JP5660765B2 - 液晶表示パネル - Google Patents
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Description
るものとされておりながら、表示領域の端部が方形状となるようにされた、開口率が大き
い横電界方式の液晶表示パネルに関する。
があるため、表示用として多くの電子機器に使用されている。液晶表示パネルは、ラビン
グ処理された配向膜を用いることにより所定方向に整列した液晶分子の向きを電界により
変えて、光の透過量ないし反射量を変化させて画像を表示させるものである。
のものとがある。縦電界方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配置される一対の電極
により、概ね縦方向の電界を液晶分子に印加するものである。この縦電界方式の液晶表示
パネルとしては、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertical Alignment)モード
、MVA(Multi-domain Vertical Alignment)モード等のものが知られている。横電界
方式の液晶表示パネルは、液晶層を挟んで配設される一対の基板のうちの一方の内面側に
一対の電極を互いに絶縁して設け、概ね横方向の電界を液晶分子に対して印加するもので
ある。この横電界方式の液晶表示パネルとしては、一対の電極が平面視で重ならないIP
S(In-Plane Switching)モードのものと、重なるFFS(Fringe Field Switching)モ
ードのものとが知られている。
極をそれぞれ互いに電気的に絶縁された状態で噛み合うようにくし歯状に形成し、画素電
極と共通電極との間に横方向の電界を液晶に印加するものである。このIPSモードの液
晶表示装置は、縦電界方式の液晶表示装置よりも視野角が広いという利点を有している。
対の電極をそれぞれ異なる層に配置し、上電極にスリット状開口を設け、このスリット状
開口を通る概ね横方向の電界を液晶層に印加するものである。このFFSモードの液晶表
示パネルは、広い視野角を得ることができると共に画像コントラストを改善できるという
効果があるので、近年、多く用いられるようになってきている。
の場合)或いは平面視で両電極間に形成される開口(IPSモードの場合。以下、この開
口も「スリット状開口」と表現する。)をラビング方向に対して僅かに傾斜するように延
在させて、同一方向に液晶分子が回転することができるようにしている。カラー表示用の
液晶表示パネルにおいては、このスリット状開口のラビング方向に対する傾斜角度を正負
の2つの領域に分けるマルチドメイン化により、視野角による色の変化を低減することが
できる。しかしながら、スリット状開口の端部は所望する方向の電界を形成し難いため、
延在方向が互いに異なるスリット状開口を分離させると、スリット状開口の端部の数が増
加するために開口率が低くなる。
状開口に屈曲部を設けて、異なる方向に延在するスリット状開口を連結することによって
、マルチドメイン化を達成すると共に開口率が大きくなるようにしている。
直線状に延在する信号線及び走査線で区切られたサブ画素に屈曲部を設けたスリット状開
口を形成すると、一部の電極の幅が太くなるので、スリット状開口から遠く離間して液晶
駆動用の電界の発生にあまり寄与しない電極の領域ができ、開口率が低下することとなる
。
リット状開口と同様の形状となるように、信号線又は走査線を屈曲部を設けたスリット状
開口と平行になるように屈曲させ、サブ画素がスリット状開口と同様の屈曲した形状とな
るようにすることが行われた。ここで、上記特許文献3に開示されている液晶表示パネル
50を図8を用いて説明する。なお、図8は上記特許文献3に開示されている液晶表示パ
ネルの平面図及び部分拡大図である。
ードの液晶表示パネルであり、上電極51にスリット状開口52が形成され、上電極51
及び下電極53は、スリット状開口52と同様に、屈曲した形状を有している。このアレ
イ基板ARは、ドライバ用端子55とフレキシブルプリント基板用端子56が配設されて
いる延在部57を有する。アレイ基板ARの延在部57を除く部分はカラーフィルター基
板CFが張り合わせられている。カラーフィルター基板CFには非表示領域を遮光するこ
とにより表示領域の開口を形成する遮光層58が成膜されている。
スリット状開口52を有している。なお、走査線59は信号線54と交差する方向(図8
のX軸方向)に直線状に延在しており、平面視で信号線54及び走査線59で囲まれたそ
れぞれの領域がサブ画素を形成する。スリット状開口52は「く」字状の屈曲部60を備
えている。スリット状開口52は、図8のY軸方向に施されるラビング処理の方向に対し
て、正負逆方向に延在している。これにより、液晶表示パネル50は視野角による色の変
化を低減することができるようになる。
部60に沿った屈曲部61、屈曲部62を備えている。これにより、スリット状開口52
、上電極51及び信号線54が互いに平行となり、上電極51に電界が弱くなる領域が形
成されなくなるので、上記特許文献1及び2に開示されている液晶表示パネルと比較して
、開口率が高くなる。
とすると、特許文献3に示されるように、サブ画素間の光漏れを防止するためのカラーフ
ィルター基板の遮光層58も信号線54に沿った屈曲部を備えることになる。しかしなが
ら、これに伴って、図8の拡大図(b)、(c)に示すように、表示領域の開口端部を形
成する非表示領域の遮光層58の最内周側も屈曲部を備えるようになるので、表示領域の
周辺がギザギザになるという問題点が発生する。かかる点は、IPSモードの液晶表示パ
ネルの場合においても同様に生じる問題点である。
明の目的は、それぞれのサブ画素の形状が屈曲部を有するものとされている横電界方式の
液晶表示パネルにおいて、表示領域の開口端部が方形状となるようにされた、開口率が大
きい横電界方式の液晶表示パネルを提供することにある。
側の表示領域に少なくとも一つの屈曲部を有する複数のサブ画素がマトリクス状に配置さ
れ、複数のサブ画素にはそれぞれ少なくとも1つの屈曲部を有する一対の電極が形成され
ている。このような構成を備えていると、表示に使用されない領域の面積が小さくなるの
で、開口率が大きく、明るい横電界方式の液晶表示パネルが得られる。しかしながら、一
対の基板の他方側、すなわちカラーフィルター基板には、複数のサブ画素間及び表示領域
の外周側に位置する非表示領域を遮光する遮光層が形成されているが、そのままでは、表
示領域の開口端部を形成する非表示領域の遮光層の最内周側も屈曲部を備えるようになる
ので、表示領域の周辺がギザギザになってしまう。
となる形状に形成されているので、表示領域の開口端部が方形状となるようにすることが
でき、表示領域の周辺が滑らかになり、見栄えがよくなる。
状に応じて屈曲され、信号線及び走査線の他方は直線状に延在される。そのため本発明の
液晶表示パネルによれば、一対の電極を信号線間及び走査線間の領域いっぱいまで配置で
きるので、開口率を向上させることができるようになる。なお、本発明は、サブ画素が信
号線に沿って列方向に屈曲している場合及び走査線に沿って行方向に屈曲している場合の
何れにおいても、上記本発明の効果を奏することができるようになる。
成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記サブ画素の形状に沿って屈曲するスリ
ット状開口が形成された上電極とからなるものとすることができる。
パネルが得られる。
ていると共に、互いに前記サブ画素の形状に沿って屈曲しているものとすることができる
。
パネルが得られる。
とり、図面を参照しながら説明する。しかしながら、以下に示す実施形態は本発明をここ
に記載したものに限定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲に示し
た技術思想を逸脱することなく種々の変更を行ったものにも均しく適用し得るものである
。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を
図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示し
ており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。
第1実施形態の液晶表示パネル10の要部の構成を図1〜図4を用いて説明する。この
液晶表示パネル10は、FFSモードで作動するものであり、マトリクス状に配置された
複数のサブ画素11を有している。液晶表示パネル10は、図3及び図4に示すように、
液晶層LCがアレイ基板ARとカラーフィルター基板CFとの間に挟持されている。アレ
イ基板ARは透明な絶縁性を有するガラスや石英、プラスチック等からなる第1透明基板
12を基体としている。第1透明基板12上には、液晶層LCに面する側に、不透明なア
ルミニウムやモリブデン等の金属からなる走査線13が図2のX軸方向(行方向)に形成
されている。走査線13からはゲート電極Gが各サブ画素11の例えば左下に延設されて
いる。
透明なゲート絶縁膜14が積層されている。そして、平面視でゲート電極Gと重なるゲー
ト絶縁膜14上には非晶質シリコンや多結晶シリコンなどからなる半導体層15が形成さ
れている。また、ゲート絶縁膜14上にはアルミニウムやモリブデン等の金属からなる複
数の信号線16が、図1のY軸方向(列方向)に形成されている。これらの走査線13及
び信号線16によって区画された領域のそれぞれがサブ画素領域となる。この信号線16
からはソース電極Sが延設され、このソース電極Sは半導体層15の表面と部分的に接触
している。
がゲート絶縁膜14上に設けられており、このドレイン電極Dはソース電極Sと近接配置
されて半導体層15の表面と部分的に接触している。R(赤)・G(緑)・B(青)の3つ
のサブ画素で略正方形の1画素(図示せず)を構成するので、これを3等分するサブ画素
11は走査線13側が短辺で信号線16側が長辺の長方形となる。ゲート電極G、ゲート
絶縁膜14、半導体層15、ソース電極S、ドレイン電極Dによってスイッチング素子と
なる薄膜トランジスターTFTが構成され、それぞれのサブ画素11にこのTFTが形成
されている。
うようにして例えば窒化ケイ素や酸化ケイ素等からなる透明なパッシベーション膜17が
積層されている。そして、パッシベーション膜17を覆うようにして、例えばフォトレジ
スト等の透明樹脂材料からなる層間樹脂膜18が積層されている。そして、層間樹脂膜1
8を覆うようにしてITO(Indium Thin Oxide)ないしIZO(Indium Zinc Oxide)等
の透明導電性材料からなる下電極19が形成されている。第1層間樹脂膜18とパッシベ
ーション膜17を貫通してドレイン電極Dに達するコンタクトホール20が形成されてお
り、このコンタクトホール20を介して下電極19とドレイン電極Dとが電気的に接続さ
れている。そのため、下電極19は画素電極として作動する。
縁膜21が積層されている。そして、電極間絶縁膜21を覆うようにしてITOないしI
ZO等の透明導電性材料からなる上電極22が形成されている。第1実施形態の液晶表示
装置10では、この上電極22は、表示領域の周辺部でコモン配線に接続されており(図
示せず)、共通電極として作動する。なお、液晶表示パネル10では、上電極が画素電極
として作動され、下電極が共通電極として作動されるように構成されてもよい。
リット状開口23はフォトリソグラフィー法によって上電極22の表面に塗布されたフォ
トレジスト材料を露光及び現像した後、エッチングすることによって形成される。このス
リット状開口23の具体的形状等については後述する。また、上電極22を覆ってポリイ
ミドからなる第1配向膜24が積層されている。第1配向膜24には図2のY軸方向(信
号線16の延在方向と略平行な方向)に液晶方向配向処理すなわちラビング処理が施され
ている。
なる第2透明基板25を基体としている。第2透明基板25には、遮光層26と、サブ画
素毎に異なる色の光(例えばR(赤)、G(緑)、B(青))を透過するカラーフィルタ
ー層27が形成されている。遮光層26は、表示領域内の走査線13、信号線16、TF
T、ドレイン電極Dと平面視で重なるように形成されている部分と、表示領域の開口を形
成するために第2透明基板25の非表示領域を覆う部分に形成されている。ここで、表示
領域とは使用者によって視認できる画像が実質的に表示される領域である。
されている。遮光層26とカラーフィルター層27を覆うようにして例えばフォトレジス
ト等の透明樹脂材料からなるオーバーコート層28が積層されている。このオーバーコー
ト層28は異なる色のカラーフィルター層27による段差を平坦にし、また、遮光層26
やカラーフィルター層27から流出する不純物が液晶層LCに入らないように遮断するた
めに形成されているものである。オーバーコート層28を覆うようにしてポリイミドから
なる第2配向膜29が形成されている。第2配向膜29には第1配向膜24と逆方向のラ
ビング処理が施されている。
されると、両電極19、22間に電界が発生して液晶層LCの液晶分子の配向方向が変化
する。これにより、液晶層LCの光透過率が変化して画像を表示することとなる。なお、
下電極19と上電極22と電極間絶縁膜21により付随的に補助容量が形成され、TFT
がOFFになったときに両電極19,22間の電界を所定時間保持することができる。
存在しているため、さらに開口率が低下する。本実施形態の液晶表示パネル10における
サブ画素11は縦長であるため、スリット状開口23を横方向に延在させるとスリット状
開口23の端部の数が多くなる。そこで、本実施形態の液晶表示パネル10では、図2に
示すように、スリット状開口23の延在方向を信号線16の延在方向(図2のY軸方向)
にすることにより、スリット状開口23の端部の数を少なくし、開口率が低くならないよ
うにしている。
〜約15度)傾ける。これにより、液晶分子が同じ方向に回転することができるようにな
る。全てのスリット状開口23を時計方向あるいは反時計方向にすると、液晶分子が同一
方向にねじれるために、視角方向によって色が変化する現象が現れる。これは、液晶分子
を見る方向によって見かけのリタデ−ションが変化するためである。これを低減するため
に、本実施形態の液晶表示パネル10ではスリット状開口23の延在方向が時計方向に対
して正負逆方向に傾く2つのドメインを設けている。即ち、マルチドメイン化である。
の端部が増加するため、正常に表示できない領域の面積が増加するので、開口率が減少す
る。そこで、本実施形態の液晶表示パネル10では、図2に示すように、スリット状開口
23に屈曲部33を設けることにより「く」字状にし、配向方向が異なるドメインを連結
している。なお、スリット状開口23の屈曲部33は、内角側の辺に形成された内角側屈
曲部33a及び外角側の辺に形成された外角側屈曲部33bからなる。このようにスリッ
ト状開口23を「く」字状に折り曲げることによって、スリット状開口23を分離した場
合に比べて正常に表示できない領域の面積が減少するので、開口率を大きくすることがで
きるようになる。
方向(図2のY軸方向)に延在し、屈曲部34を設けることにより「く」字状に形成され
ている。この上電極22の屈曲部34も、内角側の辺に形成された内角側の屈曲部34a
及び外角側の辺に形成された外角側の屈曲部34bからなる。さらに、信号線16にも屈
曲部35を設けることにより「く」字状に形成されている。この信号線16の屈曲部35
も、内角側辺に形成された内角側の屈曲部35a及び外角側の辺に形成された外角側の屈
曲部35bからなる。これにより、信号線16と上電極22とがスリット状開口23と平
行になるため、特許文献3に示されている液晶表示パネルのような電界強度が弱くなる領
域が生じないので、輝度の低下を防止することができるようになる。
で信号線16及び走査線13によって囲まれた領域からなる各サブ画素11は「く」字状
に屈曲された形状となっている。そして、各サブ画素11の内角側の屈曲点をEaとし、
各サブ画素11の四隅の角部のうちの外角側の角部を端点Ebとする。
する遮光層26も信号線16の屈曲部35に沿って屈曲されている。しかしながら、図1
に示すように、方形状の表示領域の開口を形成する非表示領域の遮光層26a及び26b
は、屈曲されておらず、直線状に形成されている。すなわち、第1実施形態の液晶表示パ
ネル10では、表示領域の最外周側に位置するサブ画素11の最外側が内角側となるサブ
画素11a(図2における右端)では、非表示領域の遮光層26aによってサブ画素11
aの内角側の屈曲点Eaを超えて表示領域側まで遮光されている。また、表示領域の最外
周側に位置するサブ画素11の最外側が外角側となるサブ画素11b(図2における左端
)では、非表示領域の遮光層26bによってサブ画素11bの外角側の端点Ebを超えて
表示領域側まで遮光されている。
6が非表示領域の遮光層26a及び26bによって遮光されるために、表示領域にギザギ
ザが現れることがなくなり、表示領域の周辺を滑らかにすることができるようになる。
次に第2実施形態の液晶表示パネル10Aを図5に基いて説明する。ただし、図5にお
いては、第1実施形態の液晶表示パネル10と同一の構成部分には同一の参照符号を付与
してその詳細な説明は省略する。この第2実施形態の液晶表示パネル10Aが第1実施形
態の場合と相違する点は、表示領域の開口を形成する非表示領域の遮光層26の大きさで
ある。
び26bによって表示領域まで遮光してしまっているので、最外周側のサブ画素の面積が
小さくなって、他の部分のサブ画素の明るさよりも暗くなってしまう。そこで、第2実施
形態の液晶表示パネル10Aでは、表示領域の周辺にギザギザが生じない状態で最外周側
のサブ画素が最も明るくなるようにしたものである。
ブ画素が最外側が内角側となるサブ画素11aであるとき、非表示領域の遮光層26aが
サブ画素11aの内角側の屈曲点Ea上を通るように形成したものである。加えて、表示
領域の最外周側に位置するサブ画素が最外側が外角側となるサブ画素11bであるとき、
非表示領域の遮光層26aが前記サブ画素の外角側の端点Eb上を通るように形成したも
のである。
ギザギザが生じない状態でありながら、最も明るい状態となる。なお、第2実施形態の液
晶表示パネルでは、最外周側のサブ画素11a及び11bの何れも表示領域の周辺にギザ
ギザが生じない状態でありながら、最も明るい状態となるようにしたが、必ずしも両方と
もこのような状態とする必要はない。すなわち、最外周側のサブ画素11a及び11bの
一方側のみ第2実施形態の液晶表示パネル10Aの場合と同様の構成を採用し、他方側は
第1実施形態の液晶表示パネル10の場合と同様の構成を採用してもよい。
次に第3実施形態の液晶表示パネル10Bを図6に基いて説明する。ただし、図6にお
いては、第1実施形態の液晶表示パネル10と同一の構成部分には同一の参照符号を付与
してその詳細な説明は省略する。この第3実施形態の液晶表示パネル10Bが第1実施形
態の液晶表示パネル10の場合と構成が相違する点は、表示領域の最外周側のサブ画素1
1a及び11bの大きさである。
領域の最外周側のサブ画素11a及び11bも含めて、いずれも同じ大きさである。これ
に対して、第3実施形態の液晶表示パネル10Bでは、図6に示すように、表示領域の両
端以外のサブ画素11では幅がWMで、右端のサブ画素11aの幅がWMよりも広いWR
(WR>WM)とされ、左端のサブ画素11bの幅がWMよりも広いWL(WL>WM)と
されている。
消するために、非表示領域の遮光層26a及び26bにより表示領域側を多く被覆するよ
うにしても、表示領域の周辺のサブ画素11a及び11bの開口面積を他の部分のサブ画
素11の開口面積と同じになるようにすることができる。そのため、第3実施形態の液晶
表示パネル10Bによれば、表示領域の周辺部のサブ画素11a及び11bにギザギザが
生じることがなく、かつ、表示領域の周辺部のサブ画素11a及び11bの開口率を他の
部分のサブ画素11の開口率と同じになるようにすることができるため、周辺部での発色
不良や明るさの低減を抑制することができるようになる。
次に、第4実施形態の液晶表示パネル10Cを図7に基いて説明する。ただし、図7に
おいては、第1実施形態の液晶表示パネル10と同一の構成部分には同一の参照符号を付
与してその詳細な説明は省略する。この第4実施形態の液晶表示パネル10Cが第1実施
形態の液晶表示パネル10と構成が相違する点は、非表示領域のダミー画素の有無である
。
われる非表示領域には、表示領域のサブ画素の外周側に隣接してダミー画素36が配設さ
れている。このダミー画素36は表示領域のサブ画素11と同様な構成であるが、表示領
域のサブ画素11、11a及び11bとは異なり、液晶層LCに電界を印加されないよう
になっている。このダミー画素36は、例えば、サブ画素と同じ構成を模擬し、ダミー画
素静電気保護回路を形成し、外部から侵入した静電気からの保護手段を形成するために使
用される。
されない領域が隣接していると、電界が印加される表示領域の配向が乱れるためにドメイ
ン(配向不良)が生じることになる。しかしながら、第4実施形態の液晶表示パネル10
Cにおいては、表示領域の最外周側のサブ画素11a及び11bのさらに外周側に生じる
ドメインは、非表示領域の遮光層26a及び26bによって視認できない状態とすること
ができるので、表示画質に悪影響を与えることがなくなる。
モードの液晶表示パネルの例を示したが、本発明はサブ画素にジグザグ状に複数の屈曲部
を備えたFFSモードの液晶表示パネルに対しても適用することができる。さらに、上記
実施形態ではサブ画素として信号線に沿って「く」字状に屈曲する1つの屈曲部を形成し
たFFSモードの液晶表示パネルの例を示したが、本発明はサブ画素として走査線に沿っ
て「く」字状に屈曲する1つの屈曲部ないしジグザグ状に複数の屈曲部を備えたFFSモ
ードの液晶表示パネルに対しても適用することができる。さらに、上記実施形態では、F
FSモードの液晶表示パネルの例を示したが、本発明は、IPSモードの液晶表示パネル
に対しても適用可能である。
…走査線 14…ゲート絶縁膜 15…半導体層 16…信号線 17…パッシベーショ
ン膜 18…層間樹脂膜 19…下電極 20…コンタクトホール 21…電極間絶縁膜
22…上電極 23…スリット状開口 24…第1配向膜 25…第2透明基板 26
…遮光層 27…カラーフィルター層 28…オーバーコート層 29…第2配向膜 3
0…ドライバ用端子 31…フレキシブルプリント基板用端子 32…延在部 33…ス
リット状開口の屈曲部 33a…スリット状開口の内角側屈曲部 33b…スリット状開
口の外角側屈曲部 34…上電極の屈曲部 34a…上電極の内角側屈曲部 34b…上
電極の外角側屈曲部 35…信号線の屈曲部 35a…信号線の内角側屈曲部 35b…
信号線の外角側屈曲部 36…ダミー画素 AR…アレイ基板 CF…カラーフィルター
基板 LC…液晶層 Ea…サブ画素の内角側の屈曲部 Eb…サブ画素の外角側の端点
Claims (3)
- 液晶層を挟持して対向配置された一対の基板を有し、
前記一対の基板の一方側には、表示領域に少なくとも一つの屈曲部を有する複数のサブ画素がマトリクス状に配置され、前記複数のサブ画素にはそれぞれ少なくとも1つの屈曲部を有する一対の電極が形成されており、
前記一対の基板の他方側には、前記複数のサブ画素間及び前記表示領域の外周側に位置する非表示領域を遮光する遮光層が形成されている、
横電界方式の液晶表示パネルにおいて、
前記一対の基板の一方側には信号線及び走査線が形成され、前記信号線又は前記走査線は前記サブ画素の形状に沿って屈曲されており、
前記複数のサブ画素間に位置する遮光層は、前記サブ画素の形状に沿って屈曲しており、
前記非表示領域の遮光層は、前記表示領域の最外周側が方形状となる形状に形成されており、
前記非表示領域の遮光層は、前記表示領域の最外周側に位置する前記サブ画素の最外側が内角側であるとき、前記表示領域において前記サブ画素の内角側の屈曲点を超えた位置に形成され、かつ、前記サブ画素の形状に沿って屈曲する複数のスリット状開口の各屈曲部のうち、前記屈曲点に最も近い屈曲部を通ることにより、前記方形状の一辺を形成し、
前記非表示領域の遮光層は、前記表示領域の最外周側に位置する前記サブ画素の最外側が外角側であるとき、前記表示領域において前記サブ画素の外角側の端点を超えた位置に形成され、かつ、前記サブ画素の形状に沿って屈曲する複数のスリット状開口の各端部のうち、前記端点に最も近い端部を通ることにより、前記方形状の一辺に対向する他辺を形成していることを特徴とする液晶表示パネル。 - 前記一対の電極は、下電極と、前記下電極上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され、前記サブ画素の形状に沿って屈曲するスリット状開口が形成された上電極とからなることを特徴とする請求項1に記載に液晶表示パネル。
- 前記一対の電極は、互いに櫛歯状に対向配置されていると共に、互いに前記サブ画素の形状に沿って屈曲していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示パネル。
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