能な実施態様例では、ＴｉＯｘを包含する層５及び／又はＴｉＯｘを包含する層１２のうち一方又は両方を削除してよい。別の実施例として、熱処理可能なコーティングでは、ＳｉＮを含む層１４、ＳｉＮを含む層２４及びＳｉＮを含む層１６のうち一部又は全てが、焼きなまし処理後の同等物よりも多くの金属を含むように作製してもよい。さらにまた、ＮｉＴｉＯｘを含む層のうち一部又は全てを、ＮｉＣｒ又はその酸化物を含む層で置き換えてもよい。下記の表は、改良された点を除いて図５に示すものと同様の熱処理可能な被覆物品における材料／厚さの例を表す。

さらに、熱処理後の実施態様例では、ＳｎＯを含む１層以上の「接着剤」層は、厚さを減少させてもよく、及び／又は完全に削除してもよい。このような場合、ＳｎＯを含む下位の層の厚さを増加させるのが好ましいことがある。例えば、層１５及び／又は層２５は、厚さを（例えば、約１５ｎｍから約１０ｎｍへと）減少させてもよく、及び／又は完全に削除してもよい。それに応じて、層１３及び／又は層２３の厚さも増加させてよい。厚さの増加量は約８〜１２ｎｍであってよい。したがって、特定の実施態様例では、層１５の減少後の厚さは約８〜１２ｎｍ、更に好ましくは９〜１１ｎｍであってよく、場合により約１０ｎｍであってもよく、また一方、層１３の増加後の厚さは約４０．９〜６１．３ｎｍ、更に好ましくは４６〜５６．２ｎｍであってよく、場合により約５１．１ｎｍであってもよい。同様に、層２５の減少後の厚さは約８〜１２ｎｍ、更に好ましくは９〜１１ｎｍであってよく、場合により約１０ｎｍであってもよく、また一方、層２３の増加後の厚さは約４０．６〜６１ｎｍ、更に好ましくは４５．７〜５５．９ｎｍであってよく、場合により約５０．８ｎｍであってもよい。これに加えて又は或いは、中間の誘電体層スタックのうち１層以上がＺｎＳｎＯを含む層を包含していてもよい。この層は、例として、（例えばＺｎ又はＺｎＯターゲットとＳｎ又はＳｎＯとの）同時スパッタ法で形成されてもよい。ＳｎＯを含む層の代わりに又はそれに加えて、ＺｎＳｎＯを包含する層をその片側またはその両側に供給してもよい。

下記の表には、焼きなまし処理後の状態の図５の実施態様例に関する性能データと、図５の実施態様例の改良版であって、ＴｉＯｘを含む層５及びＴｉＯｘを含む層１２を含まずかつ被覆物品を、例えば上記の表に従って、６．０ｍｍの透明なフロートガラス上に配置したときに熱処理したものに関する性能データと、が包含されている。当然、別の実施態様では、別の厚さの基板及び／又は別の組成の基板を使用してもよい。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、好ましい範囲が同一又は同様であってよいことが分かるであろう。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、性能はほぼ同等であるが、透過率に関しては熱処理後の実施態様が焼きなまし処理後の実施態様より優れていることも分かるであろう。

下記の表には、焼きなまし処理後の状態の図５の実施態様例で示す被覆物品を収容したＩＧユニットに関する性能データと、ＴｉＯｘを含む層５及びＴｉＯｘを含む層１２を含まずかつ被覆物品を熱処理した図５の実施態様例の改良版であって、例えばＩＧユニットの表面２にコーティングを配置したものに関する性能データと、が包含されている。下記の表中の実施例には、空気で満たされた１２ｍｍの間隙で分離された６．０ｍｍの第１基板と６．０ｍｍの第２基板とが包含されている。当然、別の実施態様では、別の厚さの基板、別の組成の基板、別の間隙寸法、別のガス等を使用してもよい。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、好ましい範囲が同一又は同様であってよいことが分かるであろう。焼きなまし処理後の実施態様と熱処理後の実施態様とでは、性能はほぼ同等であるが、透過率に関しては熱処理後の実施態様が焼きなまし処理後の実施態様より優れていることも分かるであろう。

上記表４及び表５の光学データは、Ill.測定装置「Ｃ」（２段階）で収集した。熱性能データは、ＮＦＲＣ２００１に従って収集した。

特定の実施態様例では、ニッケルチタンをベースとする層は、金属ターゲットをスパッタリングすることによって堆積してよい。場合により、ターゲットはニッケル２０重量％とチタン８０重量％とから構成されていてよい。他の実施態様例では、金属ターゲットは、ニッケル５０重量％とチタン５０重量％とから構成されてよい。特定の実施態様例では、ニッケルとチタンからなる又はそれらを包含するスパッタ用金属ターゲットは、Ｎｉを約１〜５０％（及びその間の部分的な範囲全て）、更に好ましくはＮｉを約２〜５０％（及びその間の部分的な範囲全て）、最も好ましくはＮｉを約５〜５０％（及びその間の部分的な範囲全て）包含していてよい（割合は全て重量％である。）。特定の実施態様例では、ニッケルとチタンからなる又はそれらを包含するスパッタ用金属ターゲットは、Ｔｉを約５０〜９９％（及びその間の部分的な範囲全て）、更に好ましくはＴｉを約５０〜９８％（及びその間の部分的な範囲全て）、最も好ましくはＴｉを約８０〜９５％（及びその間の部分的な範囲全て）包含していてよい（割合は全て重量％である。）。

なお更なる実施態様例では、ニッケルチタンをベースとする層は、２種以上のスパッタ用ターゲットによって堆積してよい。場合により、Ｎｉ金属ターゲットとＴｉ金属ターゲットが存在していてよい。特定の実施例では、Ｎｉ及び／又はＴｉをベースとする層は、１種以上の希ガス及び／又は反応性ガスの存在下でスパッタリング蒸着してもよい。特定の実施態様例では、Ｎｉ及びＴｉを少なくともアルゴンと酸素の存在下で堆積してよい。他の実施態様例では、１種以上のターゲットはセラミックであってよい。例えば、バリア層は、ニッケルを含む少なくとも１種の金属ターゲットとチタン酸化物を含むセラミックターゲット、及び／又はチタンを含む金属ターゲットとニッケル酸化物を含むセラミックターゲットを用いて堆積してもよい。その上、なお更なる実施態様例では、１種、２種又はそれ以上のセラミックターゲットを用いてニッケルチタン酸化物を含む層を堆積してもよい。

特定の実施態様例では、一部のコンタクト層のみがＮｉ及び／若しくはＴｉ並びに／又はこれらの酸化物及び窒化物を含んでいてもよい。他の実施態様例では、他のコンタクト層は、Ｎｉ及び／若しくはＣｒ並びに／又はこれらの酸化物及び窒化物を含んでいてよい。更なる実施態様例では、他のコンタクト層は亜鉛及び／又はその酸化物を含んでいてもよい。

有利なことに、ニッケルチタン及び／又はその酸化物をベースとするコンタクト層を使用すると、光学特性を犠牲にすることなく被覆物品の力学的及び化学的な耐久性が向上することが分かったので、一体型の事例では単一銀層スタック（例えば、銀からなる層を１層のみ含む低Ｅコーティング）をガラス基板の表面１及び／又は表面２の上に使用してもよい（例えば、前記コーティングは内側を向いていても又は外側を向いていてもよい）。ただし、本発明はこれに限定されず、別の実施態様例によれば、Ｎｉ_ｘＴｉ_ｙＯ_ｚバリア層を包含する低Ｅコーティングを任意の表面上に任意の配置で使用してもよい。

特定の実施態様例では低Ｅコーティングについて説明してきたが、本明細書に記載のＮｉ及び／又はＴｉを包含する層は、多種多様なコーティングと関連して使用してもよい。

特定の実施態様例では、本明細書に記載の被覆物品（例えば、図１〜５参照）は熱処理（例えば、焼き戻し処理）してもしなくてもよい。本明細書で使用するとき、「熱処理」及び「熱処理すること」という用語は、ガラスを包含する物品の焼き戻し処理及び／又は倍強化処理が達成されるのに十分な温度まで物品を加熱することを表す。この定義には、例えば、被覆物品をオーブン又は炉内で少なくとも約５５０℃、より好ましくは少なくとも約５８０℃、更に好ましくは少なくとも約６００℃、一層好ましくは少なくとも約６２０℃、最も好ましくは少なくとも約６５０℃において焼き戻し処理及び／又は倍強化処理を行うのに十分な時間加熱することが包含される。これは、特定の実施態様例では、少なくとも約２分間、又は約１０分以下であってよい。

上述の通り、特定の実施対応例は、ガラス基板で支持された低Ｅコーティングが包含され得る。この被覆物品は、別のガラス基板若しくは他の基板と一体化してもよく、又はそれらに積層してもよい。被覆物品はまた、断熱ガラス（ＩＧ）ユニットに内蔵してもよい。ＩＧユニットは一般に実質上平行に間隔を空けた第１ガラス基板と第２ガラス基板とを備えている。基板の周囲にシールを供給して、基板間の間隙（Ａｒ、Ｘｅ及び／又はＫｒ等の不活性ガスで少なくとも部分的に満たされていてよい）を保持する。

特定の実施態様例では、本明細書に示しかつ説明した被覆物品又は同様の被覆物品を、さらに別のガラスシートに積層してもよい。特定の実施では、ポリマーをベースとする中間層を使用してよい。別の実施態様では、例えば、ＰＶＢ、ＥＶＡ等のような材料を使用してもよい。このような場合、コーティングは、結果として生じる積層物品の基板間（例えば、表面２又は表面３の上）に供給してよい。

本明細書に記載の層のうち一部又は全ては、スパッタリング蒸着又は例えばＣＶＤや燃焼堆積等のような任意の他の好適な技法によって配置してよい。例えば、Ｎｉ及びＴｉを含む層の例は、１種以上のスパッタ用ターゲットをスパッタリング蒸着されてもよい。スパッタ用ターゲットには、Ｎｉ約１〜５０％とＴｉ約５０〜９９％とを、更に好ましくはＮｉ約５〜４０％とＴｉ約６０〜９５％とを、また更に好ましくはＮｉ約１０〜３０％とＴｉ約７０〜９０％とを包含されていてよい。特定の実施態様例では、スパッタ用ターゲット中のＮｉ：Ｔｉ比は約２０：８０であってよい。別の実施態様では、他のＮｉ：Ｔｉ比も利用可能であり、例えば９５／５、７５／２５、５０／５０、２５／７５、２０／８０．１０／９０等が挙げられる。本明細書では、前記範囲の部分的な範囲も考慮する。しかも前記割合／比率は、層が完全に又は部分的に酸化されていても又は酸化されていなくても（例えば、金属製であっても）層内のＮｉ及び／又はＴｉの量に適用できることが分かるであろう。

本明細書に開示した材料例は、低Ｅ、結露防止及び／又は他の用途と関連して使用されてよい。低Ｅコーティング及び／又は結露防止コーティングの例は、例えば、出願番号12/926,714、同12/923,082、同12/662,894、同12/659,196、同12/385,234、同12/385,802、同12/461,792、同12/591,611及び同12/654,594に記載されており、これにより、これらの内容を全て参照として本明細書に組み込む。したがって、特定の実施態様例では、本明細書に記載の1種以上のバリア層材料は、前記コーティング中及び／又は他の種類のコーティング中の１層以上のＮｉ及び／又はＣｒを含む層で置き換えても又はそれらを追加してもよい。

本明細書で使用するとき、「上に（ある）」、「によって支持されている」等の用語は、特に明記されていない限り、２つの要素が互いに直接隣り合っていることを表すものではないと解釈すべきである。言い換えると、第１層と第２層の間に層が１つ以上存在していても、第１層は第２層の「上に」ある又は第２層「によって支持されている」ということができる。

本発明は、現在最も実用的で好ましい実施形態であると考えられるものについて記載してきたが、本発明は、開示した実施態様に限定されるものではなく、それどころか、特許請求の範囲の主旨及び範囲に包含される様々な変更及び同等の配置を網羅するものであると解されるべきである。

Claims (25)

1. 基板上に少なくとも１層の第１誘電体層を配置する工程と、
   前記少なくとも１層の第１誘電体層の上にＡｇを含む第１の層を配置する工程と、
   前記Ａｇを含む第１の層の上にそれと接触させてＮｉ及び／又はＣｒを含む層を配置する工程と、
   前記Ｎｉ及び／又はＣｒを含む層の上に少なくとも１層の第２誘電体層を配置する工程と、
   前記少なくとも１層の第２誘電体層の上にＡｇを含む第２の層を配置する工程と、
   前記Ａｇを含む第２の層の上にそれと接触させてＮｉ及びＴｉを含む第１の層を配置する工程と、
   前記Ｎｉ及びＴｉを含む第１の層の上に少なくとも１層の第３誘電体層を配置する工程と、
   前記少なくとも１層の第３誘電体層の上にＡｇを含む第３の層を配置する工程と、
   前記Ａｇを含む第３の層の上にそれと接触させてＮｉ及びＴｉを含む第２の層を配置する工程と、
   前記Ｎｉ及びＴｉを含む第２の層の上に少なくとも１層の第４誘電体層を配置する工程と、
   を含み、
   前記Ｎｉ及びＴｉを含む第１の層並びに前記Ｎｉ及びＴｉを含む第２の層の少なくとも一方におけるＮｉとＴｉの重量比がＮｉ：Ｔｉ＝１０：９０〜３０：７０である
   ガラス基板で支持されたコーティングを包含する被覆物品の製造方法。
2. 前記Ａｇを含む第３の層が前記Ａｇを含む第２の層よりも厚い、
   請求項１に記載の被覆物品の製造方法。
3. 前記少なくとも１層の第２誘電体層がＴｉ酸化物を含む層を包含する、
   請求項１又は２に記載の被覆物品の製造方法。
4. 前記少なくとも１層の第１誘電体層、前記少なくとも１層の第２誘電体層及び前記少なくとも１層の第３誘電体層がそれぞれ、前記Ａｇを含む第１の層、前記Ａｇを含む第２の層及び前記Ａｇを含む第３の層の下位にあって、それらと直接接触している亜鉛を含む層を包含する、
   請求項１から３のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
5. 前記コーティングの最外層として、ケイ素を包含する第１の層を配置する工程を更に含む、
   請求項１から４のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
6. 前記少なくとも１層の第１誘電体層内の最下層として、ケイ素を包含する第２の層を更に含む、
   請求項５に記載の被覆物品の製造方法。
7. 前記ケイ素を包含する第１の層及び前記ケイ素を包含する第２の層が窒化ケイ素を含む、
   請求項６に記載の被覆物品の製造方法。
8. 前記コーティングのシート抵抗が１．２Ω／平方以下である、
   請求項１から７のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
9. 前記被覆物品の可視透過率が少なくとも６５％である、
   請求項１から８のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
10. 前記Ｎｉ及び／又はＣｒを含む層がＮｉとＴｉの両方又はそれらの酸化物を包含する、
    請求項１から９のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
11. 基板上に少なくとも１層の第１誘電体層を配置する工程と、
    前記少なくとも１層の第１誘電体層の上にＡｇを含む第１の層を配置する工程と、
    前記Ａｇを含む第１の層の上にそれと接触させてＮｉ及び／又はＣｒを含む層を配置する工程と、
    前記Ｎｉ及び／又はＣｒを含む層の上に少なくとも１層の第２誘電体層を配置する工程と、
    前記少なくとも１層の第２誘電体層の上にＡｇを含む第２の層を配置する工程と、
    前記Ａｇを含む第２の層の上にそれと接触させてＮｉ及び／又はＴｉを含む第１の層を配置する工程と、
    前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第１の層の上に少なくとも１層の第３誘電体層を配置する工程と、
    前記少なくとも１層の第３誘電体層の上にＡｇを含む第３の層を配置する工程と、
    前記Ａｇを含む第３の層の上にそれと接触させてＮｉ及び／又はＴｉを含む第２の層を配置する工程と、
    前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第２の層の上に少なくとも１層の第４誘電体層を配置する工程と、
    を含み、
    前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第１の層並びに前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第２の層の少なくとも一方におけるＮｉとＴｉの重量比がＮｉ：Ｔｉ＝１０：９０〜３０：７０であり、
    前記Ａｇを含む第３の層がＡｇを含む第２の層よりも厚い、
    ガラス基板によって支持されたコーティングを包含する熱処理可能な被覆物品の製造方法。
12. 前記少なくとも１層の第１誘電体層、前記少なくとも１層の第２誘電体層及び前記少なくとも１層の第３誘電体層がそれぞれ、前記Ａｇを含む第１の層、前記Ａｇを含む第２の層及び前記Ａｇを含む第３の層の下位にあって、それらと直接接触している亜鉛を含む層を包含する、
    請求項１１に記載の被覆物品の製造方法。
13. 前記コーティングの最外層としてケイ素を包含する第１の層を配置する工程を更に含む、
    請求項１１又は１２に記載の被覆物品の製造方法。
14. 前記少なくとも１層の第１誘電体層内の最下層として、ケイ素を包含する第２の層を配置する工程を更に備え、そして前記ケイ素を包含する第１の層及び前記ケイ素を包含する第２の層が窒化ケイ素を含む、
    請求項１３に記載の被覆物品の製造方法。
15. 熱処理後の前記コーティングのシート抵抗が１．０以下であり、また、前記被覆物品の可視透過率が少なくとも６５％である、
    請求項１１から１４のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
16. 前記コーティングが上に配置された前記被覆物品を熱処理する工程を更に含む、
    請求項１１から１５のいずれか１項に記載の被覆物品の製造方法。
17. 断熱ガラス（insulated glass、ＩＧ）ユニットの製造方法であって、
    請求項１から１６のいずれか１項に記載の方法に従って製造された被覆物品を提供する工程と、
    前記被覆物品との間に間隙を形成するように、前記被覆物品と実質上平行に間隔を空けて第２基板をセットする工程と、
    前記被覆物品と前記第２基板との間にエッジシールを供給する工程と、
    を含み、
    前記被覆物品の前記コーティングが前記ＩＧユニットの表面２又は表面３の上に供給される、
    断熱ガラス（insulated glass、ＩＧ）ユニットの製造方法。
18. 前記ＩＧユニットのＬＳＧが２．１５以上である、
    請求項１７に記載の断熱ガラスユニットの製造方法。
19. 前記第２基板と前記被覆物品の前記基板の厚さがそれぞれ６ｍｍであり、そして前記被覆物品と前記第２基板との間の間隙が１２ｍｍである、
    請求項１７又は１８に記載の断熱ガラスユニットの製造方法。
20. ガラス基板と、
    前記ガラス基板上の少なくとも１層の第１誘電体層と、
    前記少なくとも１層の第１誘電体層の上のＡｇを含む第１の層と、
    前記Ａｇを含む第１の層の上にありかつそれと接触しているＮｉ及び／又はＣｒを含む層と、
    前記Ｎｉ及び／又はＣｒを含む層の上の少なくとも１層の第２誘電体層と、
    前記少なくとも１層の第２誘電体層の上のＡｇを含む第２の層と、
    前記Ａｇを含む第２の層の上にありかつそれと接触しているＮｉ及びＴｉを含む第１の層と、
    前記Ｎｉ及びＴｉを含む第１の層の上の少なくとも１層の第３誘電体層と、
    前記少なくとも１層の第３誘電体層の上のＡｇを含む第３の層と、
    前記Ａｇを含む第３の層の上にありかつそれと接触しているＮｉ及びＴｉを含む第２の層と、
    前記Ｎｉ及びＴｉを含む第２の層の上の少なくとも１層の第４誘電体層と、
    を備え、
    前記Ｎｉ及びＴｉを含む第１の層並びに前記Ｎｉ及びＴｉを含む第２の層の少なくとも一方におけるＮｉとＴｉの重量比がＮｉ：Ｔｉ＝１０：９０〜３０：７０である
    被覆物品。
21. 前記被覆物品のシート抵抗が１．２Ω／平方以下である、
    請求項２０に記載の被覆物品。
22. 前記被覆物品の可視透過率が少なくとも６５％である、
    請求項２０又は２１に記載の被覆物品。
23. 前記Ａｇを含む第３の層がＡｇを含む第２の層よりも厚い、
    請求項２０から２２のいずれか１項に記載の被覆物品。
24. 前記少なくとも１層の第２誘電体層がＴｉ酸化物を含む層を包含する、
    請求項２０から２３のいずれか１項に記載の被覆物品。
25. ガラス基板と、
    前記ガラス基板上の少なくとも１層の第１誘電体層と、
    前記少なくとも１層の第１誘電体層の上のＡｇを含む第１の層と、
    前記Ａｇを含む第１の層の上にありかつそれと接触しているＮｉ及び／又はＣｒを含む層と、
    前記Ｎｉ及び／又はＣｒを含む層の上の少なくとも１層の第２誘電体層と、
    前記少なくとも１層の第２誘電体層の上のＡｇを含む第２の層と、
    前記Ａｇを含む第２の層の上にありかつそれと接触しているＮｉ及び／又はＴｉを含む第１の層と、
    前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第１の層の上の少なくとも１層の第３誘電体層と、
    前記少なくとも１層の第３誘電体層の上のＡｇを含む第３の層と、
    前記Ａｇを含む第３の層の上にありかつそれと接触しているＮｉ及び／又はＴｉを含む第２の層と、
    前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第２の層の上の少なくとも１層の第４誘電体層と、
    を備え、
    前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第１の層並びに前記Ｎｉ及び／又はＴｉを含む第２の層の少なくとも一方におけるＮｉとＴｉの重量比がＮｉ：Ｔｉ＝１０：９０〜３０：７０であり、
    前記Ａｇを含む第３の層がＡｇを含む第２の層よりも厚い、
    被覆物品。

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