CN109734331A - 一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法 - Google Patents
一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109734331A CN109734331A CN201910191156.5A CN201910191156A CN109734331A CN 109734331 A CN109734331 A CN 109734331A CN 201910191156 A CN201910191156 A CN 201910191156A CN 109734331 A CN109734331 A CN 109734331A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- dielectric layer
- thickness
- glass
- monolithic
- low emissivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000005344 low-emissivity glass Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 166
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 72
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 28
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 22
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 17
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 14
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- OBOYOXRQUWVUFU-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Ti+4].[Nb+5] Chemical compound [O-2].[Ti+4].[Nb+5] OBOYOXRQUWVUFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 12
- VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N [O].[Ar] Chemical compound [O].[Ar] VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 7
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- KMWBBMXGHHLDKL-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Si] Chemical group [AlH3].[Si] KMWBBMXGHHLDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 claims description 5
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 4
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical group O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical group [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 15
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 15
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 13
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013003 hot bending Methods 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910001275 Niobium-titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003134 ZrOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000007688 edging Methods 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N niobium titanium Chemical compound [Ti].[Nb] RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明公开一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法，其中，可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层；其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。同时，由于氧化铟锡材料不会被空气氧化，所以即便该玻璃暴露在空气中，直接单片使用，其膜层也不会被氧化。
Description
技术领域
本发明涉及节能玻璃领域，特别涉及一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法。
背景技术
传统离线低辐射玻璃由于其膜层含有Ag层，Ag层容易被氧化，膜层不能直接暴露在空气中，导致传统离线低辐射玻璃不可单片使用，必须和另外一块玻璃板配合，膜面朝内形成中空玻璃才能够使用，这种方式大大妨碍了传统离线低辐射玻璃的应用。此外，传统的减反射玻璃无法阻隔红外光线，起不到降低辐射的作用。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种可单片使用减反射低辐射玻璃，旨在提供一种新的特种玻璃，在具有减反射、低辐射性能的同时，还能够单片使用。
为实现上述目的，本发明提出可单片使用减反射低辐射玻璃，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层；其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。
可选地，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层、第六电介质层、第七电介质层、红外隔热层、第一保护层、第二保护层。
可选地，所述第一电介质层为高折射率材料、所述第二电介质层为低折射率材料、所述第三电介质层为高折射率材料、所述第四电介质层为低折射率材料、所述第五电介质层为高折射率材料、所述第六电介质层为低折射率材料、所述第七电介质层为高折射率材料。
可选地，所述第一电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为13nm～19nm；
所述第二电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为25nm～35nm；
所述第三电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为120nm～135nm；
所述第四电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为10nm～20nm；
所述第五电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～60nm；
所述第六电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为0nm～6nm；
所述第七电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～70nm；
所述红外隔热层的厚度为15nm～60nm；
所述第一保护层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为60nm～80nm；
所述第二保护层为氮化硅铝，其厚度为3nm～10nm。
可选地，所述第一电介质层的厚度为15nm～17nm；
所述第二电介质层的厚度为29nm～32nm；
所述第三电介质层的厚度为125nm～130nm；
所述第四电介质层的厚度为13nm～17nm；
所述第五电介质层的厚度为53nm～57nm；
所述第六电介质层的厚度为2nm～4nm；
所述第七电介质层的厚度为55nm～65nm；
所述红外隔热层的厚度为25nm～45nm；
所述第一保护层的厚度为65nm～75nm；
所述第二保护层的厚度为4nm～6nm。
可选地，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的可见光反射率均＜5％，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的可见光透过率相对于玻璃原片增透＞1％。
可选地，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面和膜面的颜色值均为-2.3≤a*≤1、-4≤b*≤1.5。
可选地，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的U值≤3.6W/m2·K。
可选地，所述可单片使用减反射低辐射玻璃在波长300nm处的紫外线透过率≤5％。
本发明还提出一种玻璃制造方法，用于制造上述的可单片使用减反射低辐射玻璃，所述玻璃制造方法包括以下步骤：
S1、清洗玻璃原片，干燥后置于磁控溅射区；
S2、在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积多个电介质层；
S3、在氩气氛围中，双极性脉冲电源加双阴极系统溅射沉积红外隔热层；
S4、在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积多个保护层。
本发明的可单片使用减反射低辐射玻璃是一种在玻璃表面沉积多层高折射率和低折射率交替叠加材料和一层阻隔红外光线的氧化铟锡材料，使太阳光中的可见光能够增透过、减反射，又像红外线反射镜一样，将太阳光中的电子辐射、紫外线和红外线排除在外，同时将物体二次辐射热反射回去的特种玻璃。通过使用可单片使用减反射低辐射玻璃，可以得到降低太阳红外热能总透射比gIR、节约能源、调节玻璃隔热性能、改善及保护人体居住环境和减少周围光污染的效果。同时，由于氧化铟锡材料不会被空气氧化，所以即便该玻璃暴露在空气中，直接单片使用，其膜层也不会被氧化。
附图说明
图1为本发明可单片使用减反射低辐射玻璃一实施例的结构图。
附图标号说明：
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，并不用于限定本发明。本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
另外，本发明技术方案使用颜色模型(Lab)作为色标，颜色模型(Lab)是基于人对颜色的感觉建立起来的模型，Lab中的数值描述正常视力的人能够看到的所有颜色。Lab色彩模型是由亮度(L)和颜色值a*、b*共三个要素组成。其中，L表示亮度(Luminosity)，a*表示从洋红色至绿色的范围，b*表示从黄色至蓝色的范围。
本发明提供一种可单片使用减反射低辐射玻璃。
所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层。其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。多个保护层起到保护膜面的作用。
本发明的可单片使用减反射低辐射玻璃是一种在玻璃表面沉积多层高折射率和低折射率交替叠加材料和一层阻隔红外光线的氧化铟锡材料，使太阳光中的可见光能够增透过、减反射，又像红外线反射镜一样，将太阳光中的电子辐射、紫外线和红外线排除在外，同时将物体二次辐射热反射回去的特种玻璃。通过使用可单片使用减反射低辐射玻璃，可以得到降低太阳红外热能总透射比gIR、节约能源、调节玻璃隔热性能、改善及保护人体居住环境和减少周围光污染的效果。同时，由于氧化铟锡材料不会被空气氧化，所以即便该玻璃暴露在空气中，直接单片使用，其膜层也不会被氧化。
可选地，在一实施例中，如图1所示，所述可单片使用减反射低辐射玻璃100依次包括：玻璃原片10、第一电介质层21、第二电介质层22、第三电介质层23、第四电介质层24、第五电介质层25、第六电介质层26、第七电介质层27、红外隔热层30、第一保护层28、第二保护层29。第一至第七电介质层中的相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用。同时设置第一至第七电介质，减反射效果较好，过多的电介质层会增加生产成本，过少的电介质层会导致减反射效果不好。
具体地，在一实施例中，所述第一电介质层21为高折射率材料、所述第二电介质层22为低折射率材料、所述第三电介质层23为高折射率材料、所述第四电介质层24为低折射率材料、所述第五电介质层25为高折射率材料、所述第六电介质层26为低折射率材料、所述第七电介质层27为高折射率材料。如此高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用。
需要说明的是，所述高折射率材料的折射率范围为2.0～2.5；所述低折射率材料的折射率的范围为1.5～1.9。
可选地，在一实施例中，如图1所示，所述第一电介质层21为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为13nm～19nm；所述第二电介质层22为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为25nm～35nm；所述第三电介质层23为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为120nm～135nm；所述第四电介质层24为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为10nm～20nm；所述第五电介质层25为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～60nm；所述第六电介质层26为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为0nm～6nm；所述第七电介质层27为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～70nm；所述红外隔热层30的厚度为15nm～60nm；所述第一保护层28为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为60nm～80nm；所述第二保护层9为氮化硅铝，其厚度为3nm～10nm。
氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛是高折射率材料，氧化硼硅、氧化硅铝为低折射率材料，高折射率材料和低折射率材料互搭，可以起到减反射作用。同时氧化硼硅、氧化硅铝的硬度较好，氮化硅铝的硬度更好，氧化硼硅、氧化硅铝、氮化硅铝作为保护层，可以防止膜层结构受到损伤。此外各层按照如上厚度设置，可以获得较佳的减反射、低辐射性能。
优选地，所述第一电介质层21的厚度为15nm～17nm；所述第二电介质层22的厚度为29nm～32nm；所述第三电介质层23的厚度为125nm～130nm；所述第四电介质层24的厚度为13nm～17nm；所述第五电介质层25的厚度为53nm～57nm；所述第六电介质层26的厚度为2nm～4nm；所述第七电介质层27的厚度为55nm～65nm；所述红外隔热层30的厚度为25nm～45nm；所述第一保护层28的厚度为65nm～75nm；所述第二保护层29的厚度为4nm～6nm。各层按照如上厚度设置，可以获得更佳的减反射、低辐射性能。
所述可单片使用减反射低辐射玻璃100的玻面和膜面的可见光反射率均＜5％，所述可单片使用减反射低辐射玻璃100的可见光透过率相对于玻璃原片增透＞1％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃100的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面和膜面的颜色值均为-2.3≤a*≤1、-4≤b*≤1.5。
所述可单片使用减反射低辐射玻璃100的玻面在波长为800nm处的反射率不得低于10％、在波长为900nm处的反射率不得低于15％，膜面在波长为800nm处的反射率不得低于12％、在波长为900nm处的反射率不得低于20％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃的U值≤3.6W/m2·K。其中，U值的定义为，当玻璃组件的两侧温差为1℃时，单位时间内从单位面积玻璃组件一侧空气到另一侧空气的传输热量。所述可单片使用减反射低辐射玻璃100在波长300nm处的紫外线透过率≤5％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃100可阻隔对人体有害的电子辐射和紫外线、可单片使用、可进行钢化、热弯等强化处理。
本发明还提出一种玻璃制造方法，用于制造本发明的可单片使用减反射低辐射玻璃，所述玻璃制造方法包括以下步骤：
S1、清洗玻璃原片，干燥后置于磁控溅射区；
S2、在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积多个电介质层；
S3、在氩气氛围中，双极性脉冲电源加双阴极系统溅射沉积红外隔热层；
S4、在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积多个保护层。
具体地，在一实施例中，先将玻璃原片清洗，干燥后置于磁控溅射区。在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极在玻璃的一表面溅射沉积第一至第七电介质层。在氩气氛围中，双极性脉冲电源加双阴极系统在第七电介质层的表面上溅射沉积红外隔热层。最后，在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极在红外隔热层的表面溅射沉积第一和第二个保护层。
下面结合具体的实施例对本发明的可单片使用减反射低辐射玻璃及其制造方法作进一步的说明。需要说明的是，在以下实施例中，氧化钛、氧化铌、氧化锆、氧化铌钛、氧化硼硅、氧化硅铝、氧化铟锡、氮化硅铝分别用TiOx、ZrOx、TiNbOx、SiBOx、SiAlOx、ITO、SiAlNx表示。
实施例1
该可单片使用减反射低辐射玻璃的结构依次包括：
玻璃原片；
第一电介质层为TiOx，厚度为16nm；
第二电介质层为SiBOx，厚度为30nm；
第三电介质层为TiOx，厚度为125nm；
第四电介质层为SiBOx，厚度为15nm；
第五电介质层为TiOx，厚度为55nm；
第六电介质层为SiBOx，厚度为3nm；
第七电介质层为TiOx，厚度为60nm；
红外隔热层为ITO，厚度为30nm。
第一保护层为SiBOx，厚度为70nm；
第二保护层为SiAlNx，厚度为5nm。
上述各膜层具体制造工艺为：
TiOx层沉积采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中进行，真空磁控溅射设备功率为70～90kW，中频电源频率为40kHz。
SiBOx层沉积采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中进行，真空磁控溅射设备功率为50～60kW，中频电源频率为40kHz。
ITO层沉积采用双极性脉冲电源加双阴极系统在氩气氛围中进行，真空磁控溅射设备功率为40kW。
SiAlNx层沉积采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，真空磁控溅射设备功率为50～65kW，中频电源频率为40kHz。
该可单片使用减反射低辐射玻璃光学性能和热学性能如下：
该可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面可见光反射率为4.81％，膜面的可见光反射率为4.32％所述可单片使用减反射低辐射玻璃的可见光透过率相对于玻璃原片增透1.60％；该可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面的颜色值为a*＝-2.00，b*＝-2.24，膜面的颜色值均为a*＝0.40，b*＝1.43。所述可单片使用减反射低辐射玻璃的U值为3.31，玻面在波长为800nm处的反射率为10％、在波长为900nm处的反射率为15％，膜面在波长为800nm处的反射率为12％、在波长为900nm处的反射率为20％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃在波长300nm处的紫外线透过率为5％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃可单片使用、可进行钢化、热弯等强化处理。
实施例2
该可单片使用减反射低辐射玻璃的结构依次包括：
玻璃原片；
第一电介质层为TiOx，厚度为17nm；
第二电介质层为SiBOx，厚度为32nm；
第三电介质层为TiOx，厚度为130nm；
第四电介质层为SiBOx，厚度为20nm；
第五电介质层为TiOx，厚度为57nm；
第六电介质层为SiBOx，厚度为5nm；
第七电介质层为TiOx，厚度为65nm；
红外隔热层为ITO，厚度为35nm；
第一保护层为SiBOx，厚度为75nm；
第二保护层为SiAlNx，厚度为4nm。
上述各膜层具体制造工艺为：
TiOx层沉积采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中进行，真空磁控溅射设备功率为70～90kW，中频电源频率为40kHz。
SiBOx层沉积采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中进行，真空磁控溅射设备功率为50～60kW，中频电源频率为40kHz。
ITO层沉积采用双极性脉冲电源加双阴极系统在氩气氛围中进行，真空磁控溅射设备功率为40kW。
SiAlNx层沉积采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，真空磁控溅射设备功率为50～65kW，中频电源频率为40kHz。
该种建筑用可单片使用减反射低辐射玻璃光学性能和热性能如下：
该可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面可见光反射率为4.78％，膜面的可见光反射率为4.43％；所述可单片使用减反射低辐射玻璃的可见光透过率相对于玻璃原片增透1.67％；该可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面的颜色值为a*＝0.40，b*＝1.01，膜面的颜色值均为a*＝-2.23，b*＝1.23。所述可单片使用减反射低辐射玻璃的U值为3.31，玻面在波长为800nm处的反射率为10％、在波长为900nm处的反射率为15％，膜面在波长为800nm处的反射率为12％、在波长为900nm处的反射率为20％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃在波长300nm处的紫外线透过率为5％。所述可单片使用减反射低辐射玻璃可单片使用、可进行钢化、热弯等强化处理。
其他实施例可以参照实施例1和2，在此不再赘述。其他实施例的具体各项参数和性能见表1和表2。
表1各实施例的膜层成分及厚度
表2各实施例的性能参数
利用TiOx、SiBOx、SiAlNx、ITO材料等特有的耐热性能及热处理前后光学性能稳定性，让新材料TiOx、与SiBOx呈对称高低折射率配搭叠加，结合SiAlNx材料使得其能够更好的适应热处理时的高温及耐磨。
多个电介质层为减反射膜层，同时起着连接玻璃和红外隔热层的作用，与玻璃之间粘接性能好，并缓解了整个红外隔热层的内部应力，提升玻璃抗划伤、耐磨和抗腐蚀的性能。电介质层采用频率为40kHz、具有良好灭弧性能的中频电源加旋转阴极溅射形成，折射率良好匹配，使产品的反射率和透过率达到理想值。
本发明的可单片使用减反射低辐射玻璃具有独特的膜层结构，具有低辐射率、高耐热性的优点，膜层不怕被氧化，可单片使用；能进行钢化、热弯和弯钢化等强化处理；能满足在异地加工、切割、掰片、磨边、钻孔、清洗等后续加工的要求，便于广泛推广。
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、多个电介质层、红外隔热层、多个保护层；其中，相邻两电介质层为高折射率材料和低折射率材料互搭，起到减反射作用，所述红外隔热层为氧化铟锡，起到低辐射作用。
2.如权利要求1所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃依次包括：玻璃原片、第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层、第五电介质层、第六电介质层、第七电介质层、红外隔热层、第一保护层、第二保护层。
3.如权利要求2所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述第一电介质层为高折射率材料、所述第二电介质层为低折射率材料、所述第三电介质层为高折射率材料、所述第四电介质层为低折射率材料、所述第五电介质层为高折射率材料、所述第六电介质层为低折射率材料、所述第七电介质层为高折射率材料。
4.如权利要求3所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，
所述第一电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为13nm～19nm；
所述第二电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为25nm～35nm；
所述第三电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为120nm～135nm；
所述第四电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为10nm～20nm；
所述第五电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～60nm；
所述第六电介质层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为0nm～6nm；
所述第七电介质层为氧化钛、氧化铌、氧化锆或氧化铌钛的其中一种，其厚度为50nm～70nm；
所述红外隔热层的厚度为15nm～60nm；
所述第一保护层为氧化硼硅、氧化硅铝的其中一种，其厚度为60nm～80nm；
所述第二保护层为氮化硅铝，其厚度为3nm～10nm。
5.如权利要求4所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，
所述第一电介质层的厚度为15nm～17nm；
所述第二电介质层的厚度为29nm～32nm；
所述第三电介质层的厚度为125nm～130nm；
所述第四电介质层的厚度为13nm～17nm；
所述第五电介质层的厚度为53nm～57nm；
所述第六电介质层的厚度为2nm～4nm；
所述第七电介质层的厚度为55nm～65nm；
所述红外隔热层的厚度为25nm～45nm；
所述第一保护层的厚度为65nm～75nm；
所述第二保护层的厚度为4nm～6nm。
6.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的可见光反射率均＜5％，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的可见光透过率相对于玻璃原片增透＞1％。
7.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的玻面和膜面的颜色均为中性色，玻面和膜面的颜色值均为-2.3≤a*≤1、-4≤b*≤1.5。
8.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃的U值≤3.6W/m2·K。
9.如权利要求1至5任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，所述可单片使用减反射低辐射玻璃在波长300nm处的紫外线透过率≤5％。
10.一种玻璃制造方法，用于制造如权利要求1至9任一项所述的可单片使用减反射低辐射玻璃，其特征在于，包括以下步骤：
S1、清洗玻璃原片，干燥后置于磁控溅射区；
S2、在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积多个电介质层；
S3、在氩气氛围中，双极性脉冲电源加双阴极系统溅射沉积红外隔热层；
S4、在氩氮或氩氧氛围中，中频电源加旋转阴极溅射沉积多个保护层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910191156.5A CN109734331A (zh) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | 一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910191156.5A CN109734331A (zh) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | 一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109734331A true CN109734331A (zh) | 2019-05-10 |
Family
ID=66370306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910191156.5A Pending CN109734331A (zh) | 2019-03-13 | 2019-03-13 | 一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109734331A (zh) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111381299A (zh) * | 2020-04-23 | 2020-07-07 | 江苏万新光学有限公司 | 一种低反射色中性低应力树脂镜片及其制备方法 |
| CN113031309A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-06-25 | 江苏万新光学有限公司 | 一种减反射防近红外激光的树脂镜片 |
| CN113031308A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-06-25 | 江苏万新光学有限公司 | 一种减反射防近红外激光树脂镜片的制备方法 |
| CN113277741A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-20 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 镀膜玻璃及制备方法 |
| CN113912302A (zh) * | 2021-10-18 | 2022-01-11 | 信义玻璃(天津)有限公司 | 镀膜玻璃及制备方法 |
| CN114933422A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-08-23 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 减反射镀膜玻璃及其制备方法 |
| WO2022206316A1 (zh) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | 江苏万新光学有限公司 | 一种减反射防宽红外耐高温树脂镜片及其制备方法 |
| CN115724597A (zh) * | 2022-11-23 | 2023-03-03 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种玻璃、夹层玻璃及车辆 |
| WO2024173462A1 (en) * | 2023-02-14 | 2024-08-22 | Vitro Flat Glass Llc | Semi-transparent mirror |
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080231979A1 (en) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Low-emissivity glass |
| CN101585667A (zh) * | 2009-07-02 | 2009-11-25 | 福耀集团（上海）汽车玻璃有限公司 | 一种可烘弯低辐射镀膜玻璃 |
| CN201458971U (zh) * | 2009-07-02 | 2010-05-12 | 福耀集团（上海）汽车玻璃有限公司 | 一种可烘弯低辐射镀膜玻璃 |
| US20120225224A1 (en) * | 2011-03-03 | 2012-09-06 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| CN103737999A (zh) * | 2014-01-06 | 2014-04-23 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备方法 |
| US20140227500A1 (en) * | 2013-02-13 | 2014-08-14 | Centre Luxembourgeois de Recherches Pour le Verre et la Ceramique (CRVC) SaRL | Dielectric mirror |
| KR20150139425A (ko) * | 2014-06-02 | 2015-12-11 | (주)엘지하우시스 | 저방사 코팅, 저방사 코팅의 제조 방법 및 저방사 코팅을 포함하는 창호용 기능성 건축 자재 |
| KR20170105904A (ko) * | 2016-03-11 | 2017-09-20 | 주식회사 네이션스 | 저방사 유리 |
| CN108017290A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-05-11 | 中国南玻集团股份有限公司 | 减反射玻璃的制备方法 |
| WO2018147666A1 (ko) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 주식회사 케이씨씨 | 저반사 코팅 유리 |
| CN108911527A (zh) * | 2018-09-29 | 2018-11-30 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 一种离线低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途 |
| KR20200063089A (ko) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
| CN114853360A (zh) * | 2022-05-31 | 2022-08-05 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 一种减反射低辐射玻璃及中空玻璃 |
-
2019
- 2019-03-13 CN CN201910191156.5A patent/CN109734331A/zh active Pending
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080231979A1 (en) * | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Low-emissivity glass |
| CN101585667A (zh) * | 2009-07-02 | 2009-11-25 | 福耀集团（上海）汽车玻璃有限公司 | 一种可烘弯低辐射镀膜玻璃 |
| CN201458971U (zh) * | 2009-07-02 | 2010-05-12 | 福耀集团（上海）汽车玻璃有限公司 | 一种可烘弯低辐射镀膜玻璃 |
| US20120225224A1 (en) * | 2011-03-03 | 2012-09-06 | Guardian Industries Corp. | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same |
| US20140227500A1 (en) * | 2013-02-13 | 2014-08-14 | Centre Luxembourgeois de Recherches Pour le Verre et la Ceramique (CRVC) SaRL | Dielectric mirror |
| CN103737999A (zh) * | 2014-01-06 | 2014-04-23 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 一种具有红外反射功能的镀膜玻璃及其制备方法 |
| KR20150139425A (ko) * | 2014-06-02 | 2015-12-11 | (주)엘지하우시스 | 저방사 코팅, 저방사 코팅의 제조 방법 및 저방사 코팅을 포함하는 창호용 기능성 건축 자재 |
| KR20170105904A (ko) * | 2016-03-11 | 2017-09-20 | 주식회사 네이션스 | 저방사 유리 |
| WO2018147666A1 (ko) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 주식회사 케이씨씨 | 저반사 코팅 유리 |
| CN108017290A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-05-11 | 中国南玻集团股份有限公司 | 减反射玻璃的制备方法 |
| CN108911527A (zh) * | 2018-09-29 | 2018-11-30 | 天津南玻节能玻璃有限公司 | 一种离线低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途 |
| KR20200063089A (ko) * | 2018-11-27 | 2020-06-04 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
| CN114853360A (zh) * | 2022-05-31 | 2022-08-05 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 一种减反射低辐射玻璃及中空玻璃 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111381299A (zh) * | 2020-04-23 | 2020-07-07 | 江苏万新光学有限公司 | 一种低反射色中性低应力树脂镜片及其制备方法 |
| CN111381299B (zh) * | 2020-04-23 | 2024-02-13 | 江苏万新光学有限公司 | 一种低反射色中性低应力树脂镜片及其制备方法 |
| CN113031309A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-06-25 | 江苏万新光学有限公司 | 一种减反射防近红外激光的树脂镜片 |
| CN113031308A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-06-25 | 江苏万新光学有限公司 | 一种减反射防近红外激光树脂镜片的制备方法 |
| WO2022206316A1 (zh) * | 2021-04-01 | 2022-10-06 | 江苏万新光学有限公司 | 一种减反射防宽红外耐高温树脂镜片及其制备方法 |
| CN113277741A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-20 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 镀膜玻璃及制备方法 |
| CN113912302A (zh) * | 2021-10-18 | 2022-01-11 | 信义玻璃(天津)有限公司 | 镀膜玻璃及制备方法 |
| CN114933422A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-08-23 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 减反射镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN114933422B (zh) * | 2022-05-17 | 2024-05-24 | 长兴旗滨节能玻璃有限公司 | 减反射镀膜玻璃及其制备方法 |
| CN115724597A (zh) * | 2022-11-23 | 2023-03-03 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 一种玻璃、夹层玻璃及车辆 |
| WO2024173462A1 (en) * | 2023-02-14 | 2024-08-22 | Vitro Flat Glass Llc | Semi-transparent mirror |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN109734331A (zh) | 一种可单片使用减反射低辐射玻璃及其制备方法 | |
| JP6113656B2 (ja) | 焼入れ可能な３層反射防止コーティングを含む被覆物品及び／又はその製造方法 | |
| JP6043287B2 (ja) | 焼入れ可能な３層反射防止コーティング、焼入れ可能な３層反射防止コーティングを含む被覆物品及び／又はその製造方法 | |
| JP5864555B2 (ja) | 低いソーラファクターを有する太陽光制御板ガラス | |
| JP5249054B2 (ja) | 反射光がニュートラル色を示す、反射防止コーティングを備える透明な基板 | |
| CN103073196B (zh) | 一种低辐射镀膜玻璃及其夹层玻璃制品 | |
| AU2003264684B2 (en) | Transparent substrate comprising antiglare coating | |
| JP2008247739A5 (zh) | ||
| US20010031365A1 (en) | Transparent substrate with an antireflection, low-emissivity or solar-protection coating | |
| JP6847350B2 (ja) | 低反射コーティング硝子 | |
| MX2010013513A (es) | Articulos recubiertos con recubrimiento baja e que incluye oxido de zirconio y/u oxinitruro de zirconio-silicio y metodos para hacer los mismos. | |
| JP2004510051A5 (zh) | ||
| JP6664377B2 (ja) | 装飾用ガラスパネル | |
| AU2018225127A1 (en) | Heat treatable coated article having titanium nitride and ito based IR reflecting layers | |
| TWI583807B (zh) | 透明基板之層系統以及用於生產層系統的方法 | |
| WO2020079373A1 (fr) | Vitrage comprenant un revetement fonctionnel et un revetement d'ajustement colorimetrique | |
| CN209602379U (zh) | 一种可单片使用减反射低辐射玻璃 | |
| WO2018012883A1 (ko) | 저방사 유리 | |
| CN113354299A (zh) | 一种中性色高透侧面不变色的双银Low-E玻璃 | |
| CN114933422B (zh) | 减反射镀膜玻璃及其制备方法 | |
| CN217398772U (zh) | 减反射镀膜玻璃 | |
| CN111196683B (zh) | 一种三银可钢化三性灰Low-E玻璃 | |
| CN211921327U (zh) | 一种三银可钢化三性灰Low-E玻璃 | |
| CN210481206U (zh) | 超低反低透双银低辐射镀膜玻璃 | |
| US10591652B2 (en) | Multi-layer coated glass substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20190510 |