JP5634236B2 - レベルシフト回路及び半導体装置 - Google Patents
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Description
NチャネルMOSトランジスタTN11のゲートには、基準電圧GNDと第1の高電位電圧VLとを信号レベルとする入力信号Siがインバータ回路121を介して供給される。NチャネルMOSトランジスタTN12のゲートには、入力信号Siがインバータ回路121,122を介して供給される。すなわち、これらトランジスタTN11,TN12のゲートには、互いに反転した信号が供給される。
以下、第1実施形態を図1〜図3に従って説明する。
レベルシフト回路1は、基準電圧(低電位電圧)GNDと第1の高電位電圧VLとを信号レベルとする入力信号Siを、基準電圧GNDと上記第1の高電位電圧VLよりも高い第2の高電位電圧VHとを信号レベルとする出力信号Soにレベル変換する。以下、説明の便宜上、第1の高電位電圧VLレベルをH1レベル、第2の高電位電圧VHレベルをH2レベル、基準電圧GNDレベルをLレベル又はグランドレベルとも言う。
インバータ回路11には、第1の高電位電圧VLが動作電圧として供給されるとともに、LレベルとH1レベルとを振幅範囲とする入力信号Siが入力される。このインバータ回路11は、入力信号Siを論理反転した出力電圧V1を、NチャネルMOSトランジスタTN1のゲートとインバータ回路12に出力する。インバータ回路12には、第1の高電位電圧VLが動作電圧として供給される。このインバータ回路12は、出力電圧V1を論理反転した出力電圧V2を、NチャネルMOSトランジスタTN2のゲートに出力する。すなわち、トランジスタTN1のゲートには、入力信号Siの反転レベルである出力電圧V1が供給され、トランジスタTN2のゲートには、入力信号Siと同等レベルになる出力電圧V2が供給される。このため、これらトランジスタTN1,TN2は、入力信号Siに応じて相補的にオンオフ制御される。
抵抗R1の第1端子には第1の高電位電圧VLが供給され、抵抗R1の第2端子にはコンデンサC1の第1端子が接続されている。このコンデンサC1の第2端子はグランドに接続されている。また、抵抗R1とコンデンサC1との接続点は、NチャネルMOSトランジスタTN3のゲートに接続されている。このように、NチャネルMOSトランジスタTN3のゲートには、抵抗R1及びコンデンサC1を有するローパスフィルタ21を介して第1の高電位電圧VLが供給される。なお、ローパスフィルタ21は、トランジスタTN3を保護する保護回路として機能する。
電流源22は、電流I1を流す。この電流源22の第2端子には、第2の高電位電圧VHが供給される。また、電流源22とトランジスタTN3との間のノードN3は、インバータ回路23の入力端子に接続されている。なお、上記電流I1の電流値は、例えばトランジスタTN3の電気的特性(チャネル抵抗)やインバータ回路23の論理閾値等に応じて設定されている。
上記検出部20から供給される検出信号DSは、PチャネルMOSトランジスタTP4のゲートとNチャネルMOSトランジスタTN4のゲートとに供給される。PチャネルMOSトランジスタTP4は、ソースに第2の高電位電圧VHが供給され、ドレインに抵抗R2の第1端子が接続されている。抵抗R2の第2端子は抵抗R3の第1端子に接続され、その抵抗R3の第2端子はグランドに接続されている。
図2に示すように、p−型半導体基板40の表面にn−型ウェル41が形成され、そのn−型ウェル41の表面にp−型ウェル42が形成されている。このp−型ウェル42の表面にp+型ウェル43とn+型拡散層44とn+拡散層45とが形成されている。また、n+型拡散層44とn+型拡散層45との間においてp−型ウェル42の表面にゲート酸化膜46及びゲート電極47が形成されている。これらn+型拡散層44、n+型拡散層45、ゲート電極47及びp+型ウェル43がそれぞれ、NチャネルMOSトランジスタTN1のソース、ドレイン、ゲート及びバックゲートになる。
次に、このように構成されたレベルシフト回路1の動作を図3に従って説明する。なお、図3において、縦軸及び横軸は、説明を簡潔にするため、適宜拡大、縮小して示している。
(1)第1の高電位電圧VLの低下を検出したときに、トランジスタTN1,TN2の閾値電圧Vthが低くなるようにトランジスタTN1,TN2のボディバイアスVbbを制御するようにした。具体的には、第1の高電位電圧VLレベルの低下を検出したときに、トランジスタTN1,TN2のボディバイアスVbbをフォワードバイアス状態に設定するようにした。このボディバイアスVbbによる基板バイアス効果により、トランジスタTN1,TN2の閾値電圧Vthが低下する。このため、トランジスタTN1,TN2を、電圧レベルの低下した第1の高電位電圧VLレベルの信号に応答して十分にオンさせることができる。したがって、電源電圧(つまり第1の高電位電圧VL)が低電圧化しても、レベルシフト回路1が動作不良に陥ることを好適に抑制することができる。
以下、第2実施形態について、図4〜図9に従って説明する。この実施形態のレベルシフト回路2は、複数のレベル変換部10を備える点、及び制御部50の内部構成が上記第1実施形態と異なっている。以下、第1実施形態との相違点を中心に説明する。
検出部20からの検出信号DSは、インバータ回路61を介してリングオシレータ62に供給される。このリングオシレータ62は、リング状に接続されたナンド回路63及び複数個(図5では6個)のインバータ回路64を有している。具体的には、ナンド回路63には、検出信号DSがインバータ回路61を介して供給される。このナンド回路63の出力端子は、初段のインバータ回路64に接続されている。複数のインバータ回路64は直列に接続され、最終段のインバータ回路64の出力端子がナンド回路63の入力端子に接続されている。このように構成されたリングオシレータ62は、Lレベルの検出信号DSに応答して発振動作し、最終段のインバータ回路64から所定の周波数を持つクロック信号CKを出力する。そして、このクロック信号CKは、カウンタ65とナンド回路68に供給される。
次に、ボディバイアスVbbが供給される、複数のレベル変換部10のトランジスタTN1,TN2の断面構造を説明する。
このような選択動作が終了すると、上記レジスタ66に記憶されたカウント信号Q[2:0]がデコーダ67に出力され、デコーダ67からスイッチSW4をオンさせるための選択信号SSが出力される。これにより、トランジスタTN1,TN2がディプリーション化せず、且つトランジスタTN1,TN2が第1の高電位電圧VLレベルの信号に応答してスイッチ動作可能なボディバイアスVbbを、トランジスタTN1,TN2に供給することができる。したがって、第1の高電位電圧VLが低電圧化した場合であっても、レベル変換部10が動作不良に陥ることを好適に抑制することができる。なお、例えば第1の高電位電圧VLが時々刻々と変化する場合には、第1の高電位電圧VLが変動するたびに上述した選択動作(設定動作)を繰り返し実行するようにしてもよい。
(4)ボディバイアスVbbの電圧値を徐々に高くし、そのボディバイアスVbbの下限値と上限値とを検出し、さらにボディバイアスVbbを下限値と上限値との間の電圧値に設定するようにした。これにより、トランジスタTN1,TN2の閾値電圧Vthが0Vよりも高くなるように、且つトランジスタTN1,TN2の閾値電圧Vthが、第1の高電位電圧VLレベルの信号に応答してオン可能な閾値電圧となるようにボディバイアスVbbの電圧値を自動的に設定することができる。
以下、第3実施形態を図10〜図12に従って説明する。先の図1〜図9に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付して示し、それら各要素についての詳細な説明は省略する。
サンプルホールド回路(S/H回路)81には第1の高電位電圧VLが供給される。このS/H回路81は、第1の高電位電圧VLを所定のタイミングでサンプルホールドし、ホールドしたホールド電圧VLhをアナログ/デジタル変換器(ADC)82に出力する。
(6)第1の高電位電圧VLと、第1の高電位電圧VLと第2の高電位電圧VHとの比の値とに応じて、ボディバイアスVbbを制御するようにした。具体的には、第1の高電位電圧VLと、第1の高電位電圧VLと第2の高電位電圧VHとの比の値とに基づき式(8)で算出されるトランジスタTN1,TN2の閾値電圧Vthになるように、ボディバイアスVbbの電圧値を設定するようにした。これにより、トランジスタTN1,TN2の閾値電圧Vthが、第1の高電位電圧VLレベルの信号に応答してオン可能な閾値電圧となるように、ボディバイアスVbbの電圧値を精度良く設定することができる。
なお、上記実施形態は、これを適宜変更した以下の態様にて実施することもできる。
・上記第3実施形態における制御部80の内部構成を適宜変更してもよい。例えば上記第3実施形態では、第1の高電位電圧VLの電圧値と、第2の高電位電圧VHの電圧値とをデジタル値に変換した後に、その変換後の第2の高電位電圧値DVHを第1の高電位電圧値DVLで除算するようにした。これに限らず、例えば図13に示されるように、S/H回路101でホールドされた第2の高電位電圧VHの電圧値VHh(アナログ値)を、S/H回路102でホールドされた第1の高電位電圧VLの電圧値VLh(アナログ値)で除算するアナログ除算器103を設けるようにしてもよい。この場合のレベルシフト回路4では、S/H回路102から出力されるホールド電圧VHhを第1の高電位電圧値DVL(デジタル値)に変換するADC104と、除算器103から出力される演算値VRを演算値DVR(デジタル値)に変換するADC105とを設ける。
・上記第3実施形態において、電圧生成回路88に設定信号ESに相当する信号が外部から供給されるのであれば、レベルシフト回路3からS/H回路81,83、ADC82,84、除算器85、デコーダ86、判定器87を省略するようにしてもよい。
・上記第1及び第2実施形態において、制御部30,50に検出信号DSに相当する信号が外部から供給されるのであれば、レベルシフト回路1,2から検出部20を省略するようにしてもよい。
LSI110は、第1の高電位電圧VLにより動作するロジック回路111(電源ドメイン)と、第2の高電位電圧VHにより動作するアナログ回路112(電源ドメイン)とを有している。
以上の様々な実施の形態をまとめると、以下のようになる。
(付記1)
第1電圧を信号レベルとする入力信号に応じてスイッチング制御され、前記第1電圧よりも高い第2電圧が第1導電型の第1及び第2のMOSトランジスタをそれぞれ介してドレインに供給される、前記第1導電型と異なる第2導電型の第3及び第4のMOSトランジスタを含み、前記入力信号を前記第2電圧を信号レベルとする信号に変換するレベル変換部と、
前記第1電圧の低下を検出したときに、前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧がそれぞれ低くなるように前記第3及び第4のMOSトランジスタのボディバイアスを制御する制御部と、
を有することを特徴とするレベルシフト回路。
(付記2)
前記第3及び第4のMOSトランジスタのバックゲートがソースに接続された場合の該第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧と同一、又は前記閾値電圧よりも高い閾値電圧を有する、前記第2導電型の第5のMOSトランジスタを含み、前記第5のMOSトランジスタが前記第1電圧に応答してオフするときに検出信号を生成する検出部を有し、
前記制御部は、前記検出信号に応じて前記ボディバイアスを制御することを特徴とする付記1に記載のレベルシフト回路。
(付記3)
前記第1導電型はP型、前記第2導電型はN型であり、
前記制御部は、前記検出信号に応じて、前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧が0Vよりも高くなるように、且つ前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧が、前記入力信号に応答してスイッチング可能な閾値電圧となるように前記ボディバイアスを制御することを特徴とする付記2に記載のレベルシフト回路。
(付記4)
前記制御部は、
前記検出信号に応じて、前記ボディバイアスを生成する電圧生成回路と、
前記検出信号に応じて、前記ボディバイアスの電圧値が徐々に可変されるように前記電圧生成回路を制御する制御回路と、
前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧が0Vよりも低くなることを検出して第1検出信号を生成する第1検出器と、
前記入力信号に応答して前記第3及び第4のMOSトランジスタがスイッチングされることを検出して第2検出信号を生成する第2検出器と、
前記第1検出信号及び前記第2検出信号に応じて、前記ボディバイアスの電圧値を設定する設定回路と、
を有する付記3に記載のレベルシフト回路。
(付記5)
前記制御部は、前記第1電圧の変動に応じて、前記ボディバイアスの電圧値を可変させることを特徴とする付記1〜4のいずれか1つに記載のレベルシフト回路。
(付記6)
前記第1検出器は、前記第3及び第4のMOSトランジスタと同一の電気的特性を有し、ゲートがソースに接続された前記第2導電型の第6のMOSトランジスタを含み、前記第6のMOSトランジスタのバックゲートへの前記ボディバイアスの印加によって、前記第6のMOSトランジスタがオンするときに前記第1検出信号を生成し、
前記第2検出器は、前記第3及び第4のMOSトランジスタと同一の電気的特性を有し、バックゲートに前記ボディバイアスが印加される前記第2導電型の第7のMOSトランジスタを含み、前記第7のMOSトランジスタが前記第1電圧に応答してオンするときに前記第2検出信号を生成することを特徴とする付記4に記載のレベルシフト回路。
(付記7)
前記制御回路は、
前記検出信号に応答して一定周波数のクロック信号を生成する発振回路と、
前記クロック信号をカウントするカウンタと、
前記カウンタのカウント値に基づいて、前記ボディバイアスの電圧値が徐々に高くなるように前記電圧生成回路を制御する制御信号を生成する回路と、を有し、
前記設定回路は、
前記第1検出信号及び前記第2検出信号に基づくタイミングで前記カウンタのカウント値を記憶する記憶回路と、
前記記憶回路に記憶されたカウント値に基づいて、前記ボディバイアスの電圧値を設定する設定信号を生成する回路と、を有することを特徴とする付記4又は6に記載のレベルシフト回路。
(付記8)
前記制御部は、前記第1電圧の電圧値と、前記第2電圧の電圧値を前記第1電圧の電圧値で除算した値とに応じて、前記ボディバイアスを制御することを特徴とする付記1又は2に記載のレベルシフト回路。
(付記9)
前記制御部は、
前記第2電圧の電圧値を前記第1電圧の電圧値で除算する除算器と、
前記第1電圧の電圧値及び前記除算器の演算値と、所定のボディバイアスの電圧値とが予め対応付けられた変換テーブルを有し、前記変換テーブルに従って前記ボディバイアスの電圧値を設定するための設定信号に生成する回路と、
前記設定信号に応じた電圧値のボディバイアスを生成する電圧生成回路と、
を有することを特徴とする付記8に記載のレベルシフト回路。
(付記10)
前記制御部は、前記所定のボディバイアスの電圧値が前記第1電圧の電圧値よりも高い場合に、前記第1電圧が適正値でないことを示すアラーム信号を出力することを特徴とする付記9に記載のレベルシフト回路。
(付記11)
前記第1及び第2のMOSトランジスタは、一方のMOSトランジスタのゲートが他方のMOSトランジスタのドレインに接続されるとともに、前記ドレインが前記第3及び第4のMOSトランジスタのドレインにそれぞれ接続され、
前記制御部は、前記第1電圧の電圧値をVL、前記第2電圧の電圧値をVH、前記第1及び第2のMOSトランジスタの移動度をμ1、前記第1及び第2のMOSトランジスタのチャネル長をL1、前記第1及び第2のMOSトランジスタのチャネル幅をW1、前記第3及び第4のMOSトランジスタの移動度をμ2、前記第3及び第4のMOSトランジスタのチャネル長をL2、前記第3及び第4のMOSトランジスタのチャネル幅をW2、MOSトランジスタの単位面積当りのゲート容量をCoxとしたときに、下記式1により算出される前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧Vthに応じて、前記ボディバイアスを生成することを特徴とする付記8又は9に記載のレベルシフト回路。
前記第3のMOSトランジスタのボディバイアスを、前記第3のMOSトランジスタがオンするときには当該第3のMOSトランジスタの閾値電圧が低くなるように、且つ前記第3のMOSトランジスタがオフするときには当該第3のMOSトランジスタの閾値電圧が高くなるように制御する第1スイッチと、
前記第4のMOSトランジスタのボディバイアスを、前記第4のMOSトランジスタがオンするときには当該第4のMOSトランジスタの閾値電圧が低くなるように、且つ前記第4のMOSトランジスタがオフときには当該第4のMOSトランジスタの閾値電圧が高くなるように制御する第2スイッチと、
を有することを特徴とする付記1〜11のいずれか1つに記載のレベルシフト回路。
(付記13)
入力信号を受けるトランジスタを含み、前記入力信号の振幅を変換する変換回路と、
前記トランジスタのレプリカトランジスタを含み、前記レプリカトランジスタが前記入力信号の電圧レベルに応答して導通となるか非導通となるかを検出する検出回路と、
前記レプリカトランジスタが前記電圧レベルに対して非道通となる検出結果に応答して、前記レプリカトランジスタが前記電圧レベルに対して導通となるボディバイアスを前記トランジスタに印加する電圧出力回路と
を有することを特徴とするレベルシフト回路。
(付記14)
前記変換回路は、前記トランジスタがゲートに印加される前記電圧レベルに応答してソース・ドレイン間に前記電圧レベルより高い電源電圧が印加されることで、前記入力信号の前記振幅を変換することを特徴とする付記13に記載のレベルシフト回路。
(付記15)
第1電圧により動作する第1回路と、前記第1電圧よりも高い第2電圧により動作する第2回路と、前記第1電圧を信号レベルとする入力信号を前記第2電圧を信号レベルとする信号に変換するレベルシフト回路とを有する半導体装置であって、
前記レベルシフト回路は、
前記入力信号に応じて相補的にスイッチング制御され、前記第2電圧が第1導電型の第1及び第2のMOSトランジスタをそれぞれ介してドレインに供給される、前記第1導電型と異なる第2導電型の第3及び第4のMOSトランジスタを含むレベル変換部と、
前記第1電圧の低下を検出したときに、前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧がそれぞれ低くなるように前記第3及び第4のMOSトランジスタのボディバイアスを制御する制御部と、
を有することを特徴とする半導体装置。
10,10a レベル変換部
20 検出部
30,50,80 制御部
51 電圧生成回路
52 上限検出器
55 下限検出器
58 検出デコーダ
60 選択回路
85 除算器
86 デコーダ
86a 変換テーブル
110 半導体集積回路装置(半導体装置)
111 ロジック回路(第1回路)
112 アナログ回路(第2回路)
113 レベルシフト回路
TP1,TP2 PチャネルMOSトランジスタ(P型MOSトランジスタ)
TN1,TN2 NチャネルMOSトランジスタ(N型MOSトランジスタ)
TN3 NチャネルMOSトランジスタ(N型MOSトランジスタ)
Claims (9)
- 第1電圧を信号レベルとする入力信号に応じて相補的にスイッチング制御され、前記第1電圧よりも高い第2電圧が第1導電型の第1及び第2のMOSトランジスタをそれぞれ介してドレインに供給される、前記第1導電型と異なる第2導電型の第3及び第4のMOSトランジスタを含み、前記入力信号を前記第2電圧を信号レベルとする信号に変換するレベル変換部と、
前記第1電圧の低下を検出したときに、前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧がそれぞれ低くなるように前記第3及び第4のMOSトランジスタのボディバイアスを制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記第1電圧の電圧値と、前記第2電圧の電圧値を前記第1電圧の電圧値で除算した値とに応じて、前記ボディバイアスを制御することを特徴とするレベルシフト回路。 - 前記第3及び第4のMOSトランジスタのバックゲートがソースに接続された場合の該第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧と同一、又は前記閾値電圧よりも高い閾値電圧を有する、前記第2導電型の第5のMOSトランジスタを含み、前記第5のMOSトランジスタが前記第1電圧に応答してオフするときに検出信号を生成する検出部を有し、
前記制御部は、前記検出信号に応じて前記ボディバイアスを制御することを特徴とする請求項1に記載のレベルシフト回路。 - 前記第1導電型はP型、前記第2導電型はN型であり、
前記制御部は、前記検出信号に応じて、前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧が0Vよりも高くなるように、且つ前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧が、前記入力信号に応答してスイッチング可能な閾値電圧となるように前記ボディバイアスを制御することを特徴とする請求項2に記載のレベルシフト回路。 - 前記制御部は、
前記検出信号に応じて、前記ボディバイアスを生成する電圧生成回路と、
前記検出信号に応じて、前記ボディバイアスの電圧値が徐々に可変されるように前記電圧生成回路を制御する制御回路と、
前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧が0Vよりも低くなることを検出して第1検出信号を生成する第1検出器と、
前記入力信号に応答して前記第3及び第4のMOSトランジスタがスイッチングされることを検出して第2検出信号を生成する第2検出器と、
前記第1検出信号及び前記第2検出信号に応じて、前記ボディバイアスの電圧値を設定する設定回路と、
を有する請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載のレベルシフト回路。 - 前記制御部は、
前記第2電圧の電圧値を前記第1電圧の電圧値で除算する除算器と、
前記第1電圧の電圧値及び前記除算器の演算値と、所定のボディバイアスの電圧値とが予め対応付けられた変換テーブルを有し、前記変換テーブルに従って前記ボディバイアスの電圧値を設定するための設定信号を生成する回路と、
前記設定信号に応じた電圧値のボディバイアスを生成する電圧生成回路と、
を有することを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のレベルシフト回路。 - 前記第1及び第2のMOSトランジスタは、一方のMOSトランジスタのゲートが他方のMOSトランジスタのドレインに接続されるとともに、前記ドレインが前記第3及び第4のMOSトランジスタのドレインにそれぞれ接続され、
前記制御部は、前記第1電圧の電圧値をVL、前記第2電圧の電圧値をVH、前記第1及び第2のMOSトランジスタの移動度をμ1、前記第1及び第2のMOSトランジスタのチャネル長をL1、前記第1及び第2のMOSトランジスタのチャネル幅をW1、前記第3及び第4のMOSトランジスタの移動度をμ2、前記第3及び第4のMOSトランジスタのチャネル長をL2、前記第3及び第4のMOSトランジスタのチャネル幅をW2、MOSトランジスタの単位面積当りのゲート容量をCoxとしたときに、下記式1により算出される前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧Vthに応じて、前記ボディバイアスを生成することを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載のレベルシフト回路。
式1:
- レベルシフト回路は、
入力信号を受けるトランジスタを含み、前記入力信号の振幅を変換する変換回路と、
前記トランジスタのレプリカトランジスタを含み、前記レプリカトランジスタが前記入力信号の電圧レベルに応答して導通となるか非導通となるかを検出する検出回路と、
前記レプリカトランジスタが前記電圧レベルに対して非道通となる検出結果に応答して、前記レプリカトランジスタが前記電圧レベルに対して導通となるボディバイアスを前記トランジスタに印加する電圧出力回路と、を有し、
前記レベルシフト回路は、第1電圧の電圧値と、前記第1電圧よりも高い第2電圧の電圧値を前記第1電圧の電圧値で除算した値とに応じて、前記ボディバイアスを制御することを特徴とするレベルシフト回路。 - 前記変換回路は、前記トランジスタのゲートに印加される前記電圧レベルに応答してソース・ドレイン間に前記電圧レベルより高い電源電圧が印加されることで、前記入力信号の前記振幅を変換することを特徴とする請求項7に記載のレベルシフト回路。
- 第1電圧により動作する第1回路と、前記第1電圧よりも高い第2電圧により動作する第2回路と、前記第1電圧を信号レベルとする入力信号を前記第2電圧を信号レベルとする信号に変換するレベルシフト回路とを有する半導体装置であって、
前記レベルシフト回路は、
前記入力信号に応じて相補的にスイッチング制御され、前記第2電圧が第1導電型の第1及び第2のMOSトランジスタをそれぞれ介してドレインに供給される、前記第1導電型と異なる第2導電型の第3及び第4のMOSトランジスタを含むレベル変換部と、
前記第1電圧の低下を検出したときに、前記第3及び第4のMOSトランジスタの閾値電圧がそれぞれ低くなるように前記第3及び第4のMOSトランジスタのボディバイアスを制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記第1電圧の電圧値と、前記第2電圧の電圧値を前記第1電圧の電圧値で除算した値とに応じて、前記ボディバイアスを制御することを特徴とする半導体装置。
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